WO2011108449A1 - 波長変換部材、発光装置および画像表示装置ならびに波長変換部材の製造方法 - Google Patents

波長変換部材、発光装置および画像表示装置ならびに波長変換部材の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2011108449A1
WO2011108449A1 PCT/JP2011/054270 JP2011054270W WO2011108449A1 WO 2011108449 A1 WO2011108449 A1 WO 2011108449A1 JP 2011054270 W JP2011054270 W JP 2011054270W WO 2011108449 A1 WO2011108449 A1 WO 2011108449A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
fine particle
wavelength conversion
light
semiconductor fine
conversion member
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/054270
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
純一 木野本
達也 両輪
Original Assignee
シャープ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by シャープ株式会社 filed Critical シャープ株式会社
Priority to EP11750559.4A priority Critical patent/EP2544253A4/en
Priority to US13/582,281 priority patent/US8882299B2/en
Publication of WO2011108449A1 publication Critical patent/WO2011108449A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336Illuminating devices
    • G02F1/133614Illuminating devices using photoluminescence, e.g. phosphors illuminated by UV or blue light
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336Illuminating devices
    • G02F1/133621Illuminating devices providing coloured light
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00Materials and properties
    • G02F2202/10Materials and properties semiconductor
    • G02F2202/102In×P and alloy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/501Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
    • H01L33/502Wavelength conversion materials
    • H01L33/504Elements with two or more wavelength conversion materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/505Wavelength conversion elements characterised by the shape, e.g. plate or foil
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/331Nanoparticles used in non-emissive layers, e.g. in packaging layer

Definitions

  • the present invention relates to a wavelength conversion member that converts and emits at least a part of the wavelength of incident light, a light emitting device including the same, and an image display device, and more specifically, semiconductor fine particle fluorescence inside a light transmissive member.
  • the present invention relates to a wavelength conversion member in which a body is dispersedly arranged, a light emitting device including the same, and an image display device. Moreover, this invention relates to the manufacturing method of the said wavelength conversion member.
  • a light emitting diode (LED) element made of a gallium nitride compound semiconductor material has attracted attention as a light emitting element.
  • This light-emitting diode element has features such as small size, light weight, power saving, long product life, and resistance to repeated on / off lighting. Therefore, by combining a light emitting diode element that emits blue light or ultraviolet light and various phosphors that emit light using a part of the light emitted from the light emitting diode element as an excitation source, a light emitting diode element including white is included.
  • a light emitting device has been developed that emits light of a color different from the emission color. Such a light-emitting device is expected to be used not only as an illumination device replacing an incandescent bulb or a fluorescent lamp, but also as a light source for an image display device.
  • a semiconductor fine particle phosphor As a phosphor used in such a light emitting device, a semiconductor fine particle phosphor has attracted attention in place of a conventionally used rare earth activated phosphor.
  • the semiconductor fine particle phosphor has a feature that the emission wavelength can be arbitrarily adjusted, which is not found in the conventional phosphor. Therefore, a light emitting device using such a semiconductor fine particle phosphor can have various emission spectra. Therefore, the use of the semiconductor fine particle phosphor is expected as a technique that enables the production of an efficient light emitting device with high color rendering properties.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-285800 discloses a specific configuration thereof.
  • a light emitting diode element that emits blue-violet excitation light a wavelength conversion member in which three or four types of semiconductor fine particle phosphors are dispersedly arranged, and It is intended to realize high luminous efficiency by combining the above.
  • the concentration quenching means a phenomenon in which the emission efficiency is saturated when the concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the wavelength conversion member is increased.
  • an object of the present invention is to provide a wavelength conversion member having high light emission efficiency, a light emitting device including the same, and an image display device. It aims at providing the manufacturing method of the wavelength conversion member which has efficiency.
  • the inventor has a specific anisotropy in the dispersion concentration or / and the number of particles of the semiconductor fine particle phosphor in the wavelength conversion member to obtain a wavelength conversion member having high luminous efficiency. It has been clarified that it is possible to complete the present invention.
  • the wavelength conversion member includes a light transmissive member including an incident surface on which light is incident and an output surface from which light is emitted, and is dispersedly arranged inside the light transmissive member.
  • a semiconductor fine particle phosphor that absorbs light and converts the wavelength to emit light, and the semiconductor fine particle phosphor in a direction parallel to the traveling direction of light, which is a direction connecting the incident surface and the emission surface.
  • the dispersion concentration is lower than the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the direction orthogonal to the traveling direction of the light.
  • the semiconductor fine particle phosphors are regularly arranged in a plane orthogonal to the light traveling direction.
  • the semiconductor fine particle phosphor is preferably filled in a hexagonal lattice shape or a tetragonal lattice shape in a plane orthogonal to the light traveling direction.
  • the semiconductor fine particle phosphor is localized only on either the incident surface side or the emission surface side of the light transmissive member. It is preferable.
  • the wavelength conversion member according to the first aspect of the present invention may include a plurality of types of semiconductor fine particle phosphors having different emission wavelengths as the semiconductor fine particle phosphor.
  • the wavelength conversion member according to the first aspect of the present invention includes a plurality of types of semiconductor fine particle phosphors having different emission wavelengths as the semiconductor fine particle phosphor, the plurality of types of semiconductors having different emission wavelengths. It is preferable that the fine particle phosphors are separated for each type and arranged in layers along the light traveling direction. In that case, each layer of the plurality of types of semiconductor fine particle phosphors that are separated for each type and arranged in a layer form has an emission wavelength of the semiconductor fine particle phosphor contained in the layer from the incident surface side.
  • Each layer of a plurality of types of semiconductor fine particle phosphors that are arranged so as to have a shorter wavelength toward the emission surface side or that are separated for each type and arranged in layers are included in the layer. It is preferable that the particle diameters of the semiconductor fine particle phosphors are arranged so as to decrease from the incident surface side toward the emission surface side.
  • the semiconductor fine particle phosphor emits visible light by absorbing excitation light and converting the wavelength.
  • the absorbance per 1 ⁇ m along the light traveling direction is preferably 0.02 or more.
  • the wavelength conversion member according to the first aspect of the present invention has a thickness along the traveling direction of the light of 0.5 nm or more and 50 ⁇ m or less, and absorbs 90% or more of incident excitation light and has a wavelength. It is preferable to convert.
  • the semiconductor fine particle phosphor covers a core portion made of a semiconductor material, and a shell portion covering the core portion and made of a material different from the core portion. It is preferable to have.
  • the core portion is preferably made of any material selected from III-V group compound semiconductor materials, InP, InN, InP mixed crystals and InN mixed crystals.
  • the light-emitting device based on 1st aspect of this invention is equipped with the wavelength conversion member based on 1st aspect of this invention mentioned above, and the light emitting element which irradiates the said entrance plane of the said wavelength conversion member with excitation light. It is a feature.
  • the light emitting element is preferably a semiconductor light emitting diode element, a semiconductor laser diode element, or an organic electroluminescence element.
  • the emission spectrum of the light emitting element has a peak wavelength of 350 nm to 420 nm, or a peak wavelength of 420 nm to 480 nm. Preferably it is.
  • An image display device includes an image display unit capable of displaying an image, and an irradiation unit that irradiates the image display unit with light from behind, and the image display unit includes: While including the wavelength conversion member based on the 1st aspect of this invention mentioned above, the said irradiation part contains the light emitting element which irradiates excitation light to the said entrance plane of the said wavelength conversion member, It is characterized by the above-mentioned.
  • An image display device includes an image display unit that can display an image, and an irradiation unit that irradiates light onto the image display unit from the rear.
  • the wavelength conversion member based on the 1st aspect of this invention and the light emitting element which irradiates excitation light to the said entrance plane of the said wavelength conversion member are characterized by the above-mentioned.
  • the light emitting element is preferably a semiconductor light emitting diode element, a semiconductor laser diode element, or an organic electroluminescence element.
  • the emission spectrum of the light-emitting element has a peak wavelength of 350 nm or more and 420 nm or less, or a peak wavelength of 420 nm or more and 480 nm or less. It is preferable to have.
  • the manufacturing method of the wavelength conversion member based on 1st aspect of this invention is a method for manufacturing the wavelength conversion member based on 1st aspect of this invention mentioned above, Comprising: The process of manufacturing the said semiconductor fine particle fluorescent substance And a step of producing a dispersion liquid in which the semiconductor fine particle phosphor is dispersed in a liquid, and a step of aggregating and precipitating the semiconductor fine particle phosphor in the dispersion liquid to self-organize. To do.
  • the method for producing a wavelength conversion member based on the first aspect of the present invention it is preferable to use a volatile solvent as a liquid for dispersing the semiconductor fine particle phosphor in the step of producing the dispersion.
  • the method for producing a wavelength conversion member according to the first aspect of the present invention further includes self-organizing the semiconductor fine particle phosphor, volatilizing the volatile solvent, and then self-organizing the semiconductor fine particle phosphor. It is preferable to include a step of sealing the semiconductor fine particle phosphor with a light transmissive resin.
  • the wavelength conversion member based on the second aspect of the present invention is located in the wavelength conversion layer including the incident surface on which light is incident and the emission surface from which light is emitted, and absorbs excitation light.
  • a semiconductor fine particle phosphor that emits light after wavelength conversion, and the wavelength conversion layer is composed of an aggregate of the semiconductor fine particle phosphor, and in a direction connecting the incident surface and the emission surface. The number of particles of the semiconductor fine particle phosphor in a direction parallel to the light traveling direction is smaller than the number of particles of the semiconductor fine particle phosphor in a direction orthogonal to the light traveling direction. .
  • the wavelength conversion member based on the second aspect of the present invention it is preferable that a plurality of the semiconductor fine particle phosphors are stacked in a direction parallel to the traveling direction of the light.
  • the semiconductor fine particle phosphors are regularly arranged in a plane orthogonal to the light traveling direction.
  • the semiconductor fine particle phosphor is preferably filled in a hexagonal lattice shape or a tetragonal lattice shape in a plane orthogonal to the light traveling direction.
  • the wavelength conversion member according to the second aspect of the present invention may include a plurality of types of semiconductor fine particle phosphors having different emission wavelengths as the semiconductor fine particle phosphor.
  • the wavelength conversion member based on the second aspect of the present invention includes a plurality of types of semiconductor fine particle phosphors having different emission wavelengths as the semiconductor fine particle phosphor, a plurality of types of semiconductors having different emission wavelengths. It is preferable that the fine particle phosphors are separated for each type and arranged in layers along the light traveling direction. In that case, each layer of the plurality of types of semiconductor fine particle phosphors that are separated for each type and arranged in a layer form has an emission wavelength of the semiconductor fine particle phosphor contained in the layer from the incident surface side.
  • Each layer of a plurality of types of semiconductor fine particle phosphors that are arranged so as to have a shorter wavelength toward the emission surface side or that are separated for each type and arranged in layers are included in the layer. It is preferable that the particle diameters of the semiconductor fine particle phosphors are arranged so as to decrease from the incident surface side toward the emission surface side.
  • the semiconductor fine particle phosphor emits visible light by absorbing excitation light and converting the wavelength.
  • the absorbance per 1 ⁇ m along the light traveling direction is preferably 0.02 or more.
  • the wavelength conversion member based on the second aspect of the present invention has a thickness along the light traveling direction of 0.5 nm or more and 50 ⁇ m or less, and absorbs 90% or more of incident excitation light and has a wavelength. It is preferable to convert.
  • the semiconductor fine particle phosphor includes a core portion made of a semiconductor material, and a shell portion that covers the core portion and is made of a material different from the core portion. It is preferable to have.
  • the core portion is preferably made of any material selected from III-V group compound semiconductor materials, InP, InN, InP mixed crystals and InN mixed crystals.
  • a pair of the wavelength conversion layers formed of aggregates of the semiconductor fine particle phosphor so as to cover the incident surface and the emission surface are a pair. It is preferable to be sandwiched between the light transmissive members.
  • the light-emitting device based on the second aspect of the present invention includes the above-described wavelength conversion member based on the second aspect of the present invention and a light-emitting element that irradiates the incident surface of the wavelength conversion member with excitation light. It is a feature.
  • the light emitting element is preferably a semiconductor light emitting diode element, a semiconductor laser diode element, or an organic electroluminescence element.
  • the emission spectrum of the light emitting element has a peak wavelength of 350 nm to 420 nm, or a peak wavelength of 420 nm to 480 nm. Preferably it is.
  • An image display device includes an image display unit capable of displaying an image, and an irradiation unit configured to irradiate the image display unit with light from behind, and the image display unit includes: While including the wavelength conversion member based on the 2nd aspect of this invention mentioned above, the said irradiation part contains the light emitting element which irradiates excitation light to the said entrance plane of the said wavelength conversion member, It is characterized by the above-mentioned.
  • An image display device includes an image display unit that can display an image, and an irradiation unit that irradiates light onto the image display unit from the rear.
  • the wavelength conversion member based on the 2nd aspect of this invention and the light emitting element which irradiates excitation light to the said entrance plane of the said wavelength conversion member are characterized by the above-mentioned.
  • the light emitting element is preferably a semiconductor light emitting diode element, a semiconductor laser diode element, or an organic electroluminescence element.
  • the emission spectrum of the light-emitting element has a peak wavelength of 350 nm to 420 nm, or a peak wavelength of 420 nm to 480 nm. It is preferable to have.
  • the manufacturing method of the wavelength conversion member based on 2nd aspect of this invention is a method for manufacturing the wavelength conversion member based on 2nd aspect of this invention mentioned above, Comprising: The process of manufacturing the said semiconductor fine particle phosphor. And a step of producing a dispersion liquid in which the semiconductor fine particle phosphor is dispersed in a liquid, and a step of aggregating and precipitating the semiconductor fine particle phosphor in the dispersion liquid to self-organize. To do.
  • the method for producing a wavelength conversion member according to the second aspect of the present invention it is preferable to use a volatile solvent as a liquid for dispersing the semiconductor fine particle phosphor in the step of producing the dispersion.
  • the method for producing a wavelength conversion member according to the second aspect of the present invention further includes volatilizing the volatile solvent after the semiconductor fine particle phosphor is self-assembled, thereby the semiconductor fine particle phosphor. It is preferable to include a step of manufacturing the wavelength conversion layer made of the aggregate.
  • the present invention it is possible to provide a wavelength conversion member having high luminous efficiency, a light emitting device and an image display device including the same.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the semiconductor fine particle phosphor shown in FIGS. 2 and 3.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the semiconductor fine particle phosphor shown in FIGS. 2 and 3. It is a figure which shows typically a mode that light is wavelength-converted in the wavelength conversion member in Embodiment 1 of this invention.
  • Embodiment 12 of this invention It is a disassembled perspective view of the image display apparatus in Embodiment 12 of this invention. It is an expansion disassembled perspective view of the light conversion part of the image display apparatus in Embodiment 12 of this invention. It is a disassembled perspective view of the image display apparatus in Embodiment 13 of this invention. It is an expansion disassembled perspective view of the light conversion part of the image display apparatus in Embodiment 13 of this invention. It is a disassembled perspective view of the image display apparatus in Embodiment 14 of this invention. It is an expansion disassembled perspective view of the light conversion part of the image display apparatus in Embodiment 14 of this invention.
  • 3 is a table summarizing compositions, manufacturing methods, characteristics, and the like of wavelength conversion members according to Examples A1 to A18 and Comparative Examples A1 to A10. It is a graph which shows the emission spectrum of the wavelength conversion member which concerns on Example A1. 6 is a graph showing the correlation between the absorption rate of 450 nm blue light of the semiconductor fine particle phosphor and the internal quantum efficiency (IQE) of the wavelength conversion member in Examples A1 to A4, Examples A15 to A18, and Comparative Examples A1 to A4. is there.
  • IQE internal quantum efficiency
  • 6 is a graph showing the correlation between the absorption rate of the semiconductor fine particle phosphor with respect to blue light at 450 nm and the internal quantum efficiency (IQE) of the wavelength conversion member in Examples A1 to A4, Examples A5 to A8, and Comparative Examples A1 to A4. is there.
  • 6 is a graph showing the correlation between the number of types of semiconductor fine particle phosphors and the internal quantum efficiency (IQE) of the wavelength conversion member in Examples A1, A9 to A11 and Comparative Examples A1, A5 to A7.
  • 6 is a table showing the results of various trial manufactures in Examples A1, A12 to A14 and Comparative Examples A1, A8 to A10.
  • 7 is a table summarizing the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Examples B1 to B13 and Comparative Examples B1 to B8, the optical characteristics of the light emitting device, and the like. It is a graph which shows the emission spectrum of the light-emitting device which concerns on Example B1.
  • 6 is a graph showing the correlation between the number of types of semiconductor fine particle phosphors, the light emission efficiency of the light emitting device, and the color rendering index Ra in Examples B1, B4 to B6.
  • 6 is a graph showing the correlation between the half-value width of the emission spectrum of the semiconductor fine particle phosphor and the light emission efficiency of the light emitting device in Examples B1, B4 to B6.
  • 6 is a table showing the results of various trial manufactures in Examples B1, B7 to B9 and Comparative Examples B1 to B4.
  • 6 is a graph showing the correlation between the type of light emitting element and the light emission efficiency of the light emitting device in Examples B1, B10 to B13 and Comparative Examples B1, B5 to B8. It is a graph which shows the luminous efficiency of the light-emitting device containing the wavelength conversion member manufactured using various semiconductor fine particle fluorescent substance.
  • 6 is a table summarizing the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display devices according to Examples C1 to C11 and Comparative Examples C1 to C10, optical characteristics of the image display devices, and the like. It is a graph which shows the emission spectrum of the light-emitting device used for the image display apparatus which concerns on Example C1. 7 is a graph showing the correlation between the type of light emitting element and screen luminance in Examples C1, C3 to C6 and Comparative Examples C1 to C5. 6 is a table showing various prototype results in Examples C7 to C10 and Comparative Examples C6 to C9.
  • the wavelength conversion member to which the present invention is applied is illustrated and described as the first to seventh and fifteenth embodiments, and the light emitting device to which the present invention is applied is the eighth to eighth embodiments.
  • An image display apparatus to which the present invention is applied will be exemplified and described as Embodiments 11 to 14.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view of a wavelength conversion member in Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view when the wavelength conversion member in the present embodiment is cut along the XZ plane.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view when the wavelength conversion member in the present embodiment is cut along the XY plane.
  • the cross section shown in FIG. 2 is a schematic cut surface along the line II-II shown in FIG.
  • the cross section shown in FIG. 3 is a schematic cut surface along the line III-III shown in FIG.
  • the wavelength conversion member 10 ⁇ / b> A in the present embodiment is formed of a substantially rectangular parallelepiped member having a predetermined thickness, and has a wavelength different from that of light absorbed and absorbed by at least a part of incident light. Has a function of emitting light.
  • the wavelength conversion member 10 ⁇ / b> A has one main surface as the entrance surface 11 and the other main surface as the exit surface 12.
  • the incident surface 11 of the wavelength conversion member 10A is irradiated with excitation light 100 emitted from the light emitting element.
  • the excitation light 100 irradiated on the incident surface 11 is introduced into the wavelength conversion member 10A, and a part of the wavelength of the introduced light is converted inside the wavelength conversion member 10A. From the emission surface 12 of the wavelength conversion member 10 ⁇ / b> A, the light including the light after wavelength conversion described above is emitted to the outside as the wavelength conversion light 200.
  • the optical axis of the excitation light 100 and the wavelength converted light 200 is defined in the Z axis direction as described above.
  • the entrance surface 11 and the exit surface 12 are both configured by an XY plane orthogonal to the Z axis.
  • the shape of the wavelength conversion member 10A has a flat plate-like outer shape
  • the shape of the wavelength conversion member is not limited to the shape, and a rectangular parallelepiped shape or a disk other than the plate shape.
  • the outer shape may be any shape such as a cylindrical shape, a cylindrical shape, or a polygonal columnar shape.
  • the wavelength conversion member 10A mainly includes a light transmissive member 13 and a semiconductor fine particle phosphor 14.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14 emits light of different wavelengths by absorbing the excitation light 100 introduced into the wavelength conversion member 10A and converting the wavelength of the excitation light 100, and is a member mainly made of semiconductor microcrystal particles. It is.
  • the semiconductor fine particle phosphors 14 are dispersed and positioned inside the wavelength conversion member 10A.
  • the light transmissive member 13 is for sealing the semiconductor fine particle phosphor 14 in a dispersed state, and is emitted from the excitation light 100 and the semiconductor fine particle phosphor 14 introduced into the wavelength conversion member 10A. It is made of a material that does not absorb light.
  • the light transmitting member 13 is preferably made of a material that does not transmit moisture or oxygen. If comprised in this way, since the penetration
  • Examples of the material of the light transmissive member 13 that satisfies the above conditions include light transmissive resin materials such as silicone resin, epoxy resin, acrylic resin, fluororesin, polycarbonate resin, polyimide resin, urea resin, aluminum oxide, and oxidation. Examples thereof include light transmissive inorganic materials such as silicon and yttria.
  • FIGS. 4A and 4B are schematic cross-sectional views of the semiconductor fine particle phosphor shown in FIGS. 2 and 3.
  • FIG. As the semiconductor fine particle phosphor provided in the wavelength conversion member in the present embodiment, those having various known structures can be used. In the following, the semiconductor fine particle phosphor having a particularly preferable structure will be described with reference to FIGS. 4A and 4B. Will be described in detail with reference to FIG.
  • the semiconductor fine particle phosphor 20A shown in FIG. 4A is a semiconductor fine particle phosphor having a structure generally referred to as a core structure.
  • the semiconductor fine particle phosphor 20A having a core structure includes a core portion 21 that is a light emitting portion.
  • the core portion 21 is a portion made of semiconductor microcrystal particles having a particle diameter of several nanometers and emits light due to recombination of electrons and holes.
  • an organic compound 22 that binds to the core portion 21 may be provided on the surface of the core portion 21 of the semiconductor fine particle phosphor 20A. If an appropriate substance is selected as the organic compound 22, it is possible to adjust the dispersibility when the semiconductor microcrystalline phosphor is dispersed in a liquid or solid. If an appropriate substance is selected as the organic compound 22, the function of confining electrons inside the semiconductor fine particle phosphor, the function of protecting the semiconductor fine particle phosphor from adverse effects from the outside, and the suppression of aggregation between the semiconductor fine particle phosphors Functions and the like can also be added.
  • the semiconductor fine particle phosphor 20B shown in FIG. 4B is a semiconductor fine particle phosphor having a structure generally referred to as a core / shell structure.
  • the semiconductor fine particle phosphor 20 ⁇ / b> B having a core / shell structure includes a core portion 21 that is a light emitting portion, and a shell portion 23 that covers the core portion 21.
  • the core portion 21 is a portion made of semiconductor microcrystalline particles having a particle diameter of about several nanometers, and emits light due to recombination of electrons and holes.
  • the shell part 23 is made of a material different from that of the core part 21 and is a part having a protective function for protecting the adverse effect of the core part 21 from the outside.
  • the shell portion 23 is preferably made of a material having a larger band gap energy than the core portion 21. If configured in this way, the function of confining electrons and holes inside the semiconductor fine particle phosphor is exhibited, and it is possible to reduce the loss of electrons and holes due to non-emissive transitions and to emit light. Efficiency will be improved.
  • the semiconductor fine particle phosphor 20 ⁇ / b> B may include an organic compound 22 bonded to the shell portion 23 on the surface of the shell portion 23. If an appropriate substance is selected as the organic compound 22, it is possible to adjust the dispersibility when the semiconductor fine particle phosphor is dispersed in a liquid or a solid. If an appropriate substance is selected as the organic compound 22, the function of confining electrons inside the semiconductor fine particle phosphor, the function of protecting the semiconductor fine particle phosphor from adverse effects from the outside, and the suppression of aggregation between the semiconductor fine particle phosphors Functions and the like can also be added.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14 provided in the wavelength conversion member 10A in the present embodiment, in addition to the semiconductor fine particle phosphors 20A and 20B having the core structure and the core / shell structure described above.
  • a semiconductor fine particle phosphor having a multi-shell structure can be used.
  • a core / shell formed of a shell portion made of another material is provided outside the shell portion 23 of the semiconductor fine particle phosphor 20B having the core / shell structure.
  • Shell / shell structure or a shell / core / shell structure in which a shell part is disposed at the center, a core part is provided so as to cover the shell part, and a shell part is provided so as to cover the outside of the core part.
  • a semiconductor fine particle phosphor is provided.
  • the outer shell portion protects the inner shell portion, so that the durability of the semiconductor fine particle phosphor is improved. Will do. Further, when the semiconductor fine particle phosphor having the shell / core / shell structure is used, since both the inner side and the outer side of the core part are surrounded by the shell part, the structure is more than that of the core / shell structure. A high electron confinement effect can be obtained, and the light emission efficiency of the semiconductor fine particle phosphor is improved.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14 described above in addition to the spherical shape as shown in FIGS. 2 and 3, various shapes such as a columnar shape, a cubic shape, and a regular tetrahedral shape can be used.
  • the shape is not limited. However, if a spherical shape as shown in the figure is used, the ratio of the surface area to the volume becomes smaller than other shapes, so the probability of non-luminous transition on the surface is reduced, and as a result, it has high luminous efficiency.
  • a semiconductor fine particle phosphor can be obtained.
  • the shape of the core part and the shape of the shell part included in the semiconductor fine particle phosphor 14 any shape can be adopted for both.
  • the shape of the shell portion that covers the core portion is preferably a shape that covers the entire surface of the core portion. This is because, if configured in this manner, defects existing on the surface of the core portion are deactivated by being covered with the shell portion, and thus it becomes possible to increase the luminous efficiency.
  • the semiconductor microcrystal particle which comprises a core part may be called a colloid particle, a nanoparticle, or a quantum dot.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14 provided in the wavelength conversion member 10A in the present embodiment is characterized in that the emission wavelength can be arbitrarily adjusted as compared with other phosphors such as rare earth activated phosphors conventionally used. . This is because the quantum confinement effect generated when the particle diameter (diameter) of the semiconductor microcrystalline particles is reduced to twice or less the Bohr radius can be used. In the core part of the semiconductor fine particle phosphor, the band gap energy of the core part changes due to the quantum confinement effect corresponding to the particle diameter. Therefore, the emission wavelength can be arbitrarily adjusted by adjusting the particle diameter to change the band gap energy. If a mixed crystal material is used for the core part of the semiconductor fine particle phosphor, the emission wavelength can be arbitrarily adjusted by adjusting the mixed crystal ratio of the mixed crystal material.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14 provided in the wavelength conversion member 10A in the present embodiment those having any emission wavelength may be used depending on the application, but in particular, the visible light wavelength is included as the emission wavelength. Those are preferably used. This is because a wavelength conversion member, a light emitting device, an image display device, and the like having good characteristics can be realized by using a semiconductor fine particle phosphor having an emission wavelength in the visible light wavelength region.
  • Specific examples of the emission wavelength of the semiconductor fine particle phosphor 14 are 420 to 480 nm for the blue light emitting phosphor, 500 to 565 nm for the green light emitting phosphor, 565 to 585 nm for the yellow light emitting phosphor, and red. In the case of a light emitting phosphor, a wavelength region of 595 to 720 nm is exemplified.
  • the half width of the emission spectrum is not limited, but from the viewpoint of manufacturing the light emitting device, the half width is Wide is preferable. This is because when the half-width of the emission spectrum of the semiconductor fine particle phosphor 14 is wide, a light emitting device having high color rendering properties can be manufactured using only a few types of semiconductor fine particle phosphors.
  • a specific example of the half width of the emission spectrum is preferably 40 nm or more, more preferably 60 nm or more, and further preferably 80 nm or more.
  • the half width of the semiconductor fine particle phosphor 14 provided in the wavelength conversion member 10A in the present embodiment is narrow. This is because an image display device with high color reproducibility can be manufactured when the half width of the emission spectrum of the semiconductor fine particle phosphor 14 is narrow.
  • the half-value width of the emission spectrum it is preferably 80 nm or less, more preferably 60 nm or less, and further preferably 40 nm or less.
  • the band gap energy of the core part included in the semiconductor fine particle phosphor 14 is not limited, but more preferably. 2.9 eV or less is used. This is because, when the band gap energy of the core part of the semiconductor fine particle phosphor exceeds 2.9 eV, the human visibility is greatly reduced. Therefore, the wavelength conversion member, the light emitting device, the image display device, etc. This is because the optical characteristics of the film deteriorate.
  • the average particle diameter is not limited, but more preferably, the average particle diameter of the core portion is the Bohr radius. Two times or less are used. This is because, as described above, a high quantum confinement effect can be obtained by setting the average particle diameter of the core part to be twice or less the Bohr radius so that the band gap energy can be easily adjusted. It is to become.
  • the Bohr radii of InP, InN, and CdSe, which are typical materials used for the core, are 8.3 nm, 7.0 nm, and 4.9 nm, respectively.
  • the variation in the particle diameter of the core part of the semiconductor fine particle phosphor has a great influence on the emission spectrum of the semiconductor fine particle phosphor. Specifically, when the variation in the particle size of the core part of the semiconductor fine particle phosphor is large, the half-value width of the emission spectrum of the semiconductor fine particle phosphor becomes large. When the variation is small, the half width of the emission spectrum of the semiconductor fine particle phosphor is small. Therefore, it is preferable to adjust the particle size distribution so that the half-value width of the emission spectrum of the semiconductor fine particle phosphor required for the application can be obtained.
  • a conventionally known classification method can be used as a method for adjusting the average particle size and particle size distribution of the core part of the semiconductor fine particle phosphor.
  • a classification method include electrophoresis and size selection.
  • a precipitation method, a light-assisted etching method, or the like can be used as a method for adjusting the average particle size and particle size distribution of the core part of the semiconductor fine particle phosphor.
  • the band gap energy of the shell part included in the semiconductor fine particle phosphor 14 is not limited. It is preferable that it is larger than the hand gap energy. If comprised in this way, the effect of confining the exciton which generate
  • Examples of the core material of the semiconductor fine particle phosphor 14 provided in the wavelength conversion member 10A in the present embodiment include a group IV semiconductor, a group IV-IV semiconductor material, a group III-V compound semiconductor material, and a group II-VI. Examples include compound semiconductor materials, Group I-VIII compound semiconductor materials, Group IV-VI compound semiconductor materials, and the like.
  • As the material for the core a single semiconductor in which the mixed crystal is composed of one element, a binary compound semiconductor composed of two elements, or a mixed crystal semiconductor composed of three or more elements can be used.
  • the core portion is preferably configured using semiconductor fine particles composed of a direct transition type semiconductor material.
  • the semiconductor fine particles constituting the core part it is preferable to use those that emit visible light as described above. From the viewpoint of durability, it is preferable to use a group III-V compound semiconductor material having a strong atomic bonding force and high chemical stability. Further, in order to easily adjust the peak wavelength of the emission spectrum of the semiconductor fine particle phosphor 14, it is preferable to form the core portion using the mixed crystal semiconductor material as described above. On the other hand, in order to make the production easier, it is preferable to configure the core portion using a semiconductor fine particle phosphor composed of a mixed crystal of 4 elements or less.
  • Examples of the semiconductor material made of a binary compound that can be used as the core part of the semiconductor fine particle phosphor 14 described above include InP, InN, InAs, GaAs, CdSe, CdTe, ZnSe, ZnTe, PbS, PbSe, PbTe, CuCl, and the like. Can be mentioned. However, from the viewpoints of safety to the human body and environmental burden, it is preferable to use InP or InN as the core material. From the viewpoint of ease of manufacture, it is preferable to use CdSe or CdTe as the material of the core part.
  • Examples of the ternary mixed crystal semiconductor material that can be used as the core part of the semiconductor fine particle phosphor 14 described above include InGaP, AlInP, InGaN, AlInN, ZnCdSe, ZnCdTe, PbSSe, PbSTe, and PbSeTe. it can.
  • the core portion is constituted by using III-V mixed crystal semiconductor fine particles made of InGaP or InGaN. Is preferred.
  • Examples of the material of the shell portion of the semiconductor fine particle phosphor 14 provided in the wavelength conversion member 10A in the present embodiment include a group IV semiconductor, a group IV-IV semiconductor material, a group III-V compound semiconductor material, and a group II-VI group. Examples include compound semiconductor materials, Group I-VIII compound semiconductor materials, Group IV-VI compound semiconductor materials, and the like.
  • a material for the shell portion a single semiconductor in which mixed crystals are composed of one element, a binary compound semiconductor composed of two elements, or a mixed crystal semiconductor composed of three or more elements can be used. However, from the viewpoint of increasing the light emission efficiency of the wavelength conversion member, the light emitting device, and the image display device, it is preferable to use a semiconductor material having a higher band gap energy than the material of the core portion as the material of the shell portion.
  • the semiconductor fine particles constituting the shell part it is preferable to use a III-V group compound semiconductor material having a high atomic bonding force and high chemical stability from the viewpoint of the protective function of the core part described above.
  • a semiconductor fine particle phosphor composed of a mixed crystal of 4 elements or less.
  • AlP, GaP, AlN, GaN, AlAs, ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, MgO, MgS, MgSe, MgTe, CuCl, etc. can be mentioned.
  • AlP, GaP, AlN, GaN, ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, MgO, MgS, MgSe, MgTe, CuCl, and SiC should be used as the shell material. Is preferred.
  • examples of the ternary mixed crystal semiconductor material that can be used as the core part of the above-described semiconductor fine particle phosphor 14 include AlGaN, GaInN, ZnOS, ZnOSe, ZnOTe, ZnSSe, ZnSTe, and ZnSeTe.
  • the shell portion is made of AlGaN, GaInN, ZnOS, ZnOTe, or ZnSTe.
  • a bonding portion between an alkyl group that is a functional portion and the core portion or the shell portion As a material of the organic compound that is bonded to the surface of the semiconductor fine particle phosphor 14 provided in the wavelength conversion member 10A in the present embodiment, a bonding portion between an alkyl group that is a functional portion and the core portion or the shell portion.
  • the organic compound which consists of is preferable, and an amine compound, a phosphine compound, a phosphine oxide compound, a thiol compound, a fatty acid etc. are illustrated as a specific example.
  • examples of the phosphine compound include tributylphosphine, trihexylphosphine, trioctylphosphine, and the like.
  • phosphine oxide compounds include 1-dichlorophosphinorheptane, 1-dichlorophosphinornonane, t-butylphosphonic acid, tetradecylphosphonic acid, dodecyldimethylphosphine oxide, dioctylphosphine oxide, didecylphosphine oxide. , Tributyl phosphine oxide, tripentyl phosphine oxide, trihexyl phosphine oxide, trioctyl phosphine oxide and the like.
  • thiol compounds include tributyl sulfide, trihexyl sulfide, trioctyl sulfide, 1-heptyl thiol, 1-octyl thiol, 1-nonane thiol, 1-decane thiol, 1-undecane thiol, 1-dodecane thiol, Examples thereof include 1-tridecanethiol, 1-tetradecanethiol, 1-pentadecanethiol, 1-hexadecanethiol, 1-octadecanethiol, dihexyl sulfide, diheptyl sulfide, dioctyl sulfide, dinonyl sulfide and the like.
  • Examples of amine compounds include heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine, dodecylamine, tridecylamine, tetradecylamine, hexadecylamine, octadecylamine, oleylamine, dioctylamine, tributylamine, tributylamine, Examples include pentylamine, trihexylamine, triheptylamine, trioctylamine, and trinonylamine.
  • fatty acids examples include lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid and the like.
  • a manufacturing method of the semiconductor fine particle phosphor 14 provided in the wavelength conversion member 10A in the present embodiment various conventionally known synthesis methods can be used.
  • a gas phase synthesis method, a liquid phase synthesis method, a solid phase synthesis method can be used.
  • a vacuum synthesis method or the like can be used.
  • a liquid phase synthesis method and from the viewpoint of being able to synthesize a semiconductor fine particle phosphor with high luminous efficiency among the liquid phase synthesis methods.
  • a synthesis method such as a hot soap method, a reverse micelle method, a solvothermal method, a hydrothermal method, or a coprecipitation method.
  • X-ray photoelectron spectroscopy or the like can be used as a method for specifying the material constituting the light transmissive member described above.
  • TEM transmission electron microscope
  • the peak wavelength can be measured by measuring the emission spectrum by performing photoluminescence measurement, cathodoluminescence measurement, electroluminescence measurement, etc. And a method of calculating the half width.
  • various methods can be applied as methods for confirming the absorption characteristics of the semiconductor fine particle phosphor described above, and preferably, absorption spectrum measurement using a spectrophotometer can be used.
  • the material and average particle diameter of the core part are specified and calculated based on these, and the light emission characteristics and absorption characteristics are used.
  • the method of specifying is exemplified.
  • a method for obtaining the average particle diameter of the core part of the semiconductor fine particle phosphor described above a method of measuring with a dynamic scattering method (DLS), a powder X-ray diffraction (XRD) device, a transmission method, A method using direct observation with a scanning electron microscope is exemplified.
  • a powder X-ray diffractometer when used, the average particle diameter of the crystal can be obtained from the half width of the diffraction peak of the obtained crystal using the Scherrer equation.
  • the average particle diameter can be calculated by, for example, measuring 20 arbitrary particle diameters and performing statistical processing.
  • a method for confirming the band gap energy of the shell part of the semiconductor fine particle phosphor described above there are a method of specifying the material of the shell part and calculating it based on this, a method of specifying from the light emission characteristics and absorption characteristics, etc. Illustrated.
  • powder X-ray diffraction method electron beam diffraction method, X-ray photoelectron spectroscopy method and the like can be used.
  • IR infrared spectroscopy
  • NMR nuclear magnetic resonance
  • the wavelength conversion member 10 ⁇ / b> A in the present embodiment includes two types of semiconductor fine particle phosphors 14 a and 14 b as the semiconductor fine particle phosphor 14.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14a emits long wavelength fluorescence by converting the wavelength of the absorbed excitation light 100
  • the semiconductor fine particle phosphor 14b emits short wavelength fluorescence by converting the wavelength of the absorbed excitation light 100. is there.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14 a that emits long-wavelength fluorescence and the semiconductor fine particle phosphor 14 b that emits short-wavelength fluorescence are both dispersed in the light transmissive member 13.
  • the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b dispersedly arranged in the light transmissive member 13 has a specific anisotropy. . That is, in the wavelength conversion member 10A according to the present embodiment, the amount of the semiconductor fine particle phosphors 14 and 14b existing per unit length in the wavelength conversion member 10A is different depending on the direction. More specifically, as shown in FIG. 2, the semiconductor fine particle phosphor 14a in a direction parallel to the light traveling direction (that is, the Z-axis direction), which is a direction connecting the incident surface 11 and the emission surface 12 of the wavelength conversion member 10A. , 14b is lower than the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a, 14b in the direction orthogonal to the light traveling direction (that is, the direction included in the XY plane).
  • the wavelength conversion member 10A has three regions 15a, 15b, and 15c along the Z-axis direction, and of these, the region 15a positioned on the incident surface 11 side and the position on the output surface 12 side.
  • the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are dispersedly arranged in the region 15c to be dispersed, and the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are not dispersedly arranged in the region 15b located between the regions 15a and 15c.
  • the anisotropy of the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b as described above is realized.
  • the wavelength conversion member 10A By configuring as described above, the wavelength conversion member 10A according to the present embodiment generates concentration quenching while increasing the absorption rate of excitation light by the semiconductor fine particle phosphor as compared with the conventional wavelength conversion member. It is possible to suppress and achieve high luminous efficiency.
  • FIG. 5 is a diagram schematically showing how light is wavelength-converted in the wavelength conversion member in the present embodiment.
  • FIG. 50 is a schematic cross-sectional view when the wavelength conversion member in the conventional example is cut along the XZ plane
  • FIG. 51 is a schematic cross-section when the wavelength conversion member in the conventional example is cut along the XZ plane.
  • FIG. FIG. 52 is a diagram schematically showing how light is wavelength-converted in the wavelength conversion member in the conventional example.
  • the cross section shown in FIG. 51 is a schematic cut surface along the line LI-LI shown in FIG.
  • the wavelength conversion member in the present embodiment is the conventional example while comparing the wavelength conversion member in the present embodiment with the wavelength conversion member in the conventional example. The reason why the luminous efficiency is higher than that of the wavelength conversion member in FIG.
  • the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b dispersedly arranged in the light transmissive member 13 is specified as described above. There was no anisotropy, and the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the wavelength conversion member 10X was substantially uniform throughout.
  • the excitation light 100 when the excitation light 100 is irradiated onto the incident surface 11 of the wavelength conversion member 10X, the following phenomenon occurs. That is, part of the excitation light 100 passes through the light transmissive member 13 as it is without being absorbed by any of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b, as indicated by arrows 101 and 201 in the figure. Further, as shown by arrows 102 and 202 in the figure and arrows 103 and 203 in the figure, a part of the excitation light 100 is absorbed by any one of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b and wavelength-converted into fluorescence. And passes through the light transmissive member 13.
  • a part of the excitation light 100 is once absorbed by the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b and wavelength-converted into fluorescence. Later, it is absorbed again by another semiconductor fine particle phosphor 14a, 14b, and in some cases, it is again absorbed by another semiconductor fine particle phosphor 14a, 14b and passes through the light transmitting member 13. And the said light which passed the light transmissive member 13 is radiate
  • the semiconductor fine particle phosphor does not emit all of the absorbed light after wavelength conversion, and part of the absorbed light is lost as a loss. Therefore, when the above-mentioned reabsorption of light (that is, a phenomenon in which light once absorbed by the semiconductor fine particle phosphor is emitted again) is caused again, the wavelength conversion member itself As a result, the light emission efficiency is greatly reduced.
  • the wavelength conversion member 10X in the conventional example described above even if the concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b is increased, concentration quenching occurs, the light emission efficiency is saturated, and the light emission efficiency cannot be further improved. It was.
  • the wavelength conversion member 10A has the anisotropy of the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b as described above, and therefore the incident surface of the wavelength conversion member 10A. Also when 11 is irradiated with the excitation light 100, the rate at which the above-described reabsorption of light occurs is reduced. That is, as shown in FIG.
  • the concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b dispersedly arranged in the light transmissive member 13 is increased, the concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the XY in-plane direction in the regions 15a and 15c.
  • the excitation light 100 can be efficiently converted into wavelength converted light even if the concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the Z-axis direction is low. Therefore, by using the wavelength conversion member 10A in the present embodiment, it is possible to obtain higher luminous efficiency than the wavelength conversion member 10X in the conventional example.
  • concentration of the semiconductor fine particle phosphor 14 to contain, the kind of the excitation light 100 incident on the wavelength conversion member 10A, etc. are adjusted suitably (semiconductor fine particle
  • concentration of the phosphor 14 can be adjusted freely by adjusting the concentration of the phosphor 14 in consideration of anisotropy, and the wavelength converted light 200 emitted from the wavelength conversion member 10A can be freely adjusted. .
  • FIG. 6 is a flowchart showing a method for manufacturing a wavelength conversion member in Embodiment 1 of the present invention
  • FIG. 53 is a flowchart showing a method for manufacturing a wavelength conversion member in the conventional example described above.
  • the manufacturing method of the wavelength conversion member in this Embodiment is demonstrated compared with the manufacturing method of the wavelength conversion member in a prior art example.
  • step S1 in manufacturing the wavelength conversion member 10X in the conventional example, first, in step S1, a semiconductor fine particle phosphor is manufactured.
  • the above-described known synthesis method for example, liquid phase synthesis method
  • step S2 the semiconductor fine particle phosphor is added to and dispersed in the liquid resin to produce a mixed liquid in which the semiconductor fine particle phosphor is dispersed in the liquid resin.
  • the resin to be used for example, a silicone resin or the like that has optical transparency after curing is used.
  • step S3 the mixed solution is poured into a molding die or the like to cure the liquid resin contained in the mixed solution.
  • the manufacture of the wavelength conversion member 10X in the conventional example in which the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b is substantially uniform throughout is completed.
  • step S101 in manufacturing the wavelength conversion member 10A in the present embodiment, first, in step S101, a semiconductor fine particle phosphor is manufactured.
  • the above-described known synthesis method for example, liquid phase synthesis method
  • step S102 the semiconductor fine particle phosphor is added to and dispersed in the liquid resin to produce a mixed liquid in which the semiconductor fine particle phosphor is dispersed in the liquid resin, and the prepared mixed liquid is divided into predetermined amounts.
  • the resin to be used for example, a silicone resin or the like that has optical transparency after curing is used.
  • step S103 the liquid resin contained in one of the separated mixed solutions is cured. Thereby, the region 15a shown in FIG. 2 is formed.
  • step S104 a predetermined amount of liquid resin is applied onto the main surface of the cured member, and the applied liquid resin is cured. Thereby, the region 15b shown in FIG. 2 is formed.
  • step S105 the other mixed liquid is applied onto the main surface of the cured member, and the liquid resin contained in the other mixed liquid is cured. Thereby, the region 15c shown in FIG. 2 is formed.
  • the manufacture of the wavelength conversion member 10A according to the present embodiment having specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b as shown in FIGS. 1 to 3 is completed.
  • FIG. 7 is a schematic cross-sectional view when the wavelength conversion member in Embodiment 2 of the present invention is cut along the XZ plane.
  • FIG. 8 is a flowchart which shows the manufacturing method of the wavelength conversion member in this Embodiment.
  • the structure and manufacturing method of the wavelength conversion member in the present embodiment will be described with reference to FIGS.
  • symbol is attached
  • the specific anisotropy is present in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b dispersedly arranged in the light transmissive member 13.
  • the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the Z-axis direction of the wavelength conversion member 10B is lower than the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the direction included in the XY plane. Yes.
  • the wavelength conversion member 10B has two regions 15a and 15d having different concentrations along the Z-axis direction, and the semiconductor fine particle phosphor in the region 15a located on the incident surface 11 side among these regions 15a and 15d.
  • 14a and 14b are dispersedly arranged at a high concentration
  • semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are dispersedly arranged at a low concentration in a region 15d located on the emission surface 12 side.
  • step S201 semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are manufactured.
  • the above-described known synthesis method for example, liquid phase synthesis method
  • step S202 the semiconductor fine particle phosphor is added to and dispersed in the liquid resin so that the semiconductor fine particle phosphor is dispersed at a high concentration in the liquid resin, and the semiconductor fine particle phosphor is in the liquid resin.
  • a low-concentration mixed liquid dispersed in a low concentration is prepared.
  • the resin to be used for example, a silicone resin or the like that has optical transparency after curing is used.
  • step S203 the liquid resin contained in the high concentration liquid mixture is cured. Thereby, the region 15a shown in FIG. 7 is formed.
  • step S204 a low concentration mixed solution is applied onto the main surface of the cured member, and the liquid resin contained in the applied low concentration mixed solution is cured. Thereby, the region 15d shown in FIG. 7 is formed.
  • the manufacture of the wavelength conversion member 10B according to the present embodiment having specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b as shown in FIG. 7 is completed.
  • FIG. 9 is a schematic cross-sectional view when the wavelength conversion member in Embodiment 3 of the present invention is cut along the XZ plane.
  • FIG. 10 is a schematic cross-sectional view when the wavelength conversion member in the present embodiment is cut along the XY plane.
  • FIG. 11 is a flowchart which shows the manufacturing method of the wavelength conversion member in this Embodiment.
  • the cross section shown in FIG. 10 is a schematic cut surface along the line XX shown in FIG.
  • symbol is attached
  • the specific anisotropy is present in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b dispersedly arranged in the light transmissive member 13.
  • the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the Z-axis direction of the wavelength conversion member 10C is lower than the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the direction included in the XY plane. Yes.
  • the wavelength conversion member 10C has two regions 16a and 16b along the Z-axis direction, and in these regions 16a located on the incident surface 11 side, the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are arranged. Are dispersed and the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are not dispersedly arranged in the region 16b located on the emission surface 12 side. That is, the semiconductor fine particle phosphors 14 a and 14 b are localized on the incident surface 11 side of the light transmissive member 13. Thereby, the anisotropy of the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b as described above is realized.
  • semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b having substantially the same particle diameter are used, and the XY plane of the region 16a is used.
  • the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are regularly arranged in a hexagonal lattice shape.
  • the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are in the state of being packed most closely in the XY in-plane direction, and thus the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14a in the XY in-plane direction. It is possible to increase the concentration of 14b to the maximum.
  • the difference between the concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the Z-axis direction and the concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the XY in-plane direction can be greatly different, while suppressing light reabsorption. Luminous efficiency can be greatly increased.
  • step S301 semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are manufactured.
  • the above-described known synthesis method for example, liquid phase synthesis method
  • step S302 the semiconductor fine particle phosphor is added to and dispersed in a volatile solvent, thereby producing a dispersion in which the semiconductor fine particle phosphor is dispersed in the volatile solvent.
  • a volatile solvent for example, an organic solvent typified by toluene, hexane, ethanol or the like can be used.
  • step S303 the semiconductor fine particle phosphor contained in the dispersion is aggregated and precipitated, and then the volatile solvent contained in the dispersion is volatilized.
  • self-organization also referred to as self-arrangement
  • self-organization means that an ordered structure is formed autonomously when the fine particles aggregate to stabilize. More specifically, in a system in which fine particles are dispersed, the ratio of the surface area to the volume of the fine particles is so large that the fine particles are aggregated so that the surface area of the dispersed fine particles is minimized so that the surface energy is stabilized. As a result, a regular arrangement of fine particles occurs. This phenomenon is called self-organization.
  • the regular arrangement of the semiconductor fine particle phosphors such as a hexagonal lattice as described above is realized.
  • step S304 a liquid resin is applied so as to seal the precipitated and agglomerated semiconductor fine particle phosphor (that is, self-assembled semiconductor fine particle phosphor), and the applied liquid resin is cured.
  • the resin to be used for example, a silicone resin or the like that has optical transparency after curing is used. As a result, regions 16a and 16b shown in FIG. 7 are formed.
  • the manufacture of the wavelength conversion member 10C according to the present embodiment having specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b as shown in FIG. 9 is completed.
  • the wavelength conversion member 10C in the present embodiment As described above, by adopting the structure like the wavelength conversion member 10C in the present embodiment and the manufacturing method thereof, as in the case of the first embodiment of the present invention described above, compared to the conventional case. It can be set as the wavelength conversion member with which the luminous efficiency was improved. In particular, by utilizing the above-described self-organizing action of the semiconductor fine particle phosphor, it is possible to obtain a wavelength conversion member in which the luminous efficiency is greatly improved as compared with the conventional one.
  • the three-dimensional filling structure of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the region 16a of the wavelength conversion member 10C described above may be a close packing structure such as a hexagonal close packing structure or a cubic close packing. Other than these, a non-close-packed structure may be used. Further, the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b may be arranged as a single layer without having a three-dimensional filling structure.
  • the case where the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are localized on the incident surface 11 side of the light transmissive member 13 is exemplified.
  • the fine particle phosphors 14 a and 14 b may be localized on the emission surface 12 side of the light transmissive member 13.
  • FIG. 12 is a schematic cross-sectional view when the wavelength conversion member in Embodiment 4 of the present invention is cut along the XZ plane.
  • the structure of the wavelength conversion member in the present embodiment will be described with reference to FIG.
  • symbol is attached
  • the specific anisotropy is present in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b dispersedly arranged in the light transmissive member 13.
  • the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the Z-axis direction of the wavelength conversion member 10C is lower than the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the direction included in the XY plane. Yes.
  • the wavelength conversion member 10D has four regions 17a, 17b, 17c, and 17d along the Z-axis direction.
  • the region 17a located on the incident surface 11 side and the Z-axis direction The semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are dispersedly disposed in the region 17c at one intermediate position of the semiconductor particle, and the semiconductor fine particle fluorescence is disposed at the region 17d located at the emission surface 12 side and the region 17b at the other intermediate position in the Z-axis direction.
  • the bodies 14a and 14b are not distributed. Thereby, the anisotropy of the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b as described above is realized.
  • semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b having substantially the same particle diameter are used, and the XY plane of the region 17a and the XY of the region 17c are used.
  • Semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are regularly arranged in a hexagonal lattice pattern in the plane.
  • the difference between the concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the Z-axis direction and the concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the XY in-plane direction is greatly different.
  • the specific manufacturing method of the said wavelength conversion member 10D is based on the manufacturing method demonstrated in Embodiment 3 of the said invention, The description is abbreviate
  • FIG. 13 is a schematic cross section at the time of cut
  • FIG. 13 the structure of the wavelength conversion member in this Embodiment is demonstrated.
  • symbol is attached
  • the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the XY plane are regularly arranged in a cubic lattice shape.
  • the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in a hexagonal lattice shape or a cubic lattice shape largely depends on the particle diameter of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b. It is determined based on these particle sizes.
  • the difference between the concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the Z-axis direction and the concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the XY in-plane direction is greatly different.
  • the specific manufacturing method of the said wavelength conversion member 10E is based on the manufacturing method demonstrated in Embodiment 3 of the said invention, The description is abbreviate
  • the three-dimensional filling structure of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the region 17a of the wavelength conversion member 10E described above may be a close packing structure or a non-close packing structure. Further, as shown in the drawing, the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b may be arranged as a single layer without having a three-dimensional filling structure.
  • FIG. 14 is a schematic cross-sectional view of the wavelength conversion member in Embodiment 6 of the present invention cut along the XZ plane.
  • FIG. 15 is a schematic cross-sectional view when the wavelength conversion member in the present embodiment is cut along the XY plane.
  • FIG. 16 is a flowchart which shows the manufacturing method of the wavelength conversion member in this Embodiment.
  • the cross section shown in FIG. 15 is a schematic cut surface along the line XV-XV shown in FIG.
  • symbol is attached
  • the specific anisotropy is present in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b dispersedly arranged in the light transmissive member 13.
  • the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the Z-axis direction of the wavelength conversion member 10F is lower than the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the direction included in the XY plane. Yes.
  • the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are separated for each type and stacked in layers in the Z-axis direction. That is, the wavelength conversion member 10F has three regions 18a, 18b and 18c along the Z-axis direction, and only the semiconductor fine particle phosphor 14a is dispersedly arranged in the region 18a located on the incident surface 11 side. Only the semiconductor fine particle phosphors 14b are dispersedly arranged in the region 18b at the intermediate position in the Z-axis direction, and both of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are dispersed in the region 18c located on the emission surface 12 side. Not placed. Therefore, as shown in FIG.
  • the semiconductor fine particle phosphors 14a that emit high wavelength fluorescence are dispersedly arranged in layers on the incident surface 11 side of the light transmissive member 13, and low wavelength fluorescence.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14b that emits light is distributed in a layered manner on the emission surface 12 side of the light transmissive member 13 relative to the semiconductor fine particle phosphor 14a that emits high wavelength fluorescence.
  • the arrangement of the semiconductor fine particle phosphors 14 in the Z-axis direction is such that the emission wavelength of the semiconductor fine particle phosphors 14 included in each layer (each region) changes from the incident surface 11 side to the output surface 12 side of the light transmissive member 13.
  • the emission wavelength of the semiconductor fine particle phosphors 14 included in each layer changes from the incident surface 11 side to the output surface 12 side of the light transmissive member 13.
  • the semiconductor fine particle phosphor generally has a characteristic of absorbing light having a shorter wavelength than the emission wavelength. For example, assuming that there is a red semiconductor fine particle phosphor that emits light at a long wavelength and a green semiconductor fine particle phosphor that emits light at a short wavelength, the fluorescence of the green semiconductor fine particle phosphor with a short emission wavelength is absorbed by the red semiconductor fine particle phosphor. However, the fluorescence of the red semiconductor fine particle phosphor having a long emission wavelength is transmitted without being absorbed by the green semiconductor fine particle phosphor. Therefore, by configuring as described above, light reabsorption is suppressed.
  • step S401 In manufacturing the wavelength conversion member 10F having such a structure, as shown in FIG. 16, first, in step S401, two types of semiconductor fine particle phosphors having different emission wavelengths are manufactured.
  • the above-described known synthesis method for example, liquid phase synthesis method
  • step S402 the semiconductor fine particle phosphor is added to and dispersed in a volatile solvent, whereby one type of semiconductor fine particle phosphor is dispersed in the volatile solvent, and the other type of semiconductor fine particle is dispersed.
  • a dispersion liquid in which a phosphor is dispersed in a volatile solvent is prepared.
  • a volatile solvent to be used for example, an organic solvent represented by toluene can be used.
  • step S403 the semiconductor fine particle phosphor contained in one of the dispersions is aggregated and precipitated, and then the volatile solvent contained in the one dispersion is volatilized.
  • the aggregation and precipitation process of the semiconductor fine particle phosphor in step S403 self-organization of the semiconductor fine particle phosphor occurs.
  • step S404 a liquid resin is applied so as to seal the precipitated and aggregated semiconductor fine particle phosphor, and the applied liquid resin is cured.
  • the resin to be used for example, a silicone resin or the like that has optical transparency after curing is used. Thereby, the region 18a shown in FIG. 7 is formed.
  • step S405 the other dispersion liquid is applied onto the main surface of the cured member, and the semiconductor fine particle phosphor contained in the other applied dispersion liquid is aggregated and precipitated, and then the other dispersion liquid is applied. Volatile solvent contained in the dispersion is volatilized. In the process of aggregation and precipitation of the semiconductor fine particle phosphor in step S405, self-organization of the semiconductor fine particle phosphor occurs.
  • step S406 a liquid resin is applied to seal the precipitated and aggregated semiconductor fine particle phosphor, and the applied liquid resin is cured.
  • the resin to be used for example, a silicone resin or the like that has optical transparency after curing is used. Thereby, the regions 18b and 18c shown in FIG. 14 are formed.
  • the manufacture of the wavelength conversion member 10F in the present embodiment having specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b as shown in FIG. 14 is completed.
  • the wavelength conversion member 10F in the present embodiment As described above, by adopting the structure like the wavelength conversion member 10F in the present embodiment and the manufacturing method thereof, as in the case of the above-described third embodiment of the present invention, compared to the conventional case. It can be set as the wavelength conversion member in which luminous efficiency was improved greatly. In particular, by adopting the arrangement of semiconductor fine particle phosphors as described above, it is possible to obtain a wavelength conversion member in which the luminous efficiency is dramatically improved as compared with the conventional case.
  • the wavelength conversion member 10F in this Embodiment mentioned above although the case where 2 types of semiconductor fine particle fluorescent substance was isolate
  • FIG. 17 is a schematic cross section at the time of cut
  • FIG. 17 is a schematic cross section at the time of cut
  • the above-mentioned specific anisotropic property is applied to the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14c, 14d, and 14e dispersedly arranged in the light transmissive member 13.
  • the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphors 14c, 14d, 14e in the Z-axis direction of the wavelength conversion member 10G is dispersed in the direction in which the semiconductor fine particle phosphors 14c, 14d, 14e are included in the XY plane. It is lower than the concentration.
  • the semiconductor fine particle phosphors 14c, 14d, and 14e are separated for each type and laminated in layers in the Z-axis direction. That is, the wavelength conversion member 10G has four regions 19a, 19b, 19c, 19d along the Z-axis direction, and only the semiconductor fine particle phosphor 14c is present in the region 19a located on the incident surface 11 side. Only the semiconductor fine particle phosphor 14d is dispersedly arranged in the region 19b at one intermediate position in the Z-axis direction, and is dispersed in the region 19c at the other intermediate position in the Z-axis direction.
  • the three kinds of semiconductor fine particle phosphors 14c, 14d, and 14e described above have different particle diameters, and the semiconductor fine particle fluorescence having the largest particle diameter is provided.
  • the body 14c is dispersed and arranged in layers on the light incident surface 11 side of the light transmissive member 13, and the semiconductor fine particle phosphor 14d having a smaller particle diameter than the semiconductor fine particle phosphor 14c is lighter than the semiconductor fine particle phosphor 14c.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14e which is dispersed and arranged in layers on the emission surface 12 side of the transmissive member 13, and has a particle diameter smaller than that of the semiconductor fine particle phosphor 14d, is more light transmissive than the semiconductor fine particle phosphor 14d. Are arranged in a layered manner on the emission surface 12 side.
  • the arrangement of the semiconductor fine particle phosphors 14 in the Z-axis direction is such that the particle diameters of the semiconductor fine particle phosphors 14 included in each layer (each region) are from the incident surface 11 side to the emission surface 12 side of the light transmissive member 13.
  • the semiconductor fine particle phosphor having a larger particle diameter generally has a longer emission wavelength, and therefore, re-absorption of light is suppressed by arranging a semiconductor fine particle phosphor having a larger particle diameter, that is, a longer emission wavelength, on the incident surface 11 side. It is to be done.
  • the specific manufacturing method of the said wavelength conversion member 10G is based on the manufacturing method demonstrated in the said Embodiment 6 of the said invention, The description is abbreviate
  • the case where three types of semiconductor fine particle phosphors are separated and laminated in layers has been described as an example, but two types or four types are described.
  • more semiconductor fine particle phosphors may be separated and arranged in layers.
  • the arrangement of the semiconductor fine particle phosphors in the Z-axis direction is configured such that the particle diameter of the semiconductor fine particle phosphors included in each layer decreases from the incident surface side to the emission surface side of the light transmitting member. It is preferable.
  • the wavelength conversion members 10A to 10G containing at least two kinds of semiconductor fine particle phosphors have been described as examples.
  • a wavelength conversion member containing the semiconductor fine particle phosphor may be used, and in this case, the present invention can be applied.
  • the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction of the wavelength conversion member is lower than the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY in-plane direction.
  • the above-described structure has been described as an example. However, when a wavelength conversion member is manufactured by regularly arranging semiconductor fine particle phosphors using self-organization, the semiconductor as described above is not necessarily used. It is not necessary to give the wavelength conversion member the anisotropy of the dispersion concentration of the fine particle phosphor. That is, in this case, the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor is substantially uniform throughout the wavelength conversion member.
  • the size of the wavelength conversion member in the XY in-plane direction is used.
  • the thickness sufficiently larger than the thickness of the wavelength conversion member in the Z-axis direction, it is possible to obtain a wavelength conversion member with high luminous efficiency capable of preventing re-absorption of fluorescence.
  • the internal quantum efficiency (IQE) is an index indicating the conversion efficiency of how much wavelength converted light is emitted out of the amount of light absorbed by the wavelength conversion member.
  • the internal quantum efficiency (IQE) is represented by a value obtained by dividing the light amount of the wavelength converted light by the light amount of the absorbed light.
  • the external quantum efficiency (EQE) is an index indicating the conversion efficiency of how much of the light quantity incident on the wavelength conversion member is emitted.
  • the external quantum efficiency (EQE) is represented by the product of the internal quantum efficiency (IQE) and the absorption rate of incident light.
  • the internal quantum efficiency (IQE) of the wavelength conversion members 10A to 10G in the first to seventh embodiments of the present invention described above is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, More preferably, it is 90% or more.
  • the external quantum efficiency (EQE) of the wavelength conversion members 10A to 10G in the first to seventh embodiments of the present invention is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, and still more preferably. 80% or more.
  • a wavelength conversion member having high internal quantum efficiency (IQE) and external quantum efficiency (EQE) is very advantageous in that light can be converted with little loss.
  • measurement of the total luminous flux using an integrating sphere is exemplified as a measuring method of the internal quantum efficiency (IQE) and the external quantum efficiency (EQE) of the wavelength conversion member.
  • the absorptance As one index for evaluating the performance of the wavelength conversion member, there is an absorptance.
  • an arbitrary value may be taken as the absorptance.
  • the absorption rate is preferably higher.
  • the method using a spectrophotometer, the method using an integrating sphere, etc. are illustrated.
  • FIG. 18 is a schematic cross-sectional view of a light-emitting device according to Embodiment 8 of the present invention. Next, the structure of the light emitting device in this embodiment will be described with reference to FIG.
  • the light-emitting device in the present embodiment includes a semiconductor light-emitting diode element (hereinafter also simply referred to as an LED) as a light-emitting element, and the wavelength conversion members 10A to 10G in any of the first to seventh embodiments of the present invention described above. It has a combined structure. That is, the light emitting device in the present embodiment includes a wavelength conversion member having specific anisotropy as described above in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor. Here, the description of the anisotropy of the dispersion concentration is omitted because the description overlaps.
  • the light-emitting device 30 shown in FIG. 18 what comprised the wavelength conversion member 10A in Embodiment 1 of this invention mentioned above is illustrated.
  • the light emitting device 30 mainly includes an LED 31, a printed wiring board 32, a frame body 36, a sealing resin layer 37, and a wavelength conversion member 10 ⁇ / b> A.
  • the printed wiring board 32 is a member serving as a base, and a pair of electrodes 33a and 33b are provided so as to reach the front and back surfaces thereof.
  • the LED 31 is formed of a semiconductor chip having connection electrodes on the front and back surfaces, and the back surface electrode is joined to one electrode 33 a provided on the printed wiring board 32 via a conductive layer 34, thereby Mounted on the surface.
  • a brazing material such as solder, a conductive adhesive, a conductive paste, or the like can be used as the conductive layer 34.
  • the surface electrode of the LED 31 is connected to the other electrode 33 b provided on the printed wiring board 32 through a metal wire 35.
  • the frame body 36 is provided upright on the printed wiring board 32 so as to surround the LED 31.
  • the wavelength conversion member 10 ⁇ / b> A is fixed to the upper part of the frame body 36, and the incident surface 11 faces the LED 31.
  • a space defined by the printed wiring board 32, the frame body 36, and the wavelength conversion member 10 ⁇ / b> A is filled with a sealing resin layer 37, and the LED 31 is sealed with the sealing resin layer 37.
  • the LED 31 included in the light emitting device 30 in the present embodiment is a semiconductor light emitting diode element.
  • This semiconductor light-emitting diode element is a light-emitting element that utilizes the property of emitting light when electrons and holes are recombined, and includes a semiconductor active layer, a p-type electrode layer, and an n-type electrode layer.
  • the layer has a structure sandwiched between a p-type electrode layer and an n-type electrode layer.
  • the p-type electrode layer is electrically connected to the above-described front surface electrode and connected to the external circuit
  • the n-type electrode layer is electrically connected to the above-described back surface electrode and connected to the external circuit.
  • the semiconductor substrate material of the semiconductor light-emitting diode element As a semiconductor substrate material of the semiconductor light-emitting diode element, a conventionally known general composition can be used.
  • the LED 31 for example, a GaN-based semiconductor light-emitting element or a ZnSe-based material.
  • a semiconductor light emitting element, a SiC-based semiconductor light emitting element or the like is preferably used.
  • the GaN-based semiconductor light-emitting element can be particularly suitably used because it has a high light emission efficiency and a light-emitting device with high practicality can be realized.
  • a semiconductor light emitting diode element having a peak wavelength of an emission spectrum in a wavelength region of 420 nm to 480 nm is particularly preferably used, but a wavelength of 350 to 420 nm is used.
  • a semiconductor light emitting diode element having a peak wavelength of the emission spectrum in the region may be used.
  • a semiconductor light emitting diode element having a peak wavelength of the emission spectrum in the wavelength region of 420 to 480 nm can use the light emission of the semiconductor light emitting diode element as it is as the blue component of the light emission of the light emitting device.
  • a semiconductor light emitting diode element having an emission spectrum peak wavelength in the wavelength region of 350 to 420 nm generally has higher luminous efficiency than a semiconductor light emitting diode element in the wavelength region of 420 to 480 nm.
  • the light emission efficiency of the light emitting device can be increased.
  • a semiconductor light emitting diode element having a peak wavelength of an emission spectrum in the wavelength region of 440 to 460 nm has an advantage of high wavelength matching with a blue color filter used in an image display device to be described later.
  • it can be particularly preferably used from the viewpoint of achieving both color reproducibility and light emission efficiency of the image display device.
  • the wavelength conversion member provided in the light emitting device 30 it is preferable to use a material containing two or more kinds of semiconductor fine particle phosphors from the viewpoint of color rendering properties, and the luminous efficiency is high. From the viewpoint, those containing four or less semiconductor fine particle phosphors are preferable. Therefore, as the wavelength conversion member, those containing two or more kinds of semiconductor fine particle phosphors are particularly preferably used. However, from the viewpoint of facilitating production, it is preferable to use a wavelength conversion member that includes fewer types of semiconductor fine particle phosphors.
  • a particularly preferable combination of the LED 31 and the wavelength conversion member in the light emitting device 30 in the present embodiment includes a combination of a blue LED and one type of phosphor (for example, a yellow phosphor). If this combination is employed, an effect of realizing a light emitting device with high luminous efficiency can be obtained.
  • Another preferred combination is a combination of a blue LED and two types of phosphors (for example, a green phosphor and a red phosphor). If this combination is employed, an effect of realizing a light emitting device having high color rendering properties and high light emission efficiency can be obtained.
  • Still another preferable combination is a combination of an ultraviolet LED and three types of phosphors (for example, a blue phosphor, a green phosphor, and a red phosphor). If this combination is adopted, an ultraviolet LED with high luminous efficiency can be used, and thus an effect of realizing a light emitting device with high luminous efficiency can be obtained.
  • three types of phosphors for example, a blue phosphor, a green phosphor, and a red phosphor.
  • the excitation light emitted from the LED 31 is incident from the incident surface 11 of the wavelength conversion member, and a part of the light incident from the incident surface 11 is light transmissive.
  • a part of the light transmitted through the member 13 and emitted from the exit surface 12 and incident from the entrance surface 11 is absorbed by the semiconductor fine particle phosphor 14, is converted in wavelength, is generated as fluorescence, and is emitted from the exit surface 12.
  • the light emitted from these emission surfaces 12 is mixed and irradiated to the outside as wavelength converted light.
  • the luminous efficiency of the wavelength-converted light emitted from the emission surface 12 can be increased by the above-described anisotropy of the dispersion concentration of the wavelength conversion member. Therefore, by using the light emitting device 30 in this embodiment, a light emitting device having higher light emission efficiency than the conventional light emitting device can be obtained.
  • the emission spectrum of the emitted light of the light emitting device 30 in this embodiment includes light having a blue wavelength of 420 nm to 480 nm, light having a green wavelength of 500 nm to 550 nm, and light having a red wavelength of 580 nm to 650 nm. It is preferable.
  • the color reproducibility is high by configuring the emission light having a wavelength characteristic that matches a color filter to be described later. An image display device with high luminous efficiency can be realized.
  • FIG. 19 is a schematic cross-sectional view of a light-emitting device according to Embodiment 9 of the present invention. Next, with reference to FIG. 19, the structure of the light-emitting device in this embodiment will be described.
  • the light-emitting device in the present embodiment includes a semiconductor light-emitting laser diode element (hereinafter also simply referred to as LD (Laser Diode)) as a light-emitting element, and the wavelength conversion member according to any one of the first to seventh embodiments of the present invention described above. 10A to 10G are combined. That is, the light emitting device in the present embodiment includes a wavelength conversion member having specific anisotropy as described above in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor. Here, the description of the anisotropy of the dispersion concentration is omitted because the description overlaps.
  • the light-emitting device 40 shown in FIG. 19 what comprised the wavelength conversion member 10A in Embodiment 1 of this invention mentioned above is illustrated.
  • the light emitting device 40 mainly includes an LD 41, a heat sink stem 42, a window cap 47, and a wavelength conversion member 10A.
  • the heat sink stem 42 is a member serving as a base, and a pair of terminal pins 43a and 43b are provided at predetermined positions thereof.
  • the LD 41 is made of a semiconductor chip having connection electrodes on the front and back surfaces, and the back surface electrode is joined to one terminal pin 43 a provided on the heat sink stem 42 via the Si submount 48, whereby the heat sink stem 42.
  • brazing using solder or the like is preferably used for joining the LD 41 and the Si submount 48, and a conductive paste such as silver paste is suitably used for joining the Si submount 48 and the terminal pin 43a. Is done.
  • the surface electrode of the LD 41 is connected via a metal wire 45 to the other terminal pin 43 b provided on the heat sink stem 42.
  • the window cap 47 is made of a box-shaped member having a glass window for emitting laser light to the outside, and is joined to the heat sink stem 42 so as to cover the LD 41.
  • the wavelength conversion member 10 ⁇ / b> A is disposed at a position separated from the window cap 47 by a predetermined distance, and the incident surface 11 faces the LD 41. As a result, the laser beam emitted from the LD 41 is irradiated to the wavelength conversion member 10A.
  • the LD 41 provided in the light emitting device 40 in the present embodiment is a semiconductor light emitting laser diode element as described above.
  • This semiconductor light-emitting laser diode element is a light-emitting element utilizing the characteristic of emitting light when electrons and holes are recombined, and includes a semiconductor active layer, a p-type semiconductor layer, an n-type semiconductor layer, a p-type electrode layer, and n
  • the semiconductor active layer is sandwiched between the p-type semiconductor layer and the n-type semiconductor layer, and these are further sandwiched between the p-type electrode layer and the n-type electrode layer.
  • the p-type electrode layer is electrically connected to the above-described front surface electrode and connected to the external circuit
  • the n-type electrode layer is electrically connected to the above-described back surface electrode and connected to the external circuit.
  • the semiconductor substrate material of the semiconductor light emitting laser diode element As a semiconductor substrate material of the semiconductor light emitting laser diode element, a conventionally known general composition can be used.
  • the LD 41 for example, a GaN-based semiconductor light emitting element, ZnSe, or the like.
  • a semiconductor light emitting element, a SiC semiconductor light emitting element, or the like is preferably used.
  • the GaN-based semiconductor light-emitting element can be particularly suitably used because it has a high light emission efficiency and a light-emitting device with high practicality can be realized.
  • a semiconductor light emitting laser diode element having a peak wavelength of an emission spectrum in a wavelength region of 420 nm to 480 nm is particularly preferably used.
  • a semiconductor light emitting laser diode element having a peak wavelength of the emission spectrum in the wavelength region may be used.
  • a semiconductor light emitting laser diode element having a peak wavelength of the emission spectrum in the wavelength region of 420 to 480 nm can directly use the light emission of the semiconductor light emitting laser diode element as a blue component of light emission of the light emitting device.
  • a semiconductor light emitting laser diode element having a peak wavelength of the emission spectrum in the wavelength region of 350 to 420 nm generally has higher emission efficiency than a semiconductor light emitting laser diode element in the wavelength region of 420 to 480 nm.
  • the luminous efficiency of the light emitting device can be increased.
  • a semiconductor light emitting laser diode element having a peak wavelength of an emission spectrum in the wavelength region of 440 to 460 nm has an advantage of high wavelength matching with a blue color filter used in an image display device described later.
  • it can be particularly preferably used from the viewpoint of achieving both color reproducibility and luminous efficiency of the image display device.
  • the wavelength conversion member provided in the light emitting device 40 in the present embodiment it is preferable to use a material containing two or more kinds of semiconductor fine particle phosphors from the viewpoint of color rendering properties, and the luminous efficiency is high. From the viewpoint, those containing four or less semiconductor fine particle phosphors are preferable. Therefore, as the wavelength conversion member, those containing two or more kinds of semiconductor fine particle phosphors are particularly preferably used. However, from the viewpoint of facilitating production, it is preferable to use a wavelength conversion member that includes fewer types of semiconductor fine particle phosphors.
  • a particularly preferable combination of the LD 41 and the wavelength conversion member in the light emitting device 40 in the present embodiment includes a combination of a blue LD and one kind of phosphor (for example, a yellow phosphor). If this combination is employed, an effect of realizing a light emitting device with high luminous efficiency can be obtained.
  • Another preferred combination is a combination of blue LD and two types of phosphors (for example, a green phosphor and a red phosphor). If this combination is employed, an effect of realizing a light emitting device having high color rendering properties and high light emission efficiency can be obtained.
  • Still another preferred combination includes a combination of an ultraviolet LD and three types of phosphors (for example, a blue phosphor, a green phosphor, and a red phosphor). If this combination is employed, an ultraviolet LD with high luminous efficiency can be used, and thus an effect of realizing a light emitting device with high luminous efficiency can be obtained.
  • three types of phosphors for example, a blue phosphor, a green phosphor, and a red phosphor.
  • the excitation light emitted from the LD 41 is incident from the incident surface 11 of the wavelength conversion member, and a part of the light incident from the incident surface 11 is light transmissive.
  • a part of the light transmitted through the member 13 and emitted from the exit surface 12 and incident from the entrance surface 11 is absorbed by the semiconductor fine particle phosphor 14, is converted in wavelength, is generated as fluorescence, and is emitted from the exit surface 12.
  • the light emitted from these emission surfaces 12 is mixed and irradiated to the outside as wavelength converted light.
  • the luminous efficiency of the wavelength-converted light emitted from the emission surface 12 can be increased by the above-described anisotropy of the dispersion concentration of the wavelength conversion member. Therefore, by using the light emitting device 40 in this embodiment, a light emitting device having higher light emission efficiency than the conventional light emitting device can be obtained.
  • the emission spectrum of the emitted light of the light emitting device 40 in the present embodiment includes light having a blue wavelength of 420 nm to 480 nm, light having a green wavelength of 500 nm to 550 nm, and light having a red wavelength of 580 nm to 650 nm. It is preferable.
  • the color reproducibility is high by configuring the output light to have a wavelength characteristic that matches a color filter to be described later. An image display device with high luminous efficiency can be realized.
  • FIG. 20 is a schematic cross-sectional view of the light-emitting device according to Embodiment 10 of the present invention. Next, with reference to FIG. 20, the structure of the light-emitting device in this embodiment will be described.
  • the light emitting device in the present embodiment includes an organic electroluminescence element (hereinafter also simply referred to as EL (Electroluminescence)) as a light emitting element, and the wavelength conversion member 10A to any one of the first to seventh embodiments of the present invention described above.
  • the structure is a combination of 10G. That is, the light emitting device in the present embodiment includes a wavelength conversion member having specific anisotropy as described above in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor.
  • the description of the anisotropy of the dispersion concentration is omitted because the description overlaps.
  • the light-emitting device 50 shown in FIG. 20 what comprised the wavelength conversion member 10A in Embodiment 1 of this invention mentioned above is illustrated.
  • the light-emitting device 50 mainly includes an EL 51 and a wavelength conversion member 10A.
  • the EL 51 includes a substrate 51a, an anode portion 51b provided on one main surface of the substrate 51a, a hole injection layer 51c, a hole transport layer 51d, a light emitting layer 51e, and an electron sequentially stacked on the anode portion 51b.
  • a transport layer 51f, an electron injection layer 51g, and a cathode portion 51h are provided.
  • the wavelength conversion member 10A is provided on the other main surface of the substrate 51a, and the incident surface 11 faces the substrate 51a side.
  • the EL 51 included in the light emitting device 50 in the present embodiment is an organic electroluminescence element.
  • the organic electroluminescence element when the light emitting layer 51e receives holes from the hole transport layer 51d and receives electrons from the electron transport layer 51f when a voltage is applied, recombination of holes and electrons occurs in the light emitting layer 51e. It is a light-emitting element utilizing light emission.
  • the light emitting layer 51e preferably contains a host material and further contains a dopant made of a phosphorescent material.
  • the host material is preferably a charge transport material (collectively referring to an electron transport material and a hole transport material), and more preferably includes a hole transport material and an electron transport material.
  • the energy level of the lowest multiplet excited state of the host material is larger than the energy level of the lowest multiplet excited state of the dopant material. Note that by co-evaporating the host material and the dopant material, a light-emitting layer in which the dopant material is doped in the host material can be suitably formed.
  • host materials include those having a pyrene skeleton, those having a carbazole skeleton, those having a diarylamine skeleton, those having a pyridine skeleton, those having a pyrazine skeleton, those having a triazine skeleton, and arylsilane skeletons The thing etc. which have are illustrated.
  • the phosphorescent material contained in the light emitting layer 51e is preferably a complex containing a transition metal atom or a lanthanoid atom. Phosphorescent materials can be used alone or in combination of two or more.
  • the transition metal atom is not particularly limited, but preferably includes ruthenium, rhodium, palladium, tungsten, rhenium, osmium, iridium, and platinum, and more preferably rhenium, iridium, and platinum.
  • lanthanoid atoms examples include lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium, and lutetium.
  • neodymium, europium and gadolinium are particularly preferable.
  • phosphorescent materials that satisfy the above conditions include FIrpic: bis [2- (4,6-difluorophenyl) pyridinato] picorinatoiridium (III), FIr6: bis [2- (4 ′, 6′-difluoro). Phenyl) pyridinate-N, C2 ′] tetrakis (1-pyrazolyl) borate, Ir (ppy) 3: trisphenylpyridinatoiridium (III) and the like are exemplified.
  • the hole injection layer 51c and the hole transport layer 51d are layers having a function of receiving holes from the anode or the anode side and transporting them to the cathode side.
  • the hole injection layer 51c and the hole transport layer 51d include, as hole transport materials, carbazole derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, Pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aromatic tertiary amine compounds, styrylamine compounds, aromatic dimethylidin compounds,
  • a layer containing a porphyrin-based compound, an organic silane derivative, carbon, or the like is preferable.
  • the electron injection layer 51g and the electron transport layer 51f are layers having a function of receiving electrons from the cathode or the cathode side and transporting them to the anode side.
  • the electron injection layer 51g and the electron transport layer 51f are triazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, anthrone derivatives, diphenylquinones as electron transport materials.
  • Derivatives thiopyrandioxide derivatives, carbodiimide derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, distyrylpyrazine derivatives, aromatic tetracarboxylic anhydrides such as naphthalene and perylene, phthalocyanine derivatives, metal complexes of 8-quinolinol derivatives, metal phthalocyanines, benzoates
  • a layer containing various metal complexes represented by a metal complex having oxazole or benzothiazole as a ligand, an organic silane derivative, or the like is preferable.
  • a layer containing an aromatic heterocyclic compound having one or more hetero atoms in the molecule as an electron transporting material is preferable.
  • An aromatic heterocyclic compound is a hetero compound having aromaticity, such as pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine, pyrazole, imidazole, benzimidazole, triazole, thiazole, benzothiazole, isothiazole, benzisothiazole, thiadiazole Or these condensed rings are mentioned.
  • the anode portion 51b usually has a function as an electrode for supplying holes to the hole injection layer 51c, and there is no particular limitation on the shape, structure, size, etc. of the organic electroluminescence element. Depending on the application and purpose, it can be appropriately selected from known electrode materials. Moreover, it is preferable that the material of the anode part 51b is a transparent material. In this case, light emission of the light emitting layer 51e can be extracted from the anode side without loss.
  • anode part 51b for example, a metal, an alloy, a metal oxide, a conductive compound or a mixture thereof can be suitably used, and a material having a work function of 4.0 eV or more is particularly preferable.
  • the material of the anode 51b include tin oxide (ATO, FTO) doped with antimony, fluorine, etc., tin oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), etc.
  • Conductive metal oxides metals such as gold, silver, chromium, nickel, and mixtures or laminates of these metals and conductive metal oxides, inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide, polyaniline, polythiophene And organic conductive materials such as polypyrrole, and laminates of these with ITO.
  • conductive metal oxides are particularly preferable, and ITO is particularly preferable from the viewpoints of productivity, high conductivity, transparency, and the like.
  • a thin film transistor (TFT: Thin Film Transistor) may be formed inside the anode portion 51b.
  • TFT Thin Film Transistor
  • the ON / OFF operation can be controlled using a thin film transistor, it is particularly suitable when an image display device is manufactured using an organic electroluminescence element.
  • the cathode part 51h usually has a function as an electrode for injecting electrons into the electron injection layer, and there is no particular limitation on the shape, structure, size, etc., and the use and purpose of the organic electroluminescence device
  • the electrode material can be appropriately selected from known electrode materials.
  • a material constituting the cathode portion 51h for example, a metal, an alloy, a metal oxide, a conductive compound, or a mixture thereof can be suitably used, and a material having a work function of 4.5 eV or less is preferable.
  • the material of the cathode part 51h include alkali metals (for example, Li, Na, K, Cs, etc.), alkaline earth metals (for example, Mg, Ca, etc.), gold, silver, lead, aluminum, sodium-potassium alloys, Examples thereof include rare earth metals such as lithium-aluminum alloy, magnesium-silver alloy, indium and ytterbium. These may be used singly or in combination of two or more from the viewpoint of achieving both stability and electron injection.
  • the substrate 51a has a function as a support base of the organic electroluminescence element and does not scatter or attenuate light emitted from the light emitting layer 51e.
  • the material constituting the substrate 51a include yttrium-stabilized zirconia (YSZ), inorganic materials such as glass, polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene phthalate, and polyethylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, and polyarylate.
  • Organic materials such as polyimide, polycycloolefin, norbornene resin, and poly (chlorotrifluoroethylene).
  • an organic electroluminescence element having an emission wavelength of 520 nm or less is preferably used. This is because the light emitting device 50 can efficiently excite the green to red light emitting semiconductor fine particle phosphor.
  • the organic electroluminescent element whose light emission wavelength is 420 nm or more is utilized suitably. When the emission wavelength of the organic electroluminescence element is within the above range, the emission of the organic electroluminescence element can be used as it is, the apparatus configuration is simplified, and the manufacture of the light emitting apparatus is facilitated.
  • an organic electroluminescence element having a peak wavelength of an emission spectrum in the wavelength region of 440 to 460 nm has an advantage of high wavelength matching with a blue color filter used in an image display device described later.
  • the light emitting device to be used it can be particularly preferably used from the viewpoint of achieving both color reproducibility and light emission efficiency of the image display device.
  • the wavelength conversion member provided in the light emitting device 50 according to the present embodiment it is preferable to use a material containing two or more kinds of semiconductor fine particle phosphors from the viewpoint of color rendering properties, and the luminous efficiency is improved. From the viewpoint, those containing four or less semiconductor fine particle phosphors are preferable. Therefore, as the wavelength conversion member, those containing two or more kinds of semiconductor fine particle phosphors are particularly preferably used. However, from the viewpoint of facilitating production, it is preferable to use a wavelength conversion member that includes fewer types of semiconductor fine particle phosphors.
  • Particularly preferable combinations of the EL 41 and the wavelength conversion member in the light emitting device 50 according to the present embodiment include a combination of blue EL and one type of phosphor (for example, yellow phosphor), or blue EL and two types of phosphor (for example, green). And a combination of phosphor and red phosphor). If these combinations are employed, it is possible to easily realize a light emitting device that emits surface light.
  • the excitation light emitted from the EL 51 is incident from the incident surface 11 of the wavelength conversion member, and part of the light incident from the incident surface 11 is light transmissive.
  • a part of the light transmitted through the member 13 and emitted from the exit surface 12 and incident from the entrance surface 11 is absorbed by the semiconductor fine particle phosphor 14, is converted in wavelength, is generated as fluorescence, and is emitted from the exit surface 12.
  • the light emitted from these emission surfaces 12 is mixed and irradiated to the outside as wavelength converted light.
  • the luminous efficiency of the wavelength-converted light emitted from the emission surface 12 can be increased by the above-described anisotropy of the dispersion concentration of the wavelength conversion member. Therefore, by using the light emitting device 50 in this embodiment, a light emitting device having higher light emission efficiency than the conventional light emitting device can be obtained.
  • the emission spectrum of the emitted light of the light emitting device 50 in this embodiment includes light having a blue wavelength of 420 nm to 480 nm, light having a green wavelength of 500 nm to 550 nm, and light having a red wavelength of 580 nm to 650 nm. It is preferable.
  • the color reproducibility is high by configuring the output light to have a wavelength characteristic that matches a color filter to be described later. An image display device with high luminous efficiency can be realized.
  • the light emitting device 30 is configured by a combination of a semiconductor light emitting diode element and a wavelength conversion member, and is configured by a combination of a semiconductor light emitting laser diode element and a wavelength conversion member.
  • the light-emitting device 40 and the light-emitting device 50 composed of a combination of an organic electroluminescence element and a wavelength conversion member have been illustrated and described.
  • Other examples of light emitting elements that can be combined with 10 G include discharge lamps such as inorganic electroluminescent elements, xenon lamps, and fluorescent lamps.
  • the above-described wavelength conversion members 10A to 10G according to the first to seventh embodiments of the present invention may be combined with a semiconductor light emitting diode element, a semiconductor light emitting laser diode element, or an organic electroluminescence element to constitute a light emitting device.
  • Various structures other than those specifically exemplified in the eighth to tenth embodiments of the present invention can be employed. That is, the light emitting device having the wavelength conversion members 10A to 10G according to the first to seventh embodiments of the present invention has a higher light emission efficiency than the conventional one, regardless of the structure. A light-emitting device can be obtained.
  • the color rendering index is a value obtained by quantitatively evaluating the degree of color shift in the emission spectrum of the light emitting device based on the reference light defined by JIS (Japanese Industrial Standard).
  • An average color rendering index (Ra) is generally used to evaluate the appearance of objects on an average.
  • the average color rendering index is an average value of the color rendering index for several test colors.
  • Luminous efficiency is a value represented by the ratio of the quantity of emitted light to the amount of input power, and its unit is lm / W.
  • a method for measuring the luminous efficiency of the light emitting device is a method using a total luminous flux measuring device.
  • FIG. 21 is an exploded perspective view of the image display apparatus according to Embodiment 11 of the present invention.
  • FIG. 22 is an enlarged exploded perspective view of the light conversion section shown in FIG.
  • FIG. 23 is a graph showing the transmission spectrum of the color filter shown in FIG. 22.
  • the vertical axis represents the transmittance [%], and the horizontal axis represents the wavelength [nm].
  • the image display device in the present embodiment has a structure in which the light emitting devices 30 and 40 according to any of the eighth and ninth embodiments of the present invention described above and an image display unit are combined. Therefore, the image display apparatus according to the present embodiment includes the wavelength conversion members 10A to 10G according to any of the first to seventh embodiments of the present invention described above in the light emitting devices 30 and 40. That is, the image display device according to the present embodiment includes either a semiconductor light emitting diode element or a semiconductor light emitting laser diode element, and a wavelength conversion member having a specific anisotropy as described above for the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor. I have.
  • the image display device 60 mainly includes an image display unit 62 and an irradiation unit.
  • the image display unit 62 is a part capable of displaying an image, and includes a plurality of light conversion units 63 shown in FIG. 22 in an array.
  • the irradiating unit is a part that irradiates the image display unit 62 with light from behind, and a plurality of light emitting devices 30 and 40 as light sources arranged in an array, and the light emitting devices 30 and 40 and the image display unit 62.
  • a light guide plate 61 disposed between the two.
  • Each of the light emitting devices 30 and 40 has a wavelength conversion member 10A on the main surface on the image display unit 62 side.
  • the light guide plate 61 has a function of reducing unevenness in the in-plane brightness of light emitted from the plurality of light emitting devices 30 and 40 arranged in an array and applied to the image display unit 62.
  • the in-plane intensity of the light applied to the image display unit 62 can be made uniform, and unevenness in the brightness of the displayed image can be reduced.
  • the light guide plate 61 for example, an acrylic resin plate-like member having an uneven surface can be used, and the light is diffused by the unevenness, so that the in-plane intensity of the light can be made uniform. .
  • the light conversion unit 63 provided in the image display unit 62 is a part having a function of allowing only a specific wavelength to be emitted when light is incident, and particularly provided in the image display device 60 in the present embodiment.
  • the light converting unit 63 to be transmitted has a property of transmitting only light having a specific wavelength out of incident light. Note that the function of the light conversion unit 63 that transmits only light having a specific wavelength of the incident light is exhibited by a color filter, which will be described later, provided in the light conversion unit 63.
  • the light conversion unit 63 includes a lower polarizing plate 64, a lower transparent conductive film 65, an alignment film 66a, a liquid crystal layer 66, an alignment film 66b, an upper transparent conductive film 67, a color filter 68, and an upper polarizing plate 69.
  • the lower transparent conductive film 65 is provided with a plurality of lower electrodes 65a and TFTs 65b (three in the illustrated example), and the upper transparent conductive film 67 also has an upper portion corresponding to the lower electrode 65a.
  • a plurality of electrodes 67a are provided.
  • the color filter 68 is divided into a plurality of regions corresponding to the lower electrode 65a and the upper electrode 67a, and filter portions 68a that transmit light in different wavelength regions are arranged in the regions.
  • the light conversion unit 63 having the above structure is also referred to as a liquid crystal display unit.
  • the color filter 68 for example, a filter having a transmission spectrum as shown in FIG. 23 is particularly preferably used.
  • a filter having three filter portions 68a of a red color filter, a green color filter, and a blue color filter is preferably used.
  • Each filter part 68a is comprised by dye, a pigment, etc., for example. If such a color filter is used, most of the color tones that exist in nature can be reproduced on the image display unit 62, and an image display device with excellent color reproducibility can be obtained.
  • the color filter 68 in addition to the three-color filter having the transmission spectrum shown in FIG. 23, a three-color filter having a different transmission spectrum, a color filter having two, four, five or more colors, etc. Anything may be used.
  • the light emitting devices 30 and 40 that emit white light are preferably used, and the white light emitted from the light emitting devices 30 and 40 is transmitted through the light guide plate 61.
  • the light conversion unit 63 of the image display unit 62 is irradiated.
  • the alignment of the liquid crystal in the liquid crystal layer 66 is controlled by the ON / OFF operation of the TFT 65b, whereby the lower polarizing plate 64 and the upper polarizing plate passing through the filter units 68a included in the color filter 68 are controlled.
  • the amount of light transmitted to 69 is controlled. As a result, an image is displayed on the image display unit 62.
  • the light emitting devices 30 and 40 have the wavelength conversion member having the dispersion concentration anisotropy described above.
  • the luminous efficiency of the wavelength-converted light emitted from is increased. Therefore, by using the image display device 60 having the above configuration, an image display device that realizes high light emission efficiency (screen luminance) and excellent color reproducibility can be obtained.
  • FIG. 24 is an exploded perspective view of the image display apparatus according to Embodiment 12 of the present invention.
  • FIG. 25 is an enlarged exploded perspective view of the light conversion unit shown in FIG. Next, the structure of the image display device in the present embodiment will be described with reference to FIGS.
  • the image display device includes a light emitting device 30 ′ including a semiconductor light emitting diode element as a light emitting element or a light emitting device 40 ′ including a semiconductor light emitting laser diode element as a light emitting element, and the above-described first to third embodiments of the present invention. 7 is combined with an image display unit including any one of the wavelength conversion members 10A to 10G. That is, the image display device according to the present embodiment includes either a semiconductor light emitting diode element or a semiconductor light emitting laser diode element, and a wavelength conversion member having a specific anisotropy as described above for the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor. I have.
  • the image display device 70 in the present embodiment mainly includes an image display unit 72 and an irradiation unit.
  • the image display unit 72 is a part capable of displaying an image, and includes a plurality of light conversion units 73 shown in FIG. 25 in an array.
  • the irradiation unit is a part that irradiates the image display unit 72 with light from behind, and a plurality of light emitting devices 30 ′ and 40 ′ as light sources arranged in an array, and these light emitting devices 30 ′ and 40 ′.
  • a light guide plate 71 disposed between the image display unit 72 and the image display unit 72 is provided.
  • the light emitting devices 30 ′ and 40 ′ are the light emitting devices as in the above-described eighth and ninth embodiments of the present invention, which include the wavelength conversion members 10A to 10G in the above-described first to seventh embodiments of the present invention. 30 or 40, or a conventional light emitting device that does not include the wavelength conversion members 10A to 10G in the first to seventh embodiments of the present invention described above.
  • the light guide plate 71 has a function of alleviating unevenness of in-plane brightness of light emitted from the plurality of light emitting devices 30 ′ and 40 ′ arranged in an array and irradiated on the image display unit 72.
  • this light guide plate 71 By interposing this light guide plate 71 between the light emitting devices 30 ′ and 40 ′ and the image display unit 72, the in-plane intensity of the light irradiated to the image display unit 72 is made uniform, and the brightness of the displayed image is improved. Unevenness can be reduced.
  • an acrylic resin plate-like member having an uneven surface can be used, and light is diffused by the unevenness, so that the in-plane intensity of the light can be made uniform. .
  • the light conversion unit 73 provided in the image display unit 72 is a part having a function of allowing only a specific wavelength to be emitted when light is incident, and particularly provided in the image display device 70 in the present embodiment.
  • the light conversion unit 73 has a property of emitting light having a wavelength different from that of incident light.
  • the function of the light converting unit 73 that emits light having a wavelength different from that of the incident light is exhibited by the wavelength converting member 10 ⁇ / b> A provided in the light converting unit 73.
  • the light conversion unit 73 includes a lower polarizing plate 74, a lower transparent conductive film 75, an alignment film 76a, a liquid crystal layer 76, an alignment film 76b, an upper transparent conductive film 77, a wavelength conversion plate 78, and an upper polarizing plate. 79 are laminated in this order.
  • the lower transparent conductive film 75 is provided with a plurality of lower electrodes 75a and TFTs 75b (three in the illustrated example), and the upper transparent conductive film 77 also has an upper portion corresponding to the lower electrode 75a.
  • a plurality of electrodes 77a are provided.
  • the wavelength conversion plate 78 is divided into a plurality of regions corresponding to the lower electrode 75a and the upper electrode 77a, and wavelength conversion members 10A that emit light in different wavelength regions are arranged in the regions. Become.
  • the light conversion unit 73 having the above structure is also referred to as a liquid crystal display unit.
  • the wavelength conversion plate 78 for example, a wavelength conversion member that converts the wavelength of incident light and emits it as blue light, a wavelength conversion member that converts the wavelength of incident light and emits it as green light, and wavelength-converts the incident light. And what comprises the wavelength conversion member radiate
  • Each of these wavelength conversion members can be formed by appropriately adjusting the type and concentration of the semiconductor fine particle phosphor used for the wavelength conversion member. If such a wavelength conversion plate 78 is used, most of the color tones existing in nature can be reproduced on the image display unit 72, and an image display device having excellent color reproducibility can be obtained.
  • the wavelength conversion plate 78 various types can be used in addition to the above-described one that emits light of the three colors.
  • the light emitted from the light emitting devices 30 ′ and 40 ′ passes through the light guide plate 71 and is irradiated to the light conversion unit 73 of the image display unit 72.
  • the alignment of the liquid crystal in the liquid crystal layer 76 is controlled by the ON / OFF operation of the TFT 75 b, and thereby the upper part from the lower polarizing plate 74 that passes through each wavelength conversion member 10 A included in the wavelength conversion plate 78.
  • the amount of light transmitted to the polarizing plate 79 is controlled. As a result, an image is displayed on the image display unit 72.
  • the light conversion unit 73 of the image display unit 72 has the above-described wavelength conversion member having the dispersion density anisotropy.
  • the luminous efficiency of the wavelength-converted light emitted from the unit 72 is increased. Therefore, by using the image display device 70 having the above-described configuration, an image display device that realizes high light emission efficiency (screen luminance) and excellent color reproducibility can be obtained.
  • FIG. 26 is an exploded perspective view of the image display apparatus according to Embodiment 13 of the present invention.
  • FIG. 27 is an enlarged exploded perspective view of the light conversion unit shown in FIG. Next, the structure of the image display device in the present embodiment will be described with reference to FIGS.
  • the image display device has a structure in which the above-described light emitting device 50 according to the tenth embodiment of the present invention is combined with an image display unit. Therefore, the image display apparatus according to the present embodiment includes the wavelength conversion members 10A to 10G according to any one of the first to seventh embodiments of the present invention described above in the light emitting device 50. That is, the image display device in the present embodiment includes an organic electroluminescence element and a wavelength conversion member having the specific anisotropy as described above in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor. Here, the description of the anisotropy of the dispersion concentration is omitted because the description overlaps. In addition, in the image display apparatus 80 shown in FIG. 26 and FIG. 27, the thing provided with the wavelength conversion member 10A in Embodiment 1 of this invention mentioned above is illustrated.
  • the image display device 80 in the present embodiment mainly includes an image display unit 82 and an irradiation unit.
  • the image display unit 82 is a part capable of displaying an image, and includes a plurality of light conversion units 83 shown in FIG. 27 in an array.
  • the irradiating unit is a part that irradiates the image display unit 82 with light from behind, and includes a plurality of light emitting devices 50 as light sources arranged in an array.
  • Each of the plurality of light emitting devices 50 has a wavelength conversion member 10A on the main surface on the image display unit 82 side.
  • the light conversion unit 83 provided in the image display unit 82 is a part having a function of allowing only a specific wavelength to be emitted when light is incident, and particularly provided in the image display device 80 in the present embodiment.
  • the light conversion unit 83 has a property of transmitting only light of a specific wavelength among incident light. Note that the function of the light conversion unit 83 that transmits only light having a specific wavelength of incident light is exhibited by a color filter, which will be described later, provided in the light conversion unit 83.
  • the light conversion unit 83 includes a color filter 88.
  • the color filter 88 is divided into a plurality of regions, and filter portions 88a that transmit light in different wavelength regions are arranged in the regions.
  • the color filter 88 for example, a filter having a transmission spectrum as shown in FIG. 23 described above is particularly preferably used. That is, as the color filter 88, a filter having three filter portions 88a of a red color filter, a green color filter, and a blue color filter is preferably used. Each filter part 88a is comprised by dye, a pigment, etc., for example. If such a color filter is used, most of the color tones existing in nature can be reproduced on the image display unit 82, and an image display device with excellent color reproducibility can be obtained. As the color filter 88, in addition to the three-color filter having the transmission spectrum shown in FIG. 23, a three-color filter having a different transmission spectrum, a color filter having two, four, five or more colors, etc. Anything may be used.
  • a device that emits white light is preferably used as the light emitting device 50, and the white light emitted from the light emitting device 50 is converted into a light conversion unit 83 of the image display unit 82. Is irradiated.
  • a TFT (not shown) is provided inside the light emitting device 50, and the amount of light transmitted through each filter unit 88 a included in the color filter 88 is controlled by the ON / OFF operation of the TFT. As a result, an image is displayed on the image display unit 82.
  • the light emitting device 50 has the wavelength conversion member having the dispersion concentration anisotropy described above, and thus is emitted from the light emitting device 50.
  • the luminous efficiency of the wavelength-converted light is increased. Therefore, by using the image display device 80 having the above configuration, an image display device that realizes high light emission efficiency (screen luminance) and excellent color reproducibility can be obtained.
  • position a light-guide plate was employ
  • the light guide plate may naturally be provided.
  • FIG. 28 is an exploded perspective view of the image display apparatus according to Embodiment 14 of the present invention.
  • FIG. 29 is an enlarged exploded perspective view of the light conversion unit shown in FIG. Next, the structure of the image display device in the present embodiment will be described with reference to FIGS.
  • the image display device includes a light emitting device 50 ′ including an organic electroluminescence element as a light emitting element, and an image display including the wavelength conversion members 10A to 10G according to any one of the first to seventh embodiments of the present invention described above.
  • the structure is a combination of parts. That is, the image display device in the present embodiment includes an organic electroluminescence element and a wavelength conversion member having the specific anisotropy as described above in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor.
  • the description of the anisotropy of the dispersion concentration is omitted because the description overlaps.
  • the image display apparatus 90 shown in FIG. 28 and FIG. 29 the thing provided with the wavelength conversion member 10A in Embodiment 1 of this invention mentioned above is illustrated.
  • the image display device 90 in the present embodiment mainly includes an image display unit 92 and an irradiation unit.
  • the image display unit 92 is a part capable of displaying an image, and includes a plurality of light conversion units 93 shown in FIG. 29 in an array.
  • the irradiating unit is a part that irradiates the image display unit 92 with light from the back, and includes a plurality of light emitting devices 50 ′ serving as light sources arranged in an array.
  • the light emitting device 50 ′ may be the light emitting device 50 according to the above-described tenth embodiment of the present invention including the wavelength conversion members 10A to 10G according to the above-described first to seventh embodiments of the present invention.
  • a conventional light emitting device that does not include the wavelength conversion members 10A to 10G according to the first to seventh embodiments of the present invention described above may be used.
  • the light conversion unit 93 provided in the image display unit 92 is a part having a function of allowing only a specific wavelength to be emitted when light is incident, and particularly provided in the image display device 90 in the present embodiment.
  • the light conversion section 93 has a property of emitting light having a wavelength different from that of incident light.
  • the function of emitting light having a wavelength different from that of the incident light of the light conversion unit 93 is exhibited by the wavelength conversion member 10 ⁇ / b> A included in the light conversion unit 93.
  • the light conversion section 93 is configured by a wavelength conversion plate 98.
  • the wavelength conversion plate 98 is divided into a plurality of regions, and wavelength conversion members 10A that emit light in different wavelength regions are arranged in the regions.
  • the wavelength conversion plate 98 for example, a wavelength conversion member that converts the wavelength of incident light and emits it as blue light, a wavelength conversion member that converts the wavelength of incident light and emits it as green light, and wavelength-converts the incident light. And what comprises the wavelength conversion member radiate
  • Each of these wavelength conversion members can be formed by appropriately adjusting the type and concentration of the semiconductor fine particle phosphor used for the wavelength conversion member. If such a wavelength conversion plate 98 is used, most of the color tones existing in nature can be reproduced in the image display unit 92, and an image display device having excellent color reproducibility can be obtained.
  • Various types of wavelength conversion plate 98 can be used in addition to the above-described one that emits light of the three colors.
  • the image display device 90 In the image display device 90 according to the present embodiment, light emitted from the light emitting device 50 ′ is applied to the light conversion unit 93 of the image display unit 92.
  • a TFT (not shown) is provided inside the light emitting device 50 ′, and the amount of light transmitted through each wavelength conversion member 10 A included in the wavelength conversion plate 98 is controlled by the ON / OFF operation of the TFT. The As a result, an image is displayed on the image display unit 92.
  • the light conversion unit 93 of the image display unit 92 includes the wavelength conversion member having the dispersion concentration anisotropy described above.
  • the luminous efficiency of the wavelength-converted light emitted from the unit 92 is increased. Therefore, by using the image display device 90 having the above-described configuration, an image display device that realizes high light emission efficiency (screen luminance) and excellent color reproducibility can be obtained.
  • position a light-guide plate was employ
  • the light guide plate may naturally be provided.
  • Embodiments 11 to 14 of the present invention described above a so-called liquid crystal display device and organic EL display device have been described as examples.
  • the above-described embodiments of the present invention are applied to other image display devices.
  • the wavelength conversion members 10A to 10G in the first to seventh embodiments of the present invention described above are applied to the above-described liquid crystal display device and organic EL display device
  • the above-described eleventh to fourteenth embodiments of the present invention are also described.
  • color reproducibility is mentioned as an index indicating the performance of the image display apparatus.
  • the color reproducibility indicates the size of the color gamut that can be displayed on the image display device, and is expressed using the NTSC ratio.
  • NTSC ratio is the chromaticity coordinates (u ', v') (red (0.498, 0.519), green) of CIE1976 chromaticity diagram of each color of red, green, and blue defined by NTSC (National Television System Committee) (0.076, 0.576) and blue (0.152, 0.196)), and the red and green chromaticity coordinates (u ′, v ′) in the CIE1976 chromaticity diagram.
  • screen brightness indicates the intensity of light emitted from the image display device.
  • the screen brightness is an index represented by the screen brightness when white display is performed by fully opening the RGB pixels in the image display device.
  • FIG. 54 is a schematic perspective view of a wavelength conversion member in Embodiment 15 of the present invention.
  • FIG. 55 is a schematic cross-sectional view of the wavelength conversion member in the present embodiment cut along the XZ plane.
  • FIG. 56 is a schematic cross-sectional view when the wavelength conversion layer of the wavelength conversion member in the present embodiment is cut along the XY plane.
  • the cross section shown in FIG. 55 is a schematic cross sectional view along the line LV-LV shown in FIG.
  • the cross section shown in FIG. 56 is a schematic cross sectional view taken along line LVI-LVI shown in FIG.
  • the wavelength conversion member 10H in the present embodiment is formed of a substantially rectangular parallelepiped member having a predetermined thickness, and has a wavelength different from that of the light absorbed and absorbed by at least a part of the incident light. Has a function of emitting light.
  • the wavelength conversion member 10H is configured by a laminated body of the wavelength conversion layer 1010, the first light transmissive member 1001, and the second light transmissive member 1002.
  • the wavelength conversion layer 1010 includes the first light transmissive member 1001 and the first light transmissive member 1001. It is sandwiched between two light transmissive members 1002.
  • the wavelength conversion layer 1010 has one main surface as an incident surface 1011 and the other main surface as an output surface 1012.
  • the incident surface 1011 of the wavelength conversion layer 1010 is covered with the first light transmissive member 1001 described above, and the emission surface 1012 of the wavelength conversion layer 1010 is covered with the second light transmissive member 1002 described above.
  • the first light transmissive member 1001 and the second light transmissive member 1002 are provided in the wavelength conversion member 10H for the purpose of protecting the relatively fragile wavelength conversion layer 1010.
  • a silicone resin Consists of substrates made of light-transmitting resin materials such as epoxy resin, acrylic resin, fluorine resin, polycarbonate resin, polyimide resin, urea resin, and substrates made of light-transmitting inorganic materials such as aluminum oxide, silicon oxide, and yttria Is done.
  • the first light transmissive member 1001 and the second light transmissive member 1002 are made of, for example, glass substrates.
  • the wavelength conversion layer 1010 of the wavelength conversion member 10H has sufficient mechanical strength, it is not necessary to provide the first light transmission member 1001 and the second light transmission member 1002 in particular.
  • the incident surface 1011 of the wavelength conversion member 10H is irradiated with the excitation light 100 emitted from the light emitting element through the first light transmissive member 1001.
  • the excitation light 100 irradiated on the incident surface 1011 is introduced into the wavelength conversion layer 1010 of the wavelength conversion member 10H, and a part of the wavelength of the introduced light is converted inside the wavelength conversion layer 1010.
  • both the entrance surface 1011 and the exit surface 1012 are configured by an XY plane orthogonal to the Z axis.
  • the shape of the wavelength conversion member 10H has a flat plate-like outer shape
  • the shape of the wavelength conversion member is not limited to the shape, and is a rectangular parallelepiped shape or a disk other than the plate shape.
  • the outer shape may be any shape such as a cylindrical shape, a cylindrical shape, or a polygonal columnar shape.
  • the wavelength conversion layer 1010 of the wavelength conversion member 10H is composed of an aggregate of semiconductor fine particle phosphors 14. That is, the wavelength conversion member 10H in the present embodiment does not include the light transmissive member 13 for sealing these semiconductor fine particle phosphors 14 as shown in the first embodiment of the present invention.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14 emits light of different wavelengths by absorbing the excitation light 100 introduced into the wavelength conversion layer 1010 and converting the wavelength of the excitation light 100, and is a member mainly composed of semiconductor microcrystal particles. It is.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14 may be the same as that of the first embodiment of the present invention described above.
  • the wavelength conversion member 10H in the present embodiment includes two types of semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b as the semiconductor fine particle phosphors 14.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14a emits long wavelength fluorescence by converting the wavelength of the absorbed excitation light 100
  • the semiconductor fine particle phosphor 14b emits short wavelength fluorescence by converting the wavelength of the absorbed excitation light 100. is there.
  • the semiconductor fine particle phosphor 14 a that emits long-wavelength fluorescence and the semiconductor fine particle phosphor 14 b that emits short-wavelength fluorescence are both included in the aggregate constituting the wavelength conversion layer 1010.
  • the wavelength conversion layer 1010 is configured only by the aggregates of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b, and the semiconductor fine particle phosphor 14a included in the aggregates.
  • 14b has a specific anisotropy. That is, in the wavelength conversion member 10H in the present embodiment, the amounts of the semiconductor fine particle phosphors 14 and 14b included in the aggregates constituting the wavelength conversion layer 1010 are made different depending on directions. More specifically, as shown in FIG. 55, the semiconductor fine particle phosphor 14a in a direction parallel to the light traveling direction (that is, the Z-axis direction), which is a direction connecting the incident surface 11 and the emission surface 12 of the wavelength conversion member 10H. , 14b is smaller than the number of particles of the semiconductor fine particle phosphors 14a, 14b in the direction orthogonal to the light traveling direction (that is, the direction included in the XY plane).
  • semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b having substantially the same particle diameter are used, and in the XY plane of the wavelength conversion layer 1010,
  • the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are regularly arranged in a hexagonal lattice shape, and as shown in FIG. 55, a plurality of semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are stacked along the Z-axis direction.
  • the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are in the state of being packed most closely in the XY in-plane direction, and thus the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14a in the XY in-plane direction.
  • the number of particles 14b can be increased to the maximum, and the amount of stacked semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b along the Z-axis direction can be arbitrarily adjusted, so the thickness can be set freely. It becomes possible to do. Therefore, the number of particles of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the Z-axis direction and the number of particles of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b in the XY in-plane direction can be greatly different, and light reabsorption is suppressed. Luminous efficiency can be greatly increased. It is also possible to reduce the number of semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b along the Z-axis direction to one, without stacking the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b along the Z-axis direction.
  • concentration of the semiconductor fine particle phosphor 14 to contain, the kind of the excitation light 100 which injects into the wavelength conversion member 10H, etc. are adjusted suitably (semiconductor fine particle
  • the number of phosphors 14 (the number of particles) is adjusted with sufficient consideration to provide anisotropy), thereby freely adjusting the light quantity and spectrum of the wavelength converted light 200 emitted from the wavelength conversion member 10H. can do.
  • FIG. 57 is a flowchart showing the method for manufacturing the wavelength conversion member in the present embodiment. Next, with reference to this FIG. 57, the manufacturing method of the wavelength conversion member in this Embodiment is demonstrated.
  • step S501 semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b are manufactured.
  • the above-described known synthesis method for example, liquid phase synthesis method
  • step S502 the semiconductor fine particle phosphor is added to and dispersed in a volatile solvent, thereby producing a dispersion liquid in which the semiconductor fine particle phosphor is dispersed in the volatile solvent.
  • a volatile solvent for example, an organic solvent typified by toluene, hexane, ethanol or the like can be used.
  • step S503 the semiconductor fine particle phosphor contained in the dispersion liquid is aggregated and precipitated, and then the volatile solvent contained in the dispersion liquid is volatilized to produce an aggregate of the semiconductor fine particle phosphor. .
  • the aggregation and precipitation process of the semiconductor fine particle phosphor in this step S503 self-organization of the semiconductor fine particle phosphor occurs, and the regular arrangement of the semiconductor fine particle phosphor such as a hexagonal lattice as described above is realized. become.
  • it is also possible to set the thickness of the aggregate to a desired one by adjusting the amount of the semiconductor fine particle phosphor contained in the dispersion.
  • the first light transmissive member 1001 and the second light transmissive member 1002 are provided so as to sandwich the aggregate obtained in step S503.
  • the semiconductor fine particle phosphors 14 a and 14 b may be deposited in advance on the main surface of the first light transmitting member 1001.
  • the manufacture of the wavelength conversion member 10H according to the present embodiment having specific anisotropy in the number of particles of the semiconductor fine particle phosphors 14a and 14b as shown in FIGS. 55 and 56 is completed.
  • the wavelength conversion member 10H in the present embodiment can also be suitably incorporated in a light emitting device or an image display device, similarly to the wavelength conversion member 10A in the first embodiment of the present invention described above.
  • the specific configurations of the light emitting device and the image display device are the same as those of the above-described eighth to fourteenth embodiments of the present invention, and the description thereof is omitted, but the wavelength conversion member 10H in the present embodiment.
  • Examples A1 to A18 shown below are wavelength conversion members to which the present invention is applied, and Comparative Examples A1 to A10 are wavelength conversion members to which the present invention is not applied.
  • Examples B1 to B13 shown below are light emitting devices to which the present invention is applied, and Comparative Examples B1 to B8 are light emitting devices to which the present invention is not applied.
  • Examples C1 to C11 shown below are image display devices to which the present invention is applied, and Comparative Examples C1 to C10 are image display devices to which the present invention is not applied.
  • trioctylphosphine and 17.3 g of trioctylphosphine oxide were weighed in a glove box in a dry nitrogen atmosphere, and then mixed to obtain a mixed solvent A by stirring for 10 minutes.
  • the raw material solution B was heated for 72 hours while stirring in a pressure vessel in a nitrogen atmosphere, thereby synthesizing the materials contained in the raw material solution B to obtain a synthetic solution C. Then, the synthetic solution C after completion of the synthetic reaction was cooled by naturally releasing heat to room temperature, and the synthetic solution C was recovered in a dry nitrogen atmosphere.
  • the average particle diameter of the InP crystal I was able to confirm.
  • a JEM-2100 transmission electron microscope manufactured by JEOL Ltd. was used for the observation.
  • an InP core part 200 mL of trioctylphosphine and 17.3 g of trioctylphosphine oxide are weighed in a glove box in a dry nitrogen atmosphere, and then mixed to obtain a mixed solvent F by stirring for 10 minutes. It was.
  • a dehydrated toluene solution H containing a semiconductor fine particle phosphor having a specific particle diameter was obtained by performing a classification step on this synthetic solution G in the same manner as in the processing in the core portion.
  • the solid powder I was recovered by evaporating the dehydrated toluene solvent from the dehydrated toluene solution H.
  • the InP / ZnS semiconductor fine particle phosphor having a core / shell structure in which the surface of the InP core portion was covered with a ZnS shell could be confirmed.
  • the InP / ZnS semiconductor fine particle phosphor synthesized by this synthesis method has a core part particle diameter of 2.1 nm to 3.8 nm and a core part particle size distribution of 6% to 40%. It was confirmed.
  • a JEM-2100 transmission electron microscope manufactured by JEOL Ltd. was used for the observation.
  • the optical characteristics of the InP / ZnS semiconductor fine particle phosphor were measured. It was confirmed that the emission peak wavelength was 430 nm to 720 nm, and the emission half width was 35 nm to 90 nm. The luminous efficiency reached a maximum of 70.9%.
  • a fluorescence spectrophotometer FluoroMax-4 manufactured by JOBIN YVON was used to measure the emission characteristics of the InP / ZnS semiconductor fine particle phosphor, and Hitachi Co., Ltd. was used to measure the absorption spectrum of the InP / ZnS semiconductor fine particle phosphor.
  • a spectrophotometer U-4100 manufactured by High Technologies was used.
  • FIG. 30 is a table summarizing the compositions, manufacturing methods, optical characteristics, and the like of the wavelength conversion members according to Examples A1 to A18 and Comparative Examples A1 to A10.
  • FIG. 31 is a graph showing an emission spectrum of the wavelength conversion member according to Example A1.
  • the horizontal axis represents wavelength [nm]
  • the vertical axis represents emission intensity.
  • a luminescence measurement system MCPD-7000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. was used to measure the internal quantum efficiency (IQE), absorption rate, and external quantum efficiency (EQE) of the wavelength conversion member shown in FIG.
  • the wavelength conversion member according to the example is a wavelength conversion member having specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor described above, and the wavelength conversion member according to the comparative example is the same as that of the semiconductor fine particle phosphor described above.
  • the wavelength conversion member does not have specific anisotropy in the dispersion concentration.
  • the amount and light transmission of various semiconductor fine particle phosphors are so absorbed that about 450% of the excitation light of 450 nm is absorbed and the light emission of each semiconductor fine particle phosphor has the same intensity. It manufactured by adjusting the quantity of a sex member.
  • Example A1 In Example A1, as shown in FIG. 30, the wavelength conversion member composed of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram. 16 was produced according to the production method as shown in FIG.
  • silicone resin A liquid and 506.7 mg of silicone resin B liquid were weighed and mixed.
  • the mixed silicone resin was applied onto the slide glass and cured by heating at 80 ° C. for 1 hour and 150 ° C. for 5 hours. Then, the wavelength conversion member concerning Example A1 was obtained by removing a slide glass.
  • the semiconductor fine particle phosphors were arranged in a hexagonal lattice pattern in the XY plane (see FIG. 15), and the Z-axis direction It was confirmed that the semiconductor fine particle phosphors were arranged in layers for each type (see FIG. 14).
  • Examples A2 to A4 In Examples A2 to A4, as shown in FIG. 30, as in Example A1 described above, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 are used.
  • the wavelength conversion member comprised from these was manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 16 mentioned above.
  • the difference from Example A1 is the contents of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor and the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor.
  • FIG. 30 shows the composition, manufacturing method, optical characteristics and the like of the wavelength conversion member according to Examples A2 to A4.
  • Examples A5 to A8 In Examples A5 to A8, as shown in FIG. 30, as in Examples A1 to A4 described above, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR are used.
  • a wavelength converting member composed of ⁇ 1015 was manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. Here, the difference from Examples A1 to A4 is the stacking order of the semiconductor fine particle phosphors.
  • FIG. 30 shows the composition, manufacturing method, optical characteristics, and the like of the wavelength conversion member according to Examples A5 to A8.
  • Example A9 In Example A9, as shown in FIG. 30, a wavelength conversion member composed of InP / ZnS yellow semiconductor fine particle phosphor and silicone resin SCR-1015 was manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. .
  • the difference from Example A1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors.
  • the composition of the wavelength conversion member concerning the said Example A9, a manufacturing method, an optical characteristic, etc. are shown in FIG.
  • Example A10 As shown in FIG. 30, it is composed of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS yellow semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015.
  • the wavelength conversion member to be manufactured was manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG.
  • the difference from Example A1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors.
  • the composition of the wavelength conversion member concerning the said Example A10, a manufacturing method, an optical characteristic, etc. are shown in FIG.
  • Example A11 As shown in FIG. 30, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS yellow semiconductor fine particle phosphor, and InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor. And a wavelength conversion member composed of silicone resin SCR-1015 was manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. Here, the difference from Example A1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors. In addition, the composition of the wavelength conversion member which concerns on the said Example A11, a manufacturing method, an optical characteristic, etc. are shown in FIG.
  • Example A12 to A14 In Examples A12 to A14, as shown in FIG. 30, the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015, as in Example A1 described above.
  • the wavelength conversion member comprised from these was manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 16 mentioned above.
  • the difference from Example A1 is the contents of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor and InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor.
  • Examples A12 to A14 Examples A2 to A4 described above are used.
  • the film thickness of the wavelength conversion member in the part where these semiconductor fine particle phosphors are dispersed is changed by changing the content thereof more greatly.
  • FIG. 30 shows the composition, manufacturing method, optical characteristics and the like of the wavelength conversion member according to Examples A12 to A14.
  • Example A15 In Example A15, as shown in FIG. 30, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram. 11 was produced according to the production method as shown in FIG.
  • the semiconductor fine particle phosphors were arranged in a hexagonal lattice pattern in the XY plane (see FIG. 10), and the Z-axis direction It was confirmed that the semiconductor fine particle phosphors were arranged in layers (see FIG. 9).
  • Example A16 to A18 In Examples A16 to A18, as shown in FIG. 30, as in Example A15 described above, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 are used.
  • the wavelength conversion member comprised from these was manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 11 mentioned above.
  • the difference from Example A15 is mainly the contents of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor and InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor.
  • FIG. 30 shows the composition, manufacturing method, optical characteristics, and the like of the wavelength conversion member according to Examples A16 to A18.
  • Comparative Example A1 In Comparative Example A1, as shown in FIG. 30, the wavelength conversion member composed of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described view. It was produced according to the production method as shown in 53.
  • the mixed semiconductor fine particle phosphor was mixed and dispersed in the mixed silicone resin, applied on a slide glass, and heated and cured at 80 ° C. for 1 hour and 150 ° C. for 5 hours. Then, the wavelength conversion member which concerns on comparative example A1 was obtained by removing a slide glass.
  • Comparative Examples A2 to A4 In Comparative Examples A2 to A4, as shown in FIG. 30, the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015, as in Comparative Example A1 described above.
  • the wavelength conversion member comprised from these was manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 53 mentioned above.
  • the difference from Comparative Example A1 is the contents of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor and the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor.
  • FIG. 30 shows the composition, manufacturing method, optical characteristics and the like of the wavelength conversion member according to Comparative Examples A2 to A4.
  • Comparative Examples A5 to A7 In Comparative Examples A5 to A7, as shown in FIG. 30, a wavelength conversion member composed of InP / ZnS yellow semiconductor fine particle phosphor and silicone resin SCR-1015 is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. Manufactured.
  • the difference from Comparative Example A1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors.
  • the composition of the wavelength conversion member concerning the said comparative example A5, a manufacturing method, an optical characteristic, etc. are shown in FIG.
  • Comparative Example A6 As shown in FIG. 30, the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS yellow semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 are used.
  • the wavelength converting member to be manufactured was manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG.
  • the difference from Comparative Example A1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors.
  • the composition of the wavelength conversion member which concerns on the said comparative example A6, a manufacturing method, an optical characteristic, etc. are shown in FIG.
  • Comparative Example A7 As shown in FIG. 30, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS yellow semiconductor fine particle phosphor, and InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor. And a wavelength conversion member composed of silicone resin SCR-1015 was manufactured according to the manufacturing method shown in FIG. Here, the difference from Comparative Example A1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors. In addition, the composition of the wavelength conversion member which concerns on the said comparative example A7, a manufacturing method, an optical characteristic, etc. are shown in FIG.
  • Comparative Examples A8 to A10 In Comparative Examples A8 to A10, as shown in FIG. 30, the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015, as in Comparative Example A1 described above.
  • the wavelength conversion member comprised from these was manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 53 mentioned above.
  • the difference from Comparative Example A1 is the contents of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor and InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor.
  • Comparative Examples A2 to A4 described above are used.
  • FIG. 30 shows the composition, manufacturing method, optical characteristics and the like of the wavelength conversion member according to Comparative Examples A8 to A10.
  • Example A1 Example A15, and Comparative Example A1
  • the content of the semiconductor fine particle phosphor and the content of the silicone resin are almost the same.
  • a difference as shown in FIG. 30 occurred in the dispersion state of the semiconductor fine particle phosphor in the wavelength conversion member.
  • Example A1 and Example A15 the semiconductor fine particle phosphors are regularly arranged in the XY plane, whereas in Comparative Example A1, the semiconductor fine particle fluorescence is arranged in the XY plane.
  • the body is in disorder. This is considered to be because in Example A1 and Example A15, the semiconductor fine particle phosphor was applied to the slide in a state of being dispersed in the volatile solvent, and then the volatile solvent was volatilized. More specifically, when the volatilization of the volatile solvent progresses, it is considered that the volatile solvent covers the slide with a thickness of about several nanometers to several tens of nanometers. At this time, the semiconductor fine particle phosphor is self-organized. It is thought that they are regularly arranged in layers. It was also confirmed that the wavelength conversion member according to Example A1 and Example A15 was localized on one side of the wavelength conversion member as shown in FIGS. 14 and 9. .
  • Example A1 and Example A15 it was confirmed that the InP / ZnS semiconductor fine particle phosphors were arranged in a hexagonal lattice pattern in the XY plane.
  • a red light emitting CdSe / ZnS semiconductor fine particle phosphor particle diameter 5.2 nm
  • a green light emitting CdSe / ZnS semiconductor fine particle phosphor particle diameter 2.3 nm
  • the wavelength of the same structure as in Example A1 When the conversion member was manufactured, it was confirmed that these CdSe / Zns semiconductor fine particle phosphors were arranged in a square lattice shape (see FIG. 13).
  • Example A1 Example A15, and Comparative Example A1
  • the content of the semiconductor fine particle phosphor and the content of the silicone resin are almost the same.
  • the internal quantum efficiencies (IQE) of the wavelength conversion members according to Example A1, Example A15, and Comparative Example A1 are 59.6%, 49.0%, and 33.5%, respectively, as shown in FIG. there were.
  • IQE internal quantum efficiency
  • the above results mean that the luminous efficiency of the wavelength conversion member can be improved by giving the above-mentioned specific anisotropy to the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor. That is, by filling the semiconductor fine particle phosphor with a high density in the XY plane to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY in-plane direction, and reducing the concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction, It is determined that the re-absorption of fluorescence can be suppressed and the light emission efficiency of the wavelength conversion member is improved.
  • FIG. 32 shows the correlation between the absorption rate of 450 nm blue light of the semiconductor fine particle phosphor and the internal quantum efficiency (IQE) of the wavelength conversion member in Examples A1 to A4, Examples A15 to A18, and Comparative Examples A1 to A4. It is a graph which shows.
  • the horizontal axis represents the absorption rate [%] of the semiconductor fine particle phosphor for 450 nm blue light
  • the vertical axis represents the internal quantum efficiency (IQE) [%] of the wavelength conversion member.
  • the rate of decrease in internal quantum efficiency (IQE) with respect to the increase in the concentration of the semiconductor fine particle phosphor is smaller than in Examples A15 to A18. Can be confirmed. This is considered to be the result that the reabsorption of fluorescence could be further suppressed because the semiconductor fine particle phosphors were separated for each type in the Z-axis direction and laminated in layers.
  • the semiconductor fine particle phosphor is filled at a high density in the XY plane to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY in-plane direction and reduce the concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction. Furthermore, also in the Z-axis direction, separating the semiconductor fine particle phosphors for each type and laminating them in layers means that the reabsorption of fluorescence can be suppressed and the light emission efficiency of the wavelength conversion member is improved.
  • FIG. 33 shows the correlation between the absorption rate of the semiconductor fine particle phosphor with respect to blue light at 450 nm and the internal quantum efficiency (IQE) of the wavelength conversion member in Examples A1 to A4, Examples A5 to A8, and Comparative Examples A1 to A4. It is a graph which shows.
  • the horizontal axis represents the absorption rate [%] of the semiconductor fine particle phosphor for 450 nm blue light
  • the vertical axis represents the internal quantum efficiency (IQE) [%] of the wavelength conversion member.
  • the rate of decrease in internal quantum efficiency (IQE) with respect to the increase in the concentration of the semiconductor fine particle phosphor is smaller in Examples A5 to A8 than in Comparative Examples A1 to A4. I can confirm. This is considered to be the result that the reabsorption of the fluorescence can be relatively suppressed because the concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY plane is improved.
  • the rate of decrease in internal quantum efficiency (IQE) with respect to the increase in the concentration of the semiconductor fine particle phosphor is smaller in Examples A1 to A4 than in Examples A5 to A8. Can be confirmed. This is because the semiconductor fine particle phosphors are separated into layers in the Z-axis direction and laminated in layers, and the type of semiconductor fine particle phosphor having a long emission wavelength and a large particle diameter is disposed on the incident surface side of the wavelength conversion member. In addition, it is considered that the reabsorption of the tendency could be further suppressed.
  • the fluorescence emitted by the green semiconductor fine particle phosphor is red semiconductor fine particle. While the phosphor does not reabsorb and light loss is less likely to occur, in Examples A5 to A8, the red semiconductor fine particle phosphor is disposed closer to the emission surface of the wavelength conversion member than the green semiconductor fine particle phosphor. This is probably because the fluorescence emitted by the red semiconductor fine particle phosphor is reabsorbed by the green semiconductor fine particle phosphor and light loss is likely to occur.
  • the semiconductor fine particle phosphor is filled at a high density in the XY plane to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY in-plane direction and reduce the concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction. Further, by separating the semiconductor fine particle phosphors for each type in the Z-axis direction and laminating them in layers based on the emission wavelength and particle diameter, fluorescence re-absorption can be suppressed and the emission efficiency of the wavelength conversion member is improved. It means that.
  • FIG. 34 is a graph showing the correlation between the number of types of semiconductor fine particle phosphors and the internal quantum efficiency (IQE) of the wavelength conversion member in Examples A1, A9 to A11 and Comparative Examples A1, A5 to A7.
  • the horizontal axis represents the number of types of semiconductor fine particle phosphors
  • the vertical axis represents the internal quantum efficiency (IQE) [%] of the wavelength conversion member.
  • the wavelength conversion member is used in any case.
  • IQE internal quantum efficiency
  • FIG. 35 is a table showing various prototype results in Examples A1, A12 to A14 and Comparative Examples A1, A8 to A10.
  • the portion where the semiconductor fine particle phosphor is dispersed is shown. Even when the thickness of the wavelength conversion member was reduced to 30.4 ⁇ m, it was confirmed that the excitation light having a wavelength of 450 nm was absorbed with an absorptance of 90.3%. However, in the wavelength conversion member according to Comparative Examples A1, A8 to A10 having no specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor described above, the wavelength conversion member of the portion where the semiconductor fine particle phosphor is dispersed is used. The film thickness could only be reduced to a minimum of 73.6 ⁇ m.
  • the semiconductor fine particle phosphor is filled with high density in the XY plane to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY in-plane direction and reduce the concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction. This means that the wavelength conversion member can be thinned while maintaining the absorption rate of the excitation light high.
  • the absorbance per 1 ⁇ m along the traveling direction of the excitation light is 0. 0.02 or more (in Example A13, the absorbance is 0.024, and in Example A14, the absorbance is 0.033).
  • This value is an extremely superior value compared to the conventional wavelength conversion member when considering both improvement in luminous efficiency and thickness reduction of the wavelength conversion member, and the wavelength in the embodiment of the present invention described above. It is a value that can be realized for the first time when the conversion member manufacturing method is employed.
  • the thickness along the traveling direction of the excitation light is 0.5 nm or more and 50 ⁇ m.
  • the thickness is 42.2 ⁇ m, in Example A14, the thickness is 30.4 ⁇ m), and more than 90% of the incident excitation light is absorbed (in Example A13, absorption
  • the absorption rate is 90.3%.
  • the thickness of the wavelength conversion member is theoretically reduced to about 0.5 nm in consideration of the particle diameter of the semiconductor fine particle phosphor. Thinning is possible. Therefore, by using the wavelength conversion member under the above conditions, it is possible to obtain both the improvement of the light emission efficiency of the wavelength conversion member and the reduction in thickness.
  • FIG. 36 is a graph showing the internal quantum efficiency (IQE) of the wavelength conversion member when the 450 nm blue light of the semiconductor fine particle phosphor is used in the wavelength conversion member manufactured using the above various semiconductor fine particle phosphors.
  • the horizontal axis represents the type of semiconductor fine particle phosphor
  • the vertical axis represents the internal quantum efficiency (IQE) [%] of the wavelength conversion member.
  • an InP / ZnS semiconductor fine particle phosphor is used as the semiconductor fine particle phosphor, but also an InP / ZnSe semiconductor fine particle phosphor, an InP / ZnS / SiO 2 semiconductor fine particle phosphor, and Ga 0.5 In
  • InP / ZnS semiconductor fine particle phosphor InN / GaN semiconductor fine particle phosphor, Ga 0.4 In 0.6 N / GaN semiconductor fine particle phosphor, CdSe / ZnS semiconductor fine particle phosphor, ZnCdSe / ZnS semiconductor fine particle phosphor are used. It has been confirmed that the luminous efficiency of the wavelength conversion member is improved.
  • FIG. 37 is a table summarizing the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Examples B1 to B13 and Comparative Examples B1 to B8, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • FIG. 38 is a graph showing an emission spectrum of the light emitting device according to Example B1. In FIG. 38, the horizontal axis represents wavelength [nm], and the vertical axis represents emission intensity. Note that a light emission measurement system MCPD-7000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. was used for the measurement of the light emission efficiency, color rendering index Ra, color temperature Tcp and chromaticity coordinates (u ′, v ′) of the light emitting device shown in FIG. did.
  • the light-emitting device according to the example includes a wavelength conversion member having specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor described above as the wavelength conversion member, and the light-emitting device according to the comparative example is As the wavelength conversion member, a wavelength conversion member having no specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor described above is provided.
  • various semiconductor fine particle fluorescences are obtained so that about 90% of 450 nm excitation light is absorbed and the light emission of each semiconductor fine particle phosphor has the same intensity. It was manufactured by adjusting the amount of the body and the amount of the light transmissive member.
  • Example B1 In Example B1, as shown in FIG. 37, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • a light emitting device as shown in FIG. 18 is manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and a blue LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. Manufactured.
  • silicone resin A liquid and 490.9 mg of silicone resin B liquid were weighed and mixed.
  • the light-emitting device according to Example B1 was obtained by applying the mixed silicone resin on the blue LED and curing by heating at 80 ° C. for 1 hour and at 150 ° C. for 5 hours.
  • the semiconductor fine particle phosphors were arranged in a hexagonal lattice pattern in the XY plane as shown in FIG. 37 (see FIG. 15). In addition, it was confirmed that the semiconductor fine particle phosphors were arranged in layers in the Z-axis direction for each type (see FIG. 14).
  • the light emission efficiency of the light emitting device according to Example B1 is 53.5 lm / W
  • the color rendering index Ra is 70.0
  • the color temperature is 4934K
  • the chromaticity coordinates ( u ′, v ′) was confirmed to be (0.203, 0.500).
  • Example B2 In Example B2, as shown in FIG. 37, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described view.
  • the light emitting device as shown in FIG. 18 is manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and a blue LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. Manufactured.
  • silicone resin A liquid and 492.7 mg of silicone resin B liquid were weighed and mixed.
  • the light-emitting device according to Example B2 was obtained by applying the mixed silicone resin on the blue LED and curing by heating at 80 ° C. for 1 hour and at 150 ° C. for 5 hours.
  • the light emission efficiency of the light emitting device according to Example B2 is 35.8 lm / W
  • the color rendering index Ra is 68.8
  • the color temperature is 4914 K
  • the chromaticity coordinates ( u ′, v ′) was confirmed to be (0.210, 0.490).
  • Example B3 In Example B3, as shown in FIG. 37, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • a light emitting device as shown in FIG. 18 is manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and a blue LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. Manufactured.
  • the difference from Example B1 is the stacking order of the semiconductor fine particle phosphor.
  • Example B3 a dispersion containing InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor is first applied on a blue LED, and then a dispersion containing InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor is further applied on the blue LED. Applied.
  • the composition, manufacturing method, optical characteristics, etc. of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Example B3 are shown in FIG.
  • Example B4 to B6 In Example B4, as shown in FIG. 37, a wavelength conversion member composed of InP / ZnS yellow semiconductor fine particle phosphor and silicone resin SCR-1015 is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. In addition, a light emitting device as shown in FIG. 18 was manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and a blue LED having an InGaN semiconductor active layer having an emission spectrum peak wavelength of 450 nm. Here, the difference from Example B1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Example B4, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Example B5 As shown in FIG. 37, an InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, an InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, an InP / ZnS yellow semiconductor fine particle phosphor, and a silicone resin SCR-1015 are used.
  • the wavelength conversion member to be manufactured is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 16 described above, and the manufactured wavelength conversion member and a blue LED having an InGaN semiconductor active layer whose peak wavelength of the emission spectrum is 450 nm.
  • a light emitting device as shown in FIG. 18 was manufactured.
  • the difference from Example B1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Example B5, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Example B6 InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS yellow semiconductor fine particle phosphor, and InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor. And a silicone resin SCR-1015 are manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 16 described above, and the manufactured wavelength conversion member and the peak wavelength of the emission spectrum are 450 nm.
  • a light emitting device as shown in FIG. 18 was manufactured by combining with a blue LED having an InGaN semiconductor active layer.
  • the difference from Example B1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Example B6, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Example B7 to B9 In Examples B7 to B9, as shown in FIG. 37, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015, as in Example B1 described above. And a blue color having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm.
  • a light emitting device as shown in FIG. 18 was manufactured in combination with the LED.
  • the difference from Example B1 is the contents of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor and InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor. In Examples B7 to B9, these contents are greatly increased.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Examples B7 to B9, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Example B10 In Example B10, as shown in FIG. 37, an InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, an InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, an InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor, and a silicone resin SCR-1015 are used.
  • the wavelength conversion member to be manufactured is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 16 described above, and the manufactured wavelength conversion member and a blue-violet LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 405 nm, Were combined to produce a light emitting device as shown in FIG.
  • the differences from Example B1 are the number of types of semiconductor fine particle phosphors and the types of light emitting elements.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Example B10, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Example B11 as shown in FIG. 37, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • the light emitting device as shown in FIG. 19 is manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and the blue LD having the InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. Manufactured.
  • the difference from Example B1 is the type of light emitting element.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Example B11, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Example B12 as shown in FIG. 37, the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 are used.
  • the wavelength conversion member to be manufactured is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 16 described above, and the manufactured wavelength conversion member, and a blue-violet LD having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 405 nm, In combination, a light emitting device as shown in FIG. 19 was manufactured.
  • the differences from Example B1 are the number of types of semiconductor fine particle phosphors and the types of light emitting elements.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Example B12, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Example B13 the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • a light emitting device as shown in FIG. 20 is manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and a blue EL having a FIrpic light emitting layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 480 nm. Manufactured.
  • the difference from Example B1 is the type of light emitting element.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Example B13, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Comparative Example B1 In Comparative Example B1, as shown in FIG. 37, the wavelength conversion member composed of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • the light emitting device as shown in FIG. 18 is manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and a blue LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. Manufactured.
  • the mixed semiconductor fine particle phosphor is mixed and dispersed in the mixed silicone resin, and this is coated on a blue LED, and heated and cured at 80 ° C. for 1 hour and 150 ° C. for 5 hours, so that Comparative Example B1 The light emitting device according to the above was obtained.
  • the light emission efficiency of the light emitting device according to Comparative Example B1 is 27.1 lm / W
  • the color rendering index Ra is 68.5
  • the color temperature is 4974K
  • the chromaticity coordinates ( u ′, v ′) was confirmed to be (0.210, 0.487).
  • Comparative Examples B2 to B4 In Comparative Examples B2 to B4, as shown in FIG. 37, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015, as in Comparative Example B1 described above. And a blue color having an InGaN semiconductor active layer having a peak wavelength of the emission spectrum of 450 nm, and the manufactured wavelength conversion member according to the manufacturing method as shown in FIG. A light emitting device as shown in FIG. 18 was manufactured in combination with the LED.
  • the difference from the comparative example B1 is the contents of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor and the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the semiconductor fine particle fluorescence can be greatly changed by changing these contents.
  • the film thickness of the wavelength conversion member in the part where the body is dispersed is changed.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Comparative Examples B2 to B4, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Comparative Examples B5 to B8 In Comparative Example B5, as shown in FIG. 37, it is composed of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015.
  • the wavelength conversion member to be manufactured is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 53 described above, the manufactured wavelength conversion member, and a blue-violet LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 405 nm, Were combined to produce a light emitting device as shown in FIG.
  • the difference from Comparative Example B1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors and the types of light emitting elements.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Comparative Example B5, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Comparative Example B6 As shown in FIG. 37, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • the light emitting device as shown in FIG. 19 is manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and a blue LD having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. Manufactured.
  • the difference from the comparative example B1 is the type of the light emitting element.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Comparative Example B6, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Comparative Example B7 As shown in FIG. 37, it is composed of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015.
  • the manufactured wavelength conversion member is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 53 described above, and the manufactured wavelength conversion member and a blue-violet LD having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 405 nm, In combination, a light emitting device as shown in FIG. 19 was manufactured.
  • the difference from Comparative Example B1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors and the types of light emitting elements.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Comparative Example B7, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Comparative Example B8 As shown in FIG. 37, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • the light emitting device as shown in FIG. 20 is manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and the blue EL having the FIrpic light emitting layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 480 nm. Manufactured.
  • the difference from the comparative example B1 is the type of the light emitting element.
  • FIG. 37 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Comparative Example B8, the optical characteristics of the light emitting device, and the like.
  • Example B1 Example B2, and Comparative Example B1
  • the content of the semiconductor fine particle phosphor and the content of the silicone resin are almost the same.
  • a difference as shown in FIG. 37 occurred in the dispersion state of the semiconductor fine particle phosphor in the wavelength conversion member.
  • Example B1 and Example B2 semiconductor fine particle phosphors are regularly arranged in the XY plane, whereas in Comparative Example B1, semiconductor fine particle fluorescence is arranged in the XY plane.
  • the body is in disorder. This is considered to be because in Example B1 and Example B2, the semiconductor fine particle phosphor was applied to the blue LED in a state of being dispersed in the volatile solvent, and then the volatile solvent was volatilized. More specifically, when the volatilization of the volatile solvent proceeds, it is considered that the volatile solvent covers the blue LED with a thickness of several nanometers to several tens of nanometers. At this time, the semiconductor fine particle phosphor is self-organized. It is considered that they are regularly arranged in layers.
  • the semiconductor fine particle fluorescent substance may localize on the single side
  • Example B1 Example B2, and Comparative Example B1
  • the content of the semiconductor fine particle phosphor and the content of the silicone resin are almost the same.
  • the luminous efficiencies of the light emitting devices according to Example B1, Example B2, and Comparative Example B1 were 53.5 lm / W, 35.8 lm / W, and 27.1 lm / W, respectively, as shown in FIG. .
  • the light emitting devices according to Example B1 and Example B2 can obtain higher luminous efficiency than the light emitting device according to Comparative Example B1.
  • the above results mean that the light emission efficiency of the light emitting device can be improved by giving the above-mentioned dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor the specific anisotropy as described above. That is, by filling the semiconductor fine particle phosphor with a high density in the XY plane to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY in-plane direction, and reducing the concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction, It is judged that the re-absorption of fluorescence can be suppressed and the light emission efficiency of the light emitting device is improved.
  • the absorption rate of the excitation light is improved as compared with the wavelength conversion member of the light emitting device according to Comparative Example B1.
  • the external quantum efficiency (EQE) was also improved. This is because, in the wavelength conversion member of the light emitting device according to Example B1 and Example B2, the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY plane is higher than that of the wavelength conversion member of the light emitting device according to Comparative Example B1. It is believed that there is.
  • Example B1 and Example are performed rather than Comparative Example B1. It can be confirmed that the light emission efficiency of the light emitting device is higher in Example B3. This is considered to be the result that the reabsorption of fluorescence can be relatively suppressed because the concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY plane of the wavelength conversion member is improved.
  • the luminous efficiency of the light emitting device is higher in Example B1 than in Example B3.
  • the semiconductor fine particle phosphors are separated for each type in the Z-axis direction of the wavelength conversion member and laminated in layers, and the type of semiconductor fine particle phosphor having a long emission wavelength and a large particle diameter is incident on the incident surface of the wavelength conversion member. This is considered to be the result that the reabsorption of the tendency could be further suppressed due to the arrangement on the side.
  • Example B1 since the green semiconductor fine particle phosphor is disposed closer to the emission surface side of the wavelength conversion member than the red semiconductor fine particle phosphor, the fluorescence emitted by the green semiconductor fine particle phosphor is changed to the red semiconductor fine particle phosphor.
  • Example B3 the red semiconductor fine particle phosphor is arranged closer to the emission surface side of the wavelength conversion member than the green semiconductor fine particle phosphor. This is probably because the fluorescent light emitted from the phosphor is reabsorbed by the green semiconductor fine particle phosphor and light loss is likely to occur.
  • the semiconductor fine particle phosphor is densely packed in the XY plane of the wavelength conversion member to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY plane direction, and the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction is increased.
  • FIG. 39 is a graph showing the correlation between the number of types of semiconductor fine particle phosphors, the light emission efficiency of the light emitting device, and the color rendering index Ra in Examples B1, B4 to B6.
  • the horizontal axis represents the number of types of semiconductor fine particle phosphors
  • the vertical axis represents the luminous efficiency [lm / W] and the color rendering index of the light emitting device.
  • FIG. 40 is a graph showing the correlation between the half-value width of the emission spectrum of the semiconductor fine particle phosphor and the color rendering index of the light emitting device in Examples B1, B4 to B6.
  • the horizontal axis represents the half width [nm] of the semiconductor fine particle phosphor
  • the vertical axis represents the color rendering index of the light emitting device.
  • the number of types of semiconductor fine particle phosphors contained in the wavelength conversion member increases, the light emission efficiency of the light emitting device tends to decrease. This is thought to be because the proportion of fluorescent reabsorption increases as the number of types of semiconductor fine particle phosphors increases. From this point of view, the number of types of semiconductor fine particle phosphors should be smaller. Was confirmed to be preferable.
  • the color rendering index Ra of the light emitting device tends to improve as the number of types of semiconductor fine particle phosphors contained in the wavelength conversion member increases. This is considered to be because the emission spectrum of the light emitting device approaches a more continuous spectrum as the number of types of semiconductor fine particle phosphors increases, and from this point of view, as the number of types of semiconductor fine particle phosphors, It was confirmed that more is preferable.
  • the number of types of semiconductor fine particle phosphors as the wavelength conversion member provided in the light emitting device is It was confirmed that it was preferable to use those having 2 to 4 types.
  • the light emitting device using the semiconductor fine particle phosphor having a wider half-value width included in the wavelength conversion member has a narrower half-value width of the semiconductor fine particle phosphor included in the wavelength conversion member.
  • the half-value width of the semiconductor fine particle phosphor contained in the wavelength conversion member incorporated in the light emitting device is preferably 50 nm or more.
  • FIG. 41 is a table showing various prototype results in Examples B1, B7 to B9 and Comparative Examples B1 to B4.
  • the wavelength of the portion where the semiconductor fine particle phosphor is dispersed is shown. Even when the thickness of the conversion member was reduced to 30.5 ⁇ m, it was confirmed that the light emitting device can emit white light.
  • the semiconductor fine particle fluorescence in order to obtain a light emitting device capable of emitting white light, the semiconductor fine particle fluorescence
  • the film thickness of the wavelength conversion member in the part where the body is dispersed could only be reduced to a minimum of 75.8 ⁇ m.
  • the semiconductor fine particle phosphor is densely packed in the XY plane of the wavelength conversion member to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY plane direction, and the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction is increased.
  • concentration it means that the wavelength conversion member of the light emitting device can be thinned while maintaining the absorption rate of the excitation light high, and it is understood that the light emitting device can be thinned as a whole. Is done.
  • FIG. 42 is a graph showing the correlation between the type of light emitting element and the light emission efficiency in Examples B1, B10 to B13 and Comparative Examples B1, B5 to B8.
  • the horizontal axis represents the type of the light emitting element
  • the vertical axis represents the luminous efficiency [lm / W].
  • the light emitting devices according to Examples B1 and B10 to B13 had higher luminous efficiency than the light emitting devices according to Comparative Examples B1 and B5 to B8, respectively. That is, when any one of a blue LED, a blue-violet LED, a blue LD, a blue-violet LD, and a blue EL is used as the light-emitting element, the light-emitting device according to the example makes the light-emitting efficiency higher than the light-emitting device according to the comparative example It was confirmed that there was an improvement.
  • the semiconductor fine particle phosphor is densely packed in the XY plane of the wavelength conversion member to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY plane direction, and the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction is increased.
  • concentration By reducing the concentration, it means that a light emitting device capable of suppressing the reabsorption of fluorescence and realizing high light emission efficiency regardless of the kind of the light emitting element.
  • the test results when InP / ZnS semiconductor fine particle phosphor is used as the semiconductor fine particle phosphor contained in the wavelength conversion member of the light emitting device are exemplified as Examples B1 to B13 and Comparative Examples B1 to B8.
  • the difference in the dispersion state of the semiconductor fine particle phosphors indicates the luminous efficiency of the wavelength conversion member of the light emitting device. It has been confirmed by the present inventor that the influence on the light emission is the same as the case where a wavelength conversion member is prototyped using the above-described InP / ZnS semiconductor fine particle phosphor and incorporated in a light emitting device.
  • FIG. 43 is a graph showing the light emission efficiency of a light emitting device including a wavelength conversion member manufactured using the above various semiconductor fine particle phosphors.
  • the horizontal axis represents the type of semiconductor fine particle phosphor
  • the vertical axis represents the luminous efficiency [lm / W] of the light emitting device.
  • the InP / ZnS semiconductor fine particle phosphor is used as the semiconductor fine particle phosphor, but also an InP / ZnSe semiconductor fine particle phosphor, an InP / ZnS / SiO 2 semiconductor fine particle phosphor, and Ga 0.5 In Even when 0.5 P / ZnS semiconductor fine particle phosphor, InN / GaN semiconductor fine particle phosphor, Ga 0.4 In 0.6 N / GaN semiconductor fine particle phosphor, CdSe / ZnS semiconductor fine particle phosphor, ZnCdSe / ZnS semiconductor fine particle phosphor are used. It has been confirmed that the luminous efficiency of the light emitting device is improved.
  • FIG. 44 is a table summarizing the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display devices according to Examples C1 to C11 and Comparative Examples C1 to C10, the optical characteristics of the image display devices, and the like.
  • FIG. 45 is a graph showing an emission spectrum of the light-emitting device used for the image display device according to Example C1.
  • the horizontal axis represents wavelength [nm]
  • the vertical axis represents emission intensity. Note that the light emission measurement system MCPD- manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.
  • the image display device according to the example includes the wavelength conversion member having a specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor described above as the wavelength conversion member, and the image display device according to the comparative example. Is provided with a wavelength conversion member having no specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor described above as the wavelength conversion member.
  • various semiconductor fine particles so that the excitation light of 450 nm is absorbed by about 90% and the light emission of each semiconductor fine particle phosphor has the same intensity. It was manufactured by adjusting the amount of the phosphor and the amount of the light transmissive member.
  • Example C1 In Example C1, as shown in FIG. 44, the wavelength conversion member composed of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described view.
  • the image display as shown in FIG. 21 is produced by combining the produced wavelength conversion member and a blue LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. The device was manufactured.
  • InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor was dispersed in a toluene solvent. This dispersion was applied onto the blue LED, and the toluene solvent was volatilized.
  • 4.12 mg of InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor was dispersed in a toluene solvent, and this dispersion was further coated on the blue LED, and the toluene solvent was volatilized.
  • Example C1 when the light emitting device used in Example C1 was caused to emit light, it was confirmed that an emission spectrum as shown in FIG. 45 was obtained.
  • the screen brightness of the image display apparatus according to Example C1 is 142.4%
  • the NTSC ratio is 108.2%
  • the color temperature is 9921K
  • the chromaticity coordinates (u ', V') was confirmed to be (0.187, 0.443).
  • Example C2 In Example C2, as shown in FIG. 44, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • the image display as shown in FIG. 21 is produced by combining the produced wavelength conversion member and a blue LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. The device was manufactured.
  • silicone resin A liquid and 494.6 mg of silicone resin B liquid were weighed and mixed.
  • the mixed silicone resin was applied onto the blue LED and heat-cured at 80 ° C. for 1 hour and 150 ° C. for 5 hours to obtain a light emitting device.
  • the image display apparatus according to Example C2 has a screen luminance of 112.0%, an NTSC ratio of 109.2%, a color temperature of 10110K, and chromaticity coordinates (u ', V') was confirmed to be (0.189, 0.440).
  • Example C3 to C6 In Example C3, as shown in FIG. 44, an InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, an InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, an InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor, and a silicone resin SCR-1015 are used.
  • the wavelength conversion member to be manufactured is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 16 described above, and the manufactured wavelength conversion member and a blue-violet LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 405 nm, Were combined to produce an image display device as shown in FIG.
  • the differences from Example C1 are the number of types of semiconductor fine particle phosphors and the types of light emitting elements.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display apparatus according to Example C3, the optical characteristics of the image display apparatus, and the like.
  • Example C4 the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • the image display as shown in FIG. 21 is performed by combining the manufactured wavelength conversion member and the blue LD having the InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. The device was manufactured.
  • the difference from Example C1 is the type of light emitting element.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Example C4, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • Example C5 an InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, an InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, an InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor, and a silicone resin SCR-1015 are used.
  • the wavelength conversion member to be manufactured is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 16 described above, and the manufactured wavelength conversion member, and a blue-violet LD having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 405 nm, Were combined to produce an image display device as shown in FIG.
  • the differences from Example C1 are the number of types of semiconductor fine particle phosphors and the types of light emitting elements.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Example C5, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • Example C6 the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • the image display device as shown in FIG. 26 is manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and the blue EL having the FIrpic light emitting layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 480 nm. Manufactured.
  • the difference from Example C1 is the type of light emitting element.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display apparatus according to Example C6, the optical characteristics of the image display apparatus, and the like.
  • Example C7 In Example C7, as shown in FIG. 44, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • the image display as shown in FIG. 24 is performed by combining the manufactured wavelength conversion member and the blue LED having the InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. The device was manufactured.
  • the difference from Example C1 is the structure of the image display device.
  • the wavelength conversion member is incorporated in the image display unit without being incorporated in the irradiation unit.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display apparatus according to Example C7, the optical characteristics of the image display apparatus, and the like.
  • Example C8 to C10 In Examples C8 to C10, as shown in FIG. 44, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015, as in Example C7 described above. And a blue color having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm.
  • An image display device as shown in FIG. 24 was manufactured in combination with the LED.
  • the difference from Example C7 is the contents of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor and InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor. In Examples C8 to C10, these contents are greatly increased.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Examples C8 to C10, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • Example C11 In Example C11, as shown in FIG. 44, as in Example C6 described above, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 were used.
  • the configured wavelength conversion member is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 16 described above, and the manufactured wavelength conversion member and a blue EL having a FIrpic light emitting layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 480 nm.
  • an image display device as shown in FIG. 28 was manufactured.
  • the difference from Example C6 is the structure of the image display device.
  • Example C11 the wavelength conversion member is incorporated in the image display unit without being incorporated in the irradiation unit.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Example C11, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • Comparative Example C1 In Comparative Example C1, as shown in FIG. 44, the wavelength conversion member composed of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • the image display as shown in FIG. 21 is performed by combining the manufactured wavelength conversion member and a blue LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. The device was manufactured.
  • the mixed semiconductor fine particle phosphor is mixed and dispersed in the mixed silicone resin, and this is coated on a blue LED, and heated and cured at 80 ° C. for 1 hour and 150 ° C. for 5 hours, whereby a light emitting device is obtained. Obtained.
  • the image display device according to Comparative Example C1 has a screen luminance of 100.0%, an NTSC ratio of 107.2%, a color temperature of 9907K, and chromaticity coordinates (u ', V') was confirmed to be (0.187, 0.443).
  • Comparative Examples C2 to C5 In Comparative Example C2, as shown in FIG. 44, it is composed of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015.
  • the wavelength conversion member to be manufactured is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 53 described above, the manufactured wavelength conversion member, and a blue-violet LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 405 nm, Were combined to produce an image display device as shown in FIG.
  • the difference from Comparative Example C1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors and the types of light emitting elements.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Comparative Example C2, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is shown in the above-described diagram.
  • the image display as shown in FIG. 21 is performed by combining the manufactured wavelength conversion member and the blue LD having the InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. The device was manufactured.
  • the difference from the comparative example C1 is the type of the light emitting element.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Comparative Example C3, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • Comparative Example C4 As shown in FIG. 44, it is composed of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS blue semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015.
  • the manufactured wavelength conversion member is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 53 described above, and the manufactured wavelength conversion member and a blue-violet LD having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 405 nm, Were combined to produce an image display device as shown in FIG.
  • the difference from Comparative Example C1 is the number of types of semiconductor fine particle phosphors and the types of light emitting elements.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Comparative Example C4, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • Comparative Example C5 As shown in FIG. 44, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is described above.
  • the image display device as shown in FIG. 26 is manufactured by combining the manufactured wavelength conversion member and the blue EL having the FIrpic light emitting layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 480 nm. Manufactured.
  • the difference from the comparative example C1 is the type of the light emitting element.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Comparative Example C5, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • Comparative Example C6 In Comparative Example C6, as shown in FIG. 44, the wavelength conversion member composed of the InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, the InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and the silicone resin SCR-1015 is described above.
  • An image display as shown in FIG. 24 is produced by combining the manufactured wavelength conversion member and a blue LED having an InGaN semiconductor active layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 450 nm. The device was manufactured.
  • the difference from the comparative example C1 is the structure of the image display device. Specifically, in the comparative example C6, the wavelength conversion member is incorporated in the image display unit without being incorporated in the irradiation unit.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Comparative Example C6, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • Comparative Examples C7 to C9 In Comparative Examples C7 to C9, as shown in FIG. 44, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015, as in Comparative Example C6 described above. And a blue color having an InGaN semiconductor active layer having a peak wavelength of the emission spectrum of 450 nm, and the manufactured wavelength conversion member according to the manufacturing method as shown in FIG. An image display device as shown in FIG. 24 was manufactured in combination with the LED.
  • the difference from Comparative Example C6 is the contents of InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor and InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Comparative Examples C7 to C9, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • Comparative Example C10 In Comparative Example C10, as shown in FIG. 44, as in Comparative Example C5 described above, InP / ZnS red semiconductor fine particle phosphor, InP / ZnS green semiconductor fine particle phosphor, and silicone resin SCR-1015 were used.
  • the configured wavelength conversion member is manufactured according to the manufacturing method as shown in FIG. 53 described above, and the manufactured wavelength conversion member and a blue EL having a FIrpic light emitting layer whose emission spectrum has a peak wavelength of 480 nm.
  • an image display device as shown in FIG. 28 was manufactured.
  • the difference from Comparative Example C5 is the structure of the image display device.
  • FIG. 44 shows the composition and manufacturing method of the wavelength conversion member of the image display device according to Comparative Example C10, the optical characteristics of the image display device, and the like.
  • Example C1 Example C2, and Comparative Example C1
  • the content of the semiconductor fine particle phosphor and the content of the silicone resin are almost the same.
  • a difference as shown in FIG. 44 occurred in the dispersion state of the semiconductor fine particle phosphor in the wavelength conversion member.
  • Example C1 and Example C2 semiconductor fine particle phosphors are regularly arranged in the XY plane, whereas in Comparative Example C1, the semiconductor fine particle fluorescence is arranged in the XY plane.
  • the body is in disorder. This is considered to be because, in Example C1 and Example C2, the semiconductor fine particle phosphor was applied to the blue LED in a state of being dispersed in the volatile solvent, and then the volatile solvent was volatilized. More specifically, when the volatilization of the volatile solvent proceeds, it is considered that the volatile solvent covers the blue LED with a thickness of several nanometers to several tens of nanometers. At this time, the semiconductor fine particle phosphor is self-organized. It is considered that they are regularly arranged in layers.
  • Example C1 and Example C2 As shown in both FIG.14 and FIG.9, the semiconductor fine particle fluorescent material is localized on the single side
  • Example C1 Example C2, and Comparative Example C1
  • the content of the semiconductor fine particle phosphor and the content of the silicone resin are almost the same.
  • the screen luminances of the image display devices according to Example C1, Example C2, and Comparative Example C1 were 142.4%, 112.0%, and 100.0%, respectively, as shown in FIG.
  • the image display devices according to Example C1 and Example C2 can obtain higher screen luminance than the image display device according to Example C1.
  • the screen brightness of the image display device can be improved by giving the above-mentioned specific anisotropy as described above to the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor. That is, by filling the semiconductor fine particle phosphor with a high density in the XY plane to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY in-plane direction, and reducing the concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction, It is determined that the screen brightness of the image display device is improved because the re-absorption of fluorescence can be suppressed.
  • the wavelength conversion member of the image display device according to Example C1 and Example C2 has an absorption rate of excitation light as compared with the wavelength conversion member of the image display device according to Comparative Example C1. It was confirmed that the external quantum efficiency (EQE) was also improved. This is because the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY plane is higher in the wavelength conversion member of the image display device according to Example C1 and Example C2 than in the wavelength conversion member of the image display device according to Comparative Example C1. This is probably because
  • FIG. 46 is a graph showing the correlation between the type of light emitting element and the screen luminance in Examples C1, C3 to C6 and Comparative Examples C1 to C5.
  • the horizontal axis represents the type of light emitting element
  • the vertical axis represents screen luminance [%].
  • the image display devices according to Examples C1 and C3 to C6 had higher screen brightness than the image display devices according to Comparative Examples C1 to C5, respectively. That is, when any one of a blue LED, a blue-violet LED, a blue LD, a blue-violet LD, and a blue EL is used as the light emitting element, the image display device according to the embodiment is used as compared with the image display device according to the comparative example. It was confirmed that the screen brightness was improved.
  • the semiconductor fine particle phosphor is densely packed in the XY plane of the wavelength conversion member to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY plane direction, and the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction is increased.
  • concentration By lowering the concentration, it means that an image display device capable of suppressing re-absorption of fluorescence and realizing high screen brightness regardless of the type of light emitting element.
  • FIG. 47 is a table showing the results of various trial manufactures in Examples C7 to C10 and Comparative Examples C6 to C9.
  • wavelength conversion of the portion where the semiconductor fine particle phosphor is dispersed is performed. Even when the thickness of the member was reduced to 33.8 ⁇ m, it was confirmed that the image display device can emit white light.
  • the semiconductor fine particles in order to obtain an image display device capable of emitting white light, the semiconductor fine particles The thickness of the wavelength conversion member in the portion where the phosphor is dispersed could be reduced to a minimum of 61.4 ⁇ m.
  • the semiconductor fine particle phosphor is densely packed in the XY plane of the wavelength conversion member to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY plane direction, and the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction is increased.
  • concentration it means that the wavelength conversion member of the image display device can be thinned while maintaining the high absorption rate of the excitation light, and as a result, the image display device can be thinned as a whole. Is understood.
  • the image display apparatus according to Example C1 and Comparative Example C1 is the image display apparatus having the structure shown in FIG. 21 described above, and includes a wavelength conversion member in the irradiation unit.
  • the image display device according to Example C7 and Comparative Example C6 is the image display device having the structure shown in FIG. 24 described above, and includes a wavelength conversion member in the image display unit.
  • the image display devices according to Example C6 and Comparative Example C5 are the image display devices having the structure shown in FIG.
  • the image display devices according to Example C11 and Comparative Example C10 are image display devices having the structure shown in FIG. 28 described above, and include a wavelength conversion member in the image display unit.
  • the image display devices according to Examples C1, C7, C6, and C11 each have a higher screen brightness than the image display devices according to Comparative Examples C1, C6, C5, and C10, respectively. It was done. That is, the image display apparatus according to the comparative example can be obtained from the image display apparatus according to the comparative example by adopting either the structure including the wavelength conversion member in the irradiation unit or the structure including the wavelength conversion member in the image display unit. It was also confirmed that the screen brightness was improved.
  • the semiconductor fine particle phosphor is densely packed in the XY plane of the wavelength conversion member to increase the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor in the XY plane direction, and the semiconductor fine particle phosphor in the Z-axis direction is increased.
  • the density By lowering the density, it means that an image display apparatus capable of suppressing re-absorption of fluorescence and realizing a high screen brightness regardless of the structure of the image display apparatus.
  • FIG. 48 is a graph showing the correlation between the half-value width of the emission spectrum of the semiconductor fine particle phosphor and the NTSC ratio of the image display device.
  • the horizontal axis represents the half width [nm] of the semiconductor fine particle phosphor
  • the vertical axis represents the NTSC ratio [%] of the light emitting device. Detailed description of the test conditions and the like is omitted here.
  • the image display device using the semiconductor fine particle phosphor having a wider half-value width included in the wavelength conversion member has a narrower half-value width of the semiconductor fine particle phosphor included in the wavelength conversion member. It was confirmed that the NTSC ratio tends to be higher than that of the used image display device.
  • the half width of the semiconductor fine particle phosphor and the NTSC ratio have a linear relationship, in order to keep the NTSC ratio at 80% or more, an image display device is used. It can be said that the half-value width of the semiconductor fine particle phosphor contained in the wavelength conversion member incorporated in is preferably 50 nm or less.
  • FIG. 49 is a graph showing the screen brightness of an image display device including a wavelength conversion member manufactured using the above various semiconductor fine particle phosphors.
  • the horizontal axis represents the type of semiconductor fine particle phosphor
  • the vertical axis represents the screen brightness [%] of the image display device.
  • the wavelength conversion member, the light emitting device, and the image display device to which the present invention is applied have a higher luminous efficiency than the conventional wavelength conversion member, the light emitting device, and the image display device. It was confirmed that the wavelength conversion member, the light emitting device including the wavelength conversion member, and the image display device can be obtained.
  • the wavelength conversion member having a specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor, the light emitting device including the same and although only the test contents and test results obtained by actually producing and evaluating the image display device were specified, the inventor made the wavelength conversion layer as a semiconductor fine particle as shown in the fifteenth embodiment of the present invention.
  • the wavelength conversion layer is composed of aggregates of semiconductor fine particle phosphors, and has a specific anisotropy in the number of particles of the semiconductor fine particle phosphors, and includes this
  • the light emitting device and the image display device are compared with the wavelength conversion member having a specific anisotropy in the dispersion concentration of the semiconductor fine particle phosphor described above, and the light emitting device and the image display device having the same, basically, Since the semiconductor fine particle phosphor is different only in that the semiconductor fine particle phosphor is not sealed by the light transmissive member, it is considered that the optical characteristics thereof are equivalent.
  • an alternative light source of a conventionally used small light bulb a display light source, a backlight light source for a liquid crystal panel, a general lighting fixture, and a decorative lighting fixture
  • Various products such as a light emitting display device, a display, and a projector are assumed.
  • the characteristic configurations of the wavelength conversion member, the light emitting device, and the image display device described in the first to fifteenth embodiments of the present invention can naturally be combined with each other within an allowable range in terms of the device configuration. It is.

Landscapes

  • Led Device Packages (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

 波長変換部材(10A)は、励起光(100)が入射する入射面(11)および波長変換光(200)が出射する出射面(12)を含む光透過性部材(13)と、この光透過性部材(13)の内部に分散配置され、励起光(100)を吸収して波長変換して発光する半導体微粒子蛍光体(14)とを備える。入射面(11)と出射面(12)とを結ぶ方向である光の進行方向に平行な方向における半導体微粒子蛍光体(14)の分散濃度は、上記光の進行方向と直交する方向における半導体微粒子蛍光体(14)の分散濃度に比べて低い。

Description

波長変換部材、発光装置および画像表示装置ならびに波長変換部材の製造方法
 本発明は、入射光の少なくとも一部の波長を変換して出射する波長変換部材およびこれを備えた発光装置ならびに画像表示装置に関し、より特定的には、光透過性部材の内部に半導体微粒子蛍光体が分散配置されてなる波長変換部材およびこれを備えた発光装置ならびに画像表示装置に関する。また、本発明は、上記波長変換部材の製造方法に関する。
 近年、発光素子として、窒化ガリウム系の化合物半導体材料からなる発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)素子が注目を集めている。この発光ダイオード素子は、小型、軽量、省電力、製品寿命が長い、オン/オフ点灯の繰り返しに強い、といった特徴を有している。そのため、青色光あるいは紫外光を放射する発光ダイオード素子と、この発光ダイオード素子から放射された光の一部を励起源として発光する種々の蛍光体とを組み合わせることにより、白色を含め、発光ダイオード素子の発光色とは異なる色合いの光を出射する発光装置が開発されている。このような発光装置は、白熱電球や蛍光灯に代わる照明装置としてその利用が期待されるばかりでなく、画像表示装置の光源としてもその利用が期待されている。
 このような発光装置に用いられる蛍光体として、従来用いられてきた希土類賦活蛍光体に代わり、半導体微粒子蛍光体が注目を集めている。半導体微粒子蛍光体には、従来の蛍光体にはなかった、発光波長を任意に調整できるという特徴がある。そのため、このような半導体微粒子蛍光体を用いた発光装置は、さまざまな発光スペクトルを有することができる。したがって、半導体微粒子蛍光体の利用は、演色性が高く効率のよい発光装置の製造を可能にする技術として期待されている。
 上述した発光ダイオード素子および半導体微粒子蛍光体を備えた発光装置は、現在その開発が進められており、たとえば特開2005-285800公報(特許文献1)等にその具体的な構成が開示されている。上記特開2005-285800公報に開示の発光装置にあっては、青紫色の励起光を出射する発光ダイオード素子と、3種類または4種類の半導体微粒子蛍光体が分散配置されてなる波長変換部材とを組み合わせることで、高い発光効率を実現することが企図されている。
特開2005-285800公報
 しかしながら、上記特開2005-285800公報に開示される発光装置の如く構成を採用した場合には、濃度消光により、十分に高い発光効率を実現することが困難となってしまう。ここで、濃度消光とは、波長変換部材中における半導体微粒子蛍光体の濃度を増加させた場合に、発光効率の飽和が生じる現象のことを意味する。
 そこで、本発明は、上述した問題点を解決すべくなされたものであり、高い発光効率を有する波長変換部材およびこれを備えた発光装置ならびに画像表示装置を提供することを目的とし、また高い発光効率を有する波長変換部材の製造方法を提供することを目的とする。
 本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、波長変換部材中における半導体微粒子蛍光体の分散濃度または/および粒子数に特定の異方性をもたせることにより、高い発光効率を有する波長変換部材とすることができることを明らかにし、本発明を完成させるに至った。
 すなわち、本発明の第1の局面に基づく波長変換部材は、光が入射する入射面および光が出射する出射面を含む光透過性部材と、上記光透過性部材の内部に分散配置され、励起光を吸収して波長変換して発光する半導体微粒子蛍光体とを備えるものであり、上記入射面と上記出射面とを結ぶ方向である光の進行方向に平行な方向における上記半導体微粒子蛍光体の分散濃度が、上記光の進行方向と直交する方向における上記半導体微粒子蛍光体の分散濃度に比べて低いことを特徴とするものである。
 上記本発明の第1の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記半導体微粒子蛍光体が、上記光の進行方向と直交する面内において規則的に配列されていることが好ましく、その場合に、上記半導体微粒子蛍光体が、上記光の進行方向と直交する面内において六方格子状または正方格子状に充填されていることが好ましい。
 上記本発明の第1の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記半導体微粒子蛍光体が、上記光透過性部材の上記入射面側または上記出射面側のいずれかにのみ局在していることが好ましい。
 上記本発明の第1の局面に基づく波長変換部材は、上記半導体微粒子蛍光体として、発光波長の異なる複数種類の半導体微粒子蛍光体を含んでいてもよい。
 上記本発明の第1の局面に基づく波長変換部材が、上記半導体微粒子蛍光体として、発光波長の異なる複数種類の半導体微粒子蛍光体を含んでいる場合には、上記発光波長の異なる複数種類の半導体微粒子蛍光体が、種類毎に分離されて上記光の進行方向に沿って層状に配置されていることが好ましい。その場合には、上記種類毎に分離されて層状に配置されてなる複数種類の半導体微粒子蛍光体の各々の層が、当該層に含まれる半導体微粒子蛍光体の発光波長が上記入射面側から上記出射面側に向かうにつれて短波長になるように配列されているか、あるいは、上記種類毎に分離されて層状に配置されてなる複数種類の半導体微粒子蛍光体の各々の層が、当該層に含まれる半導体微粒子蛍光体の粒子径が上記入射面側から上記出射面側に向かうにつれて小さくなるように配列されているかのいずれかであることが好ましい。
 上記本発明の第1の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記半導体微粒子蛍光体が、励起光を吸収して波長変換することで可視光を発することが好ましい。
 上記本発明の第1の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記光の進行方向に沿っての1μmあたりの吸光度が、0.02以上であることが好ましい。
 上記本発明の第1の局面に基づく波長変換部材は、上記光の進行方向に沿っての厚みが、0.5nm以上50μm以下であるとともに、入射した励起光の90%以上を吸収して波長変換するものであることが好ましい。
 上記本発明の第1の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記半導体微粒子蛍光体が、半導体材料からなるコア部と、当該コア部を覆い、当該コア部とは異なる材料からなるシェル部とを有していることが好ましい。その場合には、上記コア部が、III-V族化合物半導体材料、InP、InN、InPの混晶およびInNの混晶のうちから選択されるいずれかの材料からなることが好ましい。
 本発明の第1の局面に基づく発光装置は、上述した本発明の第1の局面に基づく波長変換部材と、上記波長変換部材の上記入射面に励起光を照射する発光素子とを備えることを特徴とするものである。
 上記本発明の第1の局面に基づく発光装置にあっては、上記発光素子が、半導体発光ダイオード素子または半導体レーザダイオード素子あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子であることが好ましい。
 上記本発明の第1の局面に基づく発光装置にあっては、上記発光素子の発光スペクトルが、350nm以上420nm以下のピーク波長を有しているか、あるいは420nm以上480nm以下のピーク波長を有していることが好ましい。
 本発明の第1の局面に基づく画像表示装置は、画像を表示可能な画像表示部と、上記画像表示部に後方から光を照射する照射部とを備えるものであり、上記画像表示部が、上述した本発明の第1の局面に基づく波長変換部材を含むとともに、上記照射部が、上記波長変換部材の上記入射面に励起光を照射する発光素子を含むことを特徴とするものである。
 本発明の第2の局面に基づく画像表示装置は、画像を表示可能な画像表示部と、上記画像表示部に後方から光を照射する照射部とを備えるものであり、上記照射部が、上述した本発明の第1の局面に基づく波長変換部材と、当該波長変換部材の上記入射面に励起光を照射する発光素子とを含むことを特徴とするものである。
 上記本発明の第1および第2の局面に基づく画像表示装置にあっては、上記発光素子が、半導体発光ダイオード素子または半導体レーザダイオード素子あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子であることが好ましい。
 上記本発明の第1および第2の局面に基づく画像表示装置にあっては、上記発光素子の発光スペクトルが、350nm以上420nm以下のピーク波長を有しているか、あるいは420nm以上480nm以下のピーク波長を有していることが好ましい。
 本発明の第1の局面に基づく波長変換部材の製造方法は、上述した本発明の第1の局面に基づく波長変換部材を製造するための方法であって、上記半導体微粒子蛍光体を製作する工程と、上記半導体微粒子蛍光体を液中に分散させた分散液を作製する工程と、上記分散液中において上記半導体微粒子蛍光体を凝集および沈殿させて自己組織化させる工程とを備えることを特徴とするものである。
 上記本発明の第1の局面に基づく波長変換部材の製造方法にあっては、上記分散液を作製する工程において、上記半導体微粒子蛍光体を分散させる液として揮発性溶剤を用いることが好ましく、その場合に、上記本発明の第1の局面に基づく波長変換部材の製造方法が、さらに、上記半導体微粒子蛍光体を自己組織化させた後に、上記揮発性溶剤を揮発させ、その後自己組織化した上記半導体微粒子蛍光体を光透過性樹脂にて封止する工程を備えていることが好ましい。
 一方、本発明の第2の局面に基づく波長変換部材は、光が入射する入射面および光が出射する出射面を含む波長変換層と、上記波長変換層に位置し、励起光を吸収して波長変換して発光する半導体微粒子蛍光体とを備えるものであり、上記波長変換層が、上記半導体微粒子蛍光体の凝集体にて構成されるとともに、上記入射面と上記出射面とを結ぶ方向である光の進行方向に平行な方向における上記半導体微粒子蛍光体の粒子数が、上記光の進行方向と直交する方向における上記半導体微粒子蛍光体の粒子数に比べて少ないことを特徴とするものである。
 上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記半導体微粒子蛍光体が、上記光の進行方向と平行な方向に複数個積み重なっていることが好ましい。
 上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記半導体微粒子蛍光体が、上記光の進行方向と直交する面内において規則的に配列されていることが好ましく、その場合に、上記半導体微粒子蛍光体が、上記光の進行方向と直交する面内において六方格子状または正方格子状に充填されていることが好ましい。
 上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材は、上記半導体微粒子蛍光体として、発光波長の異なる複数種類の半導体微粒子蛍光体を含んでいてもよい。
 上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材が、上記半導体微粒子蛍光体として、発光波長の異なる複数種類の半導体微粒子蛍光体を含んでいる場合には、上記発光波長の異なる複数種類の半導体微粒子蛍光体が、種類毎に分離されて上記光の進行方向に沿って層状に配置されていることが好ましい。その場合には、上記種類毎に分離されて層状に配置されてなる複数種類の半導体微粒子蛍光体の各々の層が、当該層に含まれる半導体微粒子蛍光体の発光波長が上記入射面側から上記出射面側に向かうにつれて短波長になるように配列されているか、あるいは、上記種類毎に分離されて層状に配置されてなる複数種類の半導体微粒子蛍光体の各々の層が、当該層に含まれる半導体微粒子蛍光体の粒子径が上記入射面側から上記出射面側に向かうにつれて小さくなるように配列されているかのいずれかであることが好ましい。
 上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記半導体微粒子蛍光体が、励起光を吸収して波長変換することで可視光を発することが好ましい。
 上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記光の進行方向に沿っての1μmあたりの吸光度が、0.02以上であることが好ましい。
 上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材は、上記光の進行方向に沿っての厚みが、0.5nm以上50μm以下であるとともに、入射した励起光の90%以上を吸収して波長変換するものであることが好ましい。
 上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記半導体微粒子蛍光体が、半導体材料からなるコア部と、当該コア部を覆い、当該コア部とは異なる材料からなるシェル部とを有していることが好ましい。その場合には、上記コア部が、III-V族化合物半導体材料、InP、InN、InPの混晶およびInNの混晶のうちから選択されるいずれかの材料からなることが好ましい。
 上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材にあっては、上記入射面および上記出射面を覆うように、上記半導体微粒子蛍光体の凝集体にて構成された上記波長変換層が、一対の光透過性部材によって挟み込まれていることが好ましい。
 本発明の第2の局面に基づく発光装置は、上述した本発明の第2の局面に基づく波長変換部材と、上記波長変換部材の上記入射面に励起光を照射する発光素子とを備えることを特徴とするものである。
 上記本発明の第2の局面に基づく発光装置にあっては、上記発光素子が、半導体発光ダイオード素子または半導体レーザダイオード素子あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子であることが好ましい。
 上記本発明の第2の局面に基づく発光装置にあっては、上記発光素子の発光スペクトルが、350nm以上420nm以下のピーク波長を有しているか、あるいは420nm以上480nm以下のピーク波長を有していることが好ましい。
 本発明の第3の局面に基づく画像表示装置は、画像を表示可能な画像表示部と、上記画像表示部に後方から光を照射する照射部とを備えるものであり、上記画像表示部が、上述した本発明の第2の局面に基づく波長変換部材を含むとともに、上記照射部が、上記波長変換部材の上記入射面に励起光を照射する発光素子を含むことを特徴とするものである。
 本発明の第4の局面に基づく画像表示装置は、画像を表示可能な画像表示部と、上記画像表示部に後方から光を照射する照射部とを備えるものであり、上記照射部が、上述した本発明の第2の局面に基づく波長変換部材と、当該波長変換部材の上記入射面に励起光を照射する発光素子とを含むことを特徴とするものである。
 上記本発明の第3および第4の局面に基づく画像表示装置にあっては、上記発光素子が、半導体発光ダイオード素子または半導体レーザダイオード素子あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子であることが好ましい。
 上記本発明の第3および第4の局面に基づく画像表示装置にあっては、上記発光素子の発光スペクトルが、350nm以上420nm以下のピーク波長を有しているか、あるいは420nm以上480nm以下のピーク波長を有していることが好ましい。
 本発明の第2の局面に基づく波長変換部材の製造方法は、上述した本発明の第2の局面に基づく波長変換部材を製造するための方法であって、上記半導体微粒子蛍光体を製作する工程と、上記半導体微粒子蛍光体を液中に分散させた分散液を作製する工程と、上記分散液中において上記半導体微粒子蛍光体を凝集および沈殿させて自己組織化させる工程とを備えることを特徴とするものである。
 上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材の製造方法にあっては、上記分散液を作製する工程において、上記半導体微粒子蛍光体を分散させる液として揮発性溶剤を用いることが好ましく、その場合に、上記本発明の第2の局面に基づく波長変換部材の製造方法が、さらに、上記半導体微粒子蛍光体を自己組織化させた後に上記揮発性溶剤を揮発させることにより、上記半導体微粒子蛍光体の凝集体にて構成された上記波長変換層を製作する工程を備えていることが好ましい。
 本発明によれば、高い発光効率を有する波長変換部材およびこれを備えた発光装置ならびに画像表示装置を提供することができる。
本発明の実施の形態1における波長変換部材の概略斜視図である。 本発明の実施の形態1における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態1における波長変換部材をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 図2および図3に示す半導体微粒子蛍光体の模式断面図である。 図2および図3に示す半導体微粒子蛍光体の模式断面図である。 本発明の実施の形態1における波長変換部材において光が波長変換される様子を模式的に示す図である。 本発明の実施の形態1における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。 本発明の実施の形態2における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態2における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。 本発明の実施の形態3における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態3における波長変換部材をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態3における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。 本発明の実施の形態4における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態5における波長変換部材をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態6における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態6における波長変換部材をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態6における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。 本発明の実施の形態7における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態8における発光装置の模式断面図である。 本発明の実施の形態9における発光装置の模式断面図である。 本発明の実施の形態10における発光装置の模式断面図である。 本発明の実施の形態11における画像表示装置の分解斜視図である。 本発明の実施の形態11における画像表示装置の光変換部の拡大分解斜視図である。 図22に示すカラーフィルタの透過スペクトルを示すグラフである。 本発明の実施の形態12における画像表示装置の分解斜視図である。 本発明の実施の形態12における画像表示装置の光変換部の拡大分解斜視図である。 本発明の実施の形態13における画像表示装置の分解斜視図である。 本発明の実施の形態13における画像表示装置の光変換部の拡大分解斜視図である。 本発明の実施の形態14における画像表示装置の分解斜視図である。 本発明の実施の形態14における画像表示装置の光変換部の拡大分解斜視図である。 実施例A1~A18および比較例A1~A10に係る波長変換部材の組成や製造方法、特性等をまとめた表である。 実施例A1に係る波長変換部材の発光スペクトルを示すグラフである。 実施例A1~A4、実施例A15~A18および比較例A1~A4における、半導体微粒子蛍光体の450nmの青色光に対する吸収率と波長変換部材の内部量子効率(IQE)との相関関係を示すグラフである。 実施例A1~A4、実施例A5~A8および比較例A1~A4における、半導体微粒子蛍光体の450nmの青色光に対する吸収率と波長変換部材の内部量子効率(IQE)との相関関係を示すグラフである。 実施例A1,A9~A11および比較例A1,A5~A7における、半導体微粒子蛍光体の種類の数と波長変換部材の内部量子効率(IQE)との相関関係を示すグラフである。 実施例A1,A12~A14および比較例A1,A8~A10における各種試作結果を示す表である。 種々の半導体微粒子蛍光体を用いて製造した波長変換部材における、半導体微粒子蛍光体の450nmの青色光に対する吸収率と波長変換部材の内部量子効率(IQE)との相関関係を示すグラフである。 実施例B1~B13および比較例B1~B8に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等をまとめた表である。 実施例B1に係る発光装置の発光スペクトルを示すグラフである。 実施例B1,B4~B6における、半導体微粒子蛍光体の種類の数と発光装置の発光効率および演色性指数Raとの相関関係を示すグラフである。 実施例B1,B4~B6における、半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルの半値幅と発光装置の発光効率との相関関係を示すグラフである。 実施例B1,B7~B9および比較例B1~B4における各種試作結果を示す表である。 実施例B1,B10~B13および比較例B1,B5~B8における、発光素子の種類と発光装置の発光効率の相関関係を示すグラフである。 種々の半導体微粒子蛍光体を用いて製造した波長変換部材を含む発光装置の発光効率を示すグラフである。 実施例C1~C11および比較例C1~C10に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等をまとめた表である。 実施例C1に係る画像表示装置に使用した発光装置の発光スペクトルを示すグラフである。 実施例C1,C3~C6および比較例C1~C5における、発光素子の種類と画面輝度との相関関係を示すグラフである。 実施例C7~C10および比較例C6~C9における各種試作結果を示す表である。 実施例C1,C7,C6,C11および比較例C1,C6,C5,C10における、半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルの半値幅と画像表示装置のNTSC比との相関関係を示すグラフである。 種々の半導体微粒子蛍光体を用いて製造した波長変換部材を含む画像表示装置の画面輝度を示すグラフである。 従来例における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 従来例における波長変換部材をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 従来例における波長変換部材において光が波長変換される様子を模式的に示す図である。 従来例における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。 本発明の実施の形態15における波長変換部材の概略斜視図である。 本発明の実施の形態15における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態15における波長変換部材の波長変換層をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。 本発明の実施の形態15における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。
 以下、本発明の実施の形態について、図を参照して詳細に説明する。なお、以下に示す実施の形態においては、本発明が適用された波長変換部材を実施の形態1ないし7および15として例示して説明し、本発明が適用された発光装置を実施の形態8ないし10として例示して説明し、本発明が適用された画像表示装置を実施の形態11ないし14として例示して説明する。
 (実施の形態1)
 図1は、本発明の実施の形態1における波長変換部材の概略斜視図である。図2は、本実施の形態における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。また、図3は、本実施の形態における波長変換部材をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。なお、図2に示す断面は、図1中に示すII-II線に沿った模式切断面である。また、図3に示す断面は、図2中に示すIII-III線に沿った模式切断面である。まず、これら図1ないし図3を参照して、本実施の形態における波長変換部材の構造について説明する。
 図1に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Aは、所定の厚みを有する略直方体形状の部材からなり、入射光の少なくとも一部を吸収して吸収した光とは異なる波長の光を出射する機能を有するものである。波長変換部材10Aは、その一方の主表面を入射面11として有しており、他方の主表面を出射面12として有している。
 波長変換部材10Aの入射面11には、発光素子から出射される励起光100が照射される。入射面11に照射された励起光100は、波長変換部材10Aの内部に導入され、導入された光の一部の波長が波長変換部材10Aの内部において変換される。波長変換部材10Aの出射面12からは、上述した波長変換後の光を含む光が波長変換光200として外部に向けて出射される。
 ここで、図1に示すように、互いに直交する並進3軸(X軸、Y軸およびZ軸)のうち、励起光100および波長変換光200の光軸をZ軸方向に規定すると、上述した入射面11および出射面12は、いずれもZ軸と直交するXY平面にて構成されることになる。
 なお、図示する波長変換部材10Aは、偏平な平板状の外形を有しているが、波長変換部材の形状は、当該形状に限定されるものではなく、平板状以外の態様の直方体形状や円盤状の形状、円柱状の形状、多角柱状の形状等、どのような外形であってもよい。
 図2および図3に示すように、波長変換部材10Aは、光透過性部材13と、半導体微粒子蛍光体14とを主として備えている。半導体微粒子蛍光体14は、波長変換部材10Aの内部に導入された励起光100を吸収してこれを波長変換することで異なる波長の光を発光するものであり、主として半導体微結晶粒子からなる部材である。当該半導体微粒子蛍光体14は、波長変換部材10Aの内部において分散して位置している。一方、光透過性部材13は、半導体微粒子蛍光体14を分散配置させた状態で封止するためのものであり、波長変換部材10Aに導入された励起光100および半導体微粒子蛍光体14から発せされる光を吸収しない部材からなる。
 より詳細には、光透過性部材13としては、好ましくは、水分や酸素を透過しない材料にて構成されていることが好ましい。このように構成すれば、光透過性部材13によって波長変換部材10Aの内部への水分や酸素の進入が防止できるため、半導体微粒子蛍光体14が水分や酸素により影響を受けることを緩和することができ、半導体微粒子蛍光体14の耐久性を向上させることができる。
 上述した条件を満たす光透過性部材13の材料としては、たとえば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、尿素樹脂等の光透過性樹脂材料や、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、イットリア等の光透過性無機材料等が挙げられる。
 図4Aおよび図4Bは、図2および図3に示す半導体微粒子蛍光体の模式断面図である。本実施の形態における波長変換部材に具備される半導体微粒子蛍光体としては、公知の種々の構造のものが利用できるが、以下においては、特に好ましい構造の半導体微粒子蛍光体について、図4Aおよび図4Bを参照して詳細に説明する。
 図4Aに示す半導体微粒子蛍光体20Aは、一般にコア構造と称される構造を有する半導体微粒子蛍光体である。図示するように、コア構造を有する半導体微粒子蛍光体20Aは、発光部であるコア部21を備えている。コア部21は、その粒子径が数nm程度の半導体微結晶粒子からなり、電子と正孔の再結合が生じて発光する部位である。
 また、図示するように、半導体微粒子蛍光体20Aのコア部21の表面には、当該コア部21と結合する有機化合物22が設けられていてもよい。この有機化合物22として適宜の物質を選択すれば、半導体微結晶蛍光体を液体または固体へ分散させる際の分散性を調整することが可能になる。また、有機化合物22として適宜の物質を選択すれば、半導体微粒子蛍光体の内部への電子の閉じ込め機能、半導体微粒子蛍光体が外界から受ける悪影響からの保護機能、および半導体微粒子蛍光体同士の凝集抑制機能等を付加することもできる。
 図4Bに示す半導体微粒子蛍光体20Bは、一般にコア/シェル構造と称される構造を有する半導体微粒子蛍光体である。図示するように、コア/シェル構造を有する半導体微粒子蛍光体20Bは、発光部であるコア部21と、当該コア部21を覆うシェル部23とを備えている。ここで、コア部21は、その粒子径が数nm程度の半導体微結晶粒子からなり、電子と正孔の再結合が生じて発光する部位である。一方、シェル部23は、コア部21とは異なる材料で構成されたものであり、コア部21が外界から受ける悪影響を保護するための保護機能を有する部位である。ここで、シェル部23は、コア部21よりバンドギャップエネルギーが大きい材料にて構成されることが好ましい。そのように構成すれば、半導体微粒子蛍光体の内部への電子および正孔の閉じ込め機能が発揮されることになり、非発光遷移による電子および正孔の損失を低減することが可能となって発光効率が向上することになる。
 また、図示するように、半導体微粒子蛍光体20Bは、シェル部23の表面に当該シェル部23と結合する有機化合物22を備えていてもよい。この有機化合物22として適宜の物質を選択すれば、半導体微粒子蛍光体を液体または固体へ分散させる際の分散性を調整することが可能になる。また、有機化合物22として適宜の物質を選択すれば、半導体微粒子蛍光体の内部への電子の閉じ込め機能、半導体微粒子蛍光体が外界から受ける悪影響からの保護機能、および半導体微粒子蛍光体同士の凝集抑制機能等を付加することもできる。
 なお、その図示は省略するが、本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14としては、上記コア構造およびコア/シェル構造を有する半導体微粒子蛍光体20A,20Bの他にも、マルチシェル構造を有する半導体微粒子蛍光体を利用することができる。このマルチシェル構造を有する半導体微粒子蛍光体の具体例としては、上記コア/シェル構造を有する半導体微粒子蛍光体20Bのシェル部23の外側にさらに他の材料かなるシェル部が設けられてなるコア/シェル/シェル構造や、中央部にシェル部が配置され、これを覆うようにコア部が設けられ、さらにコア部の外側を覆うようにシェル部が設けられてなるシェル/コア/シェル構造等を有する半導体微粒子蛍光体が挙げられる。
 上記コア/シェル/シェル構造を有する半導体微粒子蛍光体を利用した場合には、外側に位置するシェル部が内側に位置するシェル部を保護することになるため、半導体微粒子蛍光体の耐久性が向上することになる。また、上記シェル/コア/シェル構造を有する半導体微粒子蛍光体を利用した場合には、コア部の内側および外側のいずれもがシェル部によって囲まれる構成であるため、上記コア/シェル構造よりもさら高い電子の閉じ込め効果を得ることができ、半導体微粒子蛍光体の発光効率が向上することになる。
 上述した半導体微粒子蛍光体14としては、図2および図3に示す如くの球状の形状のものの他にも、柱状、立方体状、正四面体状等、種々の形状のものが利用でき、特にその形状が制限されるものではない。しかしながら、図示する如くの球状のものを利用すれば、体積に対する表面積の割合が他の形状に比して小さくなるため、表面における非発光遷移の確率が小さくなり、その結果、高い発光効率を有する半導体微粒子蛍光体とすることができる。
 ここで、半導体微粒子蛍光体14に含まれるコア部の形状およびシェル部の形状についても、双方ともに任意の形状が採用できる。ただし、コア部を覆うシェル部の形状としては、コア部の表面のすべてを覆う形状であることが好ましい。これは、そのように構成すれば、コア部の表面に存在する欠陥がシェル部によって覆われることで失活するために、発光効率を高めることが可能になるためである。
 なお、コア部を構成する半導体微結晶粒子は、コロイド粒子またはナノ粒子あるいは量子ドット等と称される場合がある。
 本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14は、従来使用されていた希土類賦活蛍光体等の他の蛍光体に比べ、発光波長を任意に調整できる点に特徴がある。これは、半導体微結晶粒子の粒子径(直径)をボーア半径の2倍以下にまで小さくした場合に生じる、量子閉じ込め効果を利用できるためである。半導体微粒子蛍光体のコア部は、粒子径に応じた量子閉じ込め効果により、コア部のバンドギャップエネルギーが変化する。そのため、粒子径を調整してバンドギャップエネルギーを変化させることにより、発光波長を任意に調整することが可能になる。また、半導体微粒子蛍光体のコア部に混晶材料を用いれば、当該混晶材料の混晶比を調整することで発光波長を任意に調整することもできる。
 また、本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14としては、その用途に応じて如何なる発光波長のものを利用してもよいが、特に発光波長として可視光波長を含むものが好適に利用される。これは、発光波長が可視光波長領域にある半導体微粒子蛍光体を用いることにより、良好な特性を有する波長変換部材や発光装置、画像表示装置等を実現できるためである。なお、半導体微粒子蛍光体14の発光波長の具体例としては、青色発光蛍光体の場合に420~480nm、緑色発光蛍光体の場合に500~565nm、黄色発光蛍光体の場合に565~585nm、赤色発光蛍光体の場合に595~720nmの波長領域が例示される。
 また、本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14としては、その発光スペクトルの半値幅が制限されるものではないが、発光装置の製造の観点からは、半値幅は広いことが好ましい。これは、半導体微粒子蛍光体14の発光スペクトルの半値幅が広い場合には、少ない種類の半導体微粒子蛍光体のみで演色性の高い発光装置を製造できるためである。その場合、発光スペクトルの半値幅の具体例としては、40nm以上であることが好ましく、より好ましくは60nm以上であり、さらに好ましくは80nm以上である。一方、画像表示装置の製造の観点からは、本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14の半値幅は、狭いことが好ましい。これは、半導体微粒子蛍光体14の発光スペクトルの半値幅が狭い場合には、色再現性の高い画像表示装置を製造できるためである。その場合、発光スペクトルの半値幅の具体例としては、80nm以下であることが好ましく、より好ましくは60nm以下であり、さらに好ましくは40nm以下である。
 また、本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14としては、当該半導体微粒子蛍光体14に含まれるコア部のバンドギャップエネルギーが制限されるものではないが、より好ましくは、2.9eV以下のものが利用される。これは、半導体微粒子蛍光体のコア部のバンドギャップエネルギーが、2.9eVを超えた場合には、人間の視感度が大幅に低下してしまうため、波長変換部材や発光装置、画像表示装置等の光学特性が悪化するためである。
 また、本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14としては、その平均粒子径が制限されるものではないが、より好ましくは、コア部の平均粒子径がボーア半径の2倍以下のものが利用される。これは、上述したように、コア部の平均粒子径をボーア半径の2倍以下とすることにより、高い量子閉じ込め効果が得られるためであり、バンドギャップエネルギーを容易に調整することができるようになるためである。なお、コア部に使用される代表的な材料であるInP、InN、CdSeのボーア半径は、それぞれ8.3nm、7.0nm、4.9nmである。
 ここで、半導体微粒子蛍光体のコア部の粒子径のばらつきは、半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルに大きな影響を与える。具体的には、半導体微粒子蛍光体のコア部の粒子径のばらつきが大きい場合には、半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルの半値幅は大きくなり、逆に半導体微粒子蛍光体のコア部の粒子径のばらつきが小さい場合には、半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルの半値幅は小さくなる。したがって、その用途に応じて必要とされる半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルの半値幅が得られるように、粒子径分布を調整することが好ましい。
 なお、半導体微粒子蛍光体のコア部の平均粒子径および粒子径分布を調整する方法としては、従来公知の分級方法を用いることができ、このような分級方法としては、たとえば電気泳動法やサイズ選択沈殿法、光アシストエッチング法等を利用することができる。
 また、本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14としては、当該半導体微粒子蛍光体14に含まれるシェル部のバンドギャップエネルギーが制限されるものではないが、コア部のハンドギャップエネルギーよりも大きいことが好ましい。このように構成すれば、光吸収により発生した励起子をコア部に閉じ込める効果を高く得ることができ、効率よく半導体微粒子蛍光体が発光することになる。
 本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14のコア部の材料としては、たとえばIV族半導体やIV-IV族半導体材料、III-V族化合物半導体材料、II-VI族化合物半導体材料、I-VIII族化合物半導体材料、IV-VI族化合物半導体材料等が例示される。また、コア部の材料としては、混在する結晶が1種の元素からなる単体半導体や2種の元素からなる2元化合物半導体、3種以上の元素からなる混晶半導体を利用することができる。ただし、波長変換部材や発光装置、画像表示装置の発光効率を高めるという観点からは、直接遷移型半導体材料から構成される半導体微粒子を用いてコア部が構成されていることが好ましい。
 また、コア部を構成する半導体微粒子としては、上述したように可視光を発するものを利用することが好ましい。また、耐久性の観点からは、原子の結合力が強く化学的安定性が高いIII-V族化合物半導体材料を用いることが好ましい。また、半導体微粒子蛍光体14の発光スペクトルのピーク波長の調整を容易にするためには、上述したように混晶半導体材料を用いてコア部を構成することが好ましい。一方で、より製造を容易にするためには、4元以下の混晶からなる半導体微粒子蛍光体を用いてコア部を構成することが好ましい。
 上述した半導体微粒子蛍光体14のコア部として用いることのできる2元化合物からなる半導体材料としては、たとえばInPやInN、InAs、GaAs、CdSe、CdTe、ZnSe、ZnTe、PbS、PbSe、PbTe、CuCl等を挙げることができる。ただし、人体への安全性や環境負荷の観点からは、コア部の材料としてInP、InNを用いることが好ましい。また、製造の容易さの観点からは、コア部の材料としてCdSe、CdTeを用いることが好ましい。
 また、上述した半導体微粒子蛍光体14のコア部として用いることのできる3元混晶の半導体材料としては、たとえばInGaPやAlInP、InGaN、AlInN、ZnCdSe、ZnCdTe、PbSSe、PbSTe、PbSeTe等を挙げることができる。ここで、環境に調和した材料であるとともに外界の影響を受けにくい半導体微粒子蛍光体を製作するためには、InGaPまたはInGaNからなるIII-V族混晶半導体微粒子を用いてコア部を構成することが好ましい。
 本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14のシェル部の材料としては、たとえばIV族半導体やIV-IV族半導体材料、III-V族化合物半導体材料、II-VI族化合物半導体材料、I-VIII族化合物半導体材料、IV-VI族化合物半導体材料等が例示される。また、シェル部の材料としては、混在する結晶が1種の元素からなる単体半導体や2種の元素からなる2元化合物半導体、3種以上の元素からなる混晶半導体を利用することができる。ただし、波長変換部材や発光装置、画像表示装置の発光効率を高めるという観点からは、シェル部の材料としてコア部の材料よりも高いバンドギャップエネルギーを有する半導体材料を使用することが好ましい。
 また、シェル部を構成する半導体微粒子としては、上述したコア部の保護機能の観点から、原子の結合力が強く化学的安定性が高いIII-V族化合物半導体材料を用いることが好ましい。一方、より製造を容易にするためには、4元以下の混晶からなる半導体微粒子蛍光体を用いてシェル部を構成することが好ましい。
 上述した半導体微粒子蛍光体14のシェル部として用いることのできる2元化合物からなる半導体材料としては、たとえばAlPやGaP、AlN、GaN、AlAs、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、MgO、MgS、MgSe、MgTe、CuCl等を挙げることができる。ただし、人体への安全性や環境負荷の観点からは、シェル部の材料としてAlP、GaP、AlN、GaN、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、MgO、MgS、MgSe、MgTe、CuCl、SiCを用いることが好ましい。
 また、上述した半導体微粒子蛍光体14のコア部として用いることのできる3元混晶の半導体材料としては、たとえばAlGaNやGaInN、ZnOS、ZnOSe、ZnOTe、ZnSSe、ZnSTe、ZnSeTe等を挙げることができる。ここで、環境に調和した材料であるとともに外界の影響を受けにくい半導体微粒子蛍光体を製作するためには、AlGaN、GaInN、ZnOS、ZnOTe、ZnSTeを用いてシェル部を構成することが好ましい。
 また、本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14の表面に結合される有機化合物の材料としては、機能部であるアルキル基と上記コア部またはシェル部との結合部からなる有機化合物が好ましく、具体例としては、アミン化合物やホスフィン化合物、ホスフィンオキシド化合物、チオール化合物、脂肪酸等が例示される。
 ここで、ホスフィン化合物の一例としては、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィン等が挙げられる。
 また、ホスフィンオキシド化合物の一例としては、1-ジクロロホスフィノルヘプタン、1-ジクロロホスフィノルノナン、t-ブチルホスホン酸、テトラデシルホスホン酸、ドデシルジメチルホスフィンオキシド、ジオクチルホスフィンオキシド、ジデシルホスフィンオキシド、トリブチルホスフィンオキシド、トリペンチルホスフィンオキシド、トリヘキシルホスフィンオキシド、トリオクチルホスフィンオキシド等が挙げられる。
 また、チオール化合物の一例としては、トリブチルサルファイド、トリヘキシルサルファイド、トリオクチルサルファイド、1-ヘプチルチオール、1-オクチルチオール、1-ノナンチオール、1-デカンチオール、1-ウンデカンチオール、1-ドデカンチオール、1-トリデカンチオール、1-テトラデカンチオール、1-ペンタデカンチオール、1-ヘキサデカンチオール、1-オクタデカンチオール、ジヘキシルサルファイド、ジヘプチルサルファイド、ジオクチルサルファイド、ジノニルサルファイド等が挙げられる。
 また、アミン化合物の一例としては、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、ジオクチルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン等が挙げられる。
 また、脂肪酸の一例としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイル酸等が挙げられる。
 本実施の形態における波長変換部材10Aに具備される半導体微粒子蛍光体14の製作方法としては、従来既知の各種の合成方法が利用でき、たとえば気相合成法や液相合成法、固相合成法、真空合成法等を利用することができる。ただし、大量生産に対応することができるという観点からは、液相合成法を利用することが好ましく、また液相合成法のなかでも高い発光効率の半導体微粒子蛍光体を合成できるという観点から、特にホットソープ法、逆ミセル法、ソルボサーマル法、ハイドロサーマル法、共沈法等の合成方法を利用することが好ましい。
 なお、上述した光透過性部材を構成する材料を特定する方法としては、X線光電子分光法等を利用することができる。
 また、上述した半導体微粒子蛍光体の構造を調べる方法としては、種々の方法が適用でき、好適には、透過型電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Microscope)による直接観察が利用できる。
 また、上述した半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルのピーク波長や半値幅を確かめる方法としては、フォトルミネッセンス測定、カソードルミネッセンス測定、エレクトロルミネッセンス測定等を実施して発光スペクトルを測定することにより、そのピーク波長や半値幅を算出する方法が例示される。
 また、上述した半導体微粒子蛍光体の吸収特性を確かめる方法としては、種々の方法が適用でき、好適には、分光光度計による吸収スペクトルの測定が利用できる。
 また、上述した半導体微粒子蛍光体のコア部のバンドギャップエネルギーを確かめる方法としては、コア部の材料と平均粒子径とを特定してこれらに基づいて計算で求める方法や、発光特性および吸収特性から特定する方法等が例示される。
 また、上述した半導体微粒子蛍光体のコア部の平均粒子径を求める方法としては、動的散乱法(DLS)や、粉末X線回折(XRD:X-Ray Diffraction)装置により測定する方法や、透過型電子顕微鏡による直接観察を利用する方法が例示される。ここで、粉末X線回折装置を利用する場合には、得られた結晶の回折ピークの半値幅からScherrer式を用いて結晶の平均粒子径を求めることができる。また、透過型電子顕微鏡を利用する場合には、たとえば任意の20個の粒子径を測定して統計処理を行なうことにより、平均粒子径を算出することができる。
 また、上述した半導体微粒子蛍光体のシェル部のバンドギャップエネルギーを確かめる方法としては、シェル部の材料を特定してこれに基づいて計算で求める方法や、発光特性および吸収特性から特定する方法等が例示される。
 また、上述した半導体微粒子蛍光体のコア部および/またはシェル部を構成する材料を特定する方法としては、粉末X線回折法、電子線回折法、X線光電子分光法等が利用できる。
 また、上述した半導体微粒子蛍光体を覆う有機化合物の材料を確かめる方法としては、赤外分光法(IR)や核磁気共鳴法(NMR)等を利用することができる。
 図2および図3に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Aにあっては、半導体微粒子蛍光体14として2種の半導体微粒子蛍光体14a,14bが含まれている。半導体微粒子蛍光体14aは、吸収した励起光100を波長変換して長波長蛍光を発するものであり、半導体微粒子蛍光体14bは、吸収した励起光100を波長変換して短波長蛍光を発するものである。これら長波長蛍光を発する半導体微粒子蛍光体14aおよび短波長蛍光を発する半導体微粒子蛍光体14bは、いずれも光透過性部材13中に分散配置されている。
 ここで、本実施の形態における波長変換部材10Aにあっては、光透過性部材13中に分散配置された半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度に特定の異方性がもたされている。すなわち、本実施の形態における波長変換部材10Aにあっては、当該波長変換部材10Aの内部において、単位長さ当たりに存在する半導体微粒子蛍光体14,14bの量が方向によって異ならしめられている。より詳細には、図2に示すように、波長変換部材10Aの入射面11と出射面12とを結ぶ方向である光の進行方向に平行な方向(すなわちZ軸方向)における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度が、上記光の進行方向に直交する方向(すなわちXY平面内に含まれる方向)における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度よりも低くなっている。
 具体的には、波長変換部材10Aが、Z軸方向に沿って3つの領域15a,15b,15cを有しており、このうちの入射面11側に位置する領域15aと出射面12側に位置する領域15cとに半導体微粒子蛍光体14a,14bがそれぞれ分散配置されており、これら領域15a,15cの間に位置する領域15bには、半導体微粒子蛍光体14a,14bが分散配置されていない。これにより、上述した如くの半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度の異方性が実現されている。
 以上のように構成することにより、本実施の形態における波長変換部材10Aにあっては、従来の波長変換部材に比較して半導体微粒子蛍光体による励起光の吸収率を高めつつ濃度消光の発生を抑制して高い発光効率を実現可能としている。
 図5は、本実施の形態における波長変換部材において光が波長変換される様子を模式的に示す図である。また、図50は、従来例における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図であり、図51は、従来例における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。また、図52は、従来例における波長変換部材において光が波長変換される様子を模式的に示す図である。なお、図51に示す断面は、図50中に示すLI-LI線に沿った模式切断面である。以下においては、これら図5および図50ないし図52を参照して、本実施の形態における波長変換部材と従来例における波長変換部材とを比較しつつ、本実施の形態における波長変換部材が従来例における波長変換部材よりも高い発光効率を有する理由について説明する。
 図50および図51に示すように、従来例における波長変換部材10Xにあっては、光透過性部材13中に分散配置された半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度に上述した如くの特定の異方性はなく、波長変換部材10X中における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度が、実質的に全体にわたって均一となっていた。
 そのため、図52に示すように、波長変換部材10Xの入射面11に励起光100が照射されると、以下のような現象が生じる。すなわち、励起光100のうちの一部の光は、図中矢印101,201に示すように、半導体微粒子蛍光体14a,14bのいずれにも吸収されずに光透過性部材13をそのまま透過する。また、励起光100のうちの一部の光は、図中矢印102,202および図中矢印103,203に示すように、半導体微粒子蛍光体14a,14bのいずれかに吸収されて蛍光に波長変換されて光透過性部材13を通過する。また、励起光100のうちの一部の光は、図中矢印104,204および図中矢印105,205に示すように、一度半導体微粒子蛍光体14a,14bに吸収されて蛍光に波長変換された後に、再度別の半導体微粒子蛍光体14a,14bに吸収され、場合によっては再々度別の半導体微粒子蛍光体14a,14bに吸収されて光透過性部材13を通過する。そして、光透過性部材13を通過した上記光が、波長変換部材10Xの出射面12から出射されて混合されることにより、波長変換光200として外部に照射されることになる。
 ここで、半導体微粒子蛍光体は、吸収した光をすべて波長変換して再び発するわけではなく、吸収した光の一部は損失となって失われる。そのため、上述した光の再吸収(すなわち、一度半導体微粒子蛍光体に吸収されて発せされた光が再度別の半導体微粒子蛍光体に吸収される現象)が多く起こった場合には、波長変換部材自体の発光効率が大幅に低下してしまうことになる。
 一方で、波長変換部材を利用して効率的に励起光を波長変換光に変換させるためには、半導体微粒子蛍光体に吸収される割合を高めることが必要不可欠である。そのためには、光透過性部材中に分散配置される半導体微粒子蛍光体の濃度を増加させることが考えられるが、そのように構成すれば上述した光の再吸収が起こり易くなってしまう。したがって、上述した従来例における波長変換部材10Xにあっては、半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度を増加させても濃度消光が生じて発光効率が飽和し、発光効率のさらなる改善が行なえないこととなっていた。
 これに対し、本実施の形態における波長変換部材10Aにあっては、上述した如くの半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度の異方性を有しているため、波長変換部材10Aの入射面11に励起光100が照射された場合にも、上述した光の再吸収が生じる割合が低下することになる。すなわち、図5に示すように、図中矢印101,102に示すように、半導体微粒子蛍光体14a,14bのいずれにも吸収されずに光透過性部材13をそのまま透過する光や、図中矢印102,202および図中矢印103,203に示すように、半導体微粒子蛍光体14a,14bのいずれかに吸収されて蛍光に波長変換されて再吸収されずにそのまま光透過性部材13を通過する光が支配的となる。
 ここで、光透過性部材13中に分散配置される半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度を増加させた場合にも、領域15a,15cにおいてXY面内方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度を高めることにより、Z軸方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度が低くても、効率的に励起光100を波長変換光に変換させることができる。したがって、本実施の形態における波長変換部材10Aとすることにより、従来例における波長変換部材10Xよりも高い発光効率を得ることができる。
 なお、上述した本実施の形態における波長変換部材10Aにおいても、含有する半導体微粒子蛍光体14の種類や数、濃度、波長変換部材10Aに入射される励起光100の種類等を適宜調整(半導体微粒子蛍光体14の濃度については、異方性をもたせることを十分に考慮して調整)することにより、波長変換部材10Aから出射される波長変換光200の光量やスペクトルを自在に調整することができる。
 図6は、本発明の実施の形態1における波長変換部材の製造方法を示すフロー図であり、図53は、上述した従来例における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。次に、これら図6および図53を参照して、本実施の形態における波長変換部材の製造方法を、従来例における波長変換部材の製造方法と比較して説明する。
 図53に示すように、従来例における波長変換部材10Xを製造するにあたっては、まず、ステップS1において、半導体微粒子蛍光体を製作する。半導体微粒子蛍光体の製作方法としては、上述した既知の合成方法(たとえば液相合成法等)が利用できる。
 次に、ステップS2において、半導体微粒子蛍光体を液状樹脂に添加して分散させることにより、半導体微粒子蛍光体が液状樹脂中において分散した混合液を作製する。ここで、使用する樹脂としては、硬化後において光透過性を有するたとえばシリコーン樹脂等を用いる。
 次に、ステップS3において、混合液を成形用の型等に流し込み、混合液中に含まれる液状樹脂を硬化させる。
 以上により、図50および図51に示す如くの、半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度が実質的に全体にわたって均一である、従来例における波長変換部材10Xの製造が完了する。
 一方、図6に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Aを製造するにあたっては、まず、ステップS101において、半導体微粒子蛍光体を製作する。半導体微粒子蛍光体の製作方法としては、上述した既知の合成方法(たとえば液相合成法等)が利用できる。
 次に、ステップS102において、半導体微粒子蛍光体を液状樹脂に添加して分散させることにより、半導体微粒子蛍光体が液状樹脂中において分散した混合液を作製し、作製した混合液を所定量ずつに取り分ける。ここで、使用する樹脂としては、硬化後において光透過性を有するたとえばシリコーン樹脂等を用いる。
 次に、ステップS103において、取り分けた一方の混合液中に含まれる液状樹脂を硬化させる。これにより、図2に示す領域15aが形成されることになる。
 次に、ステップS104において、上記硬化後の部材の主表面上に所定量の液状樹脂を塗布し、塗布した液状樹脂を硬化させる。これにより、図2に示す領域15bが形成されることになる。
 次に、ステップS105において、上記硬化後の部材の主表面上に取り分けた他方の混合液を塗布し、塗布した他方の混合液中に含まれる液状樹脂を硬化させる。これにより、図2に示す領域15cが形成されることになる。
 以上により、図1ないし図3に示す如くの、半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度に特定の異方性を有する、本実施の形態における波長変換部材10Aの製造が完了する。
 以上において説明したように、本実施の形態における波長変換部材10Aの如くの構造およびその製造方法を採用することにより、従来に比して発光効率の向上が図られた波長変換部材とすることができる。
 (実施の形態2)
 図7は、本発明の実施の形態2における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。また、図8は、本実施の形態における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。次に、これら図7および図8を参照して、本実施の形態における波長変換部材の構造および製造方法について説明する。なお、上述した本発明の実施の形態1と同様の部分については図中同一の符号を付し、その説明はここでは繰り返さない。
 図7に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Bにあっても、光透過性部材13中に分散配置された半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度に上記特定の異方性がもたされており、波長変換部材10BのZ軸方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度が、XY平面内に含まれる方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度よりも低くなっている。
 より具体的には、波長変換部材10Bが、Z軸方向に沿って濃度の異なる2つの領域15a,15dを有しており、このうちの入射面11側に位置する領域15aにおいて半導体微粒子蛍光体14a,14bが高濃度に分散配置されており、出射面12側に位置する領域15dにおいて半導体微粒子蛍光体14a,14bが低濃度に分散配置されている。これにより、上述した如くの半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度の異方性が実現されている。
 このような構造の波長変換部材10Bを製造するにあたっては、図8に示すように、まず、ステップS201において、半導体微粒子蛍光体14a,14bを製作する。半導体微粒子蛍光体の製作方法としては、上述した既知の合成方法(たとえば液相合成法等)が利用できる。
 次に、ステップS202において、半導体微粒子蛍光体を液状樹脂に添加して分散させることにより、半導体微粒子蛍光体が液状樹脂中において高濃度に分散した高濃度混合液と、半導体微粒子蛍光体が液状樹脂中において低濃度に分散した低濃度混合液とをそれぞれ作製する。ここで、使用する樹脂としては、硬化後において光透過性を有するたとえばシリコーン樹脂等を用いる。
 次に、ステップS203において、高濃度混合液中に含まれる液状樹脂を硬化させる。これにより、図7に示す領域15aが形成されることになる。
 次に、ステップS204において、上記硬化後の部材の主表面上に低濃度混合液を塗布し、塗布した低濃度混合液中に含まれる液状樹脂を硬化させる。これにより、図7に示す領域15dが形成されることになる。
 以上により、図7に示す如くの、半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度に特定の異方性を有する、本実施の形態における波長変換部材10Bの製造が完了する。
 以上において説明したように、本実施の形態における波長変換部材10Bの如くの構造およびその製造方法を採用することにより、上述した本発明の実施の形態1の場合と同様に、従来に比して発光効率の向上が図られた波長変換部材とすることができる。
 (実施の形態3)
 図9は、本発明の実施の形態3における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。図10は、本実施の形態における波長変換部材をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。また、図11は、本実施の形態における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。なお、図10に示す断面は、図9中に示すX-X線に沿った模式切断面である。次に、これら図9ないし図10を参照して、本実施の形態における波長変換部材の構造および製造方法について説明する。なお、上述した本発明の実施の形態1と同様の部分については図中同一の符号を付し、その説明はここでは繰り返さない。
 図9に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Cにあっても、光透過性部材13中に分散配置された半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度に上記特定の異方性がもたされており、波長変換部材10CのZ軸方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度が、XY平面内に含まれる方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度よりも低くなっている。
 より具体的には、波長変換部材10Cが、Z軸方向に沿って2つの領域16a,16bを有しており、このうちの入射面11側に位置する領域16aにおいて半導体微粒子蛍光体14a,14bが分散配置されており、出射面12側に位置する領域16bにおいて半導体微粒子蛍光体14a,14bが分散配置されていない。すなわち、半導体微粒子蛍光体14a,14bが、光透過性部材13の入射面11側に局在している。これにより、上述した如くの半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度の異方性が実現されている。
 ここで、本実施の形態における波長変換部材10Cにあっては、図10に示すように、半導体微粒子蛍光体14a,14bとしてほぼ同等の粒子径を有するものが用いられ、上記領域16aのXY平面内において半導体微粒子蛍光体14a,14bが六方格子状に規則的に配列されている。このように構成された波長変換部材10Cにあっては、半導体微粒子蛍光体14a,14bがXY面内方向において最密充填された状態にあるため、当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度を最大限にまで高めることが可能になる。したがって、Z軸方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度とXY面内方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度との差を大きく異ならしめることが可能となり、光の再吸収を抑制しつつ発光効率を大幅に高めることが可能となる。
 このような構造の波長変換部材10Cを製造するにあたっては、図11に示すように、まず、ステップS301において、半導体微粒子蛍光体14a,14bを製作する。半導体微粒子蛍光体の製作方法としては、上述した既知の合成方法(たとえば液相合成法等)が利用できる。
 次に、ステップS302において、半導体微粒子蛍光体を揮発性溶剤に添加して分散させることにより、半導体微粒子蛍光体が揮発性溶剤中において分散した分散液を作製する。ここで、使用する揮発性溶剤としては、たとえばトルエン、ヘキサン、エタノール等に代表される有機溶剤等が使用可能である。
 次に、ステップS303において、分散液中に含まれる半導体微粒子蛍光体を凝集および沈殿させ、その後、分散液中に含まれる揮発性溶剤を揮発させる。このステップS303における半導体微粒子蛍光体の凝集および沈殿過程においては、半導体微粒子蛍光体の自己組織化(自己配列とも称される)が起こる。
 ここで、自己組織化とは、微粒子が安定化するために凝集する際に、自立的に秩序構造を形成することを意味する。より詳細には、微粒子が分散した系においては、微粒子の体積に対する表面積の割合が非常に大きいため、表面エネルギーが安定化するように、分散した微粒子の表面積が最も小さくなるように微粒子同士が凝集し、結果として規則的な微粒子の配列が生じるが、この現象を自己組織化と呼ぶ。この半導体微粒子蛍光体の自己組織化により、上述した如くの六方格子状等の半導体微粒子蛍光体の規則的な配列が実現されることになる。
 次に、ステップS304において、沈殿および凝集させた半導体微粒子蛍光体(すなわち自己組織化した半導体微粒子蛍光体)を封止するように液状樹脂を塗布し、塗布した液状樹脂を硬化させる。ここで、使用する樹脂としては、硬化後において光透過性を有するたとえばシリコーン樹脂等を用いる。これにより、図7に示す領域16aおよび16bが形成されることになる。
 以上により、図9に示す如くの、半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度に特定の異方性を有する、本実施の形態における波長変換部材10Cの製造が完了する。
 以上において説明したように、本実施の形態における波長変換部材10Cの如くの構造およびその製造方法を採用することにより、上述した本発明の実施の形態1の場合と同様に、従来に比して発光効率の向上が図られた波長変換部材とすることができる。特に、上述した半導体微粒子蛍光体の自己組織化作用を利用することにより、従来に比して大幅に発光効率の向上が図られた波長変換部材とすることができる。
 なお、上述した波長変換部材10Cの領域16aにおける半導体微粒子蛍光体14a,14bの立体的な充填構造としては、六方最密充填構造や立方最密充填等の最密充填構造であってもよいし、これら以外の非最密充填構造であってもよい。また、立体的な充填構造を有さずに単一の層として半導体微粒子蛍光体14a,14bが配列されていてもよい。
 また、上述した本実施の形態における波長変換部材10Cにあっては、半導体微粒子蛍光体14a,14bを光透過性部材13の入射面11側に局在させた場合を例示したが、当然に半導体微粒子蛍光体14a,14bを光透過性部材13の出射面12側に局在させることとしてもよい。
 (実施の形態4)
 図12は、本発明の実施の形態4における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。次に、この図12を参照して、本実施の形態における波長変換部材の構造について説明する。なお、上述した本発明の実施の形態3と同様の部分については図中同一の符号を付し、その説明はここでは繰り返さない。
 図12に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Dにあっても、光透過性部材13中に分散配置された半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度に上記特定の異方性がもたされており、波長変換部材10CのZ軸方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度が、XY平面内に含まれる方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度よりも低くなっている。
 より具体的には、波長変換部材10Dが、Z軸方向に沿って4つの領域17a,17b,17c,17dを有しており、このうちの入射面11側に位置する領域17aおよびZ軸方向の一方の中間位置にある領域17cにおいて半導体微粒子蛍光体14a,14bが分散配置されており、出射面12側に位置する領域17dおよびZ軸方向の他方の中間位置にある領域17bにおいて半導体微粒子蛍光体14a,14bが分散配置されていない。これにより、上述した如くの半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度の異方性が実現されている。
 ここで、本実施の形態における波長変換部材10Dにあっても、半導体微粒子蛍光体14a,14bとしてほぼ同等の粒子径を有するものが用いられ、上記領域17aのXY平面内および上記領域17cのXY平面内において半導体微粒子蛍光体14a,14bが六方格子状に規則的に配列されている。このように構成された波長変換部材10Dにあっても、Z軸方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度とXY面内方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度との差を大きく異ならしめることが可能となり、光の再吸収を抑制しつつ発光効率を大幅に高めることが可能となる。なお、当該波長変換部材10Dの具体的な製造方法は、上記本発明の実施の形態3において説明した製造方法に準じるものであり、その説明は省略する。
 (実施の形態5)
 図13は、本発明の実施の形態5における波長変換部材をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。次に、この図13を参照して、本実施の形態における波長変換部材の構造について説明する。なお、上述した本発明の実施の形態3と同様の部分については図中同一の符号を付し、その説明はここでは繰り返さない。
 本実施の形態における波長変換部材10Eにあっては、上述した本発明の実施の形態3における波長変換部材10Cと、領域17aに含まれるXY平面内における半導体微粒子蛍光体14a,14bの配列においてのみ相違する。図13に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Eにあっては、当該XY平面内における半導体微粒子蛍光体14a,14bが立方格子状に規則的に配列されている。ここで、半導体微粒子蛍光体14a,14bが六方格子状に配列されるか立方格子状に配列されるかは、主として半導体微粒子蛍光体14a,14bの粒子径によるところが大きく、自己組織化の際にこれらの粒子径に基づいて決定される。
 このように構成された波長変換部材10Eにあっても、Z軸方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度とXY面内方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの濃度との差を大きく異ならしめることが可能となり、光の再吸収を抑制しつつ発光効率を大幅に高めることが可能となる。なお、当該波長変換部材10Eの具体的な製造方法は、上記本発明の実施の形態3において説明した製造方法に準じるものであり、その説明は省略する。
 なお、上述した波長変換部材10Eの領域17aにおける半導体微粒子蛍光体14a,14bの立体的な充填構造としては、最密充填構造であっても非最密充填構造であってもよい。また、図示する如く立体的な充填構造を有さずに単一の層として半導体微粒子蛍光体14a,14bが配列されていてもよい。
 (実施の形態6)
 図14は、本発明の実施の形態6における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。図15は、本実施の形態における波長変換部材をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。また、図16は、本実施の形態における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。なお、図15に示す断面は、図14中に示すXV-XV線に沿った模式切断面である。次に、これら図14ないし図15を参照して、本実施の形態における波長変換部材の構造および製造方法について説明する。なお、上述した本発明の実施の形態3と同様の部分については図中同一の符号を付し、その説明はここでは繰り返さない。
 図14に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Fにあっても、光透過性部材13中に分散配置された半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度に上記特定の異方性がもたされており、波長変換部材10FのZ軸方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度が、XY平面内に含まれる方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度よりも低くなっている。
 より具体的には、本実施の形態における波長変換部材10Fにあっては、半導体微粒子蛍光体14a,14bが種類毎に分離されてZ軸方向に層状に積層配置されている。すなわち、波長変換部材10Fが、Z軸方向に沿って3つの領域18a,18b,18cを有しており、このうちの入射面11側に位置する領域18aにおいて半導体微粒子蛍光体14aのみが分散配置されており、Z軸方向における中間位置にある領域18bにおいて半導体微粒子蛍光体14bのみが分散配置されており、出射面12側に位置する領域18cにおいて半導体微粒子蛍光体14a,14bのいずれもが分散配置されていない。したがって、図15に示すように、領域18a内には、半導体微粒子蛍光体14aの一種のみが分散配置されている。なお、その図示は省略するが、領域18b内には、もう一方の半導体微粒子蛍光体14bの一種のみが分散配置されている。これにより、上述した如くの半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度の異方性が実現されている。
 ここで、本実施の形態における波長変換部材10Fにあっては、高波長蛍光を発する半導体微粒子蛍光体14aが光透過性部材13の入射面11側に層状に分散配置されており、低波長蛍光を発する半導体微粒子蛍光体14bが、上記高波長蛍光を発する半導体微粒子蛍光体14aよりも光透過性部材13の出射面12側に層状に分散配置されている。
 このように、半導体微粒子蛍光体14のZ軸方向の配列を、各層(各領域)に含まれる半導体微粒子蛍光体14の発光波長が光透過性部材13の入射面11側から出射面12側に向かうにつれて小さくなるように構成されていることにより、光の再吸収が抑制されて波長変換部材の発光効率をより高めることが可能になる。
 これは、一般に、半導体微粒子蛍光体は、発光波長より短波長の光を吸収する特性があるためである。たとえば、長波長で発光する赤色半導体微粒子蛍光体と短波長で発光する緑色半導体微粒子蛍光体が存在したと仮定すると、発光波長の短い緑色半導体微粒子蛍光体の蛍光は、赤色半導体微粒子蛍光体に吸収されるが、発光波長の長い赤色半導体微粒子蛍光体の蛍光は、緑色半導体微粒子蛍光体に吸収されず透過する。したがって、上記のように構成することにより、光の再吸収が抑制されることになる。
 このような構造の波長変換部材10Fを製造するにあたっては、図16に示すように、まず、ステップS401において、発光波長の異なる2種類の半導体微粒子蛍光体を製作する。半導体微粒子蛍光体の製作方法としては、上述した既知の合成方法(たとえば液相合成法等)が利用できる。
 次に、ステップS402において、半導体微粒子蛍光体を揮発性溶剤に添加して分散させることにより、一方の種類の半導体微粒子蛍光体が揮発性溶剤中において分散した分散液と、他方の種類の半導体微粒子蛍光体が揮発性溶剤中において分散した分散液とをそれぞれ作製する。ここで、使用する揮発性溶剤としては、たとえばトルエンに代表される有機溶剤等が使用可能である。
 次に、ステップS403において、一方の分散液中に含まれる半導体微粒子蛍光体を凝集および沈殿させ、その後、当該一方の分散液中に含まれる揮発性溶剤を揮発させる。このステップS403における半導体微粒子蛍光体の凝集および沈殿過程においては、半導体微粒子蛍光体の自己組織化が起こる。
 次に、ステップS404において、沈殿および凝集させた半導体微粒子蛍光体を封止するように液状樹脂を塗布し、塗布した液状樹脂を硬化させる。ここで、使用する樹脂としては、硬化後において光透過性を有するたとえばシリコーン樹脂等を用いる。これにより、図7に示す領域18aが形成されることになる。
 次に、ステップS405において、上記硬化後の部材の主表面上に他方の分散液を塗布し、塗布した他方の分散液中に含まれる半導体微粒子蛍光体を凝集および沈殿させ、その後、当該他方の分散液中に含まれる揮発性溶剤を揮発させる。このステップS405における半導体微粒子蛍光体の凝集および沈殿過程においては、半導体微粒子蛍光体の自己組織化が起こる。
 次に、ステップS406において、沈殿および凝集させた半導体微粒子蛍光体を封止するように液状樹脂を塗布し、塗布した液状樹脂を硬化させる。ここで、使用する樹脂としては、硬化後において光透過性を有するたとえばシリコーン樹脂等を用いる。これにより、図14に示す領域18b,18cが形成されることになる。
 以上により、図14に示す如くの、半導体微粒子蛍光体14a,14bの分散濃度に特定の異方性を有する、本実施の形態における波長変換部材10Fの製造が完了する。
 以上において説明したように、本実施の形態における波長変換部材10Fの如くの構造およびその製造方法を採用することにより、上述した本発明の実施の形態3の場合と同様に、従来に比して大幅に発光効率の向上が図られた波長変換部材とすることができる。特に、上述の如くの半導体微粒子蛍光体の配列を採用することにより、従来に比して飛躍的に発光効率の向上が図られた波長変換部材とすることができる。
 なお、上述した本実施の形態における波長変換部材10Fにあっては、2種類の半導体微粒子蛍光体を分離して層状に積層配置した場合を例示して説明を行なったが、3種類または4種類あるいはそれ以上の半導体微粒子蛍光体をそれぞれ分離して層状に積層配置することとしてもよい。その場合にも、半導体微粒子蛍光体のZ軸方向の配列を、各層に含まれる半導体微粒子蛍光体の発光波長が光透過性部材の入射面側から出射面側に向かうにつれて小さくなるように構成することが好ましい。
 (実施の形態7)
 図17は、本発明の実施の形態7における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。次に、この図17を参照して、本実施の形態における波長変換部材の構造について説明する。なお、上述した本発明の実施の形態6と同様の部分については図中同一の符号を付し、その説明はここでは繰り返さない。
 図17に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Gにあっても、光透過性部材13中に分散配置された半導体微粒子蛍光体14c,14d,14eの分散濃度に上記特定の異方性がもたされており、波長変換部材10GのZ軸方向における半導体微粒子蛍光体14c,14d,14eの分散濃度が、XY平面内に含まれる方向における半導体微粒子蛍光体14c,14d,14eの分散濃度よりも低くなっている。
 より具体的には、本実施の形態における波長変換部材10Gにあっては、半導体微粒子蛍光体14c,14d,14eが種類毎に分離されてZ軸方向に層状に積層配置されている。すなわち、波長変換部材10Gが、Z軸方向に沿って4つの領域19a,19b,19c,19dを有しており、このうちの入射面11側に位置する領域19aにおいて半導体微粒子蛍光体14cのみが分散配置されており、Z軸方向における一方の中間位置にある領域19bにおいて半導体微粒子蛍光体14dのみが分散配置されており、Z軸方向における他方の中間位置にある領域19cにおいて半導体微粒子蛍光体14eのみが分散配置されており、出射面12側に位置する領域19dにおいて半導体微粒子蛍光体14c,14d,14eのいずれもが分散配置されていない。これにより、上述した如くの半導体微粒子蛍光体14c,14d,14eの分散濃度の異方性が実現されている。
 ここで、本実施の形態における波長変換部材10Gにあっては、上述した3種類の半導体微粒子蛍光体14c,14d,14eがそれぞれ異なる粒子径を有しており、最も粒子径の大きい半導体微粒子蛍光体14cが光透過性部材13の入射面11側に層状に分散配置されており、上記半導体微粒子蛍光体14cよりも粒子径の小さい半導体微粒子蛍光体14dが、上記半導体微粒子蛍光体14cよりも光透過性部材13の出射面12側に層状に分散配置されており、上記半導体微粒子蛍光体14dよりも粒子径の小さい半導体微粒子蛍光体14eが、上記半導体微粒子蛍光体14dよりも光透過性部材13の出射面12側に層状に分散配置されている。
 このように、半導体微粒子蛍光体14のZ軸方向の配列を、各層(各領域)に含まれる半導体微粒子蛍光体14の粒子径が光透過性部材13の入射面11側から出射面12側に向かうにつれて小さくなるように構成されていることにより、光の再吸収が抑制されて波長変換部材の発光効率をより高めることが可能になる。これは、一般に粒子径が大きい半導体微粒子蛍光体ほど発光波長が長くなるため、入射面11側に粒子径の大きい、すなわち発光波長の長い半導体微粒子蛍光体を配置することで光の再吸収が抑制されるためである。
 以上において説明したように、本実施の形態における波長変換部材10Gの如くの構造およびその製造方法を採用することにより、上述した本発明の実施の形態6の場合と同様に、従来に比して大幅に発光効率の向上が図られた波長変換部材とすることができる。特に、上述の如くの半導体微粒子蛍光体の配列を採用することにより、従来に比して飛躍的に発光効率の向上が図られた波長変換部材とすることができる。なお、当該波長変換部材10Gの具体的な製造方法は、上記本発明の実施の形態6において説明した製造方法に準じるものであり、その説明は省略する。
 なお、上述した本実施の形態における波長変換部材10Gにあっては、3種類の半導体微粒子蛍光体を分離して層状に積層配置した場合を例示して説明を行なったが、2種類または4種類あるいはそれ以上の半導体微粒子蛍光体をそれぞれ分離して層状に積層配置することとしてもよい。その場合にも、半導体微粒子蛍光体のZ軸方向の配列を、各層に含まれる半導体微粒子蛍光体の粒子径が光透過性部材の入射面側から出射面側に向かうにつれて小さくなるように構成することが好ましい。
 以上において説明した本発明の実施の形態1ないし7においては、半導体微粒子蛍光体が少なくとも2種類以上含有されてなる波長変換部材10A~10Gを例示して説明を行なったが、当然に1種類のみの半導体微粒子蛍光体を含有する波長変換部材としてもよく、その場合にも本発明を適用することは可能である。
 また、以上において説明した本発明の実施の形態1ないし7においては、波長変換部材のZ軸方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度がXY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度よりも低くなるように構成したものを例示して説明を行なったが、自己組織化を利用して半導体微粒子蛍光体を規則的に配列させることで波長変換部材を製造する場合には、必ずしも上述した如くの半導体微粒子蛍光体の分散濃度の異方性を波長変換部材にもたせる必要はない。すなわち、その場合には、半導体微粒子蛍光体の分散濃度が波長変換部材の内部において全体にわたって実質的に均一となってしまうことになるが、その代わりにXY面内方向における波長変換部材の大きさをZ軸方向における波長変換部材の厚みよりも十分に大きくすることにより、蛍光の再吸収を防止可能な高発光効率の波長変換部材とすることができる。
 ところで、波長変換部材の発光効率を評価する指標として、内部量子効率(IQE)と外部量子効率(EQE)とがある。内部量子効率(IQE)とは、波長変換部材が吸収した光量のうち、どの程度波長変換光を放出するかという変換の効率を示す指標である。ここで、当該内部量子効率(IQE)は、波長変換光の光量を吸収光の光量で割った値で表される。一方、外部量子効率(EQE)とは、波長変換部材に入射した光量のうち、どの程度波長変換光を放出するかという変換の効率を示す指標である。当該外部量子効率(EQE)は、内部量子効率(IQE)と入射光の吸収率の積で表される。
 ここで、以上において説明した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gの内部量子効率(IQE)としては、好ましくは50%以上であり、より好ましくは70%以上であり、さらに好ましくは90%以上である。また、上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gの外部量子効率(EQE)としては、好ましくは40%以上であり、より好ましくは60%以上であり、さらに好ましくは80%以上である。内部量子効率(IQE)および外部量子効率(EQE)の高い波長変換部材は、損失が少なく光を変換できる点において非常に優位である。なお、波長変換部材の内部量子効率(IQE)と外部量子効率(EQE)の測定方法としては、積分球を用いた全光束の測定が例示される。
 また、波長変換部材の性能を評価する一つの指標として、吸収率がある。以上において説明した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gにおいては、当該吸収率として任意の値をとってよい。しかしながら、外部量子効率(EQE)を高める観点から、吸収率はより高いことが好ましい。なお、波長変換部材の吸収率の測定方法としては、分光光度計を用いた方法や積分球を用いた方法等が例示される。
 (実施の形態8)
 図18は、本発明の実施の形態8における発光装置の模式断面図である。次に、この図18を参照して、本実施の形態における発光装置の構造について説明する。
 本実施の形態における発光装置は、発光素子としての半導体発光ダイオード素子(以下、単にLEDとも称する)と、上述した本発明の実施の形態1ないし7のいずれかの波長変換部材10A~10Gとを組み合わせた構造のものである。すなわち、本実施の形態における発光装置は、半導体微粒子蛍光体の分散濃度に上述した如くの特定の異方性を有する波長変換部材を備えている。ここで、上記分散濃度の異方性については、説明が重複するので省略する。なお、図18に示す発光装置30においては、上述した本発明の実施の形態1における波長変換部材10Aを具備したものを例示している。
 図18に示すように、発光装置30は、LED31と、プリント配線板32と、枠体36と、封止樹脂層37と、波長変換部材10Aとを主として備えている。
 プリント配線板32は、基体となる部材であり、その表裏面に達するように一対の電極33a,33bが設けられている。LED31は、表裏面に接続電極を有する半導体チップからなり、その裏面電極がプリント配線板32に設けられた一方の電極33aに導電層34を介して接合されることにより、プリント配線板32の主表面上に実装されている。ここで、導電層34としては、半田等のろう材や導電性の接着剤、導電ペースト等が利用できる。また、LED31の表面電極は、金属ワイヤ35を介してプリント配線板32に設けられた他方の電極33bに接続されている。
 枠体36は、LED31を取り囲むようにプリント配線板32上に立設して設けられている。波長変換部材10Aは、枠体36の上部に固定されており、その入射面11がLED31と対峙している。プリント配線板32、枠体36および波長変換部材10Aによって規定される空間は、封止樹脂層37によって充填されており、当該封止樹脂層37によってLED31が封止されている。
 ここで、本実施の形態における発光装置30に具備されるLED31は、上述したように、半導体発光ダイオード素子である。この半導体発光ダイオード素子は、電子と正孔が再結合する際に光を発する特性を利用した発光素子であり、半導体活性層とp型電極層とn型電極層とを備えており、半導体活性層がp型電極層およびn型電極層に挟み込まれた構造を有している。ここで、p型電極層は、上述した表面電極に電気的に接続されて外部回路に接続され、n型電極層は、上述した裏面電極に電気的に接続されて外部回路に接続される。
 半導体発光ダイオード素子の半導体基板材料としては、従来既知の一般的な組成のものを用いることができるが、本実施の形態における発光装置30においては、LED31として、たとえばGaN系半導体発光素子、ZnSe系半導体発光素子、SiC系半導体発光素子等が好適に用いられる。特に、GaN系半導体発光素子は、発光効率が高く、また実用性の高い発光装置が実現可能であるという理由から特に好適に利用できる。
 また、本実施の形態における発光装置30に具備されるLED31としては、420nm~480nmの波長領域に発光スペクトルのピーク波長を有する半導体発光ダイオード素子が特に好適に利用されるが、350~420nmの波長領域に発光スペクトルのピーク波長を有する半導体発光ダイオード素子が利用されてもよい。発光スペクトルのピーク波長が420~480nmの波長領域にある半導体発光ダイオード素子は、当該半導体発光ダイオード素子の発光を、発光装置の発光の青色成分としてそのまま利用することができる。したがって、青色の蛍光体が不要となるため、蛍光体による波長変換損失がなくなるため発光装置の発光効率が向上し、また装置構成が簡略化するという特徴がある。また、発光スペクトルのピーク波長が350~420nmの波長領域にある半導体発光ダイオード素子は、一般に420~480nmの波長領域にある半導体発光ダイオード素子より発光効率が高いため、かかる半導体発光ダイオード素子を用いることにより、発光装置の発光効率を高めることができる。また、特に発光スペクトルのピーク波長が440~460nmの波長領域にある半導体発光ダイオード素子は、後述する画像表示装置において使用される青色カラーフィルタとの波長整合性が高い利点があるため、当該用途に使用する発光装置とする場合には、画像表示装置の色再現性および発光効率の両立の観点から、特に好適に使用できる。
 一方、本実施の形態における発光装置30に具備される波長変換部材としては、演色性の観点から、2種以上の半導体微粒子蛍光体を含んでいるものを利用することが好ましく、また発光効率の観点から、4種以下の半導体微粒子蛍光体を含んでいるものが好ましい。したがって、波長変換部材としては、半導体微粒子蛍光体を2種以上4種以下で含むものが特に好適に利用される。しかしながら、製造容易化の観点からは、より少ない種類の半導体微粒子蛍光体を含む波長変換部材とすることが好ましい。
 より詳細には、半導体微粒子蛍光体が1種のみ含まれる場合には、可視光の波長範囲の一部のみしか再現できないことになるため、演色性が低下してしまう問題がある。しかしながら、その反面、半導体微粒子蛍光体間での蛍光の再吸収が生じないため、発光効率は大幅に向上する。また、半導体微粒子蛍光体が1種のみ含まれる場合には、半導体微粒子蛍光体の量の調整による色度調整が容易に行なえるため、製造が容易に行なえることになる。一方、半導体微粒子蛍光体が4種以上含まれる場合には、演色性は向上するものの、製造が困難になるといった問題や、蛍光の再吸収が生じ易くなって発光効率の低下が顕著になってしまうといった問題が生じる。
 本実施の形態における発光装置30におけるLED31と波長変換部材の特に好ましい組み合わせとしては、青色LEDと1種類の蛍光体(たとえば黄色蛍光体)の組み合わせが挙げられる。この組み合わせを採用すれば、発光効率が高い発光装置を実現できる効果が得られる。
 また、他の好ましい組み合わせとしては、青色LEDと2種類の蛍光体(たとえば緑色蛍光体と赤色蛍光体)の組み合わせが挙げられる。この組み合わせを採用すれば、演色性が高く発光効率が高い発光装置を実現できる効果が得られる。
 また、さらに他の好ましい組み合わせとしては、紫外LEDと3種類の蛍光体(たとえば青色蛍光体と緑色蛍光体と赤色蛍光体)の組み合わせが挙げられる。この組み合わせを採用すれば、発光効率の高い紫外LEDを用いることが出来るため、発光効率が高い発光装置を実現できる効果が得られる。
 以上において説明した本実施の形態における発光装置30にあっては、LED31から出射された励起光が波長変換部材の入射面11から入射し、入射面11から入射した光の一部が光透過性部材13中を透過して出射面12から出射され、入射面11から入射した光の一部が半導体微粒子蛍光体14に吸収されて波長変換されて蛍光として発生されて出射面12から出射され、これら出射面12から出射された光が混合されて波長変換光として外部に照射される。このとき、上述した波長変換部材の分散濃度の異方性の作用により、出射面12から出射される波長変換光の発光効率を高めることができる。したがって、本実施の形態における発光装置30とすることにより、従来の発光装置に比較して高い発光効率を有する発光装置とすることができる。
 なお、本実施の形態における発光装置30の出射光の発光スペクトルとしては、420nm~480nmの青色波長の光、500nm~550nmの緑色波長の光、および580nm~650nmの赤色波長の光を含んでいることが好ましい。また、後述する画像表示装置に本実施の形態における発光装置30を適用する場合には、後述するカラーフィルタに整合する波長特性を有する出射光を出射可能に構成することにより、色再現性が高く発光効率の高い画像表示装置が実現可能になる。
 (実施の形態9)
 図19は、本発明の実施の形態9における発光装置の模式断面図である。次に、この図19を参照して、本実施の形態における発光装置の構造について説明する。
 本実施の形態における発光装置は、発光素子としての半導体発光レーザダイオード素子(以下、単にLD(Laser Diode)とも称する)と、上述した本発明の実施の形態1ないし7のいずれかの波長変換部材10A~10Gとを組み合わせた構造のものである。すなわち、本実施の形態における発光装置は、半導体微粒子蛍光体の分散濃度に上述した如くの特定の異方性を有する波長変換部材を備えている。ここで、上記分散濃度の異方性については、説明が重複するので省略する。なお、図19に示す発光装置40においては、上述した本発明の実施の形態1における波長変換部材10Aを具備したものを例示している。
 図19に示すように、発光装置40は、LD41と、ヒートシンク・ステム42と、ウィンド・キャップ47と、波長変換部材10Aとを主として備えている。
 ヒートシンク・ステム42は、基体となる部材であり、その所定位置に一対の端子ピン43a,43bが設けられている。LD41は、表裏面に接続電極を有する半導体チップからなり、その裏面電極がヒートシンク・ステム42に設けられた一方の端子ピン43aにSiサブマウント48を介して接合されることにより、ヒートシンク・ステム42に実装されている。ここで、LD41とSiサブマウント48との接合には、半田等を用いたろう付けが好適に利用され、Siサブマウント48と端子ピン43aの接合には、銀ペースト等の導電ペーストが好適に利用される。また、LD41の表面電極は、金属ワイヤ45を介して、ヒートシンク・ステム42に設けられた他方の端子ピン43bに接続されている。
 ウィンド・キャップ47は、レーザ光を外部に出射するためのガラス窓を有する箱状の部材からなり、LD41を覆うようにヒートシンク・ステム42に接合されている。波長変換部材10Aは、ウィンド・キャップ47から所定の距離だけ離間した位置に配置されており、その入射面11がLD41と対峙している。これにより波長変換部材10Aには、LD41から出射されたレーザ光が照射される。
 ここで、本実施の形態における発光装置40に具備されるLD41は、上述したように、半導体発光レーザダイオード素子である。この半導体発光レーザダイオード素子は、電子と正孔が再結合する際に光を発する特性を利用した発光素子であり、半導体活性層、p型半導体層、n型半導体層、p型電極層およびn型電極層を備えており、半導体活性層がp型半導体層およびn型半導体層によって挟み込まれ、これらがさらにp型電極層およびn型電極層に挟み込まれた構造を有している。ここで、p型電極層は、上述した表面電極に電気的に接続されて外部回路に接続され、n型電極層は、上述した裏面電極に電気的に接続されて外部回路に接続される。
 半導体発光レーザダイオード素子の半導体基板材料としては、従来既知の一般的な組成のものを用いることができるが、本実施の形態における発光装置40においては、LD41として、たとえばGaN系半導体発光素子、ZnSe系半導体発光素子、SiC系半導体発光素子等が好適に用いられる。特に、GaN系半導体発光素子は、発光効率が高く、また実用性の高い発光装置が実現可能であるという理由から特に好適に利用できる。
 また、本実施の形態における発光装置40に具備されるLD41としては、420nm~480nmの波長領域に発光スペクトルのピーク波長を有する半導体発光レーザダイオード素子が特に好適に利用されるが、350~420nmの波長領域に発光スペクトルのピーク波長を有する半導体発光レーザダイオード素子が利用されてもよい。発光スペクトルのピーク波長が420~480nmの波長領域にある半導体発光レーザダイオード素子は、当該半導体発光レーザダイオード素子の発光を、発光装置の発光の青色成分としてそのまま利用することができる。したがって、青色の蛍光体が不要となるため、蛍光体による波長変換損失がなくなるため発光装置の発光効率が向上し、また装置構成が簡略化するという特徴がある。また、発光スペクトルのピーク波長が350~420nmの波長領域にある半導体発光レーザダイオード素子は、一般に420~480nmの波長領域にある半導体発光レーザダイオード素子より発光効率が高いため、かかる半導体発光レーザダイオード素子を用いることにより、発光装置の発光効率を高めることができる。また、特に発光スペクトルのピーク波長が440~460nmの波長領域にある半導体発光レーザダイオード素子は、後述する画像表示装置において使用される青色カラーフィルタとの波長整合性が高い利点があるため、当該用途に使用する発光装置とする場合には、画像表示装置の色再現性および発光効率の両立の観点から、特に好適に使用できる。
 一方、本実施の形態における発光装置40に具備される波長変換部材としては、演色性の観点から、2種以上の半導体微粒子蛍光体を含んでいるものを利用することが好ましく、また発光効率の観点から、4種以下の半導体微粒子蛍光体を含んでいるものが好ましい。したがって、波長変換部材としては、半導体微粒子蛍光体を2種以上4種以下で含むものが特に好適に利用される。しかしながら、製造容易化の観点からは、より少ない種類の半導体微粒子蛍光体を含む波長変換部材とすることが好ましい。
 より詳細には、半導体微粒子蛍光体が1種のみ含まれる場合には、可視光の波長範囲の一部のみしか再現できないことになるため、演色性が低下してしまう問題がある。しかしながら、その反面、半導体微粒子蛍光体間での蛍光の再吸収が生じないため、発光効率は大幅に向上する。また、半導体微粒子蛍光体が1種のみ含まれる場合には、半導体微粒子蛍光体の量の調整による色度調整が容易に行なえるため、製造が容易に行なえることになる。一方、半導体微粒子蛍光体が4種以上含まれる場合には、演色性は向上するものの、製造が困難になるといった問題や、蛍光の再吸収が生じ易くなって発光効率の低下が顕著になってしまうといった問題が生じる。
 本実施の形態における発光装置40におけるLD41と波長変換部材の特に好ましい組み合わせとしては、青色LDと1種類の蛍光体(たとえば黄色蛍光体)の組み合わせが挙げられる。この組み合わせを採用すれば、発光効率が高い発光装置を実現できる効果が得られる。
 また、他の好ましい組み合わせとしては、青色LDと2種類の蛍光体(たとえば緑色蛍光体と赤色蛍光体)の組み合わせが挙げられる。この組み合わせを採用すれば、演色性が高く発光効率が高い発光装置を実現できる効果が得られる。
 また、さらに他の好ましい組み合わせとしては、紫外LDと3種類の蛍光体(たとえば青色蛍光体と緑色蛍光体と赤色蛍光体)の組み合わせが挙げられる。この組み合わせを採用すれば、発光効率の高い紫外LDを用いることが出来るため、発光効率が高い発光装置を実現できる効果が得られる。
 以上において説明した本実施の形態における発光装置40にあっては、LD41から出射された励起光が波長変換部材の入射面11から入射し、入射面11から入射した光の一部が光透過性部材13中を透過して出射面12から出射され、入射面11から入射した光の一部が半導体微粒子蛍光体14に吸収されて波長変換されて蛍光として発生されて出射面12から出射され、これら出射面12から出射された光が混合されて波長変換光として外部に照射される。このとき、上述した波長変換部材の分散濃度の異方性の作用により、出射面12から出射される波長変換光の発光効率を高めることができる。したがって、本実施の形態における発光装置40とすることにより、従来の発光装置に比較して高い発光効率を有する発光装置とすることができる。
 なお、本実施の形態における発光装置40の出射光の発光スペクトルとしては、420nm~480nmの青色波長の光、500nm~550nmの緑色波長の光、および580nm~650nmの赤色波長の光を含んでいることが好ましい。また、後述する画像表示装置に本実施の形態における発光装置40を適用する場合には、後述するカラーフィルタに整合する波長特性を有する出射光を出射可能に構成することにより、色再現性が高く発光効率の高い画像表示装置が実現可能になる。
 (実施の形態10)
 図20は、本発明の実施の形態10における発光装置の模式断面図である。次に、この図20を参照して、本実施の形態における発光装置の構造について説明する。
 本実施の形態における発光装置は、発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、単にEL(Electroluminescence)とも称する)と、上述した本発明の実施の形態1ないし7のいずれかの波長変換部材10A~10Gとを組み合わせた構造のものである。すなわち、本実施の形態における発光装置は、半導体微粒子蛍光体の分散濃度に上述した如くの特定の異方性を有する波長変換部材を備えている。ここで、上記分散濃度の異方性については、説明が重複するので省略する。なお、図20に示す発光装置50においては、上述した本発明の実施の形態1における波長変換部材10Aを具備したものを例示している。
 図20に示すように、発光装置50は、EL51と、波長変換部材10Aとを主として備えている。
 EL51は、基板51aと、基板51aの一方の主表面上に設けられた陽極部51bと、陽極部51b上に順次積層された正孔注入層51c、正孔輸送層51d、発光層51e、電子輸送層51f、電子注入層51g、陰極部51hとを備えている。一方、波長変換部材10Aは、上記基板51aの他方の主表面上に設けられており、その入射面11が基板51a側に対峙している。
 ここで、本実施の形態における発光装置50に具備されるEL51は、上述したように、有機エレクトロルミネッセンス素子である。この有機エレクトロルミネッセンス素子は、電圧印加時に発光層51eが正孔輸送層51dから正孔を受け取るとともに電子輸送層51fから電子を受け取ることにより、発光層51eにおいて正孔と電子の再結合が生じて発光することを利用した発光素子である。
 発光層51eは、ホスト材料を含み、燐光発光材料からなるドーパントをさらに含むことが好ましい。ホスト材料としては、電荷輸送材料(電子輸送性材料および正孔輸送性材料を総称する)であることが好ましく、正孔輸送性材料と電子輸送性材料とを含むことがさらに好ましい。
 ホスト材料の最低多重項励起状態のエネルギーレベルは、ドーパント材料の最低多重項励起状態のエネルギーレベルより大きいことが好ましい。なお、ホスト材料とドーパント材料とを共蒸着することにより、ドーパント材料がホスト材料にドープされた発光層を好適に形成することができる。
 ホスト材料の具体例としては、例えば、ピレン骨格を有するもの、カルバゾール骨格を有するもの、ジアリールアミン骨格を有するもの、ピリジン骨格を有するもの、ピラジン骨格を有するもの、トリアジン骨格を有するものおよびアリールシラン骨格を有するもの等が例示される。
 発光層51eに含有される燐光発光材料は、一般に、遷移金属原子またはランタノイド原子を含む錯体であることが好ましい。燐光発光材料は、単独または2種以上組み合わせて用いることができる。
 遷移金属原子としては、特に限定されないが、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウムおよび白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウムおよび白金が挙げられる。
 ランタノイド原子としては、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウムおよびガドリニウムが特に好ましい。
 上記条件を満たす燐光発光材料の具体例としては、FIrpic:ビス〔2-(4,6-ジフルオロフェニル)ピリジナト〕ピコリナトイリジウム(III)、FIr6:ビス[2-(4′,6′-ジフルオロフェニル)ピリジネート-N,C2′]テトラキス(1-ピラゾリル)ボレート、Ir(ppy)3:トリスフェニルピリジナトイリジウム(III)などが例示される。
 正孔注入層51cおよび正孔輸送層51dは、陽極または陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。正孔注入層51cおよび正孔輸送層51dは、具体的には、正孔輸送性材料として、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、有機シラン誘導体、カーボン等を含有する層であることが好ましい。
 電子注入層51gおよび電子輸送層51fは、陰極または陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。電子注入層51gおよび電子輸送層51fは、具体的には、電子輸送性材料として、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8-キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体等を含有する層であることが好ましい。中でも分子内にヘテロ原子を1個以上有する芳香族ヘテロ環化合物を電子輸送性材料として含有する層であることが好ましい。芳香族ヘテロ環化合物とは、芳香族性を有するヘテロ化合物であり、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾールあるいはこれらの縮合環が挙げられる。
 陽極部51bは、通常、正孔注入層51cに正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造および大きさ等については特に制限はなく、有機エレクトロルミネッセンス素子の用途および目的等に応じて、既知の電極材料の中から適宜選択することができる。また、陽極部51bの材料は、透明な材料であることが好ましい。この場合、陽極部側から発光層51eの発光を損失なく取り出すことができる。
 陽極部51bを構成する材料としては、たとえば金属、合金、金属酸化物、導電性化合物またはこれらの混合物が好適に利用でき、仕事関数が4.0eV以上の材料が特に好ましい。陽極部51bの材料の具体例としては、アンチモンやフッ素等をドープした酸化錫(ATO、FTO)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛インジウム(IZO)等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとITOとの積層物などが挙げられる。この中で特に好ましいのは、導電性金属酸化物であり、生産性、高導電性および透明性等の観点からは、特にITOが好ましい。
 また、陽極部51bの内部に、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)を作り込む構成としてもよい。この場合には、薄膜トランジスタを用いてON/OFF動作を制御できるため、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いて画像表示装置を作製する場合に特に好適である。
 陰極部51hは、通常、電子注入層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造および大きさ等については特に制限はなく、有機エレクトロルミネッセンス素子の用途および目的等に応じて、既知の電極材料の中から適宜選択することができる。
 陰極部51hを構成する材料としては、たとえば金属、合金、金属酸化物、導電性化合物またはこれらの混合物が好適に利用でき、仕事関数が4.5eV以下のものが好ましい。陰極部51hの材料の具体例としては、アルカリ金属(たとえばLi、Na、K、Cs等)、アルカリ土類金属(たとえばMg、Ca等)、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム-カリウム合金、リチウム-アルミニウム合金、マグネシウム-銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、2種以上を併用することが好ましい。
 基板51aは、有機エレクトロルミネッセンス素子の支持基体としての機能を有し、発光層51eから発せられる光を散乱または減衰させないものであることが好ましい。基板51aを構成する材料の具体例としては、イットリウム安定化ジルコニア(YSZ)、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)等の有機材料が挙げられる。
 また、本実施の形態における発光装置50に具備されるEL51としては、発光波長が520nm以下の有機エレクトロルミネッセンス素子が好適に利用される。これは、発光装置50において、緑色~赤色発光の半導体微粒子蛍光体を効率よく励起することができるためである。また、本実施の形態における発光装置50に具備されるEL51としては、発光波長が420nm以上の有機エレクトロルミネッセンス素子が好適に利用される。有機エレクトロルミネッセンス素子の発光波長が上記範囲内にある場合には、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光をそのまま利用することができ、装置構成が簡素化され、発光装置の製造が容易となる。また、特に発光スペクトルのピーク波長が440~460nmの波長領域にある有機エレクトロルミネッセンス素子は、後述する画像表示装置において使用される青色カラーフィルタとの波長整合性が高い利点があるため、当該用途に使用する発光装置とする場合には、画像表示装置の色再現性および発光効率の両立の観点から、特に好適に使用できる。
 一方、本実施の形態における発光装置50に具備される波長変換部材としては、演色性の観点から、2種以上の半導体微粒子蛍光体を含んでいるものを利用することが好ましく、また発光効率の観点から、4種以下の半導体微粒子蛍光体を含んでいるものが好ましい。したがって、波長変換部材としては、半導体微粒子蛍光体を2種以上4種以下で含むものが特に好適に利用される。しかしながら、製造容易化の観点からは、より少ない種類の半導体微粒子蛍光体を含む波長変換部材とすることが好ましい。
 より詳細には、半導体微粒子蛍光体が1種のみ含まれる場合には、可視光の波長範囲の一部のみしか再現できないことになるため、演色性が低下してしまう問題がある。しかしながら、その反面、半導体微粒子蛍光体間での蛍光の再吸収が生じないため、発光効率は大幅に向上する。また、半導体微粒子蛍光体が1種のみ含まれる場合には、半導体微粒子蛍光体の量の調整による色度調整が容易に行なえるため、製造が容易に行なえることになる。一方、半導体微粒子蛍光体が4種以上含まれる場合には、演色性は向上するものの、製造が困難になるといった問題や、蛍光の再吸収が生じ易くなって発光効率の低下が顕著になってしまうといった問題が生じる。
 本実施の形態における発光装置50におけるEL41と波長変換部材の特に好ましい組み合わせとしては、青色ELと1種類の蛍光体(たとえば黄色蛍光体)の組み合わせや、青色ELと2種類の蛍光体(たとえば緑色蛍光体と赤色蛍光体)の組み合わせが挙げられる。これらの組み合わせを採用すれば、面発光する発光装置を容易に実現できる効果が得られる。
 以上において説明した本実施の形態における発光装置50にあっては、EL51から出射された励起光が波長変換部材の入射面11から入射し、入射面11から入射した光の一部が光透過性部材13中を透過して出射面12から出射され、入射面11から入射した光の一部が半導体微粒子蛍光体14に吸収されて波長変換されて蛍光として発生されて出射面12から出射され、これら出射面12から出射された光が混合されて波長変換光として外部に照射される。このとき、上述した波長変換部材の分散濃度の異方性の作用により、出射面12から出射される波長変換光の発光効率を高めることができる。したがって、本実施の形態における発光装置50とすることにより、従来の発光装置に比較して高い発光効率を有する発光装置とすることができる。
 なお、本実施の形態における発光装置50の出射光の発光スペクトルとしては、420nm~480nmの青色波長の光、500nm~550nmの緑色波長の光、および580nm~650nmの赤色波長の光を含んでいることが好ましい。また、後述する画像表示装置に本実施の形態における発光装置50を適用する場合には、後述するカラーフィルタに整合する波長特性を有する出射光を出射可能に構成することにより、色再現性が高く発光効率の高い画像表示装置が実現可能になる。
 以上において説明した本発明の実施の形態8ないし10にあっては、半導体発光ダイオード素子と波長変換部材の組み合わせで構成された発光装置30、半導体発光レーザダイオード素子と波長変換部材の組み合わせで構成された発光装置40、および有機エレクトロルミネッセンス素子と波長変換部材の組み合わせで構成された発光装置50をそれぞれ例示して説明を行なったが、上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gに組み合わせ可能な発光素子としては、この他にも無機エレクトロルミネッセンス素子やキセノンランプおよび蛍光灯等といった放電ランプが挙げられる。
 また、上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gを、半導体発光ダイオード素子または半導体発光レーザダイオード素子あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子に組み合わせて発光装置を構成する場合にも、上述した本発明の実施の形態8ないし10において具体的に例示した構造以外の種々の構造を採用することができる。すなわち、上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gを具備する発光装置であれば、どのような構造のものであっても、従来に比して高い発光効率を有する発光装置とすることができる。
 ところで、発光装置の色合いを評価する指標として、演色性指数がある。演色性指数とは、JIS(日本工業規格)で定められている基準光をもとに、発光装置の発光スペクトルがどの程度色ずれがあるかを定量的に評価した値である。物の見え方を平均的に評価するためには、平均演色性指数(Ra)が一般的に用いられる。ここで、平均演色性指数とは、いくつかの試験色での演色性指数の平均値である。なお、発光装置の演色性指数を求める方法としては、発光装置の発光スペクトルを測定する方法が例示される。
 また、発光装置の明るさを評価する指標として、発光効率がある。発光効率とは、入力された電力量に対する出射光の光量の比で表される値であり、その単位はlm/Wである。発光効率が高い場合には、少ない電力で明るく照らすことが可能になるため、発光装置を製作するにあたっては、発光効率を可能な限り高めることが重要である。なお、発光装置の発光効率を測定する方法としては、全光束測定装置を用いる方法等が例示される。
 (実施の形態11)
 図21は、本発明の実施の形態11における画像表示装置の分解斜視図である。また、図22は、図21に示す光変換部の拡大分解斜視図である。また、図23は、図22に示すカラーフィルタの透過スペクトルを示すグラフであり、縦軸は透過率[%]を表わし、横軸は波長[nm]を表わしている。次に、これら図21ないし図30を参照して、本実施の形態における画像表示装置の構造について説明する。
 本実施の形態における画像表示装置は、上述した本発明の実施の形態8および9のいずれかの発光装置30,40と、画像表示部とを組み合わせた構造のものである。したがって、本実施の形態における画像表示装置は、発光装置30,40において上述した本発明の実施の形態1ないし7のいずれかの波長変換部材10A~10Gを備えている。すなわち、本実施の形態における画像表示装置は、半導体発光ダイオード素子または半導体発光レーザダイオード素子のいずれかと、半導体微粒子蛍光体の分散濃度に上述した如くの特定の異方性を有する波長変換部材とを備えている。ここで、上記分散濃度の異方性については、説明が重複するので省略する。なお、図21および図22に示す画像表示装置60においては、上述した本発明の実施の形態1における波長変換部材10Aを具備したものを例示している。
 図21に示すように、本実施の形態における画像表示装置60は、主として画像表示部62と照射部とを備えている。画像表示部62は、画像を表示可能な部位であり、図22に示す光変換部63をアレイ状に複数具備してなる。一方、照射部は、画像表示部62に後方から光を照射する部位であり、アレイ状に配置された光源としての複数の発光装置30,40と、これら発光装置30,40と画像表示部62との間に配置された導光板61とを具備している。なお、複数の発光装置30,40のそれぞれは、その画像表示部62側の主表面に波長変換部材10Aを有している。
 導光板61は、アレイ状に配置された複数の発光装置30,40から出射され、画像表示部62に照射される光の面内明るさのムラを緩和する機能を有しており、この導光板61を発光装置30,40と画像表示部62の間に介在させることにより、画像表示部62に照射される光の面内強度が均一化し、表示される画像の明るさのムラが低減できる。当該導光板61としては、たとえば表面に凹凸を付したアクリル樹脂製の板状部材等が使用でき、上記凹凸によって光が拡散されることで、上述した光の面内強度の均一化が図られる。
 画像表示部62に設けられた光変換部63は、光の入射を受けた場合に特定の波長のみを出射可能にする機能を有する部位であり、特に本実施の形態における画像表示装置60に設けられる光変換部63は、入射光のうちの特定の波長のみの光を透過する性質を有している。なお、この光変換部63の、入射光のうちの特定の波長のみの光を透過する機能は、当該光変換部63に具備される、後述するカラーフィルタによって発揮される。
 図22に示すように、光変換部63は、下部偏光板64、下部透明導電膜65、配向膜66a、液晶層66、配向膜66b、上部透明導電膜67、カラーフィルタ68および上部偏光板69がこの順で積層されてなるものである。このうち、下部透明導電膜65には、下部電極65aおよびTFT65bがそれぞれ複数個(図示する例では3個)設けられており、上部透明導電膜67にも、上記下部電極65aに対応して上部電極67aが複数個設けられている。また、カラーフィルタ68は、上記下部電極65aおよび上記上部電極67aに対応して複数の領域に分割されており、当該領域にそれぞれ異なる波長領域の光を透過するフィルタ部68aが配置されてなる。上記構造の光変換部63は、液晶表示部とも称される。
 ここで、カラーフィルタ68としては、たとえば図23に示す如くの透過スペクトルを有するものが特に好適に利用される。すなわち、カラーフィルタ68としては、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタおよび青色カラーフィルタの3つのフィルタ部68aを具備してなるものが好適に利用される。各フィルタ部68aは、たとえば染料や顔料等によって構成される。このようなカラーフィルタを使用すれば、自然界に存在する大半の色調を画像表示部62において再現することが可能になり、色再現性の優れた画像表示装置とすることができる。なお、カラーフィルタ68としては、上記図23に示す透過スペクトルを有する3色のカラーフィルタ以外にも、異なる透過スペクトルを有する3色のカラーフィルタや2色または4色あるいは5色以上のカラーフィルタ等、どのようなものを使用してもよい。
 本実施の形態における画像表示装置60にあっては、発光装置30,40として白色光を出射するものが好適に利用され、発光装置30,40から出射された白色光は、導光板61を透過して画像表示部62の光変換部63に照射される。光変換部63においては、TFT65bがON/OFF動作することで液晶層66における液晶の配向が制御され、これによりカラーフィルタ68に含まれる各フィルタ部68aを経由する下部偏光板64から上部偏光板69への光の透過量が制御される。これにより、画像表示部62において画像が表示されることになる。
 以上において説明した本実施の形態における画像表示装置60にあっては、発光装置30,40が上述した分散濃度の異方性を有する波長変換部材を有しているため、当該発光装置30,40から出射される波長変換光の発光効率が高められている。したがって、上記構成の画像表示装置60とすることにより、高い発光効率(画面輝度)と優れた色再現性を実現する画像表示装置とすることができる。
 (実施の形態12)
 図24は、本発明の実施の形態12における画像表示装置の分解斜視図である。また、図25は、図24に示す光変換部の拡大分解斜視図である。次に、これら図24および図25を参照して、本実施の形態における画像表示装置の構造について説明する。
 本実施の形態における画像表示装置は、半導体発光ダイオード素子を発光素子として含む発光装置30′または半導体発光レーザダイオード素子を発光素子として含む発光装置40′と、上述した本発明の実施の形態1ないし7のいずれかの波長変換部材10A~10Gを含む画像表示部とを組み合わせた構造のものである。すなわち、本実施の形態における画像表示装置は、半導体発光ダイオード素子または半導体発光レーザダイオード素子のいずれかと、半導体微粒子蛍光体の分散濃度に上述した如くの特定の異方性を有する波長変換部材とを備えている。ここで、上記分散濃度の異方性については、説明が重複するので省略する。なお、図24および図25に示す画像表示装置70においては、上述した本発明の実施の形態1における波長変換部材10Aを具備したものを例示している。
 図24に示すように、本実施の形態における画像表示装置70は、主として画像表示部72と照射部とを備えている。画像表示部72は、画像を表示可能な部位であり、図25に示す光変換部73をアレイ状に複数具備してなる。一方、照射部は、画像表示部72に後方から光を照射する部位であり、アレイ状に配置された光源としての複数の発光装置30′,40′と、これら発光装置30′,40′と画像表示部72との間に配置された導光板71とを具備している。なお、当該発光装置30′,40′は、上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gを具備した、上述した本発明の実施の形態8および9の如くの発光装置30,40であってもよいし、上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gを具備していない従来の発光装置であってもよい。
 導光板71は、アレイ状に配置された複数の発光装置30′,40′から出射され、画像表示部72に照射される光の面内明るさのムラを緩和する機能を有しており、この導光板71を発光装置30′,40′と画像表示部72の間に介在させることにより、画像表示部72に照射される光の面内強度が均一化し、表示される画像の明るさのムラが低減できる。当該導光板71としては、たとえば表面に凹凸を付したアクリル樹脂製の板状部材等が使用でき、上記凹凸によって光が拡散されることで、上述した光の面内強度の均一化が図られる。
 画像表示部72に設けられた光変換部73は、光の入射を受けた場合に特定の波長のみを出射可能にする機能を有する部位であり、特に本実施の形態における画像表示装置70に設けられる光変換部73は、入射光とは異なる波長の光を出射する性質を有している。なお、この光変換部73の、入射光とは異なる波長の光を出射する機能は、当該光変換部73に具備される波長変換部材10Aによって発揮される。
 図24に示すように、光変換部73は、下部偏光板74、下部透明導電膜75、配向膜76a、液晶層76、配向膜76b、上部透明導電膜77、波長変換板78および上部偏光板79がこの順で積層されてなるものである。このうち、下部透明導電膜75には、下部電極75aおよびTFT75bがそれぞれ複数個(図示する例では3個)設けられており、上部透明導電膜77にも、上記下部電極75aに対応して上部電極77aが複数個設けられている。また、波長変換板78は、上記下部電極75aおよび上記上部電極77aに対応して複数の領域に分割されており、当該領域にそれぞれ異なる波長領域の光を出射する波長変換部材10Aが配置されてなる。上記構造の光変換部73は、液晶表示部とも称される。
 ここで、波長変換板78としては、たとえば入射光を波長変換して青色光として出射する波長変換部材と、入射光を波長変換して緑色光として出射する波長変換部材と、入射光を波長変換して赤色光として出射する波長変換部材とを具備してなるものが好適に利用される。これら各波長変換部材は、当該波長変換部材に用いられる半導体微粒子蛍光体の種類や濃度等を適宜調節することで形成可能である。このような波長変換板78を使用すれば、自然界に存在する大半の色調を画像表示部72において再現することが可能になり、色再現性の優れた画像表示装置とすることができる。なお、波長変換板78としては、上記3色の光を出射するもの以外にも種々のものが利用可能である。
 本実施の形態における画像表示装置70にあっては、発光装置30′,40′から出射された光が導光板71を透過して画像表示部72の光変換部73に照射される。光変換部73においては、TFT75bがON/OFF動作することで液晶層76における液晶の配向が制御され、これにより波長変換板78に含まれる各波長変換部材10Aを経由する下部偏光板74から上部偏光板79への光の透過量が制御される。これにより、画像表示部72において画像が表示されることになる。
 以上において説明した本実施の形態における画像表示装置70にあっては、画像表示部72の光変換部73が上述した分散濃度の異方性を有する波長変換部材を有しているため、画像表示部72から出射される波長変換光の発光効率が高められている。したがって、上記構成の画像表示装置70とすることにより、高い発光効率(画面輝度)と優れた色再現性を実現する画像表示装置とすることができる。
 (実施の形態13)
 図26は、本発明の実施の形態13における画像表示装置の分解斜視図である。また、図27は、図26に示す光変換部の拡大分解斜視図である。次に、これら図26および図27を参照して、本実施の形態における画像表示装置の構造について説明する。
 本実施の形態における画像表示装置は、上述した本発明の実施の形態10の発光装置50と、画像表示部とを組み合わせた構造のものである。したがって、本実施の形態における画像表示装置は、発光装置50において上述した本発明の実施の形態1ないし7のいずれかの波長変換部材10A~10Gを備えている。すなわち、本実施の形態における画像表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス素子と、半導体微粒子蛍光体の分散濃度に上述した如くの特定の異方性を有する波長変換部材とを備えている。ここで、上記分散濃度の異方性については、説明が重複するので省略する。なお、図26および図27に示す画像表示装置80においては、上述した本発明の実施の形態1における波長変換部材10Aを具備したものを例示している。
 図26に示すように、本実施の形態における画像表示装置80は、主として画像表示部82と照射部とを備えている。画像表示部82は、画像を表示可能な部位であり、図27に示す光変換部83をアレイ状に複数具備してなる。一方、照射部は、画像表示部82に後方から光を照射する部位であり、アレイ状に配置された光源としての複数の発光装置50を具備している。なお、複数の発光装置50のそれぞれは、その画像表示部82側の主表面に波長変換部材10Aを有している。
 画像表示部82に設けられた光変換部83は、光の入射を受けた場合に特定の波長のみを出射可能にする機能を有する部位であり、特に本実施の形態における画像表示装置80に設けられる光変換部83は、入射光のうちの特定の波長のみの光を透過する性質を有している。なお、この光変換部83の、入射光のうちの特定の波長のみの光を透過する機能は、当該光変換部83に具備される、後述するカラーフィルタによって発揮される。
 図27に示すように、光変換部83は、カラーフィルタ88によって構成されている。カラーフィルタ88は、複数の領域に分割されており、当該領域にそれぞれ異なる波長領域の光を透過するフィルタ部88aが配置されてなる。
 ここで、カラーフィルタ88としては、たとえば上述した図23に示す如くの透過スペクトルを有するものが特に好適に利用される。すなわち、カラーフィルタ88としては、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタおよび青色カラーフィルタの3つのフィルタ部88aを具備してなるものが好適に利用される。各フィルタ部88aは、たとえば染料や顔料等によって構成される。このようなカラーフィルタを使用すれば、自然界に存在する大半の色調を画像表示部82において再現することが可能になり、色再現性の優れた画像表示装置とすることができる。なお、カラーフィルタ88としては、上記図23に示す透過スペクトルを有する3色のカラーフィルタ以外にも、異なる透過スペクトルを有する3色のカラーフィルタや2色または4色あるいは5色以上のカラーフィルタ等、どのようなものを使用してもよい。
 本実施の形態における画像表示装置80にあっては、発光装置50として白色光を出射するものが好適に利用され、発光装置50から出射された白色光は、画像表示部82の光変換部83に照射される。発光装置50の内部には、図示しないTFTが設けられており、当該TFTがON/OFF動作することでカラーフィルタ88に含まれる各フィルタ部88aを経由する光の透過量が制御される。これにより、画像表示部82において画像が表示されることになる。
 以上において説明した本実施の形態における画像表示装置80にあっては、発光装置50が上述した分散濃度の異方性を有する波長変換部材を有しているため、当該発光装置50から出射される波長変換光の発光効率が高められている。したがって、上記構成の画像表示装置80とすることにより、高い発光効率(画面輝度)と優れた色再現性を実現する画像表示装置とすることができる。
 なお、本実施の形態における画像表示装置80にあっては、導光板を配置しない構成を採用したが、これは導光板を配置せずとも画像表示部82の全面にわたって照射部の光を照射可能に構成できるためである。しかしながら、必要がある場合には、当然に導光板を設ける構成としてもよい。
 (実施の形態14)
 図28は、本発明の実施の形態14における画像表示装置の分解斜視図である。また、図29は、図28に示す光変換部の拡大分解斜視図である。次に、これら図28および図29を参照して、本実施の形態における画像表示装置の構造について説明する。
 本実施の形態における画像表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス素子を発光素子として含む発光装置50′と、上述した本発明の実施の形態1ないし7のいずれかの波長変換部材10A~10Gを含む画像表示部とを組み合わせた構造のものである。すなわち、本実施の形態における画像表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス素子と、半導体微粒子蛍光体の分散濃度に上述した如くの特定の異方性を有する波長変換部材とを備えている。ここで、上記分散濃度の異方性については、説明が重複するので省略する。なお、図28および図29に示す画像表示装置90においては、上述した本発明の実施の形態1における波長変換部材10Aを具備したものを例示している。
 図28に示すように、本実施の形態における画像表示装置90は、主として画像表示部92と照射部とを備えている。画像表示部92は、画像を表示可能な部位であり、図29に示す光変換部93をアレイ状に複数具備してなる。一方、照射部は、画像表示部92に後方から光を照射する部位であり、アレイ状に配置された光源としての複数の発光装置50′を具備している。なお、当該発光装置50′は、上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gを具備した、上述した本発明の実施の形態10の如くの発光装置50であってもよいし、上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gを具備していない従来の発光装置であってもよい。
 画像表示部92に設けられた光変換部93は、光の入射を受けた場合に特定の波長のみを出射可能にする機能を有する部位であり、特に本実施の形態における画像表示装置90に設けられる光変換部93は、入射光とは異なる波長の光を出射する性質を有している。なお、この光変換部93の、入射光とは異なる波長の光を出射する機能は、当該光変換部93に具備される波長変換部材10Aによって発揮される。
 図29に示すように、光変換部93は、波長変換板98によって構成されている。波長変換板98は、複数の領域に分割されており、当該領域にそれぞれ異なる波長領域の光を出射する波長変換部材10Aが配置されてなる。
 ここで、波長変換板98としては、たとえば入射光を波長変換して青色光として出射する波長変換部材と、入射光を波長変換して緑色光として出射する波長変換部材と、入射光を波長変換して赤色光として出射する波長変換部材とを具備してなるものが好適に利用される。これら各波長変換部材は、当該波長変換部材に用いられる半導体微粒子蛍光体の種類や濃度等を適宜調節することで形成可能である。このような波長変換板98を使用すれば、自然界に存在する大半の色調を画像表示部92において再現することが可能になり、色再現性の優れた画像表示装置とすることができる。なお、波長変換板98としては、上記3色の光を出射するもの以外にも種々のものが利用可能である。
 本実施の形態における画像表示装置90にあっては、発光装置50′から出射された光が画像表示部92の光変換部93に照射される。発光装置50′の内部には、図示しないTFTが設けられており、当該TFTがON/OFF動作することで波長変換板98に含まれる各波長変換部材10Aを経由する光の透過量が制御される。これにより、画像表示部92において画像が表示されることになる。
 以上において説明した本実施の形態における画像表示装置90にあっては、画像表示部92の光変換部93が上述した分散濃度の異方性を有する波長変換部材を有しているため、画像表示部92から出射される波長変換光の発光効率が高められている。したがって、上記構成の画像表示装置90とすることにより、高い発光効率(画面輝度)と優れた色再現性を実現する画像表示装置とすることができる。
 なお、本実施の形態における画像表示装置90にあっては、導光板を配置しない構成を採用したが、これは導光板を配置せずとも画像表示部92の全面にわたって照射部の光を照射可能に構成できるためである。しかしながら、必要がある場合には、当然に導光板を設ける構成としてもよい。
 以上において説明した本発明の実施の形態11ないし14にあっては、いわゆる液晶表示装置および有機EL表示装置を例示して説明を行なったが、他の画像表示装置に上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gを具備させることも当然に可能である。また、上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gを、上述した液晶表示装置や有機EL表示装置に適用する場合にも、上述した本発明の実施の形態11ないし14において具体的に例示した構造以外の種々の構造を採用することができる。すなわち、上述した本発明の実施の形態1ないし7における波長変換部材10A~10Gを具備する画像表示装置であれば、どのような構造のものであっても、従来に比して高い発光効率と優れた色再現性を有する画像表示装置とすることができる。
 ところで、画像表示装置の性能を示す指標として、色再現性が挙げられる。色再現性とは、画像表示装置において表示可能な色域の大きさを示すものであり、NTSC比を用いて表わされる。NTSC比は、NTSC(National Television System Committee)が定めた赤、緑、青の各色のCIE1976色度図の色度座標(u′,v′)(赤(0.498,0.519)、緑(0.076,0.576)、青(0.152,0.196))を結んで得られる三角形の面積と、CIE1976色度図における色度座標(u′,v′)の赤、緑、青の各色の色度座標を結んで得られる三角形の面積との面積比率により表わされる指標である。
 また、画像表示装置の性能を示す他の指標として、画面明るさが挙げられる。画面明るさとは、画像表示装置から発せられる光の強さを示すものである。ここで、画面明るさは、画像表示装置においてRGB画素をフルオープンして白色表示を行なった場合の画面輝度で表わされる指標である。
 (実施の形態15)
 図54は、本発明の実施の形態15における波長変換部材の概略斜視図である。図55は、本実施の形態における波長変換部材をXZ平面に沿って切断した場合の模式断面図である。また、図56は、本実施の形態における波長変換部材の波長変換層をXY平面に沿って切断した場合の模式断面図である。なお、図55に示す断面は、図54中に示すLV-LV線に沿った模式断面図である。また、図56に示す断面は、図55中に示すLVI-LVI線に沿った模式断面図である。まず、これら図54ないし図56を参照して、本実施の形態における波長変換部材の構造について説明する。なお、上述した本発明の実施の形態1と同様の部分については図中同一の符号を付し、その説明はここでは繰り返さない。
 図54に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Hは、所定の厚みを有する略直方体形状の部材からなり、入射光の少なくとも一部を吸収して吸収した光とは異なる波長の光を出射する機能を有するものである。波長変換部材10Hは、波長変換層1010、第1光透過性部材1001および第2光透過性部材1002の積層体によって構成されており、波長変換層1010は、第1光透過性部材1001および第2光透過性部材1002によって挟み込まれている。
 波長変換層1010は、その一方の主表面を入射面1011として有しており、他方の主表面を出射面1012として有している。波長変換層1010の入射面1011は、上述した第1光透過性部材1001によって覆われており、波長変換層1010の出射面1012は、上述した第2光透過性部材1002によって覆われている。
 ここで、第1光透過性部材1001および第2光透過性部材1002は、比較的脆弱な波長変換層1010を保護する目的で波長変換部材10Hに具備されるものであり、たとえば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、尿素樹脂等の光透過性樹脂材料からなる基板や、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、イットリア等の光透過性無機材料からなる基板等にて構成される。代表的には、第1光透過性部材1001および第2光透過性部材1002としては、たとえばガラス基板にて構成される。なお、波長変換部材10Hの波長変換層1010が十分な機械的強度を有している場合には、これら第1光透過性部材1001および第2光透過性部材1002を特に設ける必要はない。
 波長変換部材10Hの入射面1011には、発光素子から出射される励起光100が第1光透過性部材1001を介して照射される。入射面1011に照射された励起光100は、波長変換部材10Hの波長変換層1010の内部に導入され、導入された光の一部の波長が波長変換層1010の内部において変換される。波長変換部材10Hの出射面1012からは、上述した波長変換後の光を含む光が波長変換光200として第2光透過性部材1002を介して外部に向けて出射される。
 ここで、図54に示すように、互いに直交する並進3軸(X軸、Y軸およびZ軸)のうち、励起光100および波長変換光200の光軸をZ軸方向に規定すると、上述した入射面1011および出射面1012は、いずれもZ軸と直交するXY平面にて構成されることになる。
 なお、図示する波長変換部材10Hは、偏平な平板状の外形を有しているが、波長変換部材の形状は、当該形状に限定されるものではなく、平板状以外の態様の直方体形状や円盤状の形状、円柱状の形状、多角柱状の形状等、どのような外形であってもよい。
 図55および図56に示すように、波長変換部材10Hの波長変換層1010は、半導体微粒子蛍光体14の凝集体によって構成されている。すなわち、本実施の形態における波長変換部材10Hは、上述した本発明の実施の形態1に示した如くの、これら半導体微粒子蛍光体14を封止する光透過性部材13を具備していない。半導体微粒子蛍光体14は、波長変換層1010の内部に導入された励起光100を吸収してこれを波長変換することで異なる波長の光を発光するものであり、主として半導体微結晶粒子からなる部材である。なお、半導体微粒子蛍光体14としては、上述した本発明の実施の形態1と同様のものが利用できる。
 図55および図56に示すように、本実施の形態における波長変換部材10Hにあっては、半導体微粒子蛍光体14として2種の半導体微粒子蛍光体14a,14bが含まれている。半導体微粒子蛍光体14aは、吸収した励起光100を波長変換して長波長蛍光を発するものであり、半導体微粒子蛍光体14bは、吸収した励起光100を波長変換して短波長蛍光を発するものである。これら長波長蛍光を発する半導体微粒子蛍光体14aおよび短波長蛍光を発する半導体微粒子蛍光体14bは、いずれも波長変換層1010を構成する凝集体に含まれている。
 ここで、本実施の形態における波長変換部材10Hにあっては、波長変換層1010が半導体微粒子蛍光体14a,14bの凝集体のみによって構成されており、当該凝集体に含まれる半導体微粒子蛍光体14a,14bの粒子数に特定の異方性がもたされている。すなわち、本実施の形態における波長変換部材10Hにあっては、波長変換層1010を構成する凝集体に含まれる半導体微粒子蛍光体14,14bの量が方向によって異ならしめられている。より詳細には、図55に示すように、波長変換部材10Hの入射面11と出射面12とを結ぶ方向である光の進行方向に平行な方向(すなわちZ軸方向)における半導体微粒子蛍光体14a,14bの粒子数が、上記光の進行方向に直交する方向(すなわちXY平面内に含まれる方向)における半導体微粒子蛍光体14a,14bの粒子数よりも少なくなっている。
 本実施の形態における波長変換部材10Hにあっては、図56に示すように、半導体微粒子蛍光体14a,14bとしてほぼ同等の粒子径を有するものが用いられ、波長変換層1010のXY平面内において半導体微粒子蛍光体14a,14bが六方格子状に規則的に配列されるとともに、図55に示すように、Z軸方向に沿って半導体微粒子蛍光体14a,14bが複数積み重なるように構成されている。このように構成された波長変換部材10Hにあっては、半導体微粒子蛍光体14a,14bがXY面内方向において最密充填された状態にあるため、当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの粒子数を最大限にまで高めることが可能になるとともに、Z軸方向に沿った半導体微粒子蛍光体14a,14bの積み重ねられる量を任意に調節することができるため、その厚みを自由に設定することが可能になる。したがって、Z軸方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの粒子数とXY面内方向における半導体微粒子蛍光体14a,14bの粒子数とを大きく異ならしめることが可能となり、光の再吸収を抑制しつつ発光効率を大幅に高めることが可能となる。なお、Z軸方向に沿って半導体微粒子蛍光体14a,14bを積み重ねずに、そのZ軸方向に沿った半導体微粒子蛍光体14a,14bの数を1個にすることも可能である。
 以上の構成とすることにより、本実施の形態における波長変換部材10Hにあっても、従来の波長変換部材に比較して半導体微粒子蛍光体による励起光の吸収率を高めつつ濃度消光の発生を抑制して高い発光効率を実現することが可能になる。その詳細なメカニズムは、上述した本発明の実施の形態1において説明したメカニズムと同様であるため、ここではその説明を繰り返さない。
 なお、上述した本実施の形態における波長変換部材10Hにおいても、含有する半導体微粒子蛍光体14の種類や数、濃度、波長変換部材10Hに入射される励起光100の種類等を適宜調整(半導体微粒子蛍光体14の数(粒子数)については、異方性をもたせることを十分に考慮して調整)することにより、波長変換部材10Hから出射される波長変換光200の光量やスペクトルを自在に調整することができる。
 図57は、本実施の形態における波長変換部材の製造方法を示すフロー図である。次に、この図57を参照して、本実施の形態における波長変換部材の製造方法について説明する。
 上述した構造の波長変換部材10Hを製造するにあたっては、図57に示すように、まず、ステップS501において、半導体微粒子蛍光体14a,14bを製作する。半導体微粒子蛍光体の製作方法としては、上述した既知の合成方法(たとえば液相合成法等)が利用できる。
 次に、ステップS502において、半導体微粒子蛍光体を揮発性溶剤に添加して分散させることにより、半導体微粒子蛍光体が揮発性溶剤中において分散した分散液を作製する。ここで、使用する揮発性溶剤としては、たとえばトルエン、ヘキサン、エタノール等に代表される有機溶剤等が使用可能である。
 次に、ステップS503において、分散液中に含まれる半導体微粒子蛍光体を凝集および沈殿させ、その後、分散液中に含まれる揮発性溶剤を揮発させることにより、半導体微粒子蛍光体の凝集体を製作する。このステップS503における半導体微粒子蛍光体の凝集および沈殿過程においては、半導体微粒子蛍光体の自己組織化が起こり、上述した如くの六方格子状等の半導体微粒子蛍光体の規則的な配列が実現されることになる。このとき、分散液中に含まれる半導体微粒子蛍光体の量を調節することにより、凝集体の厚みを所望のものに設定することも可能である。
 その後、必要に応じて、ステップS503で得られた凝集体を挟み込むように、第1光透過性部材1001および第2光透過性部材1002を設ける。なお、予め第1光透過性部材1001の主面上において半導体微粒子蛍光体14a,14bを析出させることとしてもよい。
 以上により、図55および図56に示す如くの、半導体微粒子蛍光体14a,14bの粒子数に特定の異方性を有する、本実施の形態における波長変換部材10Hの製造が完了する。
 以上において説明したように、本実施の形態における波長変換部材10Hの如くの構造およびその製造方法を採用することにより、上述した本発明の実施の形態1の場合と同様に、従来に比して発光効率の向上が図られた波長変換部材とすることができる。
 なお、本実施の形態における波長変換部材10Hも、上述した本発明の実施の形態1における波長変換部材10Aと同様に、発光装置や画像表示装置に好適に組み込むことができる。その場合の発光装置や画像表示装置の具体的な構成は、上述した本発明の実施の形態8ないし14に準じるものであるため、その説明は省略するが、本実施の形態における波長変換部材10Hを具備した発光装置および画像表示装置とすることにより、上述した本発明の実施の形態8ないし14の場合と同様に、従来に比して高い発光効率を有する発光装置および従来に比して高い発光効率(画面輝度)と優れた色再現性を実現する画像表示装置とすることができる。
 以下においては、本発明が適用された波長変換部材、発光装置および画像表示装置と、本発明が適用されていない波長変換部材、発光装置および画像表示装置とを実際に試作し、これらの評価を行った試験内容および試験結果について詳細に説明する。
 ここで、以下に示す実施例A1~A18は、本発明が適用された波長変換部材であり、比較例A1~A10は、本発明が適用されていない波長変換部材である。また、以下に示す実施例B1~B13は、本発明が適用された発光装置であり、比較例B1~B8は、本発明が適用されていない発光装置である。また、以下に示す実施例C1~C11は、本発明が適用された画像表示装置であり、比較例C1~C10は、本発明が適用されていない画像表示装置である。
 <InP/ZnS半導体微粒子蛍光体の合成方法>
 実施例および比較例について説明するに先立ち、まずはこれら実施例および比較例において使用した半導体微粒子蛍光体の具体的な合成方法について説明する。実施例および比較例においては、半導体微粒子蛍光体として、主としてInP/ZnS半導体微粒子蛍光体を使用した。
 まず、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体のコア部となるInP微結晶粒子の合成方法について説明する。
 まず、乾燥窒素雰囲気のグローブボックス内でトリオクチルホスフィン200mLとトリオクチルホスフィンオキシド17.3gとを秤量してから、これらを混合することにより10分間攪拌して混合溶媒Aを得た。
 その後、グローブボックス内にある混合溶媒Aに、III族金属元素原料である三塩化インジウム2.2g(10.0mmol)と半導体微粒子のV族元素原料であるトリストリメチルシリルホスフィン2.5g(10.0mmol)とを加えて混合した後に、20℃で10分間攪拌することにより原料溶液Bを得た。
 次に、原料溶液Bを窒素雰囲気の圧力容器中で攪拌しながら72時間加熱することにより、原料溶液Bに含まれる材料を合成させて合成溶液Cを得た。そして、合成反応終了後の合成溶液Cを室温まで自然放熱して冷却し、乾燥窒素雰囲気中で合成溶液Cを回収した。
 この合成溶液Cに対して、貧溶媒の脱水メタノール200mLを加えることにより半導体微粒子蛍光体を析出させるという操作と、4000rpmで10分間遠心分離することにより半導体微粒子蛍光体を沈殿させるという操作と、脱水トルエンを加えることにより半導体微粒子蛍光体を再溶解させるという操作とをそれぞれ各10回ずつ繰り返すという分級工程を行なうことにより、特定の粒子径の半導体微粒子蛍光体を含む脱水トルエン溶液Dを得た。そして、脱水トルエン溶液Dから脱水トルエン溶媒を蒸発させることにより、固体粉末Eを回収した。
 この固体粉末Eの回折ピークを粉末X線回折により観察したところ、InPの位置に回折ピークが見られたことから固体粉末EはInP結晶であることを確認した。ここで、当該観察には、株式会社リガク製の粉末X線回折測定装置Ultima IVを用いた。
 さらに、固体粉末Eを透過型電子顕微鏡により直接観察し、20個の粒子径を測定して、それぞれの粒子径の値の平均値から平均粒子径を算出することで、InP結晶の平均粒子径を確認することが出来た。ここで、当該観察には、日本電子株式会社製の透過型電子顕微鏡JEM-2100を用いた。
 次に、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体のコア部となるInP微結晶粒子の表面を、シェル部となるZnSで被覆する合成方法について説明する。
 まず、乾燥窒素雰囲気のグローブボックス内でInPコア部と、トリオクチルホスフィン200mLとトリオクチルホスフィンオキシド17.3gとを秤量してから、これらを混合することにより10分間攪拌して混合溶媒Fを得た。
 その後、混合溶媒Fをフラスコ中で攪拌しながら、シェル成長温度に加熱した状態で、半導体微粒子シェル部のII族金属元素原料であるジエチル亜鉛1.2g(10.0mmol)と半導体微粒子シェル部のVI族元素原料であるトリオクチルホスフィンサルファイド4.0g(10.0mmol)とを個別に8時間かけて徐々に滴下することにより、合成溶液Gを得た。
 この合成溶液Gに対して、コア部での処理と同様に分級工程を行なうことにより、特定の粒子径の半導体微粒子蛍光体を含む脱水トルエン溶液Hを得た。そして、脱水トルエン溶液Hから脱水トルエン溶媒を蒸発させることにより、固体粉末Iを回収した。
 この固体粉末Iを透過型電子顕微鏡により直接観察することで、InPコア部の表面をZnSシェルが覆った構造をした、コア/シェル構造のInP/ZnS半導体微粒子蛍光体を確認することができた。また、当該観察により、本合成方法で合成したInP/ZnS半導体微粒子蛍光体は、コア部の粒子径が2.1nm~3.8nm、コア部の粒子径分布が6%~40%であることを確認した。ここで、当該観察には、日本電子株式会社製の透過型電子顕微鏡JEM-2100を用いた。
 また、脱水トルエン溶液Hを測定することで、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体の光学特性を測定した。発光ピーク波長は、430nm~720nmであり、発光半値幅は、35nm~90nmであることを確認した。発光効率は、最大で70.9%に達した。ここで、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体の発光特性測定には、JOBIN YVON社製の蛍光分光光度計FluoroMax-4を使用し、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体の吸収スペクトル測定には、株式会社日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計U-4100を用いた。
 また、コア部の粒子径および粒子径分布ならびに光学特性は、合成条件や分級条件により変化することもあわせて確認を行なった。
 <実施例A1~A18および比較例A1~A10>
 図30は、実施例A1~A18および比較例A1~A10に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等をまとめた表である。図31は、実施例A1に係る波長変換部材の発光スペクトルを示すグラフである。図31においては、横軸に波長[nm]を表わし、縦軸に発光強度を示している。なお、図30に示す波長変換部材の内部量子効率(IQE)、吸収率および外部量子効率(EQE)の測定には、大塚電子株式会社製の発光測定システムMCPD-7000を使用した。
 まず、実施例および比較例に係る波長変換部材の具体的な製造方法について説明する。なお、実施例に係る波長変換部材は、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有する波長変換部材であり、比較例に係る波長変換部材は、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有しない波長変換部材である。また、実施例に係る波長変換部材においては、450nmの励起光を90%程度吸収し、各半導体微粒子蛍光体の発光が同程度の強度となるように、各種半導体微粒子蛍光体の量や光透過性部材の量を調整して製造した。
 (実施例A1)
 実施例A1では、図30に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造した。
 まず、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体0.29mgをトルエン溶媒に分散させた。この分散液をスライドガラス上に塗布し、トルエン溶媒を揮発させた。次に、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体5.38mgをトルエン溶媒に分散させ、この分散液をさらにスライドガラス上に塗布し、トルエン溶媒を揮発させた。
 次に、シリコーン樹脂A液を512.0mg、シリコーン樹脂B液を506.7mg秤量し、これらを混合した。混合後のシリコーン樹脂を上記スライドガラス上に塗布し、80℃で1時間、150℃で5時間加熱硬化させた。その後、スライドガラスを除去することにより、実施例A1に係る波長変換部材を得た。
 実施例A1に係る波長変換部材をTEMで直接観察したところ、図30に示すように、XY平面内において半導体微粒子蛍光体が六方格子状に配列している(図15参照)とともに、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体が種類毎に層状に配列している(図14参照)ことが確認された。
 また、実施例A1に係る波長変換部材を波長450nmの青色光で励起したところ、図31に示すような発光スペクトルが得られることが確認された。
 また、図30に示すように、実施例A1に係る波長変換部材を波長450nmの青色光で励起した場合に、IQEが59.6%であり、EQEが53.8%であることが確認されるとともに、実施例A1に係る波長変換部材の波長450nmの青色光に対する吸収率が、90.3%であることが確認された。
 (実施例A2~A4)
 実施例A2~A4では、図30に示すように、上述した実施例A1の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、実施例A1との相違点は、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体およびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体の含有量である。なお、当該実施例A2~A4に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 (実施例A5~A8)
 実施例A5~A8では、図30に示すように、上述した実施例A1~A4の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、実施例A1~A4との相違点は、半導体微粒子蛍光体の積層順である。すなわち、実施例A5~A8においては、先にInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体を含む分散液をスライドガラス上に塗布し、その後InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体を含む分散液をさらに上記スライドガラス上に塗布した。なお、当該実施例A5~A8に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 (実施例A9~A11)
 実施例A9では、図30に示すように、InP/ZnS黄色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、実施例A1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数である。なお、当該実施例A9に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 実施例A10では、図30に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS黄色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、実施例A1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数である。なお、当該実施例A10に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 実施例A11では、図30に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS黄色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、実施例A1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数である。なお、当該実施例A11に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 (実施例A12~A14)
 実施例A12~A14では、図30に示すように、上述した実施例A1の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、実施例A1との相違点は、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体およびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体の含有量であり、実施例A12~A14においては、上述した実施例A2~A4よりも大幅にこれらの含有量を変化させることでこれら半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を変化させている。なお、当該実施例A12~A14に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 (実施例A15)
 実施例A15では、図30に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図11に示す如くの製造方法に従って製造した。
 まず、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体0.29mgおよびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体5.40mgを混合し、その後これらをトルエン溶媒に分散させた。この分散液をスライドガラス上に塗布し、トルエン溶媒を揮発させた。
 次に、シリコーン樹脂A液を512.2mg、シリコーン樹脂B液を497.4mg秤量し、これらを混合した。混合後のシリコーン樹脂を上記スライドガラス上に塗布し、80℃で1時間、150℃で5時間加熱硬化させた。その後、スライドガラスを除去することにより、実施例A15に係る波長変換部材を得た。
 実施例A15に係る波長変換部材をTEMで直接観察したところ、図30に示すように、XY平面内において半導体微粒子蛍光体が六方格子状に配列している(図10参照)とともに、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体が層状に配列している(図9参照)ことが確認された。
 また、図30に示すように、実施例A15に係る波長変換部材を波長450nmの青色光で励起した場合に、IQEが49.0%であり、EQEが45.2%であることが確認されるとともに、実施例A12に係る波長変換部材の波長450nmの青色光に対する吸収率が、92.4%であることが確認された。
 (実施例A16~A18)
 実施例A16~A18では、図30に示すように、上述した実施例A15の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図11に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、実施例A15との相違点は、主としてInP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体およびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体の含有量である。なお、当該実施例A16~A18に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 (比較例A1)
 比較例A1では、図30に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造した。
 まず、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体0.29mgおよびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体5.48mgを混合した。次に、シリコーン樹脂A液を501.6mg、シリコーン樹脂B液を511.2mg秤量し、これらを混合した。
 混合後のシリコーン樹脂に上記混合後の半導体微粒子蛍光体を混合して分散させ、これをスライドガラス上に塗布し、80℃で1時間、150℃で5時間加熱硬化させた。その後、スライドガラスを除去することにより、比較例A1に係る波長変換部材を得た。
 比較例A1に係る波長変換部材をTEMで直接観察したところ、図30に示すように、XY平面内において半導体微粒子蛍光体がランダムに分散している(図51参照)とともに、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体がランダムに分散している(図50参照)ことが確認された。
 また、図30に示すように、比較例A1に係る波長変換部材を波長450nmの青色光で励起した場合に、IQEが33.5%であり、EQEが30.3%であることが確認されるとともに、比較例A1に係る波長変換部材の波長450nmの青色光に対する吸収率が、90.3%であることが確認された。
 (比較例A2~A4)
 比較例A2~A4では、図30に示すように、上述した比較例A1の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、比較例A1との相違点は、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体およびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体の含有量である。なお、当該比較例A2~A4に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 (比較例A5~A7)
 比較例A5~A7は、図30に示すように、InP/ZnS黄色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、比較例A1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数である。なお、当該比較例A5に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 比較例A6では、図30に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS黄色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、比較例A1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数である。なお、当該比較例A6に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 比較例A7では、図30に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS黄色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、比較例A1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数である。なお、当該比較例A7に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 (比較例A8~A10)
 比較例A8~A10では、図30に示すように、上述した比較例A1の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造した。ここで、比較例A1との相違点は、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体およびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体の含有量であり、比較例A8~A10においては、上述した比較例A2~A4よりも大幅にこれらの含有量を変化させることでこれら半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を変化させている。なお、当該比較例A8~A10に係る波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図30に示している。
 [検討A1]
 まず、波長変換部材の製造方法の違いが半導体微粒子蛍光体の分散状態に与える影響について検討する。当該検討には、実施例A1、実施例A15および比較例A1を参照する。
 実施例A1、実施例A15および比較例A1においては、いずれも半導体微粒子蛍光体の含有量とシリコーン樹脂の含有量とがほぼ同等とされている。しかしながら、上述した製造方法の違いにより、波長変換部材中における半導体微粒子蛍光体の分散状態に図30に示す如くの違いが生じた。
 図30に示すように、実施例A1および実施例A15においては、XY平面内において規則的に半導体微粒子蛍光体が配列しているのに対し、比較例A1においては、XY平面内において半導体微粒子蛍光体が無秩序に位置している。これは、実施例A1および実施例A15においては、半導体微粒子蛍光体を揮発性溶剤に分散させた状態でスライドに塗布し、その後揮発性溶剤を揮発させたためであると考えられる。より詳細には、揮発性溶剤の揮発が進むと、揮発性溶剤がスライド上に厚さ数nm~数十nm程度で覆う状態になると考えられ、このときに半導体微粒子蛍光体が自己組織化によって層状に規則的に配列するものと考えられる。また、実施例A1および実施例A15に係る波長変換部材が、いずれも図14および図9に示すように、半導体微粒子蛍光体が波長変換部材の片面側に局在していることも確認された。
 また、ここでは、その詳細な説明は省略するが、別の製造方法を用いて波長変換部材を製造した場合に、半導体微粒子蛍光体が波長変換部材の中央あるいは全域に存在するものも作製できることを確認した。しかしながら、製造の容易化や大量生産の適合性から判断する限り、上述した実施例A1および実施例A15において採用した図16および図11の如くの製造方法が好適であると判断される。
 また、実施例A1および実施例A15においては、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体がXY平面内において六方格子状に配列することが確認された。一方、赤色発光のCdSe/ZnS半導体微粒子蛍光体(粒子径5.2nm)と緑色発光のCdSe/ZnS半導体微粒子蛍光体(粒子径2.3nm)を用いて、実施例A1と同様の構造の波長変換部材を製造したところ、これらCdSe/Zns半導体微粒子蛍光体が正方格子状に配列する(図13参照)ことが確認された。これは、複数種類の半導体微粒子蛍光体を混合充填する場合に、半導体微粒子蛍光体の粒子径の違いが影響しているものと考えられる。すなわち、種類の異なる半導体微粒子蛍光体の粒子径の差が小さい場合には、六方格子状に配列したほうがより安定化するものと考えられる。
 [検討A2]
 次に、半導体微粒子蛍光体の分散状態の違いが波長変換部材の発光効率に与える影響について検討する。当該検討には、実施例A1、実施例A15および比較例A1を参照する。
 実施例A1、実施例A15および比較例A1においては、いずれも半導体微粒子蛍光体の含有量とシリコーン樹脂の含有量とがほぼ同等とされている。しかしながら、実施例A1、実施例A15、比較例A1に係る波長変換部材の内部量子効率(IQE)は、図30に示すように、それぞれ59.6%、49.0%、33.5%であった。このように、実施例A1および実施例A15に係る波長変換部材では、いずれも比較例A1に係る波長変換部材よりも高い内部量子効率(IQE)が得られることが確認できた。
 以上の結果は、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に上述した如くの特定の異方性をもたせることにより、波長変換部材の発光効率を向上させることができることを意味している。すなわち、XY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くすることにより、蛍光の再吸収が抑制できて波長変換部材の発光効率が向上したものと判断される。
 また、図30に示すように、実施例A1および実施例A15に係る波長変換部材にあっては、比較例A1に係る波長変換部材よりも励起光の吸収率が向上するとともに、外部量子効率(EQE)も向上している。これは、実施例A1および実施例A15に係る波長変換部材においては、比較例A1に係る波長変換部材よりも、XY平面内における半導体微粒子蛍光体の分散濃度が高まったためであると考えられる。
 [検討A3]
 次に、半導体微粒子蛍光体の分散状態および濃度の違いが波長変換部材の発光効率に与える影響について検討する。当該検討には、実施例A1~A4、実施例A15~A18および比較例A1~A4を参照する。図32は、実施例A1~A4、実施例A15~A18および比較例A1~A4における、半導体微粒子蛍光体の450nmの青色光に対する吸収率と波長変換部材の内部量子効率(IQE)との相関関係を示すグラフである。図32においては、横軸に半導体微粒子蛍光体の450nmの青色光に対する吸収率[%]を表わし、縦軸に波長変換部材の内部量子効率(IQE)[%]を表わしている。
 図32に示すように、半導体微粒子蛍光体の分散状態が異なる、実施例A1~A4と、実施例A15~A18と、比較例A1~A4とを比較した場合に、いずれの場合においても、半導体微粒子蛍光体の励起光の吸収率が高くなるにつれて、波長変換部材の内部量子効率(IQE)が低下する傾向が見られる。これは、半導体微粒子蛍光体の吸収率を増加させるために半導体微粒子蛍光体の濃度を高めた場合に、濃度消光による蛍光の再吸収が増加して損失が大きくなったためであると考えられる。
 しかしながら、図32に示すように、比較例A1~A4よりも実施例A15~A18の方が、半導体微粒子蛍光体の濃度の増加に対する内部量子効率(IQE)の低下率が小さくなっていることが確認できる。これは、XY平面内における半導体微粒子蛍光体の濃度が向上しているために、蛍光の再吸収が比較的抑制できた結果であると考えられる。
 また、図32に示すように、実施例A15~A18よりも実施例A1~A4の方が、さらに半導体微粒子蛍光体の濃度の増加に対する内部量子効率(IQE)の低下率が小さくなっていることが確認できる。これは、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体をその種類毎に分離して層状に積層したために、蛍光の再吸収がさらに抑制できた結果であると考えられる。
 以上の結果は、XY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くし、さらにZ軸方向においても半導体微粒子蛍光体を種類毎に分離して層状に積層することにより、蛍光の再吸収が抑制できて波長変換部材の発光効率が向上することを意味している。
 [検討A4]
 次に、半導体微粒子蛍光体を種類毎に発光波長および粒子径に基づいて層状に積層する場合に、その積層順の違いが波長変換部材の発光効率に与える影響について検討する。当該検討には、実施例A1~A4、実施例A5~A8および比較例A1~A4を参照する。図33は、実施例A1~A4、実施例A5~A8および比較例A1~A4における、半導体微粒子蛍光体の450nmの青色光に対する吸収率と波長変換部材の内部量子効率(IQE)との相関関係を示すグラフである。図33においては、横軸に半導体微粒子蛍光体の450nmの青色光に対する吸収率[%]を表わし、縦軸に波長変換部材の内部量子効率(IQE)[%]を表わしている。
 図33に示すように、半導体微粒子蛍光体の分散状態または積層順が異なる、実施例A1~A4と、実施例A5~A8と、比較例A1~A4とを比較した場合に、いずれの場合においても、半導体微粒子蛍光体の励起光の吸収率が高くなるにつれて、波長変換部材の内部量子効率(IQE)が低下する傾向が見られる。これは、半導体微粒子蛍光体の吸収率を増加させるために半導体微粒子蛍光体の濃度を高めた場合に、濃度消光による蛍光の再吸収が増加して損失が大きくなったためであると考えられる。
 しかしながら、図33に示すように、比較例A1~A4よりも実施例A5~A8の方が、半導体微粒子蛍光体の濃度の増加に対する内部量子効率(IQE)の低下率が小さくなっていることが確認できる。これは、XY平面内における半導体微粒子蛍光体の濃度が向上しているために、蛍光の再吸収が比較的抑制できた結果であると考えられる。
 また、図33に示すように、実施例A5~A8よりも実施例A1~A4の方が、さらに半導体微粒子蛍光体の濃度の増加に対する内部量子効率(IQE)の低下率が小さくなっていることが確認できる。これは、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体をその種類毎に分離して層状に積層し、かつ発光波長が長く粒子径の大きい種類の半導体微粒子蛍光体を波長変換部材の入射面側に配置したために、傾向の再吸収がさらに抑制できた結果であると考えられる。より詳細には、実施例A1~A4においては、緑色半導体微粒子蛍光体を赤色半導体微粒子蛍光体よりも波長変換部材の出射面側に配置したために、緑色半導体微粒子蛍光体の発する蛍光を赤色半導体微粒子蛍光体が再吸収せずに光の損失が生じ難いのに対し、実施例A5~A8においては、赤色半導体微粒子蛍光体を緑色半導体微粒子蛍光体よりも波長変換部材の出射面側に配置したために、赤色半導体微粒子蛍光体の発する蛍光を緑色半導体微粒子蛍光体が再吸収して光の損失が発生し易くなったためであると考えられる。
 以上の結果は、XY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くし、さらにZ軸方向においても半導体微粒子蛍光体を種類毎に分離して発光波長および粒子径に基づいて層状に積層することにより、蛍光の再吸収が抑制できて波長変換部材の発光効率が向上することを意味している。
 [検討A5]
 次に、半導体微粒子蛍光体の種類の数の違いが波長変換部材の発光効率に与える影響について検討する。当該検討には、実施例A1,A9~A11および比較例A1,A5~A7を参照する。図34は、実施例A1,A9~A11および比較例A1,A5~A7における、半導体微粒子蛍光体の種類の数と波長変換部材の内部量子効率(IQE)との相関関係を示すグラフである。図34においては、横軸に半導体微粒子蛍光体の種類の数を表わし、縦軸に波長変換部材の内部量子効率(IQE)[%]を表わしている。
 図34に示すように、半導体微粒子蛍光体の分散状態が異なる、実施例A1,A9~A11と、比較例A1,A5~A7とを比較した場合に、いずれの場合においても、波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体の種類の数が増加するにつれて、波長変換部材の内部量子効率(IQE)が低下する傾向が見られる。これは、半導体微粒子蛍光体の種類の数が増加するにつれて、蛍光の再吸収が生じる割合が増加するためと考えられ。したがって、当該観点からは、半導体微粒子蛍光体の種類の数としては、より少ないことが好ましいことが確認された。
 [検討A6]
 次に、半導体微粒子蛍光体の分散状態の違いが波長変換部材の薄型化に与える影響について検討する。当該検討には、実施例A1,A12~A14および比較例A1,A8~A10を参照する。図35は、実施例A1,A12~A14および比較例A1,A8~A10における各種試作結果を示す表である。
 図35に示すように、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有する実施例A1,A12~A14に係る波長変換部材にあっては、半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を30.4μmにまで薄型化した場合にも、波長450nmの励起光を90.3%の吸収率で吸収することが確認された。しかしながら、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有しない比較例A1,A8~A10に係る波長変換部材にあっては、半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を最小で73.6μmにまでしか薄型化できなかった。
 以上の結果は、XY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くすることにより、励起光の吸収率を高く維持したまま波長変換部材を薄型化できることを意味している。
 ここで、図35に示すように、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有する波長変換部材とすることにより、励起光の進行方向に沿っての1μmあたりの吸光度を0.02以上(実施例A13においては、当該吸光度が0.024、実施例A14においては、当該吸光度が0.033)にまで高めることができる。この値は、波長変換部材の発光効率の向上と薄型化の両立を考慮した場合に、従来の波長変換部材に比して非常に優れた値であり、上述した本発明の実施の形態における波長変換部材の製造方法を採用した場合にはじめて実現できる値である。
 また、図35に示すように、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有する波長変換部材とすることにより、励起光の進行方向に沿っての厚みが0.5nm以上50μm以下(実施例A13においては、当該厚みが42.2μm、実施例A14においては、当該厚みが30.4μm)であり、かつ入射した励起光の90%以上を吸収(実施例A13においては、吸収率が90.4%、実施例A14においては、吸収率が90.3%)して波長変換する波長変換部材を実現することもできる。なお、上述した本発明の実施の形態における波長変換部材の製造方法を採用することにより、半導体微粒子蛍光体の粒子径から考慮して、理論的に波長変換部材の厚みを0.5nm程度にまで薄型化することが可能である。したがって、上記条件の波長変換部材とすることにより、波長変換部材の発光効率の向上と薄型化の両立を最大限得ることが可能になる。
 なお、以上においては、波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体としてInP/ZnS半導体微粒子蛍光体を使用した場合の試験結果を実施例A1~A18および比較例A1~A10として例示して説明を行なったが、他の種類の半導体微粒子蛍光体を使用した場合にも、同様の傾向が見られることが実験的に確認されている。すなわち、種々の半導体微粒子蛍光体を用いて波長変換部材を試作して評価を行なった結果、半導体微粒子蛍光体の分散状態の違いが波長変換部材の発光効率に与える影響が、上述したInP/ZnS半導体微粒子蛍光体を用いて波長変換部材の場合と同様であることが本発明者によって確認されている。
 図36は、上記種々の半導体微粒子蛍光体を用いて製造した波長変換部材における、半導体微粒子蛍光体の450nmの青色光を使用した場合の波長変換部材の内部量子効率(IQE)を示すグラフである。ここで、図36においては、横軸に半導体微粒子蛍光体の種類を表わし、縦軸に波長変換部材の内部量子効率(IQE)[%]を表わしている。
 図36に示すように、半導体微粒子蛍光体として、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体を用いた場合のみならず、InP/ZnSe半導体微粒子蛍光体、InP/ZnS/SiO2半導体微粒子蛍光体、Ga0.5In0.5P/ZnS半導体微粒子蛍光体、InN/GaN半導体微粒子蛍光体、Ga0.4In0.6N/GaN半導体微粒子蛍光体、CdSe/ZnS半導体微粒子蛍光体、ZnCdSe/ZnS半導体微粒子蛍光体を用いた場合にも、波長変換部材の発光効率が向上することが確認されている。
 <実施例B1~B13および比較例B1~B8>
 図37は、実施例B1~B13および比較例B1~B8に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等をまとめた表である。図38は、実施例B1に係る発光装置の発光スペクトルを示すグラフである。図38においては、横軸に波長[nm]を表わし、縦軸に発光強度を示している。なお、図37に示す発光装置の発光効率、演色性指数Ra、色温度Tcpおよび色度座標(u′,v′)の測定には、大塚電子株式会社製の発光測定システムMCPD-7000を使用した。
 まず、実施例および比較例に係る発光装置に具備させた波長変換部材の具体的な製造方法について説明する。なお、実施例に係る発光装置は、波長変換部材として上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有する波長変換部材を具備させたものであり、比較例に係る発光装置は、波長変換部材として上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有しない波長変換部材を具備させたものである。また、実施例に係る発光装置に具備させた波長変換部材においては、450nmの励起光を90%程度吸収し、各半導体微粒子蛍光体の発光が同程度の強度となるように、各種半導体微粒子蛍光体の量や光透過性部材の量を調整して製造した。
 (実施例B1)
 実施例B1では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。
 まず、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体1.32mgをトルエン溶媒に分散させた。この分散液を上記青色LED上に塗布し、トルエン溶媒を揮発させた。次に、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体5.76mgをトルエン溶媒に分散させ、この分散液をさらに上記青色LED上に塗布し、トルエン溶媒を揮発させた。
 次に、シリコーン樹脂A液を512.0mg、シリコーン樹脂B液を490.9mg秤量し、これらを混合した。混合後のシリコーン樹脂を上記青色LED上に塗布し、80℃で1時間、150℃で5時間加熱硬化させることにより、実施例B1に係る発光装置を得た。
 実施例B1に係る発光装置に具備させた波長変換部材をTEMで直接観察したところ、図37に示すように、XY平面内において半導体微粒子蛍光体が六方格子状に配列している(図15参照)とともに、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体が種類毎に層状に配列している(図14参照)ことが確認された。
 また、実施例B1に係る発光装置を発光させたところ、図38に示すような発光スペクトルが得られることが確認された。
 また、図37に示すように、実施例B1に係る発光装置の発光効率が53.5lm/Wであり、演色性指数Raが70.0であり、色温度が4934Kであり、色度座標(u′,v′)が(0.203,0.500)であることが確認された。
 (実施例B2)
 実施例B2では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図11に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。
 まず、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体1.13mgおよびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体7.70mgを混合し、その後これらをトルエン溶媒に分散させた。この分散液を上記青色LED上に塗布し、トルエン溶媒を揮発させた。
 次に、シリコーン樹脂A液を490.0mg、シリコーン樹脂B液を492.7mg秤量し、これらを混合した。混合後のシリコーン樹脂を上記青色LED上に塗布し、80℃で1時間、150℃で5時間加熱硬化させることにより、実施例B2に係る発光装置を得た。
 実施例B2に係る発光装置に具備させた波長変換部材をTEMで直接観察したところ、図37に示すように、XY平面内において半導体微粒子蛍光体が六方格子状に配列している(図10参照)とともに、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体が層状に配列している(図9参照)ことが確認された。
 また、図37に示すように、実施例B2に係る発光装置の発光効率が35.8lm/Wであり、演色性指数Raが68.8であり、色温度が4914Kであり、色度座標(u′,v′)が(0.210,0.490)であることが確認された。
 (実施例B3)
 実施例B3では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。ここで、実施例B1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の積層順である。すなわち、実施例B3においては、先にInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体を含む分散液を青色LED上に塗布し、その後InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体を含む分散液をさらに上記青色LED上に塗布した。なお、当該実施例B3に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、光学特性等を図37に示している。
 (実施例B4~B6)
 実施例B4では、図37に示すように、InP/ZnS黄色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。ここで、実施例B1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数である。なお、当該実施例B4に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 実施例B5では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS黄色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。ここで、実施例B1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数である。なお、当該実施例B5に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 実施例B6では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS黄色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。ここで、実施例B1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数である。なお、当該実施例B6に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 (実施例B7~B9)
 実施例B7~B9では、図37に示すように、上述した実施例B1の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。ここで、実施例B1との相違点は、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体およびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体の含有量であり、実施例B7~B9においては、これらの含有量を大幅に変化させることでこれら半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を変化させている。なお、当該実施例B7~B9に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 (実施例B10~B13)
 実施例B10では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が405nmであるInGaN半導体活性層を有する青紫色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。ここで、実施例B1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数と発光素子の種類である。なお、当該実施例B10に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 実施例B11では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LDとを組み合わせて図19に示す如くの発光装置を製造した。ここで、実施例B1との相違点は、発光素子の種類である。なお、当該実施例B11に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 実施例B12では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が405nmであるInGaN半導体活性層を有する青紫色LDとを組み合わせて図19に示す如くの発光装置を製造した。ここで、実施例B1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数と発光素子の種類である。なお、当該実施例B12に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 実施例B13では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が480nmであるFIrpic発光層を有する青色ELとを組み合わせて図20に示す如くの発光装置を製造した。ここで、実施例B1との相違点は、発光素子の種類である。なお、当該実施例B13に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 (比較例B1)
 比較例B1では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。
 まず、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体0.92mgおよびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体9.65mgを混合した。次に、シリコーン樹脂A液を508.5mg、シリコーン樹脂B液を497.1mg秤量し、これらを混合した。
 混合後のシリコーン樹脂に上記混合後の半導体微粒子蛍光体を混合して分散させ、これを青色LED上に塗布し、80℃で1時間、150℃で5時間加熱硬化させることにより、比較例B1に係る発光装置を得た。
 比較例A1に係る発光装置に具備させた波長変換部材をTEMで直接観察したところ、図30に示すように、XY平面内において半導体微粒子蛍光体がランダムに分散している(図51参照)とともに、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体がランダムに分散している(図50参照)ことが確認された。
 また、図37に示すように、比較例B1に係る発光装置の発光効率が27.1lm/Wであり、演色性指数Raが68.5であり、色温度が4974Kであり、色度座標(u′,v′)が(0.210,0.487)であることが確認された。
 (比較例B2~B4)
 比較例B2~B4では、図37に示すように、上述した比較例B1の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。ここで、比較例B1との相違点は、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体およびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体の含有量であり、大幅にこれらの含有量を変化させることでこれら半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を変化させている。なお、当該比較例B2~B4に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 (比較例B5~B8)
 比較例B5では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が405nmであるInGaN半導体活性層を有する青紫色LEDとを組み合わせて図18に示す如くの発光装置を製造した。ここで、比較例B1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数と発光素子の種類である。なお、当該比較例B5に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 比較例B6では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LDとを組み合わせて図19に示す如くの発光装置を製造した。ここで、比較例B1との相違点は、発光素子の種類である。なお、当該比較例B6に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 比較例B7では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が405nmであるInGaN半導体活性層を有する青紫色LDとを組み合わせて図19に示す如くの発光装置を製造した。ここで、比較例B1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数と発光素子の種類である。なお、当該比較例B7に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 比較例B8では、図37に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が480nmであるFIrpic発光層を有する青色ELとを組み合わせて図20に示す如くの発光装置を製造した。ここで、比較例B1との相違点は、発光素子の種類である。なお、当該比較例B8に係る発光装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該発光装置の光学特性等を図37に示している。
 [検討B1]
 まず、波長変換部材の製造方法の違いが半導体微粒子蛍光体の分散状態に与える影響について検討する。当該検討には、実施例B1、実施例B2および比較例B1を参照する。
 実施例B1、実施例B2および比較例B1においては、いずれも半導体微粒子蛍光体の含有量とシリコーン樹脂の含有量とがほぼ同等とされている。しかしながら、上述した製造方法の違いにより、波長変換部材中における半導体微粒子蛍光体の分散状態に図37に示す如くの違いが生じた。
 図37に示すように、実施例B1および実施例B2においては、XY平面内において規則的に半導体微粒子蛍光体が配列しているのに対し、比較例B1においては、XY平面内において半導体微粒子蛍光体が無秩序に位置している。これは、実施例B1および実施例B2においては、半導体微粒子蛍光体を揮発性溶剤に分散させた状態で青色LEDに塗布し、その後揮発性溶剤を揮発させたためであると考えられる。より詳細には、揮発性溶剤の揮発が進むと、揮発性溶剤が青色LED上に厚さ数nm~数十nm程度で覆う状態になると考えられ、このときに半導体微粒子蛍光体が自己組織化によって層状に規則的に配列するものと考えられる。
 また、実施例B1および実施例B2に係る発光装置の波長変換部材が、いずれも図14および図9に示すように、半導体微粒子蛍光体が波長変換部材の片面側に局在していることも確認された。さらに、実施例B1および実施例B2においては、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体がXY平面内において六方格子状に配列することが確認された。
 [検討B2]
 次に、半導体微粒子蛍光体の分散状態の違いが発光装置の発光効率に与える影響について検討する。当該検討には、実施例B1、実施例B2および比較例B1を参照する。
 実施例B1、実施例B2および比較例B1においては、いずれも半導体微粒子蛍光体の含有量とシリコーン樹脂の含有量とがほぼ同等とされている。しかしながら、実施例B1、実施例B2、比較例B1に係る発光装置の発光効率は、図37に示すように、それぞれ53.5lm/W、35.8lm/W、27.1lm/Wであった。このように、実施例B1および実施例B2に係る発光装置では、いずれも比較例B1に係る発光装置よりも高い発光効率が得られることが確認できた。
 以上の結果は、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に上述した如くの特定の異方性をもたせることにより、発光装置の発光効率を向上させることができることを意味している。すなわち、XY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くすることにより、蛍光の再吸収が抑制できて発光装置の発光効率が向上したものと判断される。
 また、特にその詳細は示さないが、実施例B1および実施例B2に係る発光装置の波長変換部材にあっては、比較例B1に係る発光装置の波長変換部材よりも励起光の吸収率が向上するとともに、外部量子効率(EQE)も向上していることが確認された。これは、実施例B1および実施例B2に係る発光装置の波長変換部材においては、比較例B1に係る発光装置の波長変換部材よりも、XY平面内における半導体微粒子蛍光体の分散濃度が高まったためであると考えられる。
 [検討B3]
 次に、半導体微粒子蛍光体を種類毎に発光波長および粒子径に基づいて層状に積層する場合に、その積層順の違いが発光装置の発光効率に与える影響について検討する。当該検討には、実施例B1、実施例B2および比較例B1を参照する。
 図37に示すように、半導体微粒子蛍光体の分散状態または積層順が異なる、実施例B1と、実施例B3と、比較例B1とを比較した場合に、比較例B1よりも実施例B1および実施例B3の方が、発光装置の発光効率が高くなっていることが確認できる。これは、波長変換部材のXY平面内における半導体微粒子蛍光体の濃度が向上しているために、蛍光の再吸収が比較的抑制できた結果であると考えられる。
 また、図37に示すように、実施例B3よりも実施例B1の方が、さらに発光装置の発光効率が高くなっていることが確認できる。これは、波長変換部材のZ軸方向に半導体微粒子蛍光体をその種類毎に分離して層状に積層し、かつ発光波長が長く粒子径の大きい種類の半導体微粒子蛍光体を波長変換部材の入射面側に配置したために、傾向の再吸収がさらに抑制できた結果であると考えられる。より詳細には、実施例B1においては、緑色半導体微粒子蛍光体を赤色半導体微粒子蛍光体よりも波長変換部材の出射面側に配置したために、緑色半導体微粒子蛍光体の発する蛍光を赤色半導体微粒子蛍光体が再吸収せずに光の損失が生じ難いのに対し、実施例B3においては、赤色半導体微粒子蛍光体を緑色半導体微粒子蛍光体よりも波長変換部材の出射面側に配置したために、赤色半導体微粒子蛍光体の発する蛍光を緑色半導体微粒子蛍光体が再吸収して光の損失が発生し易くなったためであると考えられる。
 以上の結果は、波長変換部材のXY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くし、さらにZ軸方向においても半導体微粒子蛍光体を種類毎に分離して発光波長および粒子径に基づいて層状に積層することにより、蛍光の再吸収が抑制できて波長変換部材の発光効率が向上することを意味している。
 [検討B4]
 次に、半導体微粒子蛍光体の種類の数の違いが発光装置の発光効率および演色性指数に与える影響と、半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルの半値幅の違いが発光装置の演色性指数に与える影響とについて検討する。当該検討には、実施例B1,B4~B6を参照する。図39は、実施例B1,B4~B6における、半導体微粒子蛍光体の種類の数と発光装置の発光効率および演色性指数Raとの相関関係を示すグラフである。図39においては、横軸に半導体微粒子蛍光体の種類の数を表わし、縦軸に発光装置の発光効率[lm/W]および演色性指数を表わしている。また、図40は、実施例B1,B4~B6における、半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルの半値幅と発光装置の演色性指数との相関関係を示すグラフである。図40においては、横軸に半導体微粒子蛍光体の半値幅[nm]を表わし、縦軸に発光装置の演色性指数を表わしている。
 図39に示すように、波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体の種類の数が増加するにつれて、発光装置の発光効率が低下する傾向が見られる。これは、半導体微粒子蛍光体の種類の数が増加するにつれて、蛍光の再吸収が生じる割合が増加するためと考えられ、当該観点からは、半導体微粒子蛍光体の種類の数としては、より少ないことが好ましいことが確認された。
 一方、図39に示すように、波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体の種類の数が増加するにつれて、発光装置の演色性指数Raが向上する傾向が見られる。これは、半導体微粒子蛍光体の種類の数が増加するにつれて、発光装置の発光スペクトルがより連続的なスペクトルに近づくためと考えられ、当該観点からは、半導体微粒子蛍光体の種類の数としては、より多いことが好ましいことが確認された。
 以上の結果より、発光効率と演色性指数の両立が可能となる実用性の高い発光装置を実現するためには、発光装置に具備される波長変換部材として、半導体微粒子蛍光体の種類の数が2~4種であるものを使用することが好ましいことが確認された。
 また、図40に示すように、波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体の半値幅の広いものを使用した発光装置の方が、波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体の半値幅の狭いものを使用した発光装置に比べて、演色性指数が向上している傾向が見られた。したがって、発光装置に組み込まれる波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体の半値幅としては、50nm以上とされることが好ましいことが確認された。
 [検討B5]
 次に、半導体微粒子蛍光体の分散状態の違いが発光装置の波長変換部材の薄型化に与える影響について検討する。当該検討には、実施例B1,B7~B9および比較例B1~B4を参照する。図41は、実施例B1,B7~B9および比較例B1~B4における各種試作結果を示す表である。
 図41に示すように、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有する実施例B1,B7~B9に係る発光装置にあっては、半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を30.5μmにまで薄型化した場合にも、白色光を出射可能な発光装置とすることが確認された。しかしながら、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有しない比較例B1~B4に係る発光装置にあっては、白色光を出射可能な発光装置とするために、半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を最小で75.8μmにまでしか薄型化できなかった。
 以上の結果は、波長変換部材のXY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くすることにより、励起光の吸収率を高く維持したまま発光装置の波長変換部材を薄型化できることを意味しており、これにより全体として薄型化された発光装置とすることができることが理解される。
 [検討B6]
 次に、発光素子の種類の違いが発光装置の発光効率に与える影響について検討する。当該検討には、実施例B1,B10~B13および比較例B1,B5~B8を参照する。図42は、実施例B1,B10~B13および比較例B1,B5~B8における、発光素子の種類と発光効率との相関関係を示すグラフである。図42においては、横軸に発光素子の種類を表わし、縦軸に発光効率[lm/W]を表わしている。
 図42に示すように、実施例B1、B10~B13に係る発光装置は、それぞれ比較例B1、B5~B8に係る発光装置よりもいずれも高い発光効率となることが確認された。すなわち、発光素子として、青色LED、青紫LED、青色LD、青紫色LDおよび青色ELのいずれを使用した場合にも、実施例に係る発光装置とすることで比較例に係る発光装置よりも発光効率に改善が見られることが確認された。
 以上の結果は、波長変換部材のXY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くすることにより、発光素子の種類の如何を問わず、蛍光の再吸収が抑制できて高い発光効率が実現できる発光装置とできることを意味している。
 なお、以上においては、発光装置の波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体としてInP/ZnS半導体微粒子蛍光体を使用した場合の試験結果を実施例B1~B13および比較例B1~B8として例示して説明を行なったが、他の種類の半導体微粒子蛍光体を使用した場合にも、同様の傾向が見られることが実験的に確認されている。すなわち、種々の半導体微粒子蛍光体を用いて波長変換部材を試作してこれを発光装置に組み込んで評価を行なった結果、半導体微粒子蛍光体の分散状態の違いが発光装置の波長変換部材の発光効率に与える影響が、上述したInP/ZnS半導体微粒子蛍光体を用いて波長変換部材を試作してこれを発光装置に組み込んだ場合と同様であることが本発明者によって確認されている。
 図43は、上記種々の半導体微粒子蛍光体を用いて製造した波長変換部材を含む発光装置の発光効率を示すグラフである。ここで、図43においては、横軸に半導体微粒子蛍光体の種類を表わし、縦軸に発光装置の発光効率[lm/W]を表わしている。
 図43に示すように、半導体微粒子蛍光体として、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体を用いた場合のみならず、InP/ZnSe半導体微粒子蛍光体、InP/ZnS/SiO2半導体微粒子蛍光体、Ga0.5In0.5P/ZnS半導体微粒子蛍光体、InN/GaN半導体微粒子蛍光体、Ga0.4In0.6N/GaN半導体微粒子蛍光体、CdSe/ZnS半導体微粒子蛍光体、ZnCdSe/ZnS半導体微粒子蛍光体を用いた場合にも、発光装置の発光効率が向上することが確認されている。
 <実施例C1~C11および比較例C1~C10>
 図44は、実施例C1~C11および比較例C1~C10に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等をまとめた表である。図45は、実施例C1に係る画像表示装置に使用した発光装置の発光スペクトルを示すグラフである。図45においては、横軸に波長[nm]を表わし、縦軸に発光強度を示している。なお、図44に示す画像表示装置の画面輝度、NTSC比および白色表示した場合の色温度および色度座標(u′,v′)の測定には、大塚電子株式会社製の発光測定システムMCPD-7000を使用した。また、画面輝度については、比較例C1の画像表示装置の画面輝度を1(すなわち100%)とした場合の相対値を示している。
 まず、実施例および比較例に係る画像表示装置に具備させた波長変換部材の具体的な製造方法について説明する。なお、実施例に係る画像表示装置は、波長変換部材として上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有する波長変換部材を具備させたものであり、比較例に係る画像表示装置は、波長変換部材として上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有しない波長変換部材を具備させたものである。また、実施例に係る画像表示装置に具備させた波長変換部材においては、450nmの励起光を90%程度吸収し、各半導体微粒子蛍光体の発光が同程度の強度となるように、各種半導体微粒子蛍光体の量や光透過性部材の量を調整して製造した。
 (実施例C1)
 実施例C1では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図21に示す如くの画像表示装置を製造した。
 まず、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体0.75mgをトルエン溶媒に分散させた。この分散液を上記青色LED上に塗布し、トルエン溶媒を揮発させた。次に、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体4.12mgをトルエン溶媒に分散させ、この分散液をさらに上記青色LED上に塗布し、トルエン溶媒を揮発させた。
 次に、シリコーン樹脂A液を500.5mg、シリコーン樹脂B液を498.9mg秤量し、これらを混合した。混合後のシリコーン樹脂を上記青色LED上に塗布し、80℃で1時間、150℃で5時間加熱硬化させることにより、発光装置を得た。
 次に、当該発光装置上に導光板と画像表示部を設け、これにより実施例C1に係る画像表示装置を得た。
 実施例C1に係る画像表示装置に具備させた波長変換部材をTEMで直接観察したところ、図44に示すように、XY平面内において半導体微粒子蛍光体が六方格子状に配列している(図15参照)とともに、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体が種類毎に層状に配列している(図14参照)ことが確認された。
 また、実施例C1で使用した発光装置を発光させたところ、図45に示すような発光スペクトルが得られることが確認された。
 また、図44に示すように、実施例C1に係る画像表示装置の画面輝度が142.4%であり、NTSC比が108.2%であり、色温度が9921Kであり、色度座標(u′,v′)が(0.187,0.443)であることが確認された。
 (実施例C2)
 実施例C2では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図11に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図21に示す如くの画像表示装置を製造した。
 まず、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体0.70mgおよびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体5.41mgを混合し、その後これらをトルエン溶媒に分散させた。この分散液を上記青色LED上に塗布し、トルエン溶媒を揮発させた。
 次に、シリコーン樹脂A液を500.3mg、シリコーン樹脂B液を494.6mg秤量し、これらを混合した。混合後のシリコーン樹脂を上記青色LED上に塗布し、80℃で1時間、150℃で5時間加熱硬化させることにより、発光装置を得た。
 次に、当該発光装置上に導光板と画像表示部を設け、これにより実施例C2に係る画像表示装置を得た。
 実施例C2に係る画像表示装置に具備させた波長変換部材をTEMで直接観察したところ、図44に示すように、XY平面内において半導体微粒子蛍光体が六方格子状に配列している(図10参照)とともに、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体が層状に配列している(図9参照)ことが確認された。
 また、図44に示すように、実施例C2に係る画像表示装置の画面輝度が112.0%であり、NTSC比が109.2%であり、色温度が10110Kであり、色度座標(u′,v′)が(0.189,0.440)であることが確認された。
 (実施例C3~C6)
 実施例C3では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が405nmであるInGaN半導体活性層を有する青紫色LEDとを組み合わせて図21に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、実施例C1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数と発光素子の種類である。なお、当該実施例C3に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 実施例C4では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LDとを組み合わせて図21に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、実施例C1との相違点は、発光素子の種類である。なお、当該実施例C4に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 実施例C5では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が405nmであるInGaN半導体活性層を有する青紫色LDとを組み合わせて図21に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、実施例C1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数と発光素子の種類である。なお、当該実施例C5に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 実施例C6では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が480nmであるFIrpic発光層を有する青色ELとを組み合わせて図26に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、実施例C1との相違点は、発光素子の種類である。なお、当該実施例C6に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 (実施例C7)
 実施例C7では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図24に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、実施例C1との相違点は、画像表示装置の構造であり、具体的には、実施例C7においては、波長変換部材を照射部に組み込まずに画像表示部に組み込んでいる。なお、当該実施例C7に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 (実施例C8~C10)
 実施例C8~C10では、図44に示すように、上述した実施例C7の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図24に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、実施例C7との相違点は、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体およびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体の含有量であり、実施例C8~C10においては、これらの含有量を大幅に変化させることでこれら半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を変化させている。なお、当該実施例C8~C10に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 (実施例C11)
 実施例C11では、図44に示すように、上述した実施例C6の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が480nmであるFIrpic発光層を有する青色ELとを組み合わせて図28に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、実施例C6との相違点は、画像表示装置の構造であり、具体的には、実施例C11においては、波長変換部材を照射部に組み込まずに画像表示部に組み込んでいる。なお、当該実施例C11に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 (比較例C1)
 比較例C1では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図21に示す如くの画像表示装置を製造した。
 まず、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体0.64mgおよびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体6.31mgを混合した。次に、シリコーン樹脂A液を488.3mg、シリコーン樹脂B液を498.2mg秤量し、これらを混合した。
 混合後のシリコーン樹脂に上記混合後の半導体微粒子蛍光体を混合して分散させ、これを青色LED上に塗布し、80℃で1時間、150℃で5時間加熱硬化させることにより、発光装置を得た。
 次に、当該発光装置上に導光板と画像表示部を設け、これにより比較例C1に係る画像表示装置を得た。
 比較例C1に係る画像表示装置に具備させた波長変換部材をTEMで直接観察したところ、図44に示すように、XY平面内において半導体微粒子蛍光体がランダムに分散している(図51参照)とともに、Z軸方向に半導体微粒子蛍光体がランダムに分散している(図50参照)ことが確認された。
 また、図44に示すように、比較例C1に係る画像表示装置の画面輝度が100.0%であり、NTSC比が107.2%であり、色温度が9907Kであり、色度座標(u′,v′)が(0.187,0.443)であることが確認された。
 (比較例C2~C5)
 比較例C2では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が405nmであるInGaN半導体活性層を有する青紫色LEDとを組み合わせて図21に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、比較例C1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数と発光素子の種類である。なお、当該比較例C2に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 比較例C3では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LDとを組み合わせて図21に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、比較例C1との相違点は、発光素子の種類である。なお、当該比較例C3に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 比較例C4では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS青色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が405nmであるInGaN半導体活性層を有する青紫色LDとを組み合わせて図21に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、比較例C1との相違点は、半導体微粒子蛍光体の種類の数と発光素子の種類である。なお、当該比較例C4に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 比較例C5では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図16に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が480nmであるFIrpic発光層を有する青色ELとを組み合わせて図26に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、比較例C1との相違点は、発光素子の種類である。なお、当該比較例C5に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 (比較例C6)
 比較例C6では、図44に示すように、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図24に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、比較例C1との相違点は、画像表示装置の構造であり、具体的には、比較例C6においては、波長変換部材を照射部に組み込まずに画像表示部に組み込んでいる。なお、当該比較例C6に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 (比較例C7~C9)
 比較例C7~C9では、図44に示すように、上述した比較例C6の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が450nmであるInGaN半導体活性層を有する青色LEDとを組み合わせて図24に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、比較例C6との相違点は、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体およびInP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体の含有量であり、比較例C7~C9においては、これらの含有量を大幅に変化させることでこれら半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を変化させている。なお、当該比較例C7~C9に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 (比較例C10)
 比較例C10では、図44に示すように、上述した比較例C5の場合と同様に、InP/ZnS赤色半導体微粒子蛍光体と、InP/ZnS緑色半導体微粒子蛍光体と、シリコーン樹脂SCR-1015とから構成される波長変換部材を、上述した図53に示す如くの製造方法に従って製造するとともに、当該製造された波長変換部材と、発光スペクトルのピーク波長が480nmであるFIrpic発光層を有する青色ELとを組み合わせて図28に示す如くの画像表示装置を製造した。ここで、比較例C5との相違点は、画像表示装置の構造であり、具体的には、比較例C10においては、波長変換部材を照射部に組み込まずに画像表示部に組み込んでいる。なお、当該比較例C10に係る画像表示装置の波長変換部材の組成や製造方法、当該画像表示装置の光学特性等を図44に示している。
 [検討C1]
 まず、波長変換部材の製造方法の違いが半導体微粒子蛍光体の分散状態に与える影響について検討する。当該検討には、実施例C1、実施例C2および比較例C1を参照する。
 実施例C1、実施例C2および比較例C1においては、いずれも半導体微粒子蛍光体の含有量とシリコーン樹脂の含有量とがほぼ同等とされている。しかしながら、上述した製造方法の違いにより、波長変換部材中における半導体微粒子蛍光体の分散状態に図44に示す如くの違いが生じた。
 図44に示すように、実施例C1および実施例C2においては、XY平面内において規則的に半導体微粒子蛍光体が配列しているのに対し、比較例C1においては、XY平面内において半導体微粒子蛍光体が無秩序に位置している。これは、実施例C1および実施例C2においては、半導体微粒子蛍光体を揮発性溶剤に分散させた状態で青色LEDに塗布し、その後揮発性溶剤を揮発させたためであると考えられる。より詳細には、揮発性溶剤の揮発が進むと、揮発性溶剤が青色LED上に厚さ数nm~数十nm程度で覆う状態になると考えられ、このときに半導体微粒子蛍光体が自己組織化によって層状に規則的に配列するものと考えられる。
 また、実施例C1および実施例C2に係る画像表示装置の波長変換部材が、いずれも図14および図9に示すように、半導体微粒子蛍光体が波長変換部材の片面側に局在していることも確認された。さらに、実施例C1および実施例C2においては、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体がXY平面内において六方格子状に配列することが確認された。
 [検討C2]
 次に、半導体微粒子蛍光体の分散状態の違いが画像表示装置の画面輝度に与える影響について検討する。当該検討には、実施例C1、実施例C2および比較例C1を参照する。
 実施例C1、実施例C2および比較例C1においては、いずれも半導体微粒子蛍光体の含有量とシリコーン樹脂の含有量とがほぼ同等とされている。しかしながら、実施例C1、実施例C2、比較例C1に係る画像表示装置の画面輝度は、図44に示すように、それぞれ142.4%、112.0%、100.0%であった。このように、実施例C1および実施例C2に係る画像表示装置では、いずれも実施例C1に係る画像表示装置よりも高い画面輝度が得られることが確認できた。
 以上の結果は、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に上述した如くの特定の異方性をもたせることにより、画像表示装置の画面輝度を向上させることができることを意味している。すなわち、XY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くすることにより、蛍光の再吸収が抑制できて画像表示装置の画面輝度が向上したものと判断される。
 また、特にその詳細は示さないが、実施例C1および実施例C2に係る画像表示装置の波長変換部材にあっては、比較例C1に係る画像表示装置の波長変換部材よりも励起光の吸収率が向上するとともに、外部量子効率(EQE)も向上していることが確認された。これは、実施例C1および実施例C2に係る画像表示装置の波長変換部材においては、比較例C1に係る画像表示装置の波長変換部材よりも、XY平面内における半導体微粒子蛍光体の分散濃度が高まったためであると考えられる。
 [検討C3]
 次に、発光素子の違いが画像表示装置の画面輝度に与える影響について検討する。当該検討には、実施例C1,C3~C6および比較例C1~C5を参照する。図46は、実施例C1,C3~C6および比較例C1~C5における、発光素子の種類と画面輝度との相関関係を示すグラフである。図46においては、横軸に発光素子の種類を表わし、縦軸に画面輝度[%]を表わしている。
 図46に示すように、実施例C1、C3~C6に係る画像表示装置は、それぞれ比較例C1~C5に係る画像表示装置よりもいずれも高い画面輝度となることが確認された。すなわち、発光素子として、青色LED、青紫LED、青色LD、青紫色LDおよび青色ELのいずれを使用した場合にも、実施例に係る画像表示装置とすることで比較例に係る画像表示装置よりも画面輝度に改善が見られることが確認された。
 以上の結果は、波長変換部材のXY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くすることにより、発光素子の種類の如何を問わず、蛍光の再吸収が抑制できて高い画面輝度が実現できる画像表示装置とできることを意味している。
 [検討C4]
 次に、半導体微粒子蛍光体の分散状態の違いが画像表示装置の波長変換部材の薄型化に与える影響について検討する。当該検討には、実施例C7~C10および比較例C6~C9を参照する。図47は、実施例C7~C10および比較例C6~C9における各種試作結果を示す表である。
 図47に示すように、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有する実施例C7~C10に係る画像表示装置にあっては、半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を33.8μmにまで薄型化した場合にも、白色光を出射可能な画像表示装置とすることが確認された。しかしながら、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性を有しない比較例C6~C9に係る発光装置にあっては、白色光を出射可能な画像表示装置とするために、半導体微粒子蛍光体が分散する部分の波長変換部材の膜厚を最小で61.4μmにまでしか薄型化できなかった。
 以上の結果は、波長変換部材のXY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くすることにより、励起光の吸収率を高く維持したまま画像表示装置の波長変換部材を薄型化できることを意味しており、これにより全体として薄型化された画像表示装置とすることができることが理解される。
 [検討C5]
 次に、画像表示装置の構造の違いが画像表示装置の画面輝度に与える影響について検討する。当該検討には、実施例C1,C7,C6,C11および比較例C1,C6,C5,C10を参照する。このうち、実施例C1および比較例C1に係る画像表示装置は、上述した図21に示す構造の画像表示装置であり、波長変換部材を照射部に含んでいる。一方、実施例C7および比較例C6に係る画像表示装置は、上述した図24に示す構造の画像表示装置であり、波長変換部材を画像表示部に含んでいる。また、実施例C6および比較例C5に係る画像表示装置は、上述した図26に示す構造の画像表示装置であり、波長変換部材を照射部に含んでいる。一方、実施例C11および比較例C10に係る画像表示装置は、上述した図28に示す構造の画像表示装置であり、波長変換部材を画像表示部に含んでいる。
 図44に示すように、実施例C1、C7,C6,C11に係る画像表示装置は、それぞれ比較例C1,C6,C5,C10に係る画像表示装置よりもいずれも高い画面輝度となることが確認された。すなわち、波長変換部材を照射部に含む構造および波長変換部材を画像表示部に含む構造のいずれを採用した場合にも、実施例に係る画像表示装置とすることで比較例に係る画像表示装置よりも画面輝度に改善が見られることが確認された。
 以上の結果は、波長変換部材のXY平面内において半導体微粒子蛍光体を高密度に充填させて当該XY面内方向における半導体微粒子蛍光体の分散濃度を高めるとともに、Z軸方向の半導体微粒子蛍光体の濃度を低くすることにより、画像表示装置の構造の如何を問わず、蛍光の再吸収が抑制できて高い画面輝度が実現できる画像表示装置とできることを意味している。
 なお、補足的な検討結果として、半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルの半値幅の違いが画像表示装置のNTSC比に与える影響について以下に述べる。図48は、半導体微粒子蛍光体の発光スペクトルの半値幅と画像表示装置のNTSC比との相関関係を示すグラフである。図48においては、横軸に半導体微粒子蛍光体の半値幅[nm]を表わし、縦軸に発光装置のNTSC比[%]を表わしている。なお、当該試験条件等の詳細な説明はここでは省略する。
 図48に示すように、波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体の半値幅の広いものを使用した画像表示装置の方が、波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体の半値幅の狭いものを使用した画像表示装置に比べて、NTSC比が高くなる傾向が確認された。ここで、当該図48から理解されるように、半導体微粒子蛍光体の半値幅とNTSC比が線形の関係にあると仮定したならば、NTSC比を80%以上に保つためには、画像表示装置に組み込まれる波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体の半値幅として50nm以下とすることが好ましいと言える。
 なお、以上においては、画像表示装置の波長変換部材に含まれる半導体微粒子蛍光体としてInP/ZnS半導体微粒子蛍光体を使用した場合の試験結果を実施例C1~C11および比較例C1~C10として例示して説明を行なったが、他の種類の半導体微粒子蛍光体を使用した場合にも、同様の傾向が見られることが実験的に確認されている。すなわち、種々の半導体微粒子蛍光体を用いて波長変換部材を試作してこれを画像表示装置に組み込んで評価を行なった結果、半導体微粒子蛍光体の分散状態の違いが画像表示装置の波長変換部材の画面輝度に与える影響が、上述したInP/ZnS半導体微粒子蛍光体を用いて波長変換部材を試作してこれを画像表示装置に組み込んだ場合と同様であることが本発明者によって確認されている。
 図49は、上記種々の半導体微粒子蛍光体を用いて製造した波長変換部材を含む画像表示装置の画面輝度を示すグラフである。ここで、図49においては、横軸に半導体微粒子蛍光体の種類を表わし、縦軸に画像表示装置の画面輝度[%]を表わしている。
 図49に示すように、半導体微粒子蛍光体として、InP/ZnS半導体微粒子蛍光体を用いた場合のみならず、InP/ZnSe半導体微粒子蛍光体、InP/ZnS/SiO2半導体微粒子蛍光体、Ga0.5In0.5P/ZnS半導体微粒子蛍光体、InN/GaN半導体微粒子蛍光体、Ga0.4In0.6N/GaN半導体微粒子蛍光体、CdSe/ZnS半導体微粒子蛍光体、ZnCdSe/ZnS半導体微粒子蛍光体を用いた場合にも、画像表示装置の画面輝度が向上することが確認されている。
 以上において説明した試験結果より、本発明が適用された波長変換部材、発光装置および画像表示装置とすることにより、従来の波長変換部材、発光装置および画像表示装置に比較して高い発光効率を有する波長変換部材およびこれを備えた発光装置ならびに画像表示装置とすることができることが確認できた。
 なお、以上においては、上述した本発明の実施の形態1ないし7に示した如くの、半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性をもたせた波長変換部材、これを備えた発光装置および画像表示装置を実際に試作して評価を行なった試験内容および試験結果のみを明示したが、本発明者は、上述した本発明の実施の形態15に示した如くの、波長変換層を半導体微粒子蛍光体の凝集体にて構成し、当該半導体微粒子蛍光体の粒子数に特定の異方性をもたせた波長変換部材、これを備えた発光装置および画像表示装置を実際に試作してその評価も行なった。当該評価に係る試験内容は、上述したものに準じており、当該評価に係る試験結果も、上述したものに準じたものとなったため、ここではその明示は省略するが、当該試験結果が上述したものに準じたものとなった理由は、波長変換層を半導体微粒子蛍光体の凝集体にて構成し、半導体微粒子蛍光体の粒子数に特定の異方性をもたせた波長変換部材、これを備えた発光装置および画像表示装置が、上述した半導体微粒子蛍光体の分散濃度に特定の異方性をもたせた波長変換部材、これを備えた発光装置および画像表示装置と比べた場合に、基本的に半導体微粒子蛍光体が光透光性部材によって封止されていない点においてのみ相違するものであるため、その光学特性が同等になったためと考察される。
 なお、本発明を適用することが可能な発光装置および画像表示装置としては、従来使用されている小型電球の代替光源、表示用光源、液晶パネル用のバックライト光源、一般照明器具、装飾照明器具、発光表示装置、ディスプレイ、プロジェクタ等、様々な製品が想定される。
 また、上述した本発明の実施の形態1ないし15において説明した波長変換部材や発光装置、画像表示装置の特徴的な構成は、装置構成上、許容される範囲で当然に相互に組み合わせることが可能である。
 このように、今回開示した上記各実施の形態および実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではない。本発明の技術的範囲は請求の範囲によって画定され、また請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
 10A~10H,10X 波長変換部材、11 入射面、12 出射面、13 光透過性部材、14,14a~14e,20A,20B 半導体微粒子蛍光体、21 コア部、22 有機化合物、23 シェル部、30,30′ 発光装置、31 半導体発光ダイオード素子(LED)、32 プリント配線板、33a,33b 電極、34 導電層、35 金属ワイヤ、36 枠体、37 封止樹脂層、40,40′ 発光装置、41 半導体レーザダイオード素子(LD)、42 ヒートシンク・ステム、43a,43b 端子ピン、45 金属ワイヤ、47 ウィンド・キャップ、48 サブマウント、50,50′ 発光装置、51 有機エレクトロルミネッセンス素子(EL)、51a 基板、51b 陽極部、51c 正孔注入層、51d 正孔輸送層、51e 発光層、51f 電子輸送層、51g 電子注入層、51h 陰極部、60 画像表示装置、61 導光板、62 画像表示部、63 光変換部、64 下部偏光板、65 下部透明導電膜、65a 下部電極、66 液晶層、66a,66b 配向膜、67 上部透明導電膜、67a 上部電極、68 カラーフィルタ、68a フィルタ部、69 上部偏光板、70 画像表示装置、71 導光板、72 画像表示部、73 光変換部、74 下部偏光板、75 下部透明導電膜、75a 下部電極、76 液晶層、76a,76b 配向膜、77 上部透明導電膜、77a 上部電極、78 波長変換板、79 上部偏光板、80 画像表示装置、82 画像表示部、83 光変換部、88 カラーフィルタ、88a フィルタ部、90 画像表示装置、92 画像表示部、93 光変換部、98 波長変換板、100 励起光、200 波長変換光、1000 波長変換層、1001 第1光透過性部材、1002 第2光透過性部材、1011 入射面、1012 出射面。

Claims (59)

  1.  光が入射する入射面(11)および光が出射する出射面(12)を含む光透過性部材(13)と、
     前記光透過性部材(13)の内部に分散配置され、励起光を吸収して波長変換して発光する半導体微粒子蛍光体(14)とを備えた波長変換部材であって、
     前記入射面(11)と前記出射面(12)とを結ぶ方向である光の進行方向に平行な方向における前記半導体微粒子蛍光体(14)の分散濃度が、前記光の進行方向と直交する方向における前記半導体微粒子蛍光体(14)の分散濃度に比べて低い、波長変換部材。
  2.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、前記光の進行方向と直交する面内において規則的に配列されている、請求項1に記載の波長変換部材。
  3.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、前記光の進行方向と直交する面内において六方格子状に充填されている、請求項2に記載の波長変換部材。
  4.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、前記光の進行方向と直交する面内において正方格子状に充填されている、請求項2に記載の波長変換部材。
  5.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、前記光透過性部材(13)の前記入射面(11)側または前記出射面(12)側のいずれかにのみ局在している、請求項1に記載の波長変換部材。
  6.  前記半導体微粒子蛍光体(14)として、発光波長の異なる複数種類の半導体微粒子蛍光体を含んでいる、請求項1に記載の波長変換部材。
  7.  前記発光波長の異なる複数種類の半導体微粒子蛍光体が、種類毎に分離されて前記光の進行方向に沿って層状に配置されている、請求項6に記載の波長変換部材。
  8.  前記種類毎に分離されて層状に配置されてなる複数種類の半導体微粒子蛍光体の各々の層が、当該層に含まれる半導体微粒子蛍光体の発光波長が前記入射面(11)側から前記出射面(12)側に向かうにつれて短波長になるように配列されている、請求項7に記載の波長変換部材。
  9.  前記種類毎に分離されて層状に配置されてなる複数種類の半導体微粒子蛍光体の各々の層が、当該層に含まれる半導体微粒子蛍光体の粒子径が前記入射面(11)側から前記出射面(12)側に向かうにつれて小さくなるように配列されている、請求項7に記載の波長変換部材。
  10.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、励起光を吸収して波長変換することで可視光を発する、請求項1に記載の波長変換部材。
  11.  前記光の進行方向に沿っての1μmあたりの吸光度が、0.02以上である、請求項1に記載の波長変換部材。
  12.  前記光の進行方向に沿っての厚みが、0.5nm以上50μm以下であり、
     入射した励起光の90%以上を吸収して波長変換する、請求項1に記載の波長変換部材。
  13.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、半導体材料からなるコア部(21)と、当該コア部(21)を覆い、当該コア部(21)とは異なる材料からなるシェル部(23)とを有している、請求項1に記載の波長変換部材。
  14.  前記コア部(21)が、III-V族化合物半導体材料からなる、請求項13に記載の波長変換部材。
  15.  前記コア部(21)が、InP、InN、InPの混晶およびInNの混晶のうちから選択されるいずれかの材料からなる、請求項13に記載の波長変換部材。
  16.  請求項1に記載の波長変換部材と、
     前記波長変換部材の前記入射面(11)に励起光を照射する発光素子とを備えた、発光装置。
  17.  前記発光素子が、半導体発光ダイオード素子(31)または半導体レーザダイオード素子(41)あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子(51)である、請求項16に記載の発光装置。
  18.  前記発光素子の発光スペクトルが、350nm以上420nm以下のピーク波長を有している、請求項16に記載の発光装置。
  19.  前記発光素子の発光スペクトルが、420nm以上480nm以下のピーク波長を有している、請求項16に記載の発光装置。
  20.  画像を表示可能な画像表示部と、
     前記画像表示部に後方から光を照射する照射部とを備え、
     前記画像表示部は、請求項1に記載の波長変換部材を含み、
     前記照射部は、前記波長変換部材の前記入射面に励起光を照射する発光素子を含んでいる、画像表示装置。
  21.  前記発光素子が、半導体発光ダイオード素子(31)または半導体レーザダイオード素子(41)あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子(51)である、請求項20に記載の画像表示装置。
  22.  前記発光素子の発光スペクトルが、350nm以上420nm以下のピーク波長を有している、請求項20に記載の画像表示装置。
  23.  前記発光素子の発光スペクトルが、420nm以上480nm以下のピーク波長を有している、請求項20に記載の画像表示装置。
  24.  画像を表示可能な画像表示部と、
     前記画像表示部に後方から光を照射する照射部とを備え、
     前記照射部は、請求項1に記載の波長変換部材と、当該波長変換部材の前記入射面に励起光を照射する発光素子とを含んでいる、画像表示装置。
  25.  前記発光素子が、半導体発光ダイオード素子(31)または半導体レーザダイオード素子(41)あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子(51)である、請求項24に記載の画像表示装置。
  26.  前記発光素子の発光スペクトルが、350nm以上420nm以下のピーク波長を有している、請求項24に記載の画像表示装置。
  27.  前記発光素子の発光スペクトルが、420nm以上480nm以下のピーク波長を有している、請求項24に記載の画像表示装置。
  28.  請求項1に記載の波長変換部材を製造するための方法であって、
     前記半導体微粒子蛍光体(14)を製作する工程と、
     前記半導体微粒子蛍光体(14)を液中に分散させた分散液を作製する工程と、
     前記分散液中において前記半導体微粒子蛍光体(14)を凝集および沈殿させて自己組織化させる工程とを備えた、波長変換部材の製造方法。
  29.  前記分散液を作製する工程において、前記半導体微粒子蛍光体(14)を分散させる液として揮発性溶剤を用い、
     前記半導体微粒子蛍光体(14)を自己組織化させた後に、前記揮発性溶剤を揮発させ、その後自己組織化した前記半導体微粒子蛍光体(14)を光透過性樹脂にて封止する工程をさらに備えた、請求項28に記載の波長変換部材の製造方法。
  30.  光が入射する入射面(1011)および光が出射する出射面(1012)を含む波長変換層(1010)と、
     前記波長変換層(1010)に位置し、励起光を吸収して波長変換して発光する半導体微粒子蛍光体(14)とを備えた波長変換部材であって、
     前記波長変換層(1010)が、前記半導体微粒子蛍光体(14)の凝集体にて構成され、
     前記入射面(1011)と前記出射面(1012)とを結ぶ方向である光の進行方向に平行な方向における前記半導体微粒子蛍光体(14)の粒子数が、前記光の進行方向と直交する方向における前記半導体微粒子蛍光体(14)の粒子数に比べて少ない、波長変換部材。
  31.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、前記光の進行方向と平行な方向に複数個積み重なっている、請求項30に記載の波長変換部材。
  32.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、前記光の進行方向と直交する面内において規則的に配列されている、請求項31に記載の波長変換部材。
  33.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、前記光の進行方向と直交する面内において六方格子状に充填されている、請求項32に記載の波長変換部材。
  34.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、前記光の進行方向と直交する面内において正方格子状に充填されている、請求項32に記載の波長変換部材。
  35.  前記半導体微粒子蛍光体(14)として、発光波長の異なる複数種類の半導体微粒子蛍光体を含んでいる、請求項30に記載の波長変換部材。
  36.  前記発光波長の異なる複数種類の半導体微粒子蛍光体が、種類毎に分離されて前記光の進行方向に沿って層状に配置されている、請求項35に記載の波長変換部材。
  37.  前記種類毎に分離されて層状に配置されてなる複数種類の半導体微粒子蛍光体の各々の層が、当該層に含まれる半導体微粒子蛍光体の発光波長が前記入射面(1011)側から前記出射面(1012)側に向かうにつれて短波長になるように配列されている、請求項36に記載の波長変換部材。
  38.  前記種類毎に分離されて層状に配置されてなる複数種類の半導体微粒子蛍光体の各々の層が、当該層に含まれる半導体微粒子蛍光体の粒子径が前記入射面(1011)側から前記出射面(1012)側に向かうにつれて小さくなるように配列されている、請求項36に記載の波長変換部材。
  39.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、励起光を吸収して波長変換することで可視光を発する、請求項30に記載の波長変換部材。
  40.  前記光の進行方向に沿っての1μmあたりの吸光度が、0.02以上である、請求項30に記載の波長変換部材。
  41.  前記光の進行方向に沿っての厚みが、0.5nm以上50μm以下であり、
     入射した励起光の90%以上を吸収して波長変換する、請求項30に記載の波長変換部材。
  42.  前記半導体微粒子蛍光体(14)が、半導体材料からなるコア部(21)と、当該コア部(21)を覆い、当該コア部(21)とは異なる材料からなるシェル部(23)とを有している、請求項30に記載の波長変換部材。
  43.  前記コア部(21)が、III-V族化合物半導体材料からなる、請求項42に記載の波長変換部材。
  44.  前記コア部(21)が、InP、InN、InPの混晶およびInNの混晶のうちから選択されるいずれかの材料からなる、請求項42に記載の波長変換部材。
  45.  前記入射面(1011)および前記出射面(1012)を覆うように前記半導体微粒子蛍光体(14)の凝集体にて構成された前記波長変換層(1010)が一対の光透過性部材(1001,1002)によって挟み込まれている、請求項30に記載の波長変換部材。
  46.  請求項30に記載の波長変換部材と、
     前記波長変換部材の前記入射面(1011)に励起光を照射する発光素子とを備えた、発光装置。
  47.  前記発光素子が、半導体発光ダイオード素子(31)または半導体レーザダイオード素子(41)あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子(51)である、請求項46に記載の発光装置。
  48.  前記発光素子の発光スペクトルが、350nm以上420nm以下のピーク波長を有している、請求項46に記載の発光装置。
  49.  前記発光素子の発光スペクトルが、420nm以上480nm以下のピーク波長を有している、請求項46に記載の発光装置。
  50.  画像を表示可能な画像表示部と、
     前記画像表示部に後方から光を照射する照射部とを備え、
     前記画像表示部は、請求項30に記載の波長変換部材を含み、
     前記照射部は、前記波長変換部材の前記入射面に励起光を照射する発光素子を含んでいる、画像表示装置。
  51.  前記発光素子が、半導体発光ダイオード素子(31)または半導体レーザダイオード素子(41)あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子(51)である、請求項50に記載の画像表示装置。
  52.  前記発光素子の発光スペクトルが、350nm以上420nm以下のピーク波長を有している、請求項50に記載の画像表示装置。
  53.  前記発光素子の発光スペクトルが、420nm以上480nm以下のピーク波長を有している、請求項50に記載の画像表示装置。
  54.  画像を表示可能な画像表示部と、
     前記画像表示部に後方から光を照射する照射部とを備え、
     前記照射部は、請求項30に記載の波長変換部材と、当該波長変換部材の前記入射面に励起光を照射する発光素子とを含んでいる、画像表示装置。
  55.  前記発光素子が、半導体発光ダイオード素子(31)または半導体レーザダイオード素子(41)あるいは有機エレクトロルミネッセンス素子(51)である、請求項54に記載の画像表示装置。
  56.  前記発光素子の発光スペクトルが、350nm以上420nm以下のピーク波長を有している、請求項54に記載の画像表示装置。
  57.  前記発光素子の発光スペクトルが、420nm以上480nm以下のピーク波長を有している、請求項54に記載の画像表示装置。
  58.  請求項30に記載の波長変換部材を製造するための方法であって、
     前記半導体微粒子蛍光体(14)を製作する工程と、
     前記半導体微粒子蛍光体(14)を液中に分散させた分散液を作製する工程と、
     前記分散液中において前記半導体微粒子蛍光体(14)を凝集および沈殿させて自己組織化させる工程とを備えた、波長変換部材の製造方法。
  59.  前記分散液を作製する工程において、前記半導体微粒子蛍光体(14)を分散させる液として揮発性溶剤を用い、
     前記半導体微粒子蛍光体(14)を自己組織化させた後に前記揮発性溶剤を揮発させることにより、前記半導体微粒子蛍光体(14)の凝集体にて構成された前記波長変換層(1010)を製作する工程をさらに備えた、請求項58に記載の波長変換部材の製造方法。
PCT/JP2011/054270 2010-03-03 2011-02-25 波長変換部材、発光装置および画像表示装置ならびに波長変換部材の製造方法 WO2011108449A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP11750559.4A EP2544253A4 (en) 2010-03-03 2011-02-25 WAVE LENGTH CONVERSION ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, IMAGE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE WAVE LENGTH REVERSE ELEMENT
US13/582,281 US8882299B2 (en) 2010-03-03 2011-02-25 Wavelength conversion member, light emitting device and image display device, and method for manufacturing wavelength conversion member

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010046147 2010-03-03
JP2010-046147 2010-03-03
JP2011030333A JP4949525B2 (ja) 2010-03-03 2011-02-16 波長変換部材、発光装置および画像表示装置ならびに波長変換部材の製造方法
JP2011-030333 2011-02-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011108449A1 true WO2011108449A1 (ja) 2011-09-09

Family

ID=44542102

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2011/054270 WO2011108449A1 (ja) 2010-03-03 2011-02-25 波長変換部材、発光装置および画像表示装置ならびに波長変換部材の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8882299B2 (ja)
EP (1) EP2544253A4 (ja)
JP (1) JP4949525B2 (ja)
WO (1) WO2011108449A1 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014034785A1 (ja) * 2012-08-29 2014-03-06 シャープ株式会社 発光素子および発光素子の製造方法
KR20140064979A (ko) * 2011-09-23 2014-05-28 나노코 테크놀로지스 리미티드 반도체 나노입자 기반 발광 물질들
US20140231854A1 (en) * 2013-02-19 2014-08-21 Michael A. Tishcler Engineered-phosphor led packages and related methods
WO2016098570A1 (ja) * 2014-12-15 2016-06-23 Jsr株式会社 有機el素子、硬化性樹脂組成物、波長変換部の形成方法および有機el装置
JP2017512874A (ja) * 2014-04-02 2017-05-25 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー チオエーテルリガンドを含む複合ナノ粒子
US10096751B2 (en) 2016-04-06 2018-10-09 Nichia Corporation Light emitting device
TWI729650B (zh) * 2018-12-21 2021-06-01 荷蘭商露明控股公司 經由led及轉換器之間的黏著劑層以改進光提取
US11217731B2 (en) 2018-12-21 2022-01-04 Lumileds Llc Light extraction through adhesive layer between LED and converter
TWI755618B (zh) * 2018-07-30 2022-02-21 美商亮銳公司 具有光散射調諧之發光器件以控制色彩偏移

Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11198270B2 (en) 2008-12-30 2021-12-14 Nanosys, Inc. Quantum dot films, lighting devices, and lighting methods
KR20200039806A (ko) 2010-11-10 2020-04-16 나노시스, 인크. 양자 도트 필름들, 조명 디바이스들, 및 조명 방법들
US20120235188A1 (en) * 2011-03-15 2012-09-20 Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. Method and Apparatus for a Flat Top Light Source
US9159886B2 (en) * 2011-04-19 2015-10-13 Intellectual Discovery Co., Ltd. Lighting apparatus with a carrier layer
US9082993B2 (en) * 2011-09-06 2015-07-14 Ezeddin Mohajerani Organic light emitting diodes having increased illumination
KR101854826B1 (ko) * 2011-10-21 2018-05-04 엘지이노텍 주식회사 표시장치
KR101854739B1 (ko) * 2011-11-01 2018-06-14 엘지이노텍 주식회사 광학 부재, 이를 포함하는 표시장치 및 이의 제조방법
DE102012202927B4 (de) * 2012-02-27 2021-06-10 Osram Gmbh Lichtquelle mit led-chip und leuchtstoffschicht
DE102012107290A1 (de) * 2012-08-08 2014-02-13 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Halbleiterbauteil, Konversionsmittelplättchen und Verfahren zur Herstellung eines Konversionsmittelplättchens
CN111500281A (zh) * 2012-10-25 2020-08-07 亮锐控股有限公司 用于硅酮中的量子点的基于pdms的配体
EP2912140B1 (en) 2012-10-25 2019-11-06 Lumileds Holding B.V. Pdms-based ligands for quantum dots in silicones
US9657920B2 (en) * 2012-11-09 2017-05-23 Saturn Licensing Llc Illumination device and display device
DE102013200509A1 (de) * 2013-01-15 2014-07-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronischer Halbleiterchip
US8933478B2 (en) 2013-02-19 2015-01-13 Cooledge Lighting Inc. Engineered-phosphor LED packages and related methods
JP2014165116A (ja) 2013-02-27 2014-09-08 Sony Corp 照明装置および表示装置
JP2014175362A (ja) * 2013-03-06 2014-09-22 Toshiba Corp 半導体発光素子及びその製造方法
JPWO2014208356A1 (ja) * 2013-06-25 2017-02-23 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム及び発光デバイス
JP6119490B2 (ja) * 2013-07-31 2017-04-26 ソニー株式会社 光源装置、および表示装置
JP6153813B2 (ja) * 2013-08-12 2017-06-28 富士フイルム株式会社 液晶表示装置
US20150123153A1 (en) * 2013-11-06 2015-05-07 General Electric Company Led package with red-emitting phosphors
TW201523934A (zh) * 2013-12-12 2015-06-16 Lextar Electronics Corp 封裝材料及包含其之發光二極體的封裝結構
JP2015207754A (ja) 2013-12-13 2015-11-19 日亜化学工業株式会社 発光装置
JP6334216B2 (ja) * 2014-03-14 2018-05-30 京セラ株式会社 半導体粒子ペースト
KR102204953B1 (ko) * 2014-06-25 2021-01-19 삼성디스플레이 주식회사 형광 시트 및 이를 포함하는 라이트 유닛과 액정 표시 장치
US9439989B2 (en) 2014-07-31 2016-09-13 Vital Vio, Inc. Disinfecting light fixture
US9333274B2 (en) 2014-07-31 2016-05-10 Vital Vio, Inc. Disinfecting light fixture
WO2016052627A1 (ja) * 2014-09-30 2016-04-07 富士フイルム株式会社 波長変換部材、バックライトユニット、液晶表示装置、量子ドット含有重合性組成物、および波長変換部材の製造方法
JP6236412B2 (ja) * 2014-09-30 2017-11-22 富士フイルム株式会社 波長変換部材、バックライトユニット、液晶表示装置、量子ドット含有重合性組成物、および波長変換部材の製造方法
DE102014222920A1 (de) * 2014-11-11 2016-05-12 Osram Oled Gmbh Licht emittierendes Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines Licht emittierenden Bauelements
JP6697272B2 (ja) 2015-01-19 2020-05-20 スタンレー電気株式会社 コアシェル構造を有する量子ドットとその製造方法
JP6544677B2 (ja) * 2015-03-13 2019-07-17 パナソニックIpマネジメント株式会社 蛍光体ホイール及びそれを用いた光源装置並びに投写型表示装置
CN104793397B (zh) * 2015-03-16 2018-11-02 厦门天马微电子有限公司 液晶显示模组及液晶显示装置
CN104696830A (zh) * 2015-03-30 2015-06-10 合肥京东方光电科技有限公司 一种背光模组、显示装置及背光模组的制作方法
CN106281320A (zh) * 2015-05-21 2017-01-04 隆达电子股份有限公司 荧光粉、其制备方法及包含其发光装置与背光模块
EP3314986A1 (en) 2015-06-26 2018-05-02 Kenall Manufacturing Company Single-emitter lighting device that outputs a minimum amount of power to produce integrated radiance values sufficient for deactivating pathogens
US10434202B2 (en) 2015-06-26 2019-10-08 Kenall Manufacturing Company Lighting device that deactivates dangerous pathogens while providing visually appealing light
US11273324B2 (en) 2015-07-14 2022-03-15 Illumipure Corp LED structure and luminaire for continuous disinfection
GB2556782B (en) 2015-07-30 2021-02-24 Vital Vio Inc Single diode disinfection
US10918747B2 (en) 2015-07-30 2021-02-16 Vital Vio, Inc. Disinfecting lighting device
US10357582B1 (en) 2015-07-30 2019-07-23 Vital Vio, Inc. Disinfecting lighting device
CN105301827B (zh) * 2015-11-13 2019-02-01 深圳市华星光电技术有限公司 量子点彩膜基板的制备方法及量子点彩膜基板
JP6387954B2 (ja) * 2015-12-24 2018-09-12 日亜化学工業株式会社 波長変換部材を用いた発光装置の製造方法
JP6638408B2 (ja) * 2016-01-12 2020-01-29 大日本印刷株式会社 高演色液晶表示装置およびカラーフィルタ
CN107304984B (zh) * 2016-04-22 2020-06-09 松下电器产业株式会社 波长转换部件以及投光灯
US10617774B2 (en) 2017-12-01 2020-04-14 Vital Vio, Inc. Cover with disinfecting illuminated surface
US10309614B1 (en) 2017-12-05 2019-06-04 Vital Vivo, Inc. Light directing element
FR3075404B1 (fr) * 2017-12-20 2020-02-28 Valeo Comfort And Driving Assistance Dispositif de generation d'images et afficheur tete haute associe
KR102585238B1 (ko) * 2017-12-28 2023-10-06 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
EP3760000B1 (en) * 2018-02-28 2023-09-27 SABIC Global Technologies B.V. Method and device for emitting radiation or heat from a surface
US10413626B1 (en) 2018-03-29 2019-09-17 Vital Vio, Inc. Multiple light emitter for inactivating microorganisms
US11171268B2 (en) 2018-09-26 2021-11-09 Nichia Corporation Light emitting device and method of manufacturing the same
US11639897B2 (en) 2019-03-29 2023-05-02 Vyv, Inc. Contamination load sensing device
US11541135B2 (en) 2019-06-28 2023-01-03 Vyv, Inc. Multiple band visible light disinfection
WO2021030748A1 (en) 2019-08-15 2021-02-18 Vital Vio, Inc. Devices configured to disinfect interiors
US11878084B2 (en) 2019-09-20 2024-01-23 Vyv, Inc. Disinfecting light emitting subcomponent
US11499707B2 (en) 2020-04-13 2022-11-15 Calyxpure, Inc. Light fixture having a fan and ultraviolet sterilization functionality
US11628234B2 (en) 2020-06-01 2023-04-18 Know Labs, Inc. White light LED light bulbs for ambient lighting and pathogen inactivation
KR102287241B1 (ko) * 2021-03-04 2021-08-06 에스케이씨하이테크앤마케팅(주) 양자점과 유기 나노형광체의 복합 시트 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
US11759540B2 (en) 2021-05-11 2023-09-19 Calyxpure, Inc. Portable disinfection unit

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004107572A (ja) * 2002-09-20 2004-04-08 Sharp Corp 蛍光体およびそれを含む照明装置と表示装置
JP2005285800A (ja) 2004-03-26 2005-10-13 Kyocera Corp 発光装置
JP2006313902A (ja) * 2005-05-02 2006-11-16 Samsung Electro Mech Co Ltd 白色発光素子
JP2009263621A (ja) * 2008-04-23 2009-11-12 Samsung Electronics Co Ltd 量子ドット−無機マトリックス複合体の製造方法
JP2009544805A (ja) * 2006-07-24 2009-12-17 ナノシス・インク. ナノ結晶でドープしたマトリックス

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950014541B1 (ko) * 1991-05-24 1995-12-05 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤 광선택흡수층 또는 뉴트럴 필터층을 갖는 컬러음극선관
US6501091B1 (en) * 1998-04-01 2002-12-31 Massachusetts Institute Of Technology Quantum dot white and colored light emitting diodes
JP2004083653A (ja) * 2002-08-23 2004-03-18 Sharp Corp 発光装置ならびに蛍光体およびその製造方法
US7312560B2 (en) 2003-01-27 2007-12-25 3M Innovative Properties Phosphor based light sources having a non-planar long pass reflector and method of making
JP2005056767A (ja) 2003-08-06 2005-03-03 Idemitsu Kosan Co Ltd 発光素子及び表示装置
JP4789809B2 (ja) 2004-01-15 2011-10-12 サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド ナノ結晶をドーピングしたマトリックス
TW200531315A (en) * 2004-01-26 2005-09-16 Kyocera Corp Wavelength converter, light-emitting device, method of producing wavelength converter and method of producing light-emitting device
JP4504056B2 (ja) 2004-03-22 2010-07-14 スタンレー電気株式会社 半導体発光装置の製造方法
JP4880887B2 (ja) * 2004-09-02 2012-02-22 株式会社東芝 半導体発光装置
JP5196711B2 (ja) 2005-07-26 2013-05-15 京セラ株式会社 発光装置およびそれを用いた照明装置
JP2007103513A (ja) 2005-09-30 2007-04-19 Kyocera Corp 発光装置
JP4931628B2 (ja) * 2006-03-09 2012-05-16 セイコーインスツル株式会社 照明装置及びこれを備える表示装置
JP2007266170A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Kyocera Corp 蛍光体の製造方法および波長変換器ならびに発光装置
KR100783251B1 (ko) 2006-04-10 2007-12-06 삼성전기주식회사 양자점을 이용한 다층 구조 백색 발광 다이오드 및 그의제조방법
KR100901947B1 (ko) 2006-07-14 2009-06-10 삼성전자주식회사 반도체 나노결정을 이용하는 백색 발광 다이오드 및 그의제조방법
JP4318710B2 (ja) 2006-10-12 2009-08-26 シャープ株式会社 ナノ結晶粒子蛍光体と被覆ナノ結晶粒子蛍光体、ならびに被覆ナノ結晶粒子蛍光体の製造方法
JP4984824B2 (ja) * 2006-10-26 2012-07-25 豊田合成株式会社 発光装置
WO2008102628A1 (ja) * 2007-02-23 2008-08-28 Kyocera Corporation 蛍光体およびその製法ならびに波長変換器、発光装置、照明装置
US8471283B2 (en) * 2008-02-25 2013-06-25 Kabushiki Kaisha Toshiba White LED lamp, backlight, light emitting device, display device and illumination device
JP2009206459A (ja) * 2008-02-29 2009-09-10 Sharp Corp 色変換部材およびそれを用いた発光装置
JP2009289829A (ja) 2008-05-27 2009-12-10 Citizen Electronics Co Ltd 発光装置
KR100933529B1 (ko) * 2008-05-28 2009-12-23 재단법인서울대학교산학협력재단 광자결정 구조체를 구비한 발광소자
US8492746B2 (en) * 2011-09-12 2013-07-23 SemiLEDs Optoelectronics Co., Ltd. Light emitting diode (LED) dice having wavelength conversion layers

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004107572A (ja) * 2002-09-20 2004-04-08 Sharp Corp 蛍光体およびそれを含む照明装置と表示装置
JP2005285800A (ja) 2004-03-26 2005-10-13 Kyocera Corp 発光装置
JP2006313902A (ja) * 2005-05-02 2006-11-16 Samsung Electro Mech Co Ltd 白色発光素子
JP2009544805A (ja) * 2006-07-24 2009-12-17 ナノシス・インク. ナノ結晶でドープしたマトリックス
JP2009263621A (ja) * 2008-04-23 2009-11-12 Samsung Electronics Co Ltd 量子ドット−無機マトリックス複合体の製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2544253A4

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017107245A (ja) * 2011-09-23 2017-06-15 ナノコ テクノロジーズ リミテッド 半導体ナノ粒子ベースの発光材料
KR20140064979A (ko) * 2011-09-23 2014-05-28 나노코 테크놀로지스 리미티드 반도체 나노입자 기반 발광 물질들
US10644207B2 (en) 2011-09-23 2020-05-05 Nanoco Technologies, Ltd. Semiconductor nanoparticle-based light emitting materials
JP2014531762A (ja) * 2011-09-23 2014-11-27 ナノコ テクノロジーズ リミテッド 半導体ナノ粒子ベースの発光材料
KR101987166B1 (ko) 2011-09-23 2019-06-10 나노코 테크놀로지스 리미티드 반도체 나노입자 기반 발광 물질들
US10312418B2 (en) 2011-09-23 2019-06-04 Nanoco Technologies Ltd. Semiconductor nanoparticle-based light emitting materials
WO2014034785A1 (ja) * 2012-08-29 2014-03-06 シャープ株式会社 発光素子および発光素子の製造方法
US8933479B2 (en) * 2013-02-19 2015-01-13 Cooledge Lighting Inc. Engineered-phosphor LED packages and related methods
US20140231854A1 (en) * 2013-02-19 2014-08-21 Michael A. Tishcler Engineered-phosphor led packages and related methods
JP2017512874A (ja) * 2014-04-02 2017-05-25 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー チオエーテルリガンドを含む複合ナノ粒子
JPWO2016098570A1 (ja) * 2014-12-15 2017-10-05 Jsr株式会社 有機el素子、硬化性樹脂組成物、波長変換部の形成方法および有機el装置
WO2016098570A1 (ja) * 2014-12-15 2016-06-23 Jsr株式会社 有機el素子、硬化性樹脂組成物、波長変換部の形成方法および有機el装置
US10096751B2 (en) 2016-04-06 2018-10-09 Nichia Corporation Light emitting device
US10734555B2 (en) 2016-04-06 2020-08-04 Nichia Corporation Light emitting device
US11038089B2 (en) 2016-04-06 2021-06-15 Nichia Corporation Light emitting device
TWI755618B (zh) * 2018-07-30 2022-02-21 美商亮銳公司 具有光散射調諧之發光器件以控制色彩偏移
TWI729650B (zh) * 2018-12-21 2021-06-01 荷蘭商露明控股公司 經由led及轉換器之間的黏著劑層以改進光提取
US11217731B2 (en) 2018-12-21 2022-01-04 Lumileds Llc Light extraction through adhesive layer between LED and converter

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011202148A (ja) 2011-10-13
EP2544253A1 (en) 2013-01-09
EP2544253A4 (en) 2014-06-04
JP4949525B2 (ja) 2012-06-13
US8882299B2 (en) 2014-11-11
US20120320607A1 (en) 2012-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4949525B2 (ja) 波長変換部材、発光装置および画像表示装置ならびに波長変換部材の製造方法
JP2011040486A (ja) 発光装置および画像表示装置
Bispo-Jr et al. Recent prospects on phosphor-converted LEDs for lighting, displays, phototherapy, and indoor farming
US9812617B2 (en) Light-emitting device and image display apparatus
JP4772105B2 (ja) 半導体発光装置およびそれを用いた画像表示装置
Su et al. Recent progress in quantum dot based white light-emitting devices
US9412905B2 (en) White light emitting device
US9236572B2 (en) Enhancement of light emission quantum yield in treated broad spectrum nanocrystals
CN110835534A (zh) 含荧光体构件和发光装置
DE112011100522T5 (de) Fluoreszierende Substanz, lichtemittierende Vorrichtung, Oberflächenlichtquellenvorrichtung, Anzeigevorrichtung und Beleuchtungsvorrichtung
US9577160B2 (en) Light-emitting device and image display
JP2011252117A (ja) 半導体微粒子蛍光体、ならびにそれを用いた波長変換部材、発光装置および画像表示装置
Wang et al. Study on the Mn-doped CsPbCl3 perovskite nanocrystals with controllable dual-color emission via energy transfer
Wu et al. A novel Mn 4+-activated layered oxide-fluoride perovskite-type KNaMoO 2 F 4 red phosphor for wide gamut warm white light-emitting diode backlights
Prodanov et al. Progress toward blue-emitting (460–475 nm) nanomaterials in display applications
Zhu et al. Composition engineering of lead-free double perovskites towards efficient warm white light emission for health and well-being
Chenna et al. Perovskite white light emitting diodes: a review
Wei et al. Color-converted white light-emitting diodes based on I-III-VI quantum dots: Package strategies and stability promotion
Li et al. Abnormal Bi3+ activated NIR phosphor toward multifunctional LED applications
Yuan et al. Eco-friendly all-inorganic CsPbX3 (X= Cl, Br, and I) perovskite nanocrystals in pyrophyllite for bright white light-emitting diodes
JP2012009443A (ja) 波長変換部材、発光装置および画像表示装置ならびに波長変換部材の製造方法
CN113185970B (zh) 窄带绿光发射有机无机杂化卤化铅钙钛矿材料、制备方法及其应用
Mohapatra et al. Recent Progress and Prospects on Metal Halide Perovskite Nanocrystals as Color Converters in the Fabrication of White Light-Emitting Diodes
Manders et al. Quantum dots for displays and solid state lighting
Lin et al. Introduction to the basic properties of luminescent materials

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11750559

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13582281

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011750559

Country of ref document: EP