WO2011158739A1 - 荷電粒子装置 - Google Patents

荷電粒子装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2011158739A1
WO2011158739A1 PCT/JP2011/063310 JP2011063310W WO2011158739A1 WO 2011158739 A1 WO2011158739 A1 WO 2011158739A1 JP 2011063310 W JP2011063310 W JP 2011063310W WO 2011158739 A1 WO2011158739 A1 WO 2011158739A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
charged particle
sample
horizontal
column
sample stage
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/063310
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
裕久 榎本
鈴木 渡
真也 北山
Original Assignee
株式会社日立ハイテクノロジーズ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社日立ハイテクノロジーズ filed Critical 株式会社日立ハイテクノロジーズ
Priority to EP11795646.6A priority Critical patent/EP2584586A1/en
Priority to US13/703,931 priority patent/US20130126750A1/en
Publication of WO2011158739A1 publication Critical patent/WO2011158739A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
    • H01J37/3053Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
    • H01J37/3056Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching for microworking, e.g. etching of gratings, trimming of electrical components
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/02Details
    • H01J2237/0216Means for avoiding or correcting vibration effects
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/16Vessels
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202Movement
    • H01J2237/20207Tilt
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202Movement
    • H01J2237/20214Rotation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202Movement
    • H01J2237/20221Translation
    • H01J2237/20235Z movement or adjustment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317Processing objects on a microscale
    • H01J2237/31749Focused ion beam

Definitions

  • the present invention relates to a charged particle apparatus having a sample stage.
  • the charged particle device irradiates the sample with charged particles and processes and observes the sample.
  • the sample is placed on a stage called a sample stage, and is processed into various shapes or observed from various directions.
  • the sample stage has a mechanism for driving in many directions such as in-plane and out-of-plane.
  • the sample stage includes a multi-axis mechanism that drives in and out of the plane.
  • external vibration such as environmental sound or floor vibration is applied to the sample stage, a relative displacement occurs between the charged particles and the sample on the stage.
  • the observed image fluctuates and the resolution is lowered.
  • the processing position is shifted and processing accuracy is lowered. Since these devices have extremely low resolution and processing accuracy, they are affected even by minute vibrations.
  • the sample stage and the charged particle generator are configured so that relative displacement hardly occurs.
  • the objective lens and the stage are connected by four columns so that the relative displacement between the sample stage and the charged particle generation unit does not occur.
  • An object of the present invention is to realize a charged particle apparatus capable of preventing the influence of vibration and minimizing the relative displacement between the charged particle generator and the sample stage without narrowing the movable range of the sample stage. That is.
  • the present invention is configured as follows.
  • the charged particle apparatus includes a long cylindrical column, a sample chamber in which the column is installed in a direction perpendicular to the surface, and a sample stage support that is hollow and is installed on the same surface as the column installation surface of the sample chamber A body and a sample stage built in the support.
  • the sample stage is supported by a horizontal plane tilt mechanism supported by a support, a vertical drive mechanism supported by a horizontal plane tilt mechanism, a horizontal plane drive mechanism supported by a vertical drive mechanism, and a horizontal plane rotation supported by a horizontal plane drive mechanism. It has a mechanism.
  • the charged particle device of the present invention includes an inclined axis rotation mechanism installed on the side surface of the support so that the inclination axis of the horizontal plane inclination mechanism and the rotation center axis are orthogonal to each other. Furthermore, the charged particle device of the present invention includes a vertical driving mechanism having an inclined driving surface. Furthermore, the charged particle device of the present invention includes a sample stage support having a hole in the side surface.
  • the present invention it is possible to provide a sample stage of a multi-axis charged particle apparatus that prevents the influence of vibration and minimizes the relative displacement between the charged particle and the sample without narrowing the movable range of the stage.
  • Example 1 of this invention shows a part of side surface of the charged particle apparatus by Example 1 of this invention in cross section. It is a figure which shows a part of front of the charged particle device by Example 1 of this invention in cross section. It is a figure which shows a part of sample stage plane by Example 1 of this invention in cross section. It is a principal part perspective view of Example 1 of this invention. It is a figure which shows a part of side surface of the charged particle apparatus by Example 2 of this invention in cross section. It is a figure which shows a part of side surface of the charged particle device by Example 3 of this invention in cross section. It is a figure which shows a part of side surface of the charged particle device by Example 4 of this invention in cross section.
  • Example 5 of this invention It is a principal part perspective view of the charged particle apparatus by Example 5 of this invention. It is a principal part perspective view of the charged particle apparatus by Example 6 of this invention. It is principal part sectional drawing of the charged particle apparatus by Example 7 of this invention. It is principal part sectional drawing of the charged particle apparatus by Example 8 of this invention. It is principal part sectional drawing of the charged particle apparatus by Example 9 of this invention. It is principal part sectional drawing of the charged particle apparatus by Example 10 of this invention.
  • FIGS. 1 to 4 are schematic configuration diagrams of a charged particle apparatus that is Embodiment 1 of the present invention.
  • 1 is a cross-sectional view of a part of the charged particle device according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the front surface of the charged particle device according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a view showing a part of the plane of the sample stage of Example 1 as a cross section, and shows a cross section in a direction substantially orthogonal to the cross sectional directions of FIGS. 1 and 2.
  • FIG. 4 is a perspective view of a main part of the first embodiment.
  • the charged particle device 1 includes a long cylindrical column 2 at the top, and a sample chamber 3 having a hollow inside at the bottom of the column 2.
  • the sample chamber 3 is divided into a sample chamber upper portion 3a and a sample chamber bottom portion 3b.
  • the column 2 is installed and supported by the sample chamber upper part 3a (column fixing surface).
  • the column 2 includes a charged particle gun (charged particle generating means) and a sample detection system.
  • a sample stage support 4 having a hollow inside is installed in the upper portion 3a of the sample chamber so that the central axis of the column 2 is coincident with or parallel to the central axis of the upper portion 3a of the sample chamber as a support.
  • a sample stage 5 is built in the sample stage support 4.
  • the operator When processing and observing a sample, first, the operator makes settings for processing and observation while looking at the monitor 6. Setting conditions are transmitted from the monitor 6 to the control device 7, and a control signal from the control device 7 is sent to the column 2 and the sample stage 5. Then, the sample chamber surrounded by the sample chamber upper portion 3a and the sample chamber bottom portion 3b is evacuated, the sample stage 5 is moved to a predetermined position, and the charged particle gun of the column 2 is placed on the horizontal plane rotary table 41 of the sample stage 5. A charged particle is irradiated toward the sample.
  • the detection system of column 2 detects charged particles irradiated on the sample, and sends the detected data to the analysis unit 8. Then, an image of the sample analyzed by the analysis unit 8 is displayed on the monitor 6.
  • Circular holes 9a and 9b are formed on the inner wall of the sample stage support 4 so as to face each other, and the central axes of these holes 9a and 9b coincide with each other.
  • Horizontal plane inclined bearings 10 are installed in the holes 9a and 9b. At this time, the two bearings 10 facing each other are installed so that the rotation axes thereof coincide with each other.
  • the inner ring of the bearing 10 is provided with a horizontal plane inclined table 11 having a part of the shape of a cylinder and an end portion outside the bearing 10.
  • the shape of the horizontal plane tilt table 11 is not limited to the illustration, and may be other shapes.
  • a horizontal surface rotational force transmitting unit 12 such as a gear is installed.
  • the sample stage support 4 is provided with a horizontal plane rotation drive unit 13 such as an electric motor at a position where it engages with the horizontal plane rotational force transmission unit 12.
  • the horizontal plane tilt bearing 10, the horizontal plane tilt table 11, the horizontal plane rotational force transmission unit 12, and the horizontal plane rotation drive unit 13 form a tilt mechanism.
  • driving power and a control signal are supplied to the horizontal plane tilt driving unit 13 from a power source and a control device (not shown), and the driving unit 13 operates.
  • the driving force is transmitted to the horizontal plane tilt table 11 via the horizontal plane rotational force transmission unit 12, and the horizontal plane tilt table 11 rotates together with the horizontal plane tilt bearing 10.
  • a position sensor may be installed on the horizontal plane tilt table 11 to control the tilt angle.
  • sample may be taken out from the sample stage 5 through the circular inside of the horizontal plane tilting table 11.
  • the horizontal plane tilt table 11 is provided with two rows of vertical movement linear guides 20 in the vertical direction.
  • the vertical movement table 21 is supported at both ends by a vertical movement linear guide 20.
  • the shape of the vertical movement table 21 is not limited to the illustration.
  • a vertical driving force transmission unit 22 such as a ball screw or a ball spline is installed at the center of one side of the vertical moving table 21.
  • a vertical driving unit 23 such as an electric motor is installed in the center of the horizontal tilt table 11 on the sample stage side so as to be on the same axis as the vertical driving force transmission unit 22.
  • the vertical movement linear guide 20, the vertical movement table 21, the vertical driving force transmission unit 22, and the vertical driving unit 23 form a vertical driving mechanism.
  • drive power and a control signal are supplied to the vertical direction drive unit 23 from a power source and a control device (not shown), and the drive unit operates.
  • the driving force is transmitted to the vertical direction moving table 21 via the vertical direction driving force transmitting unit 22, and the vertical direction moving table 21 moves on the vertical direction moving linear guide 20.
  • a position sensor may be installed on the table to perform vertical position control.
  • the vertical driving force transmission unit 22 is installed at the center in the horizontal direction of the vertical movement table 21, a moment around the vertical axis of the table surface does not easily act on the table 21 during movement, and the operation is stable.
  • the vertical movement linear guide 20 supports both ends of the vertical movement table 23, the table 21 is difficult to rotate and a stable operation is achieved.
  • two rows of horizontal movement linear guides (inclination axis perpendicular direction) so as to be perpendicular to a horizontal inclination axis (an axis in which the holes 9a and 9b of the sample stage support 4 extend in the opposite direction). 30 are installed at wide intervals.
  • the horizontal movement table (inclination axis perpendicular direction) 31 is supported at both ends by a horizontal movement linear guide (inclination axis orthogonal direction) 30.
  • the horizontal direction moving table (direction perpendicular to the tilt axis) 31 is not limited to the illustration, and various modifications are possible.
  • a horizontal driving force transmission unit 32 (FIG. 3) such as a ball screw or a ball spline is installed.
  • a horizontal driving unit (inclination axis perpendicular direction) 33 such as an electric motor is installed so as to be on the same axis as the horizontal driving force transmission unit 32.
  • the horizontal movement table 31 is provided with two rows of horizontal movement linear guides (extending in the direction of the tilt axis) 34 at a wide interval so as to be in the same direction as the horizontal plane tilt axis.
  • the horizontal direction moving table (inclination axis direction) 35 is supported by the horizontal direction movement linear guide (inclination axis direction) 34 and the end thereof.
  • the horizontal movement table (inclination axis direction) 35 is not limited to the illustration, and various modifications are possible.
  • a horizontal driving force transmission unit (inclination axis direction) 36 such as a ball screw or a ball spline is installed.
  • a horizontal direction driving mechanism includes a horizontal direction moving linear guide 30, a horizontal direction moving table 31, a horizontal direction driving force transmission unit 32, a horizontal direction driving unit 33, a horizontal direction moving linear guide 34, and a horizontal direction moving table 35. Is formed.
  • a horizontal direction drive unit (tilt axis direction) 37 is installed on the horizontal direction moving table (tilt axis direction) 35. Further, on the horizontal movement table 35, for example, a horizontal driving unit (inclination axis direction) such as an electric motor is installed so as to be on the same axis as the horizontal driving force transmission unit 36.
  • drive power and a control signal are supplied to the drive units 33 and 37 from a power supply and control device (not shown), and the drive units 33 and 37 operate.
  • the driving force of the drive units 33 and 37 is transmitted to the movement tables 31 and 35 via the transmission units 32 and 36, and the movement tables 31 and 35 move on the linear guides 30 and 34.
  • position sensors may be installed on the tables 31 and 35 to perform horizontal position control.
  • the horizontal direction driving force transmission part (inclination axis perpendicular direction) 32 is installed at the center of the horizontal direction movement drive part (inclination axis perpendicular direction) 33, the moment around the vertical axis hardly acts on the table 32 during movement, Stable operation. Further, since the horizontal movement linear guide (inclination axis perpendicular direction) 30 supports both ends of the horizontal movement table (inclination axis orthogonal direction) 31, the table 31 is difficult to rotate and a stable movement operation is achieved.
  • the horizontal driving force transmission portion (tilt axis direction) 36 is installed at the center of the horizontal movement table (tilt axis direction) 35, a moment around the vertical axis acts on the table 35 when the table 35 moves. It is hard to do and becomes stable operation.
  • the horizontal movement linear guide (inclination axis direction) 34 supports both ends of the horizontal movement table (inclination axis direction) 35, the table 35 is difficult to rotate and a stable operation is achieved.
  • the horizontal moving table (tilt axis direction) 35 is provided with a horizontal rotary bearing 40 so that the bearing rotary shaft is in the vertical direction.
  • a horizontal surface rotary table 41 is disposed on the inner ring of the bearing 40.
  • the shape of the horizontal surface rotary table 41 is not limited to the illustration, and various modifications are possible.
  • On the outer periphery of the table 41 for example, a horizontal plane rotational force transmission unit 42 such as a gear is installed.
  • a horizontal plane rotation drive unit 43 such as an electric motor is installed at a position where it is engaged with the horizontal plane rotational force transmission unit 42.
  • a horizontal plane rotation mechanism is formed by the bearing 40, the horizontal plane rotation table 41, the horizontal plane rotation force transmission unit 42, and the horizontal plane rotation drive unit 43.
  • drive power and a control signal are supplied to the drive unit 43 from a power supply and control device (not shown), and the drive unit 43 operates.
  • the driving force from the driving unit 43 is transmitted to the moving table 41 via the transmitting unit 42, and the moving table 41 rotates together with the bearing 40.
  • a position sensor may be installed on the table, and the rotation angle in the horizontal plane may be controlled.
  • a column 1 having a charged particle beam generator and a sample stage support 4 that supports a sample stage 5 are both supported by a sample chamber upper part 3a, and the central axis of the column 1 and sample stage support are supported.
  • the center axis of the body 4 is configured to be coincident or parallel to each other.
  • both the column 2 and the sample stage 5 are fixed to the upper portion 3a of the sample chamber. Relative displacement hardly occurs between
  • the sample stage support 4 is not expanded on the inner side where the sample stage 5 is disposed, but only on the outer side, the sample stage 5 can be made highly rigid without narrowing the movable range of the sample stage 5, and the relative displacement can be reduced. Smaller.
  • a turbo molecular pump is usually installed below the sample chamber, but the sample stage 5 is fixed to the upper portion 3a of the sample chamber, so that the sample stage is fixed to the bottom of the sample chamber.
  • the degree of freedom of the installation position of the tarb molecular pump can be increased.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of a part of the front surface of the charged particle device according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 corresponds to FIG. 2 showing the first embodiment.
  • the example shown in FIG. 5 has, in the example of FIG. 2, a horizontal plane tilt table 11 a supported at both ends by the horizontal plane tilt bearing 10, and an inclined surface installed between the horizontal plane tilt table 11 a and the vertical movement table 21.
  • a force transmission unit 25 and a horizontal driving unit 24 installed in the horizontal driving force transmission unit 25 are added.
  • the vertical moving linear guide 20 is supported on the inner side wall of the horizontal plane tilt table 11a.
  • the second embodiment of the present invention is configured as described above, it is possible to obtain the same effect as the first embodiment, and in addition to the first embodiment, the vertical movement table 21 can be moved in the vertical direction.
  • the moving operation pitch can be reduced.
  • the operation pitch can be changed by changing the inclined surface angle of the inclination direction moving guide 26.
  • the movement range can be increased.
  • the support rigidity is higher than that of the first embodiment.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of a part of the front surface of the charged particle device according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a diagram corresponding to FIG. 2 illustrating the first embodiment.
  • an inclined shaft rotary bearing 50 is installed inside the sample stage support 4 so that the rotary shaft faces the same direction as the vertical axis.
  • An inclined shaft rotary table 51 is installed on the inner ring of the bearing 50.
  • the inclined shaft rotary table 51 is formed with circular holes 9c and 9d facing each other.
  • a tilt axis rotational force transmission unit 52 is installed at the lower end of the tilt axis rotation table 51, and an tilt axis rotation drive unit 53 is installed at the lower end of the sample stage support 4.
  • the horizontal inclined bearing 10 is installed in the holes 9 c and 9 d of the inclined shaft rotary table 51.
  • tilt axis rotation drive unit 53 When rotating the tilt axis rotation table 51, drive power and a control signal are supplied to the tilt axis rotation drive unit 53 from a power supply and control device (not shown), and the tilt axis rotation drive unit 53 operates.
  • the driving force of the tilt axis rotation drive unit 53 is transmitted to the tilt axis rotation table 51 provided with the horizontal plane tilt mechanism via the tilt axis rotation force transmission unit 52, and the rotation table 51 rotates together with the bearing 50.
  • a position sensor may be installed on the tilt axis rotary table 51 and the rotation angle of the tilt axis rotary table 51 may be controlled.
  • the third embodiment of the present invention is configured as described above, an effect equivalent to that of the first embodiment can be obtained, and even if the horizontal movement linear guide 30 is installed at an inclination, the tilt shaft can be rotated.
  • the table 51 can be rotated to correct the tilt.
  • the tilt axis can be changed by adjusting the direction of the columns.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of a part of the front surface of the charged particle device according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a diagram corresponding to FIG. 2 illustrating the first embodiment.
  • FIG. 7 differs from the example of FIG. 2 in that, in the example of FIG. 7, a plurality of openings 61 are formed in the side wall of the stage support 4.
  • the fourth embodiment can obtain the same effects as those of the first embodiment, and can also insert the microsampling 60 into the stage 5 through the opening 61.
  • an apparatus including a plurality of columns for example, a dual beam apparatus, it is possible to irradiate the sample with charged particles from other than the upward direction.
  • the fourth embodiment can also be applied to the first to third embodiments.
  • FIG. 8 is a perspective view of a main part of the charged particle device according to the fifth embodiment of the present invention.
  • a plurality of ribs 62 are formed on the outer side surface of the stage support 4.
  • the plate thickness of the plurality of ribs 62 can be configured to change in the vertical direction. In this case, the plate thickness of the rib 62 can be configured to be greatest at the lower end of the stage support 4.
  • the shape and the number (6) of the ribs 62 can be other than the illustrated example.
  • the fifth embodiment of the present invention is configured as described above, the same effects as those of the first embodiment can be obtained, and in addition to the first embodiment, the side surface of the stage support 4 is out of plane.
  • the bending rigidity is increased, and vibrations deforming in the out-of-plane bending direction can be reduced.
  • the thickness of the side surface of the stage support body 4 is reduced and the plate thickness of the rib 62 is increased, the stage support body 4 can be made light and highly rigid.
  • FIG. 9 is a perspective view of essential parts of a charged particle device according to Embodiment 6 of the present invention.
  • the stage support 4 is provided with a plurality of core members 63 having higher rigidity than the stage support 4 in the vertical direction from the upper end to the lower end of the stage support 4.
  • the shape and the number of the core members 63 may be other than the illustrated example.
  • the sixth embodiment can obtain the same effect as the first embodiment by adopting the above-described configuration, and has a higher tensile and compressive rigidity in the vertical direction of the stage support 4 than the first embodiment. It is possible to reduce the vertical deformation caused by.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view of a main part of the charged particle device according to the seventh embodiment of the present invention, and a part thereof is omitted.
  • the stage support 4a has the largest thickness at the upper end, becomes smaller as it goes downward, and becomes smallest at the lower end.
  • the seventh embodiment of the present invention is configured as described above, the same effects as those of the first embodiment can be obtained, and only the fixing portion is stronger than the first weight compared to the first embodiment. In addition, the stage support 4 is reduced in weight.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view of a main part of the charged particle device according to the eighth embodiment of the present invention.
  • an attenuating material 3c is arranged between the sample chamber upper portion 3a and the sample chamber lower portion 3b.
  • the eighth embodiment of the present invention is configured as described above, the same effects as those of the first embodiment can be obtained, and the column 2 and the stage 5 are input as compared with the first embodiment. Vibration is reduced.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view of a main part of a charged particle device according to Embodiment 9 of the present invention.
  • the upper part 3a of the sample chamber has an opening 3a1 with a step at the center, and a flange 4u at the upper end of the stage support 4 is installed on the step of the opening 3a1.
  • the column 2 is installed from above on the flange 4 u at the upper end of the stage support 4, and each other with bolts or the like so that the flange 2 d at the lower part of the column 2 is integrated with the flange 4 u at the upper end of the stage support 4. Fix it.
  • the stage support 4 can be mounted on the upper portion 3a of the sample chamber as compared with the first embodiment. Can be crimped to.
  • FIG. 13 is a partial cross-sectional view of a charged particle device according to Example 10 of the present invention.
  • the sample chamber upper part 3a has an opening 3a1 with a step at the center, and a flange 4u at the upper end of the stage support 4 is installed at the step of the opening 3a1.
  • the surface of the flange 4u at the upper end of the stage support 4 is installed so as to be flush with the surface of the upper part 3a of the sample chamber.
  • the column 2 is installed on the flange 4u at the upper end of the stage support 4 from above, and is fixed with bolts or the like so that the flange 2d at the lower part of the column 2 is integrated with the flange 4u at the upper end of the stage support 4.
  • the size of the bottom 2d of the column 2 is larger than the top 4u of the upper end of the stage support 4.
  • a position adjusting screw 64 is installed on the same axis as the moving axis of the stage 5 in the horizontal direction.
  • the tilting axis of the stage 5 and the center axis of the column 2 can be positioned with the position adjusting screw 64. Can be adjusted.
  • Horizontal driving unit 25 ... horizontal driving force transmission unit, 26 ... tilt direction moving guide, 27 ... Horizontal movement 30 ... Horizontal movement linear guide (inclination axis perpendicular direction), 31 ... Horizontal movement table (inclination axis perpendicular direction), 32 ... Horizontal driving force transmission part (inclination axis perpendicular direction), 33: Horizontal driving unit (inclination direction of tilt axis), 34: Horizontal movement linear guide (inclination axis direction), 35: Horizontal movement table (inclination axis direction), 36: Horizontal direction Driving force transmission part (inclination axis direction), 37 ... Horizontal direction driving part (inclination axis direction), 40 ... Horizontal plane rotation bearing, 41 ... Horizontal plane rotation table, 42 ...
  • Horizontal plane rotation force transmission part, 43 Horizontal plane rotation drive unit, 50 ... Tilt axis rotary bearing, 51 ... Tilt axis rotary table, 52 ... Tilt axis rotary force transmission unit, 53 ... Tilt axis rotary drive unit, 60. ⁇ Microphone Sampling, 61 ... opening, 62 ... rib, 63 ... core, 64 ... position adjusting screw

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

 試料ステージの可動範囲を狭めず振動の影響を防止し荷電粒子発生部と試料ステージの相対変位を抑制可能な荷電粒子装置が実現される。荷電粒子装置(1)は上部に長筒状のカラム(2)を備えカラム(2)の下部には内部が空洞の試料室(3)がある。試料室(3)は水平方向の振動よりも垂直方向の振動が大の試料室上部(3a)と水平方向の振動が大の試料室底部(3b)に分かれカラム(2)は荷電粒子銃及び試料検出系を備える。カラム(1)と試料ステージ(5)を支持する試料ステージ支持体(4)が共に試料室上部(3a)に支持されカラム(1)の中心軸と試料ステージ支持体(4)の中心軸が一致又は平行となるように構成されている。環境音がカラム(2)や試料室(3)に加わってもカラム(2)と試料ステージ(5)が共に試料室上部(3a)に固定され互いに一体となり振動するので荷電粒子発生部と試料の間に相対変位が生じにくい。

Description

荷電粒子装置
 本発明は、試料ステージを有する荷電粒子装置に関する。
 荷電粒子装置は、荷電粒子を試料に向けて照射し、試料を加工・観察するものである。試料は試料ステージと呼ばれる台に載せられており、様々な形状へ加工されたり、様々な方向から観察されたりする。
 そのため、試料ステージは、面内や面外など多数の方向に駆動する機構を備えている。例えば、特許文献1に記載された技術のように、試料ステージは、面内・面外に駆動する多軸の機構を備えている。また、試料ステージに環境音や床振動などの外部振動が加わると、荷電粒子とステージ上の試料との間に相対変位が生じる。
 これにより、例えば電子顕微鏡では観察像に揺らぎが生じ、分解能が低下する。また、イオンビーム加工装置では加工位置がずれ加工精度が低下する。これらの装置は、分解能や加工精度が極めて小さいため、微小な振動であっても影響を受ける。
 そのため、試料ステージと荷電粒子発生部とは相対変位が生じにくいように構成されている。例えば、特許文献2に記載の技術では、試料ステージと荷電粒子発生部との相対変位が生じないように、対物レンズとステージとを4本の柱で繋いでいる。
特開2003-282016号公報 特開平6-176729号公報
 しかしながら、従来技術においては、例えば、特許文献1に記載ように、試料ステージが試料室側面で支持されており、荷電粒子発生部のカラム支持位置と試料ステージ支持位置とは一体となっていない。
 このような構造では、装置振動時にカラムと試料ステージとが一体となって振動しないため、試料ステージを強固にしても荷電粒子発生部と試料ステージとの相対変位が小さくはならない。
 相対変位を小さくするためには、カラム支持位置と試料ステージ支持位置とが一体になるように、試料室を小型化することが考えられる。
 しかし、試料室を小型化すると、試料ステージの可動範囲が限定されてしまい、試料の加工・観察範囲が限定されてしまう。また、特許文献2に記載の構造では、相対変位をより小さくするために支柱を高剛性化すると、支柱が太くなり試料ステージの可動範囲が限定されてしまう。さらに、試料台は支柱下部で支えられているため、面外運動が制限されてしまう。
 本発明の目的は、試料ステージの可動範囲を狭めることなく、振動の影響を防止し、荷電粒子発生部と試料ステージとの相対変位を最小限に抑制することが可能な荷電粒子装置を実現することである。
 上記目的を達成するため、本発明は次のように構成される。
  本発明の荷電粒子装置は長筒状のカラムと、カラムが面に垂直な方向に設置される試料室と、内部が空洞で試料室のカラム設置面と同じ面に設置されている試料ステージ支持体と、支持体に内蔵されている試料ステージを備えている。試料ステージは支持体で支持される水平面傾斜機構と、水平面傾斜機構で支持される垂直方向駆動機構と、垂直方向駆動機構で支持される水平面駆動機構と、水平面駆動機構で支持される水平面内回転機構を備えている。
さらに、本発明の荷電粒子装置は、水平面傾斜機構の傾斜軸と回転中心軸が直交するよう支持体側面に設置された傾斜軸回転機構を備えている。
さらに、本発明の荷電粒子装置は、傾斜した駆動面を持つ垂直方向駆動機構を備えている。
さらに、本発明の荷電粒子装置は側面に穴を開けた試料ステージ支持体を備えている。
 本発明によれば、ステージの可動範囲を狭めることなく、振動の影響を防止し、荷電粒子と試料の相対変位を最小限に抑制する多軸の荷電粒子装置の試料ステージを提供できる。
本発明の実施例1による荷電粒子装置の側面の一部を断面にして示す図である。 本発明の実施例1による荷電粒子装置の正面の一部を断面にして示す図である。 本発明の実施例1による試料ステージ平面の一部を断面にして示す図である。 本発明の実施例1要部斜視図である。 本発明の実施例2による荷電粒子装置の側面の一部を断面にして示す図である。 本発明の実施例3による荷電粒子装置の側面の一部を断面にして示す図である。 本発明の実施例4による荷電粒子装置の側面の一部を断面にして示す図である。 本発明の実施例5による荷電粒子装置の要部斜視図である。 本発明の実施例6による荷電粒子装置の要部斜視図である。 本発明の実施例7による荷電粒子装置の要部断面図である。 本発明の実施例8による荷電粒子装置の要部断面図である。 本発明の実施例9による荷電粒子装置の要部断面図である。 本発明の実施例10による荷電粒子装置の要部断面図である。
 以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
 図1~図4は、本発明の実施例1である荷電粒子装置の概略構成図である。図1は実施例1における荷電粒子装置の側面の一部を断面にして示した図であり、図2は実施例1の荷電粒子装置の正面の一部を断面にして示した図、図3は実施例1の試料ステージの平面の一部を断面にして示した図であり、図1、図2の断面方向とほぼ直交する方向の断面を示している。図4は、実施例1の要部斜視図である。
 図1~図4において、荷電粒子装置1は、上部に長筒状のカラム2を備え、カラム2の下部には内部が空洞の試料室3がある。試料室3は試料室上部3aと試料室底部3bに分かれている。このうち、試料室上部3a(カラム固定面)にはカラム2が設置され支持されている。カラム2には、荷電粒子銃(荷電粒子発生手段)及び試料検出系を備えている。
 カラム2の中心軸が支持体である試料室上部3aの中心軸と一致もしくは平行になるように、試料室上部3aには内部が空洞の試料ステージ支持体4が設置されている。そして、試料ステージ支持体4に試料ステージ5が内蔵されている。
 試料の加工・観察時には、まず、操作者がモニタ6を見ながら加工・観察のための設定を行なう。設定条件がモニタ6から制御装置7に伝達され、制御装置7からの制御信号がカラム2や試料ステージ5に送られる。そして、試料室上部3a及び試料室底部3bにより囲まれた試料室内が真空排気され、試料ステージ5が所定の位置に移動し、カラム2の荷電粒子銃から試料ステージ5の水平面回転テーブル41上の試料に向けて、荷電粒子が照射される。
 カラム2の検出系は、試料に照射された荷電粒子を検出し、検出したデータを分析部8に送る。そして、分析部8により分析された試料の画像がモニタ6に表示される。
 試料ステージ支持体4の内壁には、円形の穴9a、9bが互いに対向する位置に形成されており、これらの穴9a、9bの中心軸は一致している。この穴9a、9bに、水平面傾斜軸受10が設置されている。このとき、互いに対向する2つの軸受10の回転軸が一致するように設置されている。
 軸受10の内輪には、形状の一部が円筒で端部が軸受10よりも外側にある水平面傾斜テーブル11が設置されている。ただし、水平面傾斜テーブル11の形状は図示の限りではなく、他の形状であってもよい。水平面傾斜テーブル11の円筒端部には、例えばギアのような水平面回転力伝達部12が設置されている。また、試料ステージ支持体4には、水平面回転力伝達部12と噛合う位置に、例えば電動モーターのような水平面回転駆動部13が設置されている。水平面傾斜軸受10と、水平面傾斜テーブル11と、水平面回転力伝達部12と、水平面回転駆動部13とにより傾斜機構が形成される。
 水平面傾斜テーブル11の水平面を傾斜させる場合には、図示しない電源及び制御装置から駆動電力及び制御信号が水平面傾斜駆動部13に供給され、駆動部13が動作する。駆動力が水平面回転力伝達部12を介して水平面傾斜テーブル11に伝達され、水平面傾斜テーブル11が水平面傾斜軸受10と共に回転する。このとき、水平面傾斜テーブル11に位置センサを設置しておき、傾斜角度の制御を行っても良い。
 なお、水平面傾斜テーブル11の円形内部を通して、試料ステージ5から試料を取り出してもよい。
 水平面傾斜テーブル11には、垂直方向に2列の垂直方向移動リニアガイド20が設置されている。垂直方向移動テーブル21は垂直方向移動リニアガイド20で両端部を支持されている。垂直方向移動テーブル21の形状は図示の限りではない。垂直方向移動テーブル21の片側中央には、例えばボールねじやボールスプラインなどのような垂直方向駆動力伝達部22が設置されている。水平面傾斜テーブル11の試料ステージ側中央には、垂直方向駆動力伝達部22と同一軸上になるよう、例えば電動モーターのような垂直方向駆動部23が設置されている。垂直方向移動リニアガイド20と、垂直方向移動テーブル21と、垂直方向駆動力伝達部22と、垂直方向駆動部23とにより垂直方向駆動機構が形成される。
 垂直方向に駆動する場合には、図示しない電源及び制御装置から駆動電力及び制御信号が垂直方向駆動部23に供給され、駆動部が動作する。駆動力が垂直方向駆動力伝達部22を介して垂直方向移動テーブル21に伝達され、垂直方向移動テーブル21が垂直方向移動リニアガイド20上を移動する。このとき、テーブルに位置センサを設置しておき、垂直方向の位置制御を行っても良い。
 垂直方向駆動力伝達部22が垂直方向移動テーブル21の水平方向の中央に設置されているため、移動時にテーブル面垂直軸周りのモーメントがテーブル21に作用しにくく、安定した動作になる。また、垂直方向移動リニアガイド20が垂直方向移動テーブル23の両端を支持しているため、テーブル21が回転しにくく安定した動作になる。
 垂直方向移動テーブル21上には水平面傾斜軸(試料ステージ支持体4の穴9a、9bが互いに対向する方向に伸びる軸)と直角になるよう2列の水平方向移動リニアガイド(傾斜軸直角方向)30が広い間隔で設置されている。水平方向移動テーブル(傾斜軸直角方向)31は水平方向移動リニアガイド(傾斜軸直角方向)30で両端を支持されている。水平方向移動テーブル(傾斜軸直角方向)31は図示の限りではなく、種々の変形が可能である。
 水平方向移動テーブル31の中央には、例えばボールねじやボールスプラインなどの水平方向駆動力伝達部32(図3)が設置されている。垂直方向移動テーブル21上には、水平方向駆動力伝達部32と同一軸上になるよう、例えば、電動モーターのような水平方向駆動部(傾斜軸直角方向)33が設置されている。
 さらに、水平方向移動テーブル31には水平面傾斜軸と同一方向になるよう2列の水平方向移動リニアガイド(傾斜軸方向に延びる)34が広い間隔で設置されている。
 水平方向移動テーブル(傾斜軸方向)35は、水平方向移動リニアガイド(傾斜軸方向)34で、その端部が支持されている。水平方向移動テーブル(傾斜軸方向)35は図示の限りではなく、種々の変形が可能である。テーブル35の中央部には、例えばボールねじやボールスプラインなどの水平方向駆動力伝達部(傾斜軸方向)36が設置されている。水平方向移動リニアガイド30と、水平方向移動テーブル31と、水平方向駆動力伝達部32と、水平方向駆動部33と、水平方向移動リニアガイド34と、水平方向移動テーブル35とにより水平方向駆動機構が形成される。
 また、水平方向移動テーブル(傾斜軸方向)35には水平方向駆動部(傾斜軸方向)37が設置されている。さらに、水平方向移動テーブル35上には、水平方向駆動力伝達部36と同一軸上になるよう、例えば、電動モーターのような水平方向駆動部(傾斜軸方向)が設置されている。
 水平方向移動テーブル35が水平方向に移動する場合には、図示しない電源及び制御装置から駆動電力及び制御信号が駆動部33、37に供給され、駆動部33、37が動作する。駆動部33、37の駆動力が伝達部32、36を介して移動テーブル31、35に伝達され、移動テーブル31、35が、リニアガイド30、34上を移動する。このとき、テーブル31、35に位置センサを設置しておき、水平方向の位置制御を行っても良い。
 水平方向駆動力伝達部(傾斜軸直角方向)32が水平方向移動駆動部(傾斜軸直角方向)33の中央に設置されているため、移動時に垂直軸周りのモーメントがテーブル32に作用しにくく、安定した動作になる。また、水平方向移動リニアガイド(傾斜軸直角方向)30が水平方向移動テーブル(傾斜軸直角方向)31の両端を支持しているため、テーブル31が回転しにくく安定した移動動作となる。
 同様に、水平方向駆動力伝達部(傾斜軸方向)36が水平方向移動テーブル(傾斜軸方向)35の中央に設置されているため、テーブル35の移動時に垂直軸周りのモーメントがテーブル35に作用しにくく、安定した動作になる。また、水平方向移動リニアガイド(傾斜軸方向)34が水平方向移動テーブル(傾斜軸方向)35の両端を支持しているため、テーブル35が回転しにくく安定した動作になる。
 水平方向移動テーブル(傾斜軸方向)35には、軸受回転軸が垂直方向になるよう水平面回転軸受40が設置されている。軸受40の内輪には水平面回転テーブル41が配置されている。水平面回転テーブル41の形状は図示の限りではなく、種々の変形が可能である。テーブル41の外周には例えばギアなどのような水平面回転力伝達部42が設置されている。水平方向移動テーブル(傾斜軸方向)35には、水平面回転力伝達部42とかみ合う位置に、例えば電動モーターのような水平面回転駆動部43が設置されている。軸受40と、水平面回転テーブル41と、水平面回転力伝達部42と、水平面回転駆動部43とにより、水平面内回転機構が形成される。
 テーブル41が水平面内で回転する場合には、図示しない電源及び制御装置から駆動電力及び制御信号が駆動部43に供給され、駆動部43が動作する。駆動部43からの駆動力が伝達部42を介して移動テーブル41に伝達され、移動テーブル41が軸受40と共に回転する。このとき、テーブルに位置センサを設置しておき、水平面内の回転角度の制御を行っても良い。
 本発明の実施例1は、荷電粒子線発生部を有するカラム1と、試料ステージ5を支持する試料ステージ支持体4とが共に試料室上部3aに支持され、カラム1の中心軸と試料ステージ支持体4の中心軸とが一致若しくは互いに平行となるように構成されている。
 よって、環境音がカラム2や試料室3に加わっても、カラム2と試料ステージ5が共に試料室上部3aに固定されているため、互いに一体となって振動するので、荷電粒子発生部と試料との間に相対変位が生じにくい。
 試料ステージ支持体4を、試料ステージ5が配置される内部側は拡張せず、外部側のみ拡張させると、試料ステージ5の可動範囲を狭めることなく試料ステージ5を高剛性化でき、相対変位がより小さくなる。
 また、試料ステージ支持体4は外側及び内部空間を拡張させると、試料ステージ5が高剛性化するだけでなく、可動範囲を広げることができる。
 また、通常、試料室の下方にターボ分子ポンプが設置されるが、試料ステージ5が試料室上部3aに固定される構成となっているので、試料室の底部に試料ステージが固定される場合と比較して、ターブ分子ポンプの設置位置の自由度を増加することができる。
 図5は、本発明の実施例2による荷電粒子装置の正面の一部を断面にして示した図である。この図5は、実施例1を示した図2に対応する図である。
 図5に示した例は、図2の例に、水平面傾斜軸受10に両端を支持された水平面傾斜テーブル11aと、水平面傾斜テーブル11a及び垂直方向移動テーブル21の間に設置された傾斜面を持つ傾斜方向移動ガイド26と、傾斜方向移動ガイド26を両端で支持する水平方向移動ガイド27と、傾斜方向移動ガイド26の中央に設置された、例えば、ボールねじやボールスプラインなどのような水平方向駆動力伝達部25と、水平方向駆動力伝達部25に設置された水平方向駆動部24とが追加されている。
 垂直方向移動リニアガイド20は、水平面傾斜テーブル11aの内側側壁に支持されている。
 図5において、垂直方向移動テーブル21を垂直方向に駆動するには場合には、図示しない電源及び制御装置から駆動電力及び制御信号が駆動部24に供給され、駆動部24が動作する。駆動部24の駆動力が伝達部25を介して傾斜方向移動ガイド26下部に伝達され、水平方向移動ガイド27に沿って、傾斜方向移動ガイド26下部が移動し、ガイド26の上下間の傾斜面がスライドし、垂直方向移動リニアガイド20に沿って、傾斜方向移動ガイド26上部とともに垂直方向移動テーブル21が移動する。このとき、テーブル21に位置センサを設置しておき、垂直方向の位置制御を行っても良い。
 その他の構成は、実施例1と同等であるので、図示及び詳細な説明は省略する。
 本発明の実施例2は、以上のように構成されているので、実施例1と同等な効果を得ることができる他、実施例1に比較して、垂直方向移動テーブル21の垂直方向への移動動作ピッチを細かくすることができる。
 また、傾斜方向移動ガイド26の傾斜面角度を変えると、動作ピッチを変えることができる。
 さらに、傾斜方向移動ガイド26の動作方向寸法を長くすると、移動範囲を大きくすることができる。
 さらに、傾斜方向移動ガイド26が垂直方向移動テーブル21を下方から支持しているため、実施例1と比べ支持剛性が高くなる。
 図6は、本発明の実施例3による荷電粒子装置の正面の一部を断面にして示した図である。この図6は、実施例1を示した図2に対応する図である。
 図6において、試料ステージ支持体4の内側には、回転軸が垂直軸と同一方向を向く傾斜軸回転軸受50が設置されている。軸受50の内輪には、傾斜軸回転テーブル51が設置されている。傾斜軸回転テーブル51は、互いに対向する円形の穴9c、9dが形成されている。傾斜軸回転テーブル51の下端には傾斜軸回転力伝達部52が設置され、試料ステージ支持体4の下端には、傾斜軸回転駆動部53が設置されている。また、傾斜軸回転テーブル51の穴9c、9dには、水平面傾斜軸受10が設置されている。
 傾斜軸回転テーブル51を回転する場合には、図示しない電源及び制御装置から駆動電力及び制御信号が傾斜軸回転駆動部53に供給され、傾斜軸回転駆動部53が動作する。傾斜軸回転駆動部53の駆動力が傾斜軸回転力伝達部52を介して、水平面傾斜機構が設置された傾斜軸回転テーブル51に伝達され、回転テーブル51が軸受50と共に回転する。このとき、傾斜軸回転テーブル51に位置センサを設置しておき、傾斜軸回転テーブル51の回転角度の制御を行っても良い。
 その他の構成は、実施例1と同等であるので、図示及び詳細な説明は省略する。
 本発明の実施例3は、以上のように構成されているので、実施例1と同等な効果を得ることができる他、水平方向移動リニアガイド30が傾いて設置されていても、傾斜軸回転テーブル51を回転させて、傾きを補正することができる。
 また、複数のカラムを備えた装置、例えばデュアルビーム装置においては、カラムの向きをあわせて傾斜軸を変えることが可能になる。
 図7は、本発明の実施例4による荷電粒子装置の正面の一部を断面にして示した図である。この図7は、実施例1を示した図2に対応する図である。
 図7の例と図2の例との異なるところは、図7の例においては、ステージ支持体4の側壁に複数の開口部61が形成されているところである。
 その他の構成は実施例1と同様な構成となっている。
 実施例4は、上記構成にすることで、実施例1と同等な効果を得ることができる他、マイクロサンプリング60を、開口部61を介してステージ5内に挿入することが可能になる。また、複数のカラムを備えた装置、例えばデュアルビーム装置においては、上方向以外からも荷電粒子を試料に向けて照射することが可能になる。
 なお、この実施例4は、実施例1~3にも適用可能である。
 図8は、本発明の実施例5による荷電粒子装置の要部斜視図である。
 図8において、ステージ支持体4の外側側面には複数のリブ62を形成する。複数のリブ62の板厚は、垂直方向に変化するように構成することができる。この場合、リブ62の板厚は、ステージ支持体4の下端部で最も大きくなるように構成することができる。
 また、リブ62の形状及び本数(6)は図示した例以外でも可能である。
 他の構成は、実施例1と同等であるので、図示及び詳細な説明は省略する。
 本発明の実施例5は、以上のような構成となっているので、実施例1と同等な効果を得ることができる他、実施例1に比較して、ステージ支持体4の側面の面外曲げ剛性が高くなり、面外の曲げ方向に変形する振動を低減することができる。また、ステージ支持体4の側面の厚さを減らし、リブ62の板厚を増加すると、ステージ支持体4を軽量で高剛性な構造にすることができる。
 図9は、本発明の実施例6による荷電粒子装置の要部斜視図である。
 図9において、ステージ支持体4は、このステージ支持体4よりも高剛性な芯材63を、ステージ支持体4の上端から下端まで、垂直方向に複数本設置する。芯材63の形状及び本数は、図示して例以外とすることも可能である。
 その他の構成は実施例1と同様な構成となっている。
 実施例6は、上記構成にすることで、実施例1と同等な効果を得ることができる他、実施例1に比較して、ステージ支持体4の垂直方向の引張圧縮剛性が高くなり、自重による垂直方向の変形を低減できる。
 図10は、本発明の実施例7による荷電粒子装置の要部断面図であり、一部を省略して示している。
 図10において、ステージ支持体4aは上端で厚さが最も大きく、下方に向かうに従って小さくなり、下端で最も小さくなる。
 他の構成は、実施例1と同等であるので、図示及び詳細な説明は省略する。
 本発明の実施例7は、以上のような構成となっているので、実施例1と同等な効果を得ることができる他、実施例1に比べ、固定部が自重に対して強くなるだけでなく、ステージ支持体4が軽量化される。
 図11は、本発明の実施例8による荷電粒子装置の要部断面図である。
 図11において、試料室3は、試料室上部3aと試料室下部3bの間に減衰材3cが配置されている。
 他の構成は、実施例1と同等であるので、図示及び詳細な説明は省略する。
 本発明の実施例8は、以上のような構成となっているので、実施例1と同等な効果を得ることができる他、実施例1に比較して、カラム2及びステージ5に入力される振動が小さくなる。
 図12は、本発明の実施例9による荷電粒子装置の要部断面図である。
 図12において、試料室上部3aは中央部に段差の付いた開口部3a1が形成されており、開口部3a1の段差に、上からステージ支持体4の上端部の鍔4uを設置する。ステージ支持体4の上端部の鍔4uには、上からカラム2を設置し、カラム2の下部の鍔2dがステージ支持体4の上端部の鍔4uと一体となるようにボルトなどで互いを固定する。
 他の構成は、実施例1と同等であるので、図示及び詳細な説明は省略する。
 本発明の実施例9は、以上のような構成となっているので、実施例1と同等な効果を得ることができる他、実施例1に比較して、ステージ支持体4を試料室上部3aに圧着させることができる。
 図13は、本発明の実施例10による荷電粒子装置の一部断面図である。
 図13において、試料室上部3aは中央部に段差の付いた開口部3a1が形成されおり、開口部3a1の段差に、上からステージ支持体4上端部の鍔4uを設置する。ステージ支持体4の上端部の鍔4uの面は、試料室上部3a表面と同一平面になるよう設置する。ステージ支持体4上端部の鍔4uには、上からカラム2を設置し、カラム2の下部の鍔2dがステージ支持体4上端部の鍔4uと一体となるようボルトなどで固定する。
 カラム2の下部の鍔2dの大きさはステージ支持体4の上端部の鍔4uよりも大きくする。試料室上部3aには、ステージ5の水平方向の移動軸と同一軸上に位置調整ねじ64を設置する。カラム2の位置を調整する場合には、カラム2を固定するボルトを取外し、位置調整ねじ64を回して、ねじ64がカラム2を押しながら移動させる。
 他の構成は、実施例1と同等であるので、図示及び詳細な説明は省略する。
 本発明の実施例10は、以上のような構成となっているので、実施例1と同等な効果を得ることができる他、ステージ5の傾斜軸とカラム2の中心軸とを位置調節ねじ64により調整することが可能になる。
 1・・・荷電粒子装置、 2・・・カラム、 2d、4u・・・鍔、3a・・・試料室上部、3a1・・・開口部、 3b・・・試料室底部、 3c・・・減衰材 4、4a・・・試料ステージ支持部体 5・・・試料ステージ、 6・・・モニタ、 7・・・制御装置、 8・・・分析部、 9a~9d・・・穴、 10・・・水平面傾斜軸受 11、11a・・・水平面傾斜テーブル、 12・・・水平面回転力伝達部、 13・・・水平面回転駆動部 20・・・垂直方向移動リニアガイド、 21・・・垂直方向移動テーブル、 22・・・垂直方向駆動力伝達部、 23・・・垂直方向駆動部、 24・・・水平方向駆動部、 25・・・水平方向駆動力伝達部、 26・・・傾斜方向移動ガイド、 27・・・水平方向移動ガイド、 30・・・水平方向移動リニアガイド(傾斜軸直角方向)、 31・・・水平方向移動テーブル(傾斜軸直角方向)、 32・・・水平方向駆動力伝達部(傾斜軸直角方向)、 33・・・水平方向駆動部(傾斜軸直角方向)、 34・・・水平方向移動リニアガイド(傾斜軸方向)、 35・・・水平方向移動テーブル(傾斜軸方向)、 36・・・水平方向駆動力伝達部(傾斜軸方向)、 37・・・水平方向駆動部(傾斜軸方向)、 40・・・水平面回転軸受、 41・・・水平面回転テーブル、 42・・・水平面回転力伝達部、 43・・・水平面回転駆動部、 50・・・傾斜軸回転軸受、 51・・・ 傾斜軸回転テーブル、 52・・・傾斜軸回転力伝達部、 53・・・傾斜軸回転駆動部、 60・・・マイクロサンプリング、 61・・・開口部、 62・・・リブ、 63・・・芯材、 64・・・位置調整ねじ

Claims (10)

  1.  荷電粒子発生手段を有する長筒状のカラム(2)と、
     上記カラム(2)の一方端が固定されるカラム固定面を有する試料室(3)と、
     上記試料室(3)の内部に配置され、上記カラム固定面に固定される試料ステージ支持体(4)と、
     上記試料ステージ支持体(4)に支持され、上記荷電粒子発生手段から荷電粒子が照射される試料を支持する試料ステージ(5)と、
     を備えることを特徴とする荷電粒子装置。
  2.  請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料ステージ(5)は、
     上記荷電粒子発生される荷電粒子線に対して、試料を傾斜させる傾斜機構(10、11、12、13)と、
     上記傾斜機構(10、11、12、13)に支持され、試料を垂直方向に移動させる垂直方向駆動機構(20、21、22、23、24)と
     上記垂直方向駆動機構に支持され、試料を水平方向に移動させる水平方向駆動機構(30、31、32、33、34、35)と、
     上記水平方向駆動機構に支持され、試料を水平面内で回転させる水平面内回転機構(40、41、42、43)と、
     を備えることを特徴とする荷電粒子装置。
  3.  請求項2に記載の荷電粒子装置において、上記傾斜機構(10、11、12、13)は、
     上記試料ステージ支持体(4)に配置された傾斜軸受(10)と
     上記傾斜軸受(10)の内輪に支持された水平面傾斜テーブル(11)と、
     上記水平面傾斜テーブルに接する水平面回転力伝達部(12)と、
     上記試料ステージ支持体に支持され、上記水平面回転力伝達部に回転力を伝達する水平面回転駆動部(13)と、
     を備えていることを特徴とする荷電粒子装置。
  4.  請求項3に記載の荷電粒子装置において、上記垂直方向駆動機構(20、21、22、23)は、
     上記水平方向駆動機構を支持する垂直方向移動テーブル(21)と、
     上記垂直方向移動テーブルを垂直方向にガイドする垂直方向移動リニアガイド(20)と、
     を備えることを特徴とする荷電粒子装置。
  5.  請求項2に記載の荷電粒子装置において、上記ステージ支持体(4)は、
     上記傾斜機構(10、11、12、13)を支持する互いに対向する位置に形成された2つの開口を備えていることを特徴とする荷電粒子装置。
  6.  請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料ステージ支持体(4)の外表面に複数のリブ(62)が形成されていることを特徴とする荷電粒子装置。
  7.  請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料ステージ支持体(4)は、内部に芯材を備えていることを特徴とする荷電粒子装置。
  8.  請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料ステージ支持体(4)は、上記カラム固定面から離間するにつれて、厚さ寸法が小となるように構成されていることを特徴とする荷電粒子装置。
  9.  請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料室(3)は、上記カラム固定面と、このカラム固定面を支持する試料室底部(3b)と、上記カラム固定面と試料室底部(3b)との間に配置される減衰材(3c)と有することを特徴とする荷電粒子装置。
  10.  請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料ステージ支持体(4)の上記カラム固定面に、上記カラム(2)の位置を調整する位置調整ねじ(64)を備えていることを特徴とする荷電粒子装置。
PCT/JP2011/063310 2010-06-15 2011-06-10 荷電粒子装置 WO2011158739A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP11795646.6A EP2584586A1 (en) 2010-06-15 2011-06-10 Charged particle device
US13/703,931 US20130126750A1 (en) 2010-06-15 2011-06-10 Charged particle device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010136330A JP2012003892A (ja) 2010-06-15 2010-06-15 荷電粒子装置
JP2010-136330 2010-06-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011158739A1 true WO2011158739A1 (ja) 2011-12-22

Family

ID=45348139

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2011/063310 WO2011158739A1 (ja) 2010-06-15 2011-06-10 荷電粒子装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20130126750A1 (ja)
EP (1) EP2584586A1 (ja)
JP (1) JP2012003892A (ja)
WO (1) WO2011158739A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021039880A (ja) 2019-09-03 2021-03-11 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線装置
US11658001B1 (en) * 2022-12-07 2023-05-23 Institute Of Geology And Geophysics, Chinese Academy Of Sciences Ion beam cutting calibration system and method

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03269940A (ja) * 1990-03-19 1991-12-02 Hitachi Ltd イオン注入装置及びそれを用いた半導体集積回路装置の製造方法
JPH06288432A (ja) * 1992-08-26 1994-10-11 Kajima Corp 除振装置
JPH0817383A (ja) * 1994-07-01 1996-01-19 Jeol Ltd 荷電粒子線装置
JPH09236755A (ja) * 1996-02-29 1997-09-09 Jeol Ltd 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ
JP2005217303A (ja) * 2004-01-30 2005-08-11 Nikon Corp 露光装置及びデバイスの製造方法
JP2007207673A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Tokyo Seimitsu Co Ltd 電子顕微鏡
JP2009050876A (ja) * 2007-08-24 2009-03-12 Hiraide Seimitsu:Kk ビーム加工装置およびビーム観察装置
JP2009079728A (ja) * 2007-09-27 2009-04-16 Jeol Ltd 粘弾性材を用いた動吸振器及び動吸振器を用いた荷電粒子線装置
JP2010123354A (ja) * 2008-11-18 2010-06-03 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60138251U (ja) * 1984-02-24 1985-09-12 日本電子株式会社 走査電子顕微鏡等における試料装置
JPH11193857A (ja) * 1998-01-06 1999-07-21 Jeol Ltd ボールねじ
JP3721850B2 (ja) * 1999-05-12 2005-11-30 株式会社日立製作所 電子顕微鏡および試料ステージ
JP4262047B2 (ja) * 2003-10-20 2009-05-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
US7298495B2 (en) * 2005-06-23 2007-11-20 Lewis George C System and method for positioning an object through use of a rotating laser metrology system
JP2009039795A (ja) * 2007-08-07 2009-02-26 Chugoku Electric Power Co Inc:The 埋め込み部材取り外し工具

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03269940A (ja) * 1990-03-19 1991-12-02 Hitachi Ltd イオン注入装置及びそれを用いた半導体集積回路装置の製造方法
JPH06288432A (ja) * 1992-08-26 1994-10-11 Kajima Corp 除振装置
JPH0817383A (ja) * 1994-07-01 1996-01-19 Jeol Ltd 荷電粒子線装置
JPH09236755A (ja) * 1996-02-29 1997-09-09 Jeol Ltd 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ
JP2005217303A (ja) * 2004-01-30 2005-08-11 Nikon Corp 露光装置及びデバイスの製造方法
JP2007207673A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Tokyo Seimitsu Co Ltd 電子顕微鏡
JP2009050876A (ja) * 2007-08-24 2009-03-12 Hiraide Seimitsu:Kk ビーム加工装置およびビーム観察装置
JP2009079728A (ja) * 2007-09-27 2009-04-16 Jeol Ltd 粘弾性材を用いた動吸振器及び動吸振器を用いた荷電粒子線装置
JP2010123354A (ja) * 2008-11-18 2010-06-03 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012003892A (ja) 2012-01-05
EP2584586A1 (en) 2013-04-24
US20130126750A1 (en) 2013-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8987682B2 (en) Specimen positioning device, charged particle beam system, and specimen holder
JP3726207B2 (ja) アクティブ除振装置
WO2011158739A1 (ja) 荷電粒子装置
JP2000021345A (ja) 走査型電子顕微鏡
WO2017049671A1 (zh) 基于扫描电子显微镜的微操作系统
JP2016018621A (ja) 荷電粒子線装置
JP2008052947A (ja) 荷電粒子ビーム装置
WO2018003494A1 (ja) 荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構、及び荷電粒子線装置
JP5844468B2 (ja) ターゲット位置決め装置、ターゲット位置決め装置を駆動する方法、およびそのようなターゲット位置決め装置を備えているリソグラフィシステム
WO2008053137A1 (en) Substrate scanner apparatus
JP5267470B2 (ja) アクチュエータ
JP2019129210A (ja) ステージ装置、及び処理装置
JP5343728B2 (ja) 2軸ステージ装置
JP3721850B2 (ja) 電子顕微鏡および試料ステージ
JP6584678B2 (ja) 走査電磁石、および走査電磁石を備えた粒子線照射装置の製造方法
CN103367086A (zh) 在粒子射线设备内调整支架元件的位置的方法
JP6491890B2 (ja) 荷電粒子線装置
JP6316453B2 (ja) 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置による観察方法
JP2007184193A (ja) 荷電粒子線装置
JP6957002B2 (ja) 荷電粒子ビーム装置
JP5268630B2 (ja) ステージの位置決め装置
JP7279207B2 (ja) 荷電粒子線装置及び振動抑制機構
KR102060350B1 (ko) 전자현미경용 병렬형 고니오미터
JP2007234758A (ja) 基板処理装置および昇降装置
JP6478541B2 (ja) 平面走査装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11795646

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011795646

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13703931

Country of ref document: US