WO2012127771A1 - 酸化マグネシウム焼結体の製造方法 - Google Patents

酸化マグネシウム焼結体の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2012127771A1
WO2012127771A1 PCT/JP2012/000945 JP2012000945W WO2012127771A1 WO 2012127771 A1 WO2012127771 A1 WO 2012127771A1 JP 2012000945 W JP2012000945 W JP 2012000945W WO 2012127771 A1 WO2012127771 A1 WO 2012127771A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
magnesium
magnesium oxide
aluminum
sintered body
mass
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/000945
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
龍一 石橋
Original Assignee
タテホ化学工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by タテホ化学工業株式会社 filed Critical タテホ化学工業株式会社
Priority to CN2012800116524A priority Critical patent/CN103415486A/zh
Publication of WO2012127771A1 publication Critical patent/WO2012127771A1/ja

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01FCOMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F5/00Compounds of magnesium
    • C01F5/02Magnesia
    • C01F5/06Magnesia by thermal decomposition of magnesium compounds
    • C01F5/08Magnesia by thermal decomposition of magnesium compounds by calcining magnesium hydroxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/03Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on magnesium oxide, calcium oxide or oxide mixtures derived from dolomite
    • C04B35/04Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on magnesium oxide, calcium oxide or oxide mixtures derived from dolomite based on magnesium oxide
    • C04B35/053Fine ceramics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/62695Granulation or pelletising
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/10AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/20Constructional details
    • H01J11/34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J11/40Layers for protecting or enhancing the electron emission, e.g. MgO layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3208Calcium oxide or oxide-forming salts thereof, e.g. lime
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3217Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/50Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
    • C04B2235/54Particle size related information
    • C04B2235/5418Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
    • C04B2235/5436Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/50Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
    • C04B2235/54Particle size related information
    • C04B2235/5418Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
    • C04B2235/5445Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/50Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
    • C04B2235/54Particle size related information
    • C04B2235/5418Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
    • C04B2235/5454Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof nanometer sized, i.e. below 100 nm
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/72Products characterised by the absence or the low content of specific components, e.g. alkali metal free alumina ceramics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/74Physical characteristics
    • C04B2235/77Density

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a magnesium oxide sintered body suitable as a vapor deposition material capable of forming a protective film in a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP).
  • the PDP is a display device provided with a large number of minute discharge spaces sealed in the gap between two glass substrates.
  • a large number of electrodes are arranged in a grid pattern, and an image is displayed by selectively causing discharge cells at intersections of the electrodes to emit light.
  • the display electrode of the front plate is covered with a dielectric layer, and a protective film is formed on the dielectric layer.
  • the protective film has a function to prevent the dielectric layer surface from changing due to the direct exposure of the dielectric layer to the discharge start voltage, and is not changed by ion bombardment sputtering. It is a layer to show.
  • a protective film for PDP is generally formed on a dielectric layer by an electron beam evaporation method using a sintered body such as magnesium oxide as a target material.
  • a sintered body such as magnesium oxide
  • it is required to further lower the discharge start voltage in order to further reduce the power consumption of the PDP, and as a protective film for the PDP, a material having a low discharge start voltage, a high secondary electron emission coefficient, and strong against sputtering. Is required.
  • Patent Document 1 describes a protective film formed of a metal oxide composed of magnesium oxide and calcium oxide and containing aluminum.
  • a protective film containing magnesium oxide as a main component, good secondary electron emission characteristics can be exhibited and the discharge start voltage can be reduced.
  • the calcium oxide in the protective film is combined with carbon dioxide to form calcium carbonate, the effect of reducing the discharge start voltage is diminished.
  • the change from calcium oxide to calcium carbonate is suppressed. It is described that an increase in the discharge start voltage can be suppressed.
  • Patent Literature 2 and Patent Literature 3 disclose magnesium oxide and a magnesium oxide sintered body containing calcium oxide.
  • a slurry is prepared by mixing and dispersing magnesium oxide powder, calcium oxide or calcium oxide precursor powder, and a binder in an aqueous dispersion medium. Then, a granulated product is obtained by spray drying the slurry using a spray dryer, the granulated product is molded in a mold, and the obtained molded product is fired to obtain a sintered body.
  • Patent Document 3 discloses that a magnesium oxide sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum is obtained by further using aluminum compound particles.
  • the sintered body obtained by the above method aluminum is segregated in the sintered body, and when such a sintered body is used as a vapor deposition material to form a protective film, Since aluminum segregates, the effect of suppressing an increase in the discharge start voltage cannot be sufficiently obtained.
  • the present invention provides a magnesium oxide sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum in which the contained aluminum is uniformly dispersed and the sintered density is sufficiently high even if the amount of aluminum added is small.
  • An object of the present invention is to provide a production method capable of producing
  • magnesium oxide sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum is manufactured, aluminum is uniformly dispersed in the process of manufacturing magnesium hydroxide, which is a precursor of magnesium oxide.
  • magnesium hydroxide containing aluminum by previously adding an aluminum compound to a magnesium-containing aqueous solution or magnesium hydroxide slurry, magnesium oxide particles containing aluminum obtained from the magnesium hydroxide, and calcium oxide or
  • aluminum is uniformly dispersed, and a sintered body having a sufficiently high sintered density can be obtained even if the amount of aluminum added is small.
  • the present invention has been completed.
  • the method for producing a magnesium oxide sintered body of the present invention is a method for producing a magnesium oxide sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum, and a step of preparing a magnesium hydroxide slurry containing aluminum (A ), Hydrothermally treating the magnesium hydroxide slurry (B), filtering, washing and drying the hydrothermally treated magnesium hydroxide slurry to obtain magnesium hydroxide particles (C), the magnesium hydroxide Step (D) of obtaining particles by firing the particles, Step (E) of mixing and granulating the magnesium oxide particles, calcium compound particles, and binder to obtain a granulated powder, and molding the granulated powder.
  • magnesium oxide sintered body of the present invention aluminum is uniformly dispersed in the sintered body, and even if the amount of aluminum added is small, the sintered density is sufficiently high, magnesium oxide, calcium oxide, And the magnesium oxide sintered compact containing aluminum can be manufactured.
  • the resulting magnesium oxide sintered body has a sufficiently high sintered density even when the calcium oxide content is increased, so that when a protective film is formed as a vapor deposition material, splashing during vapor deposition occurs. Can be suppressed.
  • a protective film having a sufficient effect of suppressing an increase in the discharge start voltage can be formed.
  • the magnesium oxide sintered body produced according to the present invention mainly contains magnesium oxide as a constituent component (containing 50% by mass or more of the total amount), and further contains calcium oxide and aluminum.
  • the aluminum may be present in the form of metallic aluminum or aluminum oxide, or may be dissolved in another element.
  • Sintered body is a particle aggregate that is heated (sintered) at a temperature lower than the melting point so that the particles are connected by solid phase diffusion of powder, growth of neck portion, movement of crystal grain boundaries, etc. It refers to a dense molded body manufactured as described above.
  • the content of calcium oxide in the manufactured magnesium oxide sintered body is 2 to 49.9% by mass. If the amount is less than 2% by mass, the protective film for PDP formed using the sintered body as a vapor deposition material is insufficient to reduce the discharge start voltage. If the amount exceeds 49.9% by mass, the film is formed. Sometimes splash is likely to occur.
  • the content is preferably 2 to 30% by mass.
  • the content of aluminum in the manufactured magnesium oxide sintered body is 0.001 to 1% by mass.
  • the content is less than 0.001% by mass, the sintered density is not sufficient, so that splash is likely to occur during film formation.
  • the content exceeds 1% by mass, protection for PDP formed using the sintered body as an evaporation material. The effect of suppressing the rise of the discharge start voltage is reduced by the film.
  • the content is 0.004 to 0.2% by mass.
  • a sintered body having a sintered density of 95% or more, preferably 96% or more, more preferably 97% or more, and further preferably 98% or more can be produced. Since the sintered density is sufficiently high as described above, the sintered body is used as a deposition material in a vacuum deposition method such as an electron beam deposition method, an ion plating method, or a sputtering method. The occurrence of splash can be suppressed.
  • a magnesium-containing aqueous solution used in the step (A) is prepared.
  • the magnesium-containing aqueous solution is not particularly limited, and examples include an aqueous solution containing at least one selected from the group consisting of chloride salts, nitrates, sulfates, carbonates, acetates, and oxalates.
  • an aqueous magnesium chloride solution is preferred.
  • the prepared magnesium chloride aqueous solution preferably has a concentration of 0.1 to 10 mol / L.
  • concentration is less than 0.1 mol / L, the production efficiency is deteriorated.
  • concentration is higher than 10 mol / L, the viscosity of the magnesium hydroxide slurry increases and handling becomes worse.
  • concentration of the magnesium chloride aqueous solution is preferably 0.5 to 5 mol / L.
  • an aqueous magnesium chloride solution For example, high purity magnesium chloride having a purity of 99% by mass or more (as magnesium chloride, magnesium chloride hexahydrate or anhydrous magnesium chloride, seawater, brine or bitter can be used) and pure water (ion exchange resin)
  • the water can be made into an aqueous magnesium chloride solution by adding water having an electric conductivity of 0.1 ⁇ S / cm or less.
  • the magnesium chloride aqueous solution can have a concentration of 0.1 to 10 mol / L, preferably 0.5 to 5 mol / L.
  • Step (A) of magnesium hydroxide slurry containing aluminum A magnesium hydroxide slurry containing a predetermined amount of aluminum is prepared by performing the following step A-1 or step A-2.
  • Step A-1 When an aluminum compound is added to a magnesium-containing aqueous solution, A predetermined amount of an aluminum compound is added to and mixed with the magnesium-containing aqueous solution so that aluminum is contained in the range of 0.001 to 1 mass% in the obtained magnesium oxide sintered body.
  • the aluminum compound to be added is not particularly limited, and examples include compounds containing at least one selected from the group consisting of chloride salts, nitrates, sulfates, carbonates, acetates, and oxalates. .
  • the aluminum compound is preferably aluminum chloride hexahydrate.
  • the purity of the aluminum compound is preferably 99.9% by mass or more.
  • the alkaline aqueous solution to be used is not particularly limited, and examples thereof include an aqueous solution containing at least one selected from the group consisting of sodium hydroxide, calcium hydroxide, and ammonium salt.
  • the concentration of the alkaline aqueous solution is preferably 1 to 18 mol / L. When the concentration of the alkaline aqueous solution is less than 1 mol / L, the production efficiency is deteriorated.
  • the concentration is preferably 4 to 18 mol / L.
  • the reaction rate between the magnesium-containing aqueous solution and the alkaline aqueous solution is preferably 85 to 98 mol%.
  • the reaction rate means a value calculated by setting the amount of alkali necessary for converting all the magnesium compounds in the magnesium-containing aqueous solution to magnesium hydroxide as 100 mol%.
  • the reaction rate is less than 85 mol%, the production efficiency is deteriorated.
  • the reaction rate is higher than 98 mol%, impurities in the slurry increase.
  • Step A-2 When adding an aluminum compound to the magnesium hydroxide slurry
  • An aqueous alkali solution is added to the magnesium-containing aqueous solution to obtain a magnesium hydroxide slurry.
  • the type and concentration of the alkaline aqueous solution to be used and the reaction rate may be the same as in step A-1.
  • a predetermined amount of an aluminum compound is added to and mixed with the obtained magnesium hydroxide slurry so that aluminum is contained in a range of 0.001 to 1% by mass in the obtained magnesium oxide sintered body, and water containing aluminum is added.
  • a magnesium oxide slurry is obtained.
  • the type and purity of the aluminum compound used may be the same as in step A-1.
  • Step of hydrothermally heating the magnesium hydroxide slurry (B) The obtained magnesium hydroxide slurry is hydrothermally treated to obtain a hydrothermally treated magnesium hydroxide slurry.
  • the hydrothermal treatment can be performed by holding the magnesium hydroxide slurry at 101 ° C. to 200 ° C. with stirring, for example, using an autoclave.
  • the hydrothermal treatment temperature is lower than 101 ° C., crystals do not grow, and aggregated particles are generated, resulting in poor dispersion.
  • the hydrothermal treatment temperature is higher than 200 ° C., crystals grow too much and the particle size tends to be too large.
  • the hydrothermal treatment temperature is preferably 105 ° C to 150 ° C.
  • the hydrothermal treatment time can be 0.5 to 5 hours. When the hydrothermal treatment time is within this range, the crystal growth and the particle diameter can be controlled within appropriate ranges.
  • the hydrothermal treatment time is preferably 1 to 2 hours.
  • Step of obtaining magnesium hydroxide particles (C) Magnesium hydroxide particles are obtained by subjecting the hydrothermally treated magnesium hydroxide slurry to filtration, washing with water, and drying treatment.
  • Washing with water can be performed by adding 5 to 100 times, preferably 20 to 50 times, pure water after filtration after the filtration with respect to dry magnesium hydroxide.
  • the magnesium hydroxide particles are obtained by firing the magnesium hydroxide particles.
  • the magnesium hydroxide particles are, for example, 500 to 1600 ° C., preferably 600 to 1000 ° C. at a temperature rising rate of 1 to 20 ° C./min (preferably 3 to 10 ° C./min) in an air atmosphere.
  • magnesium oxide particles can be obtained by firing at 500 ° C. to 1600 ° C., preferably 600 to 1000 ° C. for 0.1 to 5 hours.
  • the purity of the magnesium oxide particles obtained is preferably 99.9% by mass or more, calculated excluding aluminum, in order to sufficiently reduce the mixing of metal impurities into the protective film deposition material of the plasma display panel. More preferably, it is 99.95% by mass or more.
  • the magnesium oxide particles are mixed with calcium compound particles and a binder and granulated to obtain a granulated powder.
  • the granulation method is not limited, and a rolling granulation method, a spray granulation method, or the like can be used.
  • the calcium compound is not particularly limited, and for example, calcium carbonate, calcium hydroxide, and calcium oxide can be used.
  • the purity of these calcium compounds is 99% by mass or more, preferably 99.9% by mass or more.
  • the average particle size of the calcium compound is preferably in the range of 0.01 to 15 ⁇ m.
  • the calcium compound particles may be used in an amount such that the calcium oxide in the magnesium oxide sintered body to be produced has a desired amount.
  • the binder is not particularly limited, and examples thereof include cellulose derivatives such as CMC (carboxymethyl cellulose), PVA (polyvinyl alcohol), acrylic resins, vinyl acetate resins, and the like.
  • the amount used is about 1 to 10 parts by mass in solid content with respect to 100 parts by mass in total of the amount of powder converted to oxide.
  • the binder is preferably used as a binder solution, and the concentration of the solution is preferably about 5 to 50% by mass.
  • additives such as a dispersing agent, with a binder.
  • the granulated body is introduced into a predetermined mold and molded by a press device to form a molded body.
  • the press device and the die are not particularly limited, and specifically, a shape and size necessary as a target for forming a protective film for a plasma display panel (for example, a disc having a thickness of about 3.0 mm, a cylinder, and a prism shape) Etc.) can be used.
  • a shape and size necessary as a target for forming a protective film for a plasma display panel for example, a disc having a thickness of about 3.0 mm, a cylinder, and a prism shape) Etc.
  • a shape and size necessary as a target for forming a protective film for a plasma display panel for example, a disc having a thickness of about 3.0 mm, a cylinder, and a prism shape
  • Etc. a shape and size necessary as a target for forming a protective film for a plasma display panel
  • the press pressure is preferably set to 50 to 600 MPa, for example, in order to adjust the relative density of the obtained molded body.
  • the thickness of the molded body molded by applying pressure with a press machine can be 0.1 to 10.0 mm.
  • sintering can be suitably performed, and a sintered body obtained after completion of sintering can be suitably used as a target.
  • a target magnesium oxide sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum By firing the obtained molded body, a target magnesium oxide sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum can be obtained.
  • an electric furnace, a gas furnace, or the like can be used for firing.
  • the firing temperature for obtaining a high-density sintered body is 1200 to 2400 ° C., preferably 1300 to 1800 ° C.
  • the firing time is 0.5 to 20 hours, preferably 5 to 15 hours. Firing can be performed in an air atmosphere that is easy to handle. Moreover, it can also carry out in nitrogen atmosphere or other inert gas atmosphere as needed.
  • the magnesium oxide sintered body obtained in the present invention can be suitably used as a vapor deposition material used when a protective film of a plasma display panel is formed by a vacuum vapor deposition method.
  • the vacuum vapor deposition method is not particularly limited, and an electron beam vapor deposition method, an ion plating method, a sputtering method, or the like can be used.
  • Example 1 Provides of preparing magnesium chloride aqueous solution
  • magnesium chloride an aqueous solution having a purity of 99% by mass or more and a concentration of 3.5 mol / L was prepared.
  • the concentration of the magnesium chloride aqueous solution was adjusted by adding pure water (water that was passed through an ion exchange resin and purified to have an electric conductivity of 0.1 ⁇ S / cm or less) to adjust the concentration of the magnesium chloride aqueous solution. Obtained.
  • Example 2 First, in the same manner as in Example 1, a magnesium chloride aqueous solution was obtained.
  • Step A a sodium hydroxide aqueous solution having a concentration of 15 mol / L and a magnesium chloride aqueous solution are reacted so that the reaction rate of magnesium chloride is 95 mol%, whereby a magnesium hydroxide slurry having a concentration of 100 g / L is obtained.
  • a magnesium hydroxide slurry having a concentration of 100 g / L is obtained.
  • aluminum chloride hexahydrate manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd .: purity 99.9 was added in such an amount that 500 mass ppm of aluminum was contained in the sintered body. (Mass% or more) was added and mixed to obtain a magnesium hydroxide slurry containing aluminum.
  • Step B to (Step G) were performed in the same manner as in Example 1 to obtain a sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum.
  • Example 3 Except for adding aluminum chloride hexahydrate so that the aluminum content in the sintered body is 100 ppm by mass, and adding calcium carbonate in an amount equivalent to 2% by mass in terms of calcium oxide. In the same manner as in Example 2, a sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Example 4 Aluminum chloride hexahydrate was added so that the aluminum content in the sintered body was 200 ppm by mass, and calcium carbonate was added in an amount equivalent to 5% by mass in terms of calcium oxide. In the same manner as in Example 2, a sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Example 5 Except for adding aluminum chloride hexahydrate so that the aluminum content in the sintered body is 300 ppm by mass, and adding calcium carbonate in an amount equivalent to 5% by mass in terms of calcium oxide. In the same manner as in Example 2, a sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Example 6 Aluminum chloride hexahydrate was added so that the aluminum content in the sintered body was 200 ppm by mass, and calcium carbonate was added in an amount equivalent to 10% by mass in terms of calcium oxide. In the same manner as in Example 2, a sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Example 7 Except for adding aluminum chloride hexahydrate so that the aluminum content in the sintered body is 500 ppm by mass, and adding calcium carbonate in an amount equivalent to 10% by mass in terms of calcium oxide, It carried out like Example 2 and obtained the sintered compact containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum.
  • Example 8 Except for adding aluminum chloride hexahydrate so that the aluminum content in the sintered body is 1000 ppm by mass, and adding calcium carbonate in an amount equivalent to 15% by mass in terms of calcium oxide. In the same manner as in Example 2, a sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Example 9 Aluminum chloride hexahydrate was added so that the aluminum content in the sintered body was 2000 ppm by mass, and calcium carbonate was added in an amount equivalent to 30% by mass in terms of calcium oxide. In the same manner as in Example 2, a sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Example 10 Aluminum chloride hexahydrate is added so that the aluminum content in the sintered body is 40 ppm by mass, and the calcium compound to be added is calcium hydroxide (purity: 99.9% by mass or more manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.). , D50: 12 ⁇ m), and a sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was performed in the same manner as in Example 2 except that an amount corresponding to 2% by mass in the sintered body was added in terms of calcium oxide. Got.
  • Example 11 The calcium compound to be added is calcium hydroxide (purity: 99.9% by mass or more, D50: 12 ⁇ m, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and an amount equivalent to 5% by mass in the sintered body is added in terms of calcium oxide.
  • a sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Example 12 Example 2 except that the calcium compound to be added was calcium oxide (purity: 99.9% by mass or more, D50: 15 ⁇ m, manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) and an amount corresponding to 5% by mass in the sintered body was added. It carried out similarly and the sintered compact containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • the calcium compound to be added was calcium oxide (purity: 99.9% by mass or more, D50: 15 ⁇ m, manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) and an amount corresponding to 5% by mass in the sintered body was added. It carried out similarly and the sintered compact containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Example 13 Except that the aluminum compound to be added was aluminum nitrate nonahydrate (purity 99.9% by mass or more manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.), the same procedure as in Example 2 was carried out to obtain magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum. A sintered body containing was obtained.
  • Example 14 Sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum in the same manner as in Example 2 except that the aluminum compound to be added is aluminum sulfate (purity: 99.9% by mass or more manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.) Got.
  • Step A without performing (Step A), a 15 mol / L sodium hydroxide aqueous solution and a magnesium chloride aqueous solution are reacted so that the reaction rate of magnesium chloride is 95 mol%, and a magnesium hydroxide with a concentration of 100 g / L is obtained. A slurry was prepared.
  • Step E with respect to 100 parts by mass of the obtained magnesium oxide particles, aluminum oxide (purity manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.) was used so that the aluminum content in the sintered body was 500 ppm by mass. 99.9% by mass or more), and further, 9 parts by mass of calcium carbonate (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., purity: 99.99% by mass or more, D50: 12 ⁇ m) (calculated in terms of calcium oxide, 5% by mass in the sintered body). A considerable amount) and a binder were added, mixed and granulated.
  • aluminum oxide purity manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.
  • 9 parts by mass of calcium carbonate manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., purity: 99.99% by mass or more, D50: 12 ⁇ m
  • Step F and (Step G) were performed in the same manner as in Example 1 to obtain a sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum.
  • Comparative Example 2 Comparative Example 1 except that aluminum oxide was added so that the aluminum content in the sintered body was 100 ppm by mass, and calcium carbonate was added in an amount corresponding to 2% by mass in terms of calcium oxide.
  • the sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Comparative Example 3 Comparative Example 1 except that aluminum oxide was added so that the aluminum content in the sintered body was 500 ppm by mass, and calcium carbonate was added in an amount corresponding to 10% by mass in terms of calcium oxide.
  • the sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Comparative Example 4 Comparative Example 1 except that aluminum oxide was added so that the aluminum content in the sintered body was 1000 ppm by mass, and calcium carbonate was added in an amount equivalent to 15% by mass in the sintered body in terms of calcium oxide.
  • the sintered body containing magnesium oxide, calcium oxide, and aluminum was obtained.
  • Table 1 shows that in Examples 1 to 14, aluminum was uniformly dispersed in the sintered body, and a sintered body having a high sintered density was obtained.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

アルミニウムが均一に分散した酸化マグネシウム前駆体から作製することにより、十分に焼結密度が高い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造することが可能な製造方法を提供する。酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造する方法において、まず、アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを調製し、前記水酸化マグネシウムスラリーを水熱処理した後、濾過、水洗、及び乾燥させて、水酸化マグネシウム粒子を得、これを焼成して、酸化マグネシウム粒子を得る。次に、前記酸化マグネシウム粒子、カルシウム化合物粒子、及びバインダーを混合、造粒して得た造粒粉末を型内で成形して成形体を形成し、前記成形体を焼結することで、前記焼結体を製造する。

Description

酸化マグネシウム焼結体の製造方法
 本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと称する)における保護膜を形成可能な蒸着材として好適な酸化マグネシウム焼結体を製造する方法に関する。
 PDPは2枚のガラス基板の間隙に密閉された微小な放電空間を多数設けた表示デバイスである。たとえば、マトリックス表示方式のPDPでは、多数の電極が格子状に配列され、各電極の交差部の放電セルを選択的に発光させて画像を表示する。代表的な面放電型のAC型PDPでは、前面板の表示電極は誘電体層で被覆され、さらに誘電体層上に保護膜が形成されている。保護膜は、誘電体層が直接放電にさらされることで誘電体層表面が変化して放電開始電圧が上昇するのを防止する役割を有しており、イオン衝撃のスパッタリングによって変化しないという特性を示す層である。
 現在、PDP用の保護膜は、酸化マグネシウム等の焼結体をターゲット材とする電子ビーム蒸着法により誘電体層上に形成されることが一般的である。しかし、PDPを更に省電力化するために放電開始電圧を更に下げることが要求され、PDP用の保護膜としても、低い放電開始電圧を有し、二次電子放出係数が高く、スパッタリングに強い材料が求められている。
 このような観点から、特許文献1では、酸化マグネシウム及び酸化カルシウムからなる金属酸化物により形成するとともにアルミニウムを含有させた保護膜が記載されている。当該文献では、酸化マグネシウムを主成分とする保護膜に酸化カルシウムを含有させることで、良好な二次電子放出特性を発揮し、放電開始電圧を低減させることができると記載されている。さらに、保護膜中の酸化カルシウムが二酸化炭素と結合して炭酸カルシウムとなると、放電開始電圧低減の効果が薄れてしまうところ、アルミニウムを添加することで、酸化カルシウムから炭酸カルシウムへの変化を抑制し、放電開始電圧の上昇を抑制できると記載されている。
 このような保護膜を形成する際に用いる蒸着材として、特許文献2及び特許文献3では、酸化マグネシウム、及び酸化カルシウムを含む酸化マグネシウム焼結体が開示されている。
 当該焼結体を製造する方法として、特許文献2及び特許文献3では、酸化マグネシウム粉末と、酸化カルシウム又は酸化カルシウム前駆体の粉末、及びバインダーを、水性分散媒体中で混合分散させてスラリーを調製し、スプレードライヤーを用いて前記スラリーを噴霧乾燥することで造粒物を得て、造粒物を型内で成形し、得られた成形物を焼成して焼結体を得るといった製造方法が記載されている。
 特に特許文献3では、さらにアルミニウム化合物粒子を用いることで、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を得ることが開示されている。
特開2010-140837号公報 特開2005-330574号公報 特開2010-143798号公報
 しかしながら、特許文献3で開示されているような固体のアルミニウム化合物粒子を固体の酸化マグネシウム粒子及びカルシウム化合物と混合して焼結することで焼結体を製造する方法では、アルミニウムが粒子表面に偏析して焼結助剤としての効果が十分に得られず、特に酸化カルシウムの配合率を大きくした場合、焼結密度が低い焼結体しか得られなかった。PDP用の保護膜を成膜する工程においては、このような焼結密度が低い焼結体を蒸着材として使用した場合、スプラッシュ発生の原因となるという問題があった。
 上記方法によって、十分な焼結密度を達成する焼結体を得るには、焼結体中のアルミニウム含有量を多くする必要があるが、アルミニウムを多く含む焼結体により形成した保護膜は、放電開始電圧の上昇を抑制する効果が低減してしまう(特許文献1の段落[0097]~[0100]、及び図7)。
 また、上記方法により得られる焼結体は、アルミニウムが焼結体中で偏析しており、このような焼結体を蒸着材として使用し保護膜を形成すると、得られた保護膜中においてもアルミニウムが偏析するため、放電開始電圧の上昇を抑制する効果が十分に得られない。
 本発明は、上記現状に鑑み、含まれるアルミニウムが均一に分散し、アルミニウムの添加量が少なくても、十分に焼結密度が高い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造することが可能な製造方法を提供することを目的とする。
 本発明者が検討したところ、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造する際に、酸化マグネシウムの前駆体である水酸化マグネシウムを製造する過程において、アルミニウムが均一に分散するように、予めマグネシウム含有水溶液又は水酸化マグネシウムスラリーにアルミニウム化合物を添加してアルミニウムを含む水酸化マグネシウムを得たのち、当該水酸化マグネシウムから得られたアルミニウムを含む酸化マグネシウム粒子と、酸化カルシウム又はその前駆体、及びバインダーとを混合、造粒、成形、及び焼成することで、アルミニウムが均一に分散し、アルミニウムの添加量が少なくても、十分に焼結密度が高い焼結体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
 すなわち本発明の酸化マグネシウム焼結体の製造方法は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造する方法であって、アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを調製する工程(A)、前記水酸化マグネシウムスラリーを水熱処理する工程(B)、水熱処理された前記水酸化マグネシウムスラリーを濾過、水洗、及び乾燥させて、水酸化マグネシウム粒子を得る工程(C)、前記水酸化マグネシウム粒子を焼成して、酸化マグネシウム粒子を得る工程(D)、前記酸化マグネシウム粒子、カルシウム化合物粒子、及びバインダーを混合及び造粒し、造粒粉末を得る工程(E)、前記造粒粉末を型内で成形して成形体を形成する工程(F)、並びに、前記成形体を焼結する工程(G)を含む。
 本発明の酸化マグネシウム焼結体の製造方法によれば、焼結体中にアルミニウムが均一に分散し、アルミニウムの添加量が少なくても、十分に焼結密度が高い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造することができる。
 これにより得られた酸化マグネシウム焼結体は、酸化カルシウムの配合率を大きくした場合でも十分に焼結密度が高いため、蒸着材として用いて保護膜を形成する場合に、蒸着時のスプラッシュの発生を抑制することができる。また、アルミニウムの添加量が少なく、かつ、得られた保護膜においてもアルミニウムが偏析していないため、放電開始電圧の上昇を抑制する効果が十分である保護膜を形成することができる。
 本発明により製造する酸化マグネシウム焼結体は、構成成分として酸化マグネシウムを主体とし(総量のうち50質量%以上の割合で含有し)、さらに、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含有する。このとき、当該アルミニウムは、金属アルミニウムもしくは酸化アルミニウムの状態で存在していても良く、又は他の元素に固溶していても良い。焼結体とは、粒子の集合体を、融点よりも低い温度で加熱(焼結)することで、粉体の固相拡散、ネック部の成長、結晶粒界の移動などによって粒子同士が連結して製造された緻密な成形体のことをいう。
 製造される酸化マグネシウム焼結体における酸化カルシウムの含量は2~49.9質量%である。2質量%未満であると、前記焼結体を蒸着材として用いて形成されたPDP用保護膜により放電開始電圧を低減する効果が不十分であり、49.9質量%を超えると、成膜時にスプラッシュが発生しやすい。好ましくは2~30質量%である。
 製造される酸化マグネシウム焼結体におけるアルミニウムの含量は0.001~1質量%である。0.001質量%未満であると、焼結密度が十分ではないため成膜時にスプラッシュが発生しやすく、1質量%を超えると、前記焼結体を蒸着材として用いて形成されたPDP用保護膜により放電開始電圧の上昇を抑制する効果が低減する。好ましくは0.004~0.2質量%である。
 本発明の製造方法によると、焼結密度が95%以上、好ましくは96%以上、より好ましくは97%以上、さらに好ましくは98%以上の焼結体を製造することができる。このように焼結密度が十分に高いものであるために、当該焼結体を、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法又はスパッタリング法等の真空蒸着法における蒸着材として用いて成膜をする際にスプラッシュが発生するのを抑制することができる。
 以下、本発明の酸化マグネシウム焼結体の製造方法を、各工程毎に説明する。
 (マグネシウム含有水溶液を用意する工程)
 まず、工程(A)において使用する、マグネシウム含有水溶液を調製する。マグネシウム含有水溶液は特に限定されず、例として、塩化物塩、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、酢酸塩、及び蓚酸塩からなる群より選択される少なくとも1種類以上を含む水溶液を挙げることができる。アルミニウム以外の不純物を低減した酸化マグネシウム粒子を得るために、塩化マグネシウム水溶液が好ましい。
 以下、具体的に、塩化マグネシウム水溶液を用いた場合の工程を説明するが、これに限定されない。調製する塩化マグネシウム水溶液は、濃度0.1~10mol/Lが好ましい。濃度が0.1mol/L未満であると、生産効率が悪くなる。また、濃度が10mol/Lより高いと水酸化マグネシウムスラリーの粘度が高くなり、ハンドリングが悪くなる。塩化マグネシウム水溶液の濃度は、好ましくは0.5~5mol/Lである。
 まず、塩化マグネシウム水溶液を用意する。例えば、純度99質量%以上の高純度の塩化マグネシウム(塩化マグネシウムとしては、塩化マグネシウム六水和物若しくは無水塩化マグネシウム、又は海水、かん水、若しくは苦汁を用いることができる)に純水(イオン交換樹脂に通して電気伝導率を0.1μS/cm以下まで精製した水)を添加することにより塩化マグネシウム水溶液とすることができる。塩化マグネシウム水溶液は、濃度0.1~10mol/Lとすることができ、好ましくは0.5~5mol/Lである。
 (アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーの調製工程(A))
 アルミニウムを所定量含む水酸化マグネシウムスラリーは下記工程A-1又は工程A-2を実施することで調製する。
 (工程A-1 マグネシウム含有水溶液にアルミニウム化合物を添加する場合)
 得られる酸化マグネシウム焼結体中にアルミニウムが0.001~1質量%の範囲で含有されるように、所定量のアルミニウム化合物を、マグネシウム含有水溶液に添加混合する。添加するアルミニウム化合物は特に限定されず、例として、塩化物塩、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、酢酸塩、及び蓚酸塩からなる群より選択される少なくとも1種以上を含む化合物を挙げることができる。アルミニウム以外の不純物を低減した水酸化マグネシウムスラリーを得るために、例えば、塩化マグネシウム水溶液を用いる場合には、アルミニウム化合物としては、塩化アルミニウム六水和物が好ましい。また、同様の理由から、アルミニウム化合物の純度は、99.9質量%以上が好ましい。
 得られたアルミニウムを含むマグネシウム含有水溶液にアルカリ水溶液を添加して、アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを得る。使用するアルカリ水溶液は特に限定されず、例として、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニウム塩からなる群より選択される少なくとも1種類以上を含む水溶液を挙げることができる。アルカリ水溶液の濃度は1~18mol/Lが好ましい。アルカリ水溶液の濃度が1mol/L未満であると、生産効率が悪くなる。また、濃度が18mol/Lより高くなると、水酸化マグネシウムスラリーの粘度が高くなり、ハンドリングが悪くなる。好ましくは4~18mol/Lの濃度である。マグネシウム含有水溶液とアルカリ水溶液の反応率は、85~98mol%が好ましい。ここで、反応率とは、マグネシウム含有水溶液中のマグネシウム化合物全てが、水酸化マグネシウムに変換されるのに必要なアルカリ量を100mol%として算出した値をいう。反応率が85mol%未満であると、生産効率が悪くなる。また、反応率が98mol%より高くなると、スラリーの不純物が増加する。
 (工程A-2 水酸化マグネシウムスラリーにアルミニウム化合物を添加する場合)
 マグネシウム含有水溶液にアルカリ水溶液を添加して、水酸化マグネシウムスラリーを得る。使用するアルカリ水溶液の種類、及び濃度、並びに反応率は、工程A-1と同様で良い。得られた水酸化マグネシウムスラリーに、所定量のアルミニウム化合物を、得られる酸化マグネシウム焼結体中にアルミニウムが0.001~1質量%の範囲で含有されるように添加混合し、アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを得る。使用するアルミニウム化合物の種類、及び純度は、工程A-1と同様で良い。
 (水酸化マグネシウムスラリーを水熱する工程(B))
 得られた水酸化マグネシウムスラリーを水熱処理し、水熱処理された水酸化マグネシウムスラリーを得る。
 水熱処理は、水酸化マグネシウムスラリーを、例えば、オートクレーブを用いて、101℃~200℃で、攪拌しながら保持することにより行うことができる。水熱処理温度が101℃より低いと結晶が成長せず、凝集粒子が生成して分散が悪くなる。また水熱処理温度が200℃より高いと結晶が成長しすぎ、粒子径が大きくなりすぎる傾向がある。水熱処理温度は好ましくは105℃~150℃である。水熱処理時間は、0.5~5時間とすることができる。水熱処理時間がこの範囲であると、結晶成長及び粒子径を適切な範囲に制御することができる。水熱処理時間は好ましくは1~2時間である。
 (水酸化マグネシウム粒子を得る工程(C))
 水熱処理された水酸化マグネシウムスラリーを、濾過、水洗、及び乾燥処理に付すことで、水酸化マグネシウム粒子を得る。
 水洗は、乾燥水酸化マグネシウムに対して、質量基準で5~100倍、好ましくは20~50倍の純水を濾過の後に投入することにより行うことができる。
 (酸化マグネシウム粒子を得る工程(D))
 前記水酸化マグネシウム粒子を焼成することで、酸化マグネシウム粒子を得る。具体的には、水酸化マグネシウム粒子を、例えば、大気雰囲気中で、昇温速度1~20℃/分(好ましくは3~10℃/分)で500℃~1600℃、好ましくは600~1000℃まで昇温し、昇温後、500℃~1600℃、好ましくは600~1000℃で0.1~5時間焼成することにより、酸化マグネシウム粒子を得ることができる。得られる酸化マグネシウム粒子の純度は、プラズマディスプレイパネルの保護膜用蒸着材への金属不純物の混入を十分に小さくするため、アルミニウムを除いて算出した純度が99.9質量%以上であることが好ましく、より好ましくは、99.95質量%以上である。
 (混合及び造粒工程(E))
 次いで、前記酸化マグネシウム粒子に対し、カルシウム化合物粒子、及びバインダーを混合して造粒し、造粒粉末を得る。造粒方法には、限定されないが、転動造粒法やスプレー造粒法等を利用できる。
 前記カルシウム化合物としては特に限定されず、例えば、炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウムを用いることができる。これらカルシウム化合物の純度は、99質量%以上、好ましくは99.9質量%以上が好ましい。また、カルシウム化合物の平均粒径は、0.01~15μmの範囲が好ましい。前記カルシウム化合物粒子は、製造される酸化マグネシウム焼結体中の酸化カルシウムが所望の量になるような量で使用すればよい。
 前記バインダーとしては特に限定されず、例えば、CMC(カルボキシメチルセルロース)等のセルロース誘導体、PVA(ポリビニルアルコール)、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂等が挙げられる。その使用量としては、酸化物に換算した粉末量の合計100質量部に対して、固形分で1~10質量部程度である。バインダーはバインダー溶液として用いることが好ましく、当該溶液の濃度は5~50質量%程度が好ましい。さらに、バインダーと共に、分散剤等の添加剤を併用してもよい。
 (成形工程(F))
 前記造粒体を、所定の金型に導入してプレス装置で成形を行い、成形体を形成する。
 プレス装置及び金型は、特に限定されず、具体的には、プラズマディスプレイパネル用の保護膜形成用ターゲットとして必要な形状及び大きさ(例えば、厚さ3.0mm程度の円盤、円柱及び角柱状など)に成型できるプレス機及び金型を用いることができる。プレス装置は、例えば、1軸プレス装置等を使用できる。プレス圧力は、得られる成形体の相対密度を調整するために、例えば、50~600MPaに設定することが望ましい。
 プレス機による圧力印加により成型した成型体の厚さは、0.1~10.0mmとすることができる。成型体の厚さが、このような値であると、焼結を好適に行うことができ、また、焼結終了後に得られる焼結体を、ターゲットとして好適に用いることができる。
 (焼成工程(G))
 得られた成形体を焼成することによって、目的物である、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を得ることができる。焼成には、電気炉、ガス炉等が利用できる。高密度の焼結体を得るための焼成温度は、1200~2400℃であり、好ましくは1300~1800℃である。また、焼成時間は、0.5~20時間であり、好ましくは5~15時間である。焼成は、取り扱いが容易な大気雰囲気中で行うことができる。また、必要に応じて、窒素雰囲気中又はその他の不活性ガス雰囲気中で行うこともできる。
 本発明で得られる酸化マグネシウム焼結体は、プラズマディスプレイパネルの保護膜を真空蒸着法で成膜する際に使用する蒸着材として好適に利用することができる。真空蒸着法としては特に限定されず、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等を使用することができる。
 以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
 (分析方法)
 得られた焼結体の物性は、以下の方法によって測定した。
 (1)アルミニウム元素及び不純物元素の含有量測定法
 測定対象となる元素(Ag、Al、B、Ba、Bi、Cd、Co、Cr、Cu、Fe、Ga、In、K、Li、Mn、Mo、Na、Ni、P、Pb、S、Si、Sr、Tl、V、Zn、Ti及びZr)は、ICP発光分析装置(商品名:SPS-5100、セイコーインスツルメンツ製)を使用して、試料を酸に溶解した後、質量を測定した。
 (2)純度測定法
 酸化マグネシウム粒子の純度は、100質量%から上記の「アルミニウム元素及び不純物元素の含有量測定法」で測定した、アルミニウムを除く不純物元素の質量の合計を差し引いた値として算出した。
 (3)酸化カルシウムの含有量測定法
 自動滴定装置(COMTITE-980、平沼産業製)を使用して、焼結体に含有される酸化カルシウム量を測定した。
 (4)焼結体の相対密度(焼結密度)の算出方法
 焼結体の相対密度は、アルキメデス法により求めた。ただし、酸化マグネシウムの理論密度を3.58g/cc、酸化カルシウムの理論密度を3.32g/cc、酸化アルミニウムの理論密度を3.97g/ccとして算出した。
 (5)レーザ回折散乱式粒度分布測定
 レーザ回折散乱式粒度分布測定装置(商品名:MT3300、日機装社製)を使用して、体積基準の累積50%粒子径(D50)を測定した。
 (実施例1)
 (塩化マグネシウム水溶液を用意する工程)
 塩化マグネシウムとして、純度99質量%以上、濃度3.5mol/Lの水溶液を用意した。この塩化マグネシウム水溶液に純水(イオン交換樹脂に通して電気伝導率を0.1μS/cm以下まで精製した水)を添加することにより濃度を調整し、濃度2.0mol/Lの塩化マグネシウム水溶液を得た。
 (工程A)
 焼結体中に500質量ppmのアルミニウムが含有されるような量で、塩化アルミニウム六水和物(株式会社高純度化学研究所製:純度99.9質量%以上)を塩化マグネシウム水溶液に添加混合した。得られたアルミニウムを含む塩化マグネシウム水溶液を、塩化マグネシウムの反応率が95mol%となるように濃度15mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液と反応させて、濃度100g/Lの、アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを調製した。
 (工程B)
 得られた水酸化マグネシウムスラリーを、オートクレーブを用いて150℃で1時間攪拌しながら保持することで、水熱処理(加熱攪拌処理)を行った。
 (工程C)
 水熱処理された水酸化マグネシウムスラリーを濾過し、水洗することにより、水酸化マグネシウムケーキを得た。水洗は、乾燥水酸化マグネシウムに対して質量基準で40倍の純水を濾過の後に投入することにより行った。得られた水酸化マグネシウムケーキを粉砕、乾燥し、水酸化マグネシウム粒子を得た。
 (工程D)
 得られた水酸化マグネシウム粒子を、大気雰囲気中で、1000℃で1時間焼成することにより、酸化マグネシウム粒子を得た。
 (工程E)
 得られた酸化マグネシウム粒子100質量部に対して、炭酸カルシウム(関東化学株式会社製 純度:99.99質量%以上、D50:12μm)を9質量部(酸化カルシウム換算で焼結体中に5質量%相当含まれる量)、及びバインダーとしてセルロース誘導体のカルボキシメチルセルロースを、酸化マグネシウム粒子及び炭酸カルシウム粒子の合計100質量部に対して、固形分で4質量部となるように添加し、混合、及び造粒した。
 (工程F)
 得られた造粒体を、乾燥後、プレス成形(成形圧力:300MPa)により8mm×8mm×3.5mmの直方体状に成形し、成形体を得た。
 (工程G)
 得られた成形体を、電気炉内で1650℃で6時間焼成し、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例2)
 まず、実施例1と同様に、塩化マグネシウム水溶液を得た。
 次に、(工程A)において、塩化マグネシウムの反応率が95mol%となるように、濃度15mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液と塩化マグネシウム水溶液を反応させて、濃度100g/Lの水酸化マグネシウムスラリーを調製した。さらに、得られた水酸化マグネシウムスラリーに、焼結体中に500質量ppmのアルミニウムが含有されるような量で、塩化アルミニウム六水和物(株式会社高純度化学研究所製:純度99.9質量%以上)を添加混合し、アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを得た。
 次いで、実施例1と同様に(工程B)~(工程G)を行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例3)
 焼結体中のアルミニウム含有量が100質量ppmとなるように塩化アルミニウム六水和物を添加し、炭酸カルシウムを、酸化カルシウム換算で焼結体中に2質量%相当含まれる量添加した以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例4)
 焼結体中のアルミニウム含有量が200質量ppmとなるように塩化アルミニウム六水和物を添加し、炭酸カルシウムを、酸化カルシウム換算で焼結体中に5質量%相当含まれる量添加した以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例5)
 焼結体中のアルミニウム含有量が300質量ppmとなるように塩化アルミニウム六水和物を添加し、炭酸カルシウムを、酸化カルシウム換算で焼結体中に5質量%相当含まれる量添加した以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例6)
 焼結体中のアルミニウム含有量が200質量ppmとなるように塩化アルミニウム六水和物を添加し、炭酸カルシウムを、酸化カルシウム換算で焼結体中に10質量%相当含まれる量添加した以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例7)
 焼結体中のアルミニウム含有量が500質量ppmとなるように塩化アルミニウム六水和物を添加し、炭酸カルシウムを酸化カルシウム換算で焼結体中に10質量%相当含まれる量添加した以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例8)
 焼結体中のアルミニウム含有量が1000質量ppmとなるように塩化アルミニウム六水和物を添加し、炭酸カルシウムを、酸化カルシウム換算で焼結体中に15質量%相当含まれる量添加した以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例9)
 焼結体中のアルミニウム含有量が2000質量ppmとなるように塩化アルミニウム六水和物を添加し、炭酸カルシウムを、酸化カルシウム換算で焼結体中に30質量%相当含まれる量添加した以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例10)
 焼結体中のアルミニウム含有量が40質量ppmとなるように塩化アルミニウム六水和物を添加し、さらに、添加するカルシウム化合物を水酸化カルシウム(関東化学株式会社製 純度:99.9質量%以上、D50:12μm)とし、酸化カルシウム換算で焼結体中に2質量%相当含まれる量を添加した以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例11)
 添加するカルシウム化合物を水酸化カルシウム(関東化学株式会社製 純度:99.9質量%以上、D50:12μm)とし、酸化カルシウム換算で焼結体中に5質量%相当含まれる量を添加した以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例12)
 添加するカルシウム化合物を酸化カルシウム(関東化学株式会社製 純度:99.9質量%以上、D50:15μm)とし、焼結体中に5質量%相当含まれる量を添加した以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例13)
 添加するアルミニウム化合物を硝酸アルミニウム九水和物(株式会社高純度化学研究所製 純度99.9質量%以上)とした以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (実施例14)
 添加するアルミニウム化合物を硫酸アルミニウム(株式会社高純度化学研究所製 純度99.9質量%以上)とした以外は、実施例2と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (比較例1)
 実施例1と同様に、塩化マグネシウム水溶液を得た。
 次に、(工程A)を行わず、塩化マグネシウムの反応率が95mol%となるように、濃度15mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液と塩化マグネシウム水溶液を反応させて、濃度100g/Lの水酸化マグネシウムスラリーを調製した。
 次いで、実施例1と同様に(工程B)~(工程D)を行った。
 次に、(工程E)において、得られた酸化マグネシウム粒子100質量部に対して、焼結体中のアルミニウム含有量が500質量ppmとなるように酸化アルミニウム(株式会社高純度化学研究所製 純度99.9質量%以上)を添加し、さらに、炭酸カルシウム(関東化学株式会社製 純度:99.99質量%以上、D50:12μm)9質量部(酸化カルシウム換算で焼結体中に5質量%相当含まれる量)及びバインダーを添加、混合し、造粒した。
 次いで、実施例1と同様に(工程F)及び(工程G)を行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (比較例2)
 焼結体中のアルミニウム含有量が100質量ppmとなるように酸化アルミニウムを添加し、炭酸カルシウムを、酸化カルシウム換算で焼結体中に2質量%相当含まれる量添加した以外は、比較例1と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (比較例3)
 焼結体中のアルミニウム含有量が500質量ppmとなるように酸化アルミニウムを添加し、炭酸カルシウムを、酸化カルシウム換算で焼結体中に10質量%相当含まれる量添加した以外は、比較例1と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 (比較例4)
 焼結体中のアルミニウム含有量が1000質量ppmとなるように酸化アルミニウムを添加し、炭酸カルシウムを、酸化カルシウム換算で焼結体中に15質量%相当含まれる量添加した以外は、比較例1と同様に行い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体を得た。
 以上の実施例及び比較例で得た酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む焼結体の物性を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1より、実施例1~14では、焼結体中にアルミニウムが均一分散し、焼結密度が高い焼結体が得られたことが分かる。

Claims (14)

  1.  酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造する方法であって、
     アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを調製する工程(A)、
     前記水酸化マグネシウムスラリーを水熱処理する工程(B)、
     水熱処理された前記水酸化マグネシウムスラリーを、濾過、水洗、及び乾燥させて、水酸化マグネシウム粒子を得る工程(C)、
     前記水酸化マグネシウム粒子を焼成して、酸化マグネシウム粒子を得る工程(D)、
     前記酸化マグネシウム粒子、カルシウム化合物粒子、及びバインダーを混合及び造粒し、造粒粉末を得る工程(E)、
     前記造粒粉末を型内で成形して成形体を形成する工程(F)、並びに、
     前記成形体を焼結する工程(G)を含む、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  2.  前記酸化マグネシウム焼結体が、酸化マグネシウムを50質量%以上、酸化カルシウムを2~49.9質量%、及びアルミニウムを0.001~1質量%含むことを特徴とする、請求項1記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  3.  前記工程(A)が、マグネシウム含有水溶液にアルミニウム化合物を添加したのち、アルカリ水溶液と反応させることで、前記アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを調製することを特徴とする、請求項1記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  4.  前記工程(A)が、マグネシウム含有水溶液をアルカリ水溶液と反応させたのち、アルミニウム化合物を添加することで、前記アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを調製することを特徴とする、請求項1記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  5.  前記アルミニウム化合物が、純度99.9質量%以上であり、塩化物塩、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、酢酸塩、及び蓚酸塩からなる群より選択される少なくとも1種以上を含む化合物であることを特徴とする、請求項3又は4に記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  6.  前記マグネシウム含有水溶液が、塩化物塩、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、酢酸塩、及び蓚酸塩からなる群より選択される少なくとも1種類以上を含む水溶液であることを特徴とする、請求項3又は4に記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  7.  前記アルカリ水溶液が、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、及びアンモニウム塩からなる群より選択される少なくとも1種類以上を含む水溶液であることを特徴とする、請求項3又は4に記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  8.  前記カルシウム化合物粒子が、純度99.9質量%以上であり、平均粒径が0.01~15μmの範囲であり、炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、及び酸化カルシウムからなる群より選択される少なくとも1種類以上を含む化合物であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  9.  前記工程(A)において、濃度0.1~10mol/Lの範囲の前記マグネシウム含有水溶液を、濃度1~18mol/Lの範囲の前記アルカリ水溶液と反応率85~98mol%で反応させることを特徴とする、請求項3又は4に記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  10.  前記工程(B)において、前記水酸化マグネシウムスラリーを、101~200℃の範囲の温度で、0.5~5時間の間保持して水熱処理することを特徴とする、請求項1又は2に記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  11.  前記工程(D)において、前記水酸化マグネシウム粒子を、500℃~1600℃の範囲の温度で、0.1~5時間の間焼成し、アルミニウムを除いて算出した純度が99.9質量%以上である前記酸化マグネシウム粒子を得ることを特徴とする、請求項1又は2に記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  12.  前記工程(E)において、セルロース誘導体、アクリル系樹脂、及び酢酸ビニル系樹脂からなる群より選択される少なくとも1種類以上を含むバインダーを、前記酸化マグネシウム粒子及び前記カルシウム化合物粒子を酸化物に換算した合計100質量部に対して、固形分で1~10質量部の範囲で添加することを特徴とする、請求項1又は2に記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  13.  前記工程(F)において、50~600MPaの範囲の成形圧力で前記造粒粉末の成形を行うことを特徴とする、請求項1又は2に記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
  14.  前記工程(G)において、前記成形体を、1300~1800℃の範囲の温度で、0.5~20時間の間焼成することを特徴とする、請求項1又は2に記載の酸化マグネシウム焼結体の製造方法。
PCT/JP2012/000945 2011-03-24 2012-02-14 酸化マグネシウム焼結体の製造方法 WO2012127771A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2012800116524A CN103415486A (zh) 2011-03-24 2012-02-14 氧化镁烧结体的制造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-065711 2011-03-24
JP2011065711A JP2012201528A (ja) 2011-03-24 2011-03-24 酸化マグネシウム焼結体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2012127771A1 true WO2012127771A1 (ja) 2012-09-27

Family

ID=46878955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/000945 WO2012127771A1 (ja) 2011-03-24 2012-02-14 酸化マグネシウム焼結体の製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2012201528A (ja)
CN (1) CN103415486A (ja)
TW (1) TW201238929A (ja)
WO (1) WO2012127771A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104129807A (zh) * 2014-08-05 2014-11-05 四川虹欧显示器件有限公司 一种微晶材料MgCaO粉体及微晶材料及制备方法及应用
CN106893976A (zh) * 2017-01-18 2017-06-27 东莞市佳乾新材料科技有限公司 一种以高纯致密氧化镁为靶材制备MgO薄膜的方法
CN107382283A (zh) * 2017-09-06 2017-11-24 盐城市华康电热绝缘材料厂 氧化镁陶瓷的干压制备方法
CN111684039B (zh) * 2018-02-16 2021-12-28 达泰豪化学工业株式会社 化学蓄热材料及其制备方法
JP7470246B1 (ja) 2023-11-29 2024-04-17 セトラスホールディングス株式会社 焼鈍分離剤用の酸化マグネシウム、その製造方法、及びそれを用いた方向性電磁鋼板の製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000290062A (ja) * 1999-04-05 2000-10-17 Mitsubishi Materials Corp MgO蒸着材及びその製造方法
JP2005330574A (ja) * 2003-10-21 2005-12-02 Ube Material Industries Ltd 酸化マグネシウム蒸着材
JP2007056299A (ja) * 2005-08-23 2007-03-08 Kyowa Chem Ind Co Ltd 蒸着材用酸化マグネシウム粉末および蒸着材用成型物
JP2007254250A (ja) * 2006-03-27 2007-10-04 Tateho Chem Ind Co Ltd 高純度水酸化マグネシウム粉末及びその製造方法
JP2009067603A (ja) * 2007-09-10 2009-04-02 Tateho Chem Ind Co Ltd 酸化マグネシウム焼結体
JP2010143798A (ja) * 2008-12-19 2010-07-01 Tateho Chem Ind Co Ltd 酸化マグネシウム焼結体及びその製造方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1036355C (zh) * 1992-02-13 1997-11-05 鞍山钢铁公司 一种烧结炉底新材料

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000290062A (ja) * 1999-04-05 2000-10-17 Mitsubishi Materials Corp MgO蒸着材及びその製造方法
JP2005330574A (ja) * 2003-10-21 2005-12-02 Ube Material Industries Ltd 酸化マグネシウム蒸着材
JP2007056299A (ja) * 2005-08-23 2007-03-08 Kyowa Chem Ind Co Ltd 蒸着材用酸化マグネシウム粉末および蒸着材用成型物
JP2007254250A (ja) * 2006-03-27 2007-10-04 Tateho Chem Ind Co Ltd 高純度水酸化マグネシウム粉末及びその製造方法
JP2009067603A (ja) * 2007-09-10 2009-04-02 Tateho Chem Ind Co Ltd 酸化マグネシウム焼結体
JP2010143798A (ja) * 2008-12-19 2010-07-01 Tateho Chem Ind Co Ltd 酸化マグネシウム焼結体及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012201528A (ja) 2012-10-22
TW201238929A (en) 2012-10-01
CN103415486A (zh) 2013-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5016993B2 (ja) 酸化マグネシウム粒子凝集体及びその製造方法
JP5169888B2 (ja) 複合タングステン酸化物ターゲット材とその製造方法
JP5069865B2 (ja) 高純度水酸化マグネシウム粉末及びその製造方法
JP4018974B2 (ja) 錫酸化物粉末、その製造方法及びこれを使用した高密度インジウム錫酸化物ターゲットの製造方法
WO2012127771A1 (ja) 酸化マグネシウム焼結体の製造方法
KR101148301B1 (ko) 산화물 발광체
KR101440712B1 (ko) 산화아연 소결체 타블렛 및 그의 제조 방법
JP4575035B2 (ja) 単結晶酸化マグネシウム焼結体及びその製造方法並びにプラズマディスプレイパネル用保護膜
JP2007138198A (ja) 蒸着材用酸化マグネシウム焼結体
JP2008184366A (ja) 立方体状酸化マグネシウム粉末及びその製法
KR101609010B1 (ko) 스트론튬·칼슘 복합 산화물막 제조용 증착재
JP4638766B2 (ja) 蓚酸バリウムチタニルの製造方法及びチタン酸バリウムの製造方法
JP4638767B2 (ja) 蓚酸バリウムチタニルの製造方法及びチタン酸バリウムの製造方法
JP2012096951A (ja) 酸化マグネシウム薄膜の製造方法
JP5425457B2 (ja) プラズマディスプレイパネルの保護膜用蒸着材
TWI531537B (zh) 銦鎵鋅氧化物及其製法與應用
JP2009067603A (ja) 酸化マグネシウム焼結体
JP2006069811A (ja) 単結晶酸化マグネシウム焼結体及びプラズマディスプレイパネル用保護膜
JP2021134100A (ja) スピネル型マンガン酸リチウム及びその製造方法並びにその用途
KR101569939B1 (ko) 다결정 산화 마그네슘재와 그 제조 방법, 및 산화 마그네슘막의 제조 방법
JPH11322336A (ja) 酸化錫粉末の製造方法
JP4955916B2 (ja) 単結晶酸化マグネシウム焼結体及びその製造方法並びにプラズマディスプレイパネル用保護膜
JP4937637B2 (ja) 蓚酸バリウムチタニルの製造方法及びチタン酸バリウムの製造方法
JP2016172658A (ja) 酸化ニッケル粉末の製造方法
KR101080439B1 (ko) PDP보호막용 MgO계 나노분말의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12761347

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12761347

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1