WO2012044029A2 - 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체 및 그 제조방법 - Google Patents

성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체 및 그 제조방법 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a laminate for a metal printed circuit board (Metal PCB) consisting of a printed circuit layer, an insulating layer, and a heat-dissipating metal layer, and includes a high equivalent epoxy and low equivalent epoxy epoxy containing an inorganic filler.
  • Metal PCB metal printed circuit board
  • Epoxy resin with excellent moldability and excellent electrical properties such as thermal conductivity and breakdown voltage, such as cracks and peelings, which do not occur during bending and punching processing. It relates to a laminate comprising a.
  • the metal base printed circuit board laminate has a printed circuit layer in which an electronic circuit is formed and a heat emitting electronic element such as an optical semiconductor is mounted, an insulating layer and an insulating layer that conduct heat emitted from the electronic element, and emit heat to the outside air. It consists of a heat dissipation metal layer.
  • Epoxy resin laminates for printed circuit boards include various components such as inorganic fillers, curing agents, curing accelerators, rubber components, and the like, and have been made to improve moldability.
  • the insulating layer is 100 parts by weight of epoxy resin, 25 to 70 parts by weight of epoxy polybutadiene, 300 to 500 parts by weight of inorganic filler, epoxy Thermoplastic elastomers 5 to 5 having a metal base substrate composed of a resin curing agent (JP-A-5-267808), a crystalline polyester copolymer 30 to 90% by weight, a polymer block of an aromatic vinyl compound and a polymer block of an olefin compound.
  • Heat-melting adhesive composition containing 35% by weight, bisphenol A-based epoxy resin 5 ⁇ 35% by weight (Korean Patent Publication No.
  • polyvinyl butyral resin and resolphenol resin essential on the surface of the copper foil and copper foil It consists of an insulating resin layer containing synthetic rubber or elastomer and a metal substrate on the insulating resin layer, mainly composed of an adhesive layer contained as a component and an epoxy resin on the adhesive layer.
  • Attempts have been made to improve adhesion and compatibility with metal substrates and inorganic fillers, including polymer resins of various components, such as techniques related to metal base printed wiring boards (Japanese Patent Laid-Open No. 1993-75225).
  • Japanese Patent Laid-Open No. 1993-75225 Japanese Patent Laid-Open No. 1993-75225
  • a technology for manufacturing a laminate for a metal base printed circuit board having excellent moldability while using various epoxy resins has not been developed.
  • the present invention is formed by mixing with a large amount of inorganic fillers while using an insulator resin including an epoxy resin, thereby providing excellent moldability such as bending property, punching property, adhesive strength, high thermal conductivity, and excellent electrical properties such as breakdown voltage.
  • the present invention relates to a laminate for a printed circuit board.
  • the present invention is a laminate for a metal-based printed circuit board consisting of a printed circuit layer, an insulating layer, a heat-dissipating metal layer, the insulating layer includes a resin composition and an inorganic filler mixed with a high equivalent epoxy and a low equivalent epoxy, bending processing and
  • the problem of the present invention was solved by developing a laminate including an epoxy resin having excellent moldability in which cracking and peeling did not occur during punching.
  • Figure 1 (a). Basic perspective view of a laminate for a metal base printed circuit board according to the present invention.
  • Figure 2 Process drawing of the laminate for metal base printed circuit board according to the present invention.
  • the present invention provides a laminate for a metal base printed circuit board composed of a printed circuit layer, an insulating layer, and a heat dissipating metal layer.
  • the laminated body of this invention provides the epoxy resin composition containing an inorganic filler as a laminated body of the insulating layer containing an inorganic filler.
  • the epoxy equivalent of the epoxy resin in the composition of the laminate can be mixed or blended with a high equivalent epoxy and a low equivalent epoxy in accordance with the application to obtain optimum processability in forming a metal base printed circuit board.
  • the laminate of the present invention is excellent in formability that provides a high thermal conductivity and optimum processability when forming a metal base printed circuit board by curing a composition composed of an epoxy resin, an inorganic filler, a curing agent, a curing accelerator, and a rubber component. It relates to a laminate comprising an epoxy resin.
  • Epoxy resins of the present invention are generally bisphenol A, bisphenol F, cresol novolak, dicyclopentagene, trisphenylmethane, naphthalene, biphenyl type and hydrogenated epoxy resins, if the epoxy resin is limited in structure none. Moreover, epoxy resin can be used by one type or multiple types. In particular, when a hydrogenated epoxy resin is used, an epoxy resin hydrogenated with an epoxy resin such as bisphenol A, bisphenol F type or bisphenyl type is preferable.
  • bisphenol-A epoxy resin can be used.
  • the epoxy resin of the present invention comprises a mixed composition of high equivalent epoxy and low equivalent epoxy.
  • the high equivalent epoxy of the present invention refers to an epoxy resin having an epoxy equivalent of 600 to 4,000 g / eq
  • the low equivalent epoxy of the present invention refers to an epoxy resin having an epoxy equivalent of 100 to 250 g / eq.
  • 600-4,000 g / eq of epoxy equivalent range of the high equivalent epoxy of this invention is the range which shows the cohesive function to the maximum, and 100-250 g / eq of epoxy equivalent range of the low equivalent epoxy of this invention is the maximum coating property
  • the composition mixed in the range of the high equivalent epoxy and the low equivalent epoxy of the present invention exhibits maximum cohesiveness and coating property of the insulating layer containing the inorganic filler, thereby providing the high equivalent epoxy and low of the present invention.
  • Equivalent epoxy compositions can optimize the moldability of metal based printed circuit boards.
  • the resin composition of the high equivalent epoxy and low equivalent epoxy resin of the present invention is 70 to 90% by weight of the total weight of the resin composition, high content of epoxy resin is 10 to 30% by weight of the total weight of the resin composition In this case, the optimum moldability of the metal base printed circuit board was shown.
  • butadiene rubber such as epoxy polybutadiene, isoprene polymer, chloroprene polymer, dimethylbutadiene rubber, ethylene propylene hybrid polymer, urethane-based polycondensate, and the like may be used.
  • the content of is in the range of 0.1 to 10% by weight of the epoxy resin composition, the rubber component and the total weight of the inorganic filler, the optimum moldability of the metal base printed circuit board was shown.
  • the inorganic filler of the present invention silicon oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon nitride, boron nitride, or the like can be used.
  • the inorganic filler of the present invention is an inorganic filler having an average particle diameter of about 2 to 4 ⁇ m, and the distribution of the particle diameter of 3 ⁇ m or less is 60 to 80% by volume, and the distribution of 3 ⁇ m to 20 ⁇ m or less is mixed to 20 to 40% by volume.
  • the content of the inorganic filler is mixed at 60 to 90% by weight of the resin composition (when the rubber component is included, the weight of the rubber component is added) and the total weight of the inorganic filler.
  • the content of the inorganic filler is a content ratio suitable for the resin composition of the present invention, the inorganic filler content of this range can maximize the thermal conductivity and exhibit the optimum moldability.
  • the optimized composition of the inorganic filler and epoxy resin composition of the present invention is excellent in adhesive strength compared to general products, excellent bending property (bending processability) does not generate fine cracks, punching properties also excellent compared to other products As a result, it was found that fine cracking or peeling did not occur.
  • the insulating layer of the present invention may further contain a curing agent, a curing accelerator, and a coupling agent in addition to the epoxy resin composition and the inorganic filler.
  • anhydride resins phenolic resins, dicyanamide resins, and the like can be used.
  • a known curing agent for epoxy resins can be used by selecting an appropriate curing agent according to the type of epoxy resin. Or two or more types can be selected and used.
  • the blending amount of the curing agent used in the present invention is preferably 40 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of epoxy resin, and when the content of the curing agent is higher or lower than this range, the curing is poor and the formability of the final laminate is inferior. have.
  • the curing accelerator used in the present invention dicyanamide, imidazole compound, phosphoric acid compound and the like can be used.
  • a hardening accelerator can be used combining one type or multiple types. Since the curing accelerator has a characteristic that varies with the curing temperature, the amount of the curing accelerator can be determined according to the type of the resin composition and the curing agent. In the present invention, the curing accelerator is cured in the range of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. Mix the promoter. The curing accelerator can adjust the dosage according to the mixing ratio of the resin composition and the curing agent and the curing state.
  • a known coupling agent may be further mixed, and an organic copolymer may be used as the preferred coupling agent.
  • the printed circuit layer of the present invention uses a copper foil (Cu) of 15 ⁇ 150 ⁇ m thickness, the insulating layer containing epoxy resin and inorganic filler is molded to a thickness of 50 ⁇ 200 ⁇ m, the heat-dissipating metal layer is 200 ⁇ 3,000 ⁇ m thick Aluminum, aluminum alloy, plated steel, and copper (Heavy Copper) can be selected and used.
  • Cu copper foil
  • the metal base printed circuit board laminate thus manufactured is composed of a printed circuit layer 1, an insulating layer 2, and a heat dissipating metal layer 3, as shown in Figs. 1A and 1B.
  • the laminate including the epoxy resin having excellent moldability prepared by the present invention can be used for an optical semiconductor or a metal base printed circuit board for mounting an electronic device that generates heat.
  • the resin composition is a mixture of high equivalent epoxy (equivalent: 600 g / eq), 80 w% of the total weight of the resin composition and low equivalent epoxy (equivalent: 200 g / eq), 20 w% of the total weight of the resin composition is uniformly mixed, the average particle diameter 3 ⁇ m
  • the inorganic filler Showa Denko Alumina, product name AL-45-H
  • 30 parts by weight of dicyandiamide and 1 part by weight of 2-methylimidazole are further uniformly mixed with respect to 100 parts by weight of the resin composition.
  • the prepared insulating layer mixture was coated with copper foil (Cu, thickness: 35 ⁇ m) to a thickness of 100 ⁇ m and dried in B-Stage. Copper-clad laminate dried by B-Stage and heat-dissipating metal sheet (Al, thickness: 1,500 ⁇ m) were laminated and molded at high temperature and high pressure.
  • the resin composition is a mixture of high equivalent epoxy (equivalent: 900 g / eq), 80 w% of the total weight of the resin composition and low equivalent epoxy (equivalent: 200 g / eq), 20 w% of the total weight of the resin composition is uniformly mixed, the average particle diameter 3 ⁇ m
  • the inorganic filler Showa Denko Alumina, product name AL-45-H
  • 30 parts by weight of dicyandiamide and 1 part by weight of 2-methylimidazole are further uniformly mixed with respect to 100 parts by weight of the resin composition.
  • the prepared insulating layer mixture is coated on a copper foil (Cu, thickness: 35 ⁇ m) to 100 ⁇ m thickness and dried by B-Stage. Copper-clad laminate dried by B-Stage and heat-dissipating metal sheet (Al, thickness: 1,500 ⁇ m) were laminated and molded at high temperature and high pressure.
  • the resin composition is a mixture of high equivalent epoxy (equivalent: 3,500 g / eq), 80 w% of the total weight of the resin composition and low equivalent epoxy (equivalent: 200 g / eq), 20 w% of the total weight of the resin composition uniformly, the average particle size 3
  • An inorganic filler Showa Denko Alumina, product name AL-45-H
  • ⁇ ⁇ is added in an amount of 80% of the total weight of the resin composition and the inorganic filler.
  • 30 parts by weight of dicyandiamide and 1 part by weight of 2-methylimidazole are further uniformly mixed with respect to 100 parts by weight of the resin composition.
  • the prepared insulating layer mixture was coated with copper foil (Cu, thickness: 35 ⁇ m) to a thickness of 100 ⁇ m and dried in B-Stage. Copper-clad laminate dried by B-Stage and heat-dissipating metal sheet (Al, thickness: 1,500 ⁇ m) were laminated and molded at high temperature and high pressure.
  • the resin composition is a mixture of high equivalent epoxy (equivalent: 600 g / eq), 80 w% of the total weight of the resin composition and low equivalent epoxy (equivalent: 200 g / eq), 20 w% of the total weight of the resin composition is uniformly mixed, the average particle diameter 3.0 ⁇ m
  • the inorganic filler Showa Denko Alumina, product name AL-45-H
  • As a rubber component epoxy polybutadiene (manufactured by Nippon Petrochemical) is added 1% by weight of the total weight of the resin composition, the inorganic filler and the rubber.
  • the prepared insulating layer mixture is coated on a copper foil (Cu, thickness: 35 ⁇ m) to 100 ⁇ m thickness and dried by B-Stage. Copper-clad laminate dried by B-Stage and heat-dissipating metal sheet (Al, thickness: 1,500 ⁇ m) were laminated and molded at high temperature and high pressure.
  • the average particle diameter of the inorganic filler in the insulating layer mixture of Example 1 was 20 micrometers or more, and the mixing ratio of the inorganic filler was made into 80 w% of the total weight of the resin composition and the inorganic filler. (Hereinafter, the manufacturing method is the same as in Example 1)
  • the average particle diameter of the inorganic filler in the insulating layer mixed solution of Example 1 was 1 ⁇ m, and the mixing ratio of the inorganic filler was 80 w% of the total weight of the resin composition and the inorganic filler. (Hereinafter, the manufacturing method is the same as in Example 1)
  • the high equivalent epoxy (equivalent: 3,500 g / eq) of the resin composition of Example 3 was prepared by mixing 95w% of the total weight of the resin composition and the low equivalent epoxy (equivalent: 200g / eq) of 5w% of the total weight of the resin composition. (Hereinafter, the manufacturing method is the same as in Example 3.)
  • the high equivalent epoxy (equivalent: 3,500 g / eq) of the resin composition of Example 3 was prepared by mixing 60 w% of the total weight of the resin composition and the low equivalent epoxy (equivalent: 200 g / eq) of 40 w% of the total weight of the resin composition. (Hereinafter, the manufacturing method is the same as in Example 3.)
  • the thermal conductivity (W / mK) of the characteristic values of the Example and the comparative example was measured by ASTM E 1461 standard. Adhesion strength was measured based on 1oz copper. The bending property was judged to be good when there was no crack and delamination (bending, Burr) when bending at 135 degrees round 135 degrees. The punchability was evaluated for cracking and delamination when cutting to 150 ⁇ 200 tons. In the comprehensive formation, 100 individuals in each of the examples and the comparative examples were tested to precisely evaluate the bending properties and the punching properties.
  • the present invention is to optimize the molding performance of the metal base printed circuit board laminate to increase the adhesive strength between the printed circuit layer, insulating layer, heat-dissipating metal layer, and the formability such as limit heat resistance, bending (bending workability), punching properties While optimizing, the problem of increasing the thermal conductivity and improving electrical characteristics such as withstand voltage has been solved.

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은 인쇄회로층, 절연층, 방열금속층으로 구성되는 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체에 관한 것으로, 절연층 수지조성물이 고당량에폭시와 저당량에폭시를 혼합사용되고 다량의 무기필러가 포함되어 벤딩성, 펀칭성, 접착강도 등 성형성이 우수할 뿐만 아니라 열전도율이 높고, 내전압 등 전기적 특성 또한 우수한 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 종합적인 성형성 테스트를 실시한 결과 금속 베이스 인쇄회로기판 성형성으로서 최적의 성능을 나타내는 것이다.

Description

성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체 및 그 제조방법
본 발명은 인쇄회로층, 절연층, 방열금속층으로 구성되는 금속 베이스 인쇄회로기판(Metal PCB; Metal Printed Circuit Board)용 적층체에 관한 것으로, 무기필러를 포함하는 고당량에폭시와 저당량에폭시의 에폭시수지 조성물, 고무성분을 추가로 포함할 수 있는 구성의 적층체로서, 굽힘가공 및 펀칭가공시 크랙(Crack) 및 박리가 발생하지 않는 등 성형성이 우수하고 열전도율 및 내전압 등 전기적 특성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체에 관한 것이다.
금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체는 전자회로가 형성되고 광반도체와 같은 열방출 전자소자가 탑재되는 인쇄회로층, 전자소자로부터 방출되는 열을 전도하는 절연층 및 절연층과 접하여 열을 외기에 방출시키는 방열금속층으로 구성된다.
금속 베이스 인쇄회로기판(Metal PCB; Metal Printed Circuit Board)용 적층체에 관한 기술개발은 각 기판의 접착을 긴밀히 하고, 절연층의 열전달을 최대화하면서, 인쇄회로기판에서 발생하는 열을 외부로 발산하는 기술개발이 이루어져 왔으며, 이들 각 기판의 최적의 구성을 통한 열전도율 및 내전압 등 전기적 특성뿐만 아니라 벤딩성(굽힘가공성), 펀칭성 등 성형성의 향상을 위한 기술개발이 중심이 되어 왔으며, 이를 위하여 금속 베이스 인쇄회로기판용 에폭시수지를 포함한 적층체는 에폭시수지를 중심으로 무기필러, 경화제, 경화촉진제, 고무성분 등 다양한 성분을 포함하면서 성형성의 향상을 위한 시도가 이루어져 왔다.
에폭시수지를 포함한 적층체에 관한 종래 기술로서, 동박, 절연층, 금속베이스기판에 있어서, 절연층이 에폭시수지 100중량부와 에폭시폴리부타디엔 25~70중량부, 무기필러 300~500중량부, 에폭시수지 경화제로 구성되는 금속베이스기판(일본공개특허공보 특개평5-267808), 결정성 폴리에스테르 공중합체 30~90중량%, 방향족 비닐화합물의 중합체 블록 및 올레핀 화합물의 중합체 블록을 갖는 열가소성 엘라스토머 5~35중량%, 비스페놀A계 에폭시수지 5~35중량%를 포함하는 열용융형접착제조성물(한국공개특허공보 2005-82570), 동박과 동박의 조화 면상에 폴리비닐 부티랄 수지 및 레졸페놀수지를 필수 성분으로서 함유한 접착제층과 접착제층상의 에폭시 수지를 주성분으로 하고 합성고무 또는 일라스토머를 함유한 절연수지층과 절연수지층상의 금속기판으로 된 것을 특징으로 하는 금속베이스 인쇄배선기판(일본공개특허공보 1993-75225)에 관한 기술 등 다양한 성분의 고분자수지를 포함하면서 금속기판 및 무기필러와의 접착력 및 상용성을 향상시키고자 하는 시도가 이루어져왔으나, 다양한 에폭시수지를 사용하면서도 성형성이 우수한 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체를 제조할 수 있는 기술은 개발되지 않았다.
발명의 요약
본 발명은 종래 에폭시수지를 비롯한 절연체수지를 사용하면서도 다량의 무기필러와 혼합 성형함으로, 벤딩성, 펀칭성, 접착강도 등 성형성이 우수할 뿐만 아니라 열전도율이 높고, 내전압 등 전기적 특성 또한 우수한 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체에 관한 것이다.
본 발명은 인쇄회로층, 절연층, 방열금속층으로 구성되는 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체로서, 상기 절연층은 고당량에폭시와 저당량에폭시가 혼합된 수지조성물과 무기필러를 포함하며 굽힘가공 및 펀칭가공시 크랙 및 박리가 발생하지 않는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체를 개발함으로써 본 발명의 과제를 해결할 수 있었다.
도1(a). 본 발명에 의한 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체의 기본 사시도.
도1(b). 본 발명에 의한 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체의 측면도.
도2. 본 발명의 의한 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체의 제조공정도.
발명의 상세한 설명 및 구체적인 구현예
달리 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용된 모든 기술적 및 과학적 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 숙련된 전문가에 의해서 통상적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 갖는다. 일반적으로 본 명세서에서 사용된 명명법 및 이하에 기술하는 실험 방법은 본 기술 분야에서 잘 알려져 있고 통상적으로 사용되는 것이다.
본 발명은 인쇄회로층, 절연층, 방열금속층으로 구성되는 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체를 제공한다. 본 발명의 적층체는 무기필러를 포함하는 절연층의 적층체로서 무기필러를 포함하는 에폭시수지 조성물을 제공한다. 본 발명은 적층체의 구성에 있어서 에폭시수지의 에폭시당량이 고당량에폭시와 저당량에폭시를 용도에 맞추어 혼합 또는 배합함으로써 금속 베이스 인쇄회로기판 성형 시 최적의 공정 가공성을 도출할 수 있다.
또한 본 발명의 적층체는 에폭시수지, 무기필러, 경화제, 경화촉진제, 고무성분을 주요성분으로 구성된 조성물이 경화되어 높은 열전도율과 금속 베이스 인쇄회로 기판 성형 시 최적의 공정 가공성을 제공하는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체에 관한 것이다.
본 발명의 에폭시수지는 비스페놀A, 비스페놀F, 크레졸노볼락, 디시클로펜타젠, 트리스페닐메탄, 나프탈렌, 비페닐형 및 이들의 수소첨가한 에폭시수지가 일반적으로 사용되고, 에폭시수지라면 구조에 제한이 없다. 또 에폭시수지는 일종 또는 복수종으로 사용하는 것이 가능하다. 특히 수소첨가한 에폭시수지를 사용한 경우에는, 비스페놀A 및 비스페놀F형, 비스페닐형 등의 에폭시수지를 수소첨가한 에폭시수지 등이 바람직하다.
바람직한 실시예로서 비스페놀A형 에폭시수지를 사용할 수 있다.
본 발명의 에폭시수지는 고당량에폭시와 저당량에폭시의 혼합 조성물을 구성요소로 한다. 본 발명의 고당량에폭시는 에폭시당량 600~4,000g/eq의 에폭시수지를 말하며, 본 발명의 저당량에폭시는 에폭시당량 100~250g/eq의 에폭시수지를 말한다.
본 발명의 고당량에폭시의 에폭시당량 범위인 600~4,000g/eq은 응집성의 기능을 최대로 나타내는 범위이며, 본 발명의 저당량에폭시의 에폭시당량 범위인 100~250g/eq는 코팅성을 최대로 나타내는 범위로서, 본 발명의 고당량에폭시의 범위와 저당량에폭시의 범위에서 혼합되는 조성물은, 무기필러를 포함하는 절연층의 응집성과 코팅성을 최대로 나타냄으로써, 본 발명의 고당량에폭시와 저당량에폭시의 에폭시조성물은 금속 베이스 인쇄회로기판의 성형성을 최적화할 수 있다.
본 발명의 고당량에폭시와 저당량에폭시의 수지조성물은 고다량에폭시 수지의 함량이 수지조성물 전체 무게중 70~90중량%, 저당량에폭시 수지의 함량이 수지조성물 전체 무게중 10~30중량%일 경우 금속 베이스 인쇄회로기판의 용도로서 최적의 성형성을 나타내었다.
본 발명의 고무성분은 에폭시폴리부타디엔 등 부타디엔고무, 이소프렌중합물, 클로로프렌중합물, 디메틸부타디엔고무, 에틸렌프로필렌 혼성중합물, 우레탄계 중축합물 등이 사용될 수 있으며, 본 발명의 고무성분은 고무상 탄성체로서, 고무성분의 함량은 에폭시 수지조성물, 고무성분과 무기필러 전체무게 중 0.1~10중량%일 경우 금속 베이스 인쇄회로기판의 용도로서 최적의 성형성을 나타내었다.
본 발명의 무기필러로서는 산화규소, 산화알루미늄, 질화알루미늄, 질화규소, 질화붕소 등이 사용될 수 있다. 본 발명의 무기필러는 평균입경이 약 2~4㎛인 무기필러로서, 입경 3㎛이하의 분포가 60~80부피%, 3㎛초과 20㎛ 이하의 분포가 20~40부피%로 혼합된다. 무기필러의 함량은 수지조성물(고무성분을 포함하는 경우는 고무성분 무게를 더함)와 무기필러 전체 무게 중 60~90중량%로 혼합된다. 상기 무기필러의 함량은 본 발명의 수지조성물에 적합한 함량비율로서 이 범위의 무기필러 함량이 열전도율을 최대화하고 최적의 성형성을 나타낼 수 있다.
본 발명의 무기필러와 에폭시 수지조성물의 최적화된 조성은 접착강도가 일반제품에 비하여 뛰어나고, 벤딩성(굽힘가공성)이 우수하여 미세 크랙(Crack)이 발생하지 않으며, 펀칭성 또한 다른 제품에 비하여 우수하여 미세 크랙(Crack) 이나 박리(Burr)가 발생하지 아니하는 것으로 나타났다.
본 발명의 절연층은 에폭시 수지조성물과 무기필러 이외에도 경화제, 경화촉진제, 커플링에이전트를 추가로 함유할 수 있다.
본 발명에 사용되는 경화제에 대하여는 무수물계수지, 페놀계수지, 디시안아미드계수지 등을 사용할 수 있으며, 공지의 에폭시수지의 경화제는 에폭시수지의 종류에 맞추어 적정 경화제를 선택하여 사용할 수 있으며, 일종 또는 복수종을 선택하여 겸용할 수 있다. 본 발명에서 사용되는 경화제의 배합량은 에폭시수지 100중량부에 대하여 40~60중량부가 바람직하며, 경화제의 함유량이 이 범위보다 높거나 낮을 경우 경화가 잘되지 않고 최종 적층체의 성형성이 떨어지는 문제점이 있다.
본 발명에 사용되는 경화촉진제로서는 디시안아미드, 이미다졸화합물, 인산화합물 등이 사용될 수 있다. 경화촉진제는 일종 또는 복수종을 선택하여 겸용할 수 있다. 경화촉진제는 경화온도에 의하여 변화되는 특성이 있기 때문에 수지조성물 및 경화제의 종류에 맞추어 경화촉진제의 양을 결정할 수 있으며, 본 발명에서는 에폭시수지 100중량부에 대하여 경화촉진제 0.01~10중량부의 범위에서 경화촉진제를 혼합한다. 경화촉진제는 수지조성물 및 경화제의 혼합비율과 경화상태에 맞추어 투입량을 조절할 수 있다.
그밖에 수지조성물과 무기필러의 분산 효과를 증대하기 위해, 공지의 커플링에이전트를 추가로 혼합할 수 있으며, 바람직한 커플링에이전트로는 유기 Copolymer를 사용할 수 있다.
본 발명의 인쇄회로층은 15~150㎛ 두께의 동박(Cu)을 사용하고, 에폭시수지 및 무기필러를 포함하는 절연층은 50~200㎛의 두께로 성형되며, 방열금속층은 200~3,000㎛ 두께의 알루미늄, 알루미늄 합금, 도금 강판 및 동판(Heavy Copper)에서 선택하여 사용할 수 있다.
본 발명의 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체의 제조방법은, 도2에 도시한 바와 같이 원재료인 에폭시수지, 무기필러 및 첨가제를 준비하는 단계(10), 다수의 원재료를 균일하게 혼합하는 단계(20), 혼합된 원재료를 인쇄회로층인 동박의 표면에 코팅하는 단계(30), 동박 표면에 코팅된 원재료를 건조하는 단계(40), 건조된 동박 코팅 원재료와 방열금속층을 가열압축하여 최종제품을 성형하는 단계(50)로 구성된다. 이렇게 제조된 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체는 도1의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이 인쇄회로층(1), 절연층(2) 및 방열금속층(3)으로 구성된다.
본 발명에 의하여 제조된 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체는 광반도체 또는 열이 발생하는 전자소자 탑재용 금속 베이스 인쇄회로기판에 사용할 수 있다.
부호의설명
(1) 인쇄회로층 (Circuit Layer)
(2) 절연층 (Dielectric Layer)
(3) 방열 금속층 (Base Layer)
(10) 원재료를 준비하는 단계 (Material, 에폭시수지, 무기필러 등)
(20) 혼합하는 단계 (Mixing)
(30) 코팅하는 단계 (Coating)
(40) 건조하는 단계 (Drying)
(50) 가열압축하는 단계 (ThermalPressing)
이하 구체적인 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명이 하기 실시예에 의하여 제한되는 것은 아니다.
실시예
실시예 1
수지조성물은 고당량에폭시(당량 : 600g/eq)를 수지조성물 전체중량 중 80w%와 저당량에폭시(당량 : 200g/eq)를 수지조성물 전체중량 중 20w%를 균일하게 혼합하고, 평균입경 3㎛의 무기필러(쇼와덴코 Alumina, 제품명 AL-45-H)를 수지조성물과 무기필러의 전체 중량의 80%가 되는 양으로 부가한다. 이후 수지조성물 100중량부에 대하여 디시안디아미드 30중량부 및 2-메틸이미다졸 1중량부를 추가로 균일하게 혼합한다. 제조된 절연층 혼합액을 동박(Cu, 두께: 35㎛)에 100㎛두께로 코팅하여 B-Stage로 건조시킨다. B-Stage로 건조된 동박 적층판과 방열 금속판 (Al, 두께: 1,500㎛)을 적층하여 고열고압으로 성형한다.
실시예 2
수지조성물은 고당량에폭시(당량 : 900g/eq)를 수지조성물 전체중량 중 80w%와 저당량에폭시(당량: 200g/eq)를 수지조성물 전체중량 중 20w%를 균일하게 혼합하고, 평균입경 3㎛의 무기필러(쇼와덴코 Alumina, 제품명 AL-45-H)를 수지조성물과 무기필러의 전체 중량의 80%가 되는 양으로 부가한다. 이후, 수지 조성물 100중량부에 대하여 디시안디아미드 30중량부 및 2-메틸이미다졸 1중량부를 추가로 균일하게 혼합한다. 제조된 절연층 혼합액을 동박(Cu, 두께: 35㎛)에 100㎛ 두께로 코팅하여 B-Stage로 건조시킨다. B-Stage로 건조된 동박 적층판과 방열 금속판 (Al, 두께: 1,500㎛)을 적층하여 고열고압으로 성형한다.
실시예 3
수지조성물은 고당량에폭시(당량 : 3,500g/eq)를 수지조성물 전체중량 중 80w%와 저당량에폭시(당량: 200g/eq)를 수지조성물 전체중량 중 20w%를 균일하게 혼합하고, 평균입경 3㎛의 무기필러(쇼와덴코 Alumina, 제품명 AL-45-H)를 수지조성물과 무기필러의 전체 중량의 80%가 되는 양으로 부가한다. 이후, 수지 조성물 100중량부에 대하여 디시안디아미드 30중량부 및 2-메틸이미다졸 1중량부를 추가로 균일하게 혼합한다. 제조된 절연층 혼합액을 동박(Cu, 두께: 35㎛)에 100㎛두께로 코팅하여 B-Stage로 건조시킨다. B-Stage로 건조된 동박 적층판과 방열 금속판 (Al, 두께: 1,500㎛)을 적층하여 고열고압으로 성형한다.
실시예 4
수지조성물은 고당량에폭시(당량 : 600g/eq)를 수지조성물 전체중량 중 80w%와 저당량에폭시(당량: 200g/eq)를 수지조성물 전체중량 중 20w%를 균일하게 혼합하고, 평균입경 3.0㎛의 무기필러(쇼와덴코 Alumina, 제품명 AL-45-H)를 수지조성물과 무기필러의 전체 중량의 80%가 되는 양으로 부가한다. 또한, 고무성분으로서 에폭시폴리부타디엔(일본석유화학제)를 수지조성물, 무기필러 및 고무의 전체 중량의 1w%를 부가한다. 이후, 수지 조성물 100중량부에 대하여 디시안디아미드 30중량부 및 2-메틸이미다졸 1중량부를 추가로 균일하게 혼합한다. 제조된 절연층 혼합액을 동박(Cu, 두께: 35㎛)에 100㎛ 두께로 코팅하여 B-Stage로 건조시킨다. B-Stage로 건조된 동박 적층판과 방열 금속판 (Al, 두께: 1,500㎛)을 적층하여 고열고압으로 성형한다.
비교예 1
실시예 1의 절연층 혼합액 중 무기필러의 평균 입경을 20㎛이상으로 하고, 무기필러의 혼합비율을 수지조성물과 무기필러 전체 중량의 80w%으로 하여 제조하였다. (이후 제조 방법은 실시예1과 동일)
비교예 2
실시예 1의 절연층 혼합액 중 무기필러의 평균 입경을 1㎛로 하고, 무기필러의 혼합비율을 수지조성물과 무기필러 전체 중량의 80w%으로 하여 제조하였다. (이후 제조 방법은 실시예1과 동일)
비교예 3
실시예 3의 수지조성물 중 고당량에폭시(당량 : 3,500g/eq)를 수지조성물 전체중량의 95w%와 저당량에폭시(당량: 200g/eq)를 수지조성물 전체중량의 5w% 혼합하여 제조하였다. (이후 제조 방법은 실시예3과 동일)
비교예 4
실시예 3의 수지조성물 중 고당량에폭시(당량 : 3,500g/eq)를 수지조성물 전체중량의 60w%와 저당량에폭시(당량: 200g/eq)를 수지조성물 전체중량의 40w% 혼합하여 제조하였다. (이후 제조 방법은 실시예3과 동일)
성형성 등 특성치 평가
상기, 실시예 및 비교예에 의하여 제조된 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체에 대한 성능테스트 결과는 아래 [표1]과 같다.
실시예 및 비교예의 특성치 중 열전도율(W/mK)은 ASTM E 1461 기준에 의하여 측정하였다. 접착강도는 1oz copper 기준으로 측정하였다. Bending성은 Round 135°, 즉 135도로 굽힘을 가했을 때, Crack 및 Delamination(박리, Burr) 가 없는 경우를 양호로 판단하였다. 펀칭성은 150~200톤으로 절단시 Crack 및 Delamination(박리, Burr)이 있는지 평가하였다. 종합성형성은 실시예 및 비교예 각 100개의 개체를 시험하여 Bending성, 펀칭성을 정밀 평가하여 기준에 합격한 개체수를 조사하였다.
표 1
Figure PCTKR2011007080-appb-T000001
평가결과 실시예의 경우 열전도율 및 접착강도가 다른 개체보다 월등히 우수한 평가결과를 볼 수 있으며, 종합성형성에 있어서도 다른 개체보다 안정된 평과 결과를 얻었다.
본 발명은 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체의 성형성능을 최적화한 것으로 인쇄회로층, 절연층, 방열금속층의 층간 접착강도를 높이고, 한계내열성, 벤딩성(굽힘가공성), 펀칭성 등 성형성을 최적화하면서, 열전도율을 높이고, 내전압 등 전기적 특성을 향상시키는 과제를 해결한 것이다.

Claims (12)

  1. 인쇄회로층, 절연층, 방열금속층으로 구성되는 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체로서, 상기 절연층은 고당량에폭시와 저당량에폭시가 혼합된 수지조성물과 무기필러를 포함하며 굽힘가공 및 펀칭가공시 크랙 및 박리가 발생하지 않는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체.
  2. 인쇄회로층, 절연층, 방열금속층으로 구성되는 금속 베이스 인쇄회로기판용 적층체로서, 상기 절연층은 고당량에폭시와 저당량에폭시가 혼합된 수지조성물, 고무성분, 무기필러를 포함하며 굽힘가공 및 펀칭가공시 크랙 및 박리가 발생하지 않는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 수지조성물은 비스페놀A, 비스페놀F, 크레졸노볼락, 디시클로펜타젠, 트리스페닐메탄, 나프탈렌, 비페닐형 중 어느 하나 또는 하나 이상의 에폭시수지인 것을 특징으로 하는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체 .
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 수지조성물은 비스페놀A인 것을 특징으로 하는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체.
  5. 청구항 2에 있어서, 상기 고무성분은 에폭시폴리부타디엔, 이소프렌중합물, 클로로프렌중합물, 디메틸부타디엔고무, 에틸렌프로필렌 혼성중합물, 우레탄계 중축합물 중 어느 하나 또는 하나 이상의 고무상 탄성체로서, 고무성분의 함량은 에폭시수지, 고무성분과 무기필러 전체무게 중 0.1~10중량%인 것을 특징으로 하는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체.
  6. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 무기필러는 산화규소, 산화알루미늄, 질화알루미늄, 질화규소, 질화붕소 중 어느 하나 또는 하나 이상의 무기필러인 것을 특징으로 하는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체.
  7. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 고당량에폭시의 당량은 600~4,000g/eq의 범위이고, 저당량에폭시의 당량은 100~250g/eq의 범위인 것을 특징으로 하는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체.
  8. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 고당량에폭시의 함량이 상기 수지조성물 전체무게 중 70~90중량%이고, 상기 저당량에폭시의 함량이 상기 수지조성물 전체무게 중 10~30중량%인 것을 특징으로 하는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체.
  9. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 무기필러의 평균 입경은 1~20㎛이고, 상기 무기필러의 함량은 수지조성물과 무기필러의 전체 무게 중 60~90중량%인 것을 특징으로 하는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체.
  10. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 절연층은 경화제, 경화촉진제, 커플링에이전트를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체.
  11. 원재료인 에폭시수지, 무기필러 및 첨가제를 준비하는 단계(10), 다수의 원재료를 균일하게 혼합하는 단계(20), 혼합된 원재료를 인쇄회로층인 동박의 표면에 코팅하는 단계(30), 동박 표면에 코팅된 원재료를 건조하는 단계(40), 건조된 동박 코팅 원재료와 방열금속층을 가열압축하여 최종제품을 성형하는 단계(50)를 포함하는 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체의 제조방법.
  12. 청구항 1 또는 2에 기재된 성형성이 우수한 에폭시수지를 포함한 적층체를 사용하는 광반도체 또는 열이 발생하는 전자소자 탑재용 금속 베이스 인쇄회로기판.
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