WO2013151022A1 - 基板収納容器 - Google Patents
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Definitions
- such a substrate storage container is formed of a synthetic resin such as polypropylene, polycarbonate, or cycloolefin polymer, and is particularly rigid as a substrate storage container for storing a 300 mm wafer (substrate), and the inside is visually recognized. Since it is possible, what was formed from polycarbonate resin is mainly used.
- the component (A1) is composed of another cyclic olefin resin (trade name: ZEONOR (registered trademark) 1020R, manufactured by ZEON CORPORATION.
- the component (C1) can also be a polystyrene-based elastomer resin (C2) component, and an appropriate amount of the component (D) or component (E) as necessary. Can be added.
- component (C2) trade name: Tuftec (registered trademark) H1053, manufactured by Asahi Kasei Chemical Co., Ltd.
- component (D) product name: Mipperon (registered trademark) XM-220, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
- component (E) trade names: Ketchin Black (registered trademark) EC300J, manufactured by Lion Corporation can be used.
- a shell body 2 having a supply side on-off valve 8A for purging gas, an exhaust side on-off valve 8B (hereinafter referred to as on-off valve 8), and a kinematic coupling 20 for positioning with respect to various devices is used as a cyclic olefin. It was obtained by injection molding using the above materials consisting of polymer, carbon fiber, and polyolefin elastomer.
- the water absorption measured by each of the above-mentioned methods was 0.07%, surface resistance The value was 1.0 ⁇ E + 16 ⁇ , and the outgas was 1.5 ppm.
- the shell body 2 and the door body 4a obtained above are prepared, and a commercially available data logger TR-77Ui (manufactured by T & D Co., Ltd.) is installed on the bottom of the shell body 4a, and the latch mechanism installed on the door body 4a Was used to close the door 4.
- a commercially available data logger TR-77Ui manufactured by T & D Co., Ltd.
- the exhaust side purge is performed while introducing dry nitrogen having a dew point of ⁇ 50 ° C.
- the shell body 2 obtained above is prepared, and as shown in FIG. 2, the kinematic cups on the top and bottom surfaces of the shell body 2 are measured by the measurement terminals of the charging plate monitor CPM210 (ION Systems Inc., Harada Sangyo Co., Ltd.).
- CPM210 ION Systems Inc., Harada Sangyo Co., Ltd.
- the decay time to 100 V is measured after applying an applied voltage of 1000 V.
- the decay time is 0.1 seconds for both (a) and (b) aspects. It was 1 second or less, which is regarded as a practical measure.
- the shell main body 2 and the door main body 4 obtained above are prepared, and a substrate organic substance analyzer (SWA, GL Science) is connected to a commercially available gas chromatography / mass spectrum (GC-MS) and a cell dedicated to the substrate to be measured.
- a substrate organic substance analyzer SWA, GL Science
- GC-MS gas chromatography / mass spectrum
- the shell main body 2 sample is set in the measuring device 30 shown in FIG. 3, and a silicon wafer 32 is loaded on an arbitrary support 31 selected in advance, and the fishing line 33 and the silicon wafer 32 are fixed with a tape. Confirm that the fishing line 33 is vertical and horizontal with respect to the silicon wafer 32, and measure the tensile load of the silicon wafer 32 using the Tensilon measuring machine 34. there were.
- Example 3 Except for changing to the composition shown in Table 1, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellets for injection molding were respectively 0.01%, 85 MPa, 9.7 kJ / m 2 , 2.2 ⁇ E + 6 ⁇ , 24 ppm. Further, in the same manner as in Example 1 except that the composition is changed to the composition shown in Table 1, relative humidity and resistance after 24 hours of purging measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using pellets made of this resin composition. The voltage decay, the amount of organic substances adhering to the wafer, and the tensile load on the wafer were 3.3%, 0.1 second, 2.1 ng / cm 2 , and 0.9 N, respectively, all within the practical range.
- the values of the withstand voltage decay, the amount of organic substances adhering to the wafer, and the tensile load of the wafer were 2.2%, 0.1 second, 1.3 ng / cm 2 , and 1.1 N, respectively, all within the practical range.
- Example 5 Except for changing to the composition shown in Table 1, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellets for injection molding were respectively 0.01%, 100 MPa, 5.2 kJ / m 2 , 2.4 ⁇ E + 6 ⁇ , 20 ppm. Moreover, the relative humidity after 24 hours of purge measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using pellets made of this resin composition, as in Example 1, except that the composition was changed to the composition shown in Table 1.
- Example 6 Except for changing to the composition shown in Table 1, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellets for injection molding were respectively 0.02%, 80 MPa, 8.6 kJ / m 2 , 3.1 ⁇ E + 6 ⁇ , 30 ppm. Moreover, the relative humidity after 24 hours of purge measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using pellets made of this resin composition, as in Example 1, except that the composition was changed to the composition shown in Table 1. The withstand voltage decay, the amount of organic substances adhering to the wafer, and the tensile load of the wafer were 4.1%, 0.2 seconds, 2.7 ng / cm 2 , and 0.8 N, respectively, all within the practical range.
- Example 7 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 98 MPa, 5.7 kJ / m 2 , 4.7 ⁇ E + 6 ⁇ , 19 ppm. Further, the relative humidity after 24 hours of purge measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using pellets made of this resin composition, as in Example 1, except that the composition was changed to the composition shown in Table 2.
- the values of the withstand voltage decay, the amount of organic substances adhering to the wafer, and the tensile load of the wafer were 2.9%, 0.1 seconds, 1.7 ng / cm 2 , and 0.7 N, respectively, all within the practical range.
- Example 8 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 95 MPa, 5.4 kJ / m 2 , 5.2 ⁇ E + 6 ⁇ , 23 ppm. Moreover, except having changed into the composition shown in Table 2, like Example 1, the pellet which consists of this resin composition is used and the support member 5 and the shell main body 2 are used, and other components are resin compositions of Example 2.
- the relative humidity after 24 hours of purge, withstand voltage decay, the amount of organic matter adhering to the wafer, and the tensile load on the wafer measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using the pellets made of the product are 3.3% and 0.1%, respectively.
- the slipperiness of the wafer was improved, and the appearance of the weld portion generated on the back surface of the shell body 2 was improved.
- Example 9 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 90 MPa, 5.0 kJ / m 2 , 6.1 ⁇ E + 6 ⁇ , 30 ppm. Moreover, except having changed into the composition shown in Table 2, like Example 1, the pellet which consists of this resin composition is used and the support member 5 and the shell main body 2 are used, and other components are resin compositions of Example 2.
- Example 10 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 98 MPa, 5.5 kJ / m 2 , 4.5 ⁇ E + 5 ⁇ , 21 ppm. Moreover, except having changed into the composition shown in Table 2, like Example 1, the pellet which consists of this resin composition is used and the support member 5 and the shell main body 2 are used, and other components are resin compositions of Example 2.
- Example 11 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 95 MPa, 5.2 kJ / m 2 , 3.7 ⁇ E + 5 ⁇ , 24 ppm. Moreover, the door 4 was used using the pellet which consists of this resin composition similarly to Example 1 except having changed into the composition shown in Table 2, and the pellet which consists of the resin composition of Example 2 was used for other parts.
- the relative humidity, withstand voltage attenuation, the amount of organic matter adhering to the wafer, the amount of organic matter adhering to the wafer, and the tensile load on the wafer measured for the molded and assembled substrate storage container 1 were 1.6%, 0.1 second, and 1.9 ng / respectively, respectively.
- Example 12 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 88 MPa, 4.4 kJ / m 2 , 2.1 ⁇ E + 5 ⁇ , 28 ppm. Moreover, the door 4 was used using the pellet which consists of this resin composition similarly to Example 1 except having changed into the composition shown in Table 2, and the pellet which consists of the resin composition of Example 2 was used for other parts.
- the measured relative humidity, withstand voltage decay, wafer adhesion organic matter amount, and wafer tensile load after purging for the molded and assembled substrate storage container 1 are 1.4%, 0.1 second, and 2.2 ng / 2.2 respectively.
- Example 13 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 95 MPa, 4.8 kJ / m 2 , 7.3 ⁇ E + 5 ⁇ , 25 ppm. Moreover, except having changed into the composition shown in Table 2, like Example 1, the support member 5 and the door 4 are used using the pellet which consists of this resin composition, and other components are from the resin composition of Example 2.
- the relative humidity after 24 hours of purge, the withstand voltage decay, the amount of organic substances adhering to the wafer, and the wafer tensile load measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using the pellets are 1.4% and 0.1 seconds, respectively. 2.7 ng / cm 2 , 0.6 N, and especially the standard deviation of the surface resistance value is small and the stability is improved without depending on the site, the relative humidity retention after 24 hours of purging, the back of the shell body 2 Improvements were observed in the appearance of the welds generated in each.
- Example 1 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively They were 0.19%, 140 MPa, 6.0 kJ / m 2 , 8.7 ⁇ E + 8 ⁇ , and 10 ppm.
- Example 2 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 100 MPa, 1.0 kJ / m 2 , 4.7 ⁇ E + 6 ⁇ , 12 ppm, Charpy impact strength is extremely low, and it is a practical range for any part constituting the substrate container 3 Since it did not reach 0.0 kJ / m 2 , evaluation as a substrate storage container was not performed.
- Example 3 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.02%, 85 MPa, 6.8 kJ / m 2 , 1.0 ⁇ E + 14 ⁇ , 17 ppm, and a surface resistance value of 1.0 ⁇ E + 10 ⁇ or less was not obtained, so evaluation as a substrate storage container was not performed. It was.
- Example 5 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 77 MPa, 9.8 kJ / m 2 , 5.5 ⁇ E + 6 ⁇ , 42 ppm. Further, in the same manner as in Example 1 except that the composition is changed to the composition shown in Table 3, relative humidity and resistance after 24 hours of purging measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using pellets made of this resin composition.
- Wafer that is assumed to be due to the amount of outgas from the resin composition, the voltage attenuation, the amount of organic matter adhering to the wafer, and the tensile load of the wafer are 2.8%, 0.1 second, 5.3 ng / cm 2 , and 1.2 N, respectively.
- Example 6 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 82 MPa, 2.5 kJ / m 2 , 1.8 ⁇ E + 6 ⁇ , 45 ppm, and Charpy impact strength is 3.0 kJ / m, which is a practical range for any component that constitutes the substrate storage container. Since it did not reach 2 , evaluation as a substrate storage container was not carried out.
- Example 7 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 79 MPa, 4.5 kJ / m 2 , 2.5 ⁇ E + 10 ⁇ , 44 ppm, and a surface resistance value of 1.0 ⁇ E + 10 ⁇ or less was not obtained. Moreover, since shaping
- Example 8 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively It is 0.01%, 80 MPa, 2.5 kJ / m 2 , 7.8 ⁇ E + 4 ⁇ , 35 ppm, and the Charpy impact strength is 3.0 kJ / m, which is a practical range for any part constituting the substrate storage container. Since it did not reach 2 , evaluation as a substrate storage container was not carried out.
- the water absorption measured after being immersed in water at 23 ° C. for 24 hours as the shell body 2, the door 4, and the on-off valve 8 of the substrate storage container 1 (at least the constituent material defining the internal closed space 3).
- the internal closed space 3 after the internal closed space 3 of the substrate storage container 1 is replaced (purged) with dry nitrogen or the like to reduce the relative humidity.
- the relative humidity of 3 can be maintained at a low humidity for a long time.
- ultrahigh molecular weight polyethylene powder is blended in and out of the substrate with respect to the material of the specific constituent material (total 100 parts by mass of component (A) + component (B) + component (C)). It is expected to greatly improve the reliability and yield of devices created from the substrate 6 stored in the substrate storage container 1, such as reducing the risk of trouble at the time.
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Abstract
Description
内部閉鎖空間3を区画する構成材たるシェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8として、23℃の水中に24時間浸漬した後(経過時点)に測定される吸水率が0.1重量%以下である特定構成材が用いられている。本発明者の知見に基づき、シェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8から内部閉鎖空間3に水分が放出されることを著しく抑制するためである。
基板収納容器1の内部閉鎖空間3は、前述のシェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8(特定構成材)に基づき、内部閉鎖空間3の相対湿度が0%である状態を開始基準として、自然放置の状態で24時間経過した時における相対湿度が10%以下にとどまるように設定されている。半導体部品の生産工程等における現実的な要求に応えるためである。
基板収納容器1を構成するシェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8は、環状オレフィン樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンサルファイド、ポリプロピレン、ポリエーテルエーテルケトン等の熱可塑性樹脂により形成(成形)することが好ましい。これらは、吸水率が低く、水分放出抑制能力が高いものであり、その性質を利用することにより、上述の如く、内部閉鎖空間3の相対湿度を10%以下に維持することができるからである。
シェル本体2、開閉バルブ8、支持部材5、及びドア本体4a、ドアカバープレート4b(以下ドア4)用材料として、環状オレフィン樹脂(商品名:ZEONOR(登録商標)1420R、日本ゼオン株式会社製(A1)成分100質量部に対して、繊維状導電性フィラー(商品名「EPU-LCL」、日本ポリマー株式会社製)(B)成分、6質量部、ポリオレフィン系エラストマー(商品名:「タフマーA(登録商標)4085S」、三井化学株式会社製)(C1)成分12質量部の割合で配合した混合物を2軸押出し機で混練し、射出成形用のペレット形状の樹脂組成物を得た。これを射出成形により、強度測定用ダンベル試験片(ISO規格の多目的試験片A)、並びに、導電性用の75mm角の平板プレート、をそれぞれ常法により成形し、各評価に供する試験片を作製した。なお、別の実施例においては、(A1)成分は、別の環状オレフィン樹脂(商品名:ZEONOR(登録商標)1020R、日本ゼオン株式会社製)(A2)成分とすることもできる。また、(C1)成分は、ポリスチレン系エラストマー樹脂(C2)成分とすることもできる。さらに、必要に応じて(D)成分、(E)成分の適量を添加できる。
例えば、(C2)成分としては、商品名:タフテック(登録商標)H1053、旭化成化学株式会社製を、(D)成分としては、商品名:ミペロン(登録商標)XM-220、三井化学株式会社製を、(E)成分としては、商品名:ケッチンブラック(登録商標)EC300J、ライオン株式会社製を、それぞれ使用することができる。
この射出成形プレートを使用し、JIS K7209規格、またはISO62規格に準じた基準の下で、23℃水中に24時間浸漬、取出した後の重量増加率を測定したところ0.01%であった。
曲げ強度は、ISO 178/A/2に準拠した方法により測定した。この曲げ強度が、80MPa超、である場合を合格としたところ、85MPaであった。
シャルピー衝撃強度は、ISO 179-1eAに準拠した方法により測定した。このシャルピー衝撃強度が、3.0kJ/m2超、である場合を合格としたところ、5.0kJ/m2であった。
導電性の指標として表面抵抗率を、ASTM D256に準拠した方法により、テストプレートを6分割したそれぞれの箇所について測定、その平均値と標準偏差を求めた。この表面抵抗率の平均値が、1.0×E+10(1.0×1010)Ω以下である場合を合格としたところ、9.3×E+8Ωであった。
同じプレートから、約0.1gをサンプリングし、これをヘリウム気流下、150℃、60分間加熱した。この間にサンプルから発生するアウトガス成分を一度液体窒素で冷却したトラップ管に捕集し、これを加熱して、質量分析計に接続したガスクロマトグラフ(GC-MS)により、n-デカンを標準物質とした検量線によって、捕集したすべてのアウトガスを定量した(ダイナミックヘッドスペース法)。その結果、アウトガス量は、20ppmであった。
図1に示すシェル本体2内部の対向する左右両側壁部に基板(ウェーハ)6を両端で支持するそれぞれ25本の支持部材(ティース)5、底部に基板収納容器1の内部閉鎖空間3内の気体をパージするための供給側開閉弁8A、排気側開閉弁8B(以下開閉弁8)、および各種の装置に対して位置決めをするためのキネマティックカップリング20を備えたシェル本体2を環状オレフィンポリマー、炭素繊維、及びポリオレフィン系エラストマーからなる上記材料を使用して射出成形により得た。
上記で得られたシェル本体2、ドア本体4aをそれぞれ用意し、シェル本体4a底部に市販のデータロガーTR-77Uiを(株式会社ティアンドデイ製)設置し、ドア本体4aに設置されたラッチ機構を用いてドア4を閉めた。このシェル本体2を温度23℃、湿度45%に調節されたクリーンルーム内において、シェル本体2の底部に設置したパージポート部の供給側から、露点-50℃の乾燥窒素を導入しながら排気側パージポート部から排気を行い、基板収納容器1内における内部閉鎖空間3の相対湿度を乾燥窒素におきかえて、湿度計の相対湿度が0%に到達したことを確認した後、乾燥窒素の導入を止め、2箇所のパージポートを閉じた。以降、24時間経過時までの基板収納容器1内における内部閉鎖空間3の相対湿度を測定した結果、24時間後において相対湿度2.7%となり、実用性の目安とされる10%以下を維持することができた。
上記で得られたシェル本体2を用意し、図2に示すように、帯電プレートモニターCPM210(ION Systems Inc.原田産業株式会社製)の測定端子により、シェル本体2天面と底面のキネマティックカップリング20との間を接続する場合((a)態様)と、帯電プレートモニターCPM210の測定端子によりシェル本体2内の最上段のティース5とキネマティックカップリング20との間を接続する場合((b)態様)の2通りの場合に分け、1000Vの印加電圧をかけた後100Vまで減衰する時間を測定した結果、その減衰時間は、(a)、(b)態様ともに0.1秒であり、実用性の目安とされる1秒以下であった。
上記で得られたシェル本体2、ドア本体4をそれぞれ用意し、市販のガスクロマトグラフィー/マススペクトル(GC-MS)と測定対象の基板専用のセルを接続した基板有機物分析装置(SWA、ジーエルサイエンス社製)を用いて、He気流下、400℃で3時間加熱前処理した直径300mmのシリコンウェーハ1枚をシェル本体2の中央ティース部に設置し、ドア4を閉め、温度23℃、湿度45%に調節されたクリーンルーム内に7日間放置した。その後、該ウェーハを取り出し、前処理を行った基板有機物分析装置により、同じくヘリウム気流下、400℃で加熱してウェーハから脱離した有機物を捕集し、同装置により分析、n-デカンを標準物質とした検量線によって、捕集したすべての有機物を定量した結果、単位面積当たりの有機物量は、実用性の目安とされる4ng/cm2以下の1.2ng/cm2であった。
シェル本体2サンプルを、図3に示す測定装置30にセットし、予め選定した任意の支持部31にシリコンウェーハ32を装填し、釣り糸33とシリコンウェーハ32をテープにて固定する。釣糸33がシリコンウェーハ32に対して垂直水平になっている事を確認し、テンシロン測定機34を用いてシリコンウェーハ32の引張り荷重を測定、1.2Nと実用域と考えられる2.0N以下であった。
表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.02%、97MPa、6.0kJ/m2、1.3×E+6Ω、22ppmであった。また、表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ2.4%、0.1秒、1.7ng/cm2、1.1Nと、いずれの値も実用域の範囲内であった。
表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、85MPa、9.7kJ/m2、2.2×E+6Ω、24ppmであった。また、表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ3.3%、0.1秒、2.1ng/cm2、0.9Nといずれの値も実用域の範囲内であった。
表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、105MPa、4.0kJ/m2、2.6×E+6Ω、14ppmであった。また、表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からからなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハの引張り荷重は、それぞれ2.2%、0.1秒、1.3ng/cm2、1.1Nといずれの値も実用域の範囲内であった。
表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、100MPa、5.2kJ/m2、2.4×E+6Ω、20ppmであった。また、表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からからなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハの引張り荷重は、それぞれ3.6%、0.1秒、1.8ng/cm2、0.9Nといずれの値も実用域の範囲内であった。
表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.02%、80MPa、8.6kJ/m2、3.1×E+6Ω、30ppmであった。また、表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からからなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハの引張り荷重は、それぞれ4.1%、0.2秒、2.7ng/cm2、0.8Nといずれの値も実用域の範囲内であった。
表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、98MPa、5.7kJ/m2、4.7×E+6Ω、19ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からからなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハの引張り荷重は、それぞれ2.9%、0.1秒、1.7ng/cm2、0.7Nといずれの値も実用域の範囲内であった。
表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、95MPa、5.4kJ/m2、5.2×E+6Ω、23ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して支持部材5、及びシェル本体2を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ3.3%、0.1秒、2.1ng/cm2、0.7Nとなり、特にはウェーハの滑り性が良好になるとともに、シェル本体2の背面部に発生するウェルド部の外観に改善が認められた。
表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、90MPa、5.0kJ/m2、6.1×E+6Ω、30ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して支持部材5、及びシェル本体2を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ3.0%、0.2秒、2.7ng/cm2、0.5Nとなり、特にはウェーハの滑り性が良好になるとともに、シェル本体2の背面部に発生するウェルド部の外観に改善が認められた。
表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、98MPa、5.5kJ/m2、4.5×E+5Ω、21ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して支持部材5、及びシェル本体2を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ1.7%、0.1秒、1.7ng/cm2、0.9Nとなり、特には、表面抵抗値の標準偏差が小さく、部位によることなく安定性が向上するとともに、ウェーハの滑り性が良好になる。また、シェル本体2の背面部に発生するウェルド部の外観に改善が認められた。
表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、95MPa、5.2kJ/m2、3.7×E+5Ω、24ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用してドア4を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ1.6%、0.1秒、1.9ng/cm2、0.9Nとなり、特には表面抵抗値の標準偏差が小さく、部位によることなく安定性が向上するとともに、ドア本体4aの平面度が向上し、パージ24時間後の相対湿度の保持性に改善が認められた。
表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、88MPa、4.4kJ/m2、2.1×E+5Ω、28ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用してドア4を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ1.4%、0.1秒、2.2ng/cm2、0.8Nとなり、特には表面抵抗値の標準偏差が小さく、部位によることなく安定性が向上するとともに、ドア本体4aの平面度が向上し、パージ24時間後の相対湿度の保持性に改善が認められた。
表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、95MPa、4.8kJ/m2、7.3×E+5Ω、25ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して支持部材5及びドア4を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ1.4%、0.1秒、2.7ng/cm2、0.6Nとなり、特には表面抵抗値の標準偏差が小さく部位によることなく安定性が向上するとともに、パージ24時間後の相対湿度の保持性、シェル本体2の背面部に発生するウェルド部の外観にそれぞれ改善が認められた。
表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.19%、140MPa、6.0kJ/m2、8.7×E+8Ω、10ppmであった。また、表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定した耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ0.1秒、1.4ng/cm2、1.3Nであったが、パージ24時間後の相対湿度は23.0%と実用性の目安とされる10%以下を維持することはできなかった。
表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、100MPa、1.0kJ/m2、4.7×E+6Ω、12ppmであり、シャルピー衝撃強度が極端に低く、基板収納容器を構成するいずれの部品に対しても実用域である3.0kJ/m2に達しなかったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.02%、85MPa、6.8kJ/m2、1.0×E+14Ω、17ppmであり、1.0×E+10Ω以下の表面抵抗値が得られなかったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、105MPa、2.8kJ/m2、2.3×E+2Ω、26ppmであり、シャルピー衝撃強度が基板収納容器を構成するいずれの部品に対しても実用域である、3.0kJ/m2に達しなかったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、77MPa、9.8kJ/m2、5.5×E+6Ω、42ppmであった。また、表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ、2.8%、0.1秒、5.3ng/cm2、1.2Nと、樹脂組成物からのアウトガス量に起因すると思われるウェーハ付着有機物量が、実用性の目安とされる4ng/cm2を超える結果であった。
表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、82MPa、2.5kJ/m2、1.8×E+6Ω、45ppmであり、シャルピー衝撃強度が基板収納容器を構成するいずれの部品に対しても実用域である3.0kJ/m2に達しなかったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、79MPa、4.5kJ/m2、2.5×E+10Ω、44ppmであり、1.0×E+10Ω以下の表面抵抗値が得られなかった。また、成形も困難であったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、80MPa、2.5kJ/m2、7.8×E+4Ω、35ppmであり、シャルピー衝撃強度が基板収納容器を構成するいずれの部品に対しても実用域である3.0kJ/m2に達しなかったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
2 シェル本体
3 内部閉鎖空間
4 ドア
5 支持部材
6 基板
8,8A,8B 開閉バルブ
16 リテーナ
30 測定装置
31 支持部材
32 シリコンウェーハ
33 釣り糸
Claims (7)
- 内部閉鎖空間に基板を収納する基板収納容器において、
前記内部閉鎖空間を区画する構成材として、23℃の水中に24時間浸漬した後に測定される吸水率が0.1重量パーセント以下である特定構成材が用いられていることを特徴とする基板収納容器。 - 前記内部閉鎖空間は、前記特定構成材に基づき、該内部閉鎖空間の相対湿度が0%である状態を開始基準として、自然放置の状態で24時間経過した時における相対湿度が10%以下にとどまるように設定されていることを特徴とする請求項1に記載の基板収納容器。
- 前記特定構成材の材料が、環状オレフィン樹脂((A)成分)100質量部、繊維状導電性フィラー((B)成分)を(A)成分100質量部に対して3~25質量部、衝撃向上材としてポリオレフィン系および/またはポリスチレン系熱可塑性エラストマー((C)成分)を(A)成分100質量部に対して5~25質量部であることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板収納容器。
- 前記特定構成材の表面抵抗値が、1.0×E+10Ω以下であることを特徴とする請求項3に記載の基板収納容器。
- 150℃、20分間の条件下でのヘッドスペース法によって測定される前記特定構成材のアウトガス総量が、40ppm以下であることを特徴とする請求項3又は4に記載の基板収納容器。
- 前記特定構成材の材料が、粘度平均分子量が100万以上のポリエチレン((D)成分)をさらに含有することを特徴とする請求項3から5の何れか1項に記載の基板収納容器。
- 前記特定構成材の材料が、n-ジブチルフタレート吸油量が180mL/100g以上の粒子状導電性フィラー(E)をさらに含有することを特徴とする請求項3から6の何れか1項に記載の基板収納容器。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP13772864.8A EP2835821B1 (en) | 2012-04-04 | 2013-04-01 | Substrate storage container |
US14/376,964 US10242896B2 (en) | 2012-04-04 | 2013-04-01 | Substrate storage container |
KR1020147022235A KR102076376B1 (ko) | 2012-04-04 | 2013-04-01 | 기판 수납 용기 |
JP2014509159A JP6054947B2 (ja) | 2012-04-04 | 2013-04-01 | 基板収納容器 |
CN201380011256.6A CN104520984B (zh) | 2012-04-04 | 2013-04-01 | 基板收纳容器 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012085169 | 2012-04-04 | ||
JP2012-085169 | 2012-04-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2013151022A1 true WO2013151022A1 (ja) | 2013-10-10 |
Family
ID=49300504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2013/060012 WO2013151022A1 (ja) | 2012-04-04 | 2013-04-01 | 基板収納容器 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10242896B2 (ja) |
EP (1) | EP2835821B1 (ja) |
JP (1) | JP6054947B2 (ja) |
KR (1) | KR102076376B1 (ja) |
CN (1) | CN104520984B (ja) |
TW (1) | TWI579210B (ja) |
WO (1) | WO2013151022A1 (ja) |
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WO2014107818A3 (de) * | 2013-01-09 | 2014-12-31 | Tec-Sem Ag | Lagerungsvorrichtung zur lagerung und/oder zum transport von objekten aus der fertigung von elektronischen bauteilen |
WO2016047163A1 (ja) * | 2014-09-26 | 2016-03-31 | ミライアル株式会社 | 基板収納容器 |
WO2016046985A1 (ja) * | 2014-09-26 | 2016-03-31 | ミライアル株式会社 | 基板収納容器 |
CN106796904A (zh) * | 2014-09-26 | 2017-05-31 | 未来儿株式会社 | 基板收纳容器 |
JPWO2016047163A1 (ja) * | 2014-09-26 | 2017-07-06 | ミライアル株式会社 | 基板収納容器 |
US10535540B2 (en) | 2014-09-26 | 2020-01-14 | Miraial Co., Ltd. | Substrate storing container |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102076376B1 (ko) | 2020-02-11 |
TWI579210B (zh) | 2017-04-21 |
TW201402423A (zh) | 2014-01-16 |
US10242896B2 (en) | 2019-03-26 |
CN104520984B (zh) | 2017-09-22 |
EP2835821B1 (en) | 2020-03-25 |
EP2835821A4 (en) | 2015-11-04 |
US20150014191A1 (en) | 2015-01-15 |
KR20140142228A (ko) | 2014-12-11 |
CN104520984A (zh) | 2015-04-15 |
JP6054947B2 (ja) | 2017-01-11 |
EP2835821A1 (en) | 2015-02-11 |
JPWO2013151022A1 (ja) | 2015-12-17 |
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WWE | Wipo information: entry into national phase |
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ENP | Entry into the national phase |
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