JP2012003892A - 荷電粒子装置 - Google Patents
荷電粒子装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012003892A JP2012003892A JP2010136330A JP2010136330A JP2012003892A JP 2012003892 A JP2012003892 A JP 2012003892A JP 2010136330 A JP2010136330 A JP 2010136330A JP 2010136330 A JP2010136330 A JP 2010136330A JP 2012003892 A JP2012003892 A JP 2012003892A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- sample
- horizontal
- sample stage
- column
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 61
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 30
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 claims 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching
- H01J37/3056—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching for microworking, e. g. etching of gratings or trimming of electrical components
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/0216—Means for avoiding or correcting vibration effects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/16—Vessels
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20207—Tilt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20214—Rotation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20221—Translation
- H01J2237/20235—Z movement or adjustment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/31749—Focused ion beam
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】荷電粒子装置1は上部に長筒状のカラム2を備えカラム2の下部には内部が空洞の試料室3がある。試料室3は水平方向の振動よりも垂直方向の振動が大きい試料室上部3aと水平方向の振動が大きい試料室底部3bに分かれている。カラム2は荷電粒子銃及び試料検出系を備える。カラム1と試料ステージ5を支持する試料ステージ支持体4とが共に試料室上部3aに支持され、カラム1の中心軸と試料ステージ支持体4の中心軸とが一致若しくは互いに平行となるように構成されている。環境音がカラム2や試料室3に加わってもカラム2と試料ステージ5が共に試料室上部3aに固定され、互いに一体となって振動するので、荷電粒子発生部と試料との間に相対変位が生じにくい。
【選択図】図1
Description
さらに、本発明の荷電粒子装置は、水平面傾斜機構の傾斜軸と回転中心軸が直交するよう支持体側面に設置された傾斜軸回転機構を備えている。
さらに、本発明の荷電粒子装置は、傾斜した駆動面を持つ垂直方向駆動機構を備えている。
さらに、本発明の荷電粒子装置は側面に穴を開けた試料ステージ支持体を備えている。
Claims (10)
- 荷電粒子発生手段を有する長筒状のカラムと、
上記カラムの一方端が固定されるカラム固定面を有する試料室と、
上記試料室の内部に配置され、上記カラム固定面に固定される試料ステージ支持体と、
上記試料ステージ支持体に支持され、上記荷電粒子発生手段から荷電粒子が照射される試料を支持する試料ステージと、
を備えることを特徴とする荷電粒子装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料ステージは、
上記荷電粒子発生される荷電粒子線に対して、試料を傾斜させる傾斜機構と、
上記傾斜機構に支持され、試料を垂直方向に移動させる垂直方向駆動機構と
上記垂直方向駆動機構に支持され、試料を水平方向に移動させる水平方向駆動機構と、
上記水平方向駆動機構に支持され、試料を水平面内で回転させる水平面内回転機構と、
を備えることを特徴とする荷電粒子装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子装置において、上記傾斜機構は、
上記試料ステージ支持体に配置された傾斜軸受と
上記傾斜軸受の内輪に支持された水平面傾斜テーブルと、
上記水平面傾斜テーブルに接する水平面回転力伝達部と、
上記試料ステージ支持体に支持され、上記水平面回転力伝達部に回転力を伝達する水平面回転駆動部と、
を備えていることを特徴とする荷電粒子装置。 - 請求項3に記載の荷電粒子装置において、上記垂直方向駆動機構は、
上記水平方向駆動機構を支持する垂直方向移動テーブルと、
上記垂直方向移動テーブルを垂直方向にガイドする垂直方向移動リニアガイドと、
を備えることを特徴とする荷電粒子装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子装置において、上記ステージ支持体は、
上記傾斜機構を支持する互いに対向する位置に形成された2つの開口を備えていることを特徴とする荷電粒子装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料ステージ支持体の外表面に複数のリブが形成されていることを特徴とする荷電粒子装置。
- 請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料ステージ支持体は、内部に芯材を備えていることを特徴とする荷電粒子装置。
- 請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料ステージ支持体は、上記カラム固定面から離間するにつれて、厚さ寸法が小となるように構成されていることを特徴とする荷電粒子装置。
- 請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料室は、上記カラム固定面と、このカラム固定面を支持する試料室底部と、上記カラム固定面と試料室底部との間に配置される減衰材と有することを特徴とする荷電粒子装置。
- 請求項1に記載の荷電粒子装置において、上記試料ステージ支持体の上記カラム固定面に、上記カラムの位置を調整する位置調整ねじを備えていることを特徴とする荷電粒子装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010136330A JP2012003892A (ja) | 2010-06-15 | 2010-06-15 | 荷電粒子装置 |
EP11795646.6A EP2584586A1 (en) | 2010-06-15 | 2011-06-10 | Charged particle device |
US13/703,931 US20130126750A1 (en) | 2010-06-15 | 2011-06-10 | Charged particle device |
PCT/JP2011/063310 WO2011158739A1 (ja) | 2010-06-15 | 2011-06-10 | 荷電粒子装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010136330A JP2012003892A (ja) | 2010-06-15 | 2010-06-15 | 荷電粒子装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012003892A true JP2012003892A (ja) | 2012-01-05 |
Family
ID=45348139
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010136330A Pending JP2012003892A (ja) | 2010-06-15 | 2010-06-15 | 荷電粒子装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130126750A1 (ja) |
EP (1) | EP2584586A1 (ja) |
JP (1) | JP2012003892A (ja) |
WO (1) | WO2011158739A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210028079A (ko) * | 2019-09-03 | 2021-03-11 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자선 장치 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11658001B1 (en) * | 2022-12-07 | 2023-05-23 | Institute Of Geology And Geophysics, Chinese Academy Of Sciences | Ion beam cutting calibration system and method |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60138251U (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | 日本電子株式会社 | 走査電子顕微鏡等における試料装置 |
JPH03269940A (ja) * | 1990-03-19 | 1991-12-02 | Hitachi Ltd | イオン注入装置及びそれを用いた半導体集積回路装置の製造方法 |
JPH06288432A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-10-11 | Kajima Corp | 除振装置 |
JPH0817383A (ja) * | 1994-07-01 | 1996-01-19 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置 |
JPH09236755A (ja) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | Jeol Ltd | 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ |
JPH11193857A (ja) * | 1998-01-06 | 1999-07-21 | Jeol Ltd | ボールねじ |
JP2000323079A (ja) * | 1999-05-12 | 2000-11-24 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡および試料ステージ |
JP2005123129A (ja) * | 2003-10-20 | 2005-05-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
JP2005217303A (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2007207673A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 電子顕微鏡 |
JP2009039795A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | 埋め込み部材取り外し工具 |
JP2009050876A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Hiraide Seimitsu:Kk | ビーム加工装置およびビーム観察装置 |
JP2009079728A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Jeol Ltd | 粘弾性材を用いた動吸振器及び動吸振器を用いた荷電粒子線装置 |
JP2010123354A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7298495B2 (en) * | 2005-06-23 | 2007-11-20 | Lewis George C | System and method for positioning an object through use of a rotating laser metrology system |
-
2010
- 2010-06-15 JP JP2010136330A patent/JP2012003892A/ja active Pending
-
2011
- 2011-06-10 WO PCT/JP2011/063310 patent/WO2011158739A1/ja active Application Filing
- 2011-06-10 US US13/703,931 patent/US20130126750A1/en not_active Abandoned
- 2011-06-10 EP EP11795646.6A patent/EP2584586A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60138251U (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-12 | 日本電子株式会社 | 走査電子顕微鏡等における試料装置 |
JPH03269940A (ja) * | 1990-03-19 | 1991-12-02 | Hitachi Ltd | イオン注入装置及びそれを用いた半導体集積回路装置の製造方法 |
JPH06288432A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-10-11 | Kajima Corp | 除振装置 |
JPH0817383A (ja) * | 1994-07-01 | 1996-01-19 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置 |
JPH09236755A (ja) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | Jeol Ltd | 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ |
JPH11193857A (ja) * | 1998-01-06 | 1999-07-21 | Jeol Ltd | ボールねじ |
JP2000323079A (ja) * | 1999-05-12 | 2000-11-24 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡および試料ステージ |
JP2005123129A (ja) * | 2003-10-20 | 2005-05-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
JP2005217303A (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2007207673A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 電子顕微鏡 |
JP2009039795A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | 埋め込み部材取り外し工具 |
JP2009050876A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Hiraide Seimitsu:Kk | ビーム加工装置およびビーム観察装置 |
JP2009079728A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Jeol Ltd | 粘弾性材を用いた動吸振器及び動吸振器を用いた荷電粒子線装置 |
JP2010123354A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210028079A (ko) * | 2019-09-03 | 2021-03-11 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자선 장치 |
US11380515B2 (en) | 2019-09-03 | 2022-07-05 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam device |
KR102465175B1 (ko) * | 2019-09-03 | 2022-11-10 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자선 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2584586A1 (en) | 2013-04-24 |
WO2011158739A1 (ja) | 2011-12-22 |
US20130126750A1 (en) | 2013-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102266234B1 (ko) | 동전형 액추에이터 및 가진 장치 | |
JP5342589B2 (ja) | X線ct装置 | |
JP6054728B2 (ja) | 試料位置決め装置および荷電粒子線装置 | |
JPH10172484A (ja) | 傾斜コラムを有する荷電粒子装置 | |
JP3726207B2 (ja) | アクティブ除振装置 | |
JP6918056B2 (ja) | 加振装置 | |
JP2017071020A (ja) | マニピュレーションシステム、回転アクチュエータ及びマニピュレーションシステムの駆動方法 | |
WO2011158739A1 (ja) | 荷電粒子装置 | |
JP2017152276A (ja) | 荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置用制振ダンパ | |
JP2008505340A (ja) | X線操作装置 | |
JP6362941B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5072223B2 (ja) | X線ct装置 | |
JP2014528165A (ja) | ターゲット位置決め装置、ターゲット位置決め装置を駆動する方法、およびそのようなターゲット位置決め装置を備えているリソグラフィシステム | |
JP2009071178A (ja) | ステージ装置 | |
JP2019129210A (ja) | ステージ装置、及び処理装置 | |
KR101924262B1 (ko) | 유연가이드기구가 적용된 반력보상모듈을 갖는 생산장비 및 이를 이용한 진동 제어방법 | |
JP6584678B2 (ja) | 走査電磁石、および走査電磁石を備えた粒子線照射装置の製造方法 | |
TWI744591B (zh) | 制振系統以及具備該制振系統的光學裝置 | |
JP3721850B2 (ja) | 電子顕微鏡および試料ステージ | |
JP2011210932A (ja) | ステージ装置 | |
JPWO2011034020A1 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP6478541B2 (ja) | 平面走査装置 | |
JP4262047B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP7279207B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び振動抑制機構 | |
JP2016134321A (ja) | 荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120801 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121211 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130611 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130808 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140121 |