WO2013039045A1 - 積層セラミックコンデンサ - Google Patents

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dielectric ceramic
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彰宏 塩田
真 松田
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株式会社村田製作所
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    • H01G4/30—Stacked capacitors

Definitions

  • the present invention relates to a multilayer ceramic capacitor using a dielectric ceramic, and is particularly suitable for reducing the thickness of the multilayer ceramic capacitor.
  • the thickness of the dielectric ceramic layer of the multilayer ceramic capacitor has been reduced.
  • the electric field strength applied per layer becomes relatively high. Therefore, the dielectric ceramic used for the dielectric ceramic layer is required to have improved reliability such as insulation at the time of voltage application and life characteristics of a high temperature load test.
  • Patent Document 1 when the thickness of the dielectric ceramic layer is 3.1 ⁇ m, a voltage of 20 V is applied in the high temperature load test. That is, a certain level of reliability is secured under an electric field strength of about 6.5 V / ⁇ m.
  • Patent Document 1 when the thickness of the ceramic layer is reduced to 2 ⁇ m and 1 ⁇ m, the electric field strength exceeds 10 V / ⁇ m, the electric conduction mechanism changes, and the current easily flows. As a result, there is a problem that insulation failure (especially, initial failure or accidental failure) is likely to occur.
  • the present invention provides a highly reliable multilayer ceramic capacitor that is less likely to cause insulation failure even when the electric field strength is relatively increased as the layer is made thinner.
  • the present invention provides a laminate having a dielectric ceramic layer including crystal grains and crystal grain boundaries, and an internal electrode layer, and an internal electrode layer formed on the surface of the laminate and exposed on the surface of the laminate.
  • the present invention relates to a multilayer ceramic capacitor comprising an external electrode for electrically connecting the two.
  • the current curve has a bending point that divides the curve into a first area on the low voltage side and a second area on the high voltage side, and the bending voltage at the bending point is divided by the thickness per layer of the dielectric ceramic layer.
  • the bent electric field is 10 V / ⁇ m or more, and the slope of the voltage / current curve in the second area is 3 or less.
  • V voltage
  • I current
  • the voltage / current curve has a bending point that divides the curve into a first area on the low voltage side and a second area on the high voltage side, and the bending voltage at the bending point is a thickness per one layer of the dielectric ceramic layer.
  • the value obtained by subtracting the slope of the voltage / current curve in the first area from the slope of the voltage / current curve in the second area is 1 or less. It is.
  • the present invention also includes a dielectric ceramic layer including crystal grains and crystal grain boundaries, having a barium titanate compound, and having a composition containing a rare earth element, and a laminate having an internal electrode layer,
  • the multilayer ceramic capacitor is provided with an external electrode that is formed on the surface of the multilayer body and electrically connects an internal electrode layer exposed on the surface of the multilayer body.
  • the value obtained by dividing the D10 value ( ⁇ m) of the thickness of the dielectric ceramic layer by the D90 value ( ⁇ m) of the crystal particle diameter is A
  • C A ⁇ B
  • C is 30 or more, preferably 60 or more.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a multilayer ceramic capacitor 1 configured using a dielectric ceramic according to the present invention. It is a figure for demonstrating a bending voltage. It is a figure which shows the measurement area
  • the multilayer ceramic capacitor 1 includes a multilayer body 5 including a plurality of dielectric ceramic layers 2 and a plurality of internal electrodes 3 and 4 formed along an interface between the dielectric ceramic layers 2. Yes.
  • the internal electrodes 3 and 4 are mainly composed of Ni, for example.
  • First and second external electrodes 6 and 7 are formed at different positions on the outer surface of the laminate 5.
  • the external electrodes 6 and 7 are mainly composed of Ag or Cu, for example.
  • a plating film is formed on the external electrodes 6 and 7 as necessary.
  • the plating film is composed of, for example, a Ni plating film and a Sn plating film formed thereon.
  • the first and second external electrodes 6 and 7 are formed on the end surfaces of the capacitor body 5 facing each other.
  • the internal electrodes 3 and 4 are a plurality of first internal electrodes 3 electrically connected to the first external electrode 6 and a plurality of second internal electrodes 4 electrically connected to the second external electrode 7.
  • the first and second internal electrodes 3 and 4 are alternately arranged as viewed in the stacking direction.
  • the multilayer ceramic capacitor 1 may be a two-terminal type including two external electrodes 6 and 7 or a multi-terminal type including a large number of external electrodes.
  • the voltage / current curve has a bending point that divides the curve into a first area on the low voltage side and a second area on the high voltage side that follows. It is considered that the curve in the first area follows Ohm's law and the curve in the second area follows a Pool-Frenkel type conduction mechanism. At this time, to be exact, each range of the first area and the second area is an area in which a plot of three or more points is linearly approximated and a correlation coefficient is 0.95 or more.
  • the bending voltage is a voltage at the intersection of the approximate line in the first area and the approximate line in the second area. A bending electric field is determined by dividing the bending voltage by the average thickness per dielectric ceramic layer.
  • the bending electric field obtained by dividing the bending voltage by the thickness per dielectric ceramic layer is 10 V / ⁇ m.
  • the slope of the voltage / current curve in the second area is 3 or less.
  • the bending electric field obtained by dividing the bending voltage by the thickness per dielectric ceramic layer is 10 V / ⁇ m or more, and A value obtained by subtracting the slope of the voltage / current curve in the first area from the slope of the voltage / current curve in the second area is 1 or less.
  • the composition of the dielectric ceramic layer is mainly composed of a barium titanate compound.
  • This includes not only pure barium titanate but also barium and titanium partially substituted with calcium, strontium, zirconium and the like.
  • Subcomponents include rare earth elements represented by Dy, Y, Ho, Gd, and the like. Of course, elements such as Mg, Mn, Si, V, Al, and Cr may be included as necessary.
  • A is a value obtained by dividing the D10 value ( ⁇ m) of the thickness of the dielectric ceramic layer by the D90 value ( ⁇ m) of the crystal particle diameter.
  • the thickness of the dielectric ceramic layer it is sufficient to measure about 200 places and obtain the D10 value of the distribution.
  • the D90 value of the crystal particle diameter it is sufficient to observe 500 crystal particles, preferably 1000 crystal particles on the fracture surface, to obtain the equivalent circle diameter by image analysis, and to obtain the D90 value of the distribution.
  • the value of A substantially represents the number of crystal grains between the adjacent internal electrodes when the number is the smallest.
  • B is a value obtained by integrating the molar ratio of the rare earth element to titanium in the crystal grains in the range of 0 to 24 nm from the vicinity of the grain boundary to the intragranular direction.
  • the crystal particles are observed by TEM, and the composition in the crystal particles is quantitatively analyzed by EDX.
  • composition analysis is performed at five points of 0, 4, 8, 12, and 24 nm from the vicinity of the grain boundary toward the grain center.
  • the rare earth element / Ti molar ratio (%) at each point is calculated and plotted with the vertical axis and the distance from the grain boundary (unit: nm) on the horizontal axis.
  • the plotted points are connected by straight lines, and the area (unit: nm) of the portion surrounded by the straight lines, the horizontal axis, and the vertical axis is obtained. This means almost the total amount of rare earth elements present in the surface layer portion of each crystal grain. It is sufficient to carry out a total of about 30 crystal grains.
  • this C means the minimum total amount of rare earth elements present along the stacking direction of the dielectric ceramic layers.
  • this C is 30 or more, insulation failure is reduced even in the case where a relatively large electric field is applied in a laminated ceramic capacitor whose thickness has been reduced. When it is 60 or more, there is a further effect.
  • At least a main component powder of a barium titanate compound is prepared.
  • a method in which a Ba compound and a Ti compound are mixed and synthesized to obtain a barium titanate powder is prepared.
  • a solid phase synthesis method that is, a method of mixing and heat-treating BaCO3 powder and TiO2 powder.
  • a method of synthesizing barium titanate in the solution by applying a solution containing Ba to the TiO2 fine particles, and a wet synthesis method such as a hydrothermal synthesis method, a hydrolysis method, and an oxalic acid method are also preferable.
  • a Ca compound, an Sr compound, or a Zr compound may be added before the synthesis of barium titanate.
  • the crystal particle size after firing and the total amount of rare earth elements in the crystal particles can be controlled.
  • a rare earth element compound as a secondary component is prepared.
  • the form of these compounds is not particularly limited, and may be oxide powder or carbonate powder, or sol or organic metal.
  • a subcomponent containing the rare earth element compound is mixed with the main component powder.
  • another element may be added as a subcomponent.
  • the mixing form of the subcomponents is not particularly limited.
  • a plurality of subcomponents may be mixed in advance, or may be further synthesized by heat treatment.
  • you may mix a specific subcomponent in two steps or more.
  • a part of the subcomponents may be mixed in advance when the main component is synthesized.
  • the binder may be mixed with the ceramic slurry when the subcomponents are mixed into the main component powder, and the process may proceed to sheet forming.
  • the subcomponent may be mixed with the main component powder and then dried to obtain a ceramic powder, and then mixed with a solvent again to obtain a ceramic slurry. If necessary, the ceramic powder may be heat-treated to cause the main component powder and the subcomponent to react.
  • a ceramic green sheet is obtained by sheet-forming this ceramic slurry.
  • a laminate before firing is obtained.
  • a conductive paste containing metal particles that are components of the internal electrode and an organic vehicle is applied and formed on the surface of the ceramic green sheet, and these are stacked and crimped so that the internal electrode lead-out directions are staggered. The method of doing is mentioned.
  • the obtained raw laminate is fired in an atmosphere showing an oxygen partial pressure at which the internal electrodes are not oxidized and the dielectric ceramic is not reduced.
  • a laminate 5 including a dielectric ceramic 2 having crystal grains and crystal grain boundaries and internal electrodes 3 and 4 is obtained.
  • the multilayer ceramic capacitor 1 can be obtained by forming an external electrode at a location where the internal electrode layer of the multilayer body 5 is exposed.
  • the formation of the external electrode includes a method in which a conductive paste is applied and formed in advance on the surface of the laminate before firing, and the conductive paste is baked in accordance with the firing of the laminate.
  • Example 1 (Production of ceramic powder) First, high-purity BaCO3 and TiO2 powders were prepared as starting materials for BaTiO3, which is the main component, and these were prepared.
  • this blended powder was wet-mixed with a ball mill and uniformly dispersed, and then subjected to a drying treatment to obtain an adjusted powder. Subsequently, the obtained adjusted powder was calcined while changing from lot to lot at a temperature of 1000 ° C. to 1200 ° C. to obtain three main component powders having an average particle size of 0.07 to 0.15 ⁇ m.
  • MgCO3, Dy2O3, MnO, and SiO2 powders were prepared as subcomponents. Each of these powders was weighed so that the contents of Mg, Dy, Mn, and Si with respect to 100 mol parts of Ti would be 1 mol part, 1 mol part, 0.5 mol part, and 2 mol part, respectively, and By adding each of the three main component powders, three types of mixed powders were obtained.
  • the three types of ceramic slurries were filtered to adjust the particle size distribution.
  • the three types of ceramic slurries after filtering were molded by a die coater so that the thickness of the dielectric ceramic after firing was 0.7 ⁇ m, 1.2 ⁇ m, and 2.0 ⁇ m, respectively, for a total of nine types of ceramic green A sheet was obtained.
  • a conductive paste containing Ni was screen-printed on the nine types of ceramic green sheets to form a conductive paste film to be an internal electrode.
  • this laminate was heated in a N 2 atmosphere at a temperature of 300 ° C. to burn the binder, and then heated at a rate of 100 ° C./min, and H 2 ⁇ having an oxygen partial pressure of 10 ⁇ 10 MPa.
  • a sintered laminate was obtained by firing at 1200 ° C. for 1 minute in a reducing atmosphere consisting of N 2 —H 2 O gas.
  • the outer dimensions of the multilayer ceramic capacitor thus obtained are 1.0 mm in length, 0.5 mm in width, and 0.5 mm in thickness, and the average thickness of the dielectric ceramic layers interposed between the internal electrodes is Samples 101 to 104 were 0.7 ⁇ m (sample 101 and sample 102 are exactly the same sample, so there are substantially three types), samples 201 to 203 were 1.2 ⁇ m, and samples 301 to 303 were 2.0 ⁇ m. The number of effective dielectric ceramic layers was 100, and the counter electrode area per one dielectric ceramic layer was 0.3 mm2.
  • the LT surface of each sample was polished by a polishing machine and polished to a depth of about 1 ⁇ 2 of the width (W) direction of each sample.
  • the polished surface was processed by ion milling after the polishing was completed.
  • the thickness of the dielectric ceramic layer was measured using a scanning electron microscope.
  • the sample was heat-treated.
  • the temperature of the heat treatment was set to a temperature at which no grain growth occurred and a grain boundary became clear.
  • the treatment was performed at 1000 ° C.
  • the crystal grains of the ceramic layer are fed to the FE-SEM at a position P about 1 ⁇ 2 each of the W direction (width direction) and T direction (height direction) of the WT fracture surface. Observed. In this example, it was observed at 30000 times.
  • the D10 value of the thickness of the dielectric ceramic layer was divided by the D90 value of the crystal particle diameter, and this value was designated as A. Values are shown in Table 1. (2) Measurement of B Three multilayer ceramic capacitors produced as described above were prepared for each sample.
  • the multilayer ceramic capacitor was thinned by the ion rimming method.
  • the exposed cross section was observed with a TEM to find a crystal grain boundary that was substantially perpendicular to the cross section.
  • the line appearing on both sides of the grain boundary that is, Fresnel fringe
  • a TEM manufactured by JEOL: JEM-2200FS
  • the crystal grain boundary where the change to the bright line or dark line of the Fresnel fringe changes almost symmetrically on both sides was found, and this was defined as the crystal grain boundary that was substantially perpendicular to the cross section.
  • the Dy / Ti molar ratio (%) at each point is plotted on the vertical axis and the distance from the grain boundary (unit: nm) is plotted on the horizontal axis, and the plotted points are connected by an approximate straight line.
  • the area (unit: nm) of the portion surrounded by the axis was determined.
  • (3) Calculation of C Table 1 shows the value of C as the product of A and B described above.
  • the current value was 2 minutes after the voltage application at the time of plotting.
  • the protective resistance was 10 k ⁇ .
  • a range in which the correlation coefficient when each plot was linearly approximated was 0.95 or more was determined, and the range on the low voltage side was defined as the first area, and the range on the high voltage side was defined as the second area.
  • the respective slopes are shown in Table 2.
  • the voltage at the intersection of the approximate lines in each area was defined as the bending voltage, and this was divided by the average thickness per dielectric ceramic layer to obtain the bending electric field. This is also shown in Table 2.
  • (6) High-temperature load test The test voltage shown in Table 2 was applied to 100 multilayer ceramic capacitors of the multilayer ceramic capacitors of each sample number at 85 ° C., and the change in insulation resistance with time was observed. Those having an insulation resistance value of 0.1 M ⁇ or less within 2000 hours after the test were regarded as defective. Table 2 shows the number of defects in each sample number.
  • samples 101 to 104 have an average thickness of 0.7 ⁇ m per dielectric ceramic layer. Since the test voltage of the sample 101 is 4V, the relative electric field strength is low. Therefore, the sample 101 is handled as a reference sample. Therefore, no defect was found in the high temperature load test.
  • the value of C was less than 30, and the slope of the second area was too large, resulting in many defects.
  • the value of C was 30 or more, and the slope of the second area was 3 or less. However, since the bending electric field was less than 10 V / ⁇ m, some defects occurred.
  • the value of C was 60 or more, the slope of the second area was 3 or less, and the bending electric field was also 10 V / ⁇ m or more. No defects occurred.
  • Samples 201 to 203 have an average thickness of 1.2 ⁇ m per dielectric ceramic layer. As shown in Tables 1 and 2, the number of defects tended to decrease as the value of C was larger, the inclination of the second area was smaller, and the bending electric field was larger.
  • Samples 301 to 303 have an average thickness of 2.0 ⁇ m per dielectric ceramic layer. As shown in Tables 1 and 2, the number of defects tended to decrease as the value of C was larger, the inclination of the second area was smaller, and the bending electric field was larger.
  • Example 2 The same multilayer ceramic capacitors as Samples 101 to 104 of Example 1 were prepared and used as Samples 401 to 404. That is, the values of A, B, and C are naturally the same as those of the samples 101 to 104.
  • the DC voltage was changed in the range of 0.1 to 30 V, and the voltage / current curve was obtained by taking LogV as the horizontal axis and LogI as the vertical axis.
  • the current value was 2 minutes after the voltage application at the time of plotting.
  • the protective resistance was 10 k ⁇ .
  • a range in which the correlation coefficient when each plot was linearly approximated was 0.95 or more was obtained, and the range on the low voltage side was defined as the first area, and the range on the high voltage side was defined as the second area.
  • Table 3 shows the values obtained by subtracting the slope of the first area from the slope of each slope and the slope of the second area.
  • the voltage at the intersection of the approximate lines in each area was defined as the bending voltage, and this was divided by the average thickness (0.7 ⁇ m) per dielectric ceramic layer to obtain the bending electric field. This is also shown in Table 3.
  • the test voltage of the sample 401 is 4V, the relative electric field strength is low. Therefore, the sample 401 is handled as a reference sample. Therefore, no defect was found in the high temperature load test.
  • the value of C is less than 30, the value obtained by subtracting the slope of the first area from the slope of the second area is greater than 1, and the bending electric field is also 10 V / ⁇ m. As a result, many defects occurred.
  • the value of C was 30 or more. However, since the value obtained by subtracting the slope of the first area from the slope of the second area is greater than 1, and the bending electric field is also less than 10 V / ⁇ m, some defects occurred as a result.
  • the value of C was 60 or more
  • the value obtained by subtracting the slope of the first area from the slope of the second area was 1 or less
  • the bending electric field was 10 V / ⁇ m or more. There wasn't.

Abstract

　誘電体セラミック層が薄層化されながら高い電界強度が付与されても、絶縁不良が少なく、高い信頼性を示す、積層セラミックコンデンサを提供する。　結晶粒子および結晶粒界を含む誘電体セラミック層と、内部電極層と、を有する積層体と、前記積層体の表面に形成され、前記積層体の表面に露出した内部電極層を電気的に接続する外部電極と、を備えた、積層セラミックコンデンサにおいて、前記積層セラミックコンデンサに直流電圧を印加したときの電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性において、ＬｏｇＶを横軸、ＬｏｇＩを縦軸にとったとき、電圧／電流曲線が、前記曲線を、低電圧側の第１エリアと高電圧側の第２エリアに分割する屈曲点を有し、前記電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性を２５℃にて測定したとき、前記屈曲点における屈曲電圧を誘電体セラミック層一層あたりの厚みで除した屈曲電界が１０Ｖ／μｍ以上であって、かつ、第２エリアにおける電圧／電流曲線の傾きが３以下である。

Description

積層セラミックコンデンサ
　この発明は、誘電体セラミックを用いた積層セラミックコンデンサに関するもので、特に、積層セラミックコンデンサの薄層化を図るのに適したものである。
　近年のエレクトロニクス技術の進展に伴い、積層セラミックコンデンサには小型化かつ大容量化が要求されている。これらの要求を満たすため、積層セラミックコンデンサの誘電体セラミック層の薄層化が進められている。しかし、誘電体セラミック層を薄層化すると、１層あたりに加わる電界強度が相対的に高くなる。よって、誘電体セラミック層に用いられる誘電体セラミックに対しては、電圧印加時における絶縁性、高温負荷試験の寿命特性など、信頼性の向上が求められる。
　例えば、特許文献１には、１２５℃で、電圧Ｖ１、Ｖ２として、１０Ｖ、５０Ｖを印加し、それぞれの電圧印加時に流れる電流をＩ１、Ｉ２としたとき、α＝Ｌｏｇ（Ｉ２／Ｉ１）／Ｌｏｇ（Ｖ２／Ｖ１）で得られる係数αが３．２２以下であることを特徴とする積層セラミックコンデンサ、が記載されている。
特開第４０２２２２８号公報
　特許文献１においては、誘電体セラミック層の厚み３．１μｍであるとき、高温負荷試験において２０Ｖの電圧を印加されている。すなわち約６．５Ｖ／μｍの電界強度下で、一定レベルの信頼性が確保されている。
　ところが、特許文献１においては、セラミック層の厚みを、２μｍ、１μｍと薄層化していくと、電界強度が10Ｖ/μmを超え、電気伝導機構が変化し、電流が流れやすくなる。結果として、絶縁不良（特に、初期故障や偶発故障）が発生しやすくなるという問題があった。
　本発明は、このような問題に鑑み、薄層化に伴って相対的に電界強度が高くなっても、絶縁不良の生じにくい高信頼性の積層セラミックコンデンサを提供するものである。
　すなわち本発明は、結晶粒子および結晶粒界を含む誘電体セラミック層と、内部電極層と、を有する積層体と、前記積層体の表面に形成され、前記積層体の表面に露出した内部電極層を電気的に接続する外部電極と、を備えた、積層セラミックコンデンサに関する。
　特徴的であるのは、前記積層セラミックコンデンサに２５℃にて直流電圧を印加したときの電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性において、ＬｏｇＶを横軸、ＬｏｇＩを縦軸にとったとき、電圧／電流曲線が、前記曲線を低電圧側の第１エリアと高電圧側の第２エリアに分割する屈曲点を有し、前記屈曲点における屈曲電圧を前記誘電体セラミック層一層あたりの厚みで除した屈曲電界が１０Ｖ／μｍ以上であって、かつ、前記第２エリアにおける電圧／電流曲線の傾きが３以下である、ことである。
　また、特徴的であるのは、前記積層セラミックコンデンサに８５℃にて直流電圧を印加したときの電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性において、ＬｏｇＶを横軸、ＬｏｇＩを縦軸にとったとき、電圧／電流曲線が、前記曲線を低電圧側の第１エリアと高電圧側の第２エリアに分割する屈曲点を有し、前記屈曲点における屈曲電圧を前記誘電体セラミック層一層あたりの厚みで除した屈曲電界が１０Ｖ／μｍ以上であって、かつ、前記第２エリアにおける電圧／電流曲線の傾きから前記第１エリアにおける電圧／電流曲線の傾きを引いた値が１以下である、ことである。
　また、本発明は、結晶粒子および結晶粒界を含み、チタン酸バリウム系化合物を有し、かつ、希土類元素を含む組成を有する、誘電体セラミック層、および、内部電極層を有する積層体と、前記積層体の表面に形成され、前記積層体の表面に露出した内部電極層を電気的に接続する外部電極と、を備えた、積層セラミックコンデンサに向けられる。
　すなわち、前記誘電体セラミック層の厚みのＤ１０値（μｍ）を、結晶粒子径のＤ９０値（μｍ）で割った値をＡとし、結晶粒子における希土類元素のチタンに対するモル比（％）を、粒界から粒内方向へ０～２４ｎｍの範囲で積分した値をＢとし、さらに、Ｃ＝Ａ×Ｂとするとき、Ｃが３０以上、好ましくは６０以上であることを特徴とする。
　誘電体セラミック層の厚みが薄くなり、相対的に使用電圧印加時の電界強度が高くなっても、絶縁不良の懸念の少ない、高信頼性の積層セラミックコンデンサを得ることができる。特に、偶発故障、初期故障の故障率の低減に効果的である。
この発明に係る誘電体セラミックを用いて構成される積層セラミックコンデンサ１を図解的に示す断面図である。 屈曲電圧を説明するための図である。 誘電体セラミック層の厚みの測定領域を示す図である。 結晶粒子径の観察個所を示す図である。
　図１を参照して、まず、この発明に係る積層セラミックコンデンサ１の例について説明する。
　積層セラミックコンデンサ１は、積層された複数の誘電体セラミック層２と誘電体セラミック層２間の界面に沿って形成される複数の内部電極３および４とをもって構成される、積層体５を備えている。内部電極３および４は、たとえばＮｉを主成分としている。
　積層体５の外表面上の互いに異なる位置には、第１および第２の外部電極６および７が形成される。外部電極６および７は、たとえばＡｇまたはＣｕを主成分としている。図示しないが、外部電極６および７上に、必要に応じて、めっき膜が形成される。めっき膜は、たとえば、Ｎｉめっき膜およびその上に形成されるＳｎめっき膜から構成される。
　図１に示した積層セラミックコンデンサ１では、第１および第２の外部電極６および７は、コンデンサ本体５の互いに対向する各端面上に形成される。内部電極３および４は、第１の外部電極６に電気的に接続される複数の第１の内部電極３と第２の外部電極７に電気的に接続される複数の第２の内部電極４とがあり、これら第１および第２の内部電極３および４は、積層方向に見て交互に配置されている。
　なお、積層セラミックコンデンサ１は、２個の外部電極６および７を備える２端子型のものであっても、多数の外部電極を備える多端子型のものであってもよい。
　本発明の積層セラミックコンデンサでは、前記積層セラミックコンデンサに直流電圧を印加したときの電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性において、ＬｏｇＶを横軸、ＬｏｇＩを縦軸にとったとき、図２に示すように、電圧／電流曲線が、前記曲線を低電圧側の第１エリアと、これに続く高電圧側の第２エリアに分割する屈曲点を有する。第１エリアの曲線はオームの法則に従い、第２エリアの曲線はプール・フレンケル型の伝導機構に従うと考えられる。このとき、正確には、第１エリア、第２エリアのそれぞれの範囲は、３点以上のプロットを直線近似し、相関係数が０．９５以上になるエリアのことである。また、屈曲電圧とは、第1エリアにおける近似直線と第２エリアにおける近似直線との交点での電圧となる。この屈曲電圧を、誘電体セラミック層一層あたりの平均厚みで除することにより、屈曲電界が求められる。
　本発明の積層セラミックコンデンサにおいては、前記電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性を２５℃にて測定したとき、前記屈曲電圧を誘電体セラミック層一層あたりの厚みで除した屈曲電界が１０Ｖ／μｍ以上であって、かつ、第２エリアにおける電圧／電流曲線の傾きが３以下である。または、前記電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性を８５℃にて測定したとき、前記屈曲電圧を誘電体セラミック層一層あたりの厚みで除した屈曲電界が１０Ｖ／μｍ以上であって、かつ、第２エリアにおける電圧／電流曲線の傾きから第１エリアにおける電圧／電流曲線の傾きを引いた値が１以下である。
　電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性のグラフにおいて、Ｖが大きくなると、電気伝導機構がオーム則から、オーム則に従わない領域に変化し、電流が流れやすくなると考えられる。このようなオーム則に従わない領域で使用すると、オーム則の領域では良品であったものが、オーム則に従わない領域では、初期故障不良や偶発故障不良という形で絶縁不良が生じやすい。
　なお、上記のような電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性を満たす積層セラミックコンデンサの具体例として、以下に述べる。
　誘電体セラミック層の組成は、チタン酸バリウム系化合物を主成分とする。これには、純粋なチタン酸バリウムだけでなく、バリウム、チタンの一部をカルシウム、ストロンチウム、ジルコニウム等で置換したものも含まれる。副成分としては、Ｄｙ、Ｙ、Ｈｏ、Ｇｄ、等に代表される希土類元素を含む。もちろん、必要に応じて、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｓｉ、Ｖ、Ａｌ、Ｃｒ等の元素を含んでも構わない。
　次に、誘電体セラミック層の厚みのＤ１０値（μｍ）を、結晶粒子径のＤ９０値（μｍ）で割った値をＡとしている。誘電体セラミック層の厚みに関しては、２００箇所程度測定し、その分布のＤ１０値を求めれば十分である。結晶粒子径のＤ９０値は、破断面において５００個の結晶粒子、望ましくは１０００個の結晶粒子を観察し、画像解析による円相当径を求め、その分布のＤ９０値を求めれば十分である。このＡの値は、隣り合う内部電極間に挟まれる結晶粒子の個数において、最も個数が少ない場合の個数、を実質的に表している。
 次いで、結晶粒子における希土類元素のチタンに対するモル比を、粒界近傍から粒内方向へ０～２４ｎｍの範囲で積分した値をＢとしている。具体的には、結晶粒子をＴＥＭにて観察し、結晶粒子内の組成をＥＤＸにより定量分析する。結晶粒子内部において、粒界近傍から粒子中央に向かって０、４、８、１２、２４ｎｍの５ポイントにおいて、組成分析を行う。各ポイントにおける希土類元素/Ｔｉモル比（％）を算出し、これを縦軸、粒界からの距離(単位はｎｍ)を横軸にとってプロットする。プロットした点をそれぞれ直線で結び、その直線と横軸、縦軸で囲まれる部分の面積(単位：nm)を求め、これがＢとなることが多い。これは各結晶粒子における表層部分に存在する希土類元素のほぼ総量を意味する。結晶粒子は合計３０個ほど行えば十分である。
 さらに、Ｃ＝Ａ×Ｂとすると、このＣは、誘電体セラミック層の積層方向に沿って存在する、最低限の希土類元素の総量を意味する。このＣが３０以上であるとき、薄層化を進めた積層セラミックコンデンサにおいて、比較的大きな使用電界が印加されても、絶縁不良が低減される。６０以上になると、なお一層の効果がある。
　次に、積層セラミックコンデンサの製造方法の一例について、下記に記載する。
　まず、少なくともチタン酸バリウム系化合物の主成分粉末を用意する。例えば、Ｂａ化合物と、Ｔｉ化合物とを混合し、合成して、チタン酸バリウム粉末を得る方法がある。詳しい例としては、固相合成法、すなわち、ＢａＣＯ3粉末とＴｉＯ2粉末とを混合して熱処理する方法が挙げられる。他には、ＴｉＯ2微粒子に対してＢａを含有する溶液を付与して溶液中でチタン酸バリウムを合成する方法や、水熱合成法、加水分解法、シュウ酸法などの湿式合成法も好ましい。一部がカルシウム、ストロンチウム、ジルコニウムにて置換される場合は、チタン酸バリウムの合成前に、Ｃａ化合物、Ｓｒ化合物、Ｚｒ化合物を加えておけばよい。
　この主成分粉末の粒子径や結晶化度を制御することにより、焼成後における結晶粒子径や、結晶粒子内における希土類元素の総量を制御することができる。
　次に、副成分となる希土類元素の化合物を用意する。これらの化合物の形態は特に限定されることはなく、酸化物粉末や炭酸化物の粉末でもよいし、ゾルや有機金属でも構わない。
　次いで、前記主成分粉末に対し、前記希土類元素化合物を含む副成分を混合する。このとき、副成分としてさらに別の元素が入っても構わない。また、副成分の混合形態は特に限定されるものではない。例えば、複数の副成分が予め混合されていてもよいし、さらに熱処理合成されていても構わない。また、特定の副成分を、二段階以上に分けて混合してもよい。さらに、本発明の目的を損なわない限り、副成分の一部が主成分の合成時に予め混合されていても構わない。
　主成分粉末に副成分が混合された際のセラミックスラリーに対し、バインダー等を混合し、シート成形に進んでも構わない。もしくは、主成分粉末に副成分を混合した後、乾燥し、セラミック粉末を得て、それから再度溶媒と混合してセラミックスラリーを得ても構わない。必要に応じて、セラミック粉末に熱処理を施し、主成分粉末と副成分とを反応させても構わない。
　セラミックスラリーに対し、種々の条件のフィルタリングを行うことにより、主成分粉末の粒度分布を制御することができる。これによって、焼成後における結晶粒子径や、結晶粒子内における希土類元素の総量を制御することができる。
　次に、このセラミックスラリーをシート成形することにより、セラミックグリーンシートが得られる。このセラミックグリーンシートと、内部電極層とを積み重ねることにより、焼成前の積層体が得られる。詳しくは、セラミックグリーンシートの表面に、内部電極の成分となる金属粒子と有機ビヒクルとを含む導電性ペーストを塗布形成し、これらを、内部電極の引き出し方向が互い違いになるよう、積み重ねて、圧着する方法が挙げられる。
　得られた生の積層体は、バインダーを除去した後、内部電極が酸化されず誘電体セラミックが還元されない程度の酸素分圧を示す雰囲気下において、焼成される。この焼成により、結晶粒子と結晶粒界とを備える誘電体セラミック２と内部電極３、４とを含む積層体５が得られる。
　この積層体５の、内部電極層が露出している箇所に外部電極を形成することにより、積層セラミックコンデンサ１が得られる。なお、外部電極の形成は、予め焼成前の積層体の表面に導電性ペーストを塗布形成しておき、積層体の焼成時に合わせて導電性ペーストを焼き付ける方法も挙げられる。
　以下に、この発明に基づいて実施した実験例について説明する。
［実施例１］
　（セラミック粉末の作製）
　まず、主成分であるＢａＴｉＯ3の出発原料として、高純度のＢａＣＯ3およびＴｉＯ2の粉末を準備し、これらを調合した。
　次に、この調合粉末をボールミルで湿式混合し、均一に分散させた後、乾燥処理を施して調整粉末を得た。次いで、得られた調整粉末を１０００℃～１２００℃の温度でロット毎に変化させて仮焼し、平均粒径が０．０７～０．１５μｍである３種類の主成分粉末を得た。
　他方、副成分として、ＭｇＣＯ3、Ｄｙ2Ｏ3、ＭｎＯ、ＳｉＯ2の各粉末を準備した。これらの各粉末を、Ｔｉ１００モル部に対するＭｇ、Ｄｙ、Ｍｎ、Ｓｉの含有量が、それぞれ、１モル部、１モル部、０．５モル部、２モル部になるように秤量し、かつ前述の３種類の主成分粉末にそれぞれ添加することによって、３種類の混合粉末を得た。
　（積層セラミックコンデンサの作製）
　次に、この３種類の混合粉末に対し、有機溶剤および分散剤を加え、ボールミルで湿式混合し、均一に分散させた。さらに、ポリビニルブチラール系バインダー、可塑剤を加えて混合し、セラミックスラリーを得た。
　この３種類のセラミックスラリーに対し、フィルタリングを行い、粒度分布を調整した。
　次いで、このフィルタリング後の３種類のセラミックスラリーをダイコータにより、それぞれ、焼成後における誘電体セラミックの厚みが０．７μｍ、１．２μｍ、２．０μｍとなるよう、成形し、合計９種類のセラミックグリーンシートを得た。
　次に、上記９種類のセラミックグリーンシート上に、Ｎｉを含有する導電性ペーストをスクリーン印刷し、内部電極となるべき導電性ペースト膜を形成した。
　次に、導電性ペースト膜が形成されたセラミックグリーンシートを、導電ペースト膜の引き出されている側が互い違いになるように複数枚積層し、コンデンサ本体となるべき生の積層体を得た。
　次に、この積層体を、Ｎ2雰囲気中にて、３００℃の温度で加熱し、バインダーを燃焼させた後、１００℃／分の速度にて昇温し、酸素分圧１０-10ＭＰａのＨ2－Ｎ2－Ｈ2Ｏガスからなる還元性雰囲気中において、１２００℃で１分間焼成し、焼結した積層体を得た。
　次に、上記コンデンサ本体の両端面に、Ｂ2Ｏ3－Ｌｉ2Ｏ－ＳｉＯ2－ＢａＯガラスフリットを含有するＣｕペーストを塗布し、Ｎ2雰囲気中において、８００℃の温度で焼き付け、内部電極と電気的に接続された外部電極を形成し、各試料に係る積層セラミックコンデンサを得た。
　このようにして得られた積層セラミックコンデンサの外形寸法は長さ１．０ｍｍ、幅０．５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍであり、内部電極間に介在する誘電体セラミック層の厚みの平均値は、試料１０１～１０４が０．７μｍ（試料１０１と試料１０２は全く同じ試料なので、実質上３種類である）、試料２０１～２０３が１．２μｍ、試料３０１～３０３が２．０μｍであった。また、有効誘電体セラミック層の数は１００であり、１つの誘電体セラミック層あたりの対向電極面積は０．３ｍｍ2であった。
　　（特性評価）
　次に、各試料に係る積層セラミックコンデンサについて、以下のような評価を行なった。
（１）Ａの測定
～誘電体セラミック層の厚みについて～
　１）試料の準備
　上述のようにして作製した積層セラミックコンデンサを各試料毎にそれぞれ５個準備した。
　２）ＬＴ断面の観察
　ｉ）研磨
　各試料を幅（Ｗ）方向が研磨面に対して垂直方向となるような姿勢で保持し、試料の周りを樹脂で固め、試料の長さ（Ｌ）と、厚さ（Ｔ）により規定されるＬＴ面を樹脂から露出させた。
　それから、研磨機により、各試料のＬＴ面を研磨し、各試料の幅（Ｗ）方向の１／２程度の深さまで研磨を行った。そして、研磨による内部電極のダレをなくすために、研磨終了後に、イオンミリングにより、研磨表面を加工した。
　ｉｉ）誘電体セラミック層の厚みの測定
　それから、図３に示すように、ＬＴ断面のＬ方向１／２程度の位置において、内部電極と直交する垂線（直交線）を引いた。次に、試料の内部電極が積層されている領域を厚さ（Ｔ）方向に２等分に分割し、上部領域Ｕ、下部領域Ｄの２つの領域に分けた。そして、最外の誘電体セラミックス層、および、内部電極が欠損していることにより２層以上の誘電体セラミック層が繋がって観察される部分を除き、各領域中で、上記の直交線上の誘電体セラミック層の厚みを無作為に２０層ずつ測定して平均値を求めた（データ数：２０層×２領域×５（試料数）＝２００データ）。また、この２００データの分布から、誘電体セラミック層の厚みのＤ１０値を求めた。
　なお、誘電体セラミック層の厚みは、走査型電子顕微鏡を用いて測定した。
　上述のようにして作製した積層セラミックコンデンサを各試料毎にそれぞれ５個準備した。
～結晶粒子径について～
　１）観察用試料の作製
　試料のＬ方向（長さ方向）の１／２程度の位置におけるＷＴ断面が露出するように試料を破断した。
　セラミックスにおける結晶粒子間の境界（粒界）を明確にするために、上記試料を熱処理した。熱処理の温度は、グレイン成長しない温度で、且つ粒界が明確になる温度とした。本実施例においては、１０００℃で処理した。
　２）結晶粒子径の測定
　図４に示す通り、ＷＴ破断面のＷ方向（幅方向）、Ｔ方向（高さ方向）それぞれ１／２程度の位置Ｐで、セラミックス層の結晶粒子をＦＥ－ＳＥＭにて観察した。本実施例においては、３００００倍で観察した。
　得られたＳＥＭ画像から無作為に２００個のグレインを抽出し、画像解析により各グレインの粒界の内側部分の面積を求めて円相当径を算出し、それを結晶粒子径とした。
　データ数：５（試料数）×２００個＝１０００データ。また、この１０００データの分布から、結晶粒子径のＤ９０値を求めた。
　９種類の各試料において、誘電体セラミック層の厚みのＤ１０値を結晶粒子径のＤ９０値で割り、この値をＡとした。値を表１に示す。
（２）Ｂの測定
　上述のようにして作製した積層セラミックコンデンサを各試料毎にそれぞれ３個準備した。
　積層セラミックコンデンサをイオンリミング法にて薄層化した。
　次に、露出した断面をＴＥＭにより観察し、断面に対して略垂直になっている結晶粒界を探した。具体的には、ＴＥＭ（日本電子製：ＪＥＭ－２２００ＦＳ）により、結晶粒界の両側に現れる線、すなわちフレネルフリンジを観察し、フォーカスを変化させた時にフレネルフリンジのコントラストが両側でほぼ対称に変化する結晶粒界、すなわち、フレネルフリンジの明線や暗線への変化が両側でほぼ対称に変化する結晶粒界を探し、これを断面に対して略垂直になっている結晶粒界とした。
　そして、断面に対して略垂直になっている結晶粒界を、異なる粒子で１０箇所見つけ、それらの各結晶粒界から結晶粒子の中央方向に向かって０、４、８、１２、２４ｎｍ隔てた位置にて、ＳＴＥＭＥＤＸ（プローブ径２ｎｍ）を用いて組成分析を行い、Ｄｙ／Ｔｉモル比（％）を求めた。２４ｎｍの測定ポイントでは、全ての結晶粒子においてＤｙ／Ｔｉが検出限界以下になっていた。
　各ポイントにおけるＤｙ／Ｔｉモル比（％）を縦軸に、粒界からの距離（単位はｎｍ）を横軸にとってプロットし、プロットした点を近似直線で結び、その近似直線と横軸、縦軸で囲まれる部分の面積（単位はｎｍ）を求めた。これらの面積について３０個（３個×１０箇所＝３０個）の結晶粒子の平均をとり、その値をＢとして、表１に示した。
（３）Ｃの算出
　上述のＡとＢとの積をＣとして、その値を表１に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
（４）誘電率の測定
　各試料番号につき３０個につき、積層セラミックコンデンサの静電容量を、自動ブリッジ式測定機を用い、２５℃において０．５Ｖｒｍｓ、1ｋＨｚの条件にて測定した。得られた測定値より、誘電率を算出した。値を表２に示す。
（５）電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性の測定
 各試料番号の積層セラミックコンデンサにおいて、温度２５℃において、直流電圧を０．１～３０Ｖの範囲で変化させ、ＬｏｇＶを横軸、ＬｏｇＩを縦軸にとり、電圧／電流曲線を求めた。なお、Ｖの単位はＶ（ボルト）、Ｉの単位はＡ（アンペア）とした。電流値はそのプロット時の電圧印加後２分後の値を採用した。なお、保護抵抗は１０ｋΩであった。各プロットを直線近似した時の相関係数が０．９５以上になる範囲を求め、低電圧側の範囲を第１エリア、高電圧側の範囲を第２エリアとした。それぞれの傾きを表２に示した。
　また、それぞれのエリアにおける近似直線の交点における電圧を屈曲電圧と定め、これを誘電体セラミック層一層あたりの平均厚みで除し、屈曲電界を求めた。これも併せて表２に示す。
（６）高温負荷試験
　各試料番号の積層セラミックコンデンサにおける１００個の積層セラミックコンデンサに対し、８５℃において、表２に記載の試験電圧を印加し、絶縁抵抗の経時変化を観察した。試験後２０００時間以内に絶縁抵抗値が０．１ＭΩ以下になったものを不良とした。
各試料番号における不良個数を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　まず、試料１０１～１０４は、誘電体セラミック層一層あたりの平均厚みが０．７μｍある。試料１０１は、試験電圧が４Ｖであるので、相対的な電界強度は低い。よって、試料１０１は参考試料の扱いである。よって、高温負荷試験における不良はみられなかった。
　試験電圧が１０Ｖである試料１０２については、Ｃの値が３０未満であり、第２エリアの傾きが３より大きくなりすぎ、結果として不良が多数発生した。
　試料１０３については、Ｃの値が３０以上であり、第２エリアの傾きが３以下となった。ただ、屈曲電界が１０Ｖ／μｍを下回ったため、若干の不良が発生した。
　試料１０４については、Ｃの値が６０以上となり、第２エリアの傾きが３以下となり、屈曲電界も１０Ｖ／μｍ以上となった。不良は発生しなかった。
　試料２０１～２０３は、誘電体セラミック層一層あたりの平均厚みが１．２μｍある。表１、表２に示すとおり、Ｃの値が大きく、かつ第２エリアの傾きが小さく、屈曲電界が大きいほど、不良個数が減る傾向にあった。
　試料３０１～３０３は、誘電体セラミック層一層あたりの平均厚みが２．０μｍある。表１、表２に示すとおり、Ｃの値が大きく、かつ第２エリアの傾きが小さく、屈曲電界が大きいほど、不良個数が減る傾向にあった。
　[実施例２]
　実施例１の試料１０１～１０４と同じ積層セラミックコンデンサを用意し、これを試料４０１～４０４とした。すなわち、Ａ、Ｂ、Ｃの値は試料１０１～１０４のものと当然同じとした。
　各試料番号の積層セラミックコンデンサにおいて、温度８５℃において、直流電圧を０．１～３０Ｖの範囲で変化させ、ＬｏｇＶを横軸、ＬｏｇＩを縦軸にとり、電圧／電流曲線を求めた。電流値はそのプロット時の電圧印加後２分後の値を採用した。なお、保護抵抗は１０ｋΩであった。各プロットを直線近似した時の相関係数が０．９５以上になる範囲を求め、低電圧側の範囲を第１エリア、高電圧側の範囲を第２エリアとした。それぞれの傾き、および第２エリアの傾きから第１エリアの傾きを引いた値を、表３に示した。
　また、それぞれのエリアにおける近似直線の交点における電圧を屈曲電圧と定め、これを誘電体セラミック層一層あたりの平均厚み（０．７μｍ）で除し、屈曲電界を求めた。これも併せて表３に示す。
　さらに、実施例１における試料１０１～１０４における高温負荷試験の結果を、試料４０１～４０４の結果として、表３に併せて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　まず、試料４０１は、試験電圧が４Ｖであるので、相対的な電界強度は低い。よって、試料４０１は参考試料の扱いである。よって、高温負荷試験における不良はみられなかった。
　試験電圧が１０Ｖである試料４０２については、Ｃの値が３０未満であり、第２エリアの傾きから第１エリアの傾きを引いた値が１より大きくなり、かつ、屈曲電界も１０Ｖ／μｍを下回ったため、結果として不良が多数発生した。
　試料４０３については、Ｃの値が３０以上であった。しかし、第２エリアの傾きから第１エリアの傾きを引いた値が１より大きくなり、かつ、屈曲電界も１０Ｖ／μｍを下回ったため、結果として不良が若干発生した。
　試料４０４については、Ｃの値が６０以上となり、第２エリアの傾きから第１エリアの傾きを引いた値が１以下となり、かつ、屈曲電界も１０Ｖ／μｍ以上となったため、不良は発生しなかった。
　１　積層セラミックコンデンサ
　２　誘電体セラミック層
　３，４　内部電極
　５　積層体
　６，７　外部電極

Claims (4)

  1. 　結晶粒子および結晶粒界を含む誘電体セラミック層と、内部電極層と、を有する積層体と、
    　前記積層体の表面に形成され、前記積層体の表面に露出した内部電極層を電気的に接続する外部電極と、
    　を備えた、積層セラミックコンデンサにおいて、
    　前記積層セラミックコンデンサに２５℃にて直流電圧を印加したときの電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性において、ＬｏｇＶを横軸、ＬｏｇＩを縦軸にとったとき、電圧／電流曲線が、前記曲線を、低電圧側の第１エリアと高電圧側の第２エリアに分割する屈曲点を有し、
    　前記屈曲点における屈曲電圧を前記誘電体セラミック層一層あたりの厚みで除した屈曲電界が１０Ｖ／μｍ以上であって、かつ、前記第２エリアにおける電圧／電流曲線の傾きが３以下である、ことを特徴とする、積層セラミックコンデンサ。
  2.  結晶粒子および結晶粒界を含む誘電体セラミック層と、内部電極層と、を有する積層体と、
     前記積層体の表面に形成され、前記積層体の表面に露出した内部電極層を電気的に接続する外部電極と、
    　を備えた、積層セラミックコンデンサにおいて、
    　前記積層セラミックコンデンサに８５℃にて直流電圧を印加したときの電圧（Ｖ）／電流（Ｉ）特性において、ＬｏｇＶを横軸、ＬｏｇＩを縦軸にとったとき、電圧／電流曲線が、前記曲線を、低電圧側の第１エリアと高電圧側の第２エリアに分割する屈曲点を有し、
    　前記屈曲点における屈曲電圧を前記誘電体セラミック層一層あたりの厚みで除した屈曲電界が１０Ｖ／μｍ以上であって、かつ、前記第２エリアにおける電圧／電流曲線の傾きから前記第１エリアにおける電圧／電流曲線の傾きを引いた値が１以下である、ことを特徴とする、積層セラミックコンデンサ。
  3. 　結晶粒子および結晶粒界を含み、チタン酸バリウム系化合物を有し、かつ、希土類元素を含む組成を有する、誘電体セラミック層、および、内部電極層を有する積層体と、
    　前記積層体の表面に形成され、前記積層体の表面に露出した内部電極層を電気的に接続する外部電極と、を備えた、積層セラミックコンデンサにおいて、
    　前記誘電体セラミック層の厚みのＤ１０値（μｍ）を、結晶粒子径のＤ９０値（μｍ）で割った値をＡとし、
    　結晶粒子における希土類元素のチタンに対するモル比（％）を、粒界から粒内方向へ０～２４ｎｍの範囲で積分した値をＢとし、
    　さらに、Ｃ＝Ａ×Ｂとするとき、
    Ｃが３０以上であることを特徴とする、積層セラミックコンデンサ。
  4. 　前記Ｃが６０以上であることを特徴とする、積層セラミックコンデンサ。
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