WO2011018990A1 - 透明な高屈折率樹脂組成物 - Google Patents

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WO2011018990A1
WO2011018990A1 PCT/JP2010/063354 JP2010063354W WO2011018990A1 WO 2011018990 A1 WO2011018990 A1 WO 2011018990A1 JP 2010063354 W JP2010063354 W JP 2010063354W WO 2011018990 A1 WO2011018990 A1 WO 2011018990A1
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formula
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polymerizable monomer
resin
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健一 大澤
拓郎 小田
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日産化学工業株式会社
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    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07D251/00Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
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    • C07D251/26Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
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    • C07D251/34Cyanuric or isocyanuric esters
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    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
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    • C08F220/36Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00Properties
    • C08L2201/10Transparent films; Clear coatings; Transparent materials

Definitions

  • the present invention relates to a polymerizable monomer having a 1,3,5-triazine ring and a high-refractive index resin composition having good transparency obtained by using the polymerizable monomer.
  • (Meth) acrylic resins such as polymethyl methacrylate and transparent resins such as transparent epoxy resins and transparent silicone resins are lighter in weight and have better processability than windshield resins such as aircraft. Widely used in containers, transparent coating agents and the like. In recent years, resin products such as transparent resin lenses have been widely used in the field of optical components such as eyeglasses. Furthermore, in the field of electronic materials, the above-mentioned transparent resins are being used frequently in applications of optical electronic materials such as antireflection coating agents for liquid crystal displays, transparent coating agents for solar cells, light emitting diodes, and light receiving parts of CCDs and CMOS sensors. is there. In the use of such an optical electronic material, not only transparency but also a high refractive index is often required for improving light extraction efficiency and light collection.
  • Patent Documents 1 and 2 propose a technique in which a large amount of heavy atoms such as bromine and sulfur are bonded to an organic resin to improve the refractive index.
  • Patent Documents 3 and 4 propose a method in which inorganic oxide fine particles having a high refractive index are dispersed in an organic resin to improve the refractive index.
  • Patent Documents 1 and 2 since the obtained organic resin is generally unstable to heat and light, there is a problem in that it tends to cause deterioration such as discoloration during long-term use. When used for electronic material parts, there is a concern about corrosion of the electrodes.
  • the methods of Patent Documents 3 and 4 also have problems in the long-term storage stability of the obtained fine particle dispersed resin, and a large amount of dispersion is required to improve the dispersion stability of the inorganic oxide fine particles in the resin. Since a stabilizer is required, there is a problem that it becomes difficult to balance the refractive index and dispersion stability.
  • group is also known (patent document 5, 6).
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and is obtained using a polymerizable monomer capable of providing a resin having a good refractive index without using inorganic oxide fine particles and heavy atoms, and the same.
  • a transparent high refractive index resin composition is provided.
  • a polymerizable monomer having a predetermined 1,3,5-triazine ring can provide a transparent and high refractive index resin.
  • the present invention has been completed.
  • A is Formula (2).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • T represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms
  • R 2 represents O or NH
  • B 1 and B 2 are independently of each other formula (3), formula (4) or formula (5)
  • R 3 , R 4 and R 5 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group or an aryloxy group, and n1 and n3 are integers of 0 to 5)
  • N2 is an integer of 0 to 7.
  • R 3 , R 4 and R 5 when two or more of R 3 , R 4 and R 5 are present, they may be the same or different from each other. It is a group.
  • a high refractive index resin composition obtained by polymerizing 70 to 100 parts by weight of one polymerizable monomer and 0 to 30 parts by weight of another polymerizable monomer; 3. The other monomer is at least one selected from vinyl monomers, acrylic monomers, methacrylic monomers, allyl monomers, and maleic monomers.
  • Refractive index resin composition 4).
  • 2 or 3 high refractive index resins containing 0.1 to 20 parts by mass of at least one crosslinking agent selected from an epoxy compound, an isocyanate compound and an aminoplast compound with respect to 100 parts by mass of the resin in the resin composition A composition is provided.
  • the polymerizable monomer of the present invention is composed of four basic elements of carbon, hydrogen, nitrogen, oxygen organic resin, a high refractive index of 1.57 or more at a measurement wavelength of 633 nm, and By positively introducing a 1,3,5-triazine skeleton with excellent transparency, a resin composition that provides a resin film capable of exhibiting excellent heat resistance can be obtained. Therefore, by using this resin composition as a coating agent, it is possible to produce a resin film excellent in performance balance such as transparency, high refractive index, solvent resistance and heat resistance.
  • the polymerizable monomer having a 1,3,5-triazine ring according to the present invention is represented by the following formula (1).
  • A is a group represented by the following formula (2).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • T represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms
  • R 2 represents O or NH.
  • the alkylene group having 1 to 10 carbon atoms may be any of chain, branched, and cyclic, and specific examples thereof include a divalent functional group corresponding to an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms described in detail later. Among them, preferred are ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group and the like.
  • B 1 and B 2 are groups independently represented by the following formula (3), formula (4) or formula (5).
  • R 3 , R 4 and R 5 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group or an aryloxy group, n1 and n3 are integers of 0 to 5, and n2 is an integer of 0 to 7 It is an integer.
  • R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different from each other. That is, all groups present in two or more may be the same or a combination of plural kinds of substituents.
  • the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be any of chain, branched, and cyclic, and specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, cyclopropyl, n-butyl, i- Butyl, s-butyl, t-butyl, cyclobutyl, 1-methyl-cyclopropyl, 2-methyl-cyclopropyl, n-pentyl, 1-methyl-n-butyl, 2-methyl-n-butyl, 3-methyl- n-butyl, 1,1-dimethyl-n-propyl, 1,2-dimethyl-n-propyl, 2,2-dimethyl-n-propyl, 1-ethyl-n-propyl, cyclopentyl, 1-methyl-cyclobutyl, 2-methyl-cyclobutyl, 3-methyl-cyclobutyl, 1,2-dimethyl-cyclopropyl, 2,3-dimethyl-
  • the number of carbon atoms of the aryl group is not particularly limited, but preferably 6 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthranyl group, and among them, a phenyl group is preferable.
  • the number of carbon atoms of the aryloxy group is not particularly limited, but preferably 6 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a phenoxy group, a naphthoxy group, and an anthranyloxy group. Among them, a phenoxy group is preferable.
  • the aryl group and aryloxy group can also be used as an alkylated aryl group or alkylated aryloxy group substituted with an alkyl group as described above.
  • B 1 and B 2 have a phenoxy group which may have a substituent of the above formula (3) and a substitution of the formula (4) in order to simultaneously exhibit transparency and high refraction.
  • An naphthoxy group which may be substituted, or an anilino group which may have a substitution represented by the formula (5) is preferable.
  • examples of the polymer described in Patent Documents 5 and 6 described above are examples that have polymerizability but do not contain any aromatic ring.
  • a monomer obtained by reacting cyanuric chloride with a (meth) acrylic acid ester having a hydroxyl group and directly connecting three (meth) acrylic acid esters to triazine is used. Does not have any aromatic ring-containing substituents, and thus the resulting resin does not exhibit the high refractive index targeted by the present invention.
  • the polymerizable monomer of the present invention described above can be produced using a known organic synthesis reaction.
  • cyanuric halides such as cyanuric chloride
  • amines and alcohols corresponding to A, B 1 and B 2 can be obtained in the presence of a suitable organic solvent.
  • the raw material used for reaction can be obtained as a commercial item.
  • the high refractive index resin composition of the present invention may be a homopolymer of the above-described polymerizable monomer of the formula (1) or a copolymer of this with another polymerizable monomer that can be polymerized.
  • the other polymerizable monomer is not particularly limited as long as it has a functional group capable of reacting with the carbon-carbon double bond of the monomer of formula (1) to give a copolymer.
  • vinyl monomers, acrylic monomers, methacrylic monomers, allyl monomers, maleic monomers and the like can be mentioned.
  • vinyl monomers include aromatic vinyl compounds such as styrene, divinylbenzene, vinyl naphthalene, and divinyl naphthalene; vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl versatate, and vinyl adipate; vinyl methyl ketone, vinyl Vinyl ketones such as ethyl ketone; vinyl ethers such as vinyl methyl ether and vinyl ethyl ether; polydimethylsiloxane having a vinyl group at the terminal, polydiphenylsiloxane having a vinyl group at the terminal, polydimethylsiloxane having a vinyl group at the terminal Diphenylsiloxane copolymer, polydimethylsiloxane having vinyl group in the side chain, polydiphenylsiloxane having vinyl group in the side chain, polydimethylsiloxane-polydiphenylsiloxane copolymer having vinyl group in the side chain, etc. Vinyl group-containing silicones are
  • acrylic monomers include acrylic acid such as acrylic acid, methyl acrylate, octyl acrylate, stearyl acrylate, and esters thereof; bisphenol epoxy acrylate, phenol obtained by bonding acrylic acid to bisphenol epoxy resin Epoxy acrylates such as phenol novolac epoxy acrylate with acrylic acid bonded to novolac epoxy resin, cresol novolak epoxy acrylate with acrylic acid reacted with cresol novolac epoxy resin; acrylic acid bonded to polyester such as polyethylene phthalate and polybutylene phthalate Polyester acrylates; acrylic acid on isophorone diisocyanate polyurethane and hexamethylene diisocyanate polyurethane Urethane acrylates having engaged the like.
  • acrylic acid such as acrylic acid, methyl acrylate, octyl acrylate, stearyl acrylate, and esters thereof
  • bisphenol epoxy acrylate phenol obtained by bonding acrylic acid to bisphenol epoxy resin
  • Epoxy acrylates such as phenol novolac epoxy
  • methacrylic monomers include methacrylic acid and its esters such as methacrylic acid, methyl methacrylate, octyl methacrylate, stearyl methacrylate; bisphenol epoxy methacrylate, phenol obtained by binding methacrylic acid to a bisphenol epoxy resin
  • Epoxy methacrylates such as phenol novolac epoxy methacrylate with methacrylic acid bonded to novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy methacrylate with metholeic acid reacted with cresol novolac epoxy resin
  • methacrylic acid bonded to polyester such as polyethylene phthalate and polybutylene phthalate
  • Polyester methacrylates isophorone diisocyanate polyurethane and hexamethylene diisocyanate Urethane methacrylates bound with methacrylic acid in the system polyurethanes.
  • allylic monomer examples include aromatic allyl esters such as diallyl phthalate; heterocyclic allyl compounds such as triallyl cyanurate and triallyl isocyanurate.
  • maleic monomers include maleic acid, maleic anhydride, maleic acid monomethyl, maleic acid such as dimethyl maleate and esters thereof; maleic anhydride and polyols such as ethylene glycol and neopentyl glycol; Polyesters obtained by reacting maleic anhydride; monomaleimides such as phenylmaleimide and cyclohexylmaleimide obtained by reacting maleic anhydride with monoamine; diphenyl ether bismaleimide obtained by reacting maleic anhydride and diamine And bismaleimides.
  • the polymerizable monomers exemplified above may be used singly or in combination of two or more kinds, and different types of monomers may be used in combination.
  • the copolymerization ratio is preferably 30 parts by mass or less of the other polymerizable monomer with respect to 70 to 100 parts by mass of the polymerizable monomer of the formula (1), and the polymerizable monomer of the formula (1)
  • the amount of the other polymerizable monomer is preferably 20 parts by mass or less with respect to 80 to 100 parts by mass of the body.
  • the lower limit will not be specifically limited if it is the quantity exceeding 0 mass part.
  • the active species of the polymerization reaction in producing the high refractive index resin composition of the present invention is not particularly limited, but a radical polymerizable polymerization initiator is optimal.
  • examples of such polymerization initiators include organic peroxides such as benzoyl peroxide, azo polymerization initiators such as azobisisobutyronitrile, and redox initiators such as cumene hydroperoxide / cobalt naphthenate. Any radical polymerization initiator generally used may be used.
  • the amount of the polymerization initiator used can be about 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable monomer.
  • the specific polymerization reaction method is not particularly limited, and can be appropriately selected from known polymerization methods such as bulk polymerization, suspension polymerization, and solution polymerization, but the solution polymerization method is preferable. is there.
  • the organic solvent used for the polymerization is not particularly limited as long as it can produce a homopolymer or copolymer of the polymerizable monomer of the formula (1).
  • dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone Amide solvents such as tetrahydrofuran; Cyclic ether solvents such as tetrahydrofuran; Ketone solvents such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Ester solvents such as gamma butyrolactone; Halogen solvents such as dichloroethane; Aromatic solvents such as toluene and benzene; Or a mixed solvent thereof.
  • the resin composition solution after polymerization is used as it is, but for the purpose of removing a trace amount of residual monomer, the solution of the resin composition after polymerization is alcohol, hydrocarbon, etc.
  • the resin component solution may be prepared by reprecipitation of the resin component by re-precipitation, and filtering and drying the solution to dissolve again in the organic solvent.
  • the obtained resin composition can be similarly dissolved in an organic solvent to produce a resin composition solution.
  • the organic solvent to be used is not particularly limited as long as it can dissolve the resin, but amide solvents such as dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; cyclic ether solvents such as tetrahydrofuran; methyl ethyl ketone, A ketone solvent such as cyclohexanone; an ester solvent such as gamma butyrolactone is preferred.
  • a transparent resin film having a refractive index of 1.57 or more at a measurement wavelength of 633 nm is obtained by applying the solution of the high refractive index resin composition of the present invention obtained as described above to a substrate and drying it.
  • the physical properties of the obtained resin film can be further improved by adding a crosslinking agent to the resin composition solution.
  • the crosslinking agent is not particularly limited, and can be appropriately selected from those widely used in this type of resin composition.
  • an epoxy compound, an isocyanate compound, and an aminoplast compound can be used. 1 type (s) or 2 or more types of crosslinking agents chosen from these can be used.
  • the epoxy compound examples include liquid bisphenol A type epoxy resin, solid bisphenol A type epoxy resin, liquid bisphenol F type epoxy resin, solid bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, hydrogenation
  • examples thereof include bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, glycidyl methacrylate polymer, glycidyl methacrylate copolymer, and epoxidized soybean oil.
  • the isocyanate compound include bifunctional or higher isocyanate compounds such as toluylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and blocked isocyanates obtained by reacting these isocyanate compounds with caprolactam or oxime. Is mentioned.
  • an isocyanate compound it is preferably added to the resin composition solution immediately before use.
  • the aminoplast compound include urea resin, melamine resin, or benzoguanamine resin having two or more alkoxymethyl groups in the molecule, and among these, in particular, two or more alkoxymethyl groups in the molecule. A melamine resin having is preferred.
  • the amount of the crosslinking agent is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight, and even more preferably 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin solid content of the resin composition solution. .
  • the coating composition obtained by blending the crosslinking agent in the above-mentioned blending amount in addition to the main characteristics of the present invention such as transparency and high refractive index, the resulting resin film has solvent resistance and heat resistance. In addition, performance such as mechanical properties can be exhibited.
  • a crosslinking catalyst with the said crosslinking agent as needed.
  • specific examples thereof include acid catalysts such as acetic acid and p-toluenesulfonic acid; tertiary amine catalysts such as triethylamine; quaternary ammonium catalysts such as tetrabutylammonium bromide; quaternary phosphonium catalysts such as triphenylbenzylphosphonium chloride. It is done.
  • the amount of the crosslinking catalyst is usually about 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content of the resin composition solution.
  • the solid content is preferably 0.5 to 50% by mass.
  • the high refractive index resin is preferably 60 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass, and still more preferably 80 to 99.9% by mass.
  • the coating composition is applied onto a substrate using a spin coater, spray coater, doctor blade, bar coater or the like, and then heated at 100 to 250 ° C. using a heating device such as a hot plate, a hot air circulating dryer or an infrared furnace. It can be heated and cured with a resin film.
  • Example 7 A three-necked flask equipped with a nitrogen introduction tube was charged with 21.0 g of the polymerizable monomer (M1) obtained in Example 1, 7.5 g of butyl acrylate, 1.5 g of acrylic acid, and 69 g of cyclohexanone as a solvent. While stirring, 2 L of nitrogen was bubbled through the capillary tube. Thereafter, the capillary tube was removed, and a small amount of nitrogen was passed through the gas phase in the flask to block the air.
  • M1 polymerizable monomer
  • Example 8 to 12 Except for using the various polymerizable monomers obtained in Examples 2 to 6 above and adding them in the compositions shown in Table 1, the same solvents and their amounts, polymerization initiators and their amounts as in Example 7 were used. The solution polymerization was carried out in the same manner as in Example 7 to obtain a high refractive index resin solution. However, about Example 9, the reaction material was dripped slowly into 2 L of methanol stirred, and the resin content was reprecipitated. The precipitate was removed by suction filtration and dried in vacuo overnight to obtain a white powder. 15 g of this white powder was dissolved in 35 g of cyclohexanone to obtain a high refractive index resin solution P2.
  • Example 1 Except that the polymerizable monomer obtained in Example 4 was used and added in the composition shown in Table 1, the same solvent and its amount as in Example 7 and its polymerization initiator and its amount were used. Solution polymerization was carried out in the same manner as in No. 7 to obtain a comparative resin solution Q1.
  • each coating agent was applied onto a silicon wafer using a spin coater, dried at 100 ° C. for 1 hour, and then cured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a film having a thickness of 100 nm.
  • the refractive index at a measurement wavelength of 633 nm was measured for the obtained film using an automatic ellipsometer DVA-FLVW manufactured by Mizoji Optical Co., Ltd.
  • Solvent resistance test Each coating agent was applied to a silicon wafer using a spin coater, dried at 100 ° C. for 1 hour, and then cured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a film having a thickness of 1 ⁇ m.
  • the obtained silicon wafer with a coating having a thickness of 1 ⁇ m was immersed in N-methylpyrrolidone (NMP) for 3 minutes, and then the solvent was removed and dried at 200 ° C. for 1 minute.
  • NMP N-methylpyrrolidone
  • the film thickness of the film after drying was measured, and the case where the remaining film ratio (film thickness after test / film thickness before test ⁇ 100) was 60% or more was designated as “ ⁇ ”, and the rest was designated as “x”. evaluated.
  • Comparative Example 4 Using the polymerizable monomer M7 obtained in Comparative Example 3 instead of the polymerizable monomer M2, solution polymerization was performed in the same manner as in Example 8 to obtain a comparative resin solution Q2.
  • a coating composition D2 was produced in the same manner as in Example 14 except that the resin Q2 was used.
  • the coating liquid D2 prepared in Comparative Example 4 was cured in the same manner as in Example 13, and the film obtained was evaluated for light transmittance, refractive index, solvent resistance and liquid resin durability in the same manner as described above. did.
  • the coating liquid D3 of Comparative Example 6 was applied to a 4 cm ⁇ 4 cm quartz plate or silicon wafer using a spin coater, and irradiated with light so that the irradiation amount at a wavelength of 350 nm was 999 mJ with a metal halide lamp in a nitrogen atmosphere. Thereafter, the film was dried at 150 ° C. for 5 minutes to prepare a film. The obtained film was evaluated for light transmittance, refractive index, solvent resistance and liquid resin durability in the same manner as described above. The results are shown in Table 6.
  • the films obtained using the transparent high refractive index coating agents C1 to C6 prepared in Examples 13 to 18 are all highly transparent, and the constituent elements are carbon and hydrogen. It can be seen that the refractive index shows a high refractive index exceeding 1.57 at a measurement wavelength of 633 nm, although no elements other than the four elements oxygen, nitrogen and nitrogen are used. In addition to excellent solvent resistance, there is no change in the curing process with liquid resin, and it also has excellent adhesion with liquid resin after curing and with inorganic materials such as quartz. I understand. On the other hand, as shown in Tables 3 and 6, the films obtained from the coating agents D1 to D3 of Comparative Example 2, Comparative Example 4 and Comparative Example 6 have good transparency but have a refractive index. It can be seen that there are disadvantages such as low.
  • the coating agent containing the resin composition of the present invention has good adhesion to any of inorganic and organic materials, and also has good solvent resistance, even when the liquid resin is cured.
  • Light-emitting coating agent for light-emitting elements such as light-emitting diodes, CCDs, CMOS sensors, photocouplers, etc., which are assembled using both organic and inorganic materials, so that defects such as dissolution and peeling of the coating film do not occur
  • optoelectronic materials such as light guide materials such as elements, concentrating coating agents for solar cells, and lenticular lenses, and coating agents such as waveguides.

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Abstract

 式(1)で表される1,3,5-トリアジン環を有する重合性単量体。これにより、無機酸化物微粒子や重原子を使用しなくとも屈折率や透明性の良好な樹脂を得ることができる。 〔式(1)中、Aは、式(2)(式(2)中、R1は、水素原子またはメチル基を表し、Tは、炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、OまたはNHを表す。)で表される基であり、B1およびB2は、互いに独立して、式(3)、式(4)または式(5) (式(3)~(5)中、R3、R4およびR5は、炭素数1~10のアルキル基、アリール基、またはアリールオキシ基を表し、n1およびn3は、0~5の整数であり、n2は、0~7の整数である。ただし、R3、R4およびR5が、それぞれ2個以上存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。)で表される基である。〕

Description

透明な高屈折率樹脂組成物
 本発明は、1,3,5-トリアジン環を有する重合性単量体およびこれを用いて得られる透明性の良好な高屈折率樹脂組成物に関する。
 ポリメタクリル酸メチル等の(メタ)アクリル系樹脂や、透明エポキシ樹脂、透明シリコーン樹脂などの透明性樹脂は、ガラスに比較して軽量で、かつ、加工性に優れ、航空機等の風防樹脂、透明容器、透明コーティング剤等に広く用いられるようになってきた。
 また、近年では、眼鏡等の光学部品の分野でも透明樹脂レンズ等の樹脂製品が多用されつつある。
 さらに、電子材料の分野でも、液晶ディスプレイの反射防止コーティング剤、太陽電池用透明コーティング剤、発光ダイオード、CCDやCMOSセンサーの受光部等の光学電子材料の用途に上述の透明性樹脂が多用されつつある。このような光学電子材料の用途では、透明性ばかりでなく、光取り出し効率の向上や集光性の向上のために高い屈折率をも要求される場合が多い。
 しかし、従来の透明樹脂では、架橋等の手法によって、機械的物性を制御することはある程度可能であるものの、光学特性、特に屈折率に関しては、それを高めるために特殊な技術を必要としていた。
 例えば、特許文献1および2では、臭素や硫黄等の重原子を有機樹脂に多量に結合させてその屈折率を向上させる手法が提案されている。
 また、特許文献3および4では、高屈折率の無機酸化物微粒子を有機樹脂に分散してその屈折率を向上させる手法が提案されている。
 上記特許文献1および2の手法では、一般に、得られた有機樹脂が熱や光に対して不安定であるため、長期使用時に変色等の劣化を起こし易いという問題があるうえに、当該樹脂を電子材料部品用途に使用する場合は、電極の腐食等が懸念される。
 一方、特許文献3および4の手法でも、得られた微粒子分散樹脂の長期保存安定性などに問題があり、また、無機酸化物微粒子の樹脂中での分散安定性を改善するために多量の分散安定剤を必要とすることから、屈折率と分散安定性とのバランスをとるのが困難になるなどの課題があった。
 なお、高屈折率ではないが、重合性トリアジン系を用いた樹脂組成物も知られている(特許文献5,6)。
特開平5-164901号公報 特開2005-350531号公報 特開2007-270099号公報 特開2007-308631号公報 特開平7-157474号公報 特開平7-206832号公報
 本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、無機酸化物微粒子や重原子を使用しなくとも屈折率の良好な樹脂を与え得る重合性単量体およびこれを用いて得られる透明な高屈折率樹脂組成物を提供する。
 本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、所定の1,3,5-トリアジン環を有する重合性単量体が、透明で高屈折率の樹脂を与え得ることを見出し、本発明を完成した。
 すなわち、本発明は、
1. 式(1)で表されることを特徴とする1,3,5-トリアジン環を有する重合性単量体、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
〔式(1)中、Aは、式(2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
(式(2)中、R1は、水素原子またはメチル基を表し、Tは、炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、OまたはNHを表す。)で表される基であり、B1およびB2は、互いに独立して、式(3)、式(4)または式(5)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
(式(3)~(5)中、R3、R4およびR5は、炭素数1~10のアルキル基、アリール基、またはアリールオキシ基を表し、n1およびn3は、0~5の整数であり、n2は、0~7の整数である。ただし、R3、R4およびR5が、それぞれ2個以上存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。)で表される基である。〕
2. 1の重合性単量体70~100質量部と、これと重合可能な他の単量体0~30質量部とを重合して得られることを特徴とする高屈折率樹脂組成物、
3. 前記他の単量体が、ビニル系単量体、アクリル系単量体、メタクリル系単量体、アリル系単量体、およびマレイン酸系単量体から選ばれる少なくとも1種である2の高屈折率樹脂組成物、
4. 当該樹脂組成物中の樹脂100質量部に対し、エポキシ化合物、イソシアネート化合物およびアミノプラスト化合物から選ばれる少なくとも1種の架橋剤が、0.1~20質量部含まれる2または3の高屈折率樹脂組成物
を提供する。
 本発明の重合性単量体を用いることで、炭素、水素、窒素、酸素の有機樹脂の基本4元素にて構成され、測定波長633nmにおける屈折率が1.57以上という高屈折率、かつ、透明性に優れ、さらに1,3,5-トリアジン骨格を積極導入したことによって、優れた耐熱性を発現し得る樹脂膜を与える樹脂組成物が得られる。
 したがって、この樹脂組成物をコーティング剤として用いることで、透明性、高屈折率、耐溶剤性および耐熱性等の性能バランスが優れた樹脂皮膜を作製することができる。
 以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
 本発明に係る1,3,5-トリアジン環を有する重合性単量体は、下記式(1)で表されるものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 ここで、Aは、下記式(2)で表される基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 上記R1は、水素原子またはメチル基を表し、Tは、炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、OまたはNHを表す。
 ここで、炭素数1~10のアルキレン基は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、後に詳述する炭素数1~10のアルキル基に対応する2価の官能基が挙げられるが、中でも好適なものとしては、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。
 また、B1およびB2は、互いに独立して、下記式(3)、式(4)または式(5)で表される基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 上記R3、R4およびR5は、炭素数1~10のアルキル基、アリール基、またはアリールオキシ基を表し、n1およびn3は、0~5の整数であり、n2は、0~7の整数である。
 なお、R3、R4およびR5が、それぞれ2個以上存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、2個以上存在する全ての基が、同一のものでも、複数種の置換基の組み合わせであってもよい。
 上記炭素数1~10のアルキル基は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、シクロプロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、シクロブチル、1-メチル-シクロプロピル、2-メチル-シクロプロピル、n-ペンチル、1-メチル-n-ブチル、2-メチル-n-ブチル、3-メチル-n-ブチル、1,1-ジメチル-n-プロピル、1,2-ジメチル-n-プロピル、2,2-ジメチル-n-プロピル、1-エチル-n-プロピル、シクロペンチル、1-メチル-シクロブチル、2-メチル-シクロブチル、3-メチル-シクロブチル、1,2-ジメチル-シクロプロピル、2,3-ジメチル-シクロプロピル、1-エチル-シクロプロピル、2-エチル-シクロプロピル、n-ヘキシル、1-メチル-n-ペンチル、2-メチル-n-ペンチル、3-メチル-n-ペンチル、4-メチル-n-ペンチル、1,1-ジメチル-n-ブチル、1,2-ジメチル-n-ブチル、1,3-ジメチル-n-ブチル、2,2-ジメチル-n-ブチル、2,3-ジメチル-n-ブチル、3,3-ジメチル-n-ブチル、1-エチル-n-ブチル、2-エチル-n-ブチル、1,1,2-トリメチル-n-プロピル、1,2,2-トリメチル-n-プロピル、1-エチル-1-メチル-n-プロピル、1-エチル-2-メチル-n-プロピル、シクロヘキシル、1-メチル-シクロペンチル、2-メチル-シクロペンチル、3-メチル-シクロペンチル、1-エチル-シクロブチル、2-エチル-シクロブチル、3-エチル-シクロブチル、1,2-ジメチル-シクロブチル、1,3-ジメチル-シクロブチル、2,2-ジメチル-シクロブチル、2,3-ジメチル-シクロブチル、2,4-ジメチル-シクロブチル、3,3-ジメチル-シクロブチル、1-n-プロピル-シクロプロピル、2-n-プロピル-シクロプロピル、1-i-プロピル-シクロプロピル、2-i-プロピル-シクロプロピル、1,2,2-トリメチル-シクロプロピル、1,2,3-トリメチル-シクロプロピル、2,2,3-トリメチル-シクロプロピル、1-エチル-2-メチル-シクロプロピル、2-エチル-1-メチル-シクロプロピル、2-エチル-2-メチル-シクロプロピル、2-エチル-3-メチル-シクロプロピル基等が挙げられる。
 上記アリール基の炭素数は特に限定されるものではないが、炭素数6~20が好ましい。その具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられるが、中でも、フェニル基が好適である。
 上記アリールオキシ基の炭素数は特に限定されるものではないが、炭素数6~20が好ましい。その具体例としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラニルオキシ基等が挙げられるが、中でもフェノキシ基が好適である。
 なお、上記アリール基およびアリールオキシ基は、それぞれ上述したようなアルキル基で置換されたアルキル化アリール基またはアルキル化アリールオキシ基として用いることもできる。
 上記式(1)で示される重合性単量体において、B1およびB2の位置を、式(3)~(5)で表される置換基ではなく、例えばアルコキシ基で置換した単量体を用いて得られる樹脂は、透明性は発現するものの屈折率は高くならない。
 また、アントラニルアミノ基やアントラニルオキシ基のような大きな共役系官能基で置換した重合体では、得られる樹脂の屈折率は高くなるが、樹脂自身の光透過性が極端に低下し、さらに加熱や光によって着色し易くなり透明性の維持が困難になる。
 したがって、B1およびB2は、透明性と高屈折とを同時発現させるべく、上記の式(3)の置換基を有していてもよいフェノキシ基、式(4)の置換を有していてもよいナフトキシ基、または式(5)の置換を有していてもよいアニリノ基が好適である。
 また、重合性は有するが、芳香環を全く含まない例として、上述した特許文献5,6記載の重合体が挙げられる。これら各文献では、塩化シアヌルと水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルとを反応させ、トリアジンに3個の(メタ)アクリル酸エステルを直結させた単量体を用いているが、この単量体は芳香環含有置換基を全く有していないため、得られる樹脂は本発明の目的とする高い屈折率を示さない。
 上述した本発明の重合性単量体は、公知の有機合成反応を用いて製造することができ、例えば、塩化シアヌル等のハロゲン化シアヌルと、A、B1およびB2に対応するアミンやアルコールとを適当な有機溶媒の存在下で反応させて得ることができる。
 また、反応に用いる原料は、市販品として入手することが可能である。
 本発明の高屈折率樹脂組成物は、上述した式(1)の重合性単量体の単独重合体でも、これと重合可能な他の重合性単量体との共重合体でもよい。
 上記他の重合性単量体としては、式(1)の単量体が有する炭素-炭素二重結合と反応して共重合体を与え得る官能基を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ビニル系単量体、アクリル系単量体、メタクリル系単量体、アリル系単量体、マレイン酸系単量体などが挙げられる。
 ビニル系単量体の具体例としては、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン、ジビニルナフタレン等の芳香族系ビニル化合物;酢酸ビニル、バーサチック酸ビニル、アジピン酸ビニル等のビニルエステル類;ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン等のビニルケトン類;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル等のビニルエーテル類;末端にビニル基を有するポリジメチルシロキサン、末端にビニル基を有するポリジフェニルシロキサン、末端にビニル基を有するポリジメチルシロキサン-ポリジフェニルシロキサン共重合体、側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン、側鎖にビニル基を有するポリジフェニルシロキサン、側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン-ポリジフェニルシロキサン共重合体等のビニル基含有シリコーン類などが挙げられる。
 アクリル系単量体の具体例としては、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ステアリル等のアクリル酸およびそのエステル類;ビスフェノール系エポキシ樹脂にアクリル酸を結合させたビスフェノールエポキシアクリレート、フェノールノボラックエポキシ樹脂にアクリル酸を結合させたフェノールノボラックエポキシアクリレート、クレゾールノボラックエポキシ樹脂にアクリル酸を反応させたクレゾールノボラックエポキシアクリレート等のエポキシアクリレート類;ポリエチレンフタレートやポリブチレンフタレート等のポリエステルにアクリル酸を結合させたポリエステルアクリレート類;イソホロンジイソシアネート系ポリウレタンやヘキサメチレンジイソシアネート系ポリウレタンにアクリル酸を結合させたウレタンアクリレート類などが挙げられる。
 メタクリル系単量体の具体例としては、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ステアリル等のメタクリル酸およびそのエステル類;ビスフェノール系エポキシ樹脂にメタクリル酸を結合させたビスフェノールエポキシメタクリレート、フェノールノボラックエポキシ樹脂にメタクリル酸を結合させたフェノールノボラックエポキシメタクリレート、クレゾールノボラックエポキシ樹脂にメタクリル酸を反応させたクレゾールノボラックエポキシメタクリレート等のエポキシメタクリレート類;ポリエチレンフタレートやポリブチレンフタレート等のポリエステルにメタクリル酸を結合させたポリエステルメタクリレート類;イソホロンジイソシアネート系ポリウレタンやヘキサメチレンジイソシアネート系ポリウレタンにメタクリル酸を結合させたウレタンメタクリレート類などが挙げられる。
 アリル系単量体の具体例としては、ジアリルフタレート等の芳香族アリルエステル類;トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のヘテロ環含有アリル化合物などが挙げられる。
 マレイン酸系単量体の具体例としては、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸ジメチル等のマレイン酸およびそのエステル類;無水マレイン酸とエチレングリコールやネオペンチルグリコール等のポリオール類とを反応させて得られる不飽和ポリエステル類;無水マレイン酸とモノアミンとを反応させてできるフェニルマレイミド、シクロへキシルマレイミド等のモノマレイミド類;無水マレイン酸とジアミンとを反応させてできるジフェニルエーテルビスマレイミド等のビスマレイミド類などが挙げられる。
 以上で例示した重合性単量体は、それぞれ単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよく、また、異なる系統の単量体を組み合わせて用いることもできる
 本発明において、式(1)の重合性単量体と、他の重合性単量体とを共重合させる場合、本発明の目的とする耐熱性と高い屈折率とを同時に発現させることを考慮すると、その共重合割合は、式(1)の重合性単量体70~100質量部に対して、他の重合性単量体30質量部以下が好ましく、式(1)の重合性単量体80~100質量部に対して、他の重合性単量体20質量部以下がより好ましい。また、その下限は0質量部を超える量であれば、特に限定されるものではない。
 また、本発明の高屈折率樹脂組成物を製造する際における重合反応の活性種としては、特に限定されるものではないが、ラジカル重合性の重合開始剤が最適である。
 このような重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系重合開始剤、クメンハイドロパーオキサイド/ナフテン酸コバルト等のレドックス系開始剤などの、一般的に使用されるラジカル重合開始剤であればいかなるものでもよい。
 重合開始剤の使用量は、重合性単量体100質量部に対して0.1~10質量部程度とすることができる。
 具体的な重合反応法としては、特に限定されるものではなく、塊状重合、懸濁重合、溶液重合法等の公知の重合方法から適宜選択して用いることができるが、溶液重合法が好適である。
 この場合、重合に用いる有機溶媒としては、式(1)の重合性単量体の単独重合体または共重合体を製造できるものであれば特に制限はなく、例えば、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド系溶媒;テトラヒドロフラン等の環状エーテル系溶媒;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;ガンマブチロラクトン等のエステル系溶媒、ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒;トルエン、ベンゼン等の芳香族系溶媒;およびこれらの混合溶媒などが挙げられる。
 溶液重合法を用いた場合、重合後の樹脂組成物溶液は、そのまま使用しても、微量の残留単量体の除去等の目的で、重合後の樹脂組成物の溶液をアルコールや炭化水素等の貧溶剤を加えて樹脂分を再沈殿させ、これをろ過して乾燥したものを、有機溶剤に再度溶解して樹脂組成物溶液を製造してもよい。
 また、塊状重合や懸濁重合法を用いた場合、得られた樹脂組成物を、同じく有機溶剤に溶かして樹脂組成物溶液を製造できる。
 この場合、用いる有機溶剤としては、樹脂を溶解し得るものであれば特に限定されるものではないが、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド系溶剤;テトラヒドロフラン等の環状エーテル系溶剤;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;ガンマブチロラクトン等のエステル系溶剤などが好ましい。
 以上のようにして得られる本発明の高屈折率樹脂組成物の溶液を、基材へ塗布し、乾燥させることで、測定波長633nmにおいて屈折率1.57以上の透明な樹脂膜が得られる。
 なお、この段階では、得られた樹脂膜は熱可塑性であるので、上記樹脂組成物溶液に架橋剤を配合することによって、さらに得られる樹脂膜の物性を向上させることができる。
 ここで、架橋剤としては、特に限定されるものではなく、この種の樹脂組成物に汎用されているものから適宜選択して用いることができ、例えば、エポキシ化合物、イソシアネート化合物、およびアミノプラスト化合物から選ばれる1種または2種以上の架橋剤を用いることができる。
 エポキシ化合物の具体例としては、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂、固形ビスフェノールA型エポキシ樹脂、液状ビスフェノールF型エポキシ樹脂、固形ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、グリシジルメタクリレート重合体、グリシジルメタクリレート共重合体、エポキシ化大豆油などが挙げられる。
 イソシアネート化合物の具体例としては、トルイレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等の2官能以上のイソシアネート化合物や、これらのイソシアネート化合物をカプロラクタムまたはオキシムと反応させて保護基としたブロックイソシアネート類が挙げられる。
 なお、イソシアネート化合物の場合は、使用直前に樹脂組成物溶液に加えることが好ましい。
 アミノプラスト化合物の具体例としては、分子内に2個以上のアルコキシメチル基を有する尿素樹脂、メラミン樹脂、またはベンゾグアナミン樹脂が挙げられ、これらの中でも、特に、分子内に2個以上のアルコキシメチル基を有するメラミン樹脂が好ましい。
 上記架橋剤の配合量は、樹脂組成物溶液の樹脂固形分100質量部に対し、0.1~20質量部が好ましく、1~20質量部がより好ましく、1~10質量部がより一層好ましい。
 架橋剤を上記の配合量で配合して得られたコーティング組成物を用いることで、得られる樹脂膜に、透明性および高屈折率という本発明の主要な特性に加え、耐溶剤性、耐熱性、機械物性等の性能を発揮させることができる。
 なお、上記架橋剤とともに、必要に応じて架橋触媒を用いてもよい。その具体例としては、酢酸、パラトルエンスルホン酸等の酸触媒;トリエチルアミン等の3級アミン触媒;テトラブチルアンモニウムブロマイド等の4級アンモニウム触媒;トリフェニルベンジルホスホニウムクロライド等の4級ホスホニウム触媒などが挙げられる。
 架橋触媒の配合量は、通常、樹脂組成物溶液の樹脂固形分100質量部に対し、0.1~5質量部程度である。
 上記高屈折率樹脂組成物と有機溶剤とを含み、さらに必要に応じて架橋剤や架橋触媒を配合してなるコーティング組成物において、固形分は0.5~50質量%が好ましく、固形分に占める高屈折率樹脂は60~100質量%が好ましく、80~100質量%がより好ましく、80~99.9質量%がより一層好ましい。
 上記コーティング組成物は、スピンコータ、スプレーコータ、ドクターブレード、バーコータ等を用いて基材上に塗布した後、ホットプレート、熱風循環乾燥機または赤外炉等の加熱装置を用いて、100~250℃で加熱・硬化させ、樹脂膜とすることができる。
 以下、実施例および比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の例に限定されるものではない。なお、NMRスペクトルの測定法は以下のとおりである。
1H-NMR]
 化合物を重水素化クロロホルムに溶解し、400MHzの1H-NMR(バリアン社製)を用いて測定した。
〈重合性単量体の合成〉
[実施例1]重合性単量体(M1)の合成
(1)中間体化合物(L1)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 500mL四口フラスコに、シアヌル酸クロリド15.0g、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル12.7g、およびテトラヒドロフラン150gを加え、氷浴にて冷却した。0℃下、水素化ナトリウム3.9gを添加し、室温で3時間撹拌した。さらに、2-ナフトール11.3g、水酸化ナトリウム3.1g、および水120gの水溶液を加えた。その後、15質量%塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣を再結晶により精製し、白色固体14.1gを得た。
 この白色固体のNMR測定結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、式(L1)で表される中間体化合物であることが確認された。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ7.92-7.80(m,3H),7.62(d,1H),7.55-7.48(m,2H),7.29(dd,1H),6.14-6.10(m,1H),5.59-5.57(m,1H),4.64-4.60(m,2H),4.43-4.40(m,2H),1.96-1.90(m,3H).
(2)重合性単量体(M1)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 500mL四口フラスコに、上記で得られた中間体化合物(L1)13.8g、およびアセトン260mLを加え、還流下、2-ナフトール5.7g、水酸化ナトリウム1.6g、および水13gの水溶液を滴下した。その後、15質量%塩化アンモニウム水溶液を加え、生成した結晶をろ過し、再結晶により精製して、白色固体12.3gを得た。
 この白色固体のNMR測定結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、式(M1)で表される重合性単量体であることが確認された。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ7.90-7.78(m,4H),7.78-7.71(m,2H),7.61(d,2H),7.55-7.44(m,4H),7.30(dd,2H),6.14-6.07(m,1H),5.61-5.55(m,1H),4.59-4.50(m,2H),4.46-4.36(m,2H),1.94-1.90(m,3H).
[実施例2]重合性単量体(M2)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 300mL四口フラスコに、シアヌル酸クロリド10.0g、およびアセトン80mLを加え、氷浴にて冷却した。0℃下、アニリン10.6g、およびアセトン20mLを加えた。さらに、炭酸ナトリウム6.3g、および水20mLの水溶液を加えた。0℃で1時間撹拌した後、室温で一晩撹拌した。その後、水を加え、ジエチルエーテルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣をヘキサン、トルエンを用いて洗浄し、白色固体14.5gを得た。
 300mL三口フラスコに、得られた白色固体14.5g、およびテトラヒドロフラン220mLを加え、2-アミノエタノール6.5g、およびトリエチルアミン10.8gを加え、60℃で一晩撹拌した。その後、水を加え、ジエチルエーテルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣をヘキサンとジエチルエーテルの混合溶媒にて洗浄し、白色固体14.8gを得た。
 200mL三口フラスコに、得られた白色固体7.7g、およびジクロロエタン80mLを加え、さらに、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド5.9g、4-ジメチルアミノピリジン4.4g、およびメタクリル酸3.1gを加え、90℃で一晩撹拌した。その後、水を加え、ジエチルエーテルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー、再結晶により精製して、白色固体4.2gを得た。
 この白色固体のNMR測定結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、式(M2)で表される重合性単量体であることが確認された。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ7.56(br,4H),7.36-7.27(m,4H),7.13-7.00(m,4H),6.13-6.10(m,1H),5.59-5.56(m,1H),5.40(t,1H),4.33(t,2H),3.78-3.73(m,2H),1.94-1.93(m,3H).
[実施例3]重合性単量体(M3)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 300mL四口フラスコに、シアヌル酸クロリド10.0g、およびテトラヒドロフラン80mLを加え、氷浴にて冷却した。0℃下、フェノール10.7g、水酸化ナトリウム6.3g、および水50mLの水溶液を加えた。0℃で1時間撹拌した後、室温で一晩撹拌した。その後、水を加え、ジエチルエーテルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥、ろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣をヘキサンにて洗浄し、白色固体14.3gを得た。
 200mL三口フラスコに、得られた白色固体14.0g、およびテトラヒドロフラン200mLを加え、2-アミノエタノール4.3g、およびトリエチルアミン7.6gを加え、60℃で7時間撹拌した。その後、水を加え、ジエチルエーテルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥、ろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣をヘキサンと酢酸エチルとの混合溶媒を用いて洗浄し、白色固体11.7gを得た。
 300mL三口フラスコに、得られた白色固体11.7g、ジクロロエタン120mLを加え、さらに、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド9.0g、4-ジメチルアミノピリジン6.6g、およびメタクリル酸3.7gを加え、室温で一晩撹拌した。その後、水を加え、ジエチルエーテルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、これをろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣をヘキサン、メタノールを用いて精製し、白色固体10.5gを得た。
 この白色固体のNMR測定結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、式(M3)で表される重合性単量体であることが確認された。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ7.39-7.33(m,4H),7.24-7.18(m,2H),7.18-7.10(m,4H),6.10-6.06(m,1H),5.89(t,1H),5.59-5.56(m,1H),4.22-4.19(m,2H),3.65-3.60(m,2H),1.95-1.89(m,3H).
[実施例4]重合性単量体(M4)の合成
(1)中間体化合物(L2)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 500mL四口フラスコに、シアヌル酸クロリド15.0g、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル12.7g、およびテトラヒドロフラン150gを加え、氷浴にて冷却した。0℃下、水素化ナトリウム3.9gを添加し、室温で3時間撹拌した。さらに、4-フェニルフェノール12.5g、水酸化ナトリウム2.9g、テトラヒドロフラン23g、および水30gの水溶液を加えた。その後、15質量%塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣を再結晶により精製し、白色固体21.7gを得た。
 この白色固体のNMR測定結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、式(L2)で表される中間体化合物であることが確認された。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ7.67-7.55(m,4H),7.47-7.33(m,3H),7.27-7.21(m,2H),6.14-6.09(m,1H),5.62-5.57(m,1H),4.68-4.62(m,2H),4.48-4.44(m,2H),1.96-1.90(m,3H).
(2)重合性単量体(M4)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 500mL四口フラスコに、上記で得られた中間体化合物(L2)21.4g、およびアセトン170gを加え、還流下、4-フェニルフェノール9.3g、水酸化ナトリウム2.2g、アセトン43g、および水43gの水溶液を滴下した。その後、15質量%塩化アンモニウム水溶液を加え、生成した結晶をろ過し、再結晶により精製して、白色固体25.2gを得た。
 この白色固体のNMR測定結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、式(M4)で表される重合性単量体であることが確認された。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ7.62-7.52(m,8H),7.46-7.39(m,4H),7.39-7.33(m,2H),7.26-7.21(m,4H),6.13-6.10(m,1H),5.62-5.56(m,1H),4.65-4.58(m,2H),4.48-4.42(m,2H),1.95-1.92(m,3H).
[実施例5]重合性単量体(M5)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 500mL四口フラスコに、シアヌル酸クロリド15.0g、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル12.7g、およびテトラヒドロフラン150gを加え、氷浴にて冷却した。0℃下、水素化ナトリウム3.9gを添加し、室温で3時間撹拌した。さらに、フェノール14.9g、水酸化ナトリウム6.3g、および水60gの水溶液を加え、50℃に加熱して、2時間撹拌した。その後、室温に冷却し、15質量%塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣をシリカカラムクロマトグラフィーにより精製して、白色固体20.5gを得た。
 この白色固体のNMR測定結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、式(M5)で表される重合性単量体であることが確認された。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ7.43-7.34(m,4H),7.28-7.22(m,2H),7.19-7.12(m,4H),6.14-6.08(m,1H),5.60-5.55(m,1H),4.58-4.52(m,2H),4.42-4.37(m,2H),1.94-1.90(m,3H).
[実施例6]重合性単量体(M6)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 500mL四口フラスコに、シアヌル酸クロリド15.0g、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル12.7g、およびテトラヒドロフラン150gを加え、氷浴にて冷却した。0℃下、水素化ナトリウム3.9gを添加し、室温で3時間撹拌した。さらに、3-クレゾール17.1g、水酸化ナトリウム6.3g、テトラヒドロフラン57g、および水75gの水溶液を加え、50℃に加熱して2時間撹拌した。その後、室温に冷却し、15質量%塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、これをろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣をシリカカラムクロマトグラフィーにより精製して、白色固体22.5gを得た。
 この白色固体のNMR測定結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、式(M6)で表される重合性単量体であることが確認された。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ7.29-7.23(m,2H),7.08-7.03(m,2H),6.98-6.92(m,4H),6.14-6.08(m,1H),5.62-5.57(m,1H),4.59-4.53(m,2H),4.43-4.38(m,2H),2.35(s,6H),1.95-1.90(m,3H).
〈樹脂溶液(組成物)の製造〉
[実施例7]
 窒素導入管の付いた三口フラスコに、実施例1で得られた重合性単量体(M1)21.0g、アクリル酸ブチル7.5g、アクリル酸1.5g、および溶媒としてシクロヘキサノン69gを仕込み、撹拌しながら、キャピラリー管を通じて窒素2Lをバブリングさせた。その後、キャピラリー管を外し、微量の窒素をフラスコ内の気相に通じて空気を遮断した。フラスコを加温し、内温が85℃になったところで、重合開始剤として、1,1-ジ(t-ヘキシルパーオキシ)-3,3,5-シクロヘキサン0.3gを加えて重合を開始した。85℃にて3時間反応後、115℃に昇温して2時間熟成させた。その後、室温まで冷却して、高屈折率樹脂溶液P1を得た。
[実施例8~12]
 上記実施例2~6で得られた各種の重合性単量体を用い、表1に示す組成にて添加した以外は、実施例7と同一の溶剤およびその量、重合開始剤およびその量を使用し、実施例7と同様の方法で溶液重合を実施し、高屈折率樹脂溶液を得た。
 ただし、実施例9については、撹拌している2Lのメタノール中に、反応物をゆっくり滴下し、樹脂分を再沈殿させた。この沈殿物を吸引ろ過して取り出し、これを一晩真空乾燥して白色粉末を得た。この白色粉末15gをシクロヘキサノン35gに溶解して、高屈折率樹脂溶液P2とした。
[比較例1]
 実施例4で得られた重合性単量体を用い、表1に示す組成にて添加した以外は、実施例7と同一の溶剤およびその量、重合開始剤およびその量を使用し、実施例7と同様の方法で溶液重合を実施し、比較樹脂溶液Q1とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
〈高屈折率樹脂コーティング剤の製造〉
[実施例13~18,比較例2]
 実施例7~12および比較例1で調製した樹脂溶液に、表2で示される組成比で架橋剤および必要に応じて触媒等のその他の成分を配合し、高屈折率樹脂コーティング剤C1~C6,D1を得た。
 配合に際しては、それぞれの架橋剤をシクロヘキサノンで希釈して使用した。また、各コーティング剤は、全固形分が30質量%になるように調整した。
 なお、塗布条件に合わせて溶剤(シクロヘキサノン)で希釈して使用した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
 上記実施例13~18および比較例2で作製した高屈折率樹脂コーティング剤C1~C6および比較樹脂コーティング剤D1から得られた皮膜について、光透過率、屈折率、耐溶剤性および液状樹脂耐久性を、以下の手法にて測定・評価した。結果を表3に示す。
(1)光透過率
 各コーティング剤を、4cm×4cmの石英板にスピンコータを用いて塗布し、100℃にて1時間乾燥後、150℃にて1時間硬化させて、厚さ5μmの皮膜を得た。
 得られた皮膜について、(株)島津製作所製、分光光度計UV-3100PCを用い、測定波長400nmにおける光透過率を測定した。
(2)屈折率
 各コーティング剤を、シリコンウエハー上にスピンコータを用いて塗布し、100℃にて1時間乾燥後、150℃にて1時間硬化させて、厚さ100nmの皮膜を得た。
 得られた皮膜について、(株)溝尻光学工業所製、自動エリプソメータDVA-FLVWを用い、測定波長633nmにおける屈折率を測定した。
(3)耐溶剤性試験
 各コーティング剤を、シリコンウエハーにスピンコータを用いて塗布し、100℃にて1時間乾燥後、150℃にて1時間硬化させて、厚さ1μmの皮膜を得た。
 得られた厚さ1μmの皮膜付きシリコンウエハーを、N-メチルピロリドン(NMP)に3分間浸漬した後、200℃×1分間の条件にて溶媒を除去して乾燥させた。
 乾燥後のフィルムの膜厚を測定し、残膜率(試験後の膜厚/試験前の膜厚×100)が60%以上であった場合を「○」とし、それ以下を「×」として評価した。
(4)液状樹脂耐久性試験
 密閉できるガラス瓶に、ジャパンエポキシレジン(株)製、水素化ビスフェノールAエポキシ樹脂(商品名YX-8000)10g、硬化剤としてメチル化ヘキサヒドロ無水フタル酸8.0g、および触媒としてサンアプロ(株)製の第4級ホスホニウム塩(商品名U-CAT SA-5003)0.2gをそれぞれ計量して投入し、窒素封入後、瓶を密閉して、マグネティックスターラーで1時間撹拌し、透明エポキシ樹脂組成物を作製した。
 この透明エポキシ樹脂組成物0.1gをピペットで計量し、光透過率の測定で使用した各皮膜を形成した石英板上に滴下し、半球状の液滴を形成した。これをさらに4回繰り返し、皮膜上に、ランダムに計5点の半球状の液滴を形成した。
 続いて、この試験片を乾燥機に入れ、90℃×1時間、105℃×2時間、150℃×3時間で液滴を硬化させた後、加熱を停止して一晩ゆっくり放冷した。その後、エポキシの半球状硬化物と皮膜との界面層の状態を観測した。
 5点とも皮膜からの剥離は一切観測されず、良好な密着性を示し、また5点とも界面は透明性を保持しており、白濁、変形等は一切観測されず、また石英板とC1皮膜の界面での剥離等も一切観測されなかった場合を「○」とし、そのような状態を示さない場合を「×」として評価した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
[比較例3]重合性単量体(M7)の合成
 500mL四口フラスコに、シアヌル酸クロリド12.0g、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル9.3g、およびテトラヒドロフラン96gを加え、氷浴にて冷却した。0℃下、水素化ナトリウム3.4gを添加し、室温で1時間撹拌した。さらにジエチルアミン20.9g、テトラヒドロフラン24gの溶液を加え、50℃に加熱して、2時間撹拌した。その後、室温まで冷却し、1N塩酸を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレータを用いて溶媒留去を行った。残渣をシリカカラムクロマトグラフィーにより精製して、白色固体23.0gを得た。
 この白色固体をNMRで測定した結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、下記式(M7)で表される重合性単量体であることを確認した。この重合性単量体[M7]は後述する比較例のコーティング剤の製造に供した。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ6.16-6.12(m,1H),5.58-5.55(m,1H),4.57-4.53(m,2H),4.51-4.45(m,2H),3.55(q,8H),1.95-1.92(m,3H),1.16(t,12H).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
[比較例4]
 重合性単量体M2の代わりに比較例3で得られた重合性単量体M7を用いて、実施例8と同様の方法で、溶液重合を実施し、比較樹脂溶液Q2とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
〈高屈折率樹脂コーティング剤の製造〉
 樹脂Q2を用いた以外は、実施例14と同様にしてコーティング組成物D2を製造した。
[比較例5]重合性単量体組成物の合成
 上記特許文献5の実施例2において、下式(M8)で示される重合性単量体が88質量%を占める重合性単量体組成物が得られると記載されている。
 この記載にしたがって、比較例に供する重合性単量体の合成を行った。合成法については、特許文献5の実施例2に記載の方法と同一の組成比率および同一の温度条件、さらに同一の洗浄等の後処理条件にて行った。
 すなわち、300mL四口フラスコに、トルエン67.6g、塩化シアヌル20.0g、2-ヒドロキシエチルメタクリレート48.4g、炭酸ナトリウム87.6g、および重合禁止剤としてN-ニトロソジフェニルアミン0.0048gを投入し、25℃にて4時間撹拌した。続いて90℃に昇温して2時間撹拌した後、60℃に冷却し、トリエチルアミン5.6gを添加して2時間撹拌した。得られたスラリー状の反応混合物を水500gに投入し、撹拌して無機物を溶解した。これを静置し、分液した。この有機層を水120gに投入し、5Nの塩酸にて水層のpHが4になるまで中和した。有機層を分液し、水120gに投入して洗浄した。さらにもう一度洗浄を繰り返した後に分液して、無水硫酸マグネシウム2gを加えて脱水、乾燥した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、淡黄色透明の粘性液体である、特許文献5の実施例2記載の重合性単量体組成物24gを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
〈高屈折率樹脂コーティング剤の製造〉
[比較例6]
 上記比較例5で得られた、特許文献5の実施例2記載の重合性単量体組成物は多官能性であるため、このまま溶液重合等を実施すると架橋・ゲル化してしまう。そのため、溶液重合は実施せず、比較例5で得られた重合性単量体組成物そのものをQ3とし、これを用いて光硬化性樹脂組成物を製造した。
 すなわち、チバ社製DAROCURE-1173 2gを、プロピレングリコールモノメチルエーテル(以下、PGMEと記す)400gに溶解したものを、Q3 100gに混合し、表3に示す光硬化性の樹脂コーティング剤D3を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
 上記比較例4で調製したコーティング液D2は実施例13と同様にして硬化し、得られた皮膜について、光透過率、屈折率、耐溶剤性および液状樹脂耐久性を、上記と同様にして評価した。
 比較例6のコーティング液D3は、4cm×4cmの石英板もしくはシリコンウエハーにスピンコータを用いて塗布し、窒素雰囲気下、メタルハライドランプにて波長350nmにおける照射量が999mJになるように光照射を行い、その後150℃にて5分間乾燥させて皮膜を作製した。得られた皮膜について、光透過率、屈折率、耐溶剤性および液状樹脂耐久性を、上記と同様にして評価した。結果を表6に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
 表3に示されるように、実施例13~18で調製した透明な高屈折率コーティング剤C1~C6を用いて得られた皮膜は、いずれも透明性が高く、かつ、構成元素が炭素、水素、酸素、窒素の4元素以外は一切使用していないにも拘らず、屈折率が測定波長633nmにおいて1.57を超える高い屈折率を示していることがわかる。
 また、耐溶剤性にも優れるだけでなく、液状樹脂との硬化過程における変質が無く、さらに硬化後の液状樹脂との接着性、および石英などの無機材料との接着性にも優れていることがわかる。
 これに対し、表3および表6に示されるように、比較例2、比較例4および比較例6のコーティング剤D1~D3から得られた皮膜は、透明性は良好ではあるものの、屈折率が低いなどの欠点があることがわかる。
 以上説明したとおり、本発明の樹脂組成物を含むコーティング剤は、無機材料と有機樹脂のいずれの材料にも良好な密着性を有し、さらに耐溶剤性が良好で、液状樹脂の硬化時にもコーティング皮膜の溶解や剥離等の欠損を生じないため、有機材料と無機材料を併用して組み立てられている、発光ダイオード等の発光素子の光取り出しコーティング剤、CCDやCMOSセンサーあるいはフォトカプラー等の受光素子、太陽電池の集光コーティング剤、レンチキュラーレンズなどの導光材や導波路等のコーティング剤などの光学電子材料分野に極めて有用である。
 また、これらの光学電子材料分野ばかりでなく、ガラスやプラスチックレンズ等の工業材料のコーティング剤としても有用である。

Claims (4)

  1.  式(1)で表されることを特徴とする1,3,5-トリアジン環を有する重合性単量体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    〔式(1)中、Aは、式(2)
    (式(2)中、R1は、水素原子またはメチル基を表し、Tは、炭素数1~10のアルキレン基を表し、R2は、OまたはNHを表す。)
    で表される基であり、
     B1およびB2は、互いに独立して、式(3)、式(4)または式(5)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    (式(3)~(5)中、R3、R4およびR5は、炭素数1~10のアルキル基、アリール基、またはアリールオキシ基を表し、n1およびn3は、0~5の整数であり、n2は、0~7の整数である。ただし、R3、R4およびR5が、それぞれ2個以上存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。)
    で表される基である。〕
  2.  請求項1記載の重合性単量体70~100質量部と、これと重合可能な他の単量体0~30質量部とを重合して得られることを特徴とする高屈折率樹脂組成物。
  3.  前記他の単量体が、ビニル系単量体、アクリル系単量体、メタクリル系単量体、アリル系単量体、およびマレイン酸系単量体から選ばれる少なくとも1種である請求項2記載の高屈折率樹脂組成物。
  4.  当該樹脂組成物中の樹脂100質量部に対し、エポキシ化合物、イソシアネート化合物およびアミノプラスト化合物から選ばれる少なくとも1種の架橋剤が、0.1~20質量部含まれる請求項2または3記載の高屈折率樹脂組成物。
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