WO2012157636A1 - ナノインプリント用モールドおよび曲面体 - Google Patents

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紘子 山田
三澤　毅秀
綾太 小島
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    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness

Definitions

  • the present invention relates to a mold for forming irregularities on the order of nanometers and a curved body using the mold.
  • a demultiplexing spectrometer is used for optical communication.
  • a wavelength spectroscopic device is used in order to disperse a necessary wavelength.
  • the demultiplexing spectrometer is formed on the surface of the transparent support on a flat surface.
  • the demultiplexing spectrometer formed on the plane forms a hard mother mold, transfers the surface shape of the mother mold to a resin, and forms the demultiplexing spectrometer using the resin mold.
  • a resin mold formed from a flat mother mold is not particularly limited as long as it is transparent and has a certain level of strength, and a normal resin is used.
  • a mother mold having the same shape as the curved surface must be manufactured. Don't be.
  • Some curved molds have various curvatures or various shapes. If a mother mold is formed according to the curvature or shape, the mother mold becomes very expensive, and the curved surface nanoprint formed into a curved shape. Become very expensive.
  • Patent Document 1 a resin mold for nanoimprinting is known in which an acrylic resin or the like is laminated on a PET (polyethylene terephthalate) substrate (Patent Document 1).
  • Patent Document 1 since the mold described in Patent Document 1 requires a hard layer formed of a material having high hardness, the mold has almost no elasticity and can be imprinted only on a planar shape. For this reason, it is necessary to prepare a mold corresponding to a form in which a concave and convex shape of a nanometer level is provided on a curved surface such as a lens.
  • Patent Document 2 discloses an invention of a “curved member characterized in that a resin film having a concavo-convex pattern formed on a curved surface”. Yes. Patent Document 2 discloses a curved body in which a surface material made of a thermoplastic resin having fine irregularities on its surface is attached on a curved surface.
  • the curved body described in Patent Document 2 has a large curvature radius because a thermoplastic resin having an uneven shape on the surface is attached to the surface of a lens or the like, and the thermoplastic resin is relatively hard. There is a problem that it cannot be applied to members (such as lenses).
  • An object of the present invention is to provide a resin mold for imprinting capable of imprinting even on a curved surface shape, and a curved surface body using the same.
  • the mold for nanoimprinting of the present invention is characterized by being made of a silicone rubber elastic body having an Hs rubber hardness in the range of 10 to 55 and having fine irregularities formed on the surface.
  • the above-mentioned silicone rubber elastic body used in the present invention is an ultraviolet curable silicone rubber or a thermosetting silicone rubber.
  • the total light transparency of the silicone rubber (measured with a sheet having a thickness of 250 ⁇ m according to JISK7105) is 60% or more, preferably 80% or more, and it is preferable that the transparency is higher.
  • the above-mentioned nanoimprint mold can be used alone with an elastic body of silicone rubber having an Hs rubber hardness of 10 to 55, but can also be formed on the surface of a transparent support.
  • the transparent support is preferably a curved body having a curved surface portion with a radius of curvature of 500 mm or less.
  • the curved body of the present invention preferably has a curved surface portion with a radius of curvature of 500 mm or less, and the surface of the curved surface portion has irregularities with an interval in the range of 50 to 100,000 nm.
  • the nanoprint mold of the present invention fine irregularities formed on the mother mold can be transferred from the mother mold to the surface of the silicone rubber elastic body having a specific hardness.
  • This mother mold is made of a hard member such as silicone, glass, metal, etc., and is very expensive, so that nano-order irregularities may be worn or damaged. Therefore, the resin mold is transferred from the mother mold, and a transfer plate having fine irregularities formed on the surface is formed using the resin mold.
  • Many of these transfer plates are made of thermoplastic resin, so there is no particular problem when used as a flat plate. However, when irregularities are formed on a curved surface like a lens, the shape follows. Sex matters. Moreover, since it is a resin mold and transfers the uneven
  • silicone rubber having an Hs rubber hardness of 10 to 55 is used in consideration of such applications. By using such silicone rubber, repeated stamping can be performed.
  • FIG. 1 is a photograph showing an example of a curved body according to the present invention.
  • the attached Reference Example 1 is a photograph of this curved body, and the part where the color has changed is the interference wave of the sheet formed by the unevenness formed using the nanoimprint mold.
  • FIG. 2 is an electron micrograph of irregularities formed on the sheet.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the laminate 20 for forming irregularities formed when transferring fine irregularities from the mother mold 11 to the silicone rubber 13 with the support 11.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view when fine irregularities are transferred from the mother mold 11 to the silicone rubber 13 with the support 11.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view in which fine irregularities are formed on the silicone rubber 13 with the support 11.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of a state in which the silicone rubber 13 is attached to a curved body.
  • the mold for nanoimprinting of the present invention abuts a mother mold having fine irregularities on a silicone rubber elastic body having an Hs rubber hardness in the range of 10 to 55, preferably in the range of 20 to 40. It is obtained by printing or photoimprinting (see FIGS. 3 to 5).
  • reference numeral 11 is a mother mold
  • reference numeral 13 is uncured silicone rubber.
  • Reference numeral 15 denotes a support, which is preferably used to support uncured silicone rubber.
  • the mother mold 11 is not limited as long as it is a known mold for nanoimprinting. In addition to those made from silicone, glass, metal, etc., the mother mold 11 is a replica mold as described in JP 2011-25677 A. Also good.
  • the resin used for the support 15 is not particularly limited, but it is preferable to use a light-transmitting resin for photocuring the silicone rubber, such as polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polymethyl. It is preferable to use methacrylate (PMMA) or the like. Further, since the support 15 is used after being peeled off, it is preferable that the support 15 is peeled at least on the side where the silicone rubber layer is provided.
  • a light-transmitting resin for photocuring the silicone rubber such as polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polymethyl. It is preferable to use methacrylate (PMMA) or the like.
  • An uncured silicone rubber layer 13 is formed on the surface of such a support 15.
  • This silicone rubber layer 13 is a mixture of a tetrafunctional, trifunctional, bifunctional, or monofunctional organosiloxane and a catalyst, which is cured by light (ultraviolet rays) or heat to form a ladder polymer and has a specific Hs rubber hardness.
  • Form silicone rubber In particular, in the present invention, as shown in FIG. 4, the imprint shape formed on the surface of the mother mold is transferred by contacting the mother mold with heat imprinting or optical imprinting, so that the Hs rubber hardness is 10 to 10%. It is preferable to adjust the type of organosiloxane so that it is within the range of 55, preferably within the range of 20-40.
  • the thickness of the silicone rubber layer is in the range of 50 to 5000 ⁇ m, preferably 100 to 1000 ⁇ m, both before and after curing. Further, a release layer can be further laminated on the silicone rubber layer.
  • the Hs rubber hardness in the present invention is derived from the following equation.
  • G is a transverse elastic modulus (Pa) of the silicone elastic body after being cured by heat or light
  • G 50 is a rubber constant having a hardness of 50
  • “" Based on the description of “Mech D & A NewsLatter Vol.1997-1, Mechanical Design Co., Ltd.”, 7.45 ⁇ 10 5 ⁇ 1.0197 (Pa). A specific method for measuring the transverse elastic modulus will be described later in the example section.
  • a pattern 14 opposite to that formed in the mother mold 11 is formed on the surface of the silicone rubber layer cured by irradiating the silicone rubber layer with light.
  • the reverse pattern 14 is attached to a curved body such as a lens, preferably a curved body having a curved portion with a radius of curvature of 500 mm or less, thereby forming the nanoimprint mold of the present invention. can do.
  • the nanoimprint mold of the present invention thus formed is suitably used for imprinting thermoplastic resins and thermosetting resins.
  • the imprinted transcript is not only a flat body (film shape) as in the conventional nanoimprint, but also the mold for nanoimprinting of the present invention has an appropriate shape following property and hardness. It is possible to prepare a minute curved body having a curved surface portion of 500 mm or less and having irregularities on the surface of the curved surface portion in the range of 50 to 200,000 nm, preferably 100 to 100,000 nm. .
  • the nanoimprint mold of the present invention is stretched, so that the unevenness formed on the surface of the mold is set at the peripheral edge according to the Hs rubber hardness of the silicone rubber elastic body. It is preferable to make it narrower than the center.
  • the silicone rubber used in the present invention has an Hs rubber hardness in the above range, it has good shape followability with respect to a curved surface, and can adhere to the curved surface without voids.
  • Various characteristics of the nanoimprint mold of the present invention can be measured using the following apparatus.
  • Sample Rubber hardness: sample thickness
  • Transverse elastic modulus Using a rheometer (Anton Paar, device name: PHYSICA MCR300), the transverse elastic modulus was measured under the following conditions.
  • Temperature controller TC30 / CTD600 Measuring jig: PP8 Number of measurement points: 10 points Measurement interval: 10 sec Measurement time: 100 sec Measurement mode: Rotational strain ( ⁇ ): 0 ⁇ 0.1 (Linear) Normal force: 10N Temperature: 23 ° C (Total light transmittance) Using a haze meter (Murakami Color Research Laboratory, model: HM-150), the total light transmittance was measured according to JISK7105.
  • Example 1 Preparation of mold
  • Uncured silicone rubber (KE-103) was spin-coated on a glass substrate (rotation speed: 500 rpm, time: 20 sec) to prepare a resin layer.
  • a master mold (quartz mold after release treatment, transfer surface 30 mm square 150 nmL & S) was pressed against the laminate of the substrate and the resin layer, and the resin layer deposit was heated to 140 ° C. to perform thermosetting transfer.
  • the press pressure during thermosetting transfer was 1 MPa and the holding time was 20 minutes. Then, it cooled, the master mold was removed, and the 100-micrometer-thick silicone rubber mold was obtained.
  • Example 3 Using KE-106, a silicone mold was prepared in the same manner as in Example 2 to obtain a 1 mm thick silicone mold. Thereafter, transfer was performed under the same conditions as those for transfer to the curved surface of Example 1 to obtain a lens having the same shape as the master mold transferred to the entire surface.
  • [Comparative Example 1] Using SIM-260, a silicone mold was prepared in the same manner as in Example 2 to obtain a 1 mm thick silicone mold.
  • a curved body was manufactured by sticking the nanoimprint mold obtained as described above to the surface of the spherical lens shown in FIG.

Abstract

　本発明の曲面用ナノインプリント用モールドは、２５０μm厚のHｓゴム硬度が１０～５５の範囲内のシリコーンゴム弾性体からなり、表面に微細な凹凸が形成されていることを特徴としており、本発明の曲面用ナノインプリント用モールドによれば、曲面に対してもナノインプリントを形成することができる。

Description

ナノインプリント用モールドおよび曲面体
　本発明は、ナノメートルオーダーの凹凸を形成するためのモールドおよびこれを用いた曲面体に関するものである。
　光通信には分波分光装置が使用されている。このような分波分光装置には、必要とする波長を分光するために波長分光装置が使用されている。多くの場合、分波分光装置は、平面上の透明支持体表面に形成されているが、用途によっては、レンズ表面の様な曲面に分波分光装置を形成しなければならない場合がある。平面上に形成される分波分光装置は、硬質のマザーモールドを形成し、このマザーモールドの表面形状を樹脂に転写して、この樹脂モールドを用いて分波分光装置を形成している。このように平面上のマザーモールドから形成される樹脂モールドは、透明である程度の強度があれば特に限定されずに通常の樹脂が使用されている。
　ところが、曲面に上記のような平面用の樹脂モールドを適用しようとしても、樹脂モールドが曲面にフィットしないことが多く、曲面に完全にフィットさせるためには曲面と同形のマザーモールドを製造しなければならない。曲面モールドには種々の曲率あるいは様々な形状の有するものがあり、その曲率あるいは形状に合わせてマザーモールドを形成するとなると、マザーモールドが非常に高価になり、ひいては曲面形状に形成された曲面ナノプリントが非常に高価になる。
　一般にナノインプリント用樹脂製モールドとして、ＰＥＴ(ポリエチレンテレフタレート)基材にアクリル樹脂などが積層されたものが知られている（特許文献１）。しかし、特許文献１に記載のモールドは、硬度の高い材質で形成された硬質層を必須としているのでモールドには伸縮性がほとんどなく、実質的に平面形状に対してしかインプリントできない。このため、レンズのような曲面にナノメートルレベルの凹凸形状を施す形態に対応した金型を用意する必要があった。
　このような問題を解決するために、特許文献２には、「凹凸パターンが形成された樹脂膜が、曲面上に貼り付けられていることを特徴とする曲面状部材」の発明が開示されている。この特許文献２には、表面に微細な凹凸を有する熱可塑性樹脂からなる表面材を曲面上に貼り付けた曲面体が開示されている。
　しかしながら、この特許文献２に記載の曲面体は表面に凹凸形状を有する熱可塑性樹脂をレンズなどの表面に貼着しており、熱可塑性樹脂が比較的硬質であることから、大きな曲率半径を有する部材（レンズなど）には適用できないという問題がある。
特開２００８－０６８６１２号公報 特開２００９－２７９８３１号公報
　本発明は、曲面形状に対してもインプリントできるインプリント用樹脂モールドおよびこれを用いた曲面体を提供することを目的としている。
　本発明のナノインプリント用モールドは、Hｓゴム硬度が１０～５５の範囲内のシリコーンゴム弾性体からなり、表面に微細な凹凸が形成されていることを特徴としている。
　本発明で使用する上記シリコーンゴム弾性体は、紫外線硬化性シリコーンゴムまたは熱硬化性シリコーンゴムである。
　また、上記シリコーンゴムの全光線透明率（ＪＩＳＫ７１０５に準拠して２５０μｍ厚のシートで測定）が６０％以上、好ましくは８０％以上であり、透明性が高い方が好ましい。
　上記ナノインプリント用モールドは、Hｓゴム硬度が１０～５５の範囲内のシリコーンゴム弾性体単独で使用することもできるが、透明支持体表面に形成することもできる。
　また、上記透明支持体は、曲率半径が５００mm以下の曲面部を有する曲面体であることが好ましい。
　本発明の曲面体は、曲率半径が５００mm以下の曲面部を有し、かつ前記曲面部の表面には間隔が５０～１０００００nmの範囲にある凹凸を有するものであることが好ましい。
　本発明のナノプリントモールドによれば、マザーモールドから特定の硬度を有するシリコーンゴム弾性体の表面にマザーモールドに形成された微細な凹凸を転写することができる。このマザーモールドは、シリコーン、ガラス、金属などの硬質部材で形成されており、非常に高価であるのでナノオーダーの凹凸が摩耗したり、欠損したりすることがある。このためマザーモールドから樹脂モールドを転写して、この樹脂モールドを用い表面に微細な凹凸が形成された転写板を形成する。このような転写板の多くは熱可塑性樹脂で形成されているので、平板として使用する場合には特に問題となることはないが、レンズのような曲面に凹凸が形成する場合にはその形態追従性が問題になる。また、樹脂モールドであり、何回も加熱された樹脂と接触してその表面に形成された凹凸模様を熱可塑性樹脂に転写することから、高い耐熱性も必要になる。
　本発明ではこのような用途を考慮してＨｓゴム硬度が１０～５５のシリコーンゴムを使用する。このようなシリコーンゴムを用いることにより、繰返し型打をすることができる。
図１は、本発明の曲面体の一例を示す写真である。添付した参考例１は、この曲面体の写真であり、色が変わっている部分は、ナノインプリント用モールドを用いて形成された凹凸によって形成されたシートの干渉波である。 図２は、シートに形成された凹凸の電子顕微鏡写真である。 図３は、マザーモールド１１から支持体１１付きシリコーンゴム１３に微細な凹凸を転写する際に形成される凹凸を形成するための積層体２０の断面図である。 図４は、マザーモールド１１から支持体１１付きシリコーンゴム１３に微細な凹凸を転写した際の断面図である。 図５は、支持体１１付きシリコーンゴム１３に微細な凹凸を形成した断面図である。 図６は、シリコーンゴム１３を曲面体に貼着した状態の例を示す断面図である。
　次に本発明の実施例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
　本発明のナノインプリント用モールドは、Ｈｓゴム硬度が１０～５５の範囲内、好ましくは２０～４０の範囲内にあるシリコーンゴム弾性体に、微細な凹凸が形成されたマザーモールドを当接し、熱インプリントまたは光インプリントすることにより得られる（図３～図５参照）。図３～図５において、付番１１はマザーモールドであり、付番１３は未硬化のシリコーンゴムである。また、付番１５は支持体であり、未硬化のシリコーンゴムを支持するために用いることが好ましい。
　マザーモールド１１は、公知のナノインプリント用モールドであれば限定はなく、シリコーン、ガラス、金属などから作製されたもののほかに、特開2011-25677号公報に記載されているようなレプリカモールドであってもよい。
　ここで支持体１５に使用する樹脂は、特に限定はないが、シリコーンゴムを光硬化させるためには光透過性樹脂を使用することが好ましく、ポリカーボネート（PC)、ポリエチレンテレフタレート（PET)、ポリメチルメタクリレート（PMMA)などを使用することが好ましい。また、この支持体１５は剥離して使用するから、少なくともシリコーンゴム層を設ける側には剥離処理されていることが好ましい。
　このような支持体１５の表面には未硬化のシリコーンゴム層１３を形成する。
　このシリコーンゴム層１３は四官能、三官能、二官能、一官能のオルガノシロキサンと触媒との混合物で、光（紫外線）あるいは熱によって硬化してラダーポリマーを形成して特定のＨｓゴム硬度を有するシリコーンゴムを形成する。特に本発明では、図４に示すように、マザーモールドを当接して熱インプリントまたは光インプリントすることにより、マザーモールドの表面に形成されている凹凸形状を転写してＨｓゴム硬度が１０～５５の範囲内、好ましくは２０～４０の範囲内になるようにオルガノシロキサンの種類を調整することが好ましい。シリコーンゴム層の厚さは、硬化前、硬化後ともに５０～５０００μｍ、好ましくは１００～１０００μｍの範囲内にする。また、シリコーンゴム層にさらに剥離層を積層することができる。
　本発明におけるＨｓゴム硬度は、以下の式から導き出したものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
この式において、Ｇは熱または光によって硬化された後のシリコーン弾性体の横弾性係数（Ｐａ）であって、Ｇ50は硬度５０のゴム定数であり、本発明においては、「"接触による応力の集中と減衰"、Mech D&A NewsLatter  Vol.1997-1、株式会社メカニカルデザイン」の記載に基づき、７．４５×１０5÷１．０１９７（Ｐａ）とする。なお、横弾性係数の具体的な測定方法については実施例の部分で後述する。
　図５は、シリコーンゴム層に光を照射して硬化させたシリコーンゴム層の表面にマザーモールド１１に形成されたのと逆のパターン１４が形成される。
　この逆のパターン１４を、例えば図６に示すように、レンズのような曲面体、好ましくは曲率半径が５００ｍｍ以下の曲面部を有する曲面体に貼り付けることにより、本発明のナノインプリント用モールドを形成することができる。
　こうして形成された本発明のナノインプリント用モールドは、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のインプリントに好適に用いられる。インプリントされる転写物は、従来のナノインプリントされているような平面体（フィルム状）のみならず、本発明のナノインプリント用モールドは適度な形状追従性と硬さを有しているので、曲率半径が５００ｍｍ以下の曲面部を有し、かつ、曲面部の表面には間隔が５０～２０００００ｎｍ、好ましくは１００～１０００００ｎｍの範囲にある凹凸を有するような微小な曲面体を調製することが可能である。また、曲面体にインプリントする際には、本発明のナノインプリント用モールドは伸張するので、シリコーンゴム弾性体のＨｓゴム硬度に応じて、モールドの表面に形成されている凹凸の間隔を周縁部にいくほど中心部より狭くすることが好ましい。
　本発明で使用するシリコーンゴムは、Ｈｓゴム硬度が上記の範囲にあることにより、曲面に対する形態追随性がよく、曲面表面に空隙なく密着することができる。
　次に本発明のナノインプリント用モールドおよび曲面体について実施例を示して説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
　本発明のナノインプリント用モールドの各特性は、次の装置を用い各種特性を測定することができる。
［試料］
　未硬化シリコーンゴムからなる厚さ２５０μｍのシートを４種類用意し、以下の方法により横弾性係数ならびに全光線透過率を測定した。サンプル（ゴム硬度：サンプル厚）
（横弾性係数）
　レオメーター（Anton  Paar社製、装置名：PHYSICA MCR300）を用い、以下の条件により横弾性係数を測定した。
温調装置　　　　：TC30/CTD600
測定冶具　　　　：PP8
測定点数　　　　：１０点
測定間隔　　　　：１０sec
測定時間　　　　：１００sec
測定モード　　　：回転
ひずみ（γ）　　：０→０．１（Linear）
ノーマルフォース：１０N
温度　　　　　　：２３℃
（全光線透過率）
　ヘーズメーター（村上色彩技術研究所製、型式：ＨＭ－１５０）を用いて、ＪＩＳＫ７１０５に準拠して、全光線透過率を測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
［モールドの調製］
〔実施例1〕
・シリコーンゴムモールドの調製
　ガラス基板上に未硬化シリコーンゴム（ＫＥ-１０３）をスピンコート（回転数５００rpm、時間２０sec）し、樹脂層を作製した。上記基板及び樹脂層の積層物にマスターモールド（離型処理済み石英モールド、転写面３０mm角　１５０nmL&S）を押し付け、樹脂層の堆積物を１４０℃に加熱し、熱硬化転写した。熱硬化転写時のプレス圧力は１MPa、保持時間２０分間であった。その後、冷却を行い、マスターモールドを外し、１００μｍ厚のシリコーンゴムモールドを得た。
・曲面への転写
　曲率半径４０mmの曲面レンズ形状の表面にＵＶ硬化樹脂を適量滴下し、前記シリコーンモールドを、滴下した液がレンズの表面全体に広がるように押し当てるようにして固定し、シリコーンモールド越しにＵＶ照射し、ＵＶ硬化樹脂を硬化させ、レンズ全面にマスターモールドと同形状を転写させた。
〔実施例２〕
・シリコーンゴムモールドの調製
　二枚のガラス基板フィルムマスターモールドおよび、未硬化のＫＥ－１０３を挟んで、未硬化のＫＥ－１０３がフィルムマスターモールドの全面に広がった時点で、ガラス基板同士を動かないように固定し、そのまま固定した状態で、１５０℃に調整した乾燥機中で１時間静置し、ＫＥ－１０３を硬化させ、１mm厚のシリコーンモールドを得た。
　実施例１におけるのと同条件にて転写を行い、マスターモールドと同形状が全面に転写されたレンズを得た。
〔実施例３〕
　ＫＥ-１０６を用いて、実施例２と同様にシリコーンモールドを調製し、１mm厚のシリコーンモールドを得た。その後、実施例１の曲面への転写と同条件で転写を行い、マスターモールドと同形状が全面に転写されたレンズを得た。
〔比較例１〕
　ＳＩＭ-２６０を用いて、実施例２と同様にシリコーンモールドを調製し、１mm厚のシリコーンモールドを得た。その後、実施例１の曲面への転写と同条件で転写を行い、レンズ全面に追従することが困難であり、曲面レンズの端部ではマスターモールドと同形状を転写させることができなかった。
〔比較例２〕
　ＫＥ－１２０４を用いて、実施例２と同様にシリコーンモールドを調製し、１mm厚のシリコーンモールドを得た。その後、実施例１の曲面への転写と同条件で転写を行い、レンズ全面に追従することが困難であり、また、透明性も低いため、ＵＶ硬化樹脂を硬化させることが困難であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　上記のようにして得られたナノインプリント用モールドを図１に示す球面レンズの表面に貼着して曲面体を製造した。
１１・・・マザーモールド
１３・・・熱可塑性樹脂
１４・・・凹凸
１５・・・支持体
１８・・・曲面体
２０・・・凹凸を形成するための積層体

Claims (7)

  1. 　Ｈｓゴム硬度が１０～５５の範囲内のシリコーンゴム弾性体からなり、表面に微細な凹凸が形成されていることを特徴とするナノインプリント用モールド。
  2. 　上記シリコーンゴム弾性体が、紫外線硬化性シリコーンゴムまたは熱硬化性シリコーンゴムであることを特徴とする請求項第１項記載のナノインプリント用モールド。
  3. 　上記シリコーンゴムの全光線透過率（ＪＩＳＫ７１０５に準拠して２５０μｍ厚のシートで測定）が６０％以上であることを特徴とする請求項第１項記載のナノインプリント用モールド。
  4. 　上記シリコーンゴム弾性体が、透明支持体表面に形成されていることを特徴とする請求項第１項記載のナノインプリント用モールド。
  5. 　上記透明支持体が、曲率半径が５００mm以下の曲面部を有する曲面体であることを特徴とする請求項第４項記載のナノインプリント用モールド。
  6. 　曲率半径が５００mm以下の曲面部を有し、かつ、前記曲面部の表面には間隔が５０～１０００００nmの範囲にある凹凸を有することを特徴とする曲面体。
  7. 　請求項第１項から第５項のいずれかの項に記載のナノインプリント用モールドを用いて得られることを特徴とする請求項第６項記載の曲面体。
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