WO2013133345A1 - 樹脂コーティング剤 - Google Patents

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WO2013133345A1
WO2013133345A1 PCT/JP2013/056192 JP2013056192W WO2013133345A1 WO 2013133345 A1 WO2013133345 A1 WO 2013133345A1 JP 2013056192 W JP2013056192 W JP 2013056192W WO 2013133345 A1 WO2013133345 A1 WO 2013133345A1
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resin
monomer
monomers
coating agent
compound
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French (fr)
Inventor
拓郎 小田
皇晶 筒井
Original Assignee
日産化学工業株式会社
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • C08F20/34Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F20/36Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/34Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F220/36Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate

Definitions

  • the present invention is a novel, transparent and high-mainly component comprising a polymerizable monomer having a 1,3,5-triazine ring and a resin solution containing a polymer obtained by polymerization or copolymerization thereof.
  • the present invention relates to a resin coating agent capable of forming a film having refraction.
  • (Meth) acrylic resins such as polymethyl methacrylate
  • transparent resins such as transparent epoxy resins and transparent silicone resins are lighter and more workable than glass, such as windshield resins for aircraft, transparent containers, It has come to be widely used for transparent coating agents.
  • resin products such as transparent resin lenses are being frequently used also in the field of optical components such as eyeglasses.
  • optical electronic materials such as antireflection coating agents for liquid crystal displays, transparent coating agents for solar cells, light emitting diodes, and light receiving portions of CCD and CMOS sensors.
  • a conventional transparent resin can be controlled to some extent with respect to mechanical properties by a method such as crosslinking, but a special technique is required for improving optical characteristics, particularly refractive index. That is, as a method for improving the refractive index of a resin, an organic resin in which a large amount of heavy atoms such as bromine and sulfur are bonded has been proposed (see Patent Documents 1 and 2). In recent years, a method of dispersing highly refractive inorganic oxide fine particles in an organic resin has been proposed (see Patent Documents 3 and 4).
  • the object of the present invention is not to use inorganic oxide fine particles using a dispersion stabilizer that is a foreign substance, and to remove any heavy atoms such as bromine and sulfur that are likely to cause problems such as discoloration of the resin itself and electrode corrosion of electronic circuits.
  • Transparent, high refractive index with a refractive index of 1.60 or more, and low yellowing of the film, composed of four basic organic resin elements of carbon, hydrogen, nitrogen and oxygen To supply to the field of materials and electronic materials.
  • it is to provide a resin coating agent having high transparency, high refractive index, and high light resistance that can improve light extraction efficiency by applying to an optical semiconductor in a pre-sealing process of a light emitting diode. .
  • the present inventor has found a novel compound having an 1,3,5-triazine ring and an aromatic ring directly bonded to the triazine ring (hereinafter also referred to as a specific compound). ), The inventors have found that the above-mentioned problems can be solved, and have reached the present invention. That is, the present invention has the following gist.
  • R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and n is an integer of 2 to 10.
  • R 1 of the compound represented by the formula [1] is a methyl group
  • R 2 is a hydrogen atom
  • n is 2 to 4.
  • the other monomer is selected from the group consisting of vinyl monomers, acrylic monomers, methacrylic monomers, allyl monomers, and maleic monomers. The polymer as described in (3) above.
  • the other monomer is vinyl acetate, styrene, vinyl versatate, acrylic acid, acrylamide, an acrylate ester having a cyclic, linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, Methacrylic acid, methacrylamide, methacrylic acid ester having a C1-C18 cyclic, linear or branched alkyl group, aromatic allyl ester, heterocyclic allyl compound, maleic acid, maleic anhydride, maleimide, and
  • the heavy chain according to the above (3) or (4) which is at least one selected from the group consisting of maleic acid monoesters and maleic acid diesters having a cyclic, linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. Coalescence.
  • (10) By blending 0.1 to 10 parts by weight of a crosslinking agent selected from epoxy resins and aminoplast resins with respect to 100 parts by weight of resin solids in the resin solution described in (9) above Obtained resin coating agent.
  • a crosslinking agent selected from epoxy resins and aminoplast resins By blending 0.1 to 10 parts by weight of a crosslinking agent selected from epoxy resins and aminoplast resins with respect to 100 parts by weight of resin solids in the resin solution described in (9) above Obtained resin coating agent.
  • (12) A film having a refractive index of 1.60 or more at a wavelength of 633 nm, obtained using the resin coating agent according to (10) or (11).
  • the compound of the present invention is a novel compound unknown in the literature, and the resin coating agent containing a polymer obtained by polymerization using the compound has a performance balance such as transparency, high refractive index, yellowing resistance, etc. Forms an excellent resin film and exhibits excellent heat resistance.
  • the resin coating agent of the present invention includes a light extraction coating agent for a light emitting element such as a light emitting diode, a light receiving element such as a CCD or CMOS sensor, a photocoupler, a light condensing coating agent for a solar cell, a coating agent for a light guide material or a waveguide
  • a light extraction coating agent for a light emitting element such as a light emitting diode
  • a light receiving element such as a CCD or CMOS sensor
  • a photocoupler a light condensing coating agent for a solar cell
  • R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and n is an integer of 2 to 10.
  • R 1 is preferably a methyl group from the viewpoint of polymerization reactivity.
  • R 2 is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of solubility.
  • n is an integer of 2 to 10, and is preferably 2 to 6 and more preferably 2 to 4 from the viewpoint of polymerization reactivity, solubility and the like.
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is hydrogen or a methyl group
  • n is 2-6.
  • R 1 is a methyl group
  • R 2 is hydrogen
  • n is 2-4.
  • the method for synthesizing the specific compound can be synthesized by combining techniques in organic synthetic chemistry, and is not particularly limited. For example, it can be synthesized by the following method.
  • the specific compound can be synthesized by reacting compound (i) with 2-hydroxyalkyl methacrylate or 2-hydroxyalkyl acrylate, as shown in the following synthesis scheme (A).
  • the compound represented by the formula (i) in the synthesis scheme (A) is obtained by reacting cyanuric chloride with the grinal reactant represented by the formula (ii) as in the following synthesis scheme (B). Can be synthesized.
  • the polymer of the present invention may be a homopolymer of a specific compound, but is a vinyl monomer, acrylic monomer, methacrylic monomer, allyl monomer, and maleic copolymerizable with the specific compound. It may be obtained by copolymerizing at least one selected from the group consisting of acid monomers. However, in this case, in order to maintain a high refractive index, a vinyl monomer, an acrylic monomer, and a methacrylic monomer copolymerizable with 90 to 100% by weight of the specific compound.
  • the total amount of at least one selected from the group consisting of maleic monomers is 0 to 10% by weight, preferably 0 to 5% by weight.
  • Vinyl monomers, acrylic monomers, methacrylic monomers, allyl monomers, and maleic monomers that can be copolymerized with a specific compound may be any copolymerizable monomer. Any specific examples may be used, but specific examples include the following monomers.
  • vinyl monomers include aromatic vinyl compounds such as styrene, divinylbenzene, vinyl naphthalene, and divinyl naphthalene; vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl versatate, and vinyl adipate; vinyl methyl ketone, vinyl ethyl ketone, and the like.
  • Vinyl ketones vinyl ethers such as vinyl methyl ether and vinyl ethyl ether; polydimethylsiloxane having a vinyl group at the end, polydiphenylsiloxane having a vinyl group at the end, and polydimethylsiloxane-polydiphenylsiloxane having a vinyl group at the end Polymer, vinyl group such as polydimethylsiloxane having vinyl group in side chain, polydiphenylsiloxane having vinyl group in side chain, polydimethylsiloxane-polydiphenylsiloxane copolymer having vinyl group in side chain Yes silicones; and the like.
  • vinyl acetate, styrene, and vinyl versatate are preferable.
  • acrylic monomer examples include acrylic acid such as acrylic acid, methyl acrylate, octyl acrylate, stearyl acrylate, and esters thereof; a cyclic, linear, or branched alkyl having 1 to 18 carbon atoms.
  • Acrylic esters having a group Bisphenol epoxy acrylate with acrylic acid bonded to bisphenol epoxy resin, phenol novolac epoxy acrylate with acrylic acid bonded to phenol novolac epoxy resin, acrylic acid reacted with cresol novolac epoxy resin
  • Epoxy acrylates such as cresol novolac epoxy acrylate
  • acrylic acid, acrylamides, and acrylic acid esters having a cyclic, linear, or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms are preferable.
  • methacrylic monomer examples include methacrylic acid and esters thereof such as methacrylic acid, methyl methacrylate, octyl methacrylate, stearyl methacrylate; cyclic, linear or branched alkyl having 1 to 18 carbon atoms.
  • Methacrylic acid ester having a group bisphenol epoxy methacrylate in which methacrylic acid is bonded to bisphenol-based epoxy resin, phenol novolac epoxy methacrylate in which methacrylic acid is bonded to phenol novolac epoxy resin, cresol in which cresol novolac epoxy resin is reacted with methacrylic acid
  • Epoxy methacrylates such as novolac epoxy methacrylate
  • Polyester methacrylate with methacrylic acid bonded to polyester such as polyethylene phthalate and polybutylene phthalate DOO acids
  • methacrylic acid, methacrylamides, methacrylic acid esters having a cyclic, linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms are preferable.
  • allylic monomer examples include aromatic allyl esters such as diallyl phthalate; heterocycle-containing allyl compounds such as triallyl cyanurate and triallyl isocyanurate;
  • maleic monomers include maleic acid, maleic anhydride, maleic acid such as monomethyl maleate, dimethyl maleate, and esters thereof; cyclic, straight-chain, or branched type having 1 to 18 carbon atoms; Maleic monoesters and maleic diesters having alkyl groups; unsaturated polyesters obtained by reacting maleic anhydride with polyols such as ethylene glycol and neopentyl glycol; obtained by reacting maleic anhydride with monoamine
  • Monomaleimides such as phenylmaleimide and cyclohexylmaleimide; bismaleimides such as diphenyl ether bismaleimide obtained by reacting maleic anhydride and diamine; and the like.
  • maleic acid, maleic anhydride, maleimides, maleic acid such as
  • the polymerization reaction is most preferably a radical polymerization method using a radical polymerizable polymerization initiator as a polymerization initiator as an active species.
  • a radical polymerizable polymerization initiator as a polymerization initiator as an active species.
  • an initiator of such radical polymerization method an organic peroxide such as benzoyl peroxide, an azo polymerization initiator such as azobisisobutyronitrile, a redox initiator such as cumene hydroperoxide / cobalt naphthenate, etc. Any polymerization initiator that is usually used may be used.
  • Preferred is an azo polymerization initiator such as azobisisobutyronitrile.
  • any method such as solution polymerization, bulk polymerization, and suspension polymerization may be used.
  • the produced resin is dissolved in an appropriate solvent to obtain a resin solution.
  • a solution polymerization method using an organic solvent is suitable, and the type of the organic solvent is not particularly limited as long as it can produce a polymer or copolymer of a specific compound.
  • the resin solution after polymerization can be used as the resin solution of the present invention.
  • the resin solution after polymerization is used as a poor solution such as alcohol or hydrocarbon.
  • a resin solution may be produced by re-precipitation in a solvent, filtration of the resin component, and drying again in an organic solvent.
  • the resin solution of the present invention provides a resin coating agent capable of forming a transparent resin film having a refractive index of 1.60 or more, preferably 1.61 or more at a measurement wavelength of 633 nm by application to a substrate and drying. It becomes possible.
  • the resin film is a film formed of a thermoplastic resin, and the physical properties can be further improved by blending a crosslinking agent in the resin solution.
  • the resin coating agent of the present invention is 0.1 to 10 parts by weight, preferably 1 to 5 parts by weight of a crosslinking agent selected from an epoxy resin and an aminoplast resin with respect to 100 parts by weight of the resin solid content of the resin solution of the present invention. It is obtained by blending parts by weight.
  • the resin coating agent of the present invention can further impart performances such as solvent resistance, heat resistance and mechanical properties.
  • the epoxy resin liquid bisphenol A type epoxy resin, solid bisphenol A type epoxy resin, liquid bisphenol F type epoxy resin, solid bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin , Hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, glycidyl methacrylate polymer, glycidyl methacrylate copolymer, epoxidized soybean oil and the like. Of these, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, and the like are preferable.
  • the aminoplast resin urea resin, melamine resin, or benzoguanamine resin having two or more alkoxymethyl groups in the molecule is desirable, and melamine resin having two or more alkoxymethyl groups in the molecule is particularly desirable.
  • ⁇ Measurement of NMR> The obtained compound was dissolved in deuterated chloroform, 0.05% by weight of tetramethylsilane (TMS) was added as an internal standard, and measurement was performed using 400 MHz 1 H NMR (manufactured by Varian).
  • TMS tetramethylsilane
  • ⁇ Measurement of yellowing degree and light transmittance> Using a spectrophotometer UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation, the degree of yellowing and the light transmittance at a wavelength of 400 nm were measured.
  • ⁇ Measurement of refractive index> The refractive index at a measurement wavelength of 633 nm was measured using an automatic ellipsometer DVA-FLVW manufactured by Mizoji Optical Co., Ltd.
  • ⁇ Evaluation of light resistance> The quartz substrate on which the film was formed was irradiated for 72 hours under the condition that the irradiance at 300 to 400 nm was 60 W / m 2 using Ci4000 manufactured by Atlas Co., and the amount of change in yellowing degree before and after irradiation was evaluated.
  • Example 1 Synthesis of Specific Compound [M1] 38.5 g of cyanuric chloride and 385 g of tetrahydrofuran were added to a 1 L (liter) four-necked flask and cooled in an ice bath. At a temperature of 0 ° C., 240 mL of a 2 mol / L phenylmagnesium chloride tetrahydrofuran solution was added dropwise, and then stirred at room temperature for 15 hours. To the reaction mixture was added 1N hydrochloric acid (300 mL), and the mixture was extracted with ethyl acetate.
  • Example 3 Hydrogenated bisphenol A epoxy resin (YX-8000) manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. was dissolved in the high refractive index resin solution P1 of Example 2, and the weight ratio of the epoxy resin was 100 parts by weight of the high refractive index resin. The mixture was blended so as to be 5 parts by weight to obtain a high refractive index coating agent C1.
  • Example 4 Evaluation of high refractive resin coating agent (Example 4)
  • the high-refractive resin coating agent C1 of Example 3 was applied to a 4 cm ⁇ 4 cm quartz plate using a spin coater, dried at 100 ° C. for 1 hour, and then cured at 150 ° C. for 1 hour.
  • a transparent high refractive resin coating agent C1 film was obtained. The appearance was transparent and no coloring was seen.
  • 500 weight part of cyclohexanone was mix
  • a silicon wafer was applied using a spin coater, dried at 100 ° C. for 1 hour, and then cured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a high refractive resin coating agent C1 having a thickness of 100 nanometers.
  • a film was prepared and used for refractive index measurement.
  • the light transmittance of the film of the high refractive resin coating agent C1 having a thickness of 5 microns was measured.
  • the transmittance at a wavelength of 400 nm was 96.8%, and the yellowing degree was 0.65.
  • membrane of the 100-nm-thick high refractive resin coating agent C1 was measured.
  • the refractive index at a measurement wavelength of 633 nm was 1.617.
  • change_quantity of the yellowing degree was 1.23.
  • Comparative Example 3 The high refractive resin coating agent D1 of Comparative Example 1 was applied to a 4 cm ⁇ 4 cm quartz plate using a spin coater, dried at 100 ° C. for 1 hour, and then cured at 150 ° C. for 1 hour. A transparent high refractive resin coating agent D1 film was obtained. The appearance was transparent and no coloring was seen. Further, a dilute solution was prepared by blending 500 parts by weight of cyclohexanone with 100 parts by weight of the high refractive resin coating agent D1. Using the prepared diluted solution, a silicon wafer was applied using a spin coater, dried at 100 ° C. for 1 hour, and then cured at 150 ° C. for 1 hour to form a 100 nm thick high refractive resin coating agent D1. A film was prepared and used for refractive index measurement.
  • the light transmittance of the film of the high refractive resin coating agent D1 having a thickness of 5 microns was measured.
  • the transmittance at a wavelength of 400 nm was 96.9%, and the yellowing degree was 0.58.
  • membrane of the 100-nm-thick high refractive resin coating agent D1 was measured.
  • the refractive index at a measurement wavelength of 633 nm was 1.619.
  • Comparative Example 4 The high refractive resin coating agent D2 of Comparative Example 2 was applied to a 4 cm ⁇ 4 cm quartz plate using a spin coater, dried at 100 ° C. for 1 hour, and then cured at 150 ° C. for 1 hour. A transparent high refractive resin coating agent D2 film was obtained. The appearance was transparent and no coloring was seen. Moreover, with respect to 100 weight part of high refractive resin coating agent D2, 500 weight part of cyclohexanone was mix
  • the light transmittance of the film of the high refractive resin coating agent D2 having a thickness of 5 microns was measured.
  • the transmittance at a wavelength of 400 nm was 97.7%.
  • membrane of the 100-nm-thick high refractive resin coating agent D2 was measured.
  • the refractive index at a measurement wavelength of 633 nm was 1.578.
  • the film obtained using the transparent highly refractive coating agent of Example 4 has high transparency, and 4 carbon, hydrogen, oxygen, and nitrogen as constituent elements as the organic resin. Despite the fact that no elements other than elements were used, the refractive index exceeded 1.60 at a measurement wavelength of 633 nm, indicating higher light resistance.
  • the film obtained in Comparative Example 3 shows the same refractive index as the film obtained in Example 4, but there is a problem in light resistance, and the film obtained in Comparative Example 4 has a refractive index. There was a problem.
  • the resin coating agent of the present invention exhibits high transparency and high refractive index characteristics and is excellent in light resistance. Therefore, the light extraction coating agent for a light emitting element such as a light emitting diode, CCD, CMOS sensor, or photocoupler.
  • a light emitting element such as a light emitting diode, CCD, CMOS sensor, or photocoupler.
  • a light receiving element such as a solar cell, a light condensing coating agent for solar cells, a light guide material such as a lenticular lens, a coating agent such as a waveguide, etc.
  • it is extremely useful in the field of optical electronic materials. It is also useful as a coating agent for industrial materials such as glass and plastic lenses.

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Abstract

 異物である分散安定剤を含む無機酸化物微粒子を使用せず、また樹脂自身の変色や電子回路の電極腐食等を生じやすい臭素や硫黄等の重原子を含まない、透明で屈折率1.6以上の高屈折を有し、かつ膜の黄変が少ない樹脂を提供する。 式[1]で表される化合物を用いて得られる重合体を含有する樹脂溶液。(式中R、及びRは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基、nは2~10の整数)

Description

樹脂コーティング剤
 本発明は、1,3,5-トリアジン環を有する重合性単量体、及びこれを重合又は共重合して得られる重合体を含有する樹脂溶液を主たる成分とする、新規な、透明かつ高屈折を有する皮膜を形成することができる樹脂コーティング剤に関する。
 ポリメタクリル酸メチル等の(メタ)アクリル系樹脂や、透明エポキシ樹脂、透明シリコーン樹脂などの透明性樹脂は、ガラスに比較して、軽量かつ加工性が優れ、航空機等の風防樹脂、透明容器、透明コーティング剤等に広く用いられるようになってきた。
 近年では、眼鏡等の光学部品の分野でも、透明樹脂レンズ等の樹脂製品が多用されつつある。
 電子材料の分野でも、液晶ディスプレーの反射防止コーティング剤、太陽電池用透明コーティング剤、発光ダイオード、CCDやCMOSセンサーの受光部等の光学電子材料の用途において多用されつつある。
 こうした光学電子材料の用途では、透明性ばかりでなく、光取り出し効率向上や集光性の向上のために、高い屈折率や、耐光性も要求される場合が多い。
 しかしながら、従来の透明樹脂は架橋等の方法にて、機械的物性については、ある程度の制御は可能であるが、光学特性、特に屈折率の向上に関しては、特殊な技術を必要としていた。すなわち、樹脂の屈折率を向上させる方法としては、臭素や硫黄等の重原子を多量に結合させた有機樹脂が提案されている(特許文献1及び2参照)。
 また近年、有機樹脂に、高屈折の無機酸化物微粒子を分散する方法が提案されている(特許文献3及び4参照)。
 前述した高屈折樹脂を得るための方法として提案された、臭素や硫黄等の重原子を多量に結合させた有機樹脂の場合、一般に熱・光に対して不安定であり、長期使用時に変色等の劣化を起こしやすい。また、電子材料部品に使用する場合、電極腐食等の問題を生じやすい。一方、高屈折の無機酸化物微粒子を有機樹脂に分散する方法の場合、これらの無機酸化物微粒子は、適切な有機溶剤中で、多量の分散安定剤を用いて微粒子分散液をまず製造し、これに樹脂を加えて後、有機溶剤を留去して製造する。しかし、微粒子分散樹脂の長期保存安定性などに問題があり、また樹脂との分散安定性を改善するため、多量の分散安定剤を混合しなければならず、屈折率と分散安定性のバランスをとるのが困難となるなどの課題があった。
日本特開平05-164901 日本特開2005-350531 日本特開2007-270099 日本特開2007-308631
 本発明の目的は、異物である分散安定剤を使用する無機酸化物微粒子を使用せず、また樹脂自身の変色や電子回路の電極腐食等に問題を生じやすい臭素や硫黄等の重原子を一切含有しない、炭素、水素、窒素、及び酸素の有機樹脂の基本4元素にて構成される、透明で屈折率1.60以上の高屈折を有し、かつ膜の黄変が少ない樹脂を、光学材料及び電子材料の分野に供給することにある。
 特に、発光ダイオードの封止前工程にて光半導体に塗布することにより、光取出し効率が改善できる、透明性が高く、高屈折率で、かつ高耐光性の樹脂コーティング剤を提供することである。
 本発明者は、上記の目的を達成する為に鋭意検討の結果、1,3,5-トリアジン環を有し、トリアジン環に芳香族環が直接結合した新規な化合物(以下、特定化合物とも言う)を用いることにより、上記課題を解決出来ることを見出し、本発明に到達したものである。
 すなわち、本発明は以下の要旨を有するものである。
(1)下記式[1]で表されることを特徴とする化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
式中R、及びRはそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基であり、nは2~10の整数である。
(2)前記式[1]で表される化合物のRがメチル基であり、Rが水素原子であり、nが2~4である上記(1)に記載の化合物。
(3)上記(1)又は(2)に記載の化合物の単独重合又は他の単量体との共重合により得られる重合体。
(4)前記他の単量体が、ビニル系単量体、アクリル系単量体、メタクリル系単量体、アリル系単量体、及びマレイン酸系単量体からなる群から選ばれる1種以上である上記(3)に記載の重合体。
(5)前記他の単量体が、酢酸ビニル、スチレン、バーサチック酸ビニル、アクリル酸、アクリルアミド類、炭素数1~18の環状、直鎖状、又は分岐型のアルキル基を有するアクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリルアミド、炭素数1~18の環状、直鎖状又は分岐型のアルキル基を有するメタクリル酸エステル、芳香族アリルエステル、ヘテロ環含有アリル化合物、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイミド、並びに炭素数1~18の環状、直鎖状又は分岐型のアルキル基を有するマレイン酸モノエステル及びマレイン酸ジエステルからなる群から選ばれる1種以上である上記(3)又は(4)に記載の重合体。
(6)前記式[1]の化合物の90~100重量パーセントに対して、前記他の単量体であるビニル系単量体、アクリル系単量体、メタクリル系単量体、アリル系単量体、及びマレイン酸系単量体からなる群から選ばれる1種以上の合計量が、0~10重量パーセントである上記(3)乃至(5)のいずれかに記載の重合体。
(7)前記単独重合又は他の単量体との共重合が、ラジカル重合開始剤を用いラジカル重合である上記(3)乃至(6)のいずれかに記載の重合体。
(8)前記ラジカル重合が、有機溶媒を用いた溶液重合である上記(7)に記載の重合体。
(9)上記(3)乃至(8)のいずれかに記載の重合体を含有する樹脂溶液。
(10)上記(9)に記載の樹脂溶液中の樹脂固形分の100重量部に対して、エポキシ樹脂、及びアミノプラスト樹脂から選ばれる架橋剤の0.1~10重量部を配合することによって得られる樹脂コーティング剤。
(11)前記アミノプラスト樹脂が、分子内に2個以上のアルコキシメチル基を有するメラミン樹脂である上記(10)に記載の樹脂コーティング剤。
(12)上記(10)又は(11)に記載の樹脂コーティング剤を用いて得られる、波長633nmにおける屈折率が1.60以上である皮膜。
 本発明の化合物は、文献未知の新規な化合物であり、該化合物を用いて重合して得られた重合体を含有する樹脂コーティング剤は、透明性、高屈折率、黄変耐性等の性能バランスが優れた樹脂皮膜を形成すると共に、優れた耐熱性を発現する。
 本発明の樹脂コーティング剤は、発光ダイオード等の発光素子の光取り出しコーティング剤、CCDやCMOSセンサー、フォトカプラー等の受光素子、太陽電池の集光コーティング剤、導光材や導波路等のコーティング剤のように、透明性が高く、高い屈折率、高い耐光性を同時に要求される電子材料等の産業分野において有用である。
<特定化合物>
 本発明の化合物は、下記式[1]で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 式中R、及びRは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基であり、nは2~10の整数である。
 式中Rは、重合反応性の観点から、メチル基が好ましい。
 式中Rは、溶解性の観点から、水素原子が好ましい。
 式中nは、2~10の整数であるが、重合反応性、溶解性等の観点から、2~6が好ましく、2~4がより好ましい。
 式(1)で表される化合物において、R、R、及びnの好ましい組み合わせは、Rがメチル基であり、Rが水素もしくはメチル基であり、nが2~6である。
 より好ましい組み合わせは、Rがメチル基であり、Rが水素であり、nが2~4である。
 本発明の化合物を用いた樹脂コーティング剤によって、なぜ本発明のような効果が得られるのかについては定かではないが、トリアジン骨格に直接フェニル基が結合することで、化合物の耐熱性が改善されたことによるものと考えられる。
<特定化合物の合成方法>
 特定化合物の合成方法は、有機合成化学における手法を組み合わせることによって合成することができ、特に限定されない。例えば以下の方法で合成することができる。
 特定化合物は、下記の合成スキーム(A)で示されるように、化合物(i)とメタクリル酸2-ヒドロキシアルキルや、アクリル酸2-ヒドロキシアルキルを反応させることにより合成できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 合成スキーム(A)中の、式(i)で表される化合物は、下記の合成スキーム(B)のように、シアヌル酸クロリドと式(ii)で表されるグリニアール反応剤を反応させることにより合成することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 また、下記の合成スキーム(C)で示されるように、メタクリル酸2-ヒドロキシエチルやアクリル酸2-ヒドロキシエチルと、シアヌル酸クロリドを反応させて、化合物(iii)を合成した後に、化合物(iv)で表される化合物を反応させることにより合成することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 上記の合成スキーム(A)~(C)で用いる原料は、必要に応じて市販の化合物を用いても良いし、別途合成して用いても良い。
<重合体及び樹脂溶液>
 本発明の重合体は、特定化合物の単独重合体でもよいが、特定化合物と共重合可能なビニル系単量体、アクリル系単量体、メタクリル系単量体、アリル系単量体、及びマレイン酸系単量体からなる群から選ばれる1種以上とを共重合させて得たものでもよい。ただし、この場合、高屈折率を保持するためには、特定化合物の90~100重量%に対して、これに共重合可能なビニル系単量体、アクリル系単量体、メタクリル系単量体、及びマレイン酸系単量体からなる群から選ばれる1種以上の合計量は、0~10重量%、好ましくは0~5重量%であることが望ましい。
 特定化合物と共重合可能なビニル系単量体、アクリル系単量体、メタクリル系単量体、アリル系単量体、及びマレイン酸系単量体としては、共重合可能な単量体であればいかなるものでもよいが、具体的な例としては、以下のような単量体が挙げられる。
 ビニル系単量体としては、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン、ジビニルナフタレン等の芳香族系ビニル化合物;酢酸ビニル、バーサチック酸ビニル、アジピン酸ビニル等のビニルエステル類;ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン等のビニルケトン類;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル等のビニルエーテル類;末端にビニル基を有するポリジメチルシロキサン、末端にビニル基を有するポリジフェニルシロキサン、末端にビニル基を有するポリジメチルシロキサン-ポリジフェニルシロキサン共重合体、側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン、側鎖にビニル基を有するポリジフェニルシロキサン、側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン-ポリジフェニルシロキサン共重合体等のビニル基含有シリコーン類;などが挙げられる。その中でも、酢酸ビニル、スチレン、バーサチック酸ビニルが好ましい。
 アクリル系単量体の具体例としては、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ステアリル等のアクリル酸及びそのエステル類;炭素数1~18の環状、直鎖状又は分岐型のアルキル基を有するアクリル酸エステル類;ビスフェノール系エポキシ樹脂にアクリル酸を結合させたビスフェノールエポキシアクリレート、フェノールノボラックエポキシ樹脂にアクリル酸を結合させたフェノールノボラックエポキシアクリレート、クレゾールノボラックエポキシ樹脂にアクリル酸を反応させたクレゾールノボラックエポキシアクリレート等のエポキシアクリレート類;ポリエチレンフタレート、ポリブチレンフタレート等のポリエステルにアクリル酸を結合させたポリエステルアクリレート類;イソホロンジイソシアネート系ポリウレタン、ヘキサメチレンジイソシアネート系ポリウレタン等にアクリル酸を結合させたウレタンアクリレート類;などが挙げられる。その中でも、アクリル酸、アクリルアミド類、炭素数1~18の環状、直鎖状、又は分岐型のアルキル基を有するアクリル酸エステルが好ましい。
 メタクリル系単量体の具体例としては、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ステアリル等のメタクリル酸及びそのエステル類;炭素数1~18の環状、直鎖状又は分岐型のアルキル基を有するメタクリル酸エステル;ビスフェノール系エポキシ樹脂にメタクリル酸を結合させたビスフェノールエポキシメタクリレート、フェノールノボラックエポキシ樹脂にメタクリル酸を結合させたフェノールノボラックエポキシメタクリレート、クレゾールノボラックエポキシ樹脂にメタクリル酸を反応させたクレゾールノボラックエポキシメタクリレート等のエポキシメタクリレート類;ポリエチレンフタレート、ポリブチレンフタレート等のポリエステルにメタクリル酸を結合させたポリエステルメタクリレート類;イソホロンジイソシアネート系ポリウレタン、ヘキサメチレンジイソシアネート系ポリウレタン等にメタクリル酸を結合させたウレタンメタクリレート類;などが挙げられる。その中でも、メタクリル酸、メタクリルアミド類、炭素数1~18の環状、直鎖状又は分岐型のアルキル基を有するメタクリル酸エステル等が好ましい。
 アリル系単量体の具体例としては、ジアリルフタレート等の芳香族アリルエステル類;トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のヘテロ環含有アリル化合物;などが挙げられる。
 マレイン酸系単量体の具体例としては、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸ジメチル等のマレイン酸及びそのエステル類;炭素数1~18の環状、直鎖状又は分岐型のアルキル基を有するマレイン酸モノエステル及びマレイン酸ジエステル;無水マレイン酸とエチレングリコールやネオペンチルグリコール等のポリオール類とを反応させて得られる不飽和ポリエステル類;無水マレイン酸とモノアミンとを反応させて得られるフェニルマレイミド、シクロへキシルマレイミド等のモノマレイミド類;無水マレイン酸とジアミンとを反応させて得られるジフェニルエーテルビスマレイミド等のビスマレイミド類;などが挙げられる。その中でも、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイミド類、炭素数1~18の環状、直鎖状又は分岐型のアルキル基を有するマレイン酸モノエステル及びマレイン酸ジエステル等が好ましい。
 重合反応としては、活性種としての重合開始剤として、ラジカル重合性の重合開始剤を用いたラジカル重合法がもっとも望ましい。かかるラジカル重合法の開始剤としては、過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系重合開始剤、クメンハイドロパーオキサイド/ナフテン酸コバルト等のレドックス系開始剤等、通常使用される重合開始剤であればいかなるものでもよい。好ましいのは、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系重合開始剤である。
 重合の方法としては、溶液重合、塊状重合、懸濁重合等のいずれの方法を用いても良い。塊状重合、懸濁重合等においては、製造した樹脂を、適切な溶剤に溶解して樹脂溶液とする。本発明においては、有機溶剤を用いた溶液重合法が好適であり、有機溶剤の種類は、特定化合物の重合体又は共重合体を製造できるものであれば、特に制約を受けない。
 かかる溶液重合法の場合、重合後の樹脂溶液は、本発明の樹脂溶液として使用できるが、微量の残留単量体の除去等の目的で、重合後の樹脂溶液をアルコールや炭化水素等の貧溶剤に再沈殿して、樹脂分をろ過して乾燥したものを、有機溶剤に再度溶解して樹脂溶液を製造してもよい。
 本発明の樹脂溶液は、基材への塗布・乾燥によって、測定波長633nmにおいて屈折率1.60以上、好ましくは1.61以上の透明な樹脂膜を形成することができる樹脂コーティング剤を提供することが可能となる。樹脂溶液の段階では、樹脂膜は熱可塑樹脂で形成された膜であり、樹脂溶液中に架橋剤を配合することによって、さらに物性を向上させることができる。
<樹脂コーティング剤>
 本発明の樹脂コーティング剤は、本発明の樹脂溶液の樹脂固形分100重量部に対して、エポキシ樹脂、及びアミノプラスト樹脂から選ばれる架橋剤を0.1~10重量部、好ましくは1~5重量部配合することによって得られる。
 本発明の樹脂コーティング剤は、本発明の樹脂溶液から得られる樹脂としての性能に加えて、耐溶剤性、耐熱性、機械物性等の性能をさらに付与することができる。
 かかる架橋剤のうち、エポキシ樹脂としては、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂、固形ビスフェノールA型エポキシ樹脂、液状ビスフェノールF型エポキシ樹脂、固形ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、グリシジルメタクリレート重合体、グリシジルメタクリレート共重合体、エポキシ化大豆油等が挙げられる。なかでも、水素添加ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノールF型エポキシ樹脂等が好ましい。
 アミノプラスト樹脂としては、分子内に2個以上のアルコキシメチル基を有する尿素樹脂、メラミン樹脂、又はベンゾグアナミン樹脂が望ましく、分子内に2個以上のアルコキシメチル基を有するメラミン樹脂が特に望ましい。
 以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定して解釈されるものではない。
 実施例において用いた測定方法及び分析装置は以下の通りである。
<NMRの測定>
 得られた化合物を重水素化クロロホルムに溶解し、内部標準としてテトラメチルシラン(TMS)0.05wt%を加え、400MHzのH NMR(バリアン社製)を用いて測定した。
<黄変度及び光透過率の測定>
 島津製作所社製の分光光度計UV-3100PCを用いて、黄変度と、波長400nmにおける光線透過率を測定した。
<屈折率の測定>
 溝尻光学工業所社製の自動エリプソメータDVA-FLVWを用いて、測定波長633nmにおける屈折率を測定した。
<耐光性の評価>
 皮膜を形成した石英基板に、アトラス社製のCi4000を用いて、300~400nmにおける放射照度が60W/mの条件で72時間照射を行い、照射前後の黄変度の変化量を評価した。
(実施例1)
 特定化合物 [M1]の合成
1L(リットル)四口フラスコに、シアヌル酸クロリド38.5g、及びテトラヒドロフラン385gを加え、氷浴にて冷却した。温度0℃下で、2モル/Lのフェニルマグネシウムクロリドのテトラヒドロフラン溶液を240mL滴下し、その後、室温にて15時間攪拌した。反応液に、1規定塩酸300mLを加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を分離後、有機層に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルの有機層を分離した。有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレーターを用いて溶媒留去を行った。残渣をシリカカラムクロマトグラフィー(流出液はヘキサン/酢酸エチル=3/1を使用)により精製して、(L1)で表される中間体化合物を42.8g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 中間体化合物(L1)10.0gを300mL四口フラスコに加え、さらにテトラヒドロフラン100gを加えて溶解した。溶液を温度0℃に冷却し、水素化ナトリウム1.8gを添加し、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル5.3gとテトラヒドロフラン80gの溶液を滴下し、30分攪拌した。反応液に15wt%塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。分離した有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレーターを用いて溶媒留去を行った。残渣をシリカカラムクロマトグラフィー(流出液はヘキサン/酢酸エチル=3/1を使用)により精製して、白色固体を9.7g得た。
 この白色固体のH NMRの測定した結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、下記式(M1)で表される化合物であることを確認した。
 H-NMR(400MHz,CDCl):δ8.66-8.61(m,4H),7.64-7.50(m,6H),6.15-6.12(m,1H),5.57-5.53(m,1H),4.94-4.89(m,2H),4.66-4.61(m,2H),1.94-1.90(m,3H)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
(比較合成例1)
 化合物[M2]の合成
 500mL四口フラスコに、シアヌル酸クロリド15.0g、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル12.7g、及びテトラヒドロフラン150gを加え、氷浴にて冷却した。温度0℃下で、水素化ナトリウム3.9gを添加し、その後、室温で3時間攪拌した。さらに4-フェニルフェノール12.5g、水酸化ナトリウム2.9g、テトラヒドロフラン23g、及び水30gの水溶液を加えた。その後、15wt%塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。分離した有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレーターを用いて溶媒留去を行った。残渣を再結晶により精製して、(L2)で表される中間体を21.7g得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 500mL四口フラスコに、中間体化合物(L2)21.4g、及びアセトン170gを加え、還流下で、4-フェニルフェノール9.3g、水酸化ナトリウム2.2g、アセトン43g、及び水43gの水溶液を滴下した。その後、15wt%塩化アンモニウム水溶液を加え、生成した結晶をろ過した。結晶は再結晶により精製して、白色固体を25.2g得た(収率89%)。
 この白色固体のH NMRの測定した結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、下記式(M2)で表される重合性単量体であることを確認した。
 H NMR (400 MHz, CDCl):δ7.62-7.52 (m, 8H), 7.46-7.39 (m, 4H), 7.39―7.33 (m, 2H), 7.26-7.21 (m, 4H), 6.13-6.10 (m, 1H), 5.62-5.56 (m, 1H), 4.65-4.58 (m, 2H), 4.48-4.42 (m, 2H), 1.95-1.92 (m, 3H)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(比較合成例2)
 化合物[M3]の合成
 500mL四口フラスコに、シアヌル酸クロリド15.0g、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル12.7g、及びテトラヒドロフラン150gを加え、氷浴にて冷却した。温度0℃下で、水素化ナトリウム3.9gを添加し、室温で3時間攪拌した。さらにフェノール14.9g、水酸化ナトリウム6.3g、及び水60gの水溶液を加え、温度50℃に加熱して、2時間攪拌した。その後、室温に冷却し、15wt%塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。分離した有機層に無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過した後に、ロータリーエバポレーターを用いて溶媒留去を行った。残渣をシリカカラムクロマトグラフィー(流出液はヘキサン/酢酸エチル=3/1を使用)により精製して、白色固体を20.5g得た。
 この白色固体のH NMRの測定した結果を以下に示す。この結果から、得られた白色固体が、下記式(M3)で表される重合性単量体であることを確認した。
 H NMR (400 MHz, CDCl):δ7.43-7.34 (m, 4H), 7.28-7.22 (m, 2H), 7.19―7.12 (m, 4H), 6.14-6.08 (m, 1H), 5.60-5.55 (m, 1H), 4.58-4.52 (m, 2H), 4.42-4.37 (m, 2H), 1.94-1.90 (m, 3H)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
「樹脂溶液の製造例」
(実施例2)
 窒素導入管の付いた3つ口フラスコに、重合性単量体(M1)8.6g、メタクリル酸0.5g、及び溶剤としてシクロヘキサノンを21g仕込み、攪拌しながら窒素1Lを、キャピラリー管を通じてバブリング(Bubbling)させた。その後、キャピラリー管を外し、微量の窒素をフラスコ内の気相に通じて空気を遮断した。次いで、フラスコを加温し、内温が85℃になった時点で、重合開始剤として、1,1-ジ(t-ヘキシルパーオキシ)-3,3,5-シクロヘキサンを0.3g加えて重合を開始した。85℃にて3時間反応後、115℃に昇温して2時間熟成させた。その後、室温まで冷却して、高屈折樹脂溶液P1を得た。
(比較製造例1)
 窒素導入管の付いた3つ口フラスコに、重合性単量体(M2)8.6g、メタクリル酸0.5g、及び溶剤としてシクロヘキサノンを21g仕込み、攪拌しながら窒素1Lを、キャピラリー管を通じてバブリングさせた。その後、キャピラリー管を外し、微量の窒素をフラスコ内の気相に通じて空気を遮断した。次いで、フラスコを加温し、内温が85℃になった時点で、重合開始剤として、1,1-ジ(t-ヘキシルパーオキシ)-3,3,5-シクロヘキサンを0.3g加えて重合を開始した。85℃にて3時間反応後、115℃に昇温して2時間熟成させた。その後、室温まで冷却して、高屈折樹脂溶液Q1を得た。
(比較製造例3)
 窒素導入管の付いた3つ口フラスコに、重合性単量体(M3)8.6g、メタクリル酸0.5g、及び溶剤としてシクロヘキサノンを21g仕込み、攪拌しながら窒素1Lを、キャピラリー管を通じてバブリングさせた。その後、キャピラリー管を外し、微量の窒素をフラスコ内の気相に通じて空気を遮断した。次いで、フラスコを加温し、内温が85℃になった時点で、重合開始剤として、1,1-ジ(t-ヘキシルパーオキシ)-3,3,5-シクロヘキサンを0.3g加えて重合を開始した。85℃にて3時間反応後、115℃に昇温して2時間熟成させた。その後、室温まで冷却して、高屈折樹脂溶液Q2を得た。
「高屈折樹脂コーティング剤の製造」
(実施例3)
 実施例2の高屈折率樹脂溶液P1に、ジャパンエポキシレジン社製の水素化ビスフェノールAエポキシ樹脂(YX-8000)を溶解し、高屈折率樹脂100重量部に対して、エポキシ樹脂の重量比率が5重量部になるように配合し、高屈折率コーティング剤C1を得た。
(比較例1)
 比較製造例1の高屈折率樹脂溶液Q1に、ジャパンエポキシレジン社製の水素化ビスフェノールAエポキシ樹脂(YX-8000)を溶解し、高屈折率樹脂100重量部に対して、エポキシ樹脂の重量比率が5重量部になるように配合し、高屈折率コーティング剤D1を得た。
(比較例2)
 比較製造例2の高屈折率樹脂溶液Q2に、ジャパンエポキシレジン社製の水素化ビスフェノールAエポキシ樹脂(YX-8000)を溶解し、高屈折率樹脂100重量部に対して、エポキシ樹脂の重量比率が5重量部になるように配合し、高屈折率コーティング剤D2を得た。
「高屈折樹脂コーティング剤の評価」
(実施例4)
 実施例3の高屈折樹脂コーティング剤C1を、4cm×4cmの石英板にスピンコータを用いて塗布し、100℃にて1時間乾燥後、150℃にて1時間硬化させて、厚さ5ミクロンの透明な高屈折樹脂コーティング剤C1の皮膜を得た。外観は透明であり、着色は見られなかった。
 また、高屈折樹脂コーティング剤C1の100重量部に対して、シクロヘキサノン500重量部を配合して、希釈溶液を調製した。調製した希釈溶液を用いて、シリコンウエハーにスピンコータを用いて塗布し、100℃にて1時間乾燥後、150℃にて1時間硬化させて、厚さ100ナノメートルの高屈折樹脂コーティング剤C1の皮膜を作製し、屈折率測定に使用した。
 厚さ5ミクロンの高屈折樹脂コーティング剤C1の皮膜の光線透過率を測定した。波長400nmにおける透過率は96.8%であり、黄変度は0.65であった。
 また、厚さ100ナノメートルの高屈折樹脂コーティング剤C1の皮膜の屈折率を測定した。測定波長633nmにおける屈折率は、1.617であった。
 また、耐光性試験を行ったところ、黄変度の変化量は、1.23であった。
(比較例3)
 比較例1の高屈折樹脂コーティング剤D1を、4cm×4cmの石英板にスピンコータを用いて塗布し、100℃にて1時間乾燥後、150℃にて1時間硬化させて、厚さ5ミクロンの透明な高屈折樹脂コーティング剤D1の皮膜を得た。外観は透明であり、着色は見られなかった。
 また、高屈折樹脂コーティング剤D1の100重量部に対して、シクロヘキサノン500重量部を配合して、希釈溶液を調製した。調製した希釈溶液を用いて、シリコンウエハーにスピンコータを用いて塗布し、100℃にて1時間乾燥後、150℃にて1時間硬化させて、厚さ100ナノメートルの高屈折樹脂コーティング剤D1の皮膜を作製し、屈折率測定に使用した。
 厚さ5ミクロンの高屈折樹脂コーティング剤D1の皮膜の光線透過率を測定した。波長400nmにおける透過率は96.9%であり、黄変度は0.58であった。
 また、厚さ100ナノメートルの高屈折樹脂コーティング剤D1の皮膜の屈折率を測定した。測定波長633nmにおける屈折率は、1.619であった。
 また、耐光性試験を行ったところ、黄変度の変化量は、2.00であった。
(比較例4)
 比較例2の高屈折樹脂コーティング剤D2を、4cm×4cmの石英板にスピンコータを用いて塗布し、100℃にて1時間乾燥後、150℃にて1時間硬化させて、厚さ5ミクロンの透明な高屈折樹脂コーティング剤D2の皮膜を得た。外観は透明であり、着色は見られなかった。
 また、高屈折樹脂コーティング剤D2の100重量部に対して、シクロヘキサノン500重量部を配合して、希釈溶液を調製した。調製した希釈溶液を用いて、シリコンウエハーにスピンコータを用いて塗布し、100℃にて1時間乾燥後、150℃にて1時間硬化させて、厚さ100ナノメートルの高屈折樹脂コーティング剤D2の皮膜を作製し、屈折率測定に使用した。
 厚さ5ミクロンの高屈折樹脂コーティング剤D2の皮膜の光線透過率を測定した。波長400nmにおける透過率は97.7%であった。
 また、厚さ100ナノメートルの高屈折樹脂コーティング剤D2の皮膜の屈折率を測定した。測定波長633nmにおける屈折率は、1.578であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
 表1の結果より、実施例4の透明な高屈折コーティング剤を用いて得られた皮膜は、透明性が高く、なおかつ、有機樹脂としての構成元素として、炭素、水素、酸素、及び窒素の4元素以外は一切使用していないにも拘らず、屈折率が測定波長633nmにおいて1.60を超えており、さらに高い耐光性を示した。  
 一方、比較例3で得られた皮膜は、実施例4で得られた皮膜と同程度の屈折率を示すが、耐光性に課題があり、比較例4で得られた皮膜は、屈折率に課題があった。
 本発明の樹脂コーティング剤は、高透明性、高屈折率の特性を示し、かつ、光耐性に優れていることから、発光ダイオード等の発光素子の光取り出しコーティング剤、CCDやCMOSセンサーあるいはフォトカプラー等の受光素子、太陽電池の集光コーティング剤、レンチキュラーレンズなどの導光材、導波路等のコーティング剤等として、光学電子材料分野において極めて有用である。また、ガラスやプラスチックレンズ等の工業材料のコーティング剤としても有用である。
 なお、2012年3月8日に出願された日本特許出願2012-052024号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (12)

  1.  下記式[1]で表されることを特徴とする化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     式中R、及びRはそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基であり、nは2~10の整数である。
  2.  前記式[1]で表される化合物のRがメチル基であり、Rが水素原子であり、nが  2~4である上記(1)に記載の化合物。
  3.  請求項1又は2に記載の化合物の単独重合又は他の単量体との共重合により得られる重合体。
  4.  前記他の単量体が、ビニル系単量体、アクリル系単量体、メタクリル系単量体、アリル系単量体、及びマレイン酸系単量体からなる群から選ばれる1種以上である請求項3に記載の重合体。
  5.  前記他の単量体が、酢酸ビニル、スチレン、バーサチック酸ビニル、アクリル酸、アクリルアミド類、炭素数1~18の環状、直鎖状、又は分岐型のアルキル基を有するアクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリルアミド、炭素数1~18の環状、直鎖状又は分岐型のアルキル基を有するメタクリル酸エステル、芳香族アリルエステル、ヘテロ環含有アリル化合物、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイミド、並びに炭素数1~18の環状、直鎖状又は分岐型のアルキル基を有するマレイン酸モノエステル及びマレイン酸ジエステルからなる群から選ばれる1種以上である請求項3又は4に記載の重合体。
  6.  前記式[1]の化合物の90~100重量パーセントに対して、前記他の単量体であるビニル系単量体、アクリル系単量体、メタクリル系単量体、アリル系単量体、及びマレイン酸系単量体からなる群から選ばれる1種以上の合計量が、0~10重量パーセントである請求項3乃至5のいずれかに記載の重合体。
  7.  前記単独重合又は他の単量体との共重合が、ラジカル重合開始剤を用いラジカル重合である請求項3乃至6のいずれかに記載の重合体。
  8.  前記ラジカル重合が、有機溶媒を用いた溶液重合である請求項7に記載の重合体。
  9.  請求項3乃至8のいずれかに記載の重合体を含有する樹脂溶液。
  10.  請求項9に記載の樹脂溶液中の樹脂固形分の100重量部に対して、エポキシ樹脂、及びアミノプラスト樹脂から選ばれる架橋剤の0.1~10重量部を配合することによって得られる樹脂コーティング剤。
  11.  前記アミノプラスト樹脂が、分子内に2個以上のアルコキシメチル基を有するメラミン樹脂である請求項10に記載の樹脂コーティング剤。
  12.  請求項10又は11に記載の樹脂コーティング剤を用いて得られる、波長633nmにおける屈折率が1.60以上である皮膜。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021201207A1 (ja) * 2020-04-03 2021-10-07 日本曹達株式会社 2液型接着性組成物

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000273437A (ja) * 1999-03-26 2000-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 高分子紫外線吸収剤ならびに該高分子紫外線吸収剤を含む有機材料、写真要素およびハロゲン化銀写真感光材料
JP2000323190A (ja) * 1999-05-14 2000-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd 電解質組成物、光電変換素子および光電気化学電池
JP2005097377A (ja) * 2003-09-24 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 配向膜、重合体、それを用いた位相差板およびその作製方法、ならびに液晶表示装置
JP2009013169A (ja) * 2007-06-08 2009-01-22 Nippon Kayaku Co Ltd (メタ)アクリレート化合物及びそれを含有する樹脂組成物並びにその硬化物
WO2011018990A1 (ja) * 2009-08-13 2011-02-17 日産化学工業株式会社 透明な高屈折率樹脂組成物

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05164901A (ja) 1991-12-18 1993-06-29 Kureha Chem Ind Co Ltd 高屈折率合成樹脂レンズ
ATE284910T1 (de) * 2000-01-05 2005-01-15 Cambridge Display Tech Ltd Polymere, ihre herstellung und verwendung
JP4309807B2 (ja) 2004-06-09 2009-08-05 三井化学株式会社 エピスルフィド系硫黄原子含有樹脂からなるプラスチックレンズの製造方法
JP5453707B2 (ja) 2006-05-19 2014-03-26 住友大阪セメント株式会社 ジルコニア含有エポキシ樹脂組成物とこれを含有する透明複合体および発光素子並びに光半導体装置
JP4749201B2 (ja) 2006-03-31 2011-08-17 三井化学株式会社 半導体発光素子封止用組成物
TW200806763A (en) * 2006-07-21 2008-02-01 Aica Kogyo Co Ltd Coating agent for antireflection film and antireflection film
US20100090588A1 (en) * 2006-08-21 2010-04-15 Hodogaya Chemical Co., Ltd. Compound having triazine ring structure substituted with pyridyl group and organic electroluminescent device
CN104126148B (zh) * 2011-12-21 2017-05-31 日产化学工业株式会社 液晶取向处理剂、液晶取向膜和使用该液晶取向膜的液晶显示元件以及化合物

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000273437A (ja) * 1999-03-26 2000-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 高分子紫外線吸収剤ならびに該高分子紫外線吸収剤を含む有機材料、写真要素およびハロゲン化銀写真感光材料
JP2000323190A (ja) * 1999-05-14 2000-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd 電解質組成物、光電変換素子および光電気化学電池
JP2005097377A (ja) * 2003-09-24 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 配向膜、重合体、それを用いた位相差板およびその作製方法、ならびに液晶表示装置
JP2009013169A (ja) * 2007-06-08 2009-01-22 Nippon Kayaku Co Ltd (メタ)アクリレート化合物及びそれを含有する樹脂組成物並びにその硬化物
WO2011018990A1 (ja) * 2009-08-13 2011-02-17 日産化学工業株式会社 透明な高屈折率樹脂組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021201207A1 (ja) * 2020-04-03 2021-10-07 日本曹達株式会社 2液型接着性組成物

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