JPH08106872A - イオン源 - Google Patents

イオン源

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JPH08106872A
JPH08106872A JP26827894A JP26827894A JPH08106872A JP H08106872 A JPH08106872 A JP H08106872A JP 26827894 A JP26827894 A JP 26827894A JP 26827894 A JP26827894 A JP 26827894A JP H08106872 A JPH08106872 A JP H08106872A
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Katsuo Naito
勝男 内藤
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Nissin Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 引き出すイオンビームのビーム電流を一定に
保つことができるようにしたイオン源を提供する。 【構成】 中間電極抵抗44に直列に接続されていて、
そこを流れる電流I1 を検出する電流検出器56と、こ
の電流検出器56で検出した電流I1 と、予め設定した
基準値R2 とを比較し、両者の差に相当する差信号S2
を出力する比較回路58と、この比較回路58からの差
信号S2 に応答してフィラメント電源46を制御して、
第1プラズマ室4内でアーク放電が生じているときに当
該差信号S2 が0になるように、フィラメント12に流
すフィラメント電流を制御する制御回路60とを設け
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、第1プラズマ室で生
成したプラズマから電子を引き出し、それを利用して第
2プラズマ室で更にプラズマを生成し、そこからイオン
ビームを引き出す、いわゆる2段階プラズマ生成型のイ
オン源に関し、より具体的には、そのイオンビームのビ
ーム電流を一定に保つ手段の改良に関する。
【0002】
【背景となる技術】上記のような2段階プラズマ生成型
のイオン源が、同一出願人によって先に提案されてい
る。
【0003】その一例を図5を参照して説明すると、こ
のイオン源は、真空容器40内に収納された中間電極
2、アノード22、反射電極32、引出し電極系36等
を備えている。
【0004】中間電極2は、内部に第1プラズマ室4お
よびそれに連通する第1開口部6を有しており、ガス導
入口8を経由して第1プラズマ室4内にプラズマ16生
成用のガスが導入される。第1開口部6の出口部には、
この例では、筒状のノズル部10が設けられている。こ
のノズル部10は、非磁性材料で形成しても良いし、磁
性材料で形成しても良い。
【0005】第1プラズマ室4内には、陰極としてのフ
ィラメント12が設けられており、それには、それの加
熱用のフィラメント電源46が接続されている。このフ
ィラメント電源46は、出力電圧可変であり、フィラメ
ント12に流すフィラメント電流を、外部からの(より
具体的には後述する制御回路54または60からの)信
号に応答して変化させることができる。
【0006】中間電極2のノズル部10側に同軸状に、
絶縁物20を介して、アノード22が設けられている。
このアノード22は、この例では両端が開いた筒状をし
ており、内部に第2プラズマ室24およびそれに連通す
る第2開口部26を有している。この第2開口部26
は、中間電極2の第1開口部6に、より具体的にはその
出口部に設けたノズル部10に連通している。
【0007】第2プラズマ室24の第2開口部26に対
向する部分には、絶縁物30を介して、板状の反射電極
32が設けられている。この反射電極32は、中間電極
2に電気的に接続されて、それと同電位に保たれる。こ
の例では、アノード22の軸方向にイオンビーム38を
引き出す場合の例であり、この反射電極32に、第2プ
ラズマ室24から、より具体的にはそこで生成されるプ
ラズマ28から、イオンビーム38を引き出すためのイ
オン引出し口34が設けられている。
【0008】このイオン引出し口34の外側部分には、
電界の作用でイオンビーム38を引き出す引出し電極系
36が設けられている。この引出し電極系36の電極構
成は、図示例のように1枚の場合もあれば複数枚の場合
もある。
【0009】真空容器40の外部には、磁界発生手段の
一例として、第1プラズマ室4から第2プラズマ室24
にかけての領域に、それらの軸に沿う方向の磁界Bを発
生させる筒状のコイル42が設けられている。このコイ
ル42には、それを励磁する直流電源(図示省略)が接
続される。但し、磁界Bの方向は図示とは逆向きでも良
い。
【0010】中間電極2とアノード22との間には中間
電極抵抗44が接続されている。ちなみに、アノード2
2はこの例では接地されている。
【0011】アノード22とフィラメント12との間に
は、前者を正側にして、直流のアーク電源48が接続さ
れている。
【0012】このイオン源の動作例を説明すると、真空
容器40内を図示しない真空排気装置で真空排気しなが
ら、第1プラズマ室4内にガス導入口8からガスを導入
すると共に、フィラメント電源46およびアーク電源4
8を働かせると、フィラメント12から放出された電子
がガス分子と衝突してそれを電離させ、それによってフ
ィラメント12とアノード22間でアーク放電が起こ
り、それによってガス分子が更に電離され、第1プラズ
マ室4内にプラズマ(副プラズマ)16が生成される。
【0013】上記アーク放電が起こると、中間電極抵抗
44に電流I1 が流れ、その両端に、即ち中間電極2と
アノード22との間に、電圧VM が生じる。この電圧V
M だけ、アノード22の電位が中間電極2の電位に比べ
て高くなる。換言すれば、この例では、フィラメント1
2の電位が一番低く、中間電極2の電位がその次に低
く、アノード22は接地電位にある。
【0014】この電圧VM によって、プラズマ16から
電子18が引き出される。このとき、電子18は磁界B
によってガイドされる。第2プラズマ室24内では、第
1プラズマ室4側からガスがノズル部10を経由して流
入して来ており、この電子18がガス分子と衝突してそ
れを電離させ、第2プラズマ室24内にプラズマ(主プ
ラズマ)28が生成される。
【0015】そしてこのプラズマ28から、引出し電極
系36の電界の作用によって、反射電極32のイオン引
出し口34を介して、イオンビーム38が引き出され
る。
【0016】上記の場合、第2プラズマ室24内に引き
出された電子18は、そこに印加されている軸方向の磁
界Bとこれに直角方向のアノード22による電界の作用
を受けて、磁界Bの磁力線の周りを旋回運動する。しか
も、反射電極32の電位は、中間電極2と同電位であっ
てアノード22より電圧VM だけ低いので、電子18は
反射電極32で反射される。その結果、電子18は、旋
回しながらノズル部10付近と反射電極32との間を往
復するようになり、それによってガスの電離効率が高ま
り、第2プラズマ室24内に、第1プラズマ室4内のプ
ラズマ16に比べて高密度のプラズマ28を生成するこ
とができる。
【0017】従って、プラズマ室が一つ、即ち第1プラ
ズマ室4だけの場合に比べて、大量のイオンビーム38
を引き出すことができる。しかも、第1プラズマ室4で
は濃いプラズマ16を生成する必要がないので、フィラ
メント12から放出させる電子の量、即ちフィラメント
12に流す電流が少なくて済み、それによってフィラメ
ント12の長寿命化を図ることができる。
【0018】また、上記電圧VM を大きくして電子18
の加速エネルギーを大きくすると、第2プラズマ室24
内に多価イオンを多く発生させることができると共に、
ノズル部10を細くしておくと、そこでのガスのコンダ
クタンスが低下するので、第2プラズマ室24内のガス
圧が低くなり、中性粒子との衝突による多価イオンの電
価交換が少なくなるので、多価イオンを効率良く発生さ
せてそれをイオンビーム38として引き出すことができ
る。
【0019】またこのイオン源では、引き出すイオンビ
ーム38のビーム電流を一定に保つために、次のような
制御手段によってアーク電流IA を一定に保つようにし
ている。
【0020】即ち、アーク電源48に直列に、そこを流
れるアーク電流IA を検出する電流検出器50を接続
し、この電流検出器50で検出したアーク電流IA と、
予め設定した基準値R1 とを比較回路52で比較してそ
れから両者の差に相当する差信号S1 を出力させ、制御
回路54によって、この差信号S1 に応答してフィラメ
ント電源46を制御して、第1プラズマ室4内でアーク
放電が生じているときに、差信号S1 が0になるよう
に、フィラメント12に流すフィラメント電流を制御す
るようにしている。電流検出器50は、例えば電流検出
抵抗であり、その両端からアーク電流IA に比例した電
圧信号を出力する。
【0021】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な制御手段では、引き出すイオンビーム38のビーム電
流が一定にならない場合が多い。なぜなら、アーク電流
A は、第1プラズマ室4においてアーク放電を生じさ
せることによって中間電極2に流れる電流I1 と、第1
プラズマ室4から第2プラズマ室24内に電子18を引
き出してプラズマ28を発生させることによってアノー
ド22に流れるI2 との和であり(即ち、IA =I1
2 )、このトータルのアーク電流IA を一定にできて
も、電流I1 を必ずしも一定にすることはできず、電流
1 が変化すると、中間電極抵抗44の両端の電圧
M 、即ち中間電極2とアノード22との間の電圧(こ
れは中間電極2の電位でもある)が変化してしまい、そ
れによって電子18のエネルギーが変化して、プラズマ
28の生成状況が変化し、ひいてはイオンビーム38の
ビーム電流が変化するからである。電流I1 やI2 が変
化する原因としては、例えば、各プラズマ室4、24内
のガス圧の変動や、各プラズマ室4、24の温度の変動
等がある。
【0022】そこでこの発明は、このような点を更に改
善して、引き出すイオンビームのビーム電流を一定に保
つことができるようにしたイオン源を提供することを主
たる目的とする。
【0023】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の第1のイオン源は、前記中間電極抵抗に
直列に接続されていて、そこを流れる電流を検出する電
流検出器と、この電流検出器で検出した電流と予め設定
した基準値とを比較し、両者の差に相当する差信号を出
力する比較回路と、この比較回路からの差信号に応答し
て前記フィラメント電源を制御して、第1プラズマ室内
でアーク放電が生じているときに当該差信号が0になる
ように、フィラメントに流すフィラメント電流を制御す
る制御回路とを備えることを特徴とする。
【0024】この発明の第2のイオン源は、前記中間電
極とアノードとの間の電圧を検出する電圧検出器と、こ
の電圧検出器で検出した電圧と予め設定した基準値とを
比較し、両者の差に相当する差信号を出力する比較回路
と、この比較回路からの差信号に応答して前記フィラメ
ント電源を制御して、第1プラズマ室内でアーク放電が
生じているときに当該差信号が0になるように、フィラ
メントに流すフィラメント電流を制御する制御回路とを
備えることを特徴とする。
【0025】この発明の第3のイオン源は、前記中間電
極抵抗を、外部からの信号に応答してその抵抗値が可変
のものにすると共に、前記アーク電源に直列に接続され
ていて、そこを流れるアーク電流を検出する電流検出器
と、この電流検出器で検出したアーク電流と予め設定し
た基準値とを比較し、両者の差に相当する差信号を出力
する第1の比較回路と、この第1の比較回路からの差信
号に応答して前記フィラメント電源を制御して、第1プ
ラズマ室内でアーク放電が生じているときに当該差信号
が0になるように、フィラメントに流すフィラメント電
流を制御する第1の制御回路と、前記中間電極とアノー
ドとの間の電圧を検出する電圧検出器と、この電圧検出
器で検出した電圧と予め設定した基準値とを比較し、両
者の差に相当する差信号を出力する第2の比較回路と、
この第2の比較回路からの差信号に応答して前記中間電
極抵抗を制御して、第1プラズマ室内でアーク放電が生
じているときに当該差信号が0になるように、中間電極
抵抗の抵抗値を制御する第2の制御回路とを備えること
を特徴とする。
【0026】
【作用】イオン源から引き出すイオンビームのビーム電
流を一定に保つためには、アーク電源に流れるアーク電
流を一定に保つと共に、中間電極とアノードとの間の電
圧を一定に保つのが一番効果的である。しかし、ビーム
電流へのこの両者(即ち、アーク電流および中間電極−
アノード間電圧)の影響度は、実験によれば、中間電極
−アノード間電圧の方が大きい。これは、この中間電極
−アノード間電圧を一定に保つということは、中間電極
抵抗での電圧降下を一定に保つということであり、これ
は中間電極抵抗を流れる電流を一定に保つことであり、
それによって、第1プラズマ室におけるアーク放電電流
を一定に保つと同時に、第1プラズマ室から第2プラズ
マ室に引き出す電子のエネルギーを一定に保つことがで
きるからであると考えられる。
【0027】上記第1のイオン源においては、中間電極
抵抗を流れる電流が電流検出器によって検出され、それ
が比較回路において基準値と比較され、両者が一致する
ように制御回路によってフィラメント電流が制御され、
それによって、第1プラズマ室内でアーク放電が生じて
いるときに中間電極抵抗を流れる電流が一定に保たれ
る。その結果、引き出すイオンビームのビーム電流を一
定に保つことができる。
【0028】上記第2のイオン源においては、中間電極
とアノードとの間の電圧が電圧検出器によって検出さ
れ、それが比較回路において基準値と比較され、両者が
一致するように制御回路によってフィラメント電流が制
御され、それによって、第1プラズマ室内でアーク放電
が生じているときに中間電極とアノードとの間の電圧が
一定に保たれる。その結果、引き出すイオンビームのビ
ーム電流を一定に保つことができる。
【0029】上記第3のイオン源においては、アーク電
源を流れるアーク電流が電流検出器によって検出され、
それが第1の比較回路において基準値と比較され、両者
が一致するように第1の制御回路によってフィラメント
電流が制御され、それによって、第1プラズマ室内でア
ーク放電が生じているときにアーク電源を流れるアーク
電流が一定に保たれる。それと同時に、中間電極とアノ
ードとの間の電圧が電圧検出器によって検出され、それ
が第2の比較回路において基準値と比較され、両者が一
致するように第2の制御回路によって中間電極抵抗の抵
抗値が制御され、それによって、第1プラズマ室内でア
ーク放電が生じているときに中間電極とアノードとの間
の電圧が一定に保たれる。上記両作用によって、引き出
すイオンビームのビーム電流をより精度良く一定に保つ
ことができる。
【0030】
【実施例】図1は、この発明の一実施例に係るイオン源
を示す図である。図5の先行例と同一または相当する部
分には同一符号を付し、以下においては当該先行例との
相違点を主に説明する。
【0031】この実施例においては、前述した電流検出
器50、比較回路52および制御回路54を設ける代わ
りに、次のようなものを設けている。
【0032】即ち、中間電極抵抗44に直列に接続され
ていて、そこを流れる電流I1 を検出する電流検出器5
6と、この電流検出器56で検出した電流I1 と、予め
設定した基準値R2 とを比較し、両者の差に相当する信
号S2 を出力する比較回路58と、この比較回路58か
らの差信号S2 に応答してフィラメント電源46を制御
して、第1プラズマ室4内でアーク放電が生じていると
きに当該差信号S2 が0になるように、フィラメント1
2に流すフィラメント電流を制御する制御回路60とを
設けている。
【0033】電流検出器56は、例えば電流検出抵抗で
あり、その両端から電流I1 に比例した電圧信号を出力
する。その場合、この電流検出抵抗における電圧降下が
全体から見れば無視できるように、その抵抗値は中間電
極抵抗44の抵抗値に比べて十分に小さくしておくのが
好ましい。
【0034】具体的には、中間電極抵抗44の抵抗値は
100Ω〜500Ω程度であり、電流検出器56の抵抗
値は0.1Ω〜1Ω程度にするのが好ましい。アーク電
源48の出力電圧は100V〜400V程度であり、そ
れを流れるアーク電流IA はイオン源の体積にもよるが
0.1A〜100A程度である。中間電極抵抗44での
電圧降下、即ち前述した電圧VM は、通常、アーク電源
48の出力電圧の1/2〜3/4程度にするのが好まし
い(勿論、第1プラズマ室4内でアーク放電が生じてい
ないときは中間電極抵抗44での電圧降下はない)。
【0035】比較回路58は、例えば、比較器や差動増
幅器等から成る。比較回路58および制御回路60の入
出力側には、必要に応じて増幅器を設けても良い。
【0036】前述したように、このイオン源から引き出
すイオンビーム38のビーム電流を一定に保つために
は、アーク電源48を流れるアーク電流IA を一定に保
つと共に、中間電極2とアノード22との間の電圧VM
を一定に保つのが一番効果的であるが、ビーム電流への
この両者(即ち、アーク電流IA と電圧VM )の影響度
は、電圧VM の方が大きい。これは、電圧VM を一定に
保つということは、中間電極抵抗44での電圧降下を一
定に保つということであり、これは中間電極抵抗44を
流れる電流I1 を一定に保つことであり、それによっ
て、第1プラズマ室4におけるアーク放電電流を一定に
保つと同時に、第1プラズマ室4から第2プラズマ室2
4に引き出す電子18の加速エネルギーを一定に保つこ
とができ、ひいては主プラズマ28の密度を一定に保つ
ことができるからである。
【0037】このイオン源においては、中間電極抵抗4
4を流れる電流I1 が電流検出器56によって検出さ
れ、それが比較回路58において基準値R2 と比較さ
れ、両者が一致するように制御回路60によってフィラ
メント12に流すフィラメント電流が制御され、それに
よって、第1プラズマ室4内においてアーク放電が生じ
ているときに、即ちプラズマ16および28を発生させ
てイオンビーム38を引き出しているときに、中間電極
抵抗44を流れる電流I1 が一定に保たれる。その結
果、中間電極抵抗44の抵抗値は一定であるのでそこで
の電圧降下が一定に保たれ、ひいては中間電極2とアノ
ード22との間の電圧VM が一定に保たれる。従って、
上記のような理由から、イオンビーム38のビーム電流
を一定に保つことができる。
【0038】イオンビーム38のビーム電流を上記のよ
うにして一定に保つことができると、このようなイオン
源を用いたイオン注入装置等において、ビーム電流異常
による注入異常が生じなくなり、またイオン源の立上げ
の際に速やかにビーム電流を一定にすることができるの
で立上げ時間が短縮され、結果的に、イオン注入装置等
の実効スループットを向上させることができる。
【0039】上記のようにして電圧VM を一定に制御す
ることは、特に、前述したように電圧VM を大きくする
と共にノズル部10を細くして多価イオンを発生させる
場合の多価イオンビームの安定化に効果がある。例え
ば、±数%/時間程度のビーム安定度を容易にかつ短時
間で実現することができる。
【0040】図2は、この発明の他の実施例に係るイオ
ン源を示す図である。図1の実施例との相違点を主体に
説明すると、この実施例では、前述した電流検出器56
を設ける代わりに、中間電極2とアノード22との間の
電圧VM を検出する電圧検出器62を設け、この電圧検
出器62で検出した電圧VM と、予め設定した基準値R
3 とを比較回路58で比較してそれから両者の差に相当
する差信号S3 を出力させ、制御回路60によってこの
差信号S3 に応答してフィラメント電源46を制御し
て、第1プラズマ室4内でアーク放電が生じているとき
に、差信号S3 が0になるように、フィラメント12に
流すフィラメント電流を制御するようにしている。
【0041】これによって、中間電極2とアノード22
との間の電圧VM が一定に保たれるので、図1の実施例
の場合と同様に、イオンビーム38のビーム電流を一定
に保つことができる。
【0042】図3は、この発明の更に他の実施例に係る
イオン源を示す図である。図1および図2の実施例との
相違点を主体に説明すると、この実施例では、アーク電
流IA 一定制御と電圧VM 一定制御の両方を行うように
している。
【0043】即ち、図5の先行例の場合と同様に、アー
ク電源48に直列に、そこを流れるアーク電流IA を検
出する電流検出器50を接続し、この電流検出器50で
検出したアーク電流IA と、予め設定した基準値R1
を比較回路52で比較してそれから両者の差に相当する
差信号S1 を出力させ、制御回路54によってこの差信
号S1 に応答してフィラメント電源46を制御して、第
1プラズマ室4内でアーク放電が生じているときに、差
信号S1 が0になるように、即ちアーク電流IA が一定
になるように、フィラメント12に流すフィラメント電
流を制御するようにしている。
【0044】更に、中間電極抵抗44の代わりに、外部
からの信号に応答してその抵抗値が可変の中間電極抵抗
44aを設け、かつ中間電極2とアノード22との間の
電圧VM を検出する電圧検出器62を設け、この電圧検
出器62で検出した電圧VMと、予め設定した基準値R
3 とを比較回路58で比較してそれから両者の差に相当
する差信号S3 を出力させ、制御回路60によってこの
差信号S3 に応答して中間電極抵抗44aを制御して、
第1プラズマ室4内でアーク放電が生じているときに、
差信号S3 が0になるように、即ち電圧VM が一定にな
るように、中間電極抵抗44aの抵抗値を制御するよう
にしている。
【0045】上記両作用によって、アーク電流IA およ
び電圧VM の両方が一定に保たれるので、前述したよう
な理由から、イオンビーム38のビーム電流をより精度
良く一定に保つことができる。
【0046】なお、以上はいずれも、反射電極32にイ
オン引出し口34を設けて、アノード22の軸方向にイ
オンビーム38を引き出す例を説明したが、反射電極3
2にイオン引出し口34を設ける代わりに、図4に示す
実施例のように、アノード22の側壁部にイオン引出し
口34を設け、その外側近傍に引出し電極系36を設
け、イオンビーム38をアノード22の半径方向に引き
出すようにしても良い。
【0047】図4の実施例では、第1プラズマ室4から
第2プラズマ室24にかけての領域に、それらの軸に沿
う方向の磁界Bを発生させる磁界発生手段として、一対
の磁極64を、中間電極2およびアノード22等を左右
両側から挟むように配置している。この磁極64には、
図示しないコイルが巻かれており、それは図示しない直
流電源によって励磁される。
【0048】また、この図4の例のように真空容器40
を貫通するように磁極64を配置しても良く、そのよう
にすれば磁極64、64間のギャップが小さくなるの
で、磁界発生手段を大型化することなく簡単に、磁界B
の強度を高めることができる。それによって、多価イオ
ンの生成効率等をより高めることができる。
【0049】また、上記各例に示したような磁界Bを発
生させる磁界発生手段として、コイル42やコイルを巻
いた磁極64の代わりに、永久磁石を設けても良い。
【0050】
【発明の効果】この発明は上記のとおり構成されている
ので、次のような効果を奏する。
【0051】請求項1のイオン源によれば、第1プラズ
マ室内にアーク放電が生じているときに、中間電極抵抗
を流れる電流が一定に保たれ、ひいては中間電極とアノ
ードとの間の電圧が一定に保たれるので、当該イオン源
から引き出すイオンビームのビーム電流を一定に保つこ
とができる。
【0052】しかも、第1プラズマ室で発生させたプラ
ズマ中の電子を利用して第2プラズマ室で高密度のプラ
ズマを発生させることができるので、大量のイオンビー
ムを引き出すことができると共に、フィラメントの長寿
命化を図ることができる。
【0053】請求項2のイオン源によれば、第1プラズ
マ室内にアーク放電が生じているときに、中間電極とア
ノードとの間の電圧が一定に保たれるので、当該イオン
源から引き出すイオンビームのビーム電流を一定に保つ
ことができる。
【0054】しかも、第1プラズマ室で発生させたプラ
ズマ中の電子を利用して第2プラズマ室で高密度のプラ
ズマを発生させることができるので、大量のイオンビー
ムを引き出すことができると共に、フィラメントの長寿
命化を図ることができる。
【0055】請求項3のイオン源によれば、第1プラズ
マ室内にアーク放電が生じているときに、アーク電源を
流れるアーク電流が一定に保たれると共に、中間電極と
アノードとの間の電圧が一定に保たれるので、両作用に
よって、当該イオン源から引き出すイオンビームのビー
ム電流をより精度良く一定に保つことができる。
【0056】しかも、第1プラズマ室で発生させたプラ
ズマ中の電子を利用して第2プラズマ室で高密度のプラ
ズマを発生させることができるので、大量のイオンビー
ムを引き出すことができると共に、フィラメントの長寿
命化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例に係るイオン源を示す図で
ある。
【図2】この発明の他の実施例に係るイオン源を示す図
である。
【図3】この発明の更に他の実施例に係るイオン源を示
す図である。
【図4】この発明の更に他の実施例に係るイオン源を示
す図である。
【図5】この発明の背景となるイオン源の一例を示す図
である。
【符号の説明】
2 中間電極 4 第1プラズマ室 6 第1開口部 12 フィラメント 16 プラズマ 18 電子 22 アノード 24 第2プラズマ室 26 第2開口部 28 プラズマ 32 反射電極 34 イオン引出し口 42 コイル(磁界発生手段) 44,44a 中間電極抵抗 46 フィラメント電源 48 アーク電源 50 電流検出器 52 比較回路 54 制御回路 56 電流検出器 58 比較回路 60 制御回路 62 電圧検出器 64 磁極(磁界発生手段)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内部に第1プラズマ室およびそれに連通
    する第1開口部を有し、第1プラズマ室内にガスが導入
    される中間電極と、この第1プラズマ室内に設けられた
    フィラメントと、内部に第2プラズマ室およびそれに連
    通する第2開口部を有し、この第2開口部が中間電極の
    第1開口部に連通しているアノードと、第2プラズマ室
    の前記第2開口部に対向する部分に設けられていて、中
    間電極と同電位に保たれる反射電極と、この反射電極ま
    たはアノードに設けられていて、第2プラズマ室からイ
    オンビームを引き出すためのイオン引出し口と、第1プ
    ラズマ室から第2プラズマ室にかけての領域に、それら
    の軸に沿う方向の磁界を発生させる磁界発生手段と、中
    間電極とアノードとの間に接続された中間電極抵抗と、
    フィラメントに接続されていてそれを加熱するものであ
    って、フィラメントに流すフィラメント電流を外部から
    の信号に応答して可変のフィラメント電源と、アノード
    とフィラメントとの間に前者を正側にして接続された直
    流のアーク電源とを備えるイオン源において、前記中間
    電極抵抗に直列に接続されていて、そこを流れる電流を
    検出する電流検出器と、この電流検出器で検出した電流
    と予め設定した基準値とを比較し、両者の差に相当する
    差信号を出力する比較回路と、この比較回路からの差信
    号に応答して前記フィラメント電源を制御して、第1プ
    ラズマ室内でアーク放電が生じているときに当該差信号
    が0になるように、フィラメントに流すフィラメント電
    流を制御する制御回路とを備えることを特徴とするイオ
    ン源。
  2. 【請求項2】 内部に第1プラズマ室およびそれに連通
    する第1開口部を有し、第1プラズマ室内にガスが導入
    される中間電極と、この第1プラズマ室内に設けられた
    フィラメントと、内部に第2プラズマ室およびそれに連
    通する第2開口部を有し、この第2開口部が中間電極の
    第1開口部に連通しているアノードと、第2プラズマ室
    の前記第2開口部に対向する部分に設けられていて、中
    間電極と同電位に保たれる反射電極と、この反射電極ま
    たはアノードに設けられていて、第2プラズマ室からイ
    オンビームを引き出すためのイオン引出し口と、第1プ
    ラズマ室から第2プラズマ室にかけての領域に、それら
    の軸に沿う方向の磁界を発生させる磁界発生手段と、中
    間電極とアノードとの間に接続された中間電極抵抗と、
    フィラメントに接続されていてそれを加熱するものであ
    って、フィラメントに流すフィラメント電流を外部から
    の信号に応答して可変のフィラメント電源と、アノード
    とフィラメントとの間に前者を正側にして接続された直
    流のアーク電源とを備えるイオン源において、前記中間
    電極とアノードとの間の電圧を検出する電圧検出器と、
    この電圧検出器で検出した電圧と予め設定した基準値と
    を比較し、両者の差に相当する差信号を出力する比較回
    路と、この比較回路からの差信号に応答して前記フィラ
    メント電源を制御して、第1プラズマ室内でアーク放電
    が生じているときに当該差信号が0になるように、フィ
    ラメントに流すフィラメント電流を制御する制御回路と
    を備えることを特徴とするイオン源。
  3. 【請求項3】 内部に第1プラズマ室およびそれに連通
    する第1開口部を有し、第1プラズマ室内にガスが導入
    される中間電極と、この第1プラズマ室内に設けられた
    フィラメントと、内部に第2プラズマ室およびそれに連
    通する第2開口部を有し、この第2開口部が中間電極の
    第1開口部に連通しているアノードと、第2プラズマ室
    の前記第2開口部に対向する部分に設けられていて、中
    間電極と同電位に保たれる反射電極と、この反射電極ま
    たはアノードに設けられていて、第2プラズマ室からイ
    オンビームを引き出すためのイオン引出し口と、第1プ
    ラズマ室から第2プラズマ室にかけての領域に、それら
    の軸に沿う方向の磁界を発生させる磁界発生手段と、中
    間電極とアノードとの間に接続された中間電極抵抗と、
    フィラメントに接続されていてそれを加熱するものであ
    って、フィラメントに流すフィラメント電流を外部から
    の信号に応答して可変のフィラメント電源と、アノード
    とフィラメントとの間に前者を正側にして接続された直
    流のアーク電源とを備えるイオン源において、前記中間
    電極抵抗を、外部からの信号に応答してその抵抗値が可
    変のものにすると共に、前記アーク電源に直列に接続さ
    れていて、そこを流れるアーク電流を検出する電流検出
    器と、この電流検出器で検出したアーク電流と予め設定
    した基準値とを比較し、両者の差に相当する差信号を出
    力する第1の比較回路と、この第1の比較回路からの差
    信号に応答して前記フィラメント電源を制御して、第1
    プラズマ室内でアーク放電が生じているときに当該差信
    号が0になるように、フィラメントに流すフィラメント
    電流を制御する第1の制御回路と、前記中間電極とアノ
    ードとの間の電圧を検出する電圧検出器と、この電圧検
    出器で検出した電圧と予め設定した基準値とを比較し、
    両者の差に相当する差信号を出力する第2の比較回路
    と、この第2の比較回路からの差信号に応答して前記中
    間電極抵抗を制御して、第1プラズマ室内でアーク放電
    が生じているときに当該差信号が0になるように、中間
    電極抵抗の抵抗値を制御する第2の制御回路とを備える
    ことを特徴とするイオン源。
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