WO2012020652A1 - 誘導加熱装置および誘導加熱方法 - Google Patents

Abstract

【課題】サセプタに対して水平磁束を与えつつ誘導加熱コイルを垂直方向に複数配置した場合であっても、誘導加熱コイル間における相互誘導の影響を抑制し、良好な加熱制御を可能とすることのできる半導体基板熱処理装置を提供する。 【解決手段】水平配置されたサセプタ（５２）上に載置されたウエハ（５４）を間接加熱する熱処理装置（１０）であって、サセプタ（５２）の外周側に配置され、サセプタ（５２）におけるウエハ（５４）の載置面と平行な方向に交流磁束を形成する誘導加熱コイルを有し、前記誘導加熱コイルは、少なくとも１つの主加熱コイル（３０）と、主加熱コイル（３０）に電磁的に結合する従属加熱コイル（３２，３４）とから成り、主加熱コイル（３０）には、従属加熱コイル（３２，３４）に対して電磁的に逆結合する逆結合コイル（３６，３８）が備えられ、隣接して配置される主加熱コイル（３０）と従属加熱コイル（３２，３４）に投入する電流の周波数、電流波形を同期させつつ電力割合を個別に制御するゾーンコントロール手段（２２）を設けたことを特徴とする。

Description

誘導加熱装置および誘導加熱方法

　本発明は、誘導加熱装置、および方法に係り、特に大径のウエハ等の基板を処理する場合に、被加熱物の温度制御を行う際に好適な半導体基板熱処理用の装置および方法に関する。

　誘導加熱を利用して半導体ウエハ等の基板を熱処理する装置としては、特許文献１や特許文献２に開示されているようなものが知られている。特許文献１に開示されている熱処理装置は図５に示すように、バッチ型の熱処理装置であり、多段積みされたウエハ２を石英のプロセスチューブ３に入れ、このプロセスチューブ３の外周にグラファイト等の導電性部材で形成した加熱塔４を配置し、その外周にソレノイド状の誘導加熱コイル５を配置するというものである。このような構成の熱処理装置１によれば、誘導加熱コイル５によって生じた磁束の影響により加熱塔４が加熱され、加熱塔４からの輻射熱によりプロセスチューブ３内に配置されたウエハ２が加熱される。

　また、特許文献２に開示されている熱処理装置は図６に示すように、枚葉型の熱処理装置であり、同心円状に多分割されたサセプタ７をグラファイト等で形成し、このサセプタ７の上面側にウエハ８を載置、下面側に複数の円環状の誘導加熱コイル９を同心円上に配置しこれら複数の誘導加熱コイル９に対する個別電力制御を可能としたものである。このような構成の熱処理装置６によれば、各誘導加熱コイル９による加熱範囲に位置するサセプタ７と、他の誘導加熱コイル９により加熱されるサセプタ７との間の熱伝達が抑制されるため、誘導加熱コイル９に対する電力制御によるウエハ８の温度分布制御性が向上する。

　また、特許文献２においては、ウエハ８を載置するサセプタ７を分割する事で発熱分布を良好に制御する旨記載されているが、特許文献３には、サセプタの断面形状を工夫することで、発熱分布を改善することが開示されている。特許文献３に開示されている熱処理装置は、円環状に形成される誘導加熱コイルの径が小さい内側において発熱量が小さくなる事に注目し、サセプタにおける内側部分の厚みを厚くすることで、外側部分よりも内側部分の方が誘導加熱コイルからの距離が近くなるようにし、発熱量の増大と熱容量の増大を図ったものである。

特開２００４－７１５９６号公報 特開２００９－８７７０３号公報 特開２００６－１０００６７号公報

　しかし、上記のような構成の熱処理装置ではいずれも、グラファイトに対して磁束が垂直に作用することとなる。このため、被加熱物としてのウエハ表面に金属膜等を形成していた場合にはウエハが直接加熱されてしまう場合があり、温度分布制御が乱れることが生じ得る。

　これに対し、グラファイト（サセプタ）に対して水平方向の磁束を与えることで加熱を促すようにした場合、多数のサセプタを積層配置して加熱することが困難となる。これを解消するために誘導加熱コイルを複数、積層方向（垂直方向）に近接配置した場合には、誘導加熱コイル間における相互誘導の影響により、加熱制御が不安定になるといった問題が生ずる。

　そこで本発明では、上記問題点を解消し、サセプタに対して水平磁束を与えつつ誘導加熱コイルを垂直方向に複数配置した場合であっても、誘導加熱コイル間における相互誘導の影響を抑制し、良好な加熱制御を可能とすることのできる誘導加熱装置、および方法を提供することを目的とする。

　上記目的を達成するための本発明に係る誘導加熱装置は、水平配置され、かつ垂直方向に複数積層配置されたサセプタの外周側に配置され、前記サセプタにおける被加熱物載置面と巻回の中心軸を平行とし、前記サセプタの配置方向に沿って隣接して段積みされた複数の誘導加熱コイルと、隣接配置された前記誘導加熱コイルが互いに減極性となるように電流を投入するインバータと、隣接配置される前記複数の誘導加熱コイルに投入する電力割合を個別に制御するゾーンコントロール手段と、を有することを特徴とする。

　また、上記のような特徴を有する誘導加熱装置において、前記誘導加熱コイルは、少なくとも１つの主加熱コイルと、前記主加熱コイルに電磁的に結合する従属加熱コイルとから成り、前記主加熱コイルには、前記従属加熱コイルとの間に生ずる相互インダクタンスと逆極性の相互インダクタンスを生じさせる逆結合コイルを接続すると良い。

　このような構成とすることにより、逆結合コイルの作用により、主加熱コイルと従属加熱コイルとの間に生ずる相互誘導起電力を相殺または一部相殺することができる。

　また、上記のような特徴を有する誘導加熱装置では、前記主加熱コイルと前記従属加熱コイルを巻回させるコアを有し、前記逆結合コイルは、前記コアに巻回される前記従属加熱コイルに対して、加極性の関係を持つように配置すると良い。

　このような構成とすることにより、主加熱コイルと従属加熱コイルに投入する電流の周波数を一致させ、電流波形を同期させることで、逆結合コイルは、従属加熱コイルと主加熱コイルとの間に生ずる相互インダクタンスに対し、逆極性の相互インダクタンスを生じさせることとなる。よって、主加熱コイルと従属加熱コイルとの間で生ずる相互誘導起電力を相殺または一部相殺することができる。

　また、上記目的を達成するための誘導加熱方法は、水平配置され、かつ垂直方向に複数積層配置されたサセプタに配置された被加熱物を誘導加熱する方法であって、前記サセプタにおける被加熱物載置面に対して水平な磁束を生じさせる複数の誘導加熱コイルを前記サセプタの積層方向に沿って隣接して段積みした上で、隣接する前記誘導加熱コイルが互いに減極性となるように電流を投入し、前記誘導加熱コイルに投入する電力割合を個別に制御することを特徴とする。

　また、上記のような特徴を有する誘導加熱方法では、隣接する前記誘導加熱コイル間に生ずる相互インダクタンスと逆極性の相互インダクタンスを生じさせ、前記誘導加熱コイル間に生ずる相互インダクタンスを相殺、または一部相殺することが望ましい。
　このような方法を採ることにより、主加熱コイルと従属加熱コイルとの間に生ずる相互誘導起電力を相殺または一部相殺することができる。

　さらに、上記のような特徴を有する誘導加熱方法において、前記逆極性の相互インダクタンスは、前記誘導加熱コイルを巻回させるコアと同一の前記コアに対して巻回形成される逆結合コイルにより生じさせることが望ましい。
　このような方法を採ることにより、逆結合コイルをコンパクトに配置することができる。

　上記のような特徴を有する誘導加熱装置、および方法によれば、サセプタに対して水平磁束を与えつつ誘導加熱コイルを垂直方向に複数配置した場合であっても、誘導加熱コイル間における相互誘導の影響を抑制することができ、良好な加熱制御を可能とする。

第１の実施形態に係る熱処理装置の平面構成を示すブロック図である。 第１の実施形態に係る熱処理装置の側面構成を示すブロック図である。 第１の実施形態に係る熱処理装置における電源部の構成を説明するためのブロック図である。 段積みした誘導加熱コイル間における磁束の打ち消しの様子を説明するためのブロック図である。 第２の実施形態に係る熱処理装置の平面構成を示すブロック図である。 第２の実施形態に係る熱処理装置に用いられるコアの平面構成を示すブロック図である。 従来のバッチ式誘導加熱装置の構成を示す図である。 従来の枚葉式誘導加熱装置の構成を示す図である。

　以下、本発明の誘導加熱装置、および誘導加熱方法に係る実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。まず、図１－１、図１－２、および図２を参照して、第１の実施形態に係る誘導加熱装置（以下、単に熱処理装置と称す）の概要構成について説明する。なお、図１－１は熱処理装置の平面構成を示すブロック図であり、図１－２は熱処理装置の側面構成を示すブロック図である。また、図２は、電源部の構成を説明するための図である。

　本実施形態に係る熱処理装置１０は、被加熱物としてのウエハ５４と発熱体としてのサセプタ５２を多段に重ねて熱処理を行うバッチ式のものとする。
　熱処理装置１０は、ウエハ５４と水平配置されたサセプタ５２を垂直方向に多段に積層配置したボート５０と、サセプタ５２を加熱する誘導加熱コイル（詳細を後述する主加熱コイル３０、従属加熱コイル３２，３４、逆結合コイル３６，３８）、および誘導加熱コイルに電力を供給する電源部１２とを基本として構成される。

　サセプタ５２は、導電性部材で構成されれば良く、例えばグラファイト、ＳｉＣ、ＳｉＣコートグラファイト、および耐熱金属等により構成すれば良い。本実施形態におけるサセプタ５２は、平面形状を円形としている。

　ボート５０を構成するサセプタ５２は、それぞれ支持部材５６を介して積層配置される。なお、支持部材５６は電磁誘導による加熱の影響を受けない石英などで構成すると良い。

　また、本実施形態におけるボート５０は、図示しないモータを備えた回転テーブル５８に載置されており、熱処理工程中のサセプタ５２及びウエハ５４を回転させることができる。このような構成とすることにより、サセプタ５２を加熱する際の発熱分布の偏りを抑制することができる。また、詳細を後述するように、加熱源である誘導加熱コイルの配置形態をサセプタ５２の中心から偏らせた場合であっても、サセプタ５２を均一加熱することが可能となる。

　実施形態に係る誘導加熱コイルは、１つの主加熱コイル３０と、主加熱コイル３０に対して電磁的に結合するように隣接配置された２つの従属加熱コイル３２，３４から成り、それぞれ、サセプタ５２の外周側における円周上に配置されている。主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４はそれぞれ、サセプタ５２の積層方向と同一方向に隣接して段積みされている。また、実施形態に係る主加熱コイル３０には、２つの従属加熱コイル３２，３４に対して電磁的に逆結合する逆結合コイル３６，３８が備えられる。ここで、電磁的結合とは、例えば、主加熱コイル３０に供給する電流の変化に基づいて、従属加熱コイル３２，３４に、主加熱コイル３０によって生ずる磁束を打ち消す方向の誘導起電力を生じさせるような、相互誘導関係にある状態、すなわち相互インダクタンスを生じさせる状態をいう。また、電磁的に逆結合とは、主加熱コイル３０を一次巻線（一次コイル）、従属加熱コイル３２，３４をそれぞれ二次巻線（二次コイル）として見た場合に、主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４間との間に生ずる相互インダクタンスと逆極性の相互インダクタンスを生じさせる結合状態をいう。

　各誘導加熱コイル（主加熱コイル３０、および従属加熱コイル３２，３４）は、ボート５０の外周側に配置されたコア４０に銅線を巻回されて構成される。コア４０は、フェライト系セラミックなどにより構成すると良く、粘土状の原料を形状形成した上で焼成して成るようにすれば良い。このような部材によりコア４０を構成すれば、形状形成を自由に行うことが可能となるからである。また、コア４０を用いることにより、誘導加熱コイル単体の場合に比べて磁束の拡散を防止することができ、磁束を集中させた高効率な誘導加熱を実現することができる。

　本実施形態では、主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４のコア４０に対する巻回方向は同一としている。また、逆結合コイル３６，３８は、従属加熱コイル３２，３４を先端側（サセプタ５２配置側）に配置したコア４０の後端側に、巻回方向を従属加熱コイル３２，３４と逆にした状態で配置される。このような構成とすることにより、主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４に供給する電流の向きを一致させることで、主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４との間に生ずる相互インダクタンスと、逆結合コイル３６，３８と従属加熱コイル３２，３４との間に生ずる相互インダクタンスとが逆極性となり、相互誘導電力の影響を互いに打ち消しあうこととなる。このため、互いに隣接配置された主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４との間で生ずる相互誘導の影響が小さくなり、個別の電力制御性を向上させることができる。なお、従属加熱コイル３２，３４と、逆結合コイル３６，３８との巻回割合は、７：１程度とすることが望ましい。なおこの場合、主加熱コイル３０の巻回数は、従属加熱コイル３２，３４の巻回数と合わせるようにすると良い。

　例えば図２に示す形態の場合において、従属加熱コイル３２に投入される電流をＩ₁、電流の電圧をＶ₁とし、主加熱コイル３０に投入される電流をＩ₂、電流の電圧をＶ₂とし、従属加熱コイル３４に投入される電流をＩ₃、電流の電圧をＶ₃としたとき、逆結合コイル３６と従属加熱コイル３２との間に生ずる相互インダクタンス＋Ｍ₁₂（＋Ｍ₂₁）と従属加熱コイル３２と主加熱コイル３０との間に生ずる相互インダクタンス－Ｍ₁₂（－Ｍ₂₁）とが等しく、逆結合コイル３８と従属加熱コイル３４との間に生ずる相互インダクタンス＋Ｍ₂₃（＋Ｍ₃₂）と、従属加熱コイル３４と主加熱コイル３０との間に生ずる相互インダクタンス－Ｍ₂₃（＋Ｍ₃₂）とが等しい場合には、数式１～３が成り立つこととなる。

　・・・（数式１）

　・・・（数式２）

　・・・（数式３）

　ここで、Ｌ₁は従属加熱コイル３２の自己インダクタンスであり、Ｌ₂は主加熱コイル３０の自己インダクタンスであり、Ｌ₃は従属加熱コイル３４の自己インダクタンスである。

　相互インダクタンスＭは、

　・・・（数式４）

と示すことができる（Ｌ１、Ｌ２は、一次巻線、二次巻線における自己インダクタンス）。なお、自己インダクタンスＬは、数式５で求めることができる。

　・・・（数式５）

　ここで、Ｎはコイルの巻回数、φは磁束（ｗｂ）を示し、Ｉは電流値を示す。上述したように、主加熱コイル３０と逆結合コイル３６，３８とでは、コイルの巻回数が異なる。このため、単位電流（ｄＩ）あたりの磁束（ｄφ）が等しい場合であっても、自己インダクタンスＬの値は異なることとなる。よって、逆結合コイル３６，３８と、従属加熱コイル３２，３４との間に生ずる相互インダクタンスＭを同一（極性は逆）とするためには、結合係数ｋを調整する必要がある。結合係数ｋは、コイル間の距離や配置形態により変化させることができる。よって、主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４間における相互インダクタンス－Ｍに基づいて、逆極性の相互インダクタンス＋Ｍを得るための結合係数ｋを算出する。逆結合コイル３６，３８は、算出された結合係数ｋを得るために、配置形態やコイル間距離を調整された上で配置される。

　このような関係が満たされることにより、主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４との間における相互誘導による相互インダクタンスを含む項は相殺されることとなり、隣接配置される誘導加熱コイル間における相互誘導の影響を回避することができる。

　主加熱コイル３０や従属加熱コイル３２，３４を巻回させるコア４０はその中心軸が、サセプタ５２におけるウエハ５４の載置面と平行（載置状態におけるウエハ５４の中心軸とコア４０の中心軸とが直行する方向）となるように配置される。磁極面となるコア４０の先端面は、サセプタ５２に対向することとなる。このような構成から、主加熱コイル３０や従属加熱コイル３２，３４が巻回された磁極面からは、サセプタ５２のウエハ５４載置面に平行な方向に交流磁束が生ずることとなる。

　ここで上述したように、主加熱コイル３０を一次巻線、従属加熱コイル３２，３４を二次巻線とみた場合、両者には投入される電流の向きが同一となるように、詳細を後述するインバータ１４ａ～１４ｃが接続されている。このため、垂直方向に段積みされた主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４は互いに減極性となる。

　このような配置関係とされる主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４とは図３に示すように、サセプタ５２の載置面に対して垂直方向に交わるように放射される磁束の向きが、互いに逆向きとなり相殺される。このため、サセプタ５２に載置するウエハ５４の表面に金属膜等が形成されていた場合であっても、垂直方向の磁束の影響によりウエハ５４が直接加熱される虞が無く、ウエハ５４の温度分布がばらつく虞が無い。

　また、主加熱コイル３０や従属加熱コイル３２，３４、および逆結合コイル３６，３８は、内部を中空とした管状部材（例えば銅管）とすることが望ましい。熱処理中に銅管内部に冷却部材（例えば冷却水）を挿通させることにより、主加熱コイル３０や従属加熱コイル３２，３４、および逆結合コイル３６，３８自体の加熱を抑制することが可能となるからである。

　上述したように、主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４はそれぞれ、ウエハ５４を載置したサセプタ５２を垂直方向に積層させたボート５０に沿って垂直方向に、隣接させて配置されている。このような構成とすることにより、より多くのサセプタ５２、およびウエハ５４を一度に加熱することが可能となり、ウエハ５４の熱処理を効率的に行うことが可能となる。また、積層配置した誘導加熱コイルに対する電力制御をそれぞれ個別に行うようにすれば、ボート５０内に積層配置された複数のサセプタ５２における垂直方向の温度分布を制御することができ、サセプタ５２間の温度ばらつきを抑制することも可能となる。

　上記のように構成される主加熱コイル３０、および従属加熱コイル３２，３４は、単一の電源部１２に接続される。電源部１２には、インバータ１４ａ～１４ｃと、チョッパ１６ａ～１６ｃ、コンバータ１８、三相交流電源２０、およびゾーンコントロール手段２２が設けられ、各誘導加熱コイル（主加熱コイル３０、および従属加熱コイル３２，３４）に供給する電流や電圧、および周波数等を調整することができるように構成されている。図２に示す実施形態の場合、インバータ１４ａ～１４ｃとして直列共振型のものを採用している。このため、周波数切替を簡易に行うための構成として、共振コンデンサ２６を並列に接続し、共振周波数に合わせて、スイッチ２８により、容量の増減を図るようにすると良い。

　また、実施形態に係る熱処理装置１０は、各誘導加熱コイル（主加熱コイル３０、および従属加熱コイル３２）と各インバータ１４ａ～１４ｃとの間に、トランス２４を配置している。

　ゾーンコントロール手段２２は、隣接配置された主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４間に生ずる相互誘導の影響を回避しつつ、主加熱コイル３０と各従属加熱コイル３２，３４に対する電力制御を行う役割を担う。

　積層して隣接配置された主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４とは、各々が個別に稼動されるため、主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２、または主加熱コイル３０と従属加熱コイル３４において相互誘導が生じ、個別の電力制御に悪影響を与える事がある。このためゾーンコントロール手段２２は、検出された電流の周波数や波形（電流波形）に基づいて、隣接配置された主加熱コイル３０や従属加熱コイル３２，３４に投入する電流の周波数を一致させ、かつ電流波形の位相を同期（位相差を０または位相差を０に近似させる事）、あるいは所定の位相差を保つように制御することで、隣接配置した主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４間における相互誘導の影響を回避した電力制御（ゾーンコントロール制御）を可能としている。

　このような制御は例えば、各誘導加熱コイル（主加熱コイル３０および従属加熱コイル３２，３４）に投入されている電流値や電流の周波数、および電圧値等を検出し、これをゾーンコントロール手段２２に入力する。ゾーンコントロール手段２２では、主加熱コイル３０に投入されている電流波形と、従属加熱コイル３２，３４に投入されている電流波形との位相を検出し、これを同期、あるいは所定の位相差を保つように制御するため、インバータ１４ｂ、あるいはインバータ１４ｃに対して従属加熱コイル３２、あるいは従属加熱コイル３４に投入する電流の周波数を瞬時的に変化させる信号を出力することで成される。

　また、電力制御に関しては、電源部１２に設けられた図示しない記憶手段（メモリ）に記憶された制御マップ（垂直温度分布制御マップ）に基づいて、熱処理開始からの経過時間単位に変化させる信号をインバータ１４ａ～１４ｃや、チョッパ１６ａ～１６ｃに出力したり、図示しない温度計測手段からフィードバックされるサセプタ５２の温度に基づいて、所望する垂直温度分布を得るための電力制御を行うようにすれば良い。なお、制御マップは、熱処理開始から熱処理終了に至るまでの積層配置されたサセプタ５２間の温度変化を補正し、任意の温度分布（例えば均一な温度分布）を得るために主加熱コイル３０および従属加熱コイル３２，３４に与える電力値を、熱処理開始からの経過時間と共に記録したものであれば良い。

　このようにして電源部１２では、ゾーンコントロール手段２２からの信号に基づいて従属加熱コイル３２，３４に投入する電流の周波数を瞬時的に調整し、電流波形の位相制御を実施すると共に、各誘導加熱コイル間における電力制御を実施することで、ボート５０内における垂直方向の温度分布を制御することができる。

　また、実施形態に係る熱処理装置１０では、従属加熱コイル３２，３４に対して磁気的に逆結合する逆結合コイル３６，３８を設けたことにより、主加熱コイル３０と従属加熱コイル３２，３４間における相互誘導の影響を、あらかじめ抑制することができる。このため、ゾーンコントロール手段２２により回避する相互誘導の影響が小さくなり、主加熱コイル３０、および従属加熱コイル３２，３４に対する電力制御の制御性を向上させることができる。

　また、上記のような構成の熱処理装置１０によれば、ウエハ５４の表面に金属膜等の導電性部材が形成されていた場合であっても、当該金属膜が発熱し、ウエハ５４の温度分布が乱れるといった虞が無い。

　次に、本発明の熱処理装置に係る第２の実施形態について、図４を参照して説明する。本実施形態に係る熱処理装置の殆どの構成は、上述した第１の実施形態に係る熱処理装置と同様である。よって、その構成を第１の実施形態に係る熱処理装置と同一とする箇所には、図面に１００を足した符号を付して、その詳細な説明は省略することとする。

　図４－１は、第２の実施形態に係る熱処理装置１１０における平面構成を示すブロック図であり、図４－２は、本実施形態に係る熱処理装置１１０に用いられるコアの平面構成を示すブロック図である。なお、同図においては、電源部の記載を省略しているが、上記実施形態と同様な構成を持った電源部が接続されているものとする。

　本実施形態に係る熱処理装置１１０は、第１の実施形態に係る従属加熱コイル３２、主加熱コイル３０、および従属加熱コイル３４に相当する誘導加熱コイルをそれぞれ複数設けるようにした点を特徴としている（図４－１においては、従属加熱コイル１３２ａ，１３２ｂのみを表示している：以下、説明を簡単化するために、単に誘導加熱コイル１３２ａ，１３２ｂと称す）。

　サセプタ１５２の円周方向に沿った方向に、複数の誘導加熱コイル１３２ａ，１３２ｂを配置することにより、水平方向の加熱可能範囲が増え、ウエハ１５４の面内における温度分布を安定させることが可能となる。

　また、実施形態に係る熱処理装置１１０では、複数（図４－１に示す形態では２つ）の誘導加熱コイル１３２ａ，１３２ｂを巻回させるコア１４０を単一とし、ヨーク１４１から突出させた磁極１４１ａ，１４１ｂに、それぞれ誘導加熱コイル１３２ａ，１３２ｂを巻回させる構成としている。また、本実施形態に係る熱処理装置１１０では、サセプタ１５２の円周方向（水平方向）に配置した誘導加熱コイル１３２ａ，１３２ｂは、電源部（実際には電源部におけるインバータ）に対して並列に接続する構成としている。このような構成とすることにより、並列に配置した誘導加熱コイル１３２ａと誘導加熱コイル１３２ｂの間においては、相互誘導の影響を考慮する必要が無くなるからである。

　また、各誘導加熱コイル１３２ａ，１３２ｂは、コア１４０の磁極１４１ａ，１４１ｂに対する巻回方向両者により発生する磁束が加極性となるようにする。このような構成とした場合には、発生磁束が破線ａ～ｃで示すような軌跡で生ずることとなり、１つの誘導加熱コイルによって生ずる磁束よりも、サセプタ１５２の中心側を加熱することが可能となる。

　なお、２つの誘導加熱コイル１３２ａ，１３２ｂは、図示しない切替スイッチにより、単一稼動と相互稼動の選択可能としても良い。このような構成とした場合、稼動させる誘導加熱コイルの組み合わせによりサセプタ１５２の加熱範囲が変化するため、ウエハ１５４面内における温度分布制御を行うことが可能となる。

１０………半導体基板熱処理装置（熱処理装置）、１２………電源部、１４ａ～１４ｃ………インバータ、１６ａ～１６ｃ………チョッパ、１８………コンバータ、２０………三相交流電源、２２………ゾーンコントロール手段、２４………トランス、２６………共振コンデンサ、２８………スイッチ、３０………主加熱コイル、３２，３４………従属加熱コイル、３６，３８………逆結合コイル、４０………コア、５０………ボート、５２………サセプタ、５４………ウエハ、５６………支持部材、５８………回転テーブル。

Claims (6)

1. 　水平配置され、かつ垂直方向に複数積層配置されたサセプタの外周側に配置され、前記サセプタにおける被加熱物載置面と巻回の中心軸を平行とし、前記サセプタの配置方向に沿って隣接して段積みされた複数の誘導加熱コイルと、
   　隣接配置された前記誘導加熱コイルが互いに減極性となるように電流を投入するインバータと、
   　隣接配置される前記複数の誘導加熱コイルに投入する電力割合を個別に制御するゾーンコントロール手段と、を有することを特徴とする誘導加熱装置。
2. 　前記誘導加熱コイルは、少なくとも１つの主加熱コイルと、前記主加熱コイルに電磁的に結合する従属加熱コイルとから成り、前記主加熱コイルには、前記従属加熱コイルとの間に生ずる相互インダクタンスと逆極性の相互インダクタンスを生じさせる逆結合コイルを接続したことを特徴とする請求項１に記載の誘導加熱装置。
3. 　前記主加熱コイルと前記従属加熱コイルを巻回させるコアを有し、
   　前記逆結合コイルは、前記コアに巻回される前記従属加熱コイルに対して、加極性の関係を持つように配置されることを特徴とする請求項２に記載の誘導加熱装置。
4. 　水平配置され、かつ垂直方向に複数積層配置されたサセプタに配置された被加熱物を誘導加熱する方法であって、
   　前記サセプタにおける被加熱物載置面に対して水平な磁束を生じさせる複数の誘導加熱コイルを前記サセプタの積層方向に沿って隣接して段積みした上で、隣接する前記誘導加熱コイルが互いに減極性となるように電流を投入し、
   　前記誘導加熱コイルに投入する電力割合を個別に制御することを特徴とする誘導加熱方法。
5. 　隣接する前記誘導加熱コイル間に生ずる相互インダクタンスと逆極性の相互インダクタンスを生じさせ、前記誘導加熱コイル間に生ずる相互インダクタンスを相殺、または一部相殺することを特徴とする請求項４に記載の誘導加熱方法。
6. 　前記逆極性の相互インダクタンスは、前記誘導加熱コイルを巻回させるコアと同一の前記コアに対して巻回形成される逆結合コイルにより生じさせることを特徴とする請求項５に記載の誘導加熱方法。

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