WO2012105539A1 - 活性エネルギー線硬化性組成物、および微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法 - Google Patents

活性エネルギー線硬化性組成物、および微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法 Download PDF

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curable composition
transparent film
meth
ester compound
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小澤 覚
克宏 小嶋
祐介 中井
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Definitions

  • the present invention relates to an active energy ray-curable composition and a method for producing a transparent film having a fine uneven structure on the surface.
  • an article such as a transparent film having a fine concavo-convex structure with a period shorter than the wavelength of visible light on the surface exhibits an antireflection effect, a lotus effect, and the like.
  • a concavo-convex structure called a moth-eye structure is an effective antireflection means by continuously increasing the refractive index from the refractive index of air to the refractive index of the material of the article.
  • a method for producing a transparent film having a fine concavo-convex structure on the surface for example, a method having the following steps (i) to (iii) is known.
  • active energy rays such as ultraviolet rays
  • the mold usually has a pore period on the order of nanometers and a relatively large aspect ratio of the pores, so that the contact interface between the mold and the active energy ray-curable composition is greatly increased. Therefore, there is a problem that it is difficult to release the mold from the cured resin layer. Therefore, the step (iii) is particularly important from the viewpoint of productivity.
  • Patent Document 1 A method of treating the surface of the mold on which the fine relief structure is formed with a release agent (external release agent) (Patent Document 1).
  • Patent Document 2 A method using a solid photocurable transfer layer comprising a photocurable resin composition containing a phosphate ester compound as an internal mold release agent (Patent Document 2).
  • an external mold release agent when used as in the method (1), when the fine concavo-convex structure of the mold is repeatedly transferred, the external mold release agent treated on the mold surface is peeled off, and the mold release property gradually decreases. . When the releasability is lowered, it becomes difficult to continuously produce a transparent film.
  • an internal mold release agent is used as in the method (2), the mold release surface may be eroded by the internal mold release agent, and the fine uneven structure of the mold may change. When the mold surface is eroded, it is expected that the performance such as the antireflection property of the transparent film is lowered.
  • the present invention continuously provides an active energy ray-curable composition that can prevent erosion of the mold surface and can maintain the releasability between the mold and the cured resin layer for a long time, and a transparent film having a fine concavo-convex structure on the surface.
  • a method of manufacturing is provided.
  • the mold surface is eroded by phosphoric acid remaining in a phosphate ester compound generally used as an internal mold release agent by dissolving the mold surface. Since the dissolving power of phosphoric acid in the mold depends on the pH of the internal mold release agent and the phosphoric acid concentration, this value is defined based on the idea that the mold surface can be prevented from being dissolved by phosphoric acid.
  • the invention has been completed.
  • the active energy ray-curable composition according to the first aspect of the present invention contains a phosphate ester compound whose pH at 25 ° C. of an aqueous solution extracted with 50 mL of water per 1 g is 6.5 to 7.5. It is an active energy ray-curable composition, and (phosphoric acid concentration in the aqueous solution indicated by mass parts per million) ⁇ (phosphoric acid ester compound content in the active energy ray-curable composition indicated by mass percentages) The value of (quantity) is 50 or less.
  • the said phosphate ester compound is a polyoxyethylene alkyl phosphate ester compound represented by following formula (1).
  • R 1 is an alkyl group
  • m is an integer of 1 to 20
  • n is an integer of 1 to 3.
  • the manufacturing method of the transparent film which has the fine uneven structure on the surface in the 2nd aspect of this invention is a method of manufacturing the transparent film by which the cured resin layer which has a fine uneven structure was formed in the surface of the base film, A step of sandwiching the active energy ray-curable composition between a mold having a reverse structure of the fine concavo-convex structure on the surface and a base film, and irradiating the active energy ray-curable composition with active energy rays And curing the active energy ray curable composition to obtain a transparent film in which the cured resin layer having the inverted structure transferred thereon is formed on the surface of the base film, and the obtained transparent film and the mold. And a step of separating. Moreover, it is preferable that the inverted structure of the fine concavo-convex structure on the mold surface is made of anodized alumina.
  • the active energy ray-curable composition of the present invention it is possible to prevent erosion of the mold surface and maintain the releasability between the mold and the cured resin layer for a long time. Moreover, according to this invention, the transparent film which has a fine uneven structure on the surface can be manufactured continuously.
  • (meth) acrylate means acrylate and methacrylate
  • transparent means that light having a wavelength of at least 400 to 1170 nm is transmitted
  • active energy ray Means visible light, ultraviolet rays, electron beams, plasma, heat rays (infrared rays, etc.) and the like.
  • the active energy ray-curable composition of the present invention includes a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a phosphate ester compound as an internal mold release agent.
  • phosphate ester compound is suitable as an internal mold release agent because it imparts releasability to the cured resin layer that is a cured product of the curable composition.
  • phosphoric acid ester compounds often have phosphoric acid remaining in the production process, and this phosphoric acid is considered to cause erosion of the mold surface.
  • the erosion of the mold surface by phosphoric acid occurs particularly remarkably in the case of a mold having a fine concavo-convex structure made of anodized alumina on the surface. This is because alumina is easily dissolved in phosphoric acid.
  • “phosphoric acid” includes dihydrogen phosphate ion, hydrogen phosphate ion, and phosphate ion in which phosphoric acid is ionized.
  • a phosphate ester compound having a low dissolving power with respect to alumina may be used.
  • the dissolving power of phosphoric acid with respect to alumina affects the pH of the phosphate ester compound and the phosphoric acid content in the curable composition, but it is difficult to directly measure the pH and phosphoric acid content. Therefore, as a result of intensive studies, the present inventors have determined that the phosphoric acid content in the curable composition is determined from the pH of the aqueous solution extracted by the water extraction test of the phosphoric acid ester compound shown below and the phosphoric acid concentration of the aqueous solution. It was found that the phosphoric acid ester compound was prevented from dissolving the mold surface by phosphoric acid, and erosion of the mold surface was suppressed.
  • the phosphate ester compound used in the present invention has a pH of 6.5 to 7.5 at 25 ° C. of an aqueous solution extracted with 50 mL of water per 1 g.
  • the value of (phosphoric acid concentration in the aqueous solution expressed in parts by mass) ⁇ (content of the phosphate ester compound in the active energy ray-curable composition shown in mass percentage) is 50 or less. .
  • a phosphate ester compound is dissolved in an organic solvent in which the phosphate ester compound is soluble and insoluble in water at a rate of 50 mL of the organic solvent per 1 g of the phosphate ester compound, and then 1 g of the phosphate ester compound is dissolved therein.
  • the mixture is vigorously stirred with a separatory funnel and then allowed to stand.
  • aqueous solution aqueous solution
  • the organic solvent include chloroform, diethyl ether, hexane and the like from the viewpoint of solubility of the phosphate ester compound.
  • the pH of the aqueous solution can be determined with a pH tester.
  • the pH of the aqueous solution at 25 ° C. is 6.5 or more and 7.5 or less.
  • the pH of the aqueous solution is preferably more than 6.8 and 7.3 or less, more preferably 7.0 or more and less than 7.2.
  • the phosphoric acid concentration in the aqueous solution can be obtained by measurement by a titration method or an ion chromatography method.
  • the phosphoric acid content in the curable composition also depends on the content of the phosphate ester compound in 100% by mass of the curable composition. Therefore, the phosphoric acid content in the curable composition is defined using the phosphoric acid concentration in the aqueous solution and the content of the phosphate ester compound in the curable composition. That is, the phosphoric acid content in the curable composition is the phosphoric acid concentration in the aqueous solution indicated by mass parts per million, and the content of the phosphate ester compound in the curable composition indicated by mass percentages.
  • Product phosphoric acid concentration ⁇ content of phosphate ester compound
  • this value is preferably 50 or less, more preferably 30 or less.
  • the mold surface is dissolved by the phosphoric acid of the phosphate ester compound, and the mold surface is easily eroded.
  • the lower limit of this value is not particularly limited.
  • Whether or not the phosphate ester compound dissolves the mold can be determined by immersing the mold in the phosphate ester compound. Specifically, the mold is immersed in a phosphate ester compound, the mass change of the mold before and after immersion is examined, the cross-section of the mold surface after immersion is observed, the composition analysis of the mold surface after immersion is performed, after immersion The composition of the phosphate ester compound is analyzed to determine whether or not the phosphate ester compound has dissolved the mold. When the phosphate ester compound is liquid, the mold may be immersed as it is.
  • the phosphate ester compound when the phosphate ester compound is solid, the phosphate ester compound is heated or depressurized to form a liquid, or the phosphate ester compound is dissolved in a solvent that does not affect the mold as a solution. What is necessary is just to immerse a mold in. In particular, when the phosphate ester compound is dissolved in the solvent, the higher the concentration of the phosphate ester compound as possible, the quicker the determination of the solubility of the phosphate ester compound in the mold can be made. Moreover, if it heats in the range which does not have a bad influence on a mold or a phosphate ester compound, it can judge more rapidly. As an indication of the immersion time, it is sufficient that 22 hours elapse when immersed at 50 ° C.
  • the pH of the aqueous solution obtained by the extraction test and the phosphoric acid content in the curable composition obtained from the phosphoric acid concentration of the aqueous solution satisfy the above range, and the curable composition
  • dissolves in it It is the polyoxyethylene alkyl phosphate ester compound (henceforth "compound (1)") represented by following formula (1) by the point which is excellent in the sustainability of mold release property. ) Is preferred.
  • R 1 is an alkyl group.
  • R 1 is preferably an alkyl group having 3 to 18 carbon atoms.
  • propyl group isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, pentadecyl group, octadecyl group, etc.
  • Examples include a chain or branched alkyl group, and a cyclic alkyl group such as a cyclohexyl group.
  • n represents an integer of 1 to 3.
  • Compound (1) may be any of monoester, diester and triester. Moreover, when it is a diester body or a triester body, several polyoxyethylene alkyl residues in 1 molecule may each differ. Compound (1) may be a single substance or a mixture of two or more.
  • compound (1) is used as the phosphoric ester compound, the releasability between the cured resin layer, which is a cured product of the curable composition, and the mold is further improved, and it is suitable for forming a fine concavo-convex structure. Moreover, since the load at the time of releasing from a mold becomes very low, the transparent film in which the fine concavo-convex structure with few defects was transferred can be continuously produced.
  • a phosphoric acid ester compound that satisfies the conditions of the phosphoric acid concentration and pH described above can be obtained as a commercial product.
  • TLP-4 manufactured by Nikko Chemicals Corporation is suitable.
  • the phosphoric acid contained is removed so as to satisfy the conditions. Or by neutralizing with a neutralizing agent such as sodium hydroxide.
  • a neutralizing agent such as sodium hydroxide.
  • other phosphoric acid ester compounds for example, “JP-506H” manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd .; “Mold With INT-1856”, “Mold With INT-AM121” manufactured by Accel Corporation, and “Mold With INT-EQ6”.
  • TDP-10 TDP-8
  • TDP-6 TDP-2
  • DDP-10 DDP-8
  • DDP-6 DDP-6
  • DDP-4 DDP-2
  • TCP-5 TLP-10
  • LTP2 manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd .
  • N3A “N10A” manufactured by Croda Japan Co., Ltd. Etc.
  • the content of the phosphate ester compound is preferably 0.01 to 3 parts by mass, more preferably 0.05 to 1 part by mass, and more preferably 0.1 to 0.8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound described later. Is more preferable. If the content of the phosphoric ester compound is 0.01 parts by mass or more, the resin residue (unsatisfactory mold release) to the mold due to a decrease in mold release from the mold can be prevented. On the other hand, if the content of the phosphate ester compound is 3 parts by mass or less, while maintaining the original performance of the cured resin layer, it prevents the resin residue (unsatisfactory release) from remaining on the mold due to a decrease in adhesion to the base film. it can. In addition, peeling of the base film and the cured resin layer during use of the transparent film can be prevented, and occurrence of spots and poor appearance can be suppressed.
  • the concentration of phosphoric acid in an aqueous solution extracted with 50 mL of water per gram of the phosphoric ester compound is preferably 0 to 5000 ppm, more preferably 0 to 500 ppm. More preferably, it is 100 ppm or less.
  • polymerizable compound examples include monomers, oligomers and reactive polymers having a radical polymerizable bond and / or a cation polymerizable bond in the molecule, monomers mentioned in the hydrophobic material described later, monomers mentioned in the hydrophilic material, and the like.
  • Examples of the monomer having a radical polymerizable bond include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.
  • Monofunctional monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t- Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth
  • Polyfunctional monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (Meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (3- (Meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl) propane, 1,2-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy
  • Examples of the monomer having a cationic polymerizable bond include monomers having an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolyl group, a vinyloxy group, and the like, and a monomer having an epoxy group is particularly preferable.
  • oligomer or reactive polymer examples include unsaturated polyesters such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, epoxy (meth) Examples thereof include acrylates, urethane (meth) acrylates, cationic polymerization type epoxy compounds, homopolymers of the above-described monomers having a radical polymerizable bond in the side chain, and copolymerized polymers.
  • unsaturated polyesters such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol
  • the content of the polymerizable compound in the curable composition is preferably 80 to 99.9 parts by mass, more preferably 90 to 99 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable composition.
  • examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2,2-diethoxy.
  • examples of the polymerization initiator include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, t- Thioxanthones such as butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone; diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl Dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholine Phenyl) -butanone and other acetophenones;
  • the content of the polymerization initiator is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
  • the content of the polymerization initiator is less than 0.1 parts by mass, the polymerization is difficult to proceed.
  • the content of the polymerization initiator exceeds 10 parts by mass, the cured resin layer may be colored or the mechanical strength may be lowered.
  • the curable composition of the present invention comprises a non-reactive polymer, an active energy ray sol-gel reactive composition, an ultraviolet absorber and / or a light stabilizer, a lubricant, a plasticizer, an antistatic agent, and a flame retardant.
  • Flame retardant aids, polymerization inhibitors, fillers, silane coupling agents, colorants, reinforcing agents, inorganic fillers, additives such as fluorine compounds to improve antifouling properties, fine particles, impact modifiers And the like, and may contain a small amount of a solvent.
  • Non-reactive polymer examples include acrylic resins, styrene resins, polyurethanes, cellulose resins, polyvinyl butyral, polyesters, thermoplastic elastomers, and the like.
  • active energy ray sol-gel reactive composition examples include alkoxysilane compounds and alkyl silicate compounds.
  • alkoxysilane compound examples include a compound represented by the following formula (2) (hereinafter referred to as “compound (2)”).
  • compound (2) a compound represented by the following formula (2) (hereinafter referred to as “compound (2)”).
  • the compound (2) include tetramethoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-t-butoxysilane, Examples include methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylpropoxysilane, and trimethylbutoxysilane.
  • alkyl silicate compound examples include a compound represented by the following formula (3) (hereinafter referred to as “compound (3)”).
  • compound (3) a compound represented by the following formula (3)
  • R 4 to R 7 each represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and z represents an integer of 3 to 20.
  • the compound (3) include methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n-propyl silicate, n-butyl silicate, n-pentyl silicate, acetyl silicate and the like.
  • UV absorber and / or light stabilizer plays a role of imparting weather resistance such as suppression of yellowish color and suppression of increase in haze.
  • ultraviolet absorbers and / or light stabilizers include benzophenone ultraviolet absorbers, benzotriazole ultraviolet absorbers, benzoate ultraviolet absorbers, and hindered amine light stabilizers.
  • Commercially available products include UV absorbers such as “Tinuvin 400”, “Tinuvin 479”, and “Tinubin 109” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd .; Examples thereof include light stabilizers such as “Tinuvin 152” and “Tinuvin 292” manufactured by the company.
  • a ultraviolet absorber and / or a light stabilizer may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the content of the ultraviolet absorber and / or the light stabilizer is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.01 to 3 parts by weight, and more preferably 0.01 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound. Part is more preferable, and 0.01 to 0.5 part by mass is particularly preferable.
  • these contents are 0.01 parts by mass or more, it is easy to obtain an effect of improving weather resistance such as suppression of yellowish color and suppression of increase in haze.
  • these content is 5 mass parts or less, since a curable composition will fully harden
  • the hydrophobic material means a material having a water contact angle of 90 ° or more on the surface of the fine uneven structure of the cured resin layer.
  • Fluorine-containing compounds As the fluorine-containing compound, a compound having a fluoroalkyl group represented by the following formula (4) is preferable. -(CF 2 ) qX (4)
  • X represents a fluorine atom or a hydrogen atom
  • q represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 20, more preferably an integer of 3 to 10, and an integer of 4 to 8 Particularly preferred.
  • fluorine-containing compound examples include a fluorine-containing monomer, a fluorine-containing silane coupling agent, a fluorine-containing surfactant, and a fluorine-containing polymer.
  • fluorine-containing monomer examples include a fluoroalkyl group-substituted vinyl monomer and a fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer.
  • fluoroalkyl group-substituted vinyl monomer examples include fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylates, fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylamides, fluoroalkyl group-substituted vinyl ethers, and fluoroalkyl group-substituted styrenes.
  • fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer examples include fluoroalkyl group-substituted epoxy compounds, fluoroalkyl group-substituted oxetane compounds, and fluoroalkyl group-substituted oxazoline compounds.
  • a fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylate is preferable, and a compound represented by the following formula (5) is particularly preferable.
  • CH 2 C (R 8 ) C (O) O— (CH 2 ) p— (CF 2 ) qX (5)
  • R 8 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • X represents a hydrogen atom or a fluorine atom.
  • p represents an integer of 1-6, preferably an integer of 1-3, more preferably 1 or 2
  • q represents an integer of 1-20, preferably an integer of 3-10, more preferably an integer of 4-8 preferable.
  • R 9 represents a fluorine-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain one or more ether bonds or ester bonds. Examples of R 9 include 3,3,3-trifluoropropyl group, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl group, 3-trifluoromethoxypropyl group, 3-trifluoroacetoxypropyl group and the like. It is done.
  • R 10 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of R 10 include a methyl group, an ethyl group, and a cyclohexyl group.
  • Y represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
  • the hydrolyzable group include an alkoxy group, a halogen atom, R 11 C (O) O (wherein R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) and the like.
  • alkoxy group examples include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, i-propyloxy group, butoxy group, i-butoxy group, t-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, Examples include octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, and the like.
  • halogen atom examples include Cl, Br, I and the like.
  • R 11 C (O) O examples include CH 3 C (O) O, C 2 H 5 C (O) O, and the like.
  • Fluorine-containing silane coupling agents include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriacetoxysilane, dimethyl-3,3,3-trifluoropropylmethoxysilane, Examples include decafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyltriethoxysilane.
  • fluorine-containing surfactant examples include a fluoroalkyl group-containing anionic surfactant and a fluoroalkyl group-containing cationic surfactant.
  • fluoroalkyl group-containing anionic surfactant examples include fluoroalkylcarboxylic acids having 2 to 10 carbon atoms or metal salts thereof, disodium perfluorooctanesulfonylglutamate, 3- [omega-fluoroalkyl (C6 to C11) oxy]- Sodium 1-alkyl (C3-C4) sulfonate, sodium 3- [omega-fluoroalkanoyl (C6-C8) -N-ethylamino] -1-propanesulfonate, fluoroalkyl (C11-C20) carboxylic acid or its metal Salt, perfluoroalkylcarboxylic acid (C7 to C13) or metal salt thereof, perfluoroalkyl (C4 to C12
  • fluoroalkyl group-containing cationic surfactants include aliphatic quaternary ammonium salts such as fluoroalkyl group-containing aliphatic primary, secondary or tertiary amino acids, and perfluoroalkyl (C6 to C10) sulfonamidopropyltrimethylammonium salts.
  • aliphatic quaternary ammonium salts such as fluoroalkyl group-containing aliphatic primary, secondary or tertiary amino acids, and perfluoroalkyl (C6 to C10) sulfonamidopropyltrimethylammonium salts.
  • Fluorine-containing polymers include polymers of fluoroalkyl group-containing monomers, copolymers of fluoroalkyl group-containing monomers and poly (oxyalkylene) group-containing monomers, and copolymers of fluoroalkyl group-containing monomers and crosslinking reactive group-containing monomers. A polymer etc. are mentioned.
  • the fluorine-containing polymer may be a copolymer with another copolymerizable monomer.
  • fluorine-containing polymer a copolymer of a fluoroalkyl group-containing monomer and a poly (oxyalkylene) group-containing monomer is preferable.
  • poly (oxyalkylene) group a group represented by the following formula (7) is preferable.
  • R 12 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and r represents an integer of 2 or more. Examples of R 12 include —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH (CH 3 ) CH 2 —, —CH (CH 3 ) CH (CH 3 ) —, and the like.
  • the poly (oxyalkylene) group may be composed of the same oxyalkylene unit (OR 12 ), or may be composed of two or more oxyalkylene units (OR 12 ).
  • the arrangement of two or more oxyalkylene units (OR 12 ) may be a block or random.
  • Silicone compounds examples include (meth) acrylic acid-modified silicone, silicone resin, silicone silane coupling agent and the like.
  • examples of the (meth) acrylic acid-modified silicone include silicone (di) (meth) acrylate.
  • a composition containing at least a hydrophilic monomer as a curable composition capable of forming a hydrophilic material.
  • those containing a cross-linkable polyfunctional monomer are more preferable.
  • the same namely, hydrophilic polyfunctional monomer
  • the curable composition may contain other monomers.
  • the hydrophilic material means a material having a water contact angle of 25 ° or less on the surface of the fine uneven structure of the cured resin layer.
  • the curable composition capable of forming a hydrophilic material it is more preferable to use a composition containing the following polymerizable compound. 10 to 50% by mass of a tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate, 30 to 80% by mass of bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate, A polymerizable compound comprising 100% by mass in total of 0 to 20% by mass of a monofunctional monomer.
  • the content of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is preferably 10 to 50% by mass in 100% by mass of the polymerizable compound, and more preferably 20 to 50% by mass from the viewpoint of water resistance and chemical resistance. 30 to 50% by mass is particularly preferable.
  • the content of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 10% by mass or more, the elastic modulus is increased and the scratch resistance is improved. If the content of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 50% by mass or less, it is difficult for small cracks to be formed on the surface and poor appearance.
  • bifunctional or more hydrophilic (meth) acrylate examples include “Aronix M-240” and “Aronix M260” manufactured by Toagosei Co., Ltd .; “NK Ester AT-20E” and “NK Ester” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. And polyfunctional acrylates having a long-chain polyethylene glycol, such as ATM-35E, and polyethylene glycol dimethacrylate. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the total of the average repeating units of the polyethylene glycol chain present in one molecule is preferably 6 to 40, more preferably 9 to 30, and particularly preferably 12 to 20. If the average repeating unit of the polyethylene glycol chain is 6 or more, the hydrophilicity is sufficient and the antifouling property is improved. If the average repeating unit of the polyethylene glycol chain is 40 or less, the compatibility with a polyfunctional (meth) acrylate having 4 or more functional groups is good, and the curable composition is difficult to separate.
  • the content of the bifunctional or higher functional hydrophilic (meth) acrylate is preferably 30 to 80% by mass, more preferably 40 to 70% by mass in 100% by mass of the polymerizable compound. If content of bifunctional or more hydrophilic (meth) acrylate is 30 mass% or more, hydrophilicity will become sufficient and antifouling property will improve. On the other hand, if the content of the bifunctional or higher functional hydrophilic (meth) acrylate is 80% by mass or less, the elastic modulus is increased and the scratch resistance is improved.
  • a hydrophilic monofunctional monomer is preferable.
  • the hydrophilic monofunctional monomer include monofunctional (meth) acrylates having a polyethylene glycol chain in the ester group such as “M-20G”, “M-90G”, and “M-230G” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • Cationic monomers such as monofunctional (meth) acrylates having a hydroxyl group in the ester group such as hydroxyalkyl (meth) acrylate, monofunctional acrylamides, methacrylopropylpropyltrimethylammonium methylsulfate, methacryloyloxyethyltrimethylammonium methylsulfate, etc. It is done.
  • viscosity modifiers such as acryloyl morpholine and vinyl pyrrolidone
  • adhesive improvement agents such as acryloyl isocyanates which improve the adhesiveness to a base film.
  • the content of the monofunctional monomer is preferably 0 to 20% by mass and more preferably 5 to 15% by mass in 100% by mass of the polymerizable compound.
  • a monofunctional monomer By using a monofunctional monomer, the adhesion between the base film and the cured resin layer is improved. If the content of the monofunctional monomer is 20% by mass or less, antifouling property or scratch resistance can be obtained without a shortage of polyfunctional (meth) acrylate having 4 or more functional groups or hydrophilic (meth) acrylate having 2 or more functional groups. Fully express.
  • the monofunctional monomer may be blended with 0 to 35 parts by mass in 100 parts by mass of the polymerizable compound as a low-polymerization polymer obtained by (co) polymerizing one type or two or more types.
  • a polymer having a low polymerization degree monofunctional (meth) acrylates having a polyethylene glycol chain in an ester group such as “M-230G” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., and methacrylamide propyltrimethylammonium methyl sulfate 40/60 copolymer oligomer (for example, “MG polymer” manufactured by MRC Unitech Co., Ltd.) and the like.
  • the method for producing a transparent film (hereinafter simply referred to as “transparent film”) having a fine concavo-convex structure on the surface of the present invention is described above between a mold having a reverse structure of the fine concavo-convex structure on the surface and a base film.
  • a film with high transparency is preferable because active energy rays are irradiated through the film.
  • an acrylic film, a PET (polyethylene terephthalate) film, a polycarbonate film, a TAC (triacetyl cellulose) film, or the like is used. Can do.
  • the mold material examples include metals (including those having an oxide film formed on the surface), quartz, glass, resin, ceramics, and the like.
  • the mold used in the present invention can be produced by, for example, the following methods (I) and (II). Among these methods, the method (I) is particularly preferable because the area can be increased and the production is simple.
  • (I) A method of forming anodized alumina having a plurality of pores (recesses) on the surface of an aluminum substrate.
  • the method (I) preferably has the following steps (a) to (e).
  • B A step of removing the oxide film and forming anodic oxidation pore generation points on the surface of the aluminum substrate.
  • C A step of anodizing the aluminum substrate again in the electrolytic solution to form an oxide film having pores at the pore generation points.
  • D A step of enlarging the diameter of the pores.
  • E A step of repeatedly performing steps (c) and (d) to obtain a mold in which anodized alumina having a plurality of pores is formed on the surface of an aluminum base.
  • the shape of the aluminum substrate include a roll shape, a circular tube shape, a flat plate shape, and a sheet shape.
  • the aluminum substrate is preferably polished by mechanical polishing, bedding polishing, chemical polishing, electrolytic polishing (etching) or the like in order to smooth the surface state.
  • etching electrolytic polishing
  • the purity of aluminum is preferably 99% or more, more preferably 99.5% or more, and particularly preferably 99.8% or more.
  • the purity of aluminum is low, when anodized, an uneven structure having a size to scatter visible light may be formed due to segregation of impurities, or the regularity of pores obtained by anodization may be lowered.
  • the electrolytic solution include sulfuric acid, oxalic acid, and phosphoric acid.
  • the concentration of oxalic acid is preferably 0.7 M or less. When the concentration of oxalic acid exceeds 0.7M, the current value becomes too high, and the surface of the oxide film may become rough. When the formation voltage is 30 to 60 V, anodized alumina having highly regular pores with an average interval of 100 nm can be obtained. Regardless of whether the formation voltage is higher or lower than this range, the regularity tends to decrease.
  • the temperature of the electrolytic solution is preferably 60 ° C. or lower, and more preferably 45 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 60 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken, or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.
  • the concentration of sulfuric acid is preferably 0.7M or less. If the concentration of sulfuric acid exceeds 0.7M, the current value may become too high to maintain a constant voltage. When the formation voltage is 25 to 30 V, anodized alumina having highly regular pores with an average interval of 63 nm can be obtained. The regularity tends to decrease whether the formation voltage is higher or lower than this range.
  • the temperature of the electrolytic solution is preferably 30 ° C. or less, and more preferably 20 ° C. or less. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 30 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.
  • the method for removing the oxide film include a method in which aluminum is not dissolved but is dissolved in a solution that selectively dissolves the oxide film and removed. Examples of such a solution include a chromic acid / phosphoric acid mixed solution.
  • the pore diameter expansion treatment is a treatment for expanding the diameter of the pores obtained by anodic oxidation by immersing in a solution dissolving the oxide film. Examples of such a solution include a phosphoric acid aqueous solution of about 5% by mass. The longer the pore diameter expansion processing time, the larger the pore diameter.
  • An oxide film 14 is formed, and a mold body 18 having anodized alumina (aluminum porous oxide film (alumite)) on the surface of the aluminum substrate 10 is obtained.
  • the total number of repetitions is preferably 3 times or more, and more preferably 5 times or more.
  • the diameter of the pores decreases discontinuously. Therefore, the reflectance reduction effect of the fine uneven structure (moth eye structure) formed using anodized alumina having such pores is It is insufficient.
  • Examples of the shape of the pore 12 include a substantially conical shape, a pyramid shape, a cylindrical shape, and the like, and a cross-sectional area of the pore in a direction orthogonal to the depth direction such as a conical shape and a pyramid shape has a depth from the outermost surface.
  • a shape that continuously decreases in the direction is preferred.
  • the average interval between the pores 12 is not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm.
  • the average interval between the pores 12 is preferably 20 nm or more.
  • the average interval between the pores 12 was measured by measuring the distance between adjacent pores 12 (distance from the center of the pore 12 to the center of the adjacent pore 12) by electron microscope observation, and averaging these values. It is a thing.
  • the depth of the pores 12 is preferably 80 to 500 nm, more preferably 120 to 400 nm, and particularly preferably 150 to 300 nm.
  • the depth of the pore 12 is a value obtained by measuring the distance between the bottom of the pore 12 and the top of the convex portion existing between the pores 12 when observed at an magnification of 30000 by electron microscope observation. It is.
  • the aspect ratio (pore depth / average interval between pores) of the pores 12 is preferably 0.8 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, and 1.5 to 3.0. Is particularly preferred.
  • the mold body 18 obtained in the step (e) may be used as a mold as it is.
  • the surface of the mold body 18 on which the fine uneven structure is formed is formed with a release agent (external release agent). It may be processed.
  • the release agent those having a functional group capable of forming a chemical bond with the anodized alumina of the aluminum substrate are preferable.
  • silicone resin, fluororesin, fluorine compound and the like can be mentioned. From the viewpoint of excellent releasability and excellent adhesion to the mold body, it is preferable to have a silanol group or a hydrolyzable silyl group.
  • fluorine compound having a hydrolyzable silyl group is particularly preferable.
  • Commercially available fluorine compounds having hydrolyzable silyl groups include fluoroalkyl silane, “KBM-7803” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; “OPTOOL” series manufactured by Daikin Industries, Ltd .; “manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.” Novec EGC-1720 "and the like.
  • Method 1 A method in which the mold body is immersed in a dilute solution of a release agent.
  • Method 2 A method in which a mold release agent or a diluted solution thereof is applied to the surface of the mold body on the side where the fine relief structure is formed.
  • a method having the following steps (f) to (j) is preferable.
  • (F) A step of washing the mold main body with water.
  • (G) A step of blowing air to the mold body to remove water droplets attached to the surface of the mold body.
  • (H) A step of immersing the mold body in a diluted solution obtained by diluting a fluorine compound having a hydrolyzable silyl group with a solvent.
  • (I) A step of slowly lifting the immersed mold body from the solution.
  • J A step of drying the mold body.
  • a known solvent such as a fluorine-based solvent or an alcohol-based solvent may be used.
  • a fluorine-based solvent is preferable because it has appropriate volatility, wettability, and the like, and can be applied uniformly with an external release agent solution.
  • the fluorine-based solvent include hydrofluoropolyether, perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane, perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane, dichloropentafluoropropane, and the like.
  • the concentration of the fluorine compound having a hydrolyzable silyl group is preferably 0.01 to 0.2% by mass in the diluted solution (100% by mass).
  • the immersion time is preferably 1 to 30 minutes.
  • the immersion temperature is preferably 0 to 50 ° C.
  • the pulling speed is preferably 1 to 10 mm / second.
  • the drying temperature is preferably 30 to 150 ° C.
  • the drying time is preferably 5 to 300 minutes.
  • the surface of the mold main body was processed with the mold release agent by measuring the water contact angle of the surface of the mold main body.
  • the water contact angle on the surface of the mold body treated with the release agent is preferably 60 ° or more, and more preferably 90 ° or more. If the water contact angle is 60 ° or more, the surface of the mold body is sufficiently treated with a release agent, and the release property is improved.
  • a transparent film is manufactured as follows, for example using the manufacturing apparatus shown in FIG.
  • the curable composition 38 is supplied from the tank 22 between the roll-shaped mold 20 having a fine concavo-convex structure (not shown) on the surface and the strip-shaped base film 42 that moves along the surface of the roll-shaped mold 20. .
  • the base film 42 and the curable composition 38 are nipped between the roll-shaped mold 20 and the nip roll 26 whose nip pressure is adjusted by the pneumatic cylinder 24, and the curable composition 38 is rolled with the base film 42. At the same time, it is uniformly distributed between the mold 20 and the concave portion of the fine concavo-convex structure of the roll-shaped mold 20 is filled.
  • the roll-shaped mold By irradiating the curable composition 38 with the active energy ray through the base film 42 from the active energy ray irradiating device 28 installed below the roll-shaped mold 20 to cure the curable composition 38, the roll-shaped mold is obtained.
  • the cured resin layer 44 to which the fine concavo-convex structure on the surface of 20 is transferred is formed.
  • the peeling film 30 peels the base film 42 having the cured resin layer 44 formed on the surface from the roll-shaped mold 20 to obtain a transparent film 40 as shown in FIG.
  • the active energy ray irradiation device 28 a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp or the like is preferable.
  • the amount of light irradiation energy is preferably 100 to 10,000 mJ / cm 2 .
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a transparent film 40 having a fine relief structure on the surface.
  • the base film 42 is a light transmissive film.
  • Examples of the material for the base film include an acrylic film, a PET film, a polycarbonate film, and a TAC film.
  • the cured resin layer 44 is a film made of a cured product of the curable composition of the present invention, and has a fine uneven structure on the surface.
  • the fine concavo-convex structure on the surface of the transparent film 40 in the case of using an anodized alumina mold is formed by transferring the fine concavo-convex structure on the surface of the anodized alumina, and consists of a cured product of a curable composition.
  • a plurality of convex portions 46 are provided.
  • the fine concavo-convex structure is preferably a so-called moth-eye structure in which a plurality of protrusions (convex portions) having a substantially conical shape or a pyramid shape are arranged. It is known that the moth-eye structure in which the distance between the protrusions is less than or equal to the wavelength of visible light is an effective anti-reflection measure by continuously increasing the refractive index from the refractive index of air to the refractive index of the material. It has been.
  • the average interval between the convex portions is not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm.
  • the average distance between the convex portions is about 100 to 200 nm, and therefore, 250 nm or less is particularly preferable.
  • the average interval between the convex portions is preferably 20 nm or more from the viewpoint of easy formation of the convex portions.
  • the average interval between the convex portions is obtained by measuring 50 intervals between adjacent convex portions (distance from the center of the convex portion to the center of the adjacent convex portion) by electron microscope observation, and averaging these values. .
  • the height of the protrusions is preferably 80 to 500 nm, more preferably 120 to 400 nm, and particularly preferably 150 to 300 nm when the average interval is 100 nm. If the height of the convex portion is 80 nm or more, the reflectance is sufficiently low and the wavelength dependency of the reflectance is small. If the height of a convex part is 500 nm or less, the scratch resistance of a convex part will become favorable.
  • the height of the convex portion is a value obtained by measuring the distance between the topmost portion of the convex portion and the bottommost portion of the concave portion existing between the convex portions when observed with an electron microscope at a magnification of 30000 times.
  • the aspect ratio of the convex part (height of convex part / average interval between convex parts) is preferably 0.8 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, and 1.5 to 3.0. Particularly preferred. If the aspect ratio of the convex portion is 0.8 or more, the reflectance is sufficiently low. If the aspect ratio of the convex portion is 5.0 or less, the scratch resistance of the convex portion is good.
  • the shape of the convex part is a shape in which the convex sectional area in the direction perpendicular to the height direction continuously increases in the depth direction from the outermost surface, that is, the sectional shape in the height direction of the convex part is a triangle, trapezoid, A shape such as a bell shape is preferred.
  • the difference between the refractive index of the cured resin layer 44 and the refractive index of the base film 42 is preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less, and particularly preferably 0.05 or less.
  • the refractive index difference is 0.2 or less, reflection at the interface between the cured resin layer 44 and the base film 42 is suppressed.
  • the water contact angle on the surface of the fine uneven structure is preferably 90 ° or more, more preferably 110 ° or more, and particularly preferably 120 ° or more. If the water contact angle is 90 ° or more, water stains are less likely to adhere, so that sufficient antifouling properties are exhibited. Moreover, since water does not adhere easily, anti-icing can be expected.
  • the water contact angle on the surface of the fine concavo-convex structure is preferably 25 ° or less, more preferably 23 ° or less, and particularly preferably 21 ° or less. If the water contact angle is 25 ° or less, the dirt adhering to the surface is washed away with water and oil dirt is less likely to adhere, so that sufficient antifouling properties are exhibited.
  • the water contact angle is preferably 3 ° or more from the viewpoint of suppressing the deformation of the fine concavo-convex structure due to water absorption of the cured resin layer 44 and the accompanying increase in reflectance.
  • Applications of the transparent film 40 include antireflection articles, antifogging articles, antifouling articles, water repellent articles, and more specifically, antireflection for displays, automobile meter covers, automobile mirrors, automobile windows, organic or inorganic electro Examples thereof include a member for improving light extraction efficiency of luminescence, a solar cell member, and the like.
  • the manufacturing method of the transparent film of this invention is not limited to the method mentioned above.
  • the transparent film 40 is manufactured by irradiating the active energy ray to the base film 42 using the manufacturing apparatus shown in FIG. 2.
  • a transparent film may be produced as described above. That is, as shown in FIG. 4, the curable composition 38 is supplied between the surface of the base film 42 supported from the back surface side by the support film 48 and the roll-shaped mold 20, and cured through the support film 48.
  • the active composition 38 is irradiated with active energy rays to produce a transparent film 40 in which a cured resin layer 44 having a fine relief structure is formed on the surface of the base film 42.
  • the transparent film 40 thus obtained is supported by the support film 48, and the support film 48 is peeled off from the transparent film 40 as necessary.
  • the support film 48 is not particularly limited as long as it is a peelable film, and examples thereof include a PET film and a polycarbonate film.
  • the support film 48 may be a single layer film or a multilayer film.
  • aqueous solution aqueous solution
  • aqueous solution aqueous solution
  • eluent Na 2 CO 3 (2.7 mM) / Using NaHCO 3 (0.3 mM)
  • pump IP20 ISOCRATIC
  • the pump ion concentration in the aqueous solution was measured at a pump flow rate of 1.5 mL / min, and the phosphate concentration was determined.
  • the pH of the aqueous solution was measured under the condition of 25 ° C. using a pH tester (“Castany LAB” manufactured by Horiba, Ltd.).
  • FIG. 5 A scanning electron microscope image of the obtained mold is shown in FIG.
  • an aluminum plate purity 99.99%) having a size of 50 mm ⁇ 50 mm ⁇ thickness 0.3 mm was used as an aluminum substrate, and the process up to the step (c) was carried out (FIG. 5) was used.
  • Example 1 ⁇ Preparation of curable composition>
  • Aronix M260 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.
  • TAS trimethylolethane / acrylic acid / succinic anhydride
  • the transparent film was manufactured as follows using the manufacturing apparatus shown in FIG. As the roll-shaped mold 20, the previously produced mold was used.
  • As the base film 42 an acrylic film (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., “Acryprene HBS010”, thickness: 100 ⁇ m) is used, and on the back surface thereof, a PET film with an adhesive as a support film 48 (manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd., “ SAT-116T ”, thickness: 38 ⁇ m).
  • the curable composition 38 is transferred from the tank 22 between the roll-shaped mold 20 and the belt-shaped base film 42 supported from the back side by the belt-shaped support film 48 that moves along the surface of the roll-shaped mold 20. Supplied.
  • the active energy ray irradiation device 28 installed below the roll-shaped mold 20 irradiates the curable composition 38 with ultraviolet light having an accumulated light amount of 800 mJ / cm 2 through the base film 42 from the support film 48 side and cures.
  • the cured resin layer 44 to which the fine concavo-convex structure on the surface of the roll-shaped mold 20 was transferred was formed by curing the conductive composition 38.
  • the transparent film 40 supported by the support film 48 was obtained by peeling the base film 42 having the cured resin layer 44 formed on the surface thereof from the roll-shaped mold 20 together with the support film 48 by the peeling roll 30.
  • Example 1 As is clear from Table 1, in the case of Example 1, the reduction rate of the mass of the mold by the immersion test was 0%, and the mass did not change. Further, as is clear from FIGS. 5 and 6, no change in the pores of the mold after the immersion test (FIG. 6) was confirmed even when compared with that before the immersion test (FIG. 5). From these results, it was shown that the phosphoric acid ester compound contained in the curable composition of Example 1 hardly dissolves the mold surface and can suppress erosion of the mold surface. In Example 1, a 600 m transparent film could be produced continuously and stably. The average period between the convex parts of the obtained transparent film was 100 nm, and the height of the convex parts was 200 nm. Moreover, the visibility reflectance of the transparent film was 0.1%, and the antireflection property was excellent. Further, the mold after production (FIG. 9) did not change compared to that before production (FIG. 8).
  • the active energy ray-curable composition of the present invention it is possible to prevent erosion of the mold surface and maintain the releasability between the mold and the cured resin layer for a long time. Moreover, according to this invention, the transparent film which has a fine uneven structure on the surface can be manufactured continuously.

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Abstract

本発明は、1g当たり50mLの水で抽出した水溶液の25℃におけるpHが6.5以上7.5以下であるリン酸エステル化合物を含む活性エネルギー線硬化性組成物であって、(質量百万分率で示される前記水溶液中のリン酸濃度)×(質量百分率で示される活性エネルギー線硬化性組成物中のリン酸エステル化合物の含有量)の値が50以下である活性エネルギー線硬化性組成物(38)、および前記活性エネルギー線硬化性組成物(38)からなり、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層(44)が基材フィルム(42)の表面に形成された透明フィルム(40)の製造方法に関する。本発明によれば、モールド表面の侵食を防ぎ、かつモールドと硬化樹脂層との離型性を長時間にわたって維持できる活性エネルギー線硬化性組成物、および微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムを連続的に製造する方法を提供することができる。

Description

活性エネルギー線硬化性組成物、および微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法
 本発明は、活性エネルギー線硬化性組成物、および微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法に関する。
 本願は、2011年1月31日に、日本に出願された特願2011-018225号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
 近年、可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムなどの物品は、反射防止効果、ロータス効果等を発現することが知られている。特に、モスアイ構造と呼ばれる凹凸構造は、空気の屈折率から物品の材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
 微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法としては、例えば、下記の工程(i)~(iii)を有する方法が知られている。
(i)表面に微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと、透明フィルムの本体となる基材フィルムとの間に、活性エネルギー線硬化性組成物を挟持する工程。
(ii)活性エネルギー線硬化性組成物に紫外線などの活性エネルギー線を照射し、前記活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させて微細凹凸構造を有する硬化樹脂層を形成し、透明フィルムを得る工程。
(iii)透明フィルムとモールドとを分離する工程。
 ところで、前記モールドは、通常、細孔の周期がナノメートルオーダーであり、かつ細孔のアスペクト比も比較的大きいため、モールドと活性エネルギー線硬化性組成物との接触界面が大幅に増加する。そのため、モールドを硬化樹脂層から離型しにくいという問題がある。従って、特に、上記工程(iii)は生産性の観点から重要とされる。
 モールドと硬化樹脂層との離型性を向上させる方法としては、下記の方法が提案されている。
(1)モールドの微細凹凸構造が形成された側の表面を離型剤(外部離型剤)によって処理する方法(特許文献1)。
(2)内部離型剤としてリン酸エステル系化合物を含む光硬化性樹脂組成物からなる固体状の光硬化性転写層を用いる方法(特許文献2)。
特開2007-326367号公報 特開2009-61628号公報
 しかし、(1)の方法のように外部離型剤を用いると、モールドの微細凹凸構造を繰り返し転写した場合、モールド表面に処理した外部離型剤が剥離し、離型性がしだいに低下する。離型性が低下すると、透明フィルムを連続して製造するのが困難となる。
 (2)の方法のように内部離型剤を用いると、内部離型剤によってモールド表面が侵食され、モールドの微細凹凸構造が変化することがあった。モールド表面が侵食されると、透明フィルムの反射防止性などの性能が低下することが予想される。
 本発明は、モールド表面の侵食を防ぎ、かつモールドと硬化樹脂層との離型性を長時間にわたって維持できる活性エネルギー線硬化性組成物、および微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムを連続的に製造する方法を提供する。
 本発明者らは鋭意検討した結果、内部離型剤として一般的に用いられるリン酸エステル化合物に残存するリン酸が、モールド表面を溶解することによって、モールド表面が侵食されることを突き止めた。リン酸のモールドに対する溶解力は内部離型剤のpHやリン酸濃度に依存するため、これらの値を規定することでリン酸によってモールド表面が溶解するのを抑制できるとの着想に基づき、本発明を完成するに至った。
 すなわち、本発明の第一の態様における活性エネルギー線硬化性組成物は、1g当たり50mLの水で抽出した水溶液の25℃におけるpHが6.5以上7.5以下であるリン酸エステル化合物を含む活性エネルギー線硬化性組成物であって、(質量百万分率で示される前記水溶液中のリン酸濃度)×(質量百分率で示される活性エネルギー線硬化性組成物中のリン酸エステル化合物の含有量)の値が50以下であることを特徴とする。
 また、前記リン酸エステル化合物が、下記式(1)で表わされるポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 式(1)中、Rはアルキル基であり、mは1~20の整数であり、nは1~3の整数である。
 本発明の第二の態様における微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された透明フィルムを製造する方法であって、表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと基材フィルムとの間に、前記活性エネルギー線硬化性組成物を挟持させる工程と、前記活性エネルギー線硬化性組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させて、前記反転構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された透明フィルムを得る工程と、得られた透明フィルムと前記モールドとを分離する工程とを有することを特徴とする。
 また、前記モールド表面の微細凹凸構造の反転構造が、陽極酸化アルミナからなることが好ましい。
 本発明の活性エネルギー線硬化性組成物によれば、モールド表面の侵食を防ぎ、かつモールドと硬化樹脂層との離型性を長時間にわたって維持できる。
 また、本発明によれば、微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムを連続的に製造できる。
表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造工程を示す断面図である。 微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造装置の一例を示す構成図である。 微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの一例を示す断面図である。 微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの他の製造方法を説明する図である。 浸漬試験前のモールド表面の走査型電子顕微鏡像(断面像)である。 実施例1における浸漬試験後のモールド表面の走査型電子顕微鏡像(断面像)である。 比較例1における浸漬試験後のモールド表面の走査型電子顕微鏡像(断面像)である。 微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造前のモールド表面走査型電子顕微鏡像(断面像)である。 実施例1における微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造後のモールド表面走査型電子顕微鏡像(断面像)である。 比較例1における微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造後のモールド表面走査型電子顕微鏡像(断面像)である。
 以下、本発明を詳細に説明する。
 なお、本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートを意味し、「透明」とは、少なくとも波長400~1170nmの光を透過することを意味し、「活性エネルギー線」とは、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)等を意味する。
[活性エネルギー線硬化性組成物]
 本発明の活性エネルギー線硬化性組成物(以下、単に「硬化性組成物」という。)は、重合性化合物と、重合開始剤と、内部離型剤としてリン酸エステル化合物とを含む。
<内部離型剤>
(リン酸エステル化合物)
 リン酸エステル化合物は、硬化性組成物の硬化物である硬化樹脂層に離型性を付与するため、内部離型剤として好適である。
 しかし、リン酸エステル化合物は、その製造過程においてリン酸が残存している場合が多く、このリン酸がモールド表面の侵食の原因となると考えられる。リン酸によるモールド表面の侵食は、表面に陽極酸化アルミナからなる微細凹凸構造が形成されたモールドの場合に特に顕著に起こる。これは、アルミナがリン酸に対して溶解しやすいためである。
 なお、本発明において「リン酸」とは、リン酸が電離した状態であるリン酸二水素イオン、リン酸水素イオン、リン酸イオンを含むものとする。
 従って、モールド表面の侵食を抑制するには、アルミナに対する溶解力が低いリン酸エステル化合物を用いればよい。
 ところで、リン酸のアルミナに対する溶解力は、リン酸エステル化合物のpHと硬化性組成物中のリン酸含有量に影響するが、このpHやリン酸含有量を直接測定することは困難である。
 そこで、本発明者らは鋭意検討した結果、以下に示すリン酸エステル化合物の水抽出試験により抽出した水溶液のpH、および前記水溶液のリン酸濃度から求められる硬化性組成物中のリン酸含有量を規定することで、リン酸エステル化合物がリン酸によってモールド表面を溶解するのを防ぎ、モールド表面の侵食が抑制されることを見出した。
 すなわち、本発明に用いるリン酸エステル化合物は、1g当たり50mLの水で抽出した水溶液の25℃におけるpHが6.5以上7.5以下である。
 また、(質量百万分率で示される前記水溶液中のリン酸濃度)×(質量百分率で示される活性エネルギー線硬化性組成物中のリン酸エステル化合物の含有量)の値が50以下である。
 以下、具体的な水抽出試験方法について説明する。
 まず、リン酸エステル化合物が可溶であり、かつ水に不溶な有機溶媒に、リン酸エステル化合物1gあたり有機溶媒50mLの割合でリン酸エステル化合物を溶解させた後、これにリン酸エステル化合物1gあたり50mLの水を添加し、混合液とする。なお、このときの添加する水の量が多すぎても少なすぎても、その後の分析に問題が生じる。
 ついで、混合液を分液漏斗などで激しく攪拌した後、静置する。そして、有機層と水層(水溶液)の2層に分かれた後、水溶液を回収し、水溶液についてpHおよびリン酸濃度を測定する。
 有機溶媒としては、リン酸エステル化合物の溶解性の観点から、クロロホルム、ジエチルエーテル、ヘキサンなどが挙げられる。
 水溶液のpHは、pH試験機により求めることができる。
 水溶液の25℃におけるpHは6.5以上7.5以下である。水溶液のpHが6.5未満または7.5超であると、モールド表面を溶解させるため、モールド表面が侵食されやすくなる。
 水溶液のpHは、6.8超7.3以下が好ましく、7.0以上7.2未満がより好ましい。
 一方、水溶液中のリン酸濃度は、滴定法やイオンクロマトグラフィー法による測定により求めることができる。
 ところで、硬化性組成物中のリン酸含有量は、前記硬化性組成物100質量%中におけるリン酸エステル化合物の含有量にも依存する。従って、水溶液中のリン酸濃度と硬化性組成物中のリン酸エステル化合物の含有量を用いて、硬化性組成物中のリン酸含有量を規定する。
 すなわち、硬化性組成物中のリン酸含有量は、質量百万分率で示される前記水溶液中のリン酸濃度と、質量百分率で示される硬化性組成物中のリン酸エステル化合物の含有量との積(リン酸濃度×リン酸エステル化合物の含有量)で表され、この値が50以下であることが好ましく、30以下であることが好ましい。この値が50を超えると、リン酸エステル化合物のリン酸によってモールド表面が溶解され、モールド表面が侵食されやすくなる。なお、この値の下限値については特に制限されない。
 なお、リン酸エステル化合物がモールドを溶解させるかどうかは、リン酸エステル化合物にモールドを浸漬させることで判断できる。
 具体的には、リン酸エステル化合物にモールドを浸漬させて、浸漬前後におけるモールドの質量変化を調べる、浸漬後のモールド表面の断面観察を行う、浸漬後のモールド表面の組成分析を行う、浸漬後のリン酸エステル化合物の組成分析を行うなどして、リン酸エステル化合物がモールドを溶解したかどうか判断する。
 リン酸エステル化合物が液体の場合には、そのままモールドを浸漬させればよい。一方、リン酸エステル化合物が固体の場合には、リン酸エステル化合物を加熱したり減圧したりして液体とするか、モールドに影響がない溶媒にリン酸エステル化合物を溶解させて溶液として、これらにモールドを浸漬させればよい。特に、溶媒にリン酸エステル化合物を溶解させる場合には、リン酸エステル化合物の濃度はできるだけ高い方が、モールドに対するリン酸エステル化合物の溶解力を素早く判断できる。
 また、モールドやリン酸エステル化合物に悪影響を与えない範囲で加温すれば、さらに素早く判断できる。
 浸漬時間の目安としては、50℃で浸漬させた場合22時間経過すれば十分である。
 このようなリン酸エステル化合物としては、抽出試験により得られた水溶液のpH、および水溶液のリン酸濃度から求められる硬化性組成物中のリン酸含有量が上記範囲内を満たし、硬化性組成物中で溶解するものであれば特に限定されないが、離型性の持続に優れる点で、下記式(1)で表わされるポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物(以下、「化合物(1)」という。)が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 式(1)中、Rはアルキル基である。Rとしては、炭素数3~18のアルキル基が好ましい。具体的には、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基など直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、さらにシクロヘキシル基などの環状アルキル基が挙げられ、なかでもオクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基が好ましい。
 また、式(1)中、mはエチレンオキサイドの平均付加モル数を示し、1~20の整数であり、1~10の整数が好ましい。一方、nは1~3の整数である。
 化合物(1)は、モノエステル体、ジエステル体、トリエステル体の何れであってもよい。また、ジエステル体またはトリエステル体である場合、1分子中の複数のポリオキシエチレンアルキル残基は、それぞれ異なっていてもよい。また、化合物(1)は単一物であってもよく、二種類以上の混合物であってもよい。
 リン酸エステル化合物として化合物(1)を用いれば、硬化性組成物の硬化物である硬化樹脂層とモールドとの離型性がより向上し、微細凹凸構造の成形に好適である。また、モールドから離型する際の負荷が極めて低くなるので、欠陥の少ない微細凹凸構造が転写された透明フィルムを連続的に生産できる。
 化合物(1)のうち、上述したリン酸濃度とpHの条件を満足するリン酸エステル化合物は、市販品として入手できる。例えば、日光ケミカルズ株式会社製の「TLP-4」が好適である。
 なお、例えば市販品の状態では上述したリン酸濃度とpHの条件を満足しないリン酸エステル化合物(他のリン酸エステル化合物)であっても、条件を満足するように含有するリン酸を除去したり、水酸化ナトリウムなどの中和剤で中和したりすれば、使用することもできる。
 他のリン酸エステル化合物としては、例えば城北化学工業株式会社製の「JP-506H」;アクセル社製の「モールドウイズINT-1856」、「モールドウイズINT-AM121」)、「モールドウイズINT-EQ6;日光ケミカルズ株式会社製の「TDP-10」、「TDP-8」、「TDP-6」、「TDP-2」、「DDP-10」、「DDP-8」、「DDP-6」、「DDP-4」、「DDP-2」、「TCP-5」、「DLP-10」;川研ファインケミカル(株)製の「LTP2」、;クローダジャパン(株)製の「N3A」、「N10A」などが挙げられる。
 リン酸エステル化合物の含有量は、後述する重合性化合物100質量部に対して0.01~3質量部が好ましく、0.05~1質量部がより好ましく、0.1~0.8質量部がさらに好ましい。リン酸エステル化合物の含有量が0.01質量部以上であれば、モールドからの離型性低下によるモールドへの樹脂残り(離型不良)を防止できる。一方、リン酸エステル化合物の含有量が3質量部以下であれば、硬化樹脂層本来の性能の維持しつつ、基材フィルムとの密着性低下によるモールドへの樹脂残り(離型不良)を防止できる。加えて、透明フィルムの使用時における基材フィルムと硬化樹脂層との剥離を防止できると共に、斑や外観不良の発生を抑制できる。
リン酸エステル化合物1g当たり50mLの水で抽出した水溶液における、リン酸の濃度は、0~5000ppmが好ましく、0~500ppmがより好ましい。さらに好ましくは100ppm以下である。
<重合性化合物>
 重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および/またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー、後述する疎水性材料で挙げるモノマー、親水性材料で挙げるモノマー等が挙げられる。
 ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。
 単官能モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、i-ブチル(メタ)アクリレート、s-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、2-エトキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート誘導体;(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル;スチレン、α-メチルスチレン等のスチレン誘導体;(メタ)アクリルアミド、N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド誘導体等が挙げられる。
 これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
 多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5-ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2-ビス(4-(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-(3-(メタ)アクリロキシ-2-ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、1,2-ビス(3-(メタ)アクリロキシ-2-ヒドロキシプロポキシ)エタン、1,4-ビス(3-(メタ)アクリロキシ-2-ヒドロキシプロポキシ)ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート等の三官能モノマー;コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート等の四官能以上のモノマー;二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。 これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
 カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。
 オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。
硬化性組成物における重合性化合物の含有量は、硬化性組成物100質量部に対して80~99.9質量部が好ましく、90~99質量部がより好ましい。
<重合開始剤>
 光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p-メトキシベンゾフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、α,α-ジメトキシ-α-フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4'-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
 これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、t-ブチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2,4-ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン等のチオキサントン;ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、ベンジルジメチルケタール、1-ヒドロキシシクロヘキシル-フェニルケトン、2-メチル-2-モルホリノ(4-チオメチルフェニル)プロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタノン等のアセトフェノン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド;メチルベンゾイルホルメート、1,7-ビスアクリジニルヘプタン、9-フェニルアクリジン等が挙げられる。
 これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 重合開始剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、0.1~10質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が0.1質量部未満であると、重合が進行しにくい。一方、重合開始剤の含有量が10質量部を超えると、硬化樹脂層が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。
<その他の成分>
 本発明の硬化性組成物は、必要に応じて、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物、紫外線吸収剤および/または光安定剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤、微粒子、耐衝撃性改質剤等の公知の添加剤、少量の溶媒を含んでいてもよい。
(非反応性のポリマー)
 非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
(活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物)
 活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。
 アルコキシシラン化合物としては、下記式(2)で表される化合物(以下、「化合物(2)」という。)が挙げられる。
 RxSi(OR)y  ・・・(2)
 ただし、式(2)中、RおよびRはそれぞれ炭素数1~10のアルキル基を表し、xおよびyはx+y=4の関係を満たす整数である。
 化合物(2)としては、具体的に、テトラメトキシシラン、テトラ-i-プロポキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、テトラ-sec-ブトキシシラン、テトラ-t-ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。
 アルキルシリケート化合物としては、下記式(3)で表される化合物(以下、「化合物(3)」という。)が挙げられる。
 RO[Si(OR)(OR)O]zR  ・・・(3)
 ただし、式(3)中、R~Rはそれぞれ炭素数1~5のアルキル基を表し、zは3~20の整数を表す。
 化合物(3)としては、具体的に、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、n-プロピルシリケート、n-ブチルシリケート、n-ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。
(紫外線吸収剤および/または光安定剤)
 紫外線吸収剤および/または光安定剤は、黄帯色の抑制やヘイズの上昇抑制等の耐候性を付与する役割を果たす。
 紫外線吸収剤および/または光安定剤としては、例えばベンゾフェノン系の紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤、ベンゾエート系の紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系の光安定剤等が挙げられる。市販品としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製の「チヌビン400」、「チヌビン479」、「チヌビン109」;共同薬品株式会社製の「Viosorb110」等の紫外線吸収剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製の「チヌビン152」、「チヌビン292」等の光安定剤が挙げられる。
 紫外線吸収剤および/または光安定剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 紫外線吸収剤および/または光安定剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して0.01~5質量部が好ましく、0.01~3質量部がより好ましく、0.01~1質量部がさらに好ましく、0.01~0.5質量部が特に好ましい。これらの含有量が0.01質量部以上であれば、黄帯色の抑制やヘイズの上昇抑制などの耐候性の向上効果が得られやすくなる。一方、これらの含有量が5質量部以下であれば、硬化性組成物が十分に硬化するので、硬化樹脂層の耐擦傷性の低下を抑制しやすい。また、耐候性試験での指紋拭き取り性の低下も抑制できる。
(疎水性材料)
 硬化樹脂層の微細凹凸構造の表面の水接触角を90°以上にするためには、疎水性の材料を形成し得る硬化性組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。ここで、疎水性材料とは、硬化樹脂層の微細凹凸構造の表面の水接触角を90°以上にするものを意味する。
フッ素含有化合物:
 フッ素含有化合物としては、下記式(4)で表されるフルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。
 -(CF)q-X   ・・・(4)
 ただし、式(4)中、Xはフッ素原子または水素原子を表し、qは1以上の整数を表し、1~20の整数が好ましく、3~10の整数がより好ましく、4~8の整数が特に好ましい。
 フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。
 フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。
 フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレート、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、フルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。
 フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、フルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。
 フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレートが好ましく、下記式(5)で表される化合物が特に好ましい。
 CH=C(R)C(O)O-(CH)p-(CF)q-X  ・・・(5)
 ただし、式(5)中、Rは水素原子またはメチル基を表し、Xは水素原子またはフッ素原子を表す。pは1~6の整数を表し、1~3の整数が好ましく、1または2がより好ましく、qは1~20の整数を表し、3~10の整数が好ましく、4~8の整数がより好ましい。
 フッ素含有シランカップリング剤としては、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好ましく、下記式(6)で表される化合物が特に好ましい。
 (R)aR10bSiYc  ・・・(6)
 ただし、式(6)中、Rはエーテル結合またはエステル結合を1個以上含んでいてもよい炭素数1~20のフッ素置換アルキル基を表す。Rとしては、3,3,3-トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチル基、3-トリフルオロメトキシプロピル基、3-トリフルオロアセトキシプロピル基等が挙げられる。
 また、R10は、炭素数1~10のアルキル基を表す。R10としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
 Yは、水酸基または加水分解性基を表す。
 加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、R11C(O)O(ただし、R11は、水素原子または炭素数1~10のアルキル基を表す。)等が挙げられる。
 アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、i-プロピルオキシ基、ブトキシ基、i-ブトキシ基、t-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基
ラウリルオキシ基等が挙げられる。
 ハロゲン原子としては、Cl、Br、I等が挙げられる。
 R11C(O)Oとしては、CHC(O)O、CC(O)O等が挙げられる。
 a、b、cは、a+b+c=4であり、かつa≧1、c≧1を満たす整数を表し、a=1、b=0、c=3が好ましい。
 フッ素含有シランカップリング剤としては、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル-3,3,3-トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ-1,1,2,2-テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
 フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。
 フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤としては、炭素数2~10のフルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3-[オメガ-フルオロアルキル(C6~C11)オキシ]-1-アルキル(C3~C4)スルホン酸ナトリウム、3-[オメガ-フルオロアルカノイル(C6~C8)-N-エチルアミノ]-1-プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキル(C11~C20)カルボン酸またはその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸(C7~C13)またはその金属塩、パーフルオロアルキル(C4~C12)スルホン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、N-プロピル-N-(2-ヒドロキシエチル)パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキル(C6~C10)スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル(C6~C10)-N-エチルスルホニルグリシン塩、モノパーフルオロアルキル(C6~C16)エチルリン酸エステル等が挙げられる。
 ここで、「C」の後の整数は、アルキル基の炭素数を意味する。
 フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有脂肪族一級、二級または三級アミン酸、パーフルオロアルキル(C6~C10)スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族4級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。
 フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体、フルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。
 フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体が好ましい。
 ポリ(オキシアルキレン)基としては、下記式(7)で表される基が好ましい。
 -(OR12)r-  ・・・(7)
 ただし、式(7)中、R12は炭素数2~4のアルキレン基を表し、rは2以上の整数を表す。R12としては、-CHCH-、-CHCHCH-、-CH(CH)CH-、-CH(CH)CH(CH)-等が挙げられる。
 ポリ(オキシアルキレン)基は、同一のオキシアルキレン単位(OR12)からなるものであってもよく、2種以上のオキシアルキレン単位(OR12)からなるものであってもよい。2種以上のオキシアルキレン単位(OR12)の配列は、ブロックであってもよく、ランダムであってもよい。
シリコーン系化合物:
 シリコーン系化合物としては、(メタ)アクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。
 (メタ)アクリル酸変性シリコーンとしては、シリコーン(ジ)(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(親水性材料)
 硬化樹脂層の微細凹凸構造の表面の水接触角を25°以下にするためには、親水性の材料を形成し得る硬化性組成物として、少なくとも親水性モノマーを含む組成物を用いることが好ましい。また、耐擦傷性や耐水性付与の観点からは、架橋可能な多官能モノマーを含むものがより好ましい。なお、親水性モノマーと架橋可能な多官能モノマーは、同一(すなわち、親水性多官能モノマー)であってもよい。さらに、硬化性組成物は、その他のモノマーを含んでいてもよい。ここで、親水性材料とは、硬化樹脂層の微細凹凸構造の表面の水接触角を25°以下にするものを意味する。
 親水性の材料を形成し得る硬化性組成物としては、下記の重合性化合物を含む組成物を用いることがより好ましい。
 4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの10~50質量%、
 2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの30~80質量%、
 単官能モノマーの0~20質量%の合計100質量%からなる重合性化合物。
 4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類(ダイセル・サイテック株式会社製の「EBECRYL220」、「EBECRYL1290」、「EBECRYL1290K」、「EBECRYL5129」、「EBECRYL8210」、「EBECRYL8301」、「KRM8200」)、ポリエーテルアクリレート類(ダイセル・サイテック株式会社製の「EBECRYL81」)、変性エポキシアクリレート類(ダイセル・サイテック株式会社製の「EBECRYL3416」)、ポリエステルアクリレート類(ダイセル・サイテック株式会社製の「EBECRYL450」、「EBECRYL657」、「EBECRYL800」、「EBECRYL810」、「EBECRYL811」、「EBECRYL812」、「EBECRYL1830」、「EBECRYL845」、「EBECRYL846」、「EBECRYL1870」)等が挙げられる。
 これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、5官能以上の多官能(メタ)アクリレートがより好ましい。
 4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの含有量は、重合性化合物100質量%中、10~50質量%が好ましく、耐水性、耐薬品性の点から、20~50質量%がより好ましく、30~50質量%が特に好ましい。一方、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの含有量が10質量%以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの含有量が50質量%以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。
 2官能以上の親水性(メタ)アクリレートとしては、東亞合成株式会社製の「アロニックスM-240」、「アロニックスM260」;新中村化学工業株式会社製の「NKエステルAT-20E」、「NKエステルATM-35E」等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。
 これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、6~40が好ましく、9~30がより好ましく、12~20が特に好ましい。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が6以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が40以下であれば、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとの相溶性が良好となり、硬化性組成物が分離しにくい。
 2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの含有量は、重合性化合物100質量%中、30~80質量%が好ましく、40~70質量%がより好ましい。2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの含有量が30質量%以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。一方、2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの含有量が80質量%以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。
 単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。
 親水性単官能モノマーとしては、新中村化学工業株式会社製の「M-20G」、「M-90G」、「M-230G」等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能(メタ)アクリレート、単官能アクリルアミド類、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。
 また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン等の粘度調整剤、基材フィルムへの密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。
 単官能モノマーの含有量は、重合性化合物100質量%中、0~20質量%が好ましく、5~15質量%がより好ましい。単官能モノマーを用いることにより、基材フィルムと硬化樹脂層との密着性が向上する。単官能モノマーの含有量が20質量%以下であれば、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートまたは2官能以上の親水性(メタ)アクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。
 単官能モノマーは、1種または2種以上を(共)重合した低重合度の重合体として硬化性組成物に、重合性化合物100質量部中、0~35質量部配合してもよい。低重合度の重合体としては、新中村化学工業株式会社製の「M-230G」等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能(メタ)アクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの40/60共重合オリゴマー(例えばMRCユニテック株式会社製の「MGポリマー」)等が挙げられる。
<作用効果>
 以上説明した本発明の硬化性組成物にあっては、内部離型剤として特定のリン酸エステル化合物を含むため、モールドと硬化樹脂層との離型性を長時間にわたって維持できる。また、この特定のリン酸エステル化合物は、モールド表面を溶解しにくい。よって、本発明の硬化性組成物であれば、モールドの侵食を抑制できる。
[透明フィルムの製造方法]
 本発明の微細凹凸構造を表面に有する透明フィルム(以下、単に「透明フィルム」という。)の製造方法は、表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと基材フィルムとの間に、上述した本発明の硬化性組成物を挟持させる工程(挟持工程)と、硬化性組成物に活性エネルギー線を照射し、硬化性組成物を硬化させて、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された透明フィルムを得る工程(転写工程))と、得られた透明フィルムとモールドとを分離する工程(分離工程)とを有する。
<基材フィルム>
 基材フィルムとしては、フィルム越しに活性エネルギー線照射を行うため、透明性の高いフィルムが好ましく、例えばアクリルフィルムやPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、ポリカーボネートフィルム、TAC(トリアセチルセルロース)フィルムなどを用いることができる。
<モールド>
 モールドの材料としては、金属(表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。)、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられる。
 本発明に用いるモールドは、例えば下記に示す方法(I)、(II)によって製造できる。中でも、大面積化が可能であり、かつ作製が簡便である点から、方法(I)が特に好ましい。
(I)アルミニウム基材の表面に、複数の細孔(凹部)を有する陽極酸化アルミナを形成する方法。
(II)基材の表面にリソグラフィ法によって微細凹凸構造を形成する方法。
 方法(I)としては、下記の工程(a)~(e)を有するのが好ましい。
(a)アルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。
(b)酸化皮膜を除去し、アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
(c)アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
(d)細孔の径を拡大させる工程。
(e)工程(c)と工程(d)を繰り返し行い、複数の細孔を有する陽極酸化アルミナがアルミニウム基材の表面に形成されたモールドを得る工程。
工程(a):
 図1に示すように、アルミニウム基材10を陽極酸化すると、細孔12を有する酸化皮膜14が形成される。
 アルミニウム基材の形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。
 また、アルミニウム基材は、表面状態を平滑化にするために、機械研磨、羽布研磨、化学的研磨、電解研磨処理(エッチング処理)などで研磨されることが好ましい。また、アルミニウム基材は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、陽極酸化の前にあらかじめ脱脂処理されることが好ましい。
 アルミニウムの純度は、99%以上が好ましく、99.5%以上がより好ましく、99.8%以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
 電解液としては、硫酸、シュウ酸、リン酸等が挙げられる。
シュウ酸を電解液として用いる場合:
 シュウ酸の濃度は、0.7M以下が好ましい。シュウ酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
 化成電圧が30~60Vの時、平均間隔が100nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
 電解液の温度は、60℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましい。電解液の温度が60℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
硫酸を電解液として用いる場合:
 硫酸の濃度は0.7M以下が好ましい。硫酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
 化成電圧が25~30Vの時、平均間隔が63nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
 電解液の温度は、30℃以下が好ましく、20℃以下がより好ましい。電解液の温度が30℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
工程(b):
 図1に示すように、酸化皮膜14を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点16にすることで細孔の規則性を向上することができる。なお、それほど高い規則性が必要とされない場合、酸化被膜14の少なくとも一部を除去しても良く、工程(a)の後に、後述する工程(d)を行っても構わない。
 酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸/リン酸混合液等が挙げられる。
工程(c):
 図1に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム基材10を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔12を有する酸化皮膜14が形成される。
 陽極酸化は、工程(a)と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
工程(d):
 図1に示すように、細孔12の径を拡大させる処理(以下、細孔径拡大処理と記す。)を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、5質量%程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
 細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
工程(e):
 図1に示すように、工程(c)の陽極酸化と、工程(d)の細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔12を有する酸化皮膜14が形成され、アルミニウム基材10の表面に陽極酸化アルミナ(アルミニウムの多孔質の酸化皮膜(アルマイト))を有するモールド本体18が得られる。
 繰り返し回数は、合計で3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。繰り返し回数が2回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて形成された微細凹凸構造(モスアイ構造)の反射率低減効果は不十分である。
 細孔12の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
 細孔12間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下である。細孔12間の平均間隔は、20nm以上が好ましい。
 細孔12間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔12間の間隔(細孔12の中心から隣接する細孔12の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。
 細孔12の深さは、平均間隔が100nmの場合は、80~500nmが好ましく、120~400nmがより好ましく、150~300nmが特に好ましい。
 細孔12の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率30000倍で観察したときにおける、細孔12の最底部と、細孔12間に存在する凸部の最頂部との間の距離を測定した値である。
 細孔12のアスペクト比(細孔の深さ/細孔間の平均間隔)は、0.8~5.0が好ましく、1.2~4.0がより好ましく、1.5~3.0が特に好ましい。
その他の工程:
 本発明においては、工程(e)にて得られたモールド本体18をそのままモールドとしてもよいが、モールド本体18の微細凹凸構造が形成された側の表面を離型剤(外部離型剤)で処理してもよい。
 離型剤としては、アルミニウム基材の陽極酸化アルミナと化学結合を形成し得る官能基を有するものが好ましい。具体的には、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物等が挙げられ、離型性に優れる点、モールド本体との密着性に優れる点から、シラノール基あるいは加水分解性シリル基を有することが好ましく、その中でも加水分解性シリル基を有するフッ素化合物が特に好ましい。
 加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の市販品としては、フルオロアルキルシラン、信越化学工業株式会社製の「KBM-7803」;ダイキン工業株式会社製の「オプツール」シリーズ;住友スリーエム株式会社製の「ノベックEGC-1720」等が挙げられる。
 離型剤による処理方法としては、下記の方法1、方法2が挙げられ、モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面をムラなく離型剤で処理できる点から、方法1が特に好ましい。
方法1:離型剤の希釈溶液にモールド本体を浸漬する方法。
方法2:離型剤またはその希釈溶液を、モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面に塗布する方法。
 方法1としては、下記の工程(f)~(j)を有する方法が好ましい。
(f)モールド本体を水洗する工程。
(g)モールド本体にエアーを吹き付け、モールド本体の表面に付着した水滴を除去する工程。
(h)加水分解性シリル基を有するフッ素化合物を溶媒で希釈した希釈溶液に、モールド本体を浸漬する工程。
(i)浸漬したモールド本体をゆっくりと溶液から引き上げる工程。
(j)モールド本体を乾燥させる工程。
工程(f):
 モールド本体には、多孔質構造を形成する際に用いた薬剤(細孔径拡大処理に用いたリン酸水溶液等)、不純物(埃等)等が付着しているため、水洗によってこれを除去する。
工程(g):
 モールド本体にエアーを吹き付け、目に見える水滴はほぼ除去する。
工程(h):
 希釈用の溶媒としては、フッ素系溶媒、アルコール系溶媒等の公知の溶媒を用いればよい。中でも、適度な揮発性、濡れ性等を有するため、外部離型剤溶液を均一に塗布できる点で、フッ素系溶媒が好ましい。フッ素系溶媒としては、ハイドロフルオロポリエーテル、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ-1,3-ジメチルシクロヘキサン、ジクロロペンタフルオロプロパン等が挙げられる。
 加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の濃度は、希釈溶液(100質量%)中、0.01~0.2質量%が好ましい。
 浸漬時間は、1~30分が好ましい。
 浸漬温度は、0~50℃が好ましい。
工程(i):
 浸漬したモールド本体を溶液から引き上げる際には、電動引き上げ機等を用いて、一定速度で引き上げ、引き上げ時の揺動を抑えることが好ましい。これにより塗布ムラを少なくできる。
 引き上げ速度は、1~10mm/秒が好ましい。
工程(j):
 モールド本体を乾燥させる工程では、モールド本体を風乾させてもよく、乾燥機等で強制的に加熱乾燥させてもよい。
 乾燥温度は、30~150℃が好ましい。
 乾燥時間は、5~300分が好ましい。
 なお、モールド本体の表面が離型剤で処理されたことは、モールド本体の表面の水接触角を測定することによって確認できる。離型剤で処理されたモールド本体の表面の水接触角は、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。水接触角が 60°以上であれば、モールド本体の表面が離型剤で十分に処理され、離型性が良好となる。
<製造装置>
 透明フィルムは、例えば図2に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
 表面に微細凹凸構造(図示略)を有するロール状モールド20と、ロール状モールド20の表面に沿って移動する帯状の基材フィルム42との間に、タンク22から硬化性組成物38を供給する。
 ロール状モールド20と、空気圧シリンダ24によってニップ圧が調整されたニップロール26との間で、基材フィルム42および硬化性組成物38をニップし、硬化性組成物38を基材フィルム42とロール状モールド20との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド20の微細凹凸構造の凹部内に充填する。
 ロール状モールド20の下方に設置された活性エネルギー線照射装置28から、基材フィルム42を通して硬化性組成物38に活性エネルギー線を照射し、硬化性組成物38を硬化させることによって、ロール状モールド20の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層44を形成する。
 剥離ロール30により、表面に硬化樹脂層44が形成された基材フィルム42をロール状モールド20から剥離することによって、図3に示すような透明フィルム40を得る。
 活性エネルギー線照射装置28としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、100~10000mJ/cmが好ましい。
<透明フィルム>
 図3は、微細凹凸構造を表面に有する透明フィルム40の一例を示す断面図である。
 基材フィルム42は、光透過性フィルムである。基材フィルムの材料としては、アクリルフィルム、PETフィルム、ポリカーボネートフィルム、TACフィルムなどが挙げられる。
 硬化樹脂層44は、本発明の硬化性組成物の硬化物からなる膜であり、表面に微細凹凸構造を有する。
 陽極酸化アルミナのモールドを用いた場合の透明フィルム40の表面の微細凹凸構造は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、硬化性組成物の硬化物からなる複数の凸部46を有する。
 微細凹凸構造としては、略円錐形状、または角錐形状等の突起(凸部)が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造が好ましい。突起間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
 凸部間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下である。陽極酸化アルミナのモールドを用いて凸部を形成した場合、凸部間の平均間隔は100から200nm程度となることから、250nm以下が特に好ましい。
 また、凸部間の平均間隔は、凸部の形成のしやすさの点から、20nm以上が好ましい。
 凸部間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部間の間隔(凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。
 凸部の高さは、平均間隔が100nmの場合は、80~500nmが好ましく、120~400nmがより好ましく、150~300nmが特に好ましい。凸部の高さが80nm以上であれば、反射率が十分低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部の高さが500nm以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
 凸部の高さは、電子顕微鏡によって倍率30000倍で観察したときにおける、凸部の最頂部と、凸部間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した値である。
 凸部のアスペクト比(凸部の高さ/凸部間の平均間隔)は、0.8~5.0が好ましく、1.2~4.0がより好ましく、1.5~3.0が特に好ましい。凸部のアスペクト比が0.8以上であれば、反射率が十分に低くなる。凸部のアスペクト比が5.0以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
 凸部の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。
 硬化樹脂層44の屈折率と基材フィルム42の屈折率との差は、0.2以下が好ましく、0.1以下がより好ましく、0.05以下が特に好ましい。屈折率差が0.2以下であれば、硬化樹脂層44と基材フィルム42との界面における反射が抑えられる。
 表面に微細凹凸構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。
 硬化樹脂層44の材料が疎水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、90°以上が好ましく、110°以上がより好ましく、120°以上が特に好ましい。水接触角が90°以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。
 硬化樹脂層44の材料が親水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、25°以下が好ましく、23°以下がより好ましく、21°以下が特に好ましい。水接触角が25°以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。前記水接触角は、硬化樹脂層44の吸水による微細凹凸構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、3°以上が好ましい。
<透明フィルムの用途>
 透明フィルム40の用途としては、反射防止物品、防曇性物品、防汚性物品、撥水性物品、より具体的にはディスプレー用反射防止、自動車メーターカバー、自動車ミラー、自動車窓、有機または無機エレクトロルミネッセンスの光取り出し効率向上部材、太陽電池部材等が挙げられる。
<作用効果>
 以上説明した本発明の透明フィルムの製造方法にあっては、本発明の硬化性組成物を用いているため、モールドと透明フィルムとの離型性に優れる。よって、透明フィルムを連続的に製造できる。
 また、本発明の透明フィルムの製造にあっては、硬化性組成物に含まれるリン酸エステル化合物によってモールド表面が溶解しにくい。よって、モールド表面が侵食されにくく、反射防止性などの性能に優れた透明フィルムを製造できる。
<他の実施形態>
 本発明の透明フィルムの製造方法は、上述した方法に限定されない。上述した方法では、図2に示す製造装置を用い、基材フィルム42に活性エネルギー線を照射して透明フィルム40を製造しているが、例えば支持フィルムに支持された基材フィルムを用い、以下のようにして透明フィルムを製造してもよい。
 すなわち、図4に示すように、支持フィルム48によって裏面側から支持された基材フィルム42の表面と、ロール状モールド20との間に、硬化性組成物38を供給し、支持フィルム48を通して硬化性組成物38に活性エネルギー線を照射して、基材フィルム42の表面に微細凹凸構造を有する硬化樹脂層44が形成された透明フィルム40を製造する。このようにして得られた透明フィルム40は支持フィルム48で支持されており、必要に応じて支持フィルム48を透明フィルム40から剥離する。
 支持フィルム48としては、剥離可能なフィルムであれば特に限定されないが、例えばPETフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
 支持フィルム48は、単層フィルムであってもよいし、多層フィルムであってもよい。
 以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(リン酸濃度およびpHの測定)
 内部離型剤(リン酸エステル化合物)1gをクロロホルム50mLに溶解させ、これに水50mLを加えて、混合液を分液漏斗にて激しく攪拌した(水抽出試験)。ついで、静置した後、有機層と水層(水溶液)とに分離し、イオンクロマトグラフ(日本ダイオネクス株式会社製、「DX-500」)を用い、溶離液:Na2CO(2.7mM)/NaHCO(0.3mM)、カラム:AC12A、ポンプ:IP20 ISOCRATICを用い、ポンプ流量:1.5mL/分の条件で、水溶液中のリン酸イオン濃度を測定し、リン酸濃度を求めた。
 また、pH試験機(株式会社堀場製作所製、「カスタニーLAB」)を用い、25℃の条件にて水溶液のpHを測定した。
(電子顕微鏡観察)
 陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子株式会社製、「JSM-7400F」)を用いて、加速電圧3.00kVの条件にて断面を観察し、細孔の間隔、細孔の深さを測定した。
(モールド溶解性の評価)
 内部離型剤(リン酸エステル化合物)にモールドを50℃の条件で22時間浸漬させて浸漬試験を行った。浸漬試験後、モールドを取り出し、アセトン、クロロホルムを用いて洗浄した。浸漬前と洗浄後のモールドの質量を測定し、減少率を下記式より求めた。また、洗浄後のモールドについて、走査型電子顕微鏡観察を行った。
 減少率(%)={(浸漬前のモールドの質量-洗浄後のモールドの質量)/浸漬前のモールドの質量}×100
(反射率の測定)
 微細凹凸構造が形成されていない側の面を黒く塗った透明フィルムについて、分光光度計(株式会社日立製作所製、「U-4100」)を用いて、入射角5°の条件で波長380nm~780nmの間の相対反射率を測定し、視感度反射率である550nmの反射率を評価した。
(モールドの作製)
 純度99.9%のアルミニウムインゴットに鍛造処理を施して、直径:200mm、長さ350mmに切断した圧延痕のない平均結晶粒径:40μmの円筒状アルミニウム原型に、羽布研磨処理を施した後、これを過塩素酸/エタノール混合溶液中(体積比:1/4)で電解研磨し、鏡面化したものをアルミニウム基材として用いた。
工程(a):
 前記アルミニウム原型について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で30分間陽極酸化を行った。
工程(b):
 厚さ3μmの酸化皮膜が形成されたアルミニウム原型を、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に2時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
工程(c):
 前記アルミニウム原型について、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16℃の条件で38秒間陽極酸化を行った。
工程(d):
 酸化皮膜が形成されたアルミニウム原型を、30℃の5質量%リン酸水溶液に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
工程(e):
 前記工程(c)および工程(d)を合計で5回繰り返し、平均間隔:100nm、深さ:200nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたロール状のモールド本体を得た。
工程(f):
 シャワーを用いてモールド本体の表面のリン酸水溶液を軽く洗い流した後、モールド本体を流水中に10分間浸漬した。
工程(g):
 モールド本体にエアーガンからエアーを吹き付け、モールド本体の表面に付着した水滴を除去した。
 得られたモールドの走査型電子顕微鏡像を図8に示す。
 なお、モールド溶解性の評価には、50mm×50mm×厚さ0.3mmのアルミニウム板(純度99.99%)をアルミニウム基材として使用し、上記工程(c)まで実施したもの(図5)を用いた。
[実施例1]
<硬化性組成物の調製>
 重合性化合物としてポリエチレングリコールジアクリレート(東亜合成株式会社製、「アロニックスM260」)20質量部と、トリメチロールエタン/アクリル酸/無水コハク酸の縮合反応物(大阪有機化学工業株式会社製、「TAS」)70質量部と、ヒドロキシエチルアクリレート(大阪有機化学工業株式会社製)3質量部と、メチルアクリレート(三菱化学株式会社製)7質量部とを混合して混合液を調製した。
 この混合液に、重合開始剤として1-ヒドロキシシクロヘキシル-フェニルケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、「IRGACURE184」)1.0質量部と、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、IRGACURE819)0.1質量部と、内部離型剤(リン酸エステル化合物)としてポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル(日光ケミカルズ株式会社製、「NIKKOL TLP-4」)0.5質量部と、紫外線吸収剤(共同薬品株式会社製、「Viosorb110」)0.2質量部とを添加し、硬化性組成物を調製した。
 硬化性組成物の調製に用いたリン酸エステル化合物について、水抽出試験により得られた水溶液のリン酸濃度およびpHの測定を測定した。結果を表1に示す。
 また、リン酸エステル化合物を用いてモールドの浸漬試験を行い、モールド溶解性の評価を行った。モールドの質量の減少率を表1に示す。さらに、浸漬試験後のモールドの走査型電子顕微鏡写真像を図6に示す。
<透明フィルムの製造>
 図4に示す製造装置を用い、以下のようにして透明フィルムを製造した。
 ロール状モールド20としては、先に作製したモールドを用いた。
 基材フィルム42としては、アクリルフィルム(三菱レイヨン株式会社製、「アクリプレンHBS010」、厚さ:100μm)を用い、その裏面に、支持フィルム48として粘着剤付きPETフィルム(株式会社サンエー化研製、「SAT-116T」、厚さ:38μm)を貼り合わせた。
 ロール状モールド20と、ロール状モールド20の表面に沿って移動する、帯状の支持フィルム48によって裏面側から支持された帯状の基材フィルム42との間に、タンク22から硬化性組成物38を供給した。
 ついで、ロール状モールド20の下方に設置された活性エネルギー線照射装置28より、支持フィルム48側から基材フィルム42を通して硬化性組成物38に、積算光量800mJ/cmの紫外線を照射し、硬化性組成物38を硬化させることによって、ロール状モールド20の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層44を形成した。
 剥離ロール30により、表面に硬化樹脂層44が形成された基材フィルム42を支持フィルム48と共にロール状モールド20から剥離することによって、支持フィルム48で支持された透明フィルム40を得た。
[比較例1]
 リン酸エステル化合物として、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル(日光ケミカルズ株式会社製、「NIKKOL TLP-4」)0.5質量部に代えて、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル(アクセル社製、「モールドウイズINT-1856」)0.5質量部を用いた以外は、実施例1と同様にして硬化性組成物を調製し、透明フィルムを製造した。結果を表1に示す。また、浸漬試験後のモールドの走査型電子顕微鏡写真像を図7に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 表1から明らかなように、実施例1の場合、浸漬試験によるモールドの質量の減少率は0%であり、質量は変化しなかった。また、図5および6から明らかなように、浸漬試験前(図5)と比較しても、浸漬試験後(図6)のモールドの細孔の変化は確認されなかった。これらの結果より、実施例1の硬化性組成物に含まれるリン酸エステル化合物は、モールド表面を溶解しにくく、モールド表面の侵食を抑制できることが示された。
 また、実施例1では、600mの透明フィルムを連続的に、かつ安定的に製造できた。得られた透明フィルムの凸部間の平均周期は100nmであり、凸部の高さは200nmであった。また、透明フィルムの視感度反射率は0.1%であり、反射防止性に優れていた。さらに製造後のモールド(図9)は、製造前(図8)と比べて変化は見られなかった。
 一方、比較例1の場合、浸漬試験によるモールドの質量の減少率は0.4%であった。また、図5および7から明らかなように、浸漬試験前(図5)と比較して、浸漬試験後(図7)のモールドは細孔が消失していた。これらの結果より、比較例1の硬化性組成物に含まれるリン酸エステル化合物によってモールド表面が溶解したことが示された。
 また、比較例1で得られた透明フィルムは、製造初期の段階では凸部間の平均周期が100nm、凸部の高さが200nm、視感度反射率が0.1%であった。しかし、600m製造した時点での、モールド(図10)は、製造前と比べて細孔の深さが約40nm低くなっており、製造を続けてもモールドの細孔の深さが低くなり続けることが予想されたため製造を中止した。
 本発明の活性エネルギー線硬化性組成物によれば、モールド表面の侵食を防ぎ、かつモールドと硬化樹脂層との離型性を長時間にわたって維持できる。
 また、本発明によれば、微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムを連続的に製造できる。
 14 酸化皮膜
 20 ロール状モールド
 38 活性エネルギー線硬化性組成物
 40 透明フィルム
 42 基材フィルム
 44 硬化樹脂層

Claims (4)

  1.  1g当たり50mLの水で抽出した水溶液の25℃におけるpHが6.5以上7.5以下であるリン酸エステル化合物を含む活性エネルギー線硬化性組成物であって、
     (質量百万分率で示される前記水溶液中のリン酸濃度)×(質量百分率で示される活性エネルギー線硬化性組成物中のリン酸エステル化合物の含有量)の値が50以下である、活性エネルギー線硬化性組成物。
  2.  前記リン酸エステル化合物が、下記式(1)で表わされるポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物である、請求項1に記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    [式(1)中、Rはアルキル基であり、mは1~20の整数であり、nは1~3の整数である。]
  3.  基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された透明フィルムを製造する方法であって、
     表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと基材フィルムとの間に、請求項1または2に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を挟持させる工程と、
     前記活性エネルギー線硬化性組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させて、前記反転構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された透明フィルムを得る工程と、
     得られた透明フィルムと前記モールドとを分離する工程とを有する、微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法。
  4.  前記モールド表面の微細凹凸構造の反転構造が、陽極酸化アルミナからなる、請求項3に記載の微細凹凸構造を表面に有する透明フィルムの製造方法。
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