JP2000011947A - 飛行時間型質量分析装置 - Google Patents

飛行時間型質量分析装置

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JP2000011947A
JP2000011947A JP10174572A JP17457298A JP2000011947A JP 2000011947 A JP2000011947 A JP 2000011947A JP 10174572 A JP10174572 A JP 10174572A JP 17457298 A JP17457298 A JP 17457298A JP 2000011947 A JP2000011947 A JP 2000011947A
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electric field
forming means
field forming
ion
time
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Naoki Sugiyama
尚樹 杉山
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Yokogawa Analytical Systems Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 低コストかつイオンのスループットが高い飛
行時間型質量分析装置を実現する。 【解決手段】 飛行時間型質量分析装置において、導電
プラスチック筒体435’の両端に電位差が与えて筒の
内部に一定勾配の電場を形成し、この電場でイオンを加
速ないし反射するようにした。また、筒体の開口437
を寸法比が4/10以下の細長い形状として、長寸法の
方向に沿う等電位面の曲がりを少なし、グリッドを不要
にした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電場で加速された
イオンの飛行時間に基づいて質量分析を行う飛行時間型
質量分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電場で加速されたイオンの飛行速度が元
素の質量によって相違することを利用し、一定の距離を
飛行するのに要する時間、すなわち、タイム・オブ・フ
ライトにより元素の種類を特定する飛行時間型質量分析
装置が知られている。
【0003】誘導結合プラズマ飛行時間型質量分析装置
(ICP-TOFMS : inductively coupledprasma time-of-fli
ght mass spectrometer) においては、図15に示すよ
うに、ICPトーチ2によって生成された被分析元素の
イオンを、サンプリングコーン4を通してフォアチャン
バ6に導入し、フォアチャンバ6からスキマー8を通し
てセンターチャンバ10に導入し、センターチャンバ1
0から抽出レンズ12を通してリアチャンバ14に導入
するようになっている。
【0004】フォアチャンバ6、センターチャンバ10
およびリアチャンバ14はそれぞれポンプによって排気
され、内部気圧が順次減圧されており、リアチャンバ1
4内はほぼ真空状態になっている。
【0005】リアチャンバ14内では、レンズ系16で
イオンを集束し、スリット18を通してリペラ20とグ
リッド22の間に連続的にイオンビームを注入するよう
になっている。
【0006】リペラ20に間欠的に正のパルス電圧を印
加することにより、イオンビームからイオンパケットを
切り出して図における右方向、すなわち、イオンビーム
方向に対して横方向に打ち出し、加速系24に入射する
ようになっている。
【0007】加速系24はそれが形成する電場によって
イオンパケットを加速し、グリッド26を通してフライ
トチューブ28内に打ち出すようになっている。フライ
トチューブ28内では、ステアリングプレート30,3
0’でイオンパケットの飛行方向を定めるとともに、デ
フレクションプレート32,32’で不要イオン(アル
ゴンイオン等)をイオンパケットの飛行軌道から逸らす
ようになっている。
【0008】イオンパケットはフライトチューブ28内
を図における右方向に飛行し、反射系34の開口に入射
し、反射系34が形成する電場の作用を受けて反射さ
れ、左方向に向きを変える。反射系34は一般には2つ
の電場からなりそのしきいにグリッド36,36’を有
する。
【0009】反射系34で反射されたイオンパケットは
イオン検出器38に入射する。イオン検出器38はイオ
ン検出信号を生じ、増幅器40はイオン検出信号を増幅
して出力する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記のような構成のI
CP−TOFMSにおいて、加速系24は、その内部に
一定勾配の電場を形成するために、複数の円環状の金属
プレートを絶縁スペーサを介して等間隔に配列し、各金
属プレート間を抵抗で接続し、両端の金属プレート間に
所定の電位差を与えるように構成されている。反射系3
4も同様な構成になっている。このような構成の加速系
または反射系は、部品点数が多くかつ組み立ておよび調
整の工数を多く必要とするので、コスト高になるという
問題がある。
【0011】また、質量分析の分解能低下の原因になる
飛行空間内への電場の漏れ、すなわち、フライトチュー
ブ28内への等電位面の張り出しを防ぐために、加速系
24および反射系34にそれぞれグリッド26,36を
設けることが必須とされる。グリッド26,36は、い
わば、加速系24および反射系34の電場をそれぞれ飛
行空間から分離する役目を果たす。
【0012】これらのグリッドは、開口投影率が80〜
90%の金属細線のメッシュとして構成される。このよ
うなメッシュをイオンパケットが通過する場合、金属細
線の周囲に生じる微視的な電場の影響等により、イオン
の実効的な通過率は50%程度に低下する。
【0013】これにより、グリッドを1回通過する度に
イオン量がほぼ半減するので、イオンのスループットが
大幅に低下するという問題がある。中でも、反射系34
におけるグリッド36は、イオンパケットが往復で2回
通過するので特に影響が大きい。
【0014】また、微細なメッシュなので製作および調
整に綿密な注意が必要とされ、さらには、メッシュの汚
れによりスループットが経時的に低下したり信号が不安
定化したりするおそれもある。 また、リペラ20とグ
リッド22の間に連続的に注入されるイオンビームは、
リペラ20により間欠的にイオンパケットとして横方向
に打ち出されるもの以外は、リペラ20とグリッド22
間を直進してリアチャンバ14内に拡散する。
【0015】同時にリアチャンバ14にはアルゴン分子
が大量に導入され、これを速やかに排気する必要があ
り、このため、リアチャンバ14内を排気する真空ポン
プは高出力のものが用いられる。高出力の真空ポンプの
使用は、製造コストおよびランニングコスト上昇の元に
なる。
【0016】本発明は上記の問題点を解決するためにな
されたもので、その目的は、低コストの飛行時間型質量
分析装置を実現することである。また、イオンのスルー
プットが高い飛行時間型質量分析装置を実現することを
目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】(1)上記の課題を解決
する請求項1の発明は、電場形成手段が形成する電場を
作用させたイオンの飛行時間に基づいて質量分析を行う
飛行時間型質量分析装置であって、前記電場形成手段が
両端に電位差が与えられた導電プラスチックの筒体であ
る、ことを特徴とする。
【0018】請求項1の発明では、両端に電位差が与え
られた導電プラスチックの筒体は、筒の長さ方向に沿っ
て一定勾配の連続的な電位差を持つので、筒の内部に一
定勾配の電場を形成する。
【0019】(2)上記の課題を解決する請求項2の発
明は、電場形成手段が形成する電場を作用させたイオン
の飛行時間に基づいて質量分析を行う飛行時間型質量分
析装置であって、前記電場形成手段が互いに垂直な方向
の寸法比が4/10以下の開口を有する、ことを特徴と
する。
【0020】請求項2の発明では、電場形成手段の開口
が、寸法比が4/10以下の細長い形状であることによ
り、長寸法の方向に沿う等電位面の曲がりが少なくな
る。 (3)上記の課題を解決する請求項3の発明は、請求項
1または請求項2の発明において、前記電場形成手段が
イオンを反射する電場を形成するものである、ことを特
徴とする。
【0021】請求項3の発明では、導電プラスチックで
構成された電場形成手段がイオン反射用の電場を形成す
る。また、イオン反射用の電場形成手段が、寸法比が4
/10以下の細長い開口を持つことにより、イオン反射
面での等電位面の曲がりを少なくする。
【0022】(4)前記の課題を解決する請求項4の発
明は、イオン源と、前記イオン源から打ち出されたイオ
ンを加速する電場を形成する第1の電場形成手段と、前
記第1の電場形成手段が形成する電場を通過したイオン
を反射する電場を形成する第2の電場形成手段と、前記
第2の電場形成手段が形成する電場を通過したイオンが
照射されるイオン検出手段と、を有する飛行時間型質量
分析装置であって、前記第1の電場形成手段から前記第
2の電場形成手段までの距離に対する前記第2の電場形
成手段から前記イオン検出手段までの距離の比を1/3
以下とした、ことを特徴とする。
【0023】請求項4の発明では、第2の電場形成手段
からイオン検出手段までの距離を、第1の電場形成手段
から第2の電場形成手段までの距離の1/3以下とする
ことにより、イオン検出手段におけるイオンの発散ロス
を小さくする。
【0024】(5)上記の課題を解決する請求項5の発
明は、請求項4の発明において、前記第2の電場形成手
段が互いに垂直な方向の寸法比が4/10以下の開口を
有する、ことを特徴とする。
【0025】請求項5の発明では、イオン検出器におけ
るイオンの発散ロスを小さくすることに加えて、第2の
電場形成手段が、寸法比が4/10以下の細長い開口を
持つことにより、イオン反射面での等電位面の曲がりを
少なくする。
【0026】(6)上記の課題を解決する請求項6の発
明は、連続的なイオンビームからビーム方向に関して横
方向にイオンをパケットとして打ち出すイオン源と、前
記イオン源から打ち出されたイオンを加速する電場を形
成する第1の電場形成手段と、前記第1の電場形成手段
が形成する電場を通過したイオンを反射する電場を形成
する第2の電場形成手段と、前記第2の電場形成手段が
形成する電場を通過したイオンが照射されるイオン検出
手段と、を有する飛行時間型質量分析装置であって、前
記イオン源および前記第1の電場形成手段が排気により
減圧された第1の減圧空間に配設され、前記第2の電場
形成手段および前記イオン検出手段が排気により前記第
1の減圧室よりも減圧された第2の減圧室に配設され
た、ことを特徴とする。
【0027】請求項6の発明では、イオン源および第1
の電場形成手段を配設する減圧空間と、第2の電場形成
手段およびイオン検出手段を配設する減圧空間を別にす
ることにより、TOF部をICPにも近く設けられ感度
向上が可能となる。
【0028】(7)上記の課題を解決する請求項7の発
明は、請求項6の発明において、前記第1の減圧空間の
排気口が前記イオン源の前記イオンビームの延長方向に
開口する、ことを特徴とする。
【0029】請求項7の発明では、排気口がイオン源の
イオンビームの延長方向に開口することにより、能率の
良い排気が行える。 (8)上記の課題を解決する請求項8の発明は、請求項
6または請求項7の発明において、前記第1の電場形成
手段の出口側の開口が前記第1の減圧空間と前記第2の
減圧空間との間のオリフィスを形成する、ことを特徴と
する。
【0030】請求項8の発明では、第1の電場形成手段
の出口側の開口がオリフィスとなって、第1の減圧空間
と第2の減圧空間との間の流通抵抗を与える。 (9)上記の課題を解決する請求項9の発明は、請求項
1〜請求項8のいずれか1つの発明において、前記イオ
ンが高周波誘導結合プラズマによって生成されるもので
ある、ことを特徴とする。
【0031】請求項9の発明では、高周波誘導結合プラ
ズマによってイオンを生成することにより、被分析元素
のイオンを効率良く生成する。
【0032】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお、本発明は実施の形態
に限定されるものではない。
【0033】(発明の実施の形態の第1の例)図1に、
誘導結合プラズマ飛行時間型質量分析装置(ICP−T
OMS)の模式的構成を示す。本装置は本発明の実施の
形態の第1の例である。
【0034】本装置の構成を説明する。図1に示すよう
に、ICPトーチ42によって生成された被分析元素の
イオンを、サンプリングコーン44を通してフォアチャ
ンバ46に導入し、フォアチャンバ46からスキマー4
8を通してセンターチャンバ410に導入し、センター
チャンバ410から抽出レンズ412を通してリアチャ
ンバ414に導入するようになっている。
【0035】フォアチャンバ46、センターチャンバ4
10およびリアチャンバ414はそれぞれ図示しないポ
ンプによって排気され、内部気圧が順次減圧されてお
り、リアチャンバ414内はほぼ真空状態になってい
る。
【0036】ICPトーチ42の模式的構成を図2に示
す。同図に示すように、プラズマトーチ452に、高周
波磁界を発生させるための高周波誘導コイル454が巻
回されている。高周波誘導コイル454には、高周波電
源456の高周波電力がインピーダンスマッチング回路
458を介して供給されるようになっている。プラズマ
トーチ452と高周波誘導コイル454の間にはシール
ド板460が配設されている。このような構成のICP
トーチ42により高周波誘導結合プラズマ462が生成
される。高周波誘導結合プラズマ462に被分析元素の
イオンが含まれる。
【0037】図1に戻って、リアチャンバ414内で
は、レンズ系416でイオンを集束し、スリット418
を通してリペラ420とグリッド422の間にイオンビ
ームを連続的に注入するようになっている。ICPトー
チ42、レンズ系416、スリット418およびリペラ
420は、本発明におけるイオン源の実施の形態の一例
である。グリッド422は、例えば金属細線のメッシュ
等によって構成される。後述する他のグリッドも同様で
ある。
【0038】リペラ420に図示しない駆動回路から正
のパルス電圧を間欠的に印加し、イオンビームからイオ
ンパケットを切り出して図における右方向、すなわち、
イオンビーム方向に対して横方向に打ち出し、加速系4
24の開口に入射するようになっている。加速系424
は、本発明における電場形成手段の実施の形態の一例で
ある。また、本発明における第1の電場形成手段の実施
の形態の一例である。加速系424の構成については後
にあらためて説明する。
【0039】加速系424はそれが形成する電場によっ
てイオンパケットを加速し、グリッド426を通してフ
ライトチューブ428内に打ち出すようになっている。
フライトチューブ428内では、ステアリングプレート
430,430’でイオンパケットの飛行方向を定める
とともに、デフレクションプレート432,432’で
不要イオン(アルゴンイオン等)をイオンパケットの飛
行軌道から逸らすようになっている。
【0040】イオンパケットはフライトチューブ428
内を図における右方向に飛行し、反射系434の開口に
入射し、反射系434が形成する電場によって反射され
て左方向に向きを変える。反射系434は、本発明にお
ける電場形成手段の実施の形態の一例である。また、本
発明における第2の電場形成手段の実施の形態の一例で
ある。反射系434は、グリッド436,436’を備
えている。反射系434の構成については後にあらため
て説明する。
【0041】反射系434で反射されたイオンパケット
はイオン検出器438に入射する。イオン検出器438
は、本発明におけるイオン検出手段の実施の形態の一例
である。イオン検出器438はイオン検出信号を生じ、
増幅器440はイオン検出信号を増幅して出力する。
【0042】図3に、加速系424の模式的構成を示
す。筒体425は、本発明における筒体の実施の形態の
一例である。同図に示すように、加速系424は、例え
ば円筒等の中空の筒体425となっている。筒体425
の材料は導電プラスチックである。導電プラスチック
は、電気絶縁材料であるプラスチックに例えば炭素繊維
等の導電材料を均一に混入することにより、所定の導電
性ないし電気抵抗を持つようにしたものである。
【0043】このような筒体425の両端に、グリッド
422および426がそれぞれ設けられている。筒体4
25の両端には、また、図示しない電圧供給手段によ
り、互いに異なる電圧V1,V2がそれぞれ与えられて
いる。
【0044】筒体425が導電プラスチックすなわち連
続的な導電体ないし抵抗体であることにより、筒体42
5内部空間には、電圧V1,V2間の電位差に基づく一
定勾配の電場が、筒体425の長手方向に沿って連続的
に形成される。すなわち、筒体425の一端から他端に
かけて連続的な電場すなわちイオン加速用の電場が形成
される。
【0045】このような構成の加速系424は、単一の
筒体によって構成されるので部品点数が1個で済み、従
来のように、複数の金属プレートを絶縁スペーサを介し
て配列しかつ金属プレート間を逐一抵抗器で接続するも
のに較べて、はるかに部品点数が少なく、また、組み立
ておよび調整の工数が大幅に低減する。すなわち、加速
系424は低コストのものとなる。
【0046】反射系434も同様に、図4に示すよう
に、導電プラスチックの筒体435で構成され、両端に
互いに異なる電圧V3,V4が、図示しない電圧供給手
段によりそれぞれ供給されるようになっている。筒体4
35は、本発明における筒体の実施の形態の一例であ
る。電圧V3,V4間の電位差により、筒体435の内
部空間にイオン反射用の連続的な電場が形成される。筒
体435の両端にはグリッド436、436’がそれぞ
れ設けられている。このような反射系434も、加速系
424と同様に低コストのものとなる。
【0047】本装置の動作を説明する。図2に示すよう
に、プラズマガスと副ガスがプラズマトーチ452に供
給されるとともに、キャリアガスとしての例えばアルゴ
ンガスがプラズマトーチ452に供給される。また、高
周波電源456からインピーダンスマッチング回路45
8を介して高周波誘導コイル454に高周波電流が供給
され、高周波誘導コイル456の周囲に高周波磁界が形
成される。このような高周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子またはイオンが植え付けられると、高周波磁界
の作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ462が
生じる。
【0048】この状態で、試料が霧化されたエアロゾル
がキャリアガスに搬送されてプラズマトーチ452内に
供給されると、このエアロゾルが高周波誘導結合プラズ
マ462によってイオン化される。このようにして生成
した高周波誘導プラズマ462内のイオンは、サンプリ
ングコーン44、スキマー48および抽出レンズ412
を経由し、レンズ系416によって収束され、スリット
418を通過してリペラ420とグリッド422の間に
連続的なイオンビームとして注入される。
【0049】リペラ420に印加される駆動電圧によっ
て、連続的なイオンビームの一部がイオンパケットとな
ってグリッド422を通して図の右方向(x方向)に打
ち出される。打ち出されたイオンパケットは、加速系4
24が形成する電場で加速される。イオンパケットに含
まれる各イオンは、それぞれの質量に応じて異なる飛行
速度を得て、グリッド426を通じてフライトチューブ
428に進入する。
【0050】フライトチューブ428内では、ステアリ
ングプレート430,430’でイオンパケットの飛行
角度が図の上下方向(z方向)においてステアリングさ
れ、また、デフレクションプレート432,432’で
アルゴン等の不要なイオンの飛行角度が図の前後方向
(y方向)に逸らされて、イオンパケットの飛行経路か
ら除外される。これによって、被分析イオンのパケット
が反射系434に入射する。
【0051】反射系434に入射したイオンパケット
は、反射系434が形成する電場によって反射され、向
きを変えてイオン検出器438に入射する。入射イオン
はイオン検出器438で検出される。検出信号は増幅器
440で増幅される。増幅器440の出力信号は図示し
ない信号処理部に送出されて演算処理され、試料中の被
測定元素の分析値が求められる。
【0052】このような、ICP−TOFMSは、加速
系424および反射系434をいずれも導電プラスチッ
クの筒体で構成すれば、低コストの装置となる。なお、
ICP−TOFMSは、上記の構成から反射系434を
省略するとともに、イオン検出器438を反射系434
が占めていた位置に移して、例えば図5に示すような直
進型としたものもある。
【0053】(発明の実施の形態の第2の例)図6に、
ICP−TOMSの他の例の模式的構成を示す。本装置
は本発明の実施の形態の第2の例である。
【0054】図6において、図1と同様の部分は同一の
符号を付し、説明を省略する。本装置は、図1に示した
装置のものとは異なる反射系434’を有する。図7
に、反射系434’の構成を示す。図7の(a)は側面
図、(b)は正面図である。同図に示すように、反射系
434’は、導電プラスチックの筒体435’で構成さ
れる。筒体435’は、本発明における筒体の実施の形
態の一例である。筒体435’は、長方形の開口437
を持つ角筒となっている。開口437は、y方向の寸法
に較べてz方向の寸法が大きくなっている。
【0055】本発明者は、研究の結果、z方向の寸法に
対するy方向の寸法の比(開口比)を4/10以下にす
ると、グリッドを用いなくても、質量分析の分解能とし
て実用上十分な値が得られることを発見した。図8に、
筒体435’の開口比をそれぞれ0.20,0.30,
0.33,0.38とした場合の分解能の実測値を示
す。なお、図8において、縦軸は分解能を示し、横軸は
筒体425’におけるイオンの入射位置を、z方向にお
いて開口中心からの距離で示す。
【0056】同図に示すように、イオンの入射位置が中
心から30mmまでの範囲では、いずれの開口比でも1
000以上の分解能が得られている。これは、筒体43
5’の開口部において、z方向に沿った等電位面の曲が
り、すなわち、分解能を低下させる等電位面の曲がり
が、開口比を小さくするに連れて相対的に小さくなるた
めである。通常、分解能は500以上あれば良いとされ
るので、1000以上の分解能は実用上十分である。
【0057】すなわち、グリッドを用いない(グリッド
レス)反射系でも実用上充分な分解能を達成することが
できる。グリッドを用いないので、グリッドに由来する
イオンのスループットの低下が無い。このため、高スル
ープットのICP−TOFMSを実現することができ
る。
【0058】また、取扱いに注意を要する繊細な部品で
あるグリッドが省略できるので、導電プラスチック筒体
の採用と相まって、製造コストを効果的に低減すること
ができる。また、反射系ばかりでなく、加速系424に
ついても同様な構成を採用することができる。
【0059】また、上記のような開口比は、導電プラス
チックの筒体を用いた反射系ないし加速系ばかりでな
く、複数の金属プレートの配列によって構成される従来
型の反射系ないし加速系に適用しても良い。その場合
も、上記と同様に、グリッドの省略によるスループット
向上およびコスト低減を実現することができる。
【0060】上記のような開口比を有するグリッドレス
反射系434’を採用した場合、開口部における等電位
面は、例えば図9にシミュレーションで示すように、y
方向に沿って大きな曲がりを有するものとなる。
【0061】このような等電位面を持つとき、反射され
るイオンの飛行経路は、同図に示すようにy方向に広が
る傾向を持つ。このため、広がりの大きな飛行経路を辿
るイオンはイオン検出器438に入射しなくなり、イオ
ン検出効率が低下するおそれがある。
【0062】それへの対処として、図10に示すよう
に、イオン検出器438を反射系434’に近づけて配
置し、イオンの飛行経路の広がりがあまり拡大しない段
階で検出するようにする。イオン検出器438と反射系
434’間の距離は、加速系424から反射系434’
までの距離の1/3以下とするのが、検出効率の低下防
止を確実化する点で好ましい。
【0063】上記のようなイオン飛行経路の広がりは、
グリッドレス反射系ばかりでなく、例えば図11にシミ
ュレーションで示すように、グリッド付の反射系におい
ても生じるので、イオン検出器を反射系に近づけて配置
することは、グリッド付反射系を用いる場合でも、検出
効率の低下を防止するのに効果がある。したがって、上
記のようなイオン検出器438の配置は、通常のグリッ
ド付の反射系を用いる装置において採用しても良い。
【0064】(発明の実施の形態の第3の例)図12
に、ICP−TOMSのさらに他の例の模式的構成を示
す。本装置は本発明の実施の形態の第3の例である。
【0065】図12において、図10と同様の部分は同
一の符号を付し説明を省略する。本装置は、抽出レンズ
412から加速系424までの部分をセンターチャンバ
410内に配置するようにした点で、図10に示した装
置と相違する。センターチャンバ410は、本発明にお
ける第1の減圧空間の実施の形態の一例である。
【0066】加速系424とステアリングプレート43
0,430’の間にセンターチャンバ410とリアチャ
ンバ414とを連通するアパーチャ427が設けられ、
アパーチャ427を通して、加速系424で加速された
イオンパケットがリアチャンバ414内に射出されるよ
うになっている。リアチャンバ414は、本発明におけ
る第2の減圧空間の実施の形態の一例である。アパーチ
ャ427は、例えば、反射系434’の細長い開口に合
わせてz方向に細長い形状のものとされる。
【0067】アパーチャ427は、センターチャンバ4
10とリアチャンバ414との間の流通抵抗ないしコン
ダクタンスを与えるオリフィスとしても機能する。アパ
ーチャ427は、本発明におけるオリフィスの実施の形
態の一例である。
【0068】センターチャンバ410を排気する図示し
ない真空ポンプが接続される排気口429は、リペラ4
20とグリッド422の間に形成されるイオンビームの
延長方向に形成されている。排気口429は、本発明に
おける排気口の実施の形態の一例である。
【0069】イオンビームの延長線上はイオンの密度が
高く動圧の高い部分となる。このように動圧の高い部分
で排気することにより、センターチャンバ410の排気
を能率良く行うことができる。このため、使用する真空
ポンプとしてはより出力の小さいポンプで済ませること
が可能となり低コスト化が可能になる。また、図13に
示すように、直進型のものについても同様な構成を採用
し、同様な効果を奏することができる。
【0070】また、これらの構成は、複数の金属プレー
トの配列によって構成される従来型の反射系ないし加速
系を用いる装置に適用しても良い。その場合も、上記と
同様な効果を奏することができる。
【0071】加速系424から出射するイオンパケット
を通すオリフィスは、加速系424の出口を兼ねるた
め、図15に示した従来例におけるようなグリッド26
は不要となる。このオリフィスは、図14の(a)また
は(b)に示すように、開口の寸法に比して通過長が長
くなるように構成するのが、コンダクタンスを小さくす
る点で好ましい。オリフィスのコンダクタンスを小さく
すれば、リアチャンバ414の真空度をより出力の小さ
い真空ポンプによって維持することが可能になる。な
お、貫通孔433を通過するイオンパケットは、加速系
424から打ち出されて高速に飛行するので、オリフィ
スのコンダクタンスには影響されない。
【0072】上記のようなオリフィスは、導電プラスチ
ックの筒体を用いた加速系ばかりでなく、複数の金属プ
レートの配列によって構成される従来型の加速系に適用
するようにしても良い。
【0073】以上、イオン生成を高周波誘導結合プラズ
マ(ICP)によって行う例について説明したが、イオ
ン生成はICPに限らず他の手段によって生成するよう
にしても良いのは勿論である。
【0074】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項1の
発明では、導電プラスチックの筒体の両端に電位差を与
え、筒の内部に一定勾配の電場を形成するようにしたの
で、電場形成手段の構成が簡素化され、それによって、
低コストの飛行時間型質量分析装置を実現することがで
きる。
【0075】また、請求項2の発明では、電場形成手段
の開口を、寸法比が4/10以下の細長い形状としたこ
とにより、長寸法の方向に沿う等電位面の曲がりが少な
くなり、グリッドが不要もしくは数を減らすことができ
る。それによって、イオンのスループットが高い飛行時
間型質量分析装置を実現することができる。
【0076】また、請求項3の発明では、両端に電位差
が与えられた導電プラスチック筒を用いたのでイオン反
射用の電場形成手段の構成が簡素化される。また、その
開口を寸法比が4/10以下の細長い開口としたことに
より、イオン反射面での等電位面の曲がりが少なくなり
グリッドが不要もしくは数を減らすことができる。
【0077】また、請求項4の発明では、第2の電場形
成手段からイオン検出手段までの距離を、第1の電場形
成手段から第2の電場形成手段までの距離の1/3以下
としたので、イオン検出手段に到達するイオンパケット
の発散ロスが小さくなる。
【0078】また、請求項5の発明では、第2の電場形
成手段からイオン検出手段までの距離を、第1の電場形
成手段から第2の電場形成手段までの距離の1/3以下
としたので、イオン検出手段に到達するイオンパケット
の発散ロスが小さくなり、また、第2の電場形成手段
を、寸法比が4/10以下の細長い開口を持つものとし
たことにより、イオン反射面での等電位面の曲がりが少
なくなりグリッドが不要もしくは数を減らすことができ
る。
【0079】また、請求項6の発明では、イオン源およ
び第1の電場形成手段を配設する減圧空間と、第2の電
場形成手段およびイオン検出手段を配設する減圧空間を
別にすることにより、TOF部をICPにも近く設けら
れ感度向上が可能となる。
【0080】また、請求項7の発明では、排気口がイオ
ン源のイオンビームの延長方向に開口させたので、能率
の良い排気が行える。また、請求項8の発明では、第1
の電場形成手段の出口側の開口をオリフィスとしたの
で、第1の減圧空間と第2の減圧空間との間の流通抵抗
を兼ねさせることができ、加速系のグリッドを無くすこ
とができる。
【0081】また、請求項9の発明では、高周波誘導結
合プラズマによってイオンを生成するようにしたので、
被分析元素のイオンを効率良く生成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一例の装置の模式的構成
図である。
【図2】本発明の実施の形態の一例の装置における高周
波誘導結合プラズマトーチの模式的構成図である。
【図3】本発明の実施の形態の一例の装置における加速
系の模式的構成図である。
【図4】本発明の実施の形態の一例の装置における反射
系の模式的構成図である。
【図5】本発明の実施の形態の一例の装置の模式的構成
図である。
【図6】本発明の実施の形態の一例の装置の模式的構成
図である。
【図7】本発明の実施の形態の一例の装置における反射
系の模式的構成図である。
【図8】本発明の実施の形態の一例の装置における反射
系の性能を示すグラフである。
【図9】本発明の実施の形態の一例の装置における反射
系の電場の等電位面をディスプレイ上に表示した表示画
面を中間調の写真で示す図である。
【図10】本発明の実施の形態の一例の装置の模式的構
成図である。
【図11】従来の反射系の電場の等電位面をディスプレ
イ上に表示した表示画面を中間調の写真で示す図であ
る。
【図12】本発明の実施の形態の一例の装置の模式的構
成図である。
【図13】本発明の実施の形態の一例の装置の模式的構
成図である。
【図14】本発明の実施の形態の一例の装置におけるオ
リフィスの模式的構成図である。
【図15】従来の装置の一例の模式的構成図である。
【符号の説明】
42 ICPトーチ 44 サンプリングコーン 46 フォアチャンバ 48 スキマー 410 センターチャンバ 412 抽出レンズ 414 リアチャンバ 416 レンズ系 418 スリット 420 リペラ 422 グリッド 424 加速系 426 グリッド 428 フライトチューブ 430,430’ ステアリングプレート 432,432’ デフレクションプレート 434,434’ 反射系 436,436’ グリッド 438 イオン検出器 440 増幅器 452 プラズマトーチ 454 高周波誘導コイル 456 高周波電源 458 インピーダンスマッチング回路 460 シールド板 462 高周波誘導結合プラズマ 425,435,435’ 筒体 437 開口 427 アパーチャ 429 排気口 431 ブロック 433 貫通孔 531 ボックス

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電場形成手段が形成する電場を作用させ
    たイオンの飛行時間に基づいて質量分析を行う飛行時間
    型質量分析装置であって、 前記電場形成手段が両端に電位差が与えられた導電プラ
    スチックの筒体である、ことを特徴とする飛行時間型質
    量分析装置。
  2. 【請求項2】 電場形成手段が形成する電場を作用させ
    たイオンの飛行時間に基づいて質量分析を行う飛行時間
    型質量分析装置であって、 前記電場形成手段が互いに垂直な方向の寸法比が4/1
    0以下の開口を有する、ことを特徴とする飛行時間型質
    量分析装置。
  3. 【請求項3】 前記電場形成手段がイオンを反射する電
    場を形成するものである、ことを特徴とする請求項1ま
    たは請求項2に記載の飛行時間型質量分析装置。
  4. 【請求項4】 イオン源と、 前記イオン源から打ち出されたイオンを加速する電場を
    形成する第1の電場形成手段と、 前記第1の電場形成手段が形成する電場を通過したイオ
    ンを反射する電場を形成する第2の電場形成手段と、 前記第2の電場形成手段が形成する電場を通過したイオ
    ンが照射されるイオン検出手段と、を有する飛行時間型
    質量分析装置であって、 前記第1の電場形成手段から前記第2の電場形成手段ま
    での距離に対する前記第2の電場形成手段から前記イオ
    ン検出手段までの距離の比を1/3以下とした、ことを
    特徴とする飛行時間型質量分析装置。
  5. 【請求項5】 前記第2の電場形成手段が互いに垂直な
    方向の寸法比が4/10以下の開口を有する、ことを特
    徴とする請求項4に記載の飛行時間型質量分析装置。
  6. 【請求項6】 連続的なイオンビームからビーム方向に
    関して横方向にイオンパケットを打ち出すイオン源と、 前記イオン源から打ち出されたイオンを加速する電場を
    形成する第1の電場形成手段と、 前記第1の電場形成手段が形成する電場を通過したイオ
    ンを反射する電場を形成する第2の電場形成手段と、 前記第2の電場形成手段が形成する電場を通過したイオ
    ンが照射されるイオン検出手段と、 を有する飛行時間型質量分析装置であって、 前記イオン源および前記第1の電場形成手段が排気によ
    り減圧された第1の減圧空間に配設され、前記第2の電
    場形成手段および前記イオン検出手段が排気により前記
    第1の減圧空間よりも減圧された第2の減圧空間に配設
    された、ことを特徴とする飛行時間型質量分析装置。
  7. 【請求項7】 前記第1の減圧空間の排気口が前記イオ
    ン源の前記イオンビームの延長方向に開口する、ことを
    特徴とする請求項6に記載の飛行時間型質量分析装置。
  8. 【請求項8】 前記第1の電場形成手段の出口側の開口
    が前記第1の減圧空間と前記第2の減圧空間との間のオ
    リフィスを形成する、ことを特徴とする請求項6または
    請求項7に記載の飛行時間型質量分析装置。
  9. 【請求項9】 前記イオンが高周波誘導結合プラズマに
    よって生成されるものである、ことを特徴とする請求項
    1〜請求項8のいずれか1つに記載の飛行時間型質量分
    析装置。
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