WO2010137518A1 - トリアリルイソシアヌレート及びその製造方法 - Google Patents

トリアリルイソシアヌレート及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2010137518A1
WO2010137518A1 PCT/JP2010/058566 JP2010058566W WO2010137518A1 WO 2010137518 A1 WO2010137518 A1 WO 2010137518A1 JP 2010058566 W JP2010058566 W JP 2010058566W WO 2010137518 A1 WO2010137518 A1 WO 2010137518A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
trans
type
cis
ppm
content
Prior art date
Application number
PCT/JP2010/058566
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
山浦真生子
Original Assignee
日本化成株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=43222628&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=WO2010137518(A1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 日本化成株式会社 filed Critical 日本化成株式会社
Priority to KR1020177032802A priority Critical patent/KR101917639B1/ko
Priority to EP10780473.4A priority patent/EP2436678B1/en
Priority to CN201080022780.XA priority patent/CN102448944B/zh
Priority to KR1020167020520A priority patent/KR101753159B1/ko
Priority to KR1020177005497A priority patent/KR20170026641A/ko
Publication of WO2010137518A1 publication Critical patent/WO2010137518A1/ja
Priority to US13/287,275 priority patent/US8674092B2/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/26Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
    • C07D251/30Only oxygen atoms
    • C07D251/34Cyanuric or isocyanuric esters

Definitions

  • triallyl isocyanurate (triallyl isocyanurate) is referred to as “TAIC”.
  • Patent Document 1 acrylic chloride and sodium cyanate are reacted to obtain allyl isocyanate, and this is trimerized with sodium cyanate method (Patent Document 1).
  • Patent Document 2 acrylic chloride and isocyanuric acid (cyanuric acid).
  • cyanuric acid There is an isocyanuric acid method in which a tautomer is reacted (Patent Document 2).
  • TAIC is useful as a crosslinking agent having excellent heat resistance and chemical resistance, and is expected to be used in a wide range of fields such as electronic materials, liquid crystals, semiconductors, and solar cells.
  • printed circuit boards that is, plate-like or film-like components that make up an electronic circuit by fixing a large number of electronic components such as integrated circuits, resistors, capacitors, etc. to the surface and connecting the components with wiring
  • TAIC is used as a sealing material for preventing substances such as liquids and gases from entering the interior of the component.
  • TAIC is used as a liquid sealing material because it is a viscous liquid (melting point: 26 ° C.) at room temperature.
  • a silane coupling agent is added to improve the wettability.
  • TAIC is also used as a crosslinking agent for crosslinkable polymers (Patent Document 4).
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to identify a causative substance from impurities in TAIC and provide a TAIC with a low content of the causative substance.
  • the TAIC obtained by the sodium cyanate method or the isocyanuric acid method contains an organic chlorine compound represented by the chemical formula (I) as one of the impurities. Hydrolyzes to produce chlorine ions, causing corrosion.
  • the organic chlorine compound represented by the chemical formula (I) is produced by the reaction of sodium cyanate and 1,3-dichloropropene represented by the chemical formula (II) contained as an impurity in allyl chloride. . It is also formed by the reaction of cyanuric acid and 1,3-dichloropropene.
  • the organochlorine compound represented by the chemical formula (I) cannot be removed by separation means such as distillation, but the 1,3-dichloropropene represented by the chemical formula (II) is a distillate of allyl chloride. It can be easily separated by purification.
  • the 1st summary contains the organochlorine compound represented by the following chemical formula (I), and the content is 500 ppm or less It exists in the triallyl isocyanurate characterized by these.
  • the second gist of the present invention is that the content of sodium cyanate or isocyanuric acid and 1,3-dichloropropene (content as a cis-type or trans-type or a mixture of cis-type and trans-type in any ratio)
  • the present invention resides in a method for producing triallyl isocyanurate, characterized in that it reacts with allyl chloride whose content is 200 ppm or less.
  • the triallyl isocyanurate of the present invention is suitable as, for example, a sealing material for a printed wiring board because it does not cause metal corrosion due to impurities contained therein.
  • the TAIC according to the present invention is basically produced by the sodium cyanate method described in Patent Document 1 or the isocyanuric acid method described in Patent Document 2.
  • the sodium cyanate method is a method in which acrylic chloride and sodium cyanate are reacted to obtain allyl isocyanate, and this is trimerized.
  • the details of the reaction conditions can be referred to the description in Patent Document 1 described above, but in a preferred embodiment of the present invention, allyl chloride is dropped into a solution comprising sodium cyanate, calcium chloride, potassium bromide, and DMF, Thereafter, reaction aging is performed at 100 to 150 ° C. for 0.5 to 5 hours.
  • the isocyanuric acid method is a method in which acrylic chloride and isocyanuric acid are reacted in the presence of a base catalyst.
  • the details of the reaction conditions can be referred to the description in Patent Document 2 described above.
  • allyl chloride is dropped into a solution comprising isocyanuric acid, DMF, and triethylamine, and then 0.5. Reaction aging is performed at 100 to 150 ° C. for ⁇ 5 hours.
  • the content of 1,3-dichloropropene as a raw material is 200 ppm or less. It is important to use some allyl chloride.
  • industrial allyl chloride contains impurities such as propyl chloride, 1,2-dichloropropene, 1,3-dichloropropane and 1,3-dichloropropene.
  • Allyl chloride having a 1,3-dichloropropene content of 200 ppm or less can be obtained by precision distillation of industrial allyl chloride.
  • the theoretical number of distillation columns used for precision distillation is usually 50 or more, preferably 60 to 90, and the reflux ratio is usually 5 or more, preferably 7 to 10.
  • the content of 1,3-dichloropropene (content as a cis-type or trans-type or a mixture of cis-type and trans-type in any ratio) is preferably 100 ppm or less.
  • the TAIC of the present invention is obtained, for example, by the above-described production method, and contains an organic chlorine compound represented by the following chemical formula (I), and the content thereof is 500 ppm or less.
  • the content of the organic chlorine compound represented by the chemical formula (I) in the TAIC of the present invention is preferably 300 ppm or less, more preferably 100 ppm or less, and particularly preferably 30 ppm or less.
  • the TAIC of the present invention is suitable as a sealing material for printed wiring boards because it contains a small amount of impurities that cause metal corrosion.
  • the TAIC of the present invention is mixed with a crosslinkable elastomer, vulcanized by heating, radiation, etc., and used as a sealant for electronic materials, semiconductors, solar cell materials, or mixed with a crosslinkable thermoplastic resin. Vulcanized with an electron beam or the like and suitably used for coating electric wires.
  • TAIC transfer method in which triallyl cyanurate (hereinafter referred to as “TAC”) is obtained and transferred, and TAIC obtained by this production method is represented by the chemical formula (I). Does not contain organochlorine compounds.
  • Comparative Example 1 A solution composed of 100 g of sodium cyanate, 14 g of calcium chloride, 13 g of potassium bromide, and 500 g of DMF was kept at 120 ° C., and 98 g of allyl chloride (including 1,3-dichloropropene: 140 ppm of cis isomer and 140 ppm of trans isomer) was added dropwise. After the reaction ripening, the solvent was distilled off to obtain an oily substance. Subsequently, this oily substance was washed with water, and the obtained organic layer was distilled under reduced pressure to obtain TAC as a viscous liquid (yield 90%). This TAIC contained 590 ppm of the organic chlorine compound of the formula (I).
  • Example 1 In Comparative Example 1, TAC was produced in the same manner as in Comparative Example 1, except that 1,3-dichloropropene (allyl chloride containing 0.1 ppm of cis isomer and 0.1 ppm of trans isomer) was used as the starting material allyl chloride. (Yield 91%) No organochlorine compound of general formula (I) was detected in this TAIC (less than 10 ppm).
  • Test Example 1 (TAIC hydrolysis test): 1 g of TAIC and 20 g of water obtained in the above examples were placed in a Teflon (registered trademark) pressure vessel, heated at 120 ° C. for 200 hours, and then the chloride ion concentration in water was measured. Chlorine ion concentration was measured by an iona chromatograph (column used: “DIONEX Ion Pack AS12A”, eluent: 2.7 mM-Na 2 CO 3 /0.3 mM-NaHCO 3 ). The detection limit is 1 ppm. The results are shown in Table 3.

Abstract

 トリアリルイソシアヌレートの不純物の中から腐食原因物質を特定し、その原因物質の含有量の少ないトリアリルイソシアヌレートを提供する。 以下の化学式(I)で表される有機塩素化合物を含有し且つその含有量が500ppm以下であるトリアリルイソシアヌレート。(化学式(I)の波線の結合は、シス型もしくはトランス型またはシス型とトランス型の任意の割合の混合物を示す。)

Description

トリアリルイソシアヌレート及びその製造方法
 本発明は、トリアリルイソシアヌレート及びその製造方法に関する。以下、トリアリルイソシアヌレート(イソシアヌル酸トリアリル)を「TAIC」と表記する。
 TAICの製造方法として、アクリルクロライドとシアン酸ソーダとを反応させてアリルイソシアネート得、これを三量化するシアン酸ソーダ法(特許文献1)、塩基触媒存在下にアクリルクロライドとイソシアヌル酸(シアヌル酸の互変異性体)とを反応させるイソシアヌル酸法がある(特許文献2)。
 TAICは、耐熱性と耐薬品性に優れた架橋剤として有用であり、電子材料、液晶、半導体、太陽電池などの幅広い分野での使用が期待される。例えば、プリント配線基板、すなわち、集積回路、抵抗器、コンデンサー等の多数の電子部品を表面に固定し、その部品間を配線で接続することで電子回路を構成する板状またはフィルム状の部品においては、液体や気体などの物質が部品の内部に入り込まないようにするための封止材として、TAICの使用が提案されている(特許文献3)。斯かる提案において、TAICは、常温で粘性液体(融点26℃)であるため、液状封止材として使用されている。また、その濡れ性の向上のために、シランカップリング剤が添加されている。また、TAICは、架橋性高分子の架橋剤としても使用されている(特許文献4)。
 ところで、上記の各製造法で得られるTAICの不純物については未だ報告されていないようであるが、金属腐食の原因となるような不純物は可能な限り除去する必要がある。
特公昭58-35515号公報 米国特許第3965231号明細書 特開2007-115840号公報 特開2006-036876号公報
 本発明は、上記実情に鑑みなされたものであり、その目的は、TAICの不純物の中から腐食原因物質を特定し、その原因物質の含有量の少ないTAICを提供することにある。
 本発明者は、上記の目的を達成すべく鋭意検討した結果、次のような知見を得た。
(1)シアン酸ソーダ法やイソシアヌル酸法で得られるTAICには、不純物の1つとして化学式(I)で表される有機塩素化合物が含まれているが、この有機塩素化合物は、水中で除々に加水分解し、塩素イオンを生じるため腐食の原因となる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(化学式(I)の波線の結合は、シス型もしくはトランス型またはシス型とトランス型の任意の割合の混合物を示す。以下、同じ。)
(2)化学式(I)で表される有機塩素化合物は、シアン酸ソーダとアリルクロライド中に不純物として含まれている化学式(II)で表される1,3-ジクロロプロペンとの反応で生成する。また、シアヌール酸と1,3-ジクロロプロペンとの反応でも生成する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(3)化学式(I)で表される有機塩素化合物は、蒸留などの分離手段で除去することが出来ないが、化学式(II)で表される1,3-ジクロロプロペンは、アリルクロライドの蒸留精製により容易に分離することが出来る。
 本発明は、上記の知見を基に完成されたものであり、その第1の要旨は、以下の化学式(I)で表される有機塩素化合物を含有し且つその含有量が500ppm以下であることを特徴とするトリアリルイソシアヌレートに存する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
(化学式(I)の波線の結合は、シス型もしくはトランス型またはシス型とトランス型の任意の割合の混合物を示す。)
 そして、本発明の第2の要旨は、シアン酸ソーダ又はイソシアヌル酸と1,3-ジクロロプロペンの含有量(シス型もしくはトランス型またはシス型とトランス型の任意の割合の混合物としての含有量)が200ppm以下であるアリルクロライドとを反応させることを特徴とするトリアリルイソシアヌレートの製造方法に存する。
 本発明のトリアリルイソシアヌレートは、含有される不純物に起因する金属腐食を惹起することがないため、例えば、プリント配線基板の封止材として好適である。
 以下、本発明を詳細に説明する。
 先ず、説明の便宜上、本発明に係るTAICの製造方法について説明する。
 本発明に係るTAICは、基本的には、前述の特許文献1に記載されたシアン酸ソーダ法または前述の特許文献2に記載されたイソシアヌル酸法によって製造される。
 シアン酸ソーダ法は、アクリルクロライドとシアン酸ソーダとを反応させてアリルイロシアネート得、これを三量化する方法である。反応条件の詳細は前述の特許文献1の記載を参照することが出来るが、本発明の好ましい態様においては、シアン酸ソーダ、塩化カルシウム、臭化カリウム、DMFからなる溶液にアリルクロライドを滴下し、その後、0.5~5時間、100~150℃で反応熟成を行う。
 イソシアヌル酸法は、塩基触媒存在下にアクリルクロライドとイソシアヌル酸とを反応させる方法である。反応条件の詳細は前述の特許文献2の記載を参照することが出来るが、本発明の好ましい態様においては、イソシアヌール酸、DMF,トリエチルアミンからなる溶液にアリルクロライドを滴下し、その後、0.5~5時間、100~150℃で反応熟成を行う。
 本発明においては、上記の何れの場合においても原料として1,3-ジクロロプロペンの含有量(シス型もしくはトランス型またはシス型とトランス型の任意の割合の混合物としての含有量)が200ppm以下であるアリルクロライドを使用することが重要である。
 通常、工業用アリルクロライドには、プロピルクロライド、1,2-ジクロロプロペン、1,3-ジクロロプロパン、1,3-ジクロロプロペン類などの不純物が含まれている。1,3-ジクロロプロペンの含有量が200ppm以下であるアリルクロライドは、工業用アリルクロライドを精密蒸留することにより得ることが出来る。精密蒸留に使用する蒸留塔の理論段数は、通常50段以上、好ましくは60~90段であり、また、還流比は、通常5以上、好ましくは7~10である。1,3-ジクロロプロペンの含有量(シス型もしくはトランス型またはシス型とトランス型の任意の割合の混合物としての含有量)は、好ましくは100ppm以下である。
 次に、本発明のTAICについて説明する。本発明のTAICは、例えば、前述の製造方法で得られ、以下の化学式(I)で表される有機塩素化合物を含有し且つその含有量が500ppm以下であることを特徴とする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
(化学式(I)の波線の結合は、シス型もしくはトランス型またはシス型とトランス型の任意の割合の混合物を示す。)
 本発明のTAICにおける化学式(I)で表される有機塩素化合物の含有量は、好ましくは300ppm以下、更に好ましくは100ppm以下、特に好ましくは30ppm以下である。本発明のTAICは、金属腐食を惹起する不純物の含有量が少ないため、プリント配線基板の封止材として好適である。また、本発明のTAICは、架橋性エラストマーと混合し、加熱、放射線などにより加硫し、電子材料、半導体、太陽電池材料の封止剤として使用したり、架橋性熱可塑性樹脂と混合して電子線などにより加硫して電線などの被覆に好適に使用される。
 因に、TAICの製造方法としては、前述のシアン酸ソーダ法およびイソシアヌル酸法の他に、2,4,6-トリクロロ-1,3,5-トリアジン(塩化シアヌル)とアリルアルコールとを反応させてトリアリルシアヌレート(以下、「TAC」と表記する)を得、これを転移反応させる製造方法(TAC転移法)があるが、この製造法で得られるTAICは化学式(I)で表される有機塩素化合物を含有していない。
 以下、本発明を実施例より更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。以下の諸例における分析方法は次の通りである。
(1)1,3-ジクロロプロペンの分析:
 この分析は、GC-MS(Gas Chromatograph-Mass Spectrometry)によるシングルイオンモニタリング法(SIM法)によって行った。表1に分析条件を示す。なお、検出限界は0.5ppmである。比較例1の場合、1,3-ジクロロプロペンの分析試料は20倍に希釈して使用した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
(2)化学式(I)の有機塩素化合物の分析:
 この分析はガスクロマトグラフ(面積百分率法)によって行った。表2に分析条件を示す。なお、検出限界は10ppmである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 比較例1:
 シアン酸ソーダ100g、塩化カルシウム14g、臭化カリウム13g、DMF500gからなる溶液を120℃に保持し、アリルクロライド(1,3-ジクロロプロペン:シス体140ppm、トランス体140ppmを含む)98gを滴下した。反応熟成した後、溶媒を留去し、油状物を得た。次いで、この油状物について水洗浄し、得られた有機層を減圧蒸留し、粘調液体としてTAC得た(収率90%)。このTAICには化学式(I)の有機塩素化合物が590ppm含まれていた。
 実施例1:
 比較例1において、原料のアリルクロライドとして、1,3-ジクロロプロペン(シス体0.1ppm、トランス体0.1ppmを含むアリルクロライドを使用した他は、比較例1と同様にしてTACを製造した(収率91%)。このTAICには一般式(I)の有機塩素化合物は検出されなかった(10ppm未満)。
 試験例1(TAICの加水分解試験):
 前記の各例で得られたTAIC1gと水20gとをテフロン(登録商標)製耐圧容器に入れ、120℃で200時間加熱した後、水中の塩素イオン濃度を測定した。塩素イオン濃度の測定はイオナクロマトグラフ(使用カラム:「DIONEX Ion Pack AS12A」、溶離液:2.7mM-NaCO/0.3mM-NaHCO)で行った。検出限界は1ppmである。結果を表3に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008

Claims (3)

  1.  以下の化学式(I)で表される有機塩素化合物を含有し且つその含有量が500ppm以下であることを特徴とするトリアリルイソシアヌレート。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (化学式(I)の波線の結合は、シス型もしくはトランス型またはシス型とトランス型の任意の割合の混合物を示す。)
  2.  アクリルクロライドとシアン酸ソーダとを反応させてアリルイロシアネート得、これを三量化するトリアリルイソシアヌレートの製造方法において、原料として1,3-ジクロロプロペンの含有量(シス型もしくはトランス型またはシス型とトランス型の任意の割合の混合物としての含有量)が200ppm以下であるアリルクロライドを使用することを特徴とするトリアリルイソシアヌレートの製造方法。
  3.  塩基触媒存在下にアクリルクロライドとイソシアヌル酸とを反応させるトリアリルイソシアヌレートの製造方法において、原料として1,3-ジクロロプロペンの含有量(シス型もしくはトランス型またはシス型とトランス型の任意の割合の混合物としての含有量)が200ppm以下であるアリルクロライドを使用することを特徴とするトリアリルイソシアヌレートの製造方法。
PCT/JP2010/058566 2009-05-25 2010-05-20 トリアリルイソシアヌレート及びその製造方法 WO2010137518A1 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020177032802A KR101917639B1 (ko) 2009-05-25 2010-05-20 가교제 및 밀봉재
EP10780473.4A EP2436678B1 (en) 2009-05-25 2010-05-20 Triallylisocyanurate and process for production thereof
CN201080022780.XA CN102448944B (zh) 2009-05-25 2010-05-20 异氰脲酸三烯丙酯及其制造方法
KR1020167020520A KR101753159B1 (ko) 2009-05-25 2010-05-20 트리알릴 이소시아누레이트 및 그의 제조방법
KR1020177005497A KR20170026641A (ko) 2009-05-25 2010-05-20 가교제 및 밀봉재
US13/287,275 US8674092B2 (en) 2009-05-25 2011-11-02 Triallyl isocyanurate and process for producing the same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009125334A JP5509674B2 (ja) 2009-05-25 2009-05-25 トリアリルイソシアヌレート及びその製造方法
JP2009-125334 2009-05-25

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US13/287,275 Continuation-In-Part US8674092B2 (en) 2009-05-25 2011-11-02 Triallyl isocyanurate and process for producing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010137518A1 true WO2010137518A1 (ja) 2010-12-02

Family

ID=43222628

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2010/058566 WO2010137518A1 (ja) 2009-05-25 2010-05-20 トリアリルイソシアヌレート及びその製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8674092B2 (ja)
EP (2) EP2436678B1 (ja)
JP (1) JP5509674B2 (ja)
KR (4) KR101753159B1 (ja)
CN (2) CN104892978B (ja)
TW (2) TWI603961B (ja)
WO (1) WO2010137518A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011006390A (ja) * 2009-05-25 2011-01-13 Nippon Kasei Chem Co Ltd トリアリルイソシアヌレートの貯蔵方法
JP2011006389A (ja) * 2009-05-25 2011-01-13 Nippon Kasei Chem Co Ltd トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート及びトリアリルイソシアヌレートの製造方法
CN111253329A (zh) * 2020-04-14 2020-06-09 湖南方锐达科技有限公司 一种三烯丙基异氰脲酸酯的制备工艺

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102775364B (zh) * 2012-07-31 2015-01-07 合肥工业大学 一种交联剂三烯丙基异氰尿酸酯的制备方法
CN102887868B (zh) * 2012-09-18 2014-12-31 江苏科利新材料有限公司 一种三烯丙基异氰尿酸酯的制备方法
ES2632783T3 (es) 2014-12-19 2017-09-15 Evonik Degussa Gmbh Sistemas de redes de cubierta para láminas de encapsulación que comprenden compuestos de bis-(alquenilamidas)
EP3034528B1 (de) 2014-12-19 2017-06-21 Evonik Degussa GmbH Covernetzersysteme für Verkapselungsfolien umfassend Harnstoffverbindungen
CN106810505A (zh) * 2017-03-02 2017-06-09 江苏华星新材料科技股份有限公司 一种异氰脲酸制备三烯丙基异氰脲酸酯的工艺
CN109694460B (zh) * 2018-12-11 2021-04-20 万华化学集团股份有限公司 多官能度不饱和异氰酸酯三聚体及其制备和在分散体稳定剂中的应用
CN111848532A (zh) * 2020-07-23 2020-10-30 山东海益化工科技有限公司 三烯丙基异三聚氰酸酯生产工艺

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3322761A (en) * 1965-07-14 1967-05-30 Allied Chem Purification of triallyl isocyanurate
JPS4722588B1 (ja) * 1970-03-02 1972-06-24
JPS4826022B1 (ja) * 1970-05-03 1973-08-03
JPS5444688A (en) * 1977-09-12 1979-04-09 Nippon Kasei Chem Manufacture of isocyanic acid triallyl
JPH11255753A (ja) * 1998-03-10 1999-09-21 Nissei Kagaku Kogyo Kk 高品位トリアリルイソシアヌレートとその製造方法
WO2008006661A2 (en) * 2006-07-12 2008-01-17 Evonik Degussa Gmbh Process for preparing triallyl isocyanurate (taic)

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3065231A (en) 1958-08-06 1962-11-20 Allied Chem Production of triallyl isocyanurate
US3376301A (en) * 1960-08-24 1968-04-02 Gulf Oil Corp Method of producing triallylic isocyanurates
JPS4826022A (ja) * 1971-08-04 1973-04-05
US3965231A (en) 1975-04-07 1976-06-22 Modern Builders Supply Co. Means and method for defeathering blocks
JPS5822118B2 (ja) * 1978-03-31 1983-05-06 日本化成株式会社 イソシアヌル酸トリアリルの製造法
JPS5835515B2 (ja) 1977-09-12 1983-08-03 日本化成株式会社 イソシアヌル酸エステルの製造法
JPS5835515A (ja) 1981-08-28 1983-03-02 Canon Inc 液晶表示装置
JPH0692329B2 (ja) * 1986-06-04 1994-11-16 昭和電工株式会社 アリルクロライドの製造方法
JPH0826022A (ja) * 1994-07-18 1996-01-30 Mitsubishi Motors Corp ヘッドランプ点灯回路
JP2006036876A (ja) 2004-07-26 2006-02-09 Du Pont Mitsui Polychem Co Ltd 太陽電池封止材及びそれを用いた太陽電池モジュール
JP2007115840A (ja) 2005-10-19 2007-05-10 Kyocera Corp 配線基板および配線基板の製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3322761A (en) * 1965-07-14 1967-05-30 Allied Chem Purification of triallyl isocyanurate
JPS4722588B1 (ja) * 1970-03-02 1972-06-24
JPS4826022B1 (ja) * 1970-05-03 1973-08-03
JPS5444688A (en) * 1977-09-12 1979-04-09 Nippon Kasei Chem Manufacture of isocyanic acid triallyl
JPH11255753A (ja) * 1998-03-10 1999-09-21 Nissei Kagaku Kogyo Kk 高品位トリアリルイソシアヌレートとその製造方法
WO2008006661A2 (en) * 2006-07-12 2008-01-17 Evonik Degussa Gmbh Process for preparing triallyl isocyanurate (taic)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011006390A (ja) * 2009-05-25 2011-01-13 Nippon Kasei Chem Co Ltd トリアリルイソシアヌレートの貯蔵方法
JP2011006389A (ja) * 2009-05-25 2011-01-13 Nippon Kasei Chem Co Ltd トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート及びトリアリルイソシアヌレートの製造方法
CN111253329A (zh) * 2020-04-14 2020-06-09 湖南方锐达科技有限公司 一种三烯丙基异氰脲酸酯的制备工艺
CN111253329B (zh) * 2020-04-14 2022-11-29 湖南方锐达科技有限公司 一种三烯丙基异氰脲酸酯的制备工艺

Also Published As

Publication number Publication date
TW201512179A (zh) 2015-04-01
CN102448944A (zh) 2012-05-09
EP2436678A4 (en) 2012-11-07
JP2010270087A (ja) 2010-12-02
EP2436678A1 (en) 2012-04-04
US8674092B2 (en) 2014-03-18
JP5509674B2 (ja) 2014-06-04
TWI508952B (zh) 2015-11-21
TWI603961B (zh) 2017-11-01
KR101917639B1 (ko) 2018-11-13
EP2899184A1 (en) 2015-07-29
CN104892978A (zh) 2015-09-09
CN102448944B (zh) 2017-06-20
US20120095224A1 (en) 2012-04-19
KR20120024559A (ko) 2012-03-14
KR20170026641A (ko) 2017-03-08
KR20160096209A (ko) 2016-08-12
CN104892978B (zh) 2018-11-13
KR20170127077A (ko) 2017-11-20
TW201111353A (en) 2011-04-01
EP2436678B1 (en) 2016-04-20
KR101753159B1 (ko) 2017-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5509674B2 (ja) トリアリルイソシアヌレート及びその製造方法
JP5971288B2 (ja) トリアリルイソシアヌレート用凍結固化防止剤
JP6048559B2 (ja) トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート及びトリアリルイソシアヌレートの製造方法
JP6005104B2 (ja) トリアリルイソシアヌレート
JP6206615B2 (ja) トリアリルイソシアヌレート
JP6128272B2 (ja) 架橋剤および封止材
JP6065045B2 (ja) 架橋剤および封止材
JP6005105B2 (ja) 架橋剤および封止材
JP2015134820A (ja) トリアリルイソシアヌレート
JP2014122217A (ja) トリアリルイソシアヌレート
JP2014139168A (ja) 架橋剤および封止材

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201080022780.X

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10780473

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20117025330

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2010780473

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 8619/DELNP/2011

Country of ref document: IN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE