WO2012157194A1 - ファイバ転送レーザ光学系 - Google Patents

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    • H10P34/42Irradiation with electromagnetic or particle radiation of wafers, substrates or parts of devices with high-energy radiation with electromagnetic radiation, e.g. laser annealing

Definitions

  • the present invention relates to a fiber transfer laser optical system that transfers laser light output from an oscillator through a fiber and forms it into a line beam, and is suitable for use in annealing of thin film silicon.
  • the laser light emitted from the first optical fiber is condensed into a multipoint spot by the array lens, the light is incident on the second optical fiber, and the emission ends thereof are arranged in a line.
  • the core diameter of the first optical fiber can be increased to reduce the damage, and a line beam having a large dimensional ratio with respect to the longitudinal direction can be obtained.
  • the dimension of the line beam in the short direction can be freely set.
  • the laser light emitted from the plurality of second optical fibers can be formed into a line beam having a uniform intensity distribution in the longitudinal direction and the lateral direction on the irradiation surface.
  • the fiber transfer laser optical system can be applied to a laser annealing apparatus. According to this, it is possible to realize a high-throughput annealing process with a linear laser beam having a small dimension in the short direction (high energy density) and a large dimension in the longitudinal direction.
  • a spherical array lens 5 is disposed on the exit side of the collimating lens 4.
  • the spherical array lens 5 is a matrix in which cells 5a made of spherical lenses exhibiting a square in plan view are continuously arranged along the X-axis and Y-axis directions orthogonal to each other on the plane to form a plurality of columns in both the X-axis direction and the Y-axis direction. It is arranged in a shape.
  • the spherical array lens 5 is composed of nine cells 5a arranged in three rows each in the X-axis direction and the Y-axis direction. The parallel light incident on the spherical array lens 5 is collected by each cell 5a to form a plurality of (here, nine) spots.
  • the number of second optical fibers 6 having a smaller core diameter than the first optical fiber 3 is a number corresponding to the number of spots formed by the spherical array lens 5 (in this embodiment, , Square 3 rows 3 columns, a total of 9).
  • the incident end 6a of the second optical fiber 6 is located at the formation position of each spot, that is, at the focal point of the array lens. That is, the incident end 6a of the second optical fiber 6 is arranged at the center of each cell 5a in plan view.
  • the incident end 6a of the second optical fiber 6 is arranged so that its axis is parallel to the optical axis.
  • parallel to the optical axis means not parallel to the center of the actual light beam passing through each cell 5a but parallel to the rotational symmetry axis of each cell 5a (referred to herein as the optical axis).
  • the laser light collected by each cell 5 a enters the second optical fiber 6 from the incident end 6 a arranged at the spot position, and propagates through the second optical fiber 6.
  • Each of the second optical fibers 6 is arranged so as to be gently curved, and its emission end 6b obtains a linear laser beam on the irradiation surface 12, so that the Y-axis as shown in FIG. Are arranged in a straight line parallel to the. Further, the emission ends 6b of the second optical fibers 6 are arranged so that their axes are parallel to each other, and are arranged at equal intervals in this embodiment.
  • the laser light emitted from the second optical fiber 6 has an elliptical cross section by a cylindrical lens 7 for collimating in the longitudinal direction (Y-axis direction) and a cylindrical lens 8 for collimating in the short direction (X-axis direction). Collimated to parallel light of shape.
  • the irradiation surface from the cylindrical lens 11 is irradiated. If the distance up to 12 is set to an appropriate value, the dimension C in the short direction of the laser light irradiated on the irradiation surface 12 can be selected by changing N within a range satisfying N ⁇ 1. In addition, the dimension C can be made smaller than A without causing energy loss.
  • the light intensity distribution as shown in FIG. 4A shows the light intensity distribution in the short direction (X-axis direction) of the laser light
  • FIG. 4B shows the light intensity distribution in the longitudinal direction (Y-axis direction) of the laser light.
  • a substantially uniform light intensity distribution over the dimension C in the short direction and a substantially uniform light intensity distribution over the dimension M in the longitudinal direction. Can be obtained on the irradiation surface 12.
  • the fiber transfer laser optical system 1 capable of irradiating the irradiation surface 12 with such a laser beam is suitable as an apparatus for annealing a thin film silicon.

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Abstract

【課題】レーザ発振器からのレーザ光を伝送する光ファイバが大きなコア径を有していても、短手方向の寸法の小さなラインビームに成形することのできるレーザ光学系を提供する。 【解決手段】レーザ発振器2より出力されたレーザ光を伝送する第1の光ファイバ3と、第1の光ファイバ3より出射されたレーザ光をコリメートするコリメートレンズ4と、コリメートレンズ4より出射されたレーザ光を複数のセル5aによって多点スポットに集光する球面アレイレンズ5と、第1の光ファイバ3よりも小さなコア径を有し、球面アレイレンズ5により多点スポットに集光された各レーザ光を入射させ、且つ出射端6bがその軸線を互いに平行にして直線状の一列に配列された複数の第2の光ファイバ6と、複数の第2の光ファイバ6より出射されたレーザ光を照射面12で直線状をなすレーザ光に成形する光学系(7~11)とによりファイバ転送レーザ光学系1を構成する。

Description

ファイバ転送レーザ光学系
 本発明は、発振器から出力したレーザ光をファイバで転送し、ラインビームに成形するファイバ転送レーザ光学系に係り、薄膜シリコンのアニール処理への利用に好適である。
 レーザ光による結晶化、表面改質技術として、レーザアニール技術が知られている。レーザアニール装置では、レーザ発振器から出射されるレーザ光として、矩形状や線状のエキシマレーザが使用されることが多かった。エキシマレーザを使用するアニール装置は、特許文献1,2に提案されている。これらの装置では、多数のシリンドリカルレンズアレイを直交配置した光学系を用いており、この光学系によって、レーザ発振器から出射されたレーザ光を、断面の一方向について均一化された強度分布を有する一方、これと直交する方向について極めて高い集光特性を有する、いわば細い線状の分布のレーザ光に成形している。
 このように、レーザ発振器から出射されたレーザ光を線状の分布に成形する光学系では、レーザ発振器の出射位置と線状分布レーザ光の成形位置との相対位置関係が定まってしまうため、アニール処理や露光処理を行う装置のレイアウト、装置面積、装置体積の自由度が制限される。そのため、近年ではレーザ出射端に光ファイバを装着し、レーザ光をファイバで転送するファイバ転送レーザ光学系が出現している。ファイバ転送レーザ光学系は、光ファイバを用いることによってレーザ発振器から出射されたレーザ光の伝送自由度を増すことができるため、上記のような装置レイアウトの問題が解消されつつある。
特開平10-244392号公報 特開平10-153746号公報
 一方、レーザ発振器の性能は日々向上しており、その出力が高まっているため、レーザ発振器の出射端に装着する光ファイバが損傷を受ける恐れがある。この損傷は、主に光ファイバの入射端で生じ、入射するレーザ光の密度が高いほど損傷が生じ易い傾向にある。ここで、レーザ光の入力密度を低減する方法の一つとして、光ファイバのコア径を大きくする方法が挙げられる。すなわちレーザ発振器の出力に応じたコア径の光ファイバでレーザ光の集光を行い、出力密度を下げる方法である。
 ところが、アニール処理や露光処理を行うレーザ装置では、処理を行うレーザ光のエネルギ密度が高いことが重要であり、アニール処理を行った加工品を安価に提供するためにはスループットを向上させる必要がある。スループットの向上には、上述のような線状分布のレーザ光のエネルギ密度を高くし、かつ大面積を処理可能にするためにレーザ光の断面長手方向の寸法を大きくする必要がある。
 しかしながら、スループット向上のために、エネルギ密度を高くするべくレーザ光の短手方向の寸法をより小さくしようとすると、光ファイバから出射されるレーザ光の出射角度によっては、光学倍率がアッベの回折理論を超える場合があり、この場合にはエネルギロスが生じることになる。加えて、光ファイバの損傷を避けるためにコア径を大きくする必要があるため、レーザ発振器から出射されるレーザ光を短手方向の寸法の小さなラインビームに成形することはできなかった。
 本発明は、このような問題点を解消するべく案出されたものであり、レーザ発振器から出射されるレーザ光を伝送する光ファイバが大きなコア径を有していても、光ファイバから出射されたレーザ光を短手方向の寸法の小さなラインビームに成形することのできるファイバ転送レーザ光学系を提供することを目的とする。
 上記課題を解決するために、本発明に係るファイバ転送レーザ光学系(1)は、レーザ発振器(2)より出力されたレーザ光を伝送する第1の光ファイバ(3)と、当該第1の光ファイバより出射されたレーザ光をコリメートするコリメートレンズ(4)と、当該コリメートレンズより出射されたレーザ光を複数のセルによって多点スポットに集光するアレイレンズ(5)と、前記第1の光ファイバよりも小さなコア径を有し、前記アレイレンズにより多点スポットに集光された各レーザ光を入射させ、且つ出射端(6b)がその軸線を互いに平行にして直線状の一列に配列された複数の第2の光ファイバ(6)と、当該複数の第2の光ファイバより出射されたレーザ光を照射面(12)で直線状をなすレーザ光に成形する線形化光学系(7~11)とを備えるものとする。
 この構成によれば、第1の光ファイバより出射されたレーザ光をアレイレンズにより多点スポットに集光し、第2の光ファイバへ光を入射させてその出射端を一列に配列することで、第1の光ファイバのコア径を大きくしてその損傷を軽減でき、かつ長手方向の短手方向に対する寸法比率の大きなラインビームを得ることができる。また、アレイレンズのスポット数および第2の光ファイバの本数を変更することで、ラインビームの短手方向の寸法を自由に設定することもできる。
 また、本発明の一側面によれば、前記第1の光ファイバのコア径をAとし、前記照射面にレーザ光を集光する集光レンズの短手方向のNA(Numerical Aperture:開口数)をNとし、前記照射面12におけるレーザ光の短手方向の寸法をCとしたとき、N<1を満足する限りにおいてC<Aを満たす構成とすることができる。
 この構成によれば、集光レンズから照射面までの距離を適正な値に設定したうえで、Nを任意に選択できるとともに、N<1を満足する限りにおいてC<Aを満たすラインビームを形成することができる。
 また、本発明の一側面によれば、前記第1の光ファイバのコア径をAとし、前記第1の光ファイバのNAをBとし、前記第2の光ファイバのコア径をLとし、前記第2の光ファイバのNAをKとし、前記コリメートレンズのビーム径をD4とし、前記アレイレンズの前記セルに外接する円の径をD5としたとき、
  D4/D5=(A×B)/(L×K)
を満たす構成とすることができる。
 この構成によれば、第1の光ファイバから出射されたレーザ光を、エネルギロスを生じさせることなく第2の光ファイバに入射させ、より強度(エネルギ密度)の高いラインビームを得ることができる。
 また、本発明の一側面によれば、前記線形化光学系は、前記第2の光ファイバより出射されたレーザ光を前記第2の光ファイバの配列方向(Y軸方向)について屈折させる第1のシリンドリカルレンズ(7)と、前記第2の光ファイバより出射されたレーザ光を前記第2の光ファイバの配列方向と直交する方向(X軸方向)について屈折させる第2のシリンドリカルレンズ(8)と、前記第1のシリンドリカルレンズおよび前記第2のシリンドリカルレンズから出射されたレーザ光を前記第2の光ファイバの配列方向について屈折させるシリンドリカルアレイレンズ(9)と、前記シリンドリカルアレイレンズから出射されたレーザ光を、前記シリンドリカルアレイレンズ(9)に対してケーラー照明の原理を利用して前記第2の光ファイバの配列方向について屈折させる第3のシリンドリカルレンズ(10)と、前記シリンドリカルアレイレンズから出射されたレーザ光を、前記第2のシリンドリカルレンズ(8)に対する結像関係を利用して前記第2の光ファイバの配列方向と直交する方向について屈折させる第4のシリンドリカルレンズ(11)とを含む構成とすることができる。
 この構成によれば、複数の第2の光ファイバより出射されたレーザ光を、照射面で長手方向および短手方向について共に均一な強度分布を有するラインビームに成形することができる。
 また、本発明の一側面によれば、ファイバ転送レーザ光学系をレーザアニール装置に適用する構成とすることができる。これによれば、短手方向の寸法が小さく(エネルギ密度が高く)、長手方向の寸法が大きな線状のレーザ光によってスループットの高いアニール処理を実現することができる。
 このように本発明によれば、エネルギロスを生じさせることなく、光ファイバから出射されたレーザ光を短手方向の寸法の小さなラインビームに成形することができる。
実施形態に係るファイバ転送レーザ光学系の概略図である。 図1に示すファイバ転送レーザ光学系の斜視図である。 第2の光ファイバの入射端および出射端の配置図である。 照射面での光強度分布を示すグラフである。
 以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
 図1は実施形態に係るファイバ転送レーザ光学系1の概略図であり、(A)は光学系の正面を示し、(B)は光学系の側面を示している。図1,2に示すように、ファイバ転送レーザ光学系1は、レーザ出射端に第1の光ファイバ3が装着されたレーザ発振器2を有している。第1の光ファイバ3は、レーザ発振器2から出射されるレーザ光を入射させても損傷しない比較的大きなコア径を有しており、その出射端からレーザ光が拡がり角をもって出射される。第1の光ファイバ3の出射側には、コリメートレンズ4が配置されており、第1の光ファイバ3から出射されたレーザ光がコリメートレンズ4によって平行光とされる。
 コリメートレンズ4の出射側には、球面アレイレンズ5が配置されている。球面アレイレンズ5は、平面視で正方形を呈する球面レンズからなるセル5aを平面上で互いに直行するX軸およびY軸方向に沿って連続させてX軸方向およびY軸方向共に複数列をなすマトリクス状に配置したものである。球面アレイレンズ5は、本実施形態では、X軸方向およびY軸方向に各3列に配置された9つのセル5aから構成されている。球面アレイレンズ5に入射した平行光は、各セル5aによって集光されて複数(ここでは9つ)のスポットを形成する。
 球面アレイレンズ5の出射側には、第1の光ファイバ3よりも小さなコア径を有する第2の光ファイバ6が、球面アレイレンズ5により形成されるスポット数に応じた数(本実施形態では、正方の3行3列、合計9本)だけ配置されている。第2の光ファイバ6の入射端6aは、図3(A)に示すように、各スポットの形成位置、すなわちアレイレンズの焦点に位置している。つまり、第2の光ファイバ6の入射端6aはそれぞれ平面視で各セル5aの中心に配置される。
 また、第2の光ファイバ6の入射端6aはその軸線が光軸に平行となるように配置されている。なお、ここで光軸に平行とは、各セル5aを通過する実際の光束の中心ではなく、各セル5aの回転対称軸(ここではこれを光軸と称する。)と平行であることを意味する。各セル5aにより集光されたレーザ光は、スポット位置に配置された入射端6aから第2の光ファイバ6に入射し、第2の光ファイバ6中を伝搬する。
 なお、球面アレイレンズ5によりスポットを形成する際には、第2の光ファイバ6に入射するレーザ光の角度が第2の光ファイバ6のNAを超えないものとし、またスポットの径が第2の光ファイバ6のコア径を超えないものとする。
 ここで、第1の光ファイバ3のコア径をA、第1の光ファイバ3のNAをBとし、第2の光ファイバ6のコア径をL、第2の光ファイバ6のNAをKとすると、A>L、且つB>Kの関係となっている。また、コリメートレンズ4のビーム径をD4とし、球面アレイレンズ5の各セル5aに外接する円の径をD5とすると、下式(1)が満たされるようになっている。
  D4/D5=(A×B)/(L×K)  ・・・(1)
 第2の光ファイバ6のコア径およびNAがこのような設定とされることにより、第1の光ファイバ3から出射されたレーザ光がエネルギロスを生じさせることなく第2の光ファイバ6に入射することとなる。
 第2の光ファイバ6は、それぞれ緩やかに湾曲するように配置されており、その出射端6bが、照射面12で線状のレーザ光を得るため、図3(B)に示すようにY軸に平行な直線状の一列に配列されている。また、第2の光ファイバ6の出射端6bは、その軸線が互いに平行をなすように配置されており、かつ本実施形態では等間隔で配置されている。
 第2の光ファイバ6から出射されたレーザ光は、長手方向(Y軸方向)についてコリメートするためのシリンドリカルレンズ7および短手方向(X軸方向)についてコリメートするためのシリンドリカルレンズ8により長円断面形状の平行光にコリメートされる。
 シリンドリカルレンズ8により長円断面形状にコリメートされたレーザ光は、長手方向について照射面12で均一なエネルギ分布を得るために、ケーラー照明の原理を利用したシリンドリカルアレイレンズ9およびシリンドリカルレンズ10に入射する。照射面12に照射されるレーザ光の長手方向の寸法Mは、シリンドリカルアレイレンズ9の焦点距離とシリンドリカルレンズ10の焦点距離とから決まる光学倍率を、シリンドリカルアレイレンズ9のセルの寸法に乗ずることで決定される。
 シリンドリカルレンズ8により長円断面形状にコリメートされたレーザ光は、短手方向についてはシリンドリカルレンズ8とシリンドリカルレンズ11との結像関係に基づいて集光される。照射面12に照射されるレーザ光の短手方向の寸法Cは、シリンドリカルレンズ8の焦点距離とシリンドリカルレンズ11の焦点距離とから決まる光学倍率を、第2の光ファイバ6のコア径に乗ずることで決定される。なお、照射面12に照射されるレーザ光の短手方向の寸法Cは、C<L<Aの関係となる。
 このように構成されたファイバ転送レーザ光学系1によれば、短手方向について照射面12にレーザ光を集光するシリンドリカルレンズ11の短手方向のNAをNとすると、シリンドリカルレンズ11から照射面12までの距離が適正な値に設定されていれば、N<1を満足する範囲でNを変更することにより、照射面12に照射されるレーザ光の短手方向の寸法Cを選択でき、かつ寸法Cを、エネルギのロスを生じさせること無くAに比して小さくすることができる。
 このように構成されたファイバ転送レーザ光学系1によれば、照射面12で図4に示すような光強度分布を得ることができる。なお、図4(A)は、レーザ光の短手方向(X軸方向)の光強度分布を示し、図4(B)は、レーザ光の長手方向(Y軸方向)の光強度分布を示している。図4に示すように、実施形態に係るファイバ転送レーザ光学系1によれば、短手方向の寸法Cにわたって略均一な光強度分布を示し、且つ長手方向の寸法Mにわたって略均一な光強度分布を示すレーザ光を照射面12で得ることができる。
 このように、第1の光ファイバ3から出射されるレーザ光を、コリメートレンズ4でコリメートし、球面アレイレンズ5でコア径の小さい第2の光ファイバ6へ入射させ、且つコア径の小さい第2の光ファイバ6の出射端6bを直線状に一列に配列し、出射端6bの配列長手方向(Y軸方向)についてはケーラー照明の原理を利用し、出射端6bの配列短手方向(X軸方向)については2枚のレンズの結像関係を利用することで、球面アレイレンズ5から第2の光ファイバ6までの光学系を用いない場合には得ることのできなかった形状および均一な強度分布を照射面12で有するラインビームを得ることができる。
 このようなレーザ光を照射面12に照射することのできるファイバ転送レーザ光学系1は、薄膜シリコンのアニール処理を行う装置として好適である。
 以上で具体的実施形態の説明を終えるが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、セル5aを3行3列に配列して球面アレイレンズ5を構成したが、これ以外の行列数に配列してもよい。また、各セル5aは正方形に限られるものではなく、長方形や六角形などの形状にすることも可能である。さらに、他の部材の具体的形状や配置なども、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
 1  ファイバ転送レーザ光学系
 2  レーザ発振器
 3  第1の光ファイバ
 4  コリメートレンズ
 5  球面アレイレンズ
 5a セル
 6  第2の光ファイバ
 6a 入射端
 6b 出射端
 7  シリンドリカルレンズ(第1のシリンドリカルレンズ)
 8  シリンドリカルレンズ(第2のシリンドリカルレンズ)
 9  シリンドリカルアレイレンズ
 10  シリンドリカルレンズ(第3のシリンドリカルレンズ)
 11  シリンドリカルレンズ(第4のシリンドリカルレンズ)
 12  照射面
 A  第1の光ファイバ3のコア径
 B  第1の光ファイバ3のNA
 L  第2の光ファイバ6のコア径
 K  第2の光ファイバ6のNA
 N  照射面12にレーザ光を集光するレンズの短手方向のNA
 C  照射面12におけるレーザ光の短手方向の寸法
 M  照射面12におけるレーザ光の長手方向の寸法
 D4 コリメートレンズ4のビーム径
 D5 球面アレイレンズ5のセル5aに外接する円の径

Claims (4)

  1.  レーザ発振器より出力されたレーザ光を伝送する第1の光ファイバと、当該第1の光ファイバより出射されたレーザ光をコリメートするコリメートレンズと、当該コリメートレンズより出射されたレーザ光を複数のセルによって多点スポットに集光するアレイレンズと、前記第1の光ファイバよりも小さなコア径を有し、前記アレイレンズにより多点スポットに集光された各レーザ光を入射させ、且つ出射端がその軸線を互いに平行にして直線状の一列に配列された複数の第2の光ファイバと、当該複数の第2の光ファイバより出射されたレーザ光を照射面で直線状をなすレーザ光に成形する線形化光学系とを備えることを特徴とするファイバ転送レーザ光学系。
  2.  前記第1の光ファイバのコア径をAとし、前記照射面にレーザ光を集光する集光レンズの短手方向のNAをNとし、前記照射面におけるレーザ光の短手方向の寸法をCとしたとき、N<1を満足する限りにおいてC<Aを満たすことを特徴とする請求項1に記載のファイバ転送レーザ光学系。
  3.  前記第1の光ファイバのコア径をAとし、前記第1の光ファイバのNAをBとし、前記第2の光ファイバのコア径をLとし、前記第2の光ファイバのNAをKとし、前記コリメートレンズのビーム径をD4とし、前記アレイレンズの前記セルに外接する円の径をD5としたとき、
      D4/D5=(A×B)/(L×K)
    を満たすことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のファイバ転送レーザ光学系。
  4.  前記線形化光学系は、
     前記第2の光ファイバより出射されたレーザ光を前記第2の光ファイバの配列方向について屈折させる第1のシリンドリカルレンズと、
     前記第2の光ファイバより出射されたレーザ光を前記第2の光ファイバの配列方向と直交する方向について屈折させる第2のシリンドリカルレンズと、
     前記第1のシリンドリカルレンズおよび前記第2のシリンドリカルレンズから出射されたレーザ光を前記第2の光ファイバの配列方向について屈折させるシリンドリカルアレイレンズと、
     前記シリンドリカルアレイレンズから出射されたレーザ光を、前記シリンドリカルアレイレンズに対してケーラー照明の原理を利用して前記第2の光ファイバの配列方向について屈折させる第3のシリンドリカルレンズと、
     前記シリンドリカルアレイレンズから出射されたレーザ光を、前記第2のシリンドリカルレンズに対して結像関係を利用して前記第2の光ファイバの配列方向と直交する方向について屈折させる第4のシリンドリカルレンズと
    を含むことを特徴とする、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のファイバ転送レーザ光学系。
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