JP2003302499A - 電子線照射処理装置 - Google Patents
電子線照射処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ヒータ等の電力駆動部に電力を供給するため
の電力供給線をチャンバー内に導入したことによって生
ずるチャンバー内の異常プラズマの発生を抑制し、電子
線管から出射される電子線量を正確に測定することを可
能にした電子線照射処理装置を提供すること。 【解決手段】 交流電源１１１からチャンバー１０内の
電力駆動部１１９に電力を供給し、電子線管１からチャ
ンバー１０内に出射される電子線によって被処理物１３
を照射処理し、出射される電子線の一部を検出して電子
線管１から出射される電子線を制御７，８，９，２，
３，１０１する電子線照射処理装置において、交流電源
１１１からシールドトランス１１４を介して電力駆動部
１１９に電力を供給するようにしたことを特徴とする。
の電力供給線をチャンバー内に導入したことによって生
ずるチャンバー内の異常プラズマの発生を抑制し、電子
線管から出射される電子線量を正確に測定することを可
能にした電子線照射処理装置を提供すること。 【解決手段】 交流電源１１１からチャンバー１０内の
電力駆動部１１９に電力を供給し、電子線管１からチャ
ンバー１０内に出射される電子線によって被処理物１３
を照射処理し、出射される電子線の一部を検出して電子
線管１から出射される電子線を制御７，８，９，２，
３，１０１する電子線照射処理装置において、交流電源
１１１からシールドトランス１１４を介して電力駆動部
１１９に電力を供給するようにしたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線を照射する
ことによって、表面改質、薄膜形成、電子線硬化、ドラ
イ洗浄等の処理を行う電子線照射処理装置に関する。
ことによって、表面改質、薄膜形成、電子線硬化、ドラ
イ洗浄等の処理を行う電子線照射処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７は、従来技術に係わる被処理物を加
熱するための加熱装置を備える電子線照射処理装置の一
例を示す図である。この電子線照射処理装置は、高電圧
直流電源から供給される直流高電圧を、電子線管のフィ
ラメントと電子線出射窓間に印加することにより、電子
線出射窓から電子線を出射させている。出射した電子線
は被処理物を照射するとともに、電子線の一部は電子線
出射窓の前方に設けられた電子線出力検出センサによっ
て検出される。検出された電流信号は電流／電圧変換器
によって電圧信号に変換された後、制御部に入力され、
制御部によってフィラメント電源を制御し、電子線管か
ら所定の電子線を出力するようにフィラメント電流を制
御している。
熱するための加熱装置を備える電子線照射処理装置の一
例を示す図である。この電子線照射処理装置は、高電圧
直流電源から供給される直流高電圧を、電子線管のフィ
ラメントと電子線出射窓間に印加することにより、電子
線出射窓から電子線を出射させている。出射した電子線
は被処理物を照射するとともに、電子線の一部は電子線
出射窓の前方に設けられた電子線出力検出センサによっ
て検出される。検出された電流信号は電流／電圧変換器
によって電圧信号に変換された後、制御部に入力され、
制御部によってフィラメント電源を制御し、電子線管か
ら所定の電子線を出力するようにフィラメント電流を制
御している。
【０００３】一方、図示するように、電子線によって照
射処理される被処理物の背面側には、電子線による照射
処理を効果的に行うために、また高速処理するために、
チャンバー内に電力を供給して、被処理物を加熱するた
めの電力稼動部であるヒータが設けられている。このヒ
ータは、商用交流電源に接続された電力供給線が、チャ
ンバーに設けられる電力供給部を介してチャンバー内に
導入され、ヒータに接続されて被処理物を加熱するよう
に構成されている。
射処理される被処理物の背面側には、電子線による照射
処理を効果的に行うために、また高速処理するために、
チャンバー内に電力を供給して、被処理物を加熱するた
めの電力稼動部であるヒータが設けられている。このヒ
ータは、商用交流電源に接続された電力供給線が、チャ
ンバーに設けられる電力供給部を介してチャンバー内に
導入され、ヒータに接続されて被処理物を加熱するよう
に構成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような電
子線照射処理装置においては、ヒータ電源として１００
Ｖの商用交流電源が用いられる場合、通常、商用交流電
源の電源端子の一方は接地され、また、チャンバーも接
地されているため、チャンバー内に導入された一方の電
力供給線とチャンバー間の電位差は０Ｖになるが、他方
の電力供給線とチャンバー間には１００Ｖの電位差を生
じる。
子線照射処理装置においては、ヒータ電源として１００
Ｖの商用交流電源が用いられる場合、通常、商用交流電
源の電源端子の一方は接地され、また、チャンバーも接
地されているため、チャンバー内に導入された一方の電
力供給線とチャンバー間の電位差は０Ｖになるが、他方
の電力供給線とチャンバー間には１００Ｖの電位差を生
じる。
【０００５】そのため、電力供給線がチャンバー内でヒ
ータまでの部分が露出して設けられていると、電子線管
から電子線が出射されているような状態では、電力供給
線の通電露出部とチャンバー間に１００Ｖの電位差があ
ると、通電露出部とチャンバー間で異常放電が起こり、
チャンバー内に異常プラズマが発生してしまう。
ータまでの部分が露出して設けられていると、電子線管
から電子線が出射されているような状態では、電力供給
線の通電露出部とチャンバー間に１００Ｖの電位差があ
ると、通電露出部とチャンバー間で異常放電が起こり、
チャンバー内に異常プラズマが発生してしまう。
【０００６】異常プラズマが発生すると、異常プラズマ
によって生成された電子が電子線出力検出センサーによ
って検出されてしまい、本来、検出すべき電子線の出力
値を正確に測定できないという問題を生じる。特に、チ
ャンバー内が減圧状態にあるような場合は、この現象は
顕著に現れる。
によって生成された電子が電子線出力検出センサーによ
って検出されてしまい、本来、検出すべき電子線の出力
値を正確に測定できないという問題を生じる。特に、チ
ャンバー内が減圧状態にあるような場合は、この現象は
顕著に現れる。
【０００７】なお、上述した例においては、電力稼動部
としてヒータを用いた場合について説明したが、電力稼
動部として、ヒータに限らず、例えば、電子線を照射さ
せながら被処理物を回転させる回転モータや、被処理物
を移動させる移動モータが用いられる場合においても、
電力供給線がチャンバー内で露出して設けられている
と、チャンバー内に異常プラズマが発生し、ヒータの場
合と同様の現象が発生する。
としてヒータを用いた場合について説明したが、電力稼
動部として、ヒータに限らず、例えば、電子線を照射さ
せながら被処理物を回転させる回転モータや、被処理物
を移動させる移動モータが用いられる場合においても、
電力供給線がチャンバー内で露出して設けられている
と、チャンバー内に異常プラズマが発生し、ヒータの場
合と同様の現象が発生する。
【０００８】本発明の目的は、上記の問題点に鑑み、電
力稼動部に電力を供給するための電力供給線をチャンバ
ー内に導入したことによって生ずるチャンバー内の異常
プラズマの発生を抑制し、電子線管から出射される電子
線量を正確に測定することを可能にした電子線照射処理
装置を提供することにある。
力稼動部に電力を供給するための電力供給線をチャンバ
ー内に導入したことによって生ずるチャンバー内の異常
プラズマの発生を抑制し、電子線管から出射される電子
線量を正確に測定することを可能にした電子線照射処理
装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するために、次のような手段を採用した。第１の手
段は、交流電源からチャンバー内の電力稼動部に電力を
供給し、電子線管からチャンバー内に出射される電子線
によって被処理物を照射処理し、出射される電子線の一
部を検出して前記電子線管から出射される電子線を制御
する電子線照射処理装置において、前記交流電源からシ
ールドトランスを介して前記電力稼動部に電力を供給す
るようにしたことを特徴とする。
解決するために、次のような手段を採用した。第１の手
段は、交流電源からチャンバー内の電力稼動部に電力を
供給し、電子線管からチャンバー内に出射される電子線
によって被処理物を照射処理し、出射される電子線の一
部を検出して前記電子線管から出射される電子線を制御
する電子線照射処理装置において、前記交流電源からシ
ールドトランスを介して前記電力稼動部に電力を供給す
るようにしたことを特徴とする。
【００１０】第２の手段は、第１の手段において、前記
電子線の一部を検出する電子線検出回路に、前記交流電
源の周波数と略同周波数の周波数成分を遮断するローパ
スフイルターを設けたことを特徴とする。
電子線の一部を検出する電子線検出回路に、前記交流電
源の周波数と略同周波数の周波数成分を遮断するローパ
スフイルターを設けたことを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の第１の実施形態を図１お
よび図２を用いて説明する。図１は、本実施形態の発明
に係る電子線照射処理装置の構成を示す図である。同図
において、１は電子線管、１０１は熱電子を放射するた
めのフィラメント、１０２はフィラメント１０１から放
射された電子を加速制御するグリッド、１０３は電子線
管１の外部に電子線を透過出射させる電子線出射窓、２
はフィラメント用電源、３はフィラメント用電源トラン
ス、４はグリッド用電源、５はグリッド用電源トラン
ス、６は一端が電子線管１の高電圧印加部に接続され、
他端がアースに接続されて、電子線管１に直流高電圧を
印加する高電圧直流電源、７は電子線出射窓１０３の前
方近傍に設けられ、電子線出射窓１０３から出射される
電子線の一部を検出する電子線出力検出センサー、８は
電子線出力検出センサー７によって検出された電流信号
を電圧信号に変換する電流／電圧変換器、９は検出され
た電圧信号に基づいて、フィラメント用電源２を制御
し、電子線管１から所定の電子線が出力されるようにフ
ィラメント電流を制御する制御部、１０はチャンバー、
１１は加熱装置、１１１は加熱装置１１の商用交流電
源、１１２は電力供給線、１１３はチャンバー１０内に
電力供給線１１２を導入する電力供給部、１１４は商用
交流電源１１１と電力供給部１１３間に設けられるシー
ルドトランス、１１５，１１６は電力供給線１１２とア
ース間に分布する漂遊分布容量、１１７，１１８は電力
供給線１１２のチャンバー１０内における通電露出部、
１１９は電力稼動部であるヒータ、１２はチャンバー１
０内に減圧槽を形成するために設けられる真空ポンプ、
１３はヒータ１１９によって加熱されながら電子線照射
処理される被処理物である。
よび図２を用いて説明する。図１は、本実施形態の発明
に係る電子線照射処理装置の構成を示す図である。同図
において、１は電子線管、１０１は熱電子を放射するた
めのフィラメント、１０２はフィラメント１０１から放
射された電子を加速制御するグリッド、１０３は電子線
管１の外部に電子線を透過出射させる電子線出射窓、２
はフィラメント用電源、３はフィラメント用電源トラン
ス、４はグリッド用電源、５はグリッド用電源トラン
ス、６は一端が電子線管１の高電圧印加部に接続され、
他端がアースに接続されて、電子線管１に直流高電圧を
印加する高電圧直流電源、７は電子線出射窓１０３の前
方近傍に設けられ、電子線出射窓１０３から出射される
電子線の一部を検出する電子線出力検出センサー、８は
電子線出力検出センサー７によって検出された電流信号
を電圧信号に変換する電流／電圧変換器、９は検出され
た電圧信号に基づいて、フィラメント用電源２を制御
し、電子線管１から所定の電子線が出力されるようにフ
ィラメント電流を制御する制御部、１０はチャンバー、
１１は加熱装置、１１１は加熱装置１１の商用交流電
源、１１２は電力供給線、１１３はチャンバー１０内に
電力供給線１１２を導入する電力供給部、１１４は商用
交流電源１１１と電力供給部１１３間に設けられるシー
ルドトランス、１１５，１１６は電力供給線１１２とア
ース間に分布する漂遊分布容量、１１７，１１８は電力
供給線１１２のチャンバー１０内における通電露出部、
１１９は電力稼動部であるヒータ、１２はチャンバー１
０内に減圧槽を形成するために設けられる真空ポンプ、
１３はヒータ１１９によって加熱されながら電子線照射
処理される被処理物である。
【００１２】なお、上記電子線照射処理装置では、制御
部９によってフィラメント電流を制御するように構成し
たが、フィラメント電流に代えてまたはフィラメント電
流とともに、グリッド電圧を制御するようにしても良
い。
部９によってフィラメント電流を制御するように構成し
たが、フィラメント電流に代えてまたはフィラメント電
流とともに、グリッド電圧を制御するようにしても良
い。
【００１３】図２は、ヒータ１１９の具体的構成の一例
を示す図である。 同図に示すように、ヒータ１１９本
体は巻線抵抗で構成され、その表面は熱伝導性の良い、
例えば、Ａｌ２Ｏ３やＡｌＮ等の材料で被覆される。
この電子線照射処理装置において、フィラメント１０１
で発生した熱電子は、グリッド１０２による高電圧によ
り電界集中部に引き出された後に、電子線出射窓１０３
の方向に向かって加速され、電子線出射窓１０３から出
射する。電子線出射窓１０３から出射した電子線は、ヒ
ータ１１９によって加熱されている被処理物１３を照射
処理するとともに、電子線出射窓１２から出射した電子
線の一部が、電子線出力検出センサー７によって検出さ
れ、制御部９によって電子線管１から所定の電子線が出
力されるようにフィラメント電流が制御される。
を示す図である。 同図に示すように、ヒータ１１９本
体は巻線抵抗で構成され、その表面は熱伝導性の良い、
例えば、Ａｌ２Ｏ３やＡｌＮ等の材料で被覆される。
この電子線照射処理装置において、フィラメント１０１
で発生した熱電子は、グリッド１０２による高電圧によ
り電界集中部に引き出された後に、電子線出射窓１０３
の方向に向かって加速され、電子線出射窓１０３から出
射する。電子線出射窓１０３から出射した電子線は、ヒ
ータ１１９によって加熱されている被処理物１３を照射
処理するとともに、電子線出射窓１２から出射した電子
線の一部が、電子線出力検出センサー７によって検出さ
れ、制御部９によって電子線管１から所定の電子線が出
力されるようにフィラメント電流が制御される。
【００１４】また、本実施形態の電子線照射処理装置で
は、上記に示すごとく、商用交流電源１１１と電力供給
部１１３間にシールドトランス１１４が設けられている
ので、シールドトランス１１４と電力供給部１１３間の
電力供給線１１２には漂遊分布容量１１５，１１６が存
在するが、この漂遊分布容量１１５と漂遊分布容量１１
６とはほぼ等しいので、シールドトランス１１４の２次
側電圧が、漂遊分布容量１１５と漂遊分布容量１１６に
よってほぼ等しく分圧される。そのため、商用交流電源
１１１の電圧が１００Ｖで、シールドトランス１１４の
昇圧比が１の場合、接地されているチャンバー１０に対
する、両通電露出部１１７，１１８の電位は、それぞれ
略５０Ｖとなる。これはシールドトランス１１４が設け
られていない場合の一方の通電露出部とチャンバー間に
生じていた略１００Ｖの電位に比べて、約半分に低下さ
せることができる。
は、上記に示すごとく、商用交流電源１１１と電力供給
部１１３間にシールドトランス１１４が設けられている
ので、シールドトランス１１４と電力供給部１１３間の
電力供給線１１２には漂遊分布容量１１５，１１６が存
在するが、この漂遊分布容量１１５と漂遊分布容量１１
６とはほぼ等しいので、シールドトランス１１４の２次
側電圧が、漂遊分布容量１１５と漂遊分布容量１１６に
よってほぼ等しく分圧される。そのため、商用交流電源
１１１の電圧が１００Ｖで、シールドトランス１１４の
昇圧比が１の場合、接地されているチャンバー１０に対
する、両通電露出部１１７，１１８の電位は、それぞれ
略５０Ｖとなる。これはシールドトランス１１４が設け
られていない場合の一方の通電露出部とチャンバー間に
生じていた略１００Ｖの電位に比べて、約半分に低下さ
せることができる。
【００１５】本実施形態の発明によれば、通電露出部１
１７，１１８とチャンバー１０間の電位差を従来のもの
と比べて約半分に低下させることができるので、電子線
が照射されている状態において、通電露出部１１７，１
１８とチャンバー１０間において発生する可能性のあっ
た異常プラズマの発生を抑制することができる。その結
果、電子線出力検出センサー７においては、異常プラズ
マの発生によって生じる電子線の検出を抑制することが
できるので、電子線出射窓１０３から出射される電子線
のみを効果的に検出することが可能となる。
１７，１１８とチャンバー１０間の電位差を従来のもの
と比べて約半分に低下させることができるので、電子線
が照射されている状態において、通電露出部１１７，１
１８とチャンバー１０間において発生する可能性のあっ
た異常プラズマの発生を抑制することができる。その結
果、電子線出力検出センサー７においては、異常プラズ
マの発生によって生じる電子線の検出を抑制することが
できるので、電子線出射窓１０３から出射される電子線
のみを効果的に検出することが可能となる。
【００１６】次に、本発明の第２の実施形態を図３およ
び図４を用いて説明する。 図３は、本実施形態に係る
電子線照射処理装置の構成を示す図である。同図におい
て、１４は電流／電圧変換器８から出力される電圧信号
に含まれる商用交流電源１１１の周波数と略同周波数の
周波数成分をカットするために設けられるローパスフィ
ルタ、１５はローパスフィルタ１４から出力される電圧
信号を所定の大きさに増幅する増幅器であり、ここで、
電子線検出回路は電流／電圧変換器８、ローパスフィル
タ１４、増幅器１５から構成される。なお、その他の構
成は図１に示す同符号の構成に対応するので説明を省略
する。
び図４を用いて説明する。 図３は、本実施形態に係る
電子線照射処理装置の構成を示す図である。同図におい
て、１４は電流／電圧変換器８から出力される電圧信号
に含まれる商用交流電源１１１の周波数と略同周波数の
周波数成分をカットするために設けられるローパスフィ
ルタ、１５はローパスフィルタ１４から出力される電圧
信号を所定の大きさに増幅する増幅器であり、ここで、
電子線検出回路は電流／電圧変換器８、ローパスフィル
タ１４、増幅器１５から構成される。なお、その他の構
成は図１に示す同符号の構成に対応するので説明を省略
する。
【００１７】図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ
電流／電圧変換器８、ローパスフィルタ１４、および増
幅器１５の各出力信号波形を示す図である。
電流／電圧変換器８、ローパスフィルタ１４、および増
幅器１５の各出力信号波形を示す図である。
【００１８】本実施形態の電子線照射処理装置によれ
ば、チャンバー１０内の減圧状態が高い状態では、仮
に、チャンバー１０に対する通電露出部１１７，１１８
の電位が５０Ｖと低い状態にあっても、被処理物の処理
に影響を与えない程度の弱い異常プラズマが発生する可
能性がある。そのため、電子線出力検出センサー７がこ
のような異常プラズマ内の電子を検出すると、図４
（ａ）に示すように、電流／電圧変換器８からは、電子
線管１から出射された電子線を検出した検出信号に、異
常プラズマによって生成された商用交流電源周波数と略
同周波数の脈流成分が重畳された電圧信号が出力されて
しまう。しかし、本実施形態の発明では、この脈流成分
は、商用交流電源の周波数と略同周波数のローパスフィ
ルタ１１４を通すことにより、図４（ｂ）に示すよう
に、カットすることが可能となる。
ば、チャンバー１０内の減圧状態が高い状態では、仮
に、チャンバー１０に対する通電露出部１１７，１１８
の電位が５０Ｖと低い状態にあっても、被処理物の処理
に影響を与えない程度の弱い異常プラズマが発生する可
能性がある。そのため、電子線出力検出センサー７がこ
のような異常プラズマ内の電子を検出すると、図４
（ａ）に示すように、電流／電圧変換器８からは、電子
線管１から出射された電子線を検出した検出信号に、異
常プラズマによって生成された商用交流電源周波数と略
同周波数の脈流成分が重畳された電圧信号が出力されて
しまう。しかし、本実施形態の発明では、この脈流成分
は、商用交流電源の周波数と略同周波数のローパスフィ
ルタ１１４を通すことにより、図４（ｂ）に示すよう
に、カットすることが可能となる。
【００１９】このように、本実施形態の発明によれば、
仮に、電子線出力検出センサー７において異常プラズマ
によって発生した商用交流電源と同周波数のノイズとな
る脈流電流が検出されるようなことがあっても、ローパ
スフィルタ１１４によってこの脈流成分を除去すること
ができるので、制御部９では電子線管１から出射された
電子線のみを検出することが可能となり、電子線管１か
ら出射される電子線を精度良く制御することが可能とな
る。
仮に、電子線出力検出センサー７において異常プラズマ
によって発生した商用交流電源と同周波数のノイズとな
る脈流電流が検出されるようなことがあっても、ローパ
スフィルタ１１４によってこの脈流成分を除去すること
ができるので、制御部９では電子線管１から出射された
電子線のみを検出することが可能となり、電子線管１か
ら出射される電子線を精度良く制御することが可能とな
る。
【００２０】次に、本発明の第３の実施形態を図５を用
いて説明する。 図５は、本実施形態に係る電子線照射
処理装置の構成を示す図である。同図において、１２０
は電力稼動部であるヒータとして用いられるハロゲンラ
ンプである。なお、その他の構成は図３に示す同符号の
構成に対応するので説明を省略する。
いて説明する。 図５は、本実施形態に係る電子線照射
処理装置の構成を示す図である。同図において、１２０
は電力稼動部であるヒータとして用いられるハロゲンラ
ンプである。なお、その他の構成は図３に示す同符号の
構成に対応するので説明を省略する。
【００２１】本実施形態の発明では、第２の実施形態が
電力稼動部であるヒータ１１９として巻線抵抗を用いて
いたのに対してハロゲンランプ１２０を用いている点で
相違する。ハロゲンランプ１２０を用いた場合も、第２
の実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
電力稼動部であるヒータ１１９として巻線抵抗を用いて
いたのに対してハロゲンランプ１２０を用いている点で
相違する。ハロゲンランプ１２０を用いた場合も、第２
の実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
【００２２】なお、第１の実施形態および第２の実施形
態では、交流電源からチャンバー内の電力稼動部である
ヒータに電力を供給する場合について説明したが、電力
供給部として、ヒータに代えて、電子線を照射させなが
ら被処理物を回転させる回転モータや、被処理物を移動
させる移動モータ等を用い、それらの電力稼動部に交流
電源から電力を供給するようにした場合においても、第
１の実施形態や第２の実施形態の場合と同様の作用効果
を奏することができる。
態では、交流電源からチャンバー内の電力稼動部である
ヒータに電力を供給する場合について説明したが、電力
供給部として、ヒータに代えて、電子線を照射させなが
ら被処理物を回転させる回転モータや、被処理物を移動
させる移動モータ等を用い、それらの電力稼動部に交流
電源から電力を供給するようにした場合においても、第
１の実施形態や第２の実施形態の場合と同様の作用効果
を奏することができる。
【００２３】次に、本発明の第４の実施形態を図６を用
いて説明する。 図６は、本実施形態に係る電子線照射
処理装置の構成を示す図である。同図において、１−
１，１−２，１−３，１−４・・・は同一チャンバー１
０内に設けられる複数の電子線管である。各電子線管１
−１，１−２，１−３，１−４・・・の構成および各電
子線管１−１，１−２，１−３，１−４・・・に係わる
各回路構成は図１に示すものと同じであり、また、その
他の構成も図３に示す同符号の構成に対応するので説明
を省略する。
いて説明する。 図６は、本実施形態に係る電子線照射
処理装置の構成を示す図である。同図において、１−
１，１−２，１−３，１−４・・・は同一チャンバー１
０内に設けられる複数の電子線管である。各電子線管１
−１，１−２，１−３，１−４・・・の構成および各電
子線管１−１，１−２，１−３，１−４・・・に係わる
各回路構成は図１に示すものと同じであり、また、その
他の構成も図３に示す同符号の構成に対応するので説明
を省略する。
【００２４】本実施形態の電子線照射処理装置では、大
面積の被処理物１３を均一に処理するために、同一方チ
ャンバー１０内に、複数個の電子線管１−１，１−２，
１−３，１−４・・・を配置した場合を示すものであ
り、また、ヒータ１１９も大面積の被処理物１３を均一
に加熱するために大面積のヒータが用いられる。本実施
形態の発明においても、第２の実施形態の発明と同様の
作用効果を奏することができる。
面積の被処理物１３を均一に処理するために、同一方チ
ャンバー１０内に、複数個の電子線管１−１，１−２，
１−３，１−４・・・を配置した場合を示すものであ
り、また、ヒータ１１９も大面積の被処理物１３を均一
に加熱するために大面積のヒータが用いられる。本実施
形態の発明においても、第２の実施形態の発明と同様の
作用効果を奏することができる。
【００２５】
【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、交流電
源からシールドトランスを介してチャンバー内の電力稼
動部に電力を供給するようにしたので、シールドトラン
スとチャンバー間の電力供給線には漂遊分布容量が存在
しても、両漂遊分布容量はほぼ等しいので、シールドト
ランスの２次側出力電圧が、両漂遊分布容量によって分
圧され、接地されているチャンバーに対する、チャンバ
ー内の電力供給線の通電露出部の電位が、シールドトラ
ンスを設けていない場合に比べて、約半分に低下させる
ことができる。その結果、通電露出部とチャンバー間に
発生する可能性のある異常プラズマの発生を抑制するこ
とができ、電子線管から出射される電子を精度良く検出
することが可能となる。
源からシールドトランスを介してチャンバー内の電力稼
動部に電力を供給するようにしたので、シールドトラン
スとチャンバー間の電力供給線には漂遊分布容量が存在
しても、両漂遊分布容量はほぼ等しいので、シールドト
ランスの２次側出力電圧が、両漂遊分布容量によって分
圧され、接地されているチャンバーに対する、チャンバ
ー内の電力供給線の通電露出部の電位が、シールドトラ
ンスを設けていない場合に比べて、約半分に低下させる
ことができる。その結果、通電露出部とチャンバー間に
発生する可能性のある異常プラズマの発生を抑制するこ
とができ、電子線管から出射される電子を精度良く検出
することが可能となる。
【００２６】請求項２に記載の発明によれば、電子線の
一部を検出する電子線検出回路に、交流電源の周波数と
略同周波数の周波数成分を遮断するローパスフイルター
を設けたので、電子線検出回路に、異常プラズマの発生
により交流電源と略同周波数の脈流成分が検出されて
も、脈流成分を除去することができるので、電子線管か
ら出射される電子線のみを精度良く検出することが可能
となる。
一部を検出する電子線検出回路に、交流電源の周波数と
略同周波数の周波数成分を遮断するローパスフイルター
を設けたので、電子線検出回路に、異常プラズマの発生
により交流電源と略同周波数の脈流成分が検出されて
も、脈流成分を除去することができるので、電子線管か
ら出射される電子線のみを精度良く検出することが可能
となる。
【図１】第１の実施形態の発明に係る電子線照射処理装
置の構成を示す図である。
置の構成を示す図である。
【図２】図１に示すヒータ１１９の具体的構成の一例を
示す図である。
示す図である。
【図３】第２の実施形態の発明に係る電子線照射処理装
置の構成を示す図である。
置の構成を示す図である。
【図４】図３に示す電流／電圧変換器８、ローパスフィ
ルタ１４、および増幅器１５の各出力信号波形を示す図
である。
ルタ１４、および増幅器１５の各出力信号波形を示す図
である。
【図５】第３の実施形態の発明に係る電子線照射処理装
置の構成を示す図である。
置の構成を示す図である。
【図６】第４の実施形態の発明に係る電子線照射処理装
置の構成を示す図である。
置の構成を示す図である。
【図７】従来技術に係る電子線照射処理装置の構成を示
す図である。
す図である。
１ 電子線管
１０１ フィラメント
１０２ グリッド
１０３ 電子線出射窓
２ フィラメント用電源
３ フィラメント用電源トランス
４ グリッド用電源
５ グリッド用電源トランス
６ 高電圧直流電源
７ 電子線出力検出センサー
８ 電流／電圧変換器
９ 制御部
１０ チャンバー
１１ 加熱装置
１１１ 商用交流電源
１１２ 電力供給線
１１３ 電力供給部
１１４ シールドトランス
１１５，１１６ 漂遊分布容量
１１７，１１８ 通電露出部
１１９ ヒータ
１２０ ハロゲンランプ
１２ 真空ポンプ
１３ 被処理物
１４ ローパスフィルタ
１５ 増幅器
１−１，１−２，１−３，１−４ 電子線管
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 羽田 博成
兵庫県姫路市別所町佐土1194番地 ウシオ
電機株式会社内
Ｆターム(参考） 4K029 DB21 EA00
Claims (2)
- 【請求項１】 交流電源からチャンバー内の電力稼動部
に電力を供給し、電子線管からチャンバー内に出射され
る電子線によって被処理物を照射処理し、出射される電
子線の一部を検出して前記電子線管から出射される電子
線を制御する電子線照射処理装置において、 前記交流電源からシールドトランスを介して前記電力稼
動部に電力を供給するようにしたことを特徴とする電子
線照射処理装置。 - 【請求項２】 前記電子線の一部を検出する電子線検出
回路に、前記交流電源の周波数と略同周波数の周波数成
分を遮断するローパスフイルターを設けたことを特徴と
する請求項１に記載の電子線照射処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002105543A JP3900996B2 (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | 電子線照射処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002105543A JP3900996B2 (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | 電子線照射処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003302499A true JP2003302499A (ja) | 2003-10-24 |
| JP3900996B2 JP3900996B2 (ja) | 2007-04-04 |
Family
ID=29390201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002105543A Expired - Fee Related JP3900996B2 (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | 電子線照射処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3900996B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007051326A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Ulvac Japan Ltd | 電子ビーム蒸着装置、当該装置を用いて行う基板の表面への蒸着被膜の形成方法、ピアス式電子銃、および、ピアス式電子銃のビーム状態のモニタ方法 |
| WO2007046213A1 (ja) * | 2005-10-18 | 2007-04-26 | Japan Ae Power Systems Corporation | 電子線照射方法、電子線照射装置および開口容器用電子線照射装置 |
| JP2007113936A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Japan Ae Power Systems Corp | 電子線照射方法および電子線照射装置 |
-
2002
- 2002-04-08 JP JP2002105543A patent/JP3900996B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007051326A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Ulvac Japan Ltd | 電子ビーム蒸着装置、当該装置を用いて行う基板の表面への蒸着被膜の形成方法、ピアス式電子銃、および、ピアス式電子銃のビーム状態のモニタ方法 |
| WO2007046213A1 (ja) * | 2005-10-18 | 2007-04-26 | Japan Ae Power Systems Corporation | 電子線照射方法、電子線照射装置および開口容器用電子線照射装置 |
| JP2007113936A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Japan Ae Power Systems Corp | 電子線照射方法および電子線照射装置 |
| US7767987B2 (en) | 2005-10-18 | 2010-08-03 | Japan Ae Power Systems Corporation | Electron beam irradiation method, electron beam irradiation apparatus, and electron beam irradiation apparatus for open-mouthed container |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3900996B2 (ja) | 2007-04-04 |
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