JPH09236755A - 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ - Google Patents

顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ

Info

Publication number
JPH09236755A
JPH09236755A JP4226096A JP4226096A JPH09236755A JP H09236755 A JPH09236755 A JP H09236755A JP 4226096 A JP4226096 A JP 4226096A JP 4226096 A JP4226096 A JP 4226096A JP H09236755 A JPH09236755 A JP H09236755A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base
microscope
direction moving
sample
sample stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP4226096A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasushi Haraguchi
康史 原口
Keiichi Kitazawa
佳一 北沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON DENSHI RAIOSONITSUKU KK
Jeol Ltd
Original Assignee
NIPPON DENSHI RAIOSONITSUKU KK
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON DENSHI RAIOSONITSUKU KK, Jeol Ltd filed Critical NIPPON DENSHI RAIOSONITSUKU KK
Priority to JP4226096A priority Critical patent/JPH09236755A/ja
Publication of JPH09236755A publication Critical patent/JPH09236755A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単に試料の全域に渡ってユーセントリック
性を確保することができる顕微鏡の移動ステージの補正
方法および移動ステージを実現する。 【解決手段】 制御装置15内にはZ方向のズレ量を求
める式の各係数が記憶されている。そして、実際の試料
の観察時には、試料13をX,Y方向に移動させ、回転
させた場合に、観察部分のx,y位置をX駆動機構4と
Y駆動機構10とから制御装置15内に取り込み、更
に、回転台6の回転角を回転駆動機構7から取り込み、
事前に記憶された係数と演算式によりZ方向のユーセン
トリック性の補正量を演算により求める。この求められ
た補正量はZ方向移動台11の駆動機構12に供給さ
れ、Z方向移動台11はユーセントリック性を維持する
ために調整される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する分野】本発明は、レーザ顕微鏡や走査電
子顕微鏡などに用いて最適な、ユーセントリック試料ス
テージを有した顕微鏡の試料ステージの位置補正方法お
よび試料ステージに関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、レーザ顕微鏡や走査電子顕微鏡
などでは、試料に細く絞ったビームを照射している。こ
の際、ビームは試料上で焦点が合うように調整されてい
る。一方、この種顕微鏡では、試料の異なった領域を観
察するために試料をX,Y方向に移動できるように試料
を移動ステージ上に配置している。
【0003】また、試料を傾斜させて観察する要求か
ら、移動ステージには試料を回転させるための回転台が
設けられている。この場合、試料を回転させた際にビー
ムが照射される位置がズレると、試料の観察領域が移動
してしまい好ましくない。
【0004】そのため、移動ステージはユーセントリッ
ク性を持たせている。例えば、移動ステージはX方向に
移動する移動台と、X方向移動台上に配置されX方向と
平行な軸の周りに回転する回転台と、回転台と共に回転
し、X方向と垂直なY方向に移動するY方向移動台と、
回転台と共に回転し、X,Y方向に垂直なZ方向に移動
するZ方向移動台とを備えている。このような構成で、
回転台の回転中心にビームを照射することにより、試料
の移動によっても試料上のビームのフォーカス状態は変
わらず、また、観察視野がズレることはなくなる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来では、上記したユ
ーセントリックステージのユーセントリック性を向上さ
せるためには、ステージの加工精度を良くすることのみ
で対応していた。このような対応では、加工精度に限界
があるため、サブミクロンの精度のユーセントリック性
を確保することは困難である。また、仮にユーセントリ
ック性の確保を可能とするだけの精度で加工を行なおう
とすると、その費用は極めて高くなる。更に、仮に加工
精度を高めてユーセントリック性を確保できたとして
も、それは試料の一部に止まり、例えば、100mm×
100mm程度の大きな試料の全域に渡ってユーセント
リック性を確保することは不可能である。
【0006】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、簡単に試料の全域に渡ってユーセ
ントリック性を確保することができる顕微鏡の移動ステ
ージの位置補正方法および移動ステージを実現するにあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に基づく
顕微鏡の試料ステージの位置補正方法は、X方向に移動
するX方向移動台と、X方向移動台上に配置されX方向
と平行な軸の周りに回転する回転台と、回転台と共に回
転し、X方向と垂直なY方向に移動するY方向移動台
と、回転台と共に回転し、X,Y方向に垂直なZ方向に
移動するZ方向移動台とを備え、回転台の回転中心にビ
ームを照射するようにした顕微鏡の試料ステージにおい
て、回転台の回転によるZ方向の位置ズレの補正を行う
に当たり、位置ズレの補正量を近似多次関数によって求
めるようにしたことを特徴としている。
【0008】請求項1の発明では、回転台の回転による
Z方向の位置ズレの補正量を近似多次関数によって求
め、求められた補正量に基づいてZ方向の位置の調整を
行う。請求項2の発明に基づく顕微鏡の試料ステージの
位置補正方法は、近似多次関数として線形3次関数を用
いたことを特徴としている。
【0009】請求項2の発明では、回転台の回転による
Z方向の位置ズレの補正量を線形3次関数によって求
め、求められた補正量に基づいてZ方向の位置の調整を
行う。請求項3の発明に基づく顕微鏡の試料ステージの
位置補正方法は、Z方向の位置ズレの補正量ΔZx,y
は、Φを回転角とした場合、次の関係式 ΔZx,y=a(x,y)Φ3+b(x,y)Φ2+c
(x,y)Φ+d(x,y) によって求められ、この関係式の係数は、予め測定され
た多数のx,y位置におけるZ方向の位置ズレ量によっ
て求めることを特徴としている。
【0010】請求項3の発明では、回転台の回転による
Z方向の位置ズレの補正量ΔZx,yを、Φを回転角と
した場合、次の関係式 ΔZx,y=a(x,y)Φ3+b(x,y)Φ2+c
(x,y)Φ+d(x,y) によって求め、この関係式の係数は、予め測定された多
数のx,y位置におけるZ方向の位置ズレ量によって求
め、求められた補正量に基づいてZ方向の位置の調整を
行う。
【0011】請求項4の発明に基づく顕微鏡の試料ステ
ージは、X方向に移動するX方向移動台と、X方向移動
台の駆動機構と、X方向移動台上に配置されX方向と平
行な軸の周りに回転する回転台と、回転台の駆動機構
と、回転台と共に回転し、X方向と垂直なY方向に移動
するY方向移動台と、Y方向移動台の駆動機構と、回転
台と共に回転し、X,Y方向に垂直なZ方向に移動する
Z方向移動台と、Z方向移動台の駆動機構と、X方向と
Y方向の移動台の移動位置と回転台の回転角度情報に基
づいて、Z方向の位置ズレの補正量を求め、この補正量
に基づいてZ方向移動台の駆動機構を制御し、Z方向移
動台の位置の調整を行う制御手段とを有したことを特徴
としている。
【0012】請求項4の発明では、X方向とY方向の移
動台の移動位置と回転台の回転角度情報に基づいて、Z
方向の位置ズレの補正量を求め、この補正量に基づいて
Z方向移動台の駆動機構を制御し、Z方向移動台の位置
の調整を行う。
【0013】請求項5の発明に基づく顕微鏡の試料ステ
ージは、請求項4の発明において、制御手段は、Z方向
の位置ズレの補正量を求めるための近似多次関数と、近
似多次関数の係数を求めるための値とが記憶されている
ことを特徴としている。
【0014】請求項5の発明では、X方向とY方向の移
動台の移動位置と回転台の回転角度情報と、事前に記憶
されているZ方向の位置ズレの補正量を求めるための近
似多次関数と、近似多次関数の係数を求めるための値と
により、Z方向の位置ズレの補正量を求め、この補正量
に基づいてZ方向移動台の駆動機構を制御する。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は本発明の方法を実施
するための移動ステージの一例を示しており、1は基台
である。基台1上には、紙面に垂直な方向(X方向)に
向けてレール2が固定されており、このレール2上を移
動可能にX方向移動台3が設けられている。4はX方向
移動台3の駆動機構(X駆動機構)であり、このX駆動
機構4によりX方向移動台3は紙面に垂直なX方向に移
動される。
【0016】X方向移動台3上には、回転レール5上で
回転する回転台6が設けられている。この回転台6は回
転駆動機構7によってX方向と平行な回転軸の周りに回
転される。回転台6の上には、紙面の左右方向(Y方
向)に伸びるレール8が固定されており、このレール8
上にはY方向移動台9が設けられている。Y方向移動台
9は駆動機構(Y駆動機構)10によりレール8上をX
方向と垂直なY方向に移動する。
【0017】Y方向移動台9上には、Z方向移動台11
が設けられており、このZ方向移動台11は、駆動機構
(Z駆動機構)12により、図面の上下方向(X方向,
Y方向に対して垂直なZ方向)に移動される。このZ方
向移動台11上には、観察試料13が載置される。
【0018】上記の構成で、観察試料13上に回転台6
の回転中心Oがくるように各構成要素は調整されてお
り、この回転中心Oに対物レンズ14によって集束され
たビームBが照射される。なお、各駆動機構4,7,1
0,12はコンピュータ等の制御装置15に接続されて
いる。このような構成の動作を次に説明する。
【0019】まず、試料13をX方向に移動させる場合
には、X方向移動台3を紙面に垂直なX方向に移動させ
る。この場合、X方向と回転台6の回転軸とは同一方向
であるため、回転中心Oは常に試料13の表面上にあ
り、回転台6が回転してもビームの焦点位置は試料上か
らズレない。また、回転によってビームBが照射されて
いる試料位置に変化はない。
【0020】次に、試料13をY方向に移動させる場合
には、Y方向移動台9を紙面の左右方向に移動させる。
この場合、Y方向移動台9は回転台6の上に配置されて
いるので、Y方向移動台9の移動によってもビームBの
焦点位置は常に試料表面上に位置することになる。な
お、Z方向移動台11は、試料13の表面と回転中心O
とを一致させるために用いられ、このZ方向の移動はユ
ーセントリック性とは無縁なものである。
【0021】さて、上記した試料ステージは、理論的に
はユーセントリック性を確保できるが、前記したよう
に、加工精度の問題から、試料の回転・傾斜により部分
的にユーセントリックの条件からズレが発生し、試料表
面は回転台6の回転中心Oからズレることになる。
【0022】すなわち、実際は回転台6の回転軸がX方
向移動台3およびY方向移動台9の移動軸とそれぞれ平
行と垂直になるようにステージ組み立て時に調整するの
で、この部分に関してはほとんど問題は発生しない。問
題は、回転台6の心円性で、特に回転台6の回転・傾斜
により、試料表面がビームのデフォーカス方向に移動す
ることにより、顕微鏡像が見えなくなることが大きな問
題となる。
【0023】ここで、X,Y平面上の多数点をほぼ均一
に抽出する。この点を(xi,yi)とする。なお、i=
1〜n,j=1〜mである。これらの点において回転台
5を回転させた場合の、ある角度ΦでのZ軸方向のユー
セントリック点(基準点であるΦ=0の点)からのズレ
量の補正量をΔZi,j,kとする。ここでkはΦの角度に
対応した量であり、k=0,pである。
【0024】 i=nQ、j=mRの時のZ方向の補正
量の群を {ΔZ(nQ,mR)}k=o,p とし、これからpを変数としたときのΔZ(nQ、mR
の近似多次関数を最小2乗法等の方法を用いて求める。
一般的には、この近似多次関数は線形3次関数で充分で
ある。すなわち、4次以降の成分は限りなく0に近付
く。したがって、この関数は次のような関数式となる。
【0025】ΔZ(nQ,mR)=a(nQ,mR)k3
b(nQ,mR)k2+c(nQ,mR)k+d(nQ
R) この関数式を全てのi,jの組み合わせについて求め
る。この結果求められた係数群{ai,j},{bi,j},
{ci,j},{di,j}に対して、それぞれi,jに対応
した(xi,yji=1nj=1mを変数とした近似2
元2次関数として、最小2乗法等を用いて求める。この
ようにして求められた係数関数群は次のようになる。
【0026】 a(x,y)=ra2+saxy+ta2+uax+vay+wa b(x,y)=rb2+sbxy+tb2+ubx+vby+wb c(x,y)=rc2+scxy+tc2+ucx+vcy+wc d(x,y)=rd2+sdxy+td2+udx+vdy+wd …(1) この係数関数群を用いて任意のx,y平面におけるZ方
向のユーセントリック性の補正量ΔZx,yは、次のよ
うに表される。
【0027】 ΔZx,y=a(x,y)Φ3+b(x,y)Φ2+c(x,y)Φ +d(x,y) …(2) 上記した係数(ra,sa,ta,ua,va,wa)、(r
b,sb,tb,ub,v b,wb)、(rc,sc,tc
c,vc,wc)、(rd,sd,td,ud,vd,wd
は、テーブルの形で制御装置15内に記憶されるが、こ
の係数を求めるに当たっては、各移動ステージごとに試
料平面上の多数点におけるZ方向のズレ量の補正量を事
前に測定し、前記したように、近似2元2次関数とし
て、最小2乗法等を用いて求める。なお、この際の測定
点としては、少なくとも試料上の4点を選べば良いが、
より正確には、9か所程度の試料上の点においてZ方向
のズレ量の補正量を事前に測定することは望ましい。
【0028】このようにして、制御装置15内には各係
数が記憶され、更に上記(1),(2)式が記憶され
る。そして、実際の試料の観察時には、試料13をX,
Y方向に移動させ、回転させた場合に、観察部分のx,
y位置をX駆動機構4とY駆動機構10とから制御装置
15内に取り込み、更に、回転台6の回転角を回転駆動
機構7から取り込み、事前に記憶された係数と(1)式
により係数関数群a(x,y),b(x,y),c
(x,y),d(x,y)を演算により求め、更に求め
られた係数関数群の値と(2)式とから、Z方向のユー
セントリック性の補正量ΔZx,yを演算により求め
る。
【0029】この求められた補正量ΔZx,yはZ方向
移動台11の駆動機構12に供給され、Z方向移動台1
1はユーセントリック性を維持するために調整される。
この結果、試料13を任意にX,Y方向に移動させて
も、また、回転・傾斜させても、常に試料表面にはビー
ムBの焦点が結ばれ、顕微鏡像がボケることは防止され
る。
【0030】以上本発明の実施の形態を説明したが、本
発明は上記形態に限定されない。例えば、Y方向移動台
上にZ方向移動台を設けたが、回転台の上にZ方向移動
台を設け、その上にY方向移動台を設けても良い。ま
た、X,Y方向はそれぞれ水平方向の直交する方向を示
すもので、X,Yそれ自体意味があるものではない。更
に、近似多次関数として線形3次関数を用いたが、4次
関数以上を用いても良く、また、精度が低くなるが、2
次関数を用いることも可能である。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1〜3の発
明に基づく顕微鏡の試料ステージの位置補正方法では、
回転台の回転によるZ方向の位置ズレの補正量を近似多
次関数によって求め、求められた補正量に基づいてZ方
向の位置の調整を行うようにしたので、簡単に試料の全
域に渡ってユーセントリック性を確保することができ
る。
【0032】請求項4〜5の発明に基づく顕微鏡の試料
ステージでは、X方向とY方向の移動台の移動位置と回
転台の回転角度情報に基づいて、Z方向の位置ズレの補
正量を求め、この補正量に基づいてZ方向移動台の駆動
機構を制御し、Z方向移動台の位置の調整を行うように
したので、簡単に試料の全域に渡ってユーセントリック
性を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に基づく顕微鏡の試料ステージを示す図
である。
【符号の説明】
1 基台 3 X方向移動台 4 X駆動機構 6 回転台 7 回転駆動機構 9 Y方向移動台 10 Y駆動機構 11 Z方向移動台 12 Z駆動機構 13 試料 14 対物レンズ 15 制御装置

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X方向に移動するX方向移動台と、X方
    向移動台上に配置されX方向と平行な軸の周りに回転す
    る回転台と、回転台と共に回転し、X方向と垂直なY方
    向に移動するY方向移動台と、回転台と共に回転し、
    X,Y方向に垂直なZ方向に移動するZ方向移動台とを
    備え、回転台の回転中心にビームを照射するようにした
    顕微鏡の試料ステージにおいて、回転台の回転によるZ
    方向の位置ズレの補正を行うに当たり、位置ズレの補正
    量を近似多次関数によって求めるようにした顕微鏡の試
    料ステージの位置補正方法。
  2. 【請求項2】 近似多次関数は線形3次関数である請求
    項1記載の顕微鏡の試料ステージの位置補正方法。
  3. 【請求項3】 請求項1において、Z方向の位置ズレの
    補正量ΔZx,yは、Φを回転角とした場合、次の関係
    式 ΔZx,y=a(x,y)Φ3+b(x,y)Φ2+c
    (x,y)Φ+d(x,y) によって求められ、この関係式の係数は、予め測定され
    た多数のx,y位置におけるZ方向の位置ズレ量によっ
    て求められる顕微鏡の試料ステージの位置補正方法。
  4. 【請求項4】 X方向に移動するX方向移動台と、X方
    向移動台の駆動機構と、X方向移動台上に配置されX方
    向と平行な軸の周りに回転する回転台と、回転台の駆動
    機構と、回転台と共に回転し、X方向と垂直なY方向に
    移動するY方向移動台と、Y方向移動台の駆動機構と、
    回転台と共に回転し、X,Y方向に垂直なZ方向に移動
    するZ方向移動台と、Z方向移動台の駆動機構と、X方
    向とY方向の移動台の移動位置と回転台の回転角度情報
    に基づいて、Z方向の位置ズレの補正量を求め、この補
    正量に基づいてZ方向移動台の駆動機構を制御し、Z方
    向移動台の位置の調整を行う制御手段とを有した顕微鏡
    の試料ステージ。
  5. 【請求項5】 制御手段には、Z方向の位置ズレの補正
    量を求めるための近似多次関数と、近似多次関数の係数
    を求めるための値とが記憶されている請求項4記載の顕
    微鏡の試料ステージ。
JP4226096A 1996-02-29 1996-02-29 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ Withdrawn JPH09236755A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4226096A JPH09236755A (ja) 1996-02-29 1996-02-29 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4226096A JPH09236755A (ja) 1996-02-29 1996-02-29 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09236755A true JPH09236755A (ja) 1997-09-09

Family

ID=12631073

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4226096A Withdrawn JPH09236755A (ja) 1996-02-29 1996-02-29 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09236755A (ja)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003102561A1 (fr) * 2002-05-30 2003-12-11 Olympus Corporation Dispositif de maintien de substrat et dispositif d'inspection de substrat
JP2004151216A (ja) * 2002-10-29 2004-05-27 Ootsuka Kogaku:Kk 光学装置用検査台
JP2007129214A (ja) * 2005-11-01 2007-05-24 Fei Co ステージ組立体、そのようなステージ組立体を含む粒子光学装置、及び、そのような装置において試料を処理する方法
US7851769B2 (en) 2007-10-18 2010-12-14 The Regents Of The University Of California Motorized manipulator for positioning a TEM specimen
US7884326B2 (en) 2007-01-22 2011-02-08 Fei Company Manipulator for rotating and translating a sample holder
JP2011165635A (ja) * 2010-02-12 2011-08-25 Daiwa Techno Systems:Kk 角度変更機能を有する小型試料台
WO2011158739A1 (ja) * 2010-06-15 2011-12-22 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子装置
JP2012015033A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Keyence Corp 拡大観察装置及び拡大観察方法
JP2014056060A (ja) * 2012-09-11 2014-03-27 Keyence Corp 光学顕微鏡
JP2016053699A (ja) * 2014-09-04 2016-04-14 オリンパス株式会社 傾斜ステージ装置及び顕微鏡システム
JP2017519200A (ja) * 2014-05-12 2017-07-13 アメリカ合衆国 ブロック面イメージング用の小型連続セクショニングミクロトーム
US10489964B2 (en) 2016-04-21 2019-11-26 Li-Cor, Inc. Multimodality multi-axis 3-D imaging with X-ray
US10775309B2 (en) 2017-04-25 2020-09-15 Li-Cor, Inc. Top-down and rotational side view biopsy specimen imager and methods
US10948415B2 (en) 2015-06-26 2021-03-16 Li-Cor, Inc. Method of determining surgical margins using fluorescence biopsy specimen imager
US10993622B2 (en) 2016-11-23 2021-05-04 Li-Cor, Inc. Motion-adaptive interactive imaging method
US11051696B2 (en) 2016-06-23 2021-07-06 Li-Cor, Inc. Complementary color flashing for multichannel image presentation

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003102561A1 (fr) * 2002-05-30 2003-12-11 Olympus Corporation Dispositif de maintien de substrat et dispositif d'inspection de substrat
JP2004151216A (ja) * 2002-10-29 2004-05-27 Ootsuka Kogaku:Kk 光学装置用検査台
JP2007129214A (ja) * 2005-11-01 2007-05-24 Fei Co ステージ組立体、そのようなステージ組立体を含む粒子光学装置、及び、そのような装置において試料を処理する方法
US7884326B2 (en) 2007-01-22 2011-02-08 Fei Company Manipulator for rotating and translating a sample holder
US7851769B2 (en) 2007-10-18 2010-12-14 The Regents Of The University Of California Motorized manipulator for positioning a TEM specimen
JP2011165635A (ja) * 2010-02-12 2011-08-25 Daiwa Techno Systems:Kk 角度変更機能を有する小型試料台
WO2011158739A1 (ja) * 2010-06-15 2011-12-22 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子装置
JP2012003892A (ja) * 2010-06-15 2012-01-05 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子装置
JP2012015033A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Keyence Corp 拡大観察装置及び拡大観察方法
JP2014056060A (ja) * 2012-09-11 2014-03-27 Keyence Corp 光学顕微鏡
JP2017519200A (ja) * 2014-05-12 2017-07-13 アメリカ合衆国 ブロック面イメージング用の小型連続セクショニングミクロトーム
JP2016053699A (ja) * 2014-09-04 2016-04-14 オリンパス株式会社 傾斜ステージ装置及び顕微鏡システム
US10948415B2 (en) 2015-06-26 2021-03-16 Li-Cor, Inc. Method of determining surgical margins using fluorescence biopsy specimen imager
US10489964B2 (en) 2016-04-21 2019-11-26 Li-Cor, Inc. Multimodality multi-axis 3-D imaging with X-ray
US11051696B2 (en) 2016-06-23 2021-07-06 Li-Cor, Inc. Complementary color flashing for multichannel image presentation
US10993622B2 (en) 2016-11-23 2021-05-04 Li-Cor, Inc. Motion-adaptive interactive imaging method
US10775309B2 (en) 2017-04-25 2020-09-15 Li-Cor, Inc. Top-down and rotational side view biopsy specimen imager and methods

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH09236755A (ja) 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ
US4627009A (en) Microscope stage assembly and control system
US8078304B2 (en) Dual-mode robot systems and methods for electronic device manufacturing
JP4927345B2 (ja) 試料体の加工観察装置及び試料体の観察方法
JPH05225937A (ja) 材料試料を粒子−光学的に検査して処理する装置
JP3544438B2 (ja) イオンビームによる加工装置
JPH0613013A (ja) イオンビームを集束して加工を行う装置
EP1071112B1 (en) Scanning charged-particle beam instrument
US7439525B2 (en) Demagnification measurement method for charged particle beam exposure apparatus, stage phase measurement method for charged particle beam exposure apparatus, control method for charged particle beam exposure apparatus, and charged particle beam exposure apparatus
KR101455944B1 (ko) 주사 전자 현미경
JP3753628B2 (ja) 電子線装置
CN111872564A (zh) 激光加工系统及激光加工方法
JP4255997B2 (ja) 半導体ウエハの外観検査装置
JP2003051435A (ja) 電子線描画装置および電子顕微鏡
JP3315165B2 (ja) 走査型顕微鏡
JP3260513B2 (ja) 荷電ビーム描画装置
US7060175B2 (en) Producing method for optical element molding die and producing method for optical element
CN212682785U (zh) 激光加工系统
JP2000100367A (ja) 走査型電子顕微鏡装置
JP3678910B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JP3688748B2 (ja) レーザトラッピング装置
JPH0227488Y2 (ja)
JPS6355936A (ja) 電子ビ−ム描画装置
JPS6355935A (ja) 電子ビ−ム描画装置
JPH09147778A (ja) 荷電粒子線装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20030506