JP2004221138A - 半導体熱処理方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハ16の熱処理に際して要求される温度分布方向に配列された複数の誘導加熱コイル22の周波数・電流位相を同期させて個別に電力制御可能として、前記温度分布方向に配列された個々の加熱コイルへの投入電力を制御することにより前記ウェハをその要求温度分布に調整するゾーンコントロールをなすようにした。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体熱処理方法および装置に係り、特に半導体デバイスの製造に当たってウェハの酸化・拡散・アニールといった熱処理を高速で行うのに好適な半導体熱処理方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイスの製造は熱処理工程の繰り返しによって行われる。例えばSiウェハを加熱して表面に酸化膜を形成したり、不純物を拡散させてpn接合を形成するなど、あるいは結晶欠陥の除去や不純物の除去などのためのアニールが行われる。この熱処理はウェハを複数同時に処理し、あるいは枚葉で処理するなどの方法が採られるが、前者は抵抗加熱方式による熱処理装置によって行われ(例えば、特許文献1)、後者はランプ加熱方式によって行われることが多い(例えば、特許文献2)。いわゆるホットウォールタイプと、コールドウォールタイプである。
【0003】
上記ホットウォール型熱処理装置は極めて熱容量の大きい炉体を持つので、徐熱・徐冷により結晶欠陥発生の抑制が可能であり、また、あらゆる温度領域に対応が可能となっている。また、コールドウォール型熱処理装置は、短時間加熱の場合に適しており、熱的平衡状態が得やすく高速に昇温することができる。
【0004】
【特許文献1】USP5895596
【特許文献2】特開2001−127057号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、ホットウォール型熱処理装置では、熱容量が大きいため、逆に高速昇温・降温ができず、昇温・降温時間の短縮がスループットに影響し、大きな課題となっていた。また、コールドウォール型熱処理装置は通常ランプ加熱方式が採用され、反射経路が複雑なこと、および放射特性の影響を受けやすいことから面内温度均一性、ウェハ加熱効率が悪く、ランプを250個も使用するので制御が複雑となりコストアップとなっている。いずれにしても、従来の熱処理装置では、低コストとしつつ、半導体ウェハの昇温・降温処理に際して昇温速度あるいは降温速度を温度分布を均一にしながら早くすることができないものであった。
【0006】
本発明は、上記従来の問題点に着目して成されたもので、高速加熱、高効率、高温加熱などの特徴をもつ誘導加熱方式を用い、特に従来の誘導加熱では近接した加熱コイル毎のパワーコントロールが相互誘導の影響で不可能であったことを解決することにより精密温度分布制御を可能とし、半導体デバイスの製造に際して高速熱処理ができる半導体熱処理方法および装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る半導体熱処理方法は、ウェハの熱処理に際して複数の誘導加熱コイルの周波数・電流位相を同期させて個別に電力制御して、所定の温度分布を達成すべく個々の加熱コイルへの投入電力を制御することにより前記ウェハをその要求温度分布に調整するゾーンコントロールをなすようにしたことを特徴とする。より具体的には、ウェハの熱処理に際して要求される温度分布方向に配列された複数の誘導加熱コイルの周波数・電流位相を同期させて個別に電力制御可能として、前記温度分布方向に配列された個々の加熱コイルへの投入電力を制御することにより前記ウェハをその要求温度分布に調整するゾーンコントロールをなすようにすればよい。
【0008】
また、本発明に係る半導体熱処理装置は、ウェハを加熱するための複数の誘導加熱コイルを備えた誘導加熱手段を有し、前記複数の加熱コイルの周波数・電流位相を同期させて個別に電力制御可能として各加熱コイルへの投入電力量を所定の温度分布を達成すべく調整することにより要求温度分布のゾーンコントロールを可能とした制御手段を有してなることを特徴としている。更に、ウェハが収容されるプロセスチューブを囲繞する複数の加熱コイルを備えた誘導加熱手段を有し、前記ウェハの熱処理に際して要求される温度分布勾配方向に沿って前記複数の加熱コイルを配列し、前記複数の加熱コイルの周波数・電流位相を同期させて個別に電力制御可能として各加熱コイルへの投入電力量を前記要求温度分布となるように調整することにより要求温度分布のゾーンコントロールを可能とした制御手段を有してなる構成とすればよい。
【0009】
この場合において、前記加熱コイルはウェハと同芯配置された平板状コイル構造とされ、あるいは前記加熱コイルは複数コイルを容器の外周を囲繞するように筒状とされた構造とすることができる。また、前記ウェハは回転円盤上に複数枚搭載されて公転運動可能とし、前記回転円盤の盤面に沿って誘導加熱コイルを複数配置することにより平板状コイル構造としてもよい。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明に係る半導体熱処理方法および装置の具体的実施の形態を、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係るコールドウォール型枚葉高速熱処理装置10の構成図を示している。図示のように、コールドウォール型枚葉高速熱処理装置は、チャンバハウジング12は例えば円筒形中空断面容器状に形成され、1枚のSiウェハ16を内部に装填した状態で内部にプロセスガスGを導入しながら熱処理を行うものである。ウェハ16はチャンバハウジング12下部に石英板14で仕切られた加熱室内に配設されたサセプタとしてのSiCコートグラファイト板18の輻射熱によって加熱されるようになっている。グラファイト板18の裏面側には断熱材26が配置され、更にその裏面側に設けられた加熱手段によってグラファイト板18を加熱するものとしている。
【0011】
このコールドウォール型枚葉高速熱処理装置10に備えられた加熱手段は誘導加熱装置からなり、断熱材26の下面側に配置された誘導加熱コイル22とその駆動制御回路24を含んでいる。誘導加熱コイル22はいわゆる平板状コイル構造とされ、直径寸法の異なる同心円コイルを一平面上に同心配置し、断熱材26の底部に接合されている。図示の例では6コイルを同芯配置している。そして、コイル中心はチャンバハウジング12内に収容保持されるウェハ16の中心に一致するように設定され、温度分布を半径方向で調整できるようにしている。
【0012】
このような誘導加熱コイル22は複数のコイル(実施形態は6個)からなり、そのままでは相互誘導作用によって各コイル22を正確に電力制御できなくなるので、本実施形態では次のように構成されている。すなわち、同心に配置された複数の誘導加熱コイル22の周波数・電流位相を同期させ、あるいは設定された位相差となるように個別に電力制御可能としている。平板型に配列された個々の加熱コイル22への投入電力を制御しても相互誘導の影響を回避することことができ、前記ウェハ16をその要求温度分布となるようにゾーンコントロールすることができる。このため、最も内側の加熱コイル22mとその駆動制御回路24mをメインユニットとし、その外側の加熱コイル22sl〜22s5と駆動制御回路24s1〜24s5をサブユニットとし、メインユニットの負荷コイル部の電流を検出し、この電流の周波数と位相が一致するように、あるいは設定される位相差を保持するようにサブユニットのインバータを運転するようにしている。
【0013】
図1に示すように、この実施形態では、メインユニット並びにサブユニットの各々は、共通の電源部30から順変換部32を介して電源供給を受けて駆動されるようになっており、メインチョッパ34m、サブチョッパ34s(s1〜s5以下同じ)を備えて電力調整ができるようになっている。チョッパ34の出力側にはインバータ36(36m、36s)が接続されている。インバータ36は電圧型とされダイオードとトランジスタとを直列接続した辺からなるブリッジ回路によって構成されている。各インバータ36の出力側の加熱コイル22を含む負荷コイル部38(38m、38s)には、コンデンサ40(40m、40s)が加熱コイル22と直列に接続して直列共振回路を構成している。これにより、各加熱コイル22によって前述したチャンバハウジング12に内蔵されているグラファイト板18を加熱することができ、石英板14を通してウェハ16が輻射加熱される。
【0014】
ところで、本実施形態では、複数の誘導加熱コイル22を作動させることによって生じる相互誘導作用の影響を回避するために、複数の加熱ユニットにおける加熱コイル22の電流周波数と位相を同期させるか、あるいは一定の位相差になるように制御している。このため、各サブユニットには、電流位相差検出制御器42を付帯させており、メインユニットの負荷コイル部38mを流れる電流と、サブユニットの負荷コイル部38sを流れる電流を入力し、両者の位相差を求め、この位相差と周波数をゼロまたは一定の範囲内に収束するようにインバータ36sを駆動制御するようにしている。これはインバータ36sの駆動パルスの切り替えタイミングを調整することにより実現できる。これにより、メインユニットとサブユニットの各チョッパ34にて加熱コイル22への投入電力を調整しても、隣接する誘導加熱コイル22間で相互誘導による影響を最小限に抑制することができるので、電力調整を安定して行わせることができ、各誘導加熱コイル22で加熱されるサセプタ領域の温度を任意に設定することができ、昇温、降温を高速に行わせつつ、ゾーンコントロールが可能となるのである。
【0015】
なお、当該実施形態では、サブユニットの負荷コイル部38sに可変リアクトル44を介装しており、メインユニットの負荷コイル部38m内での電圧と電流の位相差をゼロまたは一定の範囲内に収まるように調整するようにし、力率を改善するようにしている。
【0016】
次に、図2には第2の実施形態を示す。この実施形態はホットウォール型枚葉高速熱処理装置110として構成したものである。この熱処理装置110は、チャンバハウジング112の内部にプロセスチューブ114を収容している。プロセスチューブ114は例えば円形中空断面容器状に形成され、1枚のSiウェハ116を内部に装填した状態で内部にプロセスガスGを導入しながら熱処理を行うものである。ウェハ116はチューブ114内の中央位置に保持され、プロセスチューブ114の外周に配設されたサセプタとしてのSiCコートグラファイトチューブ118が加熱・冷却されることによって、プロセスチューブ114の内部温度が制御されて熱処理される。サセプタのSiCコートグラファイト板118の外周には断熱材126が配設され、その周囲を囲繞するように複数の誘導加熱コイル122が配置されている。誘導加熱コイル122への電力投入により、前記グラファイト板118を加熱するようにしている。
【0017】
前記複数の誘導加熱コイル122は同一サイズの複数コイルをプロセスチューブ114の外周を囲繞するように筒状とされた構造となっており、図示の例では12個の誘導加熱コイル122を一定間隔に筒状に配列している。このような誘導加熱コイル122は同心となるように配列されているが、そのままでは相互誘導作用によって各コイル122を正確に電力制御できなくなるので、この第2の実施形態では、第1の実施形態の場合と同様に、同心に配置された複数の誘導加熱コイル122の周波数・電流位相を同期させ、あるいは設定された位相差となるように個別に電力制御可能としている。
【0018】
すなわち、この第2の実施形態の場合では、メインユニットを左端の誘導加熱コイル122mとその駆動制御回路124mとし、これに隣接する以後の誘導加熱コイル122s1〜122s11とそれらの駆動制御回路124s1〜124s11をサブユニットとしている。サブユニット側の負荷コイル部138sの電流をメインユニットにおける負荷コイル部128mの電流に合わせて位相、周波数を制御する。その構成は第1の実施形態と同様であるので、同一部材の番号に100を加算して同一部材を示し、その説明を省略する。
【0019】
図3は第3の実施形態に係るCVD高速熱処理装置210の模式図であり、これはCVD装置に摘要したものである。図示のように、回転円盤200上に複数のウェハ216を搭載し、ハウジング212内に密閉状態に保持する。回転円盤200は内部にウェハ216を収容した状態で回転する。回転円盤200の下面に対面するようにハウジング212の下部には複数の誘導加熱コイル222が同芯コイル構造となるように形成され、実施形態では12ゾーンの加熱が行われるように12個のコイル222を配列している。これらのコイル222に対しても第1実施形態の場合と同様に誘導加熱のための駆動制御回路224が設けられている。これらの構成は第1実施形態の場合と同様であるので、同一構成部材に同一符合を200番代で示し、説明を省略する。
【0020】
図4には第4の実施形態に係るバッチ式高速熱処理装置310を示す。これはバッチ型の縦形ファーネスに適用したもので、ウェハホルダ300内に多数のウェハ316を収容するようにしている。ウェハホルダ300を収容するプロセスチューブ314及び均熱管315とその周囲に囲繞するように配置された複数の誘導加熱コイル322を備えている。均熱管315は導電性材料により形成し、前記加熱コイル322を前記均熱管315の長手方向に沿って多段に配列して構成されている。各コイルの周波数・電流位相を同期させて個別に電力制御可能として均熱管315の長手方向に沿った熱分布のゾーンコントロールができるようにしている。その他の構成は第2実施形態の場合と同様であるので、同一部材に同一番号を300番代として表示し説明を省略する。
【0021】
このような実施形態に係る半導体熱処理装置によれば、ホットウォール型熱処理装置として構成しても、高速昇温・降温が可能で、昇温・降温時間の短縮によりスループットを向上させることができる。また、コールドウォール型熱処理装置として構成しても、ランプ加熱方式と比較して加熱体を数百も用いることがなく、反射経路も単純化できる上に、面内温度均一性、ウェハ加熱効率を高くすることができ、低コストで良好な温度分布制御が可能となる。いずれにしても、本実施形態の構成とすることにより、低コスト化を実現しつつ、半導体ウェハの昇温・降温処理に際して、温度分布を均一に保持しつつ、昇温速度あるいは降温速度を早くすることができる効果が得られる。これはバッチ式としても同様であり、枚葉・バッチ式のいずれにも最大の効果が得られる。
【0022】
なお、上記実施形態では、電流周波数と位相をメインユニットに合わせるようにしたが、これは予め設定した目標周波数に適応させるようにしたり、用いる誘導加熱回路の平均値を求めてこれに収束させるように制御することも可能である。
【0023】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明はウェハの熱処理に際して複数の誘導加熱コイルの周波数・電流位相を同期させて個別に電力制御して、所定の温度分布を達成すべく個々の加熱コイルへの投入電力を制御することにより前記ウェハをその要求温度分布に調整するゾーンコントロールをなすようにしたので、高速加熱、高効率、高温加熱などの特徴をもつ誘導加熱方式を利用しつつ、特に従来の誘導加熱では近接した加熱コイル毎のパワーコントロールが相互誘導の影響で不可能であったことを解決することにより精密温度分布制御を可能とし、半導体デバイスの製造効率を大幅に向上させることができる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態に係るコールドウォール型高速熱処理装置の断面構成図である。
【図2】第2実施形態に係るホットウォール型高速熱処理装置の断面構成図である。
【図3】第3実施形態に係るコールドウォール型CVD用高速熱処理装置の断面構成図である。
【図4】第4実施形態に係るバッチ式CVD装置用高速熱処理装置の断面構成図である。
【符号の説明】
10………コールドウォール型枚葉高速熱処理装置、12………チャンバハウジング、14………石英板、16………Siウェハ、18………SiCコートグラファイト板、20………反射板、22………誘導加熱コイル、22m………メイン誘導加熱コイル、22s1〜22s5………サブ誘導加熱コイル、24………駆動制御回路、24m………メイン誘導制御回路、24s1〜24s5………サブ誘導加熱コイル、26………断熱材、28………鉄心、30………電源部、32………順変換部、34(34m、34s)………チョッパ、36(36m、36s)………インバータ、38(38m、38s)………負荷コイル部、40(40m、40s)………コンデンサ、42………電流位相差検出制御器、44………可変リアクトル。
Claims (5)
- ウェハの熱処理に際して複数の誘導加熱コイルの周波数・電流位相を同期させて個別に電力制御して、所定の温度分布を達成すべく個々の加熱コイルへの投入電力を制御することにより前記ウェハをその要求温度分布に調整するゾーンコントロールをなすようにしたことを特徴とする半導体熱処理方法。
- ウェハを加熱するための複数の誘導加熱コイルを備えた誘導加熱手段を有し、前記複数の加熱コイルの周波数・電流位相を同期させて個別に電力制御可能として各加熱コイルへの投入電力量を所定の温度分布を達成すべく調整することにより要求温度分布のゾーンコントロールを可能とした制御手段を有してなることを特徴とする半導体熱処理装置。
- 前記加熱コイルはウェハと同芯配置された平板状コイル構造とされていることを特徴とする請求項2に記載の半導体熱処理装置。
- 前記加熱コイルは複数コイルを容器の外周を囲繞するように筒状とされた構造とされていることを特徴とする請求項2に記載の半導体熱処理装置。
- 前記ウェハは回転円盤上に複数枚搭載されて公転運動可能とし、前記回転円盤の盤面に沿って誘導加熱コイルを複数配置することにより平板状コイル構造としたことを特徴とする請求項2に記載の半導体熱処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003003631A JP2004221138A (ja) | 2003-01-09 | 2003-01-09 | 半導体熱処理方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP2003003631A JP2004221138A (ja) | 2003-01-09 | 2003-01-09 | 半導体熱処理方法および装置 |
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JP2004221138A true JP2004221138A (ja) | 2004-08-05 |
JP2004221138A5 JP2004221138A5 (ja) | 2005-10-27 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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JP (1) | JP2004221138A (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050606 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20050614 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050614 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050614 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050614 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20050614 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050614 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20090323 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090402 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090722 |