WO2013151022A1 - 基板収納容器 - Google Patents

基板収納容器 Download PDF

Info

Publication number
WO2013151022A1
WO2013151022A1 PCT/JP2013/060012 JP2013060012W WO2013151022A1 WO 2013151022 A1 WO2013151022 A1 WO 2013151022A1 JP 2013060012 W JP2013060012 W JP 2013060012W WO 2013151022 A1 WO2013151022 A1 WO 2013151022A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
storage container
substrate storage
component
mass
parts
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/060012
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
鈴木 勤
小田嶋 智
三村 博
統 小川
Original Assignee
信越ポリマー株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 信越ポリマー株式会社 filed Critical 信越ポリマー株式会社
Priority to EP13772864.8A priority Critical patent/EP2835821B1/en
Priority to US14/376,964 priority patent/US10242896B2/en
Priority to KR1020147022235A priority patent/KR102076376B1/ko
Priority to JP2014509159A priority patent/JP6054947B2/ja
Priority to CN201380011256.6A priority patent/CN104520984B/zh
Publication of WO2013151022A1 publication Critical patent/WO2013151022A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67389Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H01L21/67393Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67366Closed carriers characterised by materials, roughness, coatings or the like

Definitions

  • such a substrate storage container is formed of a synthetic resin such as polypropylene, polycarbonate, or cycloolefin polymer, and is particularly rigid as a substrate storage container for storing a 300 mm wafer (substrate), and the inside is visually recognized. Since it is possible, what was formed from polycarbonate resin is mainly used.
  • the component (A1) is composed of another cyclic olefin resin (trade name: ZEONOR (registered trademark) 1020R, manufactured by ZEON CORPORATION.
  • the component (C1) can also be a polystyrene-based elastomer resin (C2) component, and an appropriate amount of the component (D) or component (E) as necessary. Can be added.
  • component (C2) trade name: Tuftec (registered trademark) H1053, manufactured by Asahi Kasei Chemical Co., Ltd.
  • component (D) product name: Mipperon (registered trademark) XM-220, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
  • component (E) trade names: Ketchin Black (registered trademark) EC300J, manufactured by Lion Corporation can be used.
  • a shell body 2 having a supply side on-off valve 8A for purging gas, an exhaust side on-off valve 8B (hereinafter referred to as on-off valve 8), and a kinematic coupling 20 for positioning with respect to various devices is used as a cyclic olefin. It was obtained by injection molding using the above materials consisting of polymer, carbon fiber, and polyolefin elastomer.
  • the water absorption measured by each of the above-mentioned methods was 0.07%, surface resistance The value was 1.0 ⁇ E + 16 ⁇ , and the outgas was 1.5 ppm.
  • the shell body 2 and the door body 4a obtained above are prepared, and a commercially available data logger TR-77Ui (manufactured by T & D Co., Ltd.) is installed on the bottom of the shell body 4a, and the latch mechanism installed on the door body 4a Was used to close the door 4.
  • a commercially available data logger TR-77Ui manufactured by T & D Co., Ltd.
  • the exhaust side purge is performed while introducing dry nitrogen having a dew point of ⁇ 50 ° C.
  • the shell body 2 obtained above is prepared, and as shown in FIG. 2, the kinematic cups on the top and bottom surfaces of the shell body 2 are measured by the measurement terminals of the charging plate monitor CPM210 (ION Systems Inc., Harada Sangyo Co., Ltd.).
  • CPM210 ION Systems Inc., Harada Sangyo Co., Ltd.
  • the decay time to 100 V is measured after applying an applied voltage of 1000 V.
  • the decay time is 0.1 seconds for both (a) and (b) aspects. It was 1 second or less, which is regarded as a practical measure.
  • the shell main body 2 and the door main body 4 obtained above are prepared, and a substrate organic substance analyzer (SWA, GL Science) is connected to a commercially available gas chromatography / mass spectrum (GC-MS) and a cell dedicated to the substrate to be measured.
  • a substrate organic substance analyzer SWA, GL Science
  • GC-MS gas chromatography / mass spectrum
  • the shell main body 2 sample is set in the measuring device 30 shown in FIG. 3, and a silicon wafer 32 is loaded on an arbitrary support 31 selected in advance, and the fishing line 33 and the silicon wafer 32 are fixed with a tape. Confirm that the fishing line 33 is vertical and horizontal with respect to the silicon wafer 32, and measure the tensile load of the silicon wafer 32 using the Tensilon measuring machine 34. there were.
  • Example 3 Except for changing to the composition shown in Table 1, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellets for injection molding were respectively 0.01%, 85 MPa, 9.7 kJ / m 2 , 2.2 ⁇ E + 6 ⁇ , 24 ppm. Further, in the same manner as in Example 1 except that the composition is changed to the composition shown in Table 1, relative humidity and resistance after 24 hours of purging measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using pellets made of this resin composition. The voltage decay, the amount of organic substances adhering to the wafer, and the tensile load on the wafer were 3.3%, 0.1 second, 2.1 ng / cm 2 , and 0.9 N, respectively, all within the practical range.
  • the values of the withstand voltage decay, the amount of organic substances adhering to the wafer, and the tensile load of the wafer were 2.2%, 0.1 second, 1.3 ng / cm 2 , and 1.1 N, respectively, all within the practical range.
  • Example 5 Except for changing to the composition shown in Table 1, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellets for injection molding were respectively 0.01%, 100 MPa, 5.2 kJ / m 2 , 2.4 ⁇ E + 6 ⁇ , 20 ppm. Moreover, the relative humidity after 24 hours of purge measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using pellets made of this resin composition, as in Example 1, except that the composition was changed to the composition shown in Table 1.
  • Example 6 Except for changing to the composition shown in Table 1, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellets for injection molding were respectively 0.02%, 80 MPa, 8.6 kJ / m 2 , 3.1 ⁇ E + 6 ⁇ , 30 ppm. Moreover, the relative humidity after 24 hours of purge measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using pellets made of this resin composition, as in Example 1, except that the composition was changed to the composition shown in Table 1. The withstand voltage decay, the amount of organic substances adhering to the wafer, and the tensile load of the wafer were 4.1%, 0.2 seconds, 2.7 ng / cm 2 , and 0.8 N, respectively, all within the practical range.
  • Example 7 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 98 MPa, 5.7 kJ / m 2 , 4.7 ⁇ E + 6 ⁇ , 19 ppm. Further, the relative humidity after 24 hours of purge measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using pellets made of this resin composition, as in Example 1, except that the composition was changed to the composition shown in Table 2.
  • the values of the withstand voltage decay, the amount of organic substances adhering to the wafer, and the tensile load of the wafer were 2.9%, 0.1 seconds, 1.7 ng / cm 2 , and 0.7 N, respectively, all within the practical range.
  • Example 8 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 95 MPa, 5.4 kJ / m 2 , 5.2 ⁇ E + 6 ⁇ , 23 ppm. Moreover, except having changed into the composition shown in Table 2, like Example 1, the pellet which consists of this resin composition is used and the support member 5 and the shell main body 2 are used, and other components are resin compositions of Example 2.
  • the relative humidity after 24 hours of purge, withstand voltage decay, the amount of organic matter adhering to the wafer, and the tensile load on the wafer measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using the pellets made of the product are 3.3% and 0.1%, respectively.
  • the slipperiness of the wafer was improved, and the appearance of the weld portion generated on the back surface of the shell body 2 was improved.
  • Example 9 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 90 MPa, 5.0 kJ / m 2 , 6.1 ⁇ E + 6 ⁇ , 30 ppm. Moreover, except having changed into the composition shown in Table 2, like Example 1, the pellet which consists of this resin composition is used and the support member 5 and the shell main body 2 are used, and other components are resin compositions of Example 2.
  • Example 10 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 98 MPa, 5.5 kJ / m 2 , 4.5 ⁇ E + 5 ⁇ , 21 ppm. Moreover, except having changed into the composition shown in Table 2, like Example 1, the pellet which consists of this resin composition is used and the support member 5 and the shell main body 2 are used, and other components are resin compositions of Example 2.
  • Example 11 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 95 MPa, 5.2 kJ / m 2 , 3.7 ⁇ E + 5 ⁇ , 24 ppm. Moreover, the door 4 was used using the pellet which consists of this resin composition similarly to Example 1 except having changed into the composition shown in Table 2, and the pellet which consists of the resin composition of Example 2 was used for other parts.
  • the relative humidity, withstand voltage attenuation, the amount of organic matter adhering to the wafer, the amount of organic matter adhering to the wafer, and the tensile load on the wafer measured for the molded and assembled substrate storage container 1 were 1.6%, 0.1 second, and 1.9 ng / respectively, respectively.
  • Example 12 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 88 MPa, 4.4 kJ / m 2 , 2.1 ⁇ E + 5 ⁇ , 28 ppm. Moreover, the door 4 was used using the pellet which consists of this resin composition similarly to Example 1 except having changed into the composition shown in Table 2, and the pellet which consists of the resin composition of Example 2 was used for other parts.
  • the measured relative humidity, withstand voltage decay, wafer adhesion organic matter amount, and wafer tensile load after purging for the molded and assembled substrate storage container 1 are 1.4%, 0.1 second, and 2.2 ng / 2.2 respectively.
  • Example 13 As in Example 1, except for changing to the composition shown in Table 2, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 95 MPa, 4.8 kJ / m 2 , 7.3 ⁇ E + 5 ⁇ , 25 ppm. Moreover, except having changed into the composition shown in Table 2, like Example 1, the support member 5 and the door 4 are used using the pellet which consists of this resin composition, and other components are from the resin composition of Example 2.
  • the relative humidity after 24 hours of purge, the withstand voltage decay, the amount of organic substances adhering to the wafer, and the wafer tensile load measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using the pellets are 1.4% and 0.1 seconds, respectively. 2.7 ng / cm 2 , 0.6 N, and especially the standard deviation of the surface resistance value is small and the stability is improved without depending on the site, the relative humidity retention after 24 hours of purging, the back of the shell body 2 Improvements were observed in the appearance of the welds generated in each.
  • Example 1 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively They were 0.19%, 140 MPa, 6.0 kJ / m 2 , 8.7 ⁇ E + 8 ⁇ , and 10 ppm.
  • Example 2 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 100 MPa, 1.0 kJ / m 2 , 4.7 ⁇ E + 6 ⁇ , 12 ppm, Charpy impact strength is extremely low, and it is a practical range for any part constituting the substrate container 3 Since it did not reach 0.0 kJ / m 2 , evaluation as a substrate storage container was not performed.
  • Example 3 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.02%, 85 MPa, 6.8 kJ / m 2 , 1.0 ⁇ E + 14 ⁇ , 17 ppm, and a surface resistance value of 1.0 ⁇ E + 10 ⁇ or less was not obtained, so evaluation as a substrate storage container was not performed. It was.
  • Example 5 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 77 MPa, 9.8 kJ / m 2 , 5.5 ⁇ E + 6 ⁇ , 42 ppm. Further, in the same manner as in Example 1 except that the composition is changed to the composition shown in Table 3, relative humidity and resistance after 24 hours of purging measured for the substrate storage container 1 formed and assembled using pellets made of this resin composition.
  • Wafer that is assumed to be due to the amount of outgas from the resin composition, the voltage attenuation, the amount of organic matter adhering to the wafer, and the tensile load of the wafer are 2.8%, 0.1 second, 5.3 ng / cm 2 , and 1.2 N, respectively.
  • Example 6 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 82 MPa, 2.5 kJ / m 2 , 1.8 ⁇ E + 6 ⁇ , 45 ppm, and Charpy impact strength is 3.0 kJ / m, which is a practical range for any component that constitutes the substrate storage container. Since it did not reach 2 , evaluation as a substrate storage container was not carried out.
  • Example 7 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively 0.01%, 79 MPa, 4.5 kJ / m 2 , 2.5 ⁇ E + 10 ⁇ , 44 ppm, and a surface resistance value of 1.0 ⁇ E + 10 ⁇ or less was not obtained. Moreover, since shaping
  • Example 8 Except for changing to the composition shown in Table 3, as in Example 1, the water absorption, bending strength, Charpy impact strength, surface resistance value, and outgas amount evaluated in the test piece molded using the pellet for injection molding were respectively It is 0.01%, 80 MPa, 2.5 kJ / m 2 , 7.8 ⁇ E + 4 ⁇ , 35 ppm, and the Charpy impact strength is 3.0 kJ / m, which is a practical range for any part constituting the substrate storage container. Since it did not reach 2 , evaluation as a substrate storage container was not carried out.
  • the water absorption measured after being immersed in water at 23 ° C. for 24 hours as the shell body 2, the door 4, and the on-off valve 8 of the substrate storage container 1 (at least the constituent material defining the internal closed space 3).
  • the internal closed space 3 after the internal closed space 3 of the substrate storage container 1 is replaced (purged) with dry nitrogen or the like to reduce the relative humidity.
  • the relative humidity of 3 can be maintained at a low humidity for a long time.
  • ultrahigh molecular weight polyethylene powder is blended in and out of the substrate with respect to the material of the specific constituent material (total 100 parts by mass of component (A) + component (B) + component (C)). It is expected to greatly improve the reliability and yield of devices created from the substrate 6 stored in the substrate storage container 1, such as reducing the risk of trouble at the time.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)

Abstract

【課題】パージ後も長時間にわたって内部閉鎖空間の相対湿度を低湿度に維持することができる基板収納容器を提供する。【解決手段】当該基板収納容器(1)における内部閉鎖空間(3)を区画する構成材であるシェル本体(2)、ドア(4)及び開閉バルブ(8)として、23℃の水中に24時間浸漬した後に測定される吸水率が0.1重量パーセント以下であるもの(特定構成材)を用いる。これにより、シェル本体(2)、ドア(4)及び開閉バルブ(8)を、JIS K7209規格、またはISO62規格に準じた基準の下で、水分放出抑制能力に関し、客観的に現実の要求を満足するものとし、これらから内部閉鎖空間(3)に水分が放出されることを著しく抑制する。

Description

基板収納容器
 本発明は、シリコンなどの半導体ウェーハ、ガラスウェーハ、マスクガラス、液晶デバイス等の電子デバイス用の基板を製造工程内で搬送、保管あるいは、工場間輸送する際に使用する基板収納容器に関するものである。
 各種半導体用デバイスの微細化、高集積化の進展にともなって、デバイスプロセスにおいて搬送されるシリコンウェーハに対して、クリーンルーム内の製造環境要因によるパーティクル、有機物、酸・塩基性物質といった種々の汚染物質が与える影響がより問題になりつつある。
 こうした状況に対して、シリコンウェーハを素材として使用する半導体プロセスでは、特にウェーハ口径が300mmとなったことを契機に、シリコンウェーハを密閉容器に収納して製造装置間を搬送・保管する局所環境(ミニエンバイロンメント)と呼ばれるシステムが採用されるようになり、その搬送・保管容器としてプラスチックを主な材料とする基板収納容器が多用されている。
 具体的には、こうした基板収納容器は、ポリプロピレン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマーなどの合成樹脂から形成されていて、特に300mmウェーハ(基板)を収納する基板収納容器としては、高剛性で、内部を視認可能なことから、ポリカーボネート樹脂から形成されたものが主に使用される。
 また、基板収納容器の使用に際しては、その内部に収納する基板表面の酸化や加工途中での余分な反応の促進防止、水分を介する有機物付着等の汚染を防止するために、基板収納容器の内部の気体を窒素などの不活性ガスやドライエアーにて置換することが提案されている。
 こうした基板収納容器の使用により、クリーンルーム内の製造環境要因によるパーティクル、有機物、酸・塩基性物質といった種々の汚染物質の影響を低減することができる(例えば、特開2009-246154号公報参照)。
 しかし一方、昨今、ますます進展する回路パターンの微細化に伴って、デバイスプロセスの中でも例えばメタルプロセスなど、ウェーハ周辺環境の相対湿度、すなわち水分が歩留まりに大きく影響することが明らかとなりつつあり、基板収納容器の内部閉鎖空間をドライ窒素等で置換(パージ)して相対湿度を低下させた後、その基板収納容器の内部閉鎖空間の相対湿度をそのまま長時間にわたって低湿度に維持できることが必要となっている。この点、従来の基板収納容器の材料に主に用いられるポリカーボネートは吸水率が高く、容器内をドライ窒素等で置換(パージ)して湿度を低下させた後の容器内部をそのまま長時間にわたって低湿度を維持することが困難であった。
特開2009-246154号公報
 本発明は、このような実情に鑑みなされたもので、その目的は、パージ後も長時間にわたって内部閉鎖空間の相対湿度を低湿度に維持することができる基板収納容器を提供することにある。
 上記目的は、下記(1)~(7)の本発明により達成される。
(1)本発明は、内部閉鎖空間に基板を収納する基板収納容器において、前記内部閉鎖空間を区画する構成材として、23℃の水中に24時間浸漬した後に測定される吸水率が0.1重量パーセント以下である特定構成材が用いられていることを特徴とする基板収納容器を提供する。
(2)好ましくは、前記内部閉鎖空間は、前記特定構成材に基づき、該内部閉鎖空間の相対湿度が0%である状態を開始基準として、自然放置の状態で24時間経過した時における相対湿度が10%以下にとどまるように設定されている。
(3)好ましくは、前記特定構成材の材料が環状オレフィン樹脂((A)成分)100質量部、繊維状導電性フィラー((B)成分)を(A)成分100質量部に対して3~25質量部、衝撃向上材としてポリオレフィン系および/またはポリスチレン系熱可塑性エラストマー((C)成分)を(A)成分100質量部に対して5~25質量部である。
(4)好ましくは、前記特定構成材の表面抵抗値が、1.0×E+10Ω以下である。
(5)好ましくは、150℃、60分間の条件下でのヘッドスペース法によって測定される前記特定構成材のアウトガス総量が、40ppm以下である。
(6)好ましくは、前記特定構成材の材料が、粘度平均分子量が100万以上のポリエチレン((D)成分)をさらに含有する。
(7)好ましくは、前記特定構成材の材料が、n-ジブチルフタレート吸油量が180mL/100g以上の粒子状導電性フィラー((E)成分)をさらに含有する。
 本発明によれば、パージ後も長時間にわたって内部閉鎖空間の相対湿度を低湿度に維持することができる基板収納容器を提供できる。
本発明の実施形態の基板収納容器(FOUP)を示す展開斜視図である。 基板収納容器(FOUP)の耐電圧減衰の測定を示す概略図である。 基板収納容器(FOUP)の滑り性の測定を示す概略図である。
 以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態(以下、実施形態という。)について詳細に説明する。
 本発明の実施形態となる基板収納容器として、図1に示すような半導体工場で工程内容器として使用されているFOUP(フロント・オープニング・ユニファイド・ポッド)について説明をする。基板収納容器(FOUP)1は、正面に開口を備えたシェル本体2と、このシェル本体2の開口を閉鎖しそのシェル本体2と協働して内部に内部閉鎖空間3を形成するドア4とを有している。
 前記シェル本体2の相対向する内側壁には、図1に示すように、複数組の一対の支持部材5が互いに対向するようにして設けられている。この複数組の一対の支持部材5は、上下方向に一定間隔毎に配置されており、この各組の一対の支持部材5に基板6が水平状態をもって支持されている。
 また、シェル本体2(の底面)には、2~4箇所の貫通穴7が形成されている。貫通穴7には、供給用と排気用の2種類の開閉バルブ8A,8B(内容が共通する場合には代表符号として8を用いる)が取り付けられており、その開閉バルブ8A,8Bを利用することにより内部閉鎖空間3の気体を置換することができる。具体的には、開閉バルブ8A(8B)は、シェル本体2の貫通穴7の上面側から取り付け可能な上部筒体と、シェル本体2の貫通穴7の下面側から取り付け可能な下部筒体と、弾性部材によって支持されてこれらの内部に可動可能に内蔵される弁体と、フィルタと、これらの部品間に配設されるシール用のOリングと、弁体を可動させる弾性部材とを有しており、常時は、基板収納容器1の内部閉鎖空間3を密封状態に保ち、パージポートが接続されたときには、弁体を開いて基板収納容器1の内部閉鎖空間3と外部とを連通可能とすることができる(パージ可能な状態)。
 さらに、シェル本体2には、その天面において、搬送用のロボティックフランジ9が備えられ、シェル本体2の底面には、ドア4の開閉操作を行う開閉装置(図示略)や、基板6に各種の処理加工を行う加工装置に基板収納容器1を位置決めする位置決め手段(図示略)が設けられている。
 前記ドア4は、皿状のドア本体4aと、そのドア本体4aの開口部を閉鎖するように取付けられるカバープレート4bと、を有し、その内部には、ドア4をシェル本体2に係止する施錠機構10が備えられている。この施錠機構10は、回転部材11と、この回転部材11の回転によって長手方向に移動がなされる連結バー12と、この連結バー12の先端に設けられる係止部13と、によって構成されている。カバープレート4bには、前記回転部材16と対向する部分において操作孔14が形成されており、その操作孔14を介して施錠機構10を操作することができることになっている。また、ドア本体4aの側面全周にはガスケット15が備えられている。このガスケット15は、ドア4がシェル本体2の開口を閉鎖する際、シェル本体2の開口周縁部との間のシール性を確保する。
 さらに、前記ドア4の裏面には、図1に示すように、リテーナ16が設けられている。リテーナ16は、矩形状の枠体17と、この枠体17から短冊状に分岐されて基板6側に張り出す弾性片18とを備えて構成されており、弾性片18には基板2と接触する断面がVあるいはU字状をした保持溝19が形成されている。
 このような基板収納容器1は、使用に際し、そのシェル本体2内に基板(半導体ウェーハ)6が収納され、その収納を終えると、ドア4によりシェル本体2の開口が閉鎖(密閉)される。その上で、基板収納容器1は、半導体部品の生産工程に投入される。その生産工程の各工程においては、基板収納容器1は、クリーン環境に設定された加工装置のポート部分(ロードポート)にドッキングされた後、ドア4が開かれ、シェル本体2内から開口を介して基板6が取り出される。その基板6は、加工装置内にローディングされて、各種の処理や加工が行われ、その各種の処理や加工を終えると、再び、シェル本体2内に収納される。基板6の収納を終えると、シェル本体2の開口がドア4により閉じられ、そのドア4は施錠される。この基板収納容器1は、搬送装置にて次の工程に搬送され、以下、同様の操作が繰り返される。この場合、必要に応じて、基板収納容器1に設けられる開閉弁8A,8Bを利用することにより、不活性ガスが基板収納容器1の内部閉鎖空間3内に注入されて、その内部閉鎖空間3内の気体が置換される。
 前記基板収納容器1は、使用に際し、上述のように、その構成材たるシェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8が内部閉鎖空間3を区画することになるが、そのシェル本体2、ドア4、開閉バルブ8、内部閉鎖空間3等は、次のような特有の構成を有している。
(吸水率)
 内部閉鎖空間3を区画する構成材たるシェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8として、23℃の水中に24時間浸漬した後(経過時点)に測定される吸水率が0.1重量%以下である特定構成材が用いられている。本発明者の知見に基づき、シェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8から内部閉鎖空間3に水分が放出されることを著しく抑制するためである。
 水温、時間、吸水率により特定構成材を特定しているのは、JIS K7209規格、またはISO62規格に準じた基準の下で、客観的判断を行えるようにするためである。
 23℃の水中に24時間浸漬した後に測定される吸水率が0.1重量%以下であることを条件としているのは、23℃の水中に24時間浸漬した後に測定される吸水率が0.1重量%を超えると、水分放出抑制能力に関し、客観的に現実の要求を満足するものが得られないことになり、パージ後も長時間にわたって内部閉鎖空間3の相対湿度を低湿度に維持することができなくなるからである。
(湿度)
 基板収納容器1の内部閉鎖空間3は、前述のシェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8(特定構成材)に基づき、内部閉鎖空間3の相対湿度が0%である状態を開始基準として、自然放置の状態で24時間経過した時における相対湿度が10%以下にとどまるように設定されている。半導体部品の生産工程等における現実的な要求に応えるためである。
 この場合、上記内部閉鎖空間3の相対湿度が10%以下に維持されることを条件に、シェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8、および内部閉鎖空間3内に設置される支持部材5、リテーナ16の全てが特定構成材であってもよいし、シェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8、および内部閉鎖空間3内に設置される支持部材5、リテーナ16が部分的に特定構成材であってもよい。勿論、シェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8、および内部閉鎖空間3内に設置される支持部材5、リテーナ16が特定構成材である割合が高くなるにつれて、内部閉鎖空間3の相対湿度を低く維持することができ、それに基づき上記内部閉鎖空間3の相対湿度を10%以下の所定値(例えば5%)に適宜調整することができる。
 内部閉鎖空間3の相対湿度が0%である状態を開始基準として、自然放置の状態で24時間経過した時における内部閉鎖空間3の相対湿度が10%であることを基準として用いているのは、半導体部品の生産工程等における現実的な要求を考慮した客観的な判断基準として用いるためである。上記構成によれば、内部閉鎖空間の相対湿度を低湿度に維持できるものとして、現実の要求に耐え得るものを提供できる。
(材料)
 基板収納容器1を構成するシェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8は、環状オレフィン樹脂、液晶ポリマー、ポリフェニレンサルファイド、ポリプロピレン、ポリエーテルエーテルケトン等の熱可塑性樹脂により形成(成形)することが好ましい。これらは、吸水率が低く、水分放出抑制能力が高いものであり、その性質を利用することにより、上述の如く、内部閉鎖空間3の相対湿度を10%以下に維持することができるからである。
 この場合、上記熱可塑性樹脂としては、特に環状オレフィン樹脂を用いることが好ましい。成形性や寸法精度、コストの観点から優れているからである。この環状オレフィン樹脂としては、ノルボルネン環を有するモノマーの開環重合体およびその水素添加物を用いることができ、開環重合体の水素添加物であることが、特に好ましい。また、JIS K7121に準拠した測定方法により測定されるガラス転移温度が101~160℃であれば、アウトガスの発生を低減できるとともに、機械的強度(耐熱強度)を高めることができる。
 例えば、ZEONEX(登録商標)(日本ゼオン株式会社製)、ZEONOR(登録商標)(日本ゼオン株式会社製)、などを用いることができる。また、これらの環状オレフィン樹脂を主体として他の樹脂との共重合体やアロイなどであって、吸水率が0.1重量%以下のものも用いることができる。また、JIS K7121に準拠した測定方法により測定されるガラス転移温度が101~160℃であれば、アウトガスの発生を低減できるとともに、機械的強度(耐熱強度)を高めることができる。
 こうした環状オレフィン樹脂((A)成分)100質量部に、繊維状導電性フィラー((B)成分)を3~25質量部、衝撃向上材としてポリオレフィン系および/またはポリスチレン系熱可塑性エラストマー((C)成分)を5~25質量部添加することができる。上記構成によれば、吸水率の観点から、樹脂として、好ましいものを用いることができるとともに、後記するような利点も有する。
 上記シェル本体2、及び支持材5については、(B)成分として、導電性を付与すべく、前述の熱可塑性樹脂100質量部に、炭素繊維、カーボンナノチューブ、金属を被覆したポリマー繊維、貴金属を被覆したポリマー繊維、ステンレス等の金属繊維、ウィスカー等の繊維状導電性物質3~25質量部を添加することができる。繊維状導電性物質としては、JIS K3850「空気中の繊維状粒子測定方法」において、定義されるアスペクト比(長さ/幅)が3以上の導電性フィラーを言う。こうした繊維状導電物質は、3質量部未満では、十分な導電性が得られにくくなり、25質量部を超えると耐衝撃性の低下を招き易い。特には、3~15質量部がより好ましい。
 繊維状導電性物質は、前述の表面抵抗値1.0×E+10Ω以下の導電性能を得るべく、ポリアクリロニトリル系(PAN系)の炭素繊維や、ピッチ系の炭素繊維を使用することができる。この繊維サイズについては長繊維、短繊維(カットファイバー)、ミルドファイバーなどを、さらに必要に応じて、例えばエポキシ系、ウレタン系など適宜の表面処理剤(サイジング剤)を使用して樹脂界面との親和性、接着性を改質することもできる。特には繊維長3~6mmで、繊維径5~15μmのものが好ましい。また、アウトガスの観点からは、サイジング剤の含浸率は2質量%以下が好ましい。このような炭素繊維の配合量と表面抵抗値をはじめとする材料の諸特性は、使用する炭素繊維の既述の繊維長等の特性によって一義的に数値が特定されるものではないが、表面抵抗値のほかに、材料の機械特性、成形性、寸法など本発明の主旨に沿った範囲で適宜、その種類と配合量を設定することができる。
 (C)成分は、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、またはポリスチレン系熱可塑性エラストマーを単独で用いることもでき、これらを組み合わせて用いることもできる。(C)成分を5質量部以上とすることで、耐衝撃性の向上を図ることができ、25質量部以下とすることで、耐熱性の低下を防ぐことができる。また、5~15質量部がより好ましい。
 ポリオレフィン系熱可塑性エラストマーは、ポリエチレンやポリプロピレン中に、エチレン-プロピレンゴムやエチレン-プロピレンゴム-ジエンゴムを微分散させたり、エチレン-プロピレンゴムやエチレン-プロピレンゴム-ジエンゴムを一部架橋した後、ポリプロピレンやポリエチレンをブレンドさせたりして作られ、常温で弾性体である高分子物質を言う。
 ポリスチレン系熱可塑性エラストマーは、ハードセグメントのポリスチレン部分と、ソフトセグメントであるポリブチレン、ポリエチレン、ブタジエン、イソプレンなどの部分をブロック共重合体とすることで作られ、常温で弾性体である高分子物質を言う。芳香族ビニルー共役ジエンブロック共重合体に代表され、スチレン-ブタジエン-スチレン(SBS)、スチレン-ブタジエン-ブチレン-スチレン(SBBS)、スチレン-エチレン-ブチレン-スチレン(SEBS)などがあげられる。
 基板収納容器1を構成する部材のうち、特には支持部材5、シェル本体2、及び開閉バルブ8は、特定構成材として、粘度平均分子量が100万以上の超高分子量ポリエチレン(D)成分を含有することができ、その含有量は(A)成分100質量部に対して1~20質量部であることが好ましく、5~15質量部であることがより好ましい。(A)成分100質量部に対して(D)成分の含有量が好ましい下限値未満であると、ウェーハへの摺動性とウェルド部の外観、強度の向上効果が十分ではなく、好ましい上限値を超えると、樹脂組成物の流動性が損なわれ、成形体の表面外観の低下を招きやすい。
 また、樹脂組成物における(D)成分の含有量は、(A)成分+(B)成分+(C)成分の合計100質量部に対して1~20質量部であることが好ましく、5~15質量部であることがより好ましい。(A)成分+(B)成分+(C)成分の合計100質量部に対して、(D)成分の含有量が好ましい下限値未満であると、ウェーハへの摺動性とウェルド部の外観、強度の向上効果が十分ではなく、好ましい上限値を超えると、樹脂組成物の流動性が損なわれ、成形体の表面外観の低下を招きやすい。
 粘度平均分子量は、135℃のデカン溶媒における極限粘度[η]を測定し、式:[η]=kMνα(Mνは、粘度平均分子量、kとαは定数)に基づいて算出される。100万以上であればウェーハに対する耐摩耗性、ウェルド接着性が向上する。400万以下だと、成形時の流動性を良好に維持し易くできる。
 このように基板収納容器1を構成する部材のうち、特には支持部材5、及びまたはシェル本体2、及び開閉バルブ8の材料中には、超高分子量ポリエチレンが1~20質量部配合されていることが好ましい。支持部材5に対してはウェーハへの摺動性を、シェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8については、ウェルド部の外観、強度を高めるためである。「1~20質量部」としているのは、1質量部未満では所望の摺動性が得られず、20質量部を越えると成形性が損なわれるからである。
 基板収納容器1を構成する部材のうち、特にはドア本体4a、及びドアカバープレート4bの特定構成材は、DBP吸油量が180mL/100g以上の粒子状導電性フィラー(E)成分を含有することができ、その含有量は(A)成分100質量部に対して1~15質量部であることが好ましく、5~12質量部であることがより好ましい。(A)成分100質量部に対して(E)成分の含有量が好ましい下限値未満であると、表面抵抗値がドア部品平面内で安定的に1.0×E+10Ω以下を得られにくく、基板収納容器1が必要とする導電性能に支障が生じ、かつドア部材の平面性が得られにくくなることで、ドアを閉じた際にシェル本体との外周接触部における嵌合性、気密性が損なわれ、パージ後のFOUP内湿度を長く維持することが困難となりやすい。一方、好ましい上限値を超えると、耐衝撃性の低下を招きやすく、また、汚染源となるおそれがある。
 また、樹脂組成物における(E)成分の含有量は、(A)成分+(B)成分+(C)成分の合計100質量部に対して1~12質量部であることが好ましく、1~10質量部であることがより好ましい。(A)成分+(B)成分+(C)成分の合計100質量部に対して、(E)成分の含有量が好ましい下限値未満であると、表面抵抗値がドア部品平面内で安定的に1.0×E+10Ω以下を得られにくく、基板収納容器1が必要とする導電性能に支障が生じ、かつドア部材の平面性が得られにくくなることで、ドアを閉じた際にシェル本体との外周接触部における嵌合性、気密性が損なわれ、パージ後のFOUP内湿度を長く維持することが困難となりやすい。一方、好ましい上限値を超えると、耐衝撃性の低下を招きやすく、また、汚染源となるおそれがある。
 また、(E)成分を用いる場合、樹脂組成物における、(B)成分と(E)成分との合計の含有量は、樹脂組成物全体を100質量%とした際に5~25質量%であることが好ましく、5~18質量%であることがより好ましい。(B)成分と(E)成分との合計の含有量が好ましい下限値未満であると、所望とする導電性が得られにくく、好ましい上限値超であると、耐衝撃性を招きやすい。
 (E)成分の粒子状導電フィラーは、ケッチェンブラックを含む各種のカーボンブラック、金属を被覆したポリマー微粒子、導電性酸化チタン、銅、銅合金、銀、ニッケル、低融点合金(ハンダなど)の金属微粒子、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウムなどの金属酸化物微粒子等ポリピロール、ポリアニリンなどの導電性ポリマー粒子貴金属を被覆した銅や銀の微粒子等を用いることができる。
 なお、シェル本体2、支持部材5、位置決め手段などの必要部品は、一体的に形成してもよいし、個別の部品として形成して組み立ててもよい。
 上記各場合においては、所定の導電性、機械物性、アウトガスなどの化学的清浄度等を得るために、ベースとなる熱可塑性樹脂に合わせて、適宜の表面処理等を本発明の目的を逸脱しない範囲で選択することができる。
 基板収納容器1を構成するシェル本体2、ドア4、開閉バルブ8及び支持部材5は、前記特定構成材として、粘度平均分子量が100万以上の超高分子量ポリエチレン(D)成分を(A)成分+(B)成分+(C)成分の合計100質量部に対して、1~20質量部、好ましくは5~15質量部、DBP吸油量が180mL/100g以上の粒子状導電性フィラー(E)成分を(A)成分+(B)成分+(C)成分の合計100質量部に対して、1~12質量部、好ましくは1~10質量部含んでいる基板収納容器とできる。上記構成によれば、表面抵抗値の観点に加え、摺動性やウェルド強度の改善の観点から材料として、好ましいものを用いることができる。
 基板収納容器1を構成するシェル本体2、ドア4及び開閉バルブ8の材料に関しては、150℃、60分間の条件下でのヘッドスペース法によって測定されるアウトガス総量が、40ppm以下であることが好ましい。150℃、20分間の条件下でのヘッドスペース法によって測定されるアウトガス総量が、40ppmを越えると、そのアウトガスが基板6等に対して悪影響を与えることになるからである。上記構成によれば、アウトガスの観点から、材料として、好ましいものを用いることができる。
 上述の内容は、下記実施例及び比較例の結果を示す表1ないし3の内容により裏付けられる。表1には実施例1ないし6を、表2には実施例7ないし13を、表3には比較例1ないし8を、それぞれ示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
[実施例1]
 シェル本体2、開閉バルブ8、支持部材5、及びドア本体4a、ドアカバープレート4b(以下ドア4)用材料として、環状オレフィン樹脂(商品名:ZEONOR(登録商標)1420R、日本ゼオン株式会社製(A1)成分100質量部に対して、繊維状導電性フィラー(商品名「EPU-LCL」、日本ポリマー株式会社製)(B)成分、6質量部、ポリオレフィン系エラストマー(商品名:「タフマーA(登録商標)4085S」、三井化学株式会社製)(C1)成分12質量部の割合で配合した混合物を2軸押出し機で混練し、射出成形用のペレット形状の樹脂組成物を得た。これを射出成形により、強度測定用ダンベル試験片(ISO規格の多目的試験片A)、並びに、導電性用の75mm角の平板プレート、をそれぞれ常法により成形し、各評価に供する試験片を作製した。なお、別の実施例においては、(A1)成分は、別の環状オレフィン樹脂(商品名:ZEONOR(登録商標)1020R、日本ゼオン株式会社製)(A2)成分とすることもできる。また、(C1)成分は、ポリスチレン系エラストマー樹脂(C2)成分とすることもできる。さらに、必要に応じて(D)成分、(E)成分の適量を添加できる。
例えば、(C2)成分としては、商品名:タフテック(登録商標)H1053、旭化成化学株式会社製を、(D)成分としては、商品名:ミペロン(登録商標)XM-220、三井化学株式会社製を、(E)成分としては、商品名:ケッチンブラック(登録商標)EC300J、ライオン株式会社製を、それぞれ使用することができる。
(吸水率測定)
 この射出成形プレートを使用し、JIS K7209規格、またはISO62規格に準じた基準の下で、23℃水中に24時間浸漬、取出した後の重量増加率を測定したところ0.01%であった。
 機械的強度の指標として、曲げ強度、シャルピー衝撃強度を、それぞれ以下に示す方法により測定した。
(曲げ強度)
 曲げ強度は、ISO 178/A/2に準拠した方法により測定した。この曲げ強度が、80MPa超、である場合を合格としたところ、85MPaであった。
(シャルピー衝撃強度)
 シャルピー衝撃強度は、ISO 179-1eAに準拠した方法により測定した。このシャルピー衝撃強度が、3.0kJ/m超、である場合を合格としたところ、5.0kJ/mであった。
(表面抵抗値測定)
 導電性の指標として表面抵抗率を、ASTM D256に準拠した方法により、テストプレートを6分割したそれぞれの箇所について測定、その平均値と標準偏差を求めた。この表面抵抗率の平均値が、1.0×E+10(1.0×1010)Ω以下である場合を合格としたところ、9.3×E+8Ωであった。
(アウトガス測定)
 同じプレートから、約0.1gをサンプリングし、これをヘリウム気流下、150℃、60分間加熱した。この間にサンプルから発生するアウトガス成分を一度液体窒素で冷却したトラップ管に捕集し、これを加熱して、質量分析計に接続したガスクロマトグラフ(GC-MS)により、n-デカンを標準物質とした検量線によって、捕集したすべてのアウトガスを定量した(ダイナミックヘッドスペース法)。その結果、アウトガス量は、20ppmであった。
(300mmウェーハ用工程内容器(基板収納容器1(FOUP))作製)
 図1に示すシェル本体2内部の対向する左右両側壁部に基板(ウェーハ)6を両端で支持するそれぞれ25本の支持部材(ティース)5、底部に基板収納容器1の内部閉鎖空間3内の気体をパージするための供給側開閉弁8A、排気側開閉弁8B(以下開閉弁8)、および各種の装置に対して位置決めをするためのキネマティックカップリング20を備えたシェル本体2を環状オレフィンポリマー、炭素繊維、及びポリオレフィン系エラストマーからなる上記材料を使用して射出成形により得た。
 一方、同じ材料を用いて射出成形することにより、シェル本体2の開口部に設置してこれを密閉するドア本体4aを得た。このドア本体4a内部には、シェル本体2に収納された基板6をドア方向の側面から保持するための部品としてのリテーナ16を、ポリエーテルエーテルケトン樹脂(ビクトレックスジャパン株式会社製)を用いて射出成形により成形して嵌合設置し、ドア本体4aの外周部には、ドア本体4aをシェル本体2に閉めた際にシェル本体2の嵌合部において接触し基板収納容器1内部を密閉保持するためのフッ素系ゴムからなるガスケット15を装着した。さらにドア4外部には、ドア本体4aをシェル本体2に閉めた際に機械的に嵌合、密閉するためのラッチシステムを構成する一連の部品を同じくポリエーテルエーテルケトン樹脂を用いて成形、設置した。
 なお、ここで使用したポリエーテルエーテルケトン樹脂について、同樹脂を用いて射出成形により得た75mm×3mmサイズのプレートにおいて、既述のそれぞれの方法で測定した吸水率は0.07%、表面抵抗値は1.0×E+16Ω、アウトガスは1.5ppmであった。
(パージ後24時間経過時の基板収納容器1内の湿度測定)
 上記で得られたシェル本体2、ドア本体4aをそれぞれ用意し、シェル本体4a底部に市販のデータロガーTR-77Uiを(株式会社ティアンドデイ製)設置し、ドア本体4aに設置されたラッチ機構を用いてドア4を閉めた。このシェル本体2を温度23℃、湿度45%に調節されたクリーンルーム内において、シェル本体2の底部に設置したパージポート部の供給側から、露点-50℃の乾燥窒素を導入しながら排気側パージポート部から排気を行い、基板収納容器1内における内部閉鎖空間3の相対湿度を乾燥窒素におきかえて、湿度計の相対湿度が0%に到達したことを確認した後、乾燥窒素の導入を止め、2箇所のパージポートを閉じた。以降、24時間経過時までの基板収納容器1内における内部閉鎖空間3の相対湿度を測定した結果、24時間後において相対湿度2.7%となり、実用性の目安とされる10%以下を維持することができた。
(耐電圧減衰)
 上記で得られたシェル本体2を用意し、図2に示すように、帯電プレートモニターCPM210(ION Systems Inc.原田産業株式会社製)の測定端子により、シェル本体2天面と底面のキネマティックカップリング20との間を接続する場合((a)態様)と、帯電プレートモニターCPM210の測定端子によりシェル本体2内の最上段のティース5とキネマティックカップリング20との間を接続する場合((b)態様)の2通りの場合に分け、1000Vの印加電圧をかけた後100Vまで減衰する時間を測定した結果、その減衰時間は、(a)、(b)態様ともに0.1秒であり、実用性の目安とされる1秒以下であった。
(基板(ウェーハ)付着有機物評価)
 上記で得られたシェル本体2、ドア本体4をそれぞれ用意し、市販のガスクロマトグラフィー/マススペクトル(GC-MS)と測定対象の基板専用のセルを接続した基板有機物分析装置(SWA、ジーエルサイエンス社製)を用いて、He気流下、400℃で3時間加熱前処理した直径300mmのシリコンウェーハ1枚をシェル本体2の中央ティース部に設置し、ドア4を閉め、温度23℃、湿度45%に調節されたクリーンルーム内に7日間放置した。その後、該ウェーハを取り出し、前処理を行った基板有機物分析装置により、同じくヘリウム気流下、400℃で加熱してウェーハから脱離した有機物を捕集し、同装置により分析、n-デカンを標準物質とした検量線によって、捕集したすべての有機物を定量した結果、単位面積当たりの有機物量は、実用性の目安とされる4ng/cm以下の1.2ng/cmであった。
(基板(ウェーハ)滑り性)
 シェル本体2サンプルを、図3に示す測定装置30にセットし、予め選定した任意の支持部31にシリコンウェーハ32を装填し、釣り糸33とシリコンウェーハ32をテープにて固定する。釣糸33がシリコンウェーハ32に対して垂直水平になっている事を確認し、テンシロン測定機34を用いてシリコンウェーハ32の引張り荷重を測定、1.2Nと実用域と考えられる2.0N以下であった。
[実施例2]
 表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.02%、97MPa、6.0kJ/m、1.3×E+6Ω、22ppmであった。また、表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ2.4%、0.1秒、1.7ng/cm、1.1Nと、いずれの値も実用域の範囲内であった。
[実施例3]
 表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、85MPa、9.7kJ/m、2.2×E+6Ω、24ppmであった。また、表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ3.3%、0.1秒、2.1ng/cm、0.9Nといずれの値も実用域の範囲内であった。
[実施例4]
 表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、105MPa、4.0kJ/m、2.6×E+6Ω、14ppmであった。また、表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からからなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハの引張り荷重は、それぞれ2.2%、0.1秒、1.3ng/cm、1.1Nといずれの値も実用域の範囲内であった。
[実施例5]
 表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、100MPa、5.2kJ/m、2.4×E+6Ω、20ppmであった。また、表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からからなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハの引張り荷重は、それぞれ3.6%、0.1秒、1.8ng/cm、0.9Nといずれの値も実用域の範囲内であった。
[実施例6]
 表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.02%、80MPa、8.6kJ/m、3.1×E+6Ω、30ppmであった。また、表1に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からからなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハの引張り荷重は、それぞれ4.1%、0.2秒、2.7ng/cm、0.8Nといずれの値も実用域の範囲内であった。
[実施例7]
 表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、98MPa、5.7kJ/m、4.7×E+6Ω、19ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からからなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハの引張り荷重は、それぞれ2.9%、0.1秒、1.7ng/cm、0.7Nといずれの値も実用域の範囲内であった。
[実施例8]
 表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、95MPa、5.4kJ/m、5.2×E+6Ω、23ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して支持部材5、及びシェル本体2を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ3.3%、0.1秒、2.1ng/cm、0.7Nとなり、特にはウェーハの滑り性が良好になるとともに、シェル本体2の背面部に発生するウェルド部の外観に改善が認められた。
[実施例9]
 表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、90MPa、5.0kJ/m、6.1×E+6Ω、30ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して支持部材5、及びシェル本体2を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ3.0%、0.2秒、2.7ng/cm、0.5Nとなり、特にはウェーハの滑り性が良好になるとともに、シェル本体2の背面部に発生するウェルド部の外観に改善が認められた。
[実施例10]
 表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、98MPa、5.5kJ/m、4.5×E+5Ω、21ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して支持部材5、及びシェル本体2を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ1.7%、0.1秒、1.7ng/cm、0.9Nとなり、特には、表面抵抗値の標準偏差が小さく、部位によることなく安定性が向上するとともに、ウェーハの滑り性が良好になる。また、シェル本体2の背面部に発生するウェルド部の外観に改善が認められた。
[実施例11]
 表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、95MPa、5.2kJ/m、3.7×E+5Ω、24ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用してドア4を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ1.6%、0.1秒、1.9ng/cm、0.9Nとなり、特には表面抵抗値の標準偏差が小さく、部位によることなく安定性が向上するとともに、ドア本体4aの平面度が向上し、パージ24時間後の相対湿度の保持性に改善が認められた。
[実施例12]
 表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、88MPa、4.4kJ/m、2.1×E+5Ω、28ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用してドア4を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ1.4%、0.1秒、2.2ng/cm、0.8Nとなり、特には表面抵抗値の標準偏差が小さく、部位によることなく安定性が向上するとともに、ドア本体4aの平面度が向上し、パージ24時間後の相対湿度の保持性に改善が認められた。
[実施例13]
 表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、95MPa、4.8kJ/m、7.3×E+5Ω、25ppmであった。また、表2に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して支持部材5及びドア4を、その他の部品は実施例2の樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ1.4%、0.1秒、2.7ng/cm、0.6Nとなり、特には表面抵抗値の標準偏差が小さく部位によることなく安定性が向上するとともに、パージ24時間後の相対湿度の保持性、シェル本体2の背面部に発生するウェルド部の外観にそれぞれ改善が認められた。
[比較例1]
 表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.19%、140MPa、6.0kJ/m、8.7×E+8Ω、10ppmであった。また、表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定した耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ0.1秒、1.4ng/cm、1.3Nであったが、パージ24時間後の相対湿度は23.0%と実用性の目安とされる10%以下を維持することはできなかった。
[比較例2]
 表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、100MPa、1.0kJ/m、4.7×E+6Ω、12ppmであり、シャルピー衝撃強度が極端に低く、基板収納容器を構成するいずれの部品に対しても実用域である3.0kJ/mに達しなかったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
[比較例3]
 表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.02%、85MPa、6.8kJ/m、1.0×E+14Ω、17ppmであり、1.0×E+10Ω以下の表面抵抗値が得られなかったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
[比較例4]
 表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、105MPa、2.8kJ/m、2.3×E+2Ω、26ppmであり、シャルピー衝撃強度が基板収納容器を構成するいずれの部品に対しても実用域である、3.0kJ/mに達しなかったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
[比較例5]
 表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、77MPa、9.8kJ/m、5.5×E+6Ω、42ppmであった。また、表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、この樹脂組成物からなるペレットを使用して成形、組立てた基板収納容器1について測定したパージ24時間後の相対湿度、耐電圧減衰、ウェーハ付着有機物量、ウェーハ引張り荷重は、それぞれ、2.8%、0.1秒、5.3ng/cm、1.2Nと、樹脂組成物からのアウトガス量に起因すると思われるウェーハ付着有機物量が、実用性の目安とされる4ng/cmを超える結果であった。
[比較例6]
 表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、82MPa、2.5kJ/m、1.8×E+6Ω、45ppmであり、シャルピー衝撃強度が基板収納容器を構成するいずれの部品に対しても実用域である3.0kJ/mに達しなかったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
[比較例7]
 表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、79MPa、4.5kJ/m、2.5×E+10Ω、44ppmであり、1.0×E+10Ω以下の表面抵抗値が得られなかった。また、成形も困難であったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
[比較例8]
 表3に示す組成に変更した以外は実施例1と同様に、射出成形用ペレットを用いて成形した試験片において評価した吸水率、曲げ強度、シャルピー衝撃強度、表面抵抗値、アウトガス量は、それぞれ0.01%、80MPa、2.5kJ/m、7.8×E+4Ω、35ppmであり、シャルピー衝撃強度が基板収納容器を構成するいずれの部品に対しても実用域である3.0kJ/mに達しなかったため、基板収納容器としての評価は実施しなかった。
 以上説明したように、基板収納容器1のシェル本体2、ドア4及び開閉弁8(少なくとも内部閉鎖空間3を区画する構成材)として、23℃の水中に24時間浸漬した後に測定される吸水率が0.1重量パーセント以下である特定構成材が用いられることにより、基板収納容器1の内部閉鎖空間3をドライ窒素等で置換(パージ)して相対湿度を低下させた後のその内部閉鎖空間3の相対湿度をそのまま長時間にわたって低湿度に維持できる。また、上記特定構成材の表面抵抗値を1.0×E+10Ω以下、150℃、60分間の条件下のヘッドスペース法によって測定されるアウトガス総量を40ppm以下とすることにより、基板収納容器1の内部閉鎖空間3に収納する基板6の静電破壊、有機物による汚染を防ぐことができる。
 さらに、当該特定構成材の材料((A)成分+(B)成分+(C)成分の合計100質量部)に対して、超高分子量ポリエチレンパウダーを1~20質量部配合することで基板出し入れ時のトラブルの発生リスクを低減するなど、基板収納容器1内に収納する基板6から作成されるデバイスの信頼性や歩留まりを大幅に向上することが期待される。
 当該特定構成材の材料((A)成分+(B)成分+(C)成分の合計100質量部)に対して、DBP給油量が180mL/100g以上の粒子状導電性フィラーを1~15質量部、好ましくは1~12質量部配合することで、表面抵抗値の観点に加え、摺動性やウェルド強度の改善が、期待される。
 以上、実施形態を用いて本発明を説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されないことは言うまでもない。上記実施形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。またその様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
1 基板収納容器
2 シェル本体
3 内部閉鎖空間
4 ドア
5 支持部材
6 基板
8,8A,8B 開閉バルブ
16 リテーナ
30 測定装置
31 支持部材
32 シリコンウェーハ
33 釣り糸
 

Claims (7)

  1. 内部閉鎖空間に基板を収納する基板収納容器において、
    前記内部閉鎖空間を区画する構成材として、23℃の水中に24時間浸漬した後に測定される吸水率が0.1重量パーセント以下である特定構成材が用いられていることを特徴とする基板収納容器。
  2.  前記内部閉鎖空間は、前記特定構成材に基づき、該内部閉鎖空間の相対湿度が0%である状態を開始基準として、自然放置の状態で24時間経過した時における相対湿度が10%以下にとどまるように設定されていることを特徴とする請求項1に記載の基板収納容器。
  3. 前記特定構成材の材料が、環状オレフィン樹脂((A)成分)100質量部、繊維状導電性フィラー((B)成分)を(A)成分100質量部に対して3~25質量部、衝撃向上材としてポリオレフィン系および/またはポリスチレン系熱可塑性エラストマー((C)成分)を(A)成分100質量部に対して5~25質量部であることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板収納容器。
  4. 前記特定構成材の表面抵抗値が、1.0×E+10Ω以下であることを特徴とする請求項3に記載の基板収納容器。
  5. 150℃、20分間の条件下でのヘッドスペース法によって測定される前記特定構成材のアウトガス総量が、40ppm以下であることを特徴とする請求項3又は4に記載の基板収納容器。
  6. 前記特定構成材の材料が、粘度平均分子量が100万以上のポリエチレン((D)成分)をさらに含有することを特徴とする請求項3から5の何れか1項に記載の基板収納容器。
  7. 前記特定構成材の材料が、n-ジブチルフタレート吸油量が180mL/100g以上の粒子状導電性フィラー(E)をさらに含有することを特徴とする請求項3から6の何れか1項に記載の基板収納容器。
PCT/JP2013/060012 2012-04-04 2013-04-01 基板収納容器 WO2013151022A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP13772864.8A EP2835821B1 (en) 2012-04-04 2013-04-01 Substrate storage container
US14/376,964 US10242896B2 (en) 2012-04-04 2013-04-01 Substrate storage container
KR1020147022235A KR102076376B1 (ko) 2012-04-04 2013-04-01 기판 수납 용기
JP2014509159A JP6054947B2 (ja) 2012-04-04 2013-04-01 基板収納容器
CN201380011256.6A CN104520984B (zh) 2012-04-04 2013-04-01 基板收纳容器

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012085169 2012-04-04
JP2012-085169 2012-04-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013151022A1 true WO2013151022A1 (ja) 2013-10-10

Family

ID=49300504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/060012 WO2013151022A1 (ja) 2012-04-04 2013-04-01 基板収納容器

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10242896B2 (ja)
EP (1) EP2835821B1 (ja)
JP (1) JP6054947B2 (ja)
KR (1) KR102076376B1 (ja)
CN (1) CN104520984B (ja)
TW (1) TWI579210B (ja)
WO (1) WO2013151022A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014107818A2 (de) * 2013-01-09 2014-07-17 Tec-Sem Ag Lagerungsvorrichtung zur lagerung und/oder zum transport von objekten aus der fertigung von elektronischen bauteilen
WO2016047163A1 (ja) * 2014-09-26 2016-03-31 ミライアル株式会社 基板収納容器

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015118775A1 (ja) * 2014-02-07 2015-08-13 村田機械株式会社 ガス注入装置及び補助部材
JP6326330B2 (ja) * 2014-09-05 2018-05-16 株式会社Screenホールディングス 基板収納容器、ロードポート装置および基板処理装置
CN107431036B (zh) * 2015-04-10 2021-09-28 信越聚合物株式会社 基板收纳容器
WO2016205159A1 (en) * 2015-06-15 2016-12-22 Entegris, Inc. Wafer carrier having a door with a unitary body
EP3315165A4 (en) * 2015-06-23 2019-11-20 Toppan Printing Co., Ltd. NEEDLE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING NEEDLE ELEMENT
CN106505021B (zh) * 2015-09-06 2019-05-03 中芯国际集成电路制造(天津)有限公司 晶圆运载箱及其制备方法
KR102382330B1 (ko) * 2016-04-07 2022-04-01 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관 방법, 및 포토마스크 블랭크스 기판의 수송 방법
TWI634615B (zh) * 2016-05-26 2018-09-01 恩特葛瑞斯股份有限公司 用於一基板容器的閂鎖機構
CN108321100B (zh) * 2018-02-12 2024-04-19 苏州卓樱自动化设备有限公司 一种硅片清洗前的湿度保持机构
JP7147116B2 (ja) * 2018-03-28 2022-10-05 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
TWI674644B (zh) * 2018-06-27 2019-10-11 家登精密工業股份有限公司 晶圓框架載具
JP2022088280A (ja) * 2020-12-02 2022-06-14 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
KR20240118879A (ko) * 2021-12-22 2024-08-05 엔테그리스, 아이엔씨. 정전기 방전 적용을 위한 방법 및 전도성 중합체 코팅을 갖는 시스템
CN116062298B (zh) * 2022-12-22 2024-08-13 哈尔滨工业大学 一种种子切片活性维系洁净收集装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002093622A2 (en) * 2001-05-17 2002-11-21 Ebara Corporation Substrate transport container
JP2004011721A (ja) * 2002-06-05 2004-01-15 Ntn Corp 流体軸受装置
JP2007002155A (ja) * 2005-06-27 2007-01-11 Mitsubishi Chemicals Corp 樹脂組成物及びその成形体
JP2007012793A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Shin Etsu Polymer Co Ltd 精密部材収納容器
JP2009246154A (ja) 2008-03-31 2009-10-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
JP2011009241A (ja) * 2003-05-22 2011-01-13 Global Oled Technology Llc 低水分ドナー要素
JP2011018771A (ja) * 2009-07-09 2011-01-27 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
JP2012224724A (ja) * 2011-04-19 2012-11-15 Lion Corp 熱可塑性樹脂組成物およびその成形品

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06136245A (ja) * 1992-10-27 1994-05-17 Sumitomo Bakelite Co Ltd 熱可塑性樹脂組成物
WO1998045879A1 (fr) * 1997-04-04 1998-10-15 Teijin Limited Support de plaquette de silicium
JPH1174337A (ja) * 1997-08-28 1999-03-16 Nippon Zeon Co Ltd 熱可塑性樹脂製容器
US6544610B1 (en) * 1998-06-30 2003-04-08 Zeon Corporation Container and blow-molded product
US6875282B2 (en) 2001-05-17 2005-04-05 Ebara Corporation Substrate transport container
KR100968163B1 (ko) 2002-04-23 2010-07-06 엔티엔 가부시키가이샤 유체 베어링 장치
JP2004107472A (ja) * 2002-09-18 2004-04-08 Toray Ind Inc 熱可塑性樹脂組成物及びその成形品
JP4438302B2 (ja) * 2003-03-20 2010-03-24 東レ株式会社 成形材料およびその成形品
JP2005225126A (ja) * 2004-02-13 2005-08-25 Asahi Kasei Chemicals Corp 導電性熱可塑性樹脂の成形品製造法
JP5224686B2 (ja) * 2006-12-21 2013-07-03 旭化成ケミカルズ株式会社 導電性熱可塑性樹脂組成物の成形用混合物およびこれを成形してなる成形品
US20100294781A1 (en) * 2007-04-27 2010-11-25 Mitsui Chemicals, Inc. Resin composition and molded product obtained from the composition
JP5262146B2 (ja) * 2008-02-04 2013-08-14 油化電子株式会社 多層樹脂シート及び電子部品用容器
JP2010082849A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Nippon Zeon Co Ltd 樹脂組成物、樹脂型及び当該樹脂型を使用する成形体の製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002093622A2 (en) * 2001-05-17 2002-11-21 Ebara Corporation Substrate transport container
JP2004011721A (ja) * 2002-06-05 2004-01-15 Ntn Corp 流体軸受装置
JP2011009241A (ja) * 2003-05-22 2011-01-13 Global Oled Technology Llc 低水分ドナー要素
JP2007002155A (ja) * 2005-06-27 2007-01-11 Mitsubishi Chemicals Corp 樹脂組成物及びその成形体
JP2007012793A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Shin Etsu Polymer Co Ltd 精密部材収納容器
JP2009246154A (ja) 2008-03-31 2009-10-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
JP2011018771A (ja) * 2009-07-09 2011-01-27 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
JP2012224724A (ja) * 2011-04-19 2012-11-15 Lion Corp 熱可塑性樹脂組成物およびその成形品

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014107818A2 (de) * 2013-01-09 2014-07-17 Tec-Sem Ag Lagerungsvorrichtung zur lagerung und/oder zum transport von objekten aus der fertigung von elektronischen bauteilen
WO2014107818A3 (de) * 2013-01-09 2014-12-31 Tec-Sem Ag Lagerungsvorrichtung zur lagerung und/oder zum transport von objekten aus der fertigung von elektronischen bauteilen
WO2016047163A1 (ja) * 2014-09-26 2016-03-31 ミライアル株式会社 基板収納容器
WO2016046985A1 (ja) * 2014-09-26 2016-03-31 ミライアル株式会社 基板収納容器
CN106796904A (zh) * 2014-09-26 2017-05-31 未来儿株式会社 基板收纳容器
JPWO2016047163A1 (ja) * 2014-09-26 2017-07-06 ミライアル株式会社 基板収納容器
US10535540B2 (en) 2014-09-26 2020-01-14 Miraial Co., Ltd. Substrate storing container

Also Published As

Publication number Publication date
KR102076376B1 (ko) 2020-02-11
TWI579210B (zh) 2017-04-21
TW201402423A (zh) 2014-01-16
US10242896B2 (en) 2019-03-26
CN104520984B (zh) 2017-09-22
EP2835821B1 (en) 2020-03-25
EP2835821A4 (en) 2015-11-04
US20150014191A1 (en) 2015-01-15
KR20140142228A (ko) 2014-12-11
CN104520984A (zh) 2015-04-15
JP6054947B2 (ja) 2017-01-11
EP2835821A1 (en) 2015-02-11
JPWO2013151022A1 (ja) 2015-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6054947B2 (ja) 基板収納容器
Li et al. Covalent functionalization of black phosphorus from first-principles
Singh et al. Origin of n-type conductivity of monolayer MoS 2
Kwon et al. Facile photo-cross-linking system for polymeric gate dielectric materials toward solution-processed organic field-effect transistors: role of a cross-linker in various polymer types
Jiang et al. A facile and effective method for patching sulfur vacancies of WS2 via nitrogen plasma treatment
US9947724B2 (en) Ultralow power carbon nanotube logic circuits and method of making same
Shin et al. Improvement of electrical characteristics and stability of amorphous indium gallium zinc oxide thin film transistors using nitrocellulose passivation layer
US10431348B2 (en) Pressure sensor including electrical conductors comprising electroconductive resin composition that does not need cross-linking
Zou et al. High‐performance solution‐processed 2D p‐type WSe2 transistors and circuits through molecular doping
EP2404957B1 (en) Foamed resin having electrical conductivity
JP4324944B2 (ja) 精密部材収納容器
JP7076484B2 (ja) 複合材料及びそれを用いた半導体容器
Ji et al. High‐Performance P‐Type Copper (I) Thiocyanate Thin Film Transistors Processed from Solution at Low Temperature
Patil et al. Oxynitride-encapsulated silver nanowire transparent electrode with enhanced thermal, electrical, and chemical stability
Apergi et al. Decomposition of organic perovskite precursors on MoO3: Role of halogen and surface defects
US20090001032A1 (en) Higher performance barrier materials for containers of environmentally sensitive semiconductor fabrication devices
Li et al. Unveiling chemical reactivity and oxidation of 1T-phased group VI disulfides
CN103930966A (zh) 改进的复合吸气剂
Lanzetta et al. Dissociative Host-Dopant Bonding Facilitates Molecular Doping in Halide Perovskites
Cho et al. Ultra-thin thermally grown silicon dioxide nanomembrane for waterproof perovskite solar cells
EP2863405A1 (en) Limit switch
TWI852966B (zh) 可拉伸導電墨水組合物
WO2024126973A1 (en) Semiconductor pods and carriers
TW201701391A (zh) 環烯烴組合物及應用其之環烯烴半導體基板傳送盒
JP4108083B2 (ja) 電磁継電器及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13772864

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14376964

Country of ref document: US

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20147022235

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2014509159

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2013772864

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE