WO2009156543A1 - Compuestos de la vitamina d deuterados - Google Patents
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- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
- C07D303/24—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with polyhydroxy compounds
Definitions
- the invention is directed to compounds of formula I characterized by being deuterated derivatives of vitamins D 2 and D 3 , processes for obtaining said compounds and intermediates useful in their synthesis.
- These compounds of formula I are useful as internal standards in methods of quantification of vitamin D, its metabolites and / or analogs by mass spectrometry. State of the technique The stages of metabolic activation and the functions of vitamin D have been discovered thanks to the use of metabolites and analogs of vitamin D that incorporated radioactive tracers.
- Deuterated metabolites and analogs of vitamin D are useful as isotopically substituted reference substances of different vitamins D and metabolites for use in methods of quantification of vitamin D (of its metabolites and / or analogs) in blood plasma and tissues by direct mass spectrometry or by means of serially coupled techniques (tandem) with gas chromatography or liquids
- vitamins are prepared with isotopic marking (deuterium, tritium) in a single position, C6.
- the present invention is directed to compounds with high degrees of deuteration in the metabolites and analogs of vitamins D 3 and D 2 , compounds that have the side chain of the vitamin itself, without hydroxyl in C25, compounds with greater complexity than those known and compounds with epimeric configuration in C3.
- a methodology with greater synthetic versatility is provided for a broad group of compounds. Description of the Invention
- the present invention is directed to compounds of formula I
- A is a single, double or triple bond
- M is a trideuterometil group
- N is a hydrogen, trideuterometyl, methyl, hydroxyl or -OR, wherein R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl,-butyldimethylsilyl, tri- / sopropylsilyl,-butyldiphenylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethyl , p-nitrobenzoate, pivalate or acetate,
- R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are independently selected from hydrogen, hydroxyl or -OR, where R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl,-butyldimethylsilyl, tri- / sopropylsilyl, t - Butyldiphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylbenzyl silyl, benzoate, p-nitrobenzoate, pivalate or acetate, with the proviso that when N is hydrogen or methyl, then R 2 is necessarily hydroxyl.
- the compounds of formula I are deuterated compounds derived from vitamins D 2 and D 3 , useful as internal standards in methods of quantification of vitamin D, its metabolites and / or analogs by mass spectrometry.
- the invention is directed to the following compounds of formula I: 26,26,26,27,27,27,28,28,28-nonadeuterovitamin D 2 (1a), 26,26,26, 27, 27,27,28,28,28-nonadeutero-25-hydroxyvitamin D 2 (1 b), 26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-nonadeutero-1 ⁇ -hydroxyvitamin D 2 (1 c), 26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-nonadeutero-1 ⁇ , 25-dihydroxyvitamin D 2 (1d),
- the invention is directed to a process for the preparation of the compounds of formula I, wherein A is a single, double or triple bond, M is a trideuterometyl group,
- N is a hydrogen, trideuterometyl, methyl, hydroxyl or -OR, wherein R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl,-butyldimethylsilyl, tri- / sopropylsilyl,-butyldiphenylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethyl , p-nitrobenzoate, pivalate or acetate, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are independently selected from hydrogen, hydroxy or -OR, wherein R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, tri
- A is a single, double or triple link
- M is a trideuterometil group
- N is a hydrogen, trideuterometyl, methyl, hydroxyl or -OR, wherein R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl,-butyldimethylsilyl, tri- / sopropylsilyl,-butyldiphenylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethyl , p-nitrobenzoate, pivalate or acetate,
- R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are independently selected from hydrogen, hydroxyl or -OR, where R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl,-butyldimethylsilyl, tri- / sopropylsilyl, t - butyldiphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylbenzyl silyl, benzoate, p-nitrobenzoate, pivalate or acetate.
- the invention is directed to an alternative process for the preparation of the compounds of formula I comprising a coupling of compounds IV and V in the presence of a catalyst,
- A is a single, double or triple bond
- M is a trideuterometyl group
- N is a hydrogen, trideuterometyl, methyl, hydroxyl or -OR, wherein R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl,-butyldimethylsilyl, tri- / sopropylsilyl,-butyldiphenylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethyl , p-nitrobenzoate, pivalate, or acetate, R 3 is selected from hydrogen, hydroxyl or -OR, wherein R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethyl
- X is indium bichloride (-InCI 2 ), zinc bromide (-ZnBr) or dialkoxyboro [-B (OR) 2 ], and ⁇ is a SIR3, SiR 2 R ', where R and R' are alkyl or aryl radicals, or a methoxymethyl group.
- the catalyst is preferably selected from tetra-kis-triphenylphosphine palladium (O), palladium (ll) bis-triphenylphosphine dichloride, palladium (ll) bis- (diphenylphosphine) ferrocene dichloride, palladium (ll) acetate , palladium (ll) bis-acetonitrile dichloride, tris (dibenzylidenacetone) dipaladium (0), nickel acetylacetonate (N), or bis (1, 5-dicyclooctadienyl) nickel (O).
- Another aspect of the invention is the intermediate compound of formula III, useful in the preparation of the compounds of formula I
- A is a single, double or triple link
- M is a trideuterometil group
- N is a hydrogen, trideuterometyl, methyl, hydroxyl or -OR
- R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl,-butyldimethylsilyl, tri- / sopropylsilyl,-butyldiphenylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethyl , p-nitrobenzoate, pivalate or acetate
- R 3 is independently selected from hydrogen, hydroxyl or -OR, where R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl
- ⁇ is a SiR 3 , SiR 2 R ', where R and R' are alkyl or aryl radicals, or a methoxymethyl group.
- Another aspect of the invention is the intermediate compound of formula IV, useful in the preparation of the compounds of formula I
- A is a single, double or triple bond
- M is a trideuterometyl group
- N is a hydrogen, trideuterometyl, methyl, hydroxyl or -OR, wherein R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl, i- butyldimethylsilyl, tri- / sopropylsilyl, ⁇ -butyldiphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylbenzylsilyl, benzoate, p-nitrobenzoate, pivalate or acetate
- R 3 is independently selected from hydrogen, hydroxy or -OR, where R is selected from the methoxymethyl, methoxyethyl groups, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, tri- / so-propy
- A is a single, double or triple bond
- M is a trideuterometyl group
- N is a hydrogen, trideuterometyl, methyl, hydroxyl or -OR, wherein R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl,-butyldimethylsilyl, tri- / sopropylsilyl,-butyldiphenylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethyl , p-nitrobenzoate, pivalate or acetate, R 1 is a hydroxyl, trialkylsilyloxy or benzoate group,
- R 2 is hydrogen, a hydroxyl group, trialkylsilyloxy; or R 1 and R 2 together are halomethylene,
- R 3 is selected from hydrogen, hydroxyl or -OR, wherein R is selected from the groups methoxymethyl, methoxyethyl, trimethylsilylethoxymethyl, trimethylsilyl, triethylsilyl, ⁇ -butyldimethylsilyl, tri- / so-propylsilyl, ⁇ -butyldiphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylbenzylsilyl, dimethylbenzoyl silyl , p-nitrobenzoate, pivalate, or acetate, except for the following compound:
- ⁇ is a SiR 3 , SiR 2 R ', where R and R' are alkyl or aryl radicals, or a methoxymethyl group.
- A is a single or double bond
- M is a trideuterometyl group
- R 1 is a hydroxyl, trialkylsilyloxy or benzoate group
- R 2 is hydrogen, or R 1 and R 2 together can be a carbonyl or halomethylene group.
- A is a single, double or triple bond
- M is a trideuterometyl group
- Y is a hydroxyl, carbamate or diethyl phosphate group
- R 1 is a hydroxyl, trialkylsilyloxy or benzoate group
- R 2 is hydrogen, or R 1 and R 2 together can be a carbonyl or halomethylene group.
- Z is an oxygen or a dibromomethylene group
- X is a hydrogen, a hydroxyl group or a trialkylsilyloxy group
- ⁇ is a SiR 3 , SiR 2 R ', R and R' being alkyl or aryl radicals, or a methoxymethyl group.
- the compounds of formula I are prepared by the reaction of the compounds of formula Il with a base and subsequent reaction with the compounds of formula III, wherein in particular, this coupling can be carried out by reaction of the anion of the compound of formula II, which is prepared by reacting compound of formula Il with n-butyllithium at -78 0 C in anhydrous tetrahydrofuran, with compounds of formula III. If necessary, it is possible to carry out the deprotection of the protective groups. This deprotection is preferably carried out with tetra-n-butylammonium fluoride in tetrahydrofuran at room temperature and with AG W50 X4 acid exchange acid resin in deoxygenated methanol.
- the compounds of formula I are prepared by coupling between a compound of formula IV and a compound of formula V, in the presence of a catalyst, wherein
- the compounds of formula IV are prepared by reaction of the compound of formula Vl, wherein R 1 and R 2 are together halomethylene, with-butyllithium at -78 0 C in anhydrous tetrahydrofuran followed by treatment with a reagent selected from indium trichloride, zinc dibromide, isopropoxicatecolborane or 2-isopropoxy -4,4,5,5-tetramethyl-1, 3,2-dioxaborolane.
- the coupling is carried out in the presence of a catalyst preferably selected from tetra - / (/ s-triphenylphosphine palladium (O), palladium (ll) bis-triphenylphosphine dichloride, palladium (ll) bis- (diphenylphosphine) ferrocene dichloride, palladium (ll) acetate, palladium (ll) bis-acetonitrile dichloride, tris (dibenzylidenacetone) dipaladium (0), nickel (ll) acetylacetonate, or bis (1,5-dicyclooctadienyl) nickel (O), with a compound of formula V.
- a catalyst preferably selected from tetra - / (/ s-triphenylphosphine palladium (O), palladium (ll) bis-triphenylphosphine dichloride, palladium (ll) bis- (diphenylphosphine)
- the deprotection of the protective groups is carried out, in particular with tetra-n-butylammonium fluoride in tetrahydrofuran at room temperature and with AG W50 X4 ion exchange acid resin in deoxygenated methanol.
- the compound of formula 3 is obtained by stereoselective addition of the anion of the
- the compound of formula 4 is prepared by partial hydrogenation of the triple bond by treatment with hydrogen and the Lindlar catalyst in anhydrous methanol.
- the compound of formula 5 is obtained by reaction with phenyl isocyanate in anhydrous pyridine.
- the compounds of formula 6 are prepared by substitution reaction with trideuterated or undeuterated high order methyl cuprates.
- the compounds of formula 7 are obtained by reaction with lithium aluminum hydride in anhydrous tetrahydrofuran.
- the compounds of formula 8 are prepared by oxidation with pyridinium dichromate in anhydrous dichloromethane.
- the compounds of formula 9 are prepared through the deprotection sequence, reaction with methyl chloroglyoxylate and deoxygenation by treatment with triphenylyltin hydride in toluene.
- the compounds of formula III corresponding to the deuterated side chain CD bicyclo ketones of vitamin D 2 can be prepared in particular by a sequence of reactions from the compound of formula 10 already known.
- the compound of formula 11 is obtained by stereoselective addition of the protected (1, 1, 1, 2,2,2) -d 6 (E) -2-methyl-3-buten-2-ol anion.
- the compound of formula 12 is prepared by reaction with diethyl chlorophosphate in anhydrous pyridine.
- the compounds of formula 13 are prepared by substitution reaction with trideuterated or undeuterated high order methyl cuprates.
- the compounds of formula 7 are obtained by deprotection of the protecting group with tetra-n-butylammonium fluoride in tetrahydrofuran at room temperature.
- the compounds of formula III corresponding to the deuterated ketones of the C-24 hydroxylated side chain CD are prepared by a sequence of reactions from the compound of formula 11.
- the compound of formula 14 is obtained by reaction with acetic anhydride in anhydrous pyridine.
- the compound of formula 15 is obtained by reaction with bis (acetonitrile) palladium dichloride in anhydrous tetrahydrofuran.
- the compound of formula 16 is obtained by hydrogenation with catalyst of platinum dioxide in anhydrous methanol.
- the compound of formula 17 is obtained by deprotection of the protecting group with hydrofluoric acid in tetrahydrofuran: acetonitrile at room temperature.
- the compound of formula 18 is obtained by oxidation with pyridinium dichromate in dichloromethane.
- the compounds of formula III corresponding to the hexadeuterated side chain CD bicyclo ketones of vitamin D 3 are prepared by a sequence of reactions from the compound of formula 19, which is already known.
- the compound of formula 20 is prepared by reacting the compound of formula 19 with t-butyllithium at -78 0 C in anhydrous THF, cyanide addition reaction with copper benzoate (1, 1, 1, 2,2, 2) -d 6 (Z) -2- [2-methyl-3-butene].
- the compound of formula 21 is prepared by deprotection with tetra-n-butylammonium fluoride in anhydrous tetrahydrofuran.
- the compound of formula 22 is prepared by hydrogenation with palladium on carbon as a catalyst in methanol.
- the compound of formula 23 is prepared by oxidation with pyridinium dichromate in dichloromethane.
- the compounds of formula V corresponding to the A-rings of the 3-epivitamins are prepared by a sequence of reactions from of the compound of formula 24, which is already known.
- the compound of formula 25 is obtained by reaction with periodic acid in anhydrous diethyl ether.
- the compound of formula 26 is prepared by treatment with carbon tetrabromide in dichloromethane.
- the compound of formula 27 is prepared by treatment with lithium di- / sopropylamide in anhydrous THF followed by entrapment of the enolate with N- (5-chloro-2-pyridyl) triflimide.
- the elimination of the silicon protecting group can be carried out by treating a solution of the silylated title compound in 2 mL of deoxygenated and anhydrous methanol, with 200 mg of DOWEX AG 50W-X4 resin under argon atmosphere and stirring in the dark at temperature environment for 24 hours. This reaction mixture is stopped by the addition of an aqueous solution of sodium chloride and the title compound is isolated by extraction with ethyl acetate and purified by flash chromatography on a silica gel column (92% yield).
- the isolation of the title compound can be done by extraction with ethyl acetate and the purification by flash chromatography on a silica gel column.
- the elimination of the protective groups can be carried out by treating a solution of the silylated title compound in 3 ml_ of deoxygenated and anhydrous methanol, with 250 mg of DOWEX AG 50W-X4 resin under argon atmosphere and stirring in the dark at room temperature during 24 hours. After adding an aqueous solution of sodium chloride, the title compound is isolated by extraction with ethyl acetate and purified by flash column chromatography on silica gel (88% yield).
- the isolation of the title compound can be done by extraction with ethyl acetate and the purification by flash chromatography on a silica gel column.
- the elimination of the protective groups can be carried out by treating a solution of the silylated title compound in 3 mL of deoxygenated and anhydrous methanol, with 200 mg of DOWEX AG 50W-X4 resin under argon atmosphere and stirring in the dark at room temperature for 24 hours. After adding an aqueous solution of sodium chloride, the title compound is isolated by extraction with ethyl acetate and purified by flash column chromatography on silica gel (90% yield).
- the removal of the protective groups can be carried out by treating a solution of the silylated title compound in 5 mL of deoxygenated and anhydrous methanol, with 150 mg of DOWEX AG 50W-X4 resin under argon atmosphere and stirring in the dark at room temperature for 24 hours. After adding an aqueous solution of sodium chloride, the title compound is isolated by extraction with ethyl acetate and purified by flash column chromatography on silica gel (85% yield).
- the removal of the protecting groups is effected by treating a solution of the silylated title compound in 3 mL of anhydrous acetonitrile, 1 mL of dichloromethane and 1 mL of triethylamine, with 0.2 mL of pyridinium fluoride (70% HF / 30% pyridine ) under argon and stirring in the dark at room temperature for 4 hours. After adding an aqueous solution of sodium bicarbonate, the title compound is isolated by extraction with ethyl acetate and purified by flash column chromatography on silica gel (72% yield).
- the removal of the protecting groups is effected by treating a solution of the silylated title compound in 1 mL of anhydrous acetonitrile, 0.5 mL of dichloromethane and 0.5 mL of triethylamine, with 0.1 mL of pyridinium fluoride (70% HF / 30% pyridine ) under argon and stirring in the dark at room temperature for 4 hours. After adding an aqueous solution of sodium bicarbonate, the title compound is isolated by extraction with ethyl acetate and purified by flash column chromatography on silica gel (75% yield).
- the isolation of the title compound can be done by extraction with ethyl acetate and the purification by flash chromatography on a silica gel column.
- the removal of the protecting groups is effected by treating a solution of the silylated title compound in 5 ml_ of anhydrous acetonitrile, 2.5 ml_ of dichloromethane and
- the isolation of the title compound can be done by extraction with ethyl acetate and the purification by flash chromatography on a silica gel column.
- the elimination of the silicon protecting group can be carried out by treating a solution of the silylated title compound in 2 mL of deoxygenated and anhydrous methanol, with 200 mg of DOWEX AG 50W-X4 resin under argon atmosphere and stirring in the dark at temperature environment for 24 hours. This reaction mixture is stopped by the addition of an aqueous solution of sodium chloride and the title compound is isolated by extraction with ethyl acetate and purified by flash chromatography on a silica gel column (93% yield).
- the elimination of the silicon protecting group can be carried out by treating a solution of the silylated title compound in 10 mL of deoxygenated and anhydrous methanol, with 650 mg of DOWEX AG 50W-X4 resin under argon atmosphere and stirring in the dark at temperature environment for 24 hours. This reaction mixture is stopped by the addition of an aqueous solution of sodium chloride and the title compound is isolated by extraction with ethyl acetate and purified by flash chromatography on a silica gel column (70% yield).
- the elimination of the silicon protecting group can be carried out by treating a solution of the silylated title compound in 10 mL of deoxygenated and anhydrous methanol, with 650 mg of DOWEX AG 50W-X4 resin under argon atmosphere and stirring in the dark at temperature environment for 24 hours. This reaction mixture is stopped by the addition of an aqueous solution of sodium chloride and the title compound is isolated by extraction with ethyl acetate and purified by flash chromatography on a silica gel column (91% yield).
- the isolation of the title compound can be done by extraction with ethyl acetate and the purification by flash chromatography on a silica gel column.
- the elimination of the protective groups can be carried out by treating a solution of the silylated title compound in 20 mL of anhydrous tetrahydrofuran, with 1.5 mmol of a 1 M solution of tetrabutylammonium fluoride in tetrahydrofuran under argon atmosphere and stirring in the dark at temperature ambient for 4 hours. The reaction is stopped by the addition of aqueous sodium chloride solution and the solute is isolated by extraction with ethyl acetate.
- the elimination of the protective groups can be carried out by treating a solution of the silylated title compound in 20 mL of anhydrous tetrahydrofuran, with 1.5 mmol of a 1 M solution of tetrabutylammonium fluoride in tetrahydrofuran under argon atmosphere and stirring in the dark at temperature ambient for 4 hours.
- the compound obtained after adding an aqueous solution of sodium chloride and extracting with ethyl acetate, is dissolved in 10 mL of tetrahydrofuran and 1 mmol of a 1 M aqueous solution of lithium hydroxide is added while stirring under argon and in the dark at room temperature.
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Abstract
Compuestos de la vitamina D deuterados. Procedimiento de preparación y la síntesis de una clase de compuestos de la vitamina D que pueden estar isotópicamente sustituidos. Estos compuestos pueden ser empleados como patrones internos en métodos de cuantificación de vitamina D. sus metabolitos y análogos por espectrometría de masas. Estos compuestos se describen mediante la fórmula general I.
Description
Compuestos de Ia vitamina D deuterados
Sector de Ia técnica
La invención se dirige a compuestos de fórmula I caracterizados por ser derivados deuterados de las vitaminas D2 y D3, a procedimientos para Ia obtención de dichos compuestos y a intermedios útiles en su síntesis. Estos compuestos de fórmula I son útiles como patrones internos en métodos de cuantificación de vitamina D, de sus metabolitos y/o análogos por espectrometría de masas. Estado de Ia técnica Las etapas de Ia activación metabólica y las funciones de Ia vitamina D han sido descubiertas gracias al empleo de metabolitos y análogos de Ia vitamina D que incorporaban trazadores radiactivos.
Los metabolitos y análogos deuterados de Ia vitamina D (véase H. F. DeLuca y col., patente US 4,297,289; E. G. Baggiolini y col., patente US 4,898,855 y E. G. Baggiolini y col., patente US 5,247,123) son útiles como sustancias de referencia isotópicamente sustituidas de diferentes vitaminas D y metabolitos para su empleo en métodos de cuantificación de Ia vitamina D (de sus metabolitos y/o análogos) en plasma sanguíneo y tejidos por espectrometría de masas directa o mediante técnicas acopladas en serie (tándem) con cromatografía de gases o de líquidos. En Ia patente US 4,297,289 se preparan vitaminas con mareaje isotópico (deuterio, tritio) en una única posición, C6.
En las patentes US 4,898,855 y US 5,247,123 se preparan compuestos hexa y octadeuterados de un único metabolito de Ia vitamina D3, Ia 1α,25-dihidroxivitamina D3. Por otra parte, en Ia patente WO 9851678 de S. G. Reddy se reivindican 3-epivitaminas D3 deuteradas, aunque no concreta su preparación, y Ia metodología descrita podría ser seguida con dificultad por un experto en Ia materia.
La presente invención se dirige a compuestos con grados de deuteración elevados en los metabolitos y análogos de las vitaminas D3 y D2, compuestos que presentan Ia cadena lateral propia de Ia vitamina, sin hidroxilo en C25, compuestos con mayor complejidad que los conocidos y compuestos con configuración epimérica en C3. Se proporciona una metodología con mayor versatilidad sintética dirigida a un amplio grupo de compuestos.
Descripción de Ia Invención
En un aspecto, Ia presente invención se dirige a compuestos de fórmula I
M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato,
R1, R2, R3 y R4 se seleccionan independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, t- butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, con Ia condición de que cuando N es hidrógeno o metilo, entonces R2 es necesariamente hidroxilo.
Los compuestos de fórmula I son compuestos deuterados derivados de las vitaminas D2 y D3, útiles como patrones internos en métodos de cuantificación de vitamina D, de sus metabolitos y/o análogos por espectrometría de masas.
En un aspecto particular, Ia invención se dirige a los siguientes compuestos de fórmula I: 26,26,26,27,27,27,28,28,28-nonadeuterovitamina D2 (1a), 26,26,26, 27,27,27,28,28,28-nonadeutero-25-hidroxivitamina D2 (1 b), 26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-nonadeutero-1 α-hidroxivitamina D2 (1 c), 26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-nonadeutero-1 α,25-dihidroxivitamina D2 (1d),
26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-3-epi-1 α-hidroxivitamina D3 (1e), 26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-3-epi-1 α,25-dihidroxivitamina D3 (1 f ), 26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-3-epi-1 α-hidroxivitamina D2 (1g), 26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-nonadeutero-3-epi-1 α-hidroxivitamina D2 (1 h),
26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-3-epi-1 α,25-dihidroxivitamina D2 (1 i),
26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-nonadeutero-3-epi-1 α,25-dihidroxivitamina D2 (1 j), 26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-24fí,25-dihidroxivitamina D3 ("I k), 26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-1 α,24fí,25-trihidroxivitamina D3 (11). En otro aspecto, Ia invención se dirige a un procedimiento para Ia preparación de los compuestos de fórmula I, en donde A es un enlace sencillo, doble o triple, M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, R1, R2, R3 y R4 se seleccionan independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, t- butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, que comprende una reacción de Wittig-Horner entre los compuestos Il y III en presencia de una base
A es un enlace sencillo, doble o triple,
M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato,
R1, R2, R3 y R4 se seleccionan independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, t- butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato.
En otro aspecto, Ia invención se dirige a un procedimiento alternativo para Ia preparación de los compuestos de fórmula I que comprende un acoplamiento de los compuestos IV y V en presencia de un catalizador,
N
A es un enlace sencillo, doble o triple, M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato, o acetato, R3 se selecciona entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/so-propilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato, o acetato,
X es bicloruro de indio (-InCI2), bromuro de cinc (-ZnBr) o dialcoxiboro [-B(OR)2], y Σ es un SÍR3, SiR2R', siendo R y R' radicales alquilo o arilo, o un grupo metoximetilo. En un aspecto particular, el catalizador es seleccionado preferentemente entre tetra-kis- trifenilfosfina paladio(O), dicloruro de paladio(ll) bis-trifenilfosfina, dicloruro de paladio(ll) bis-(difenilfosfin)ferroceno, acetato de paladio(ll), dicloruro de paladio(ll)bis-acetonitrilo, tris(dibenzilidenacetona)dipaladio(0), acetilacetonato de niquel(N), o bis(1 ,5- diciclooctadienil) niquel(O).
Otro aspecto de Ia invención es el compuesto intermedio de fórmula III, útil en Ia preparación de los compuestos de fórmula I
A es un enlace sencillo, doble o triple,
M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, R3 se selecciona independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/so-propilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, exceptuando el compuesto siguiente:
Otro aspecto de Ia invención es el compuesto intermedio de fórmula IV, útil en Ia preparación de los compuestos de fórmula I
N
A es un enlace sencillo, doble o triple, M es un grupo trideuterometilo, N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, R3 se selecciona independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/so-propilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, X es bicloruro de indio (-InCI2), bromuro de cinc (-ZnBr) o dialcoxiboro [-B(OR)2]. Otro aspecto de Ia invención son los compuestos de fórmula Vl, VII, VIII, IX, X y Xl, intermedios útiles en Ia preparación de los compuestos de fórmula I
compuestos de fórmula Vl
A es un enlace sencillo, doble o triple, M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, R1 es un grupo hidroxilo, trialquilsililoxi o benzoato,
R2 es hidrógeno, un grupo hidroxilo, trialquilsililoxi; o R1 y R2 conjuntamente son halometileno,
R3 se selecciona entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/so-propilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato, o acetato, exceptuando el compuesto siguiente:
donde Σ es un SiR3, SiR2R', siendo R y R' radicales alquilo o arilo, o un grupo metoximetilo. compuestos de fórmula VII
A es un enlace sencillo o doble, M es un grupo trideuterometilo,
R1 es un grupo hidroxilo, trialquilsililoxi o benzoato,
R2 es hidrógeno, o R1 y R2 conjuntamente pueden ser un grupo carbonilo o halometileno. Los compuestos de fórmula VIII
A es un enlace sencillo, doble o triple, M es un grupo trideuterometilo, Y es un grupo hidroxilo, carbamato o dietilfosfato, R1 es un grupo hidroxilo, trialquilsililoxi o benzoato,
R2 es hidrógeno, o R1 y R2 conjuntamente pueden ser un grupo carbonilo o halometileno. Los compuestos de fórmula IX, X, y Xl
Z es un oxígeno o un grupo dibromometileno, X es un hidrógeno, un grupo hidroxilo o un grupo trialquilsililoxi, Σ es un SiR3, SiR2R', siendo R y R' radicales alquilo o arilo, o un grupo metoximetilo. Descripción detallada de Ia Invención Los compuestos de fórmula I son preparados mediante una síntesis convergente a través de cualquiera de los dos procedimientos que se muestran en el esquema 1.
Esquema 1
Los compuestos de fórmula I son preparados mediante Ia reacción de los compuestos de fórmula Il con una base y posterior reacción con los compuestos de fórmula III, en donde De un modo particular, este acoplamiento se puede llevar a cabo por reacción del anión del compuesto de fórmula II, que se prepara por reacción del compuesto de formula Il con n-butil litio a -780C en tetrahidrofurano anhidro, con compuestos de formula III. Si fuese necesario, es posible llevar a cabo Ia desprotección de los grupos protectores. Esta desprotección se realiza preferentemente con fluoruro de tetra-n-butilamonio en tetrahidrofurano a temperatura ambiente y con resina acida de intercambio iónico AG W50 X4 en metanol desoxigenado.
Alternativamente los compuestos de fórmula I son preparados mediante el acoplamiento entre un compuesto de fórmula IV y un compuesto de fórmula V, en presencia de un catalizador, en donde En un modo preferente de Ia realización, los compuestos de fórmula IV se preparan por reacción del compuesto de formula Vl, en donde R1 y R2 son conjuntamente halometileno, con í-butil litio a -780C en tetrahidrofurano anhidro seguido del tratamiento con un reactivo seleccionado entre tricloruro de indio, dibromuro de cinc, isopropoxicatecolborano o 2-isopropoxi-4,4,5,5-tetrametil-1 ,3,2-dioxaborolano. El acoplamiento se lleva a cabo en presencia de un catalizador seleccionado preferentemente entre tetra-/(/s-trifenilfosfina paladio(O), dicloruro de paladio(ll) bis- trifenilfosfina, dicloruro de paladio(ll) bis-(difenilfosfin)ferroceno, acetato de paladio(ll), dicloruro de paladio(ll) bis-acetonitrilo, tris(dibenzilidenacetona)dipaladio(0), acetilacetonato de niquel(ll), o bis(1 ,5-diciclooctadienil) niquel(O), con un compuesto de formula V. Si es necesario se realiza Ia desprotección de los grupos protectores, de un modo particular con fluoruro de tetra-n-butilamonio en tetrahidrofurano a temperatura ambiente y con resina acida de intercambio iónico AG W50 X4 en metanol desoxigenado.
Modo de realización particular de Ia invención
Los ejemplos y comentarios siguientes se facilitan para permitir a los expertos en Ia especialidad una comprensión más clara y para poner en práctica Ia invención. No deben ser considerados como limitativos del ámbito de Ia invención, sino ilustrativos y representativos de los mismos. Los compuestos de fórmula III pueden ser preparados de un modo particular por una secuencia de reacciones a partir del compuesto de formula 2 ya conocido (Esquema 2).
El compuesto de fórmula 3 se obtiene por adición estereoselectiva del anión del
(1 ,1 ,1 ,2,2,2)-d6 2-metil-3-butin-2-ol protegido.
El compuesto de fórmula 4 se prepara por hidrogenación parcial del triple enlace por tratamiento con hidrógeno y el catalizador de Lindlar en metanol anhidro.
El compuesto de fórmula 5 se obtiene por reacción con isocianato de fenilo en piridina anhidra.
Los compuestos de fórmula 6 se preparan por reacción de sustitución con cupratos de metilo de alto orden trideuterados o sin deuterar. Los compuestos de fórmula 7 se obtienen por reacción con hidruro de litio y aluminio en tetrahidrofurano anhidro.
Los compuestos de fórmula 8 se preparan por oxidación con dicromato de piridinio en diclorometano anhidro.
Los compuestos de fórmula 9 se preparan a través de Ia secuencia de desprotección, reacción con cloroglioxilato de metilo y desoxigenación por tratamiento con hidruro de trifenililestaño en tolueno.
Esquema 2
8a, R3 = 0M0M, N = CH3 7a, N = CH3 6a, N = CH3 8b, R3 = OMOM, N = CD3 7b, N = CD3 6b, N = CD3 9a, R3 = H, N = CH3 9b, R3 = H, N = CD3
Alternativamente, como se muestra en el esquema 3, los compuestos de formula III correspondientes a las cetonas del biciclo CD cadena lateral deuteradas de vitamina D2 pueden ser preparados de modo particular por una secuencia de reacciones a partir del compuesto de formula 10 ya conocido. El compuesto de fórmula 11 se obtiene por adición estereoselectiva del anión del (1 ,1 ,1 ,2,2,2)-d6 (E)-2-metil-3-buten-2-ol protegido.
El compuesto de fórmula 12 se prepara por reacción con clorofosfato de dietilo en piridina anhidra.
Los compuestos de fórmula 13 se preparan por reacción de sustitución con cupratos de metilo de alto orden trideuterados o sin deuterar.
Los compuestos de fórmula 7 se obtienen por desprotección del grupo protector con fluoruro de tetra-n-butilamonio en tetrahidrofurano a temperatura ambiente.
Esquema 3
Como se muestra en el esquema 4, los compuestos de fórmula III correspondientes a las cetonas deuteradas del biciclo CD cadena lateral hidroxilada en C-24 son preparados por una secuencia de reacciones a partir del compuesto de formula 11. El compuesto de fórmula 14 se obtiene por reacción con anhídrido acético en piridina anhidra.
El compuesto de fórmula 15 se obtiene por reacción con dicloruro de bis(acetonitrilo)paladio en tetrahidrofurano anhidro.
El compuesto de fórmula 16 se obtiene por hidrogenación con catalizador de dióxido de platino en metanol anhidro.
El compuesto de fórmula 17 se obtiene por desprotección del grupo protector con ácido fluorhídrico en tetrahidrofurano:acetonitrilo a temperatura ambiente.
Como se muestra en el esquema 5, los compuestos de formula III correspondientes a las cetonas del biciclo CD cadena lateral hexadeuteradas de vitamina D3 son preparados por una secuencia de reacciones a partir del compuesto de formula 19, que ya es conocido. El compuesto de fórmula 20 se prepara por reacción del compuesto de formula 19 con í-butil litio a -780C en THF anhidro, adición de cianuro de cobre y reacción con el benzoato de (1 ,1 ,1 ,2,2,2)-d6 (Z)-2-[2-metil-3-buteno].
El compuesto de fórmula 21 se prepara por desprotección con fluoruro de tetra-n- butilamonio en tetrahidrofurano anhidro.
El compuesto de fórmula 22 se prepara por hidrogenación con paladio sobre carbón como catalizador en metanol.
El compuesto de fórmula 23 se prepara por oxidación con dicromato de piridinio en diclorometano. Esquema 5
Como se muestra en el esquema 6, los compuestos de formula V correspondientes a los anillos A de las 3-epivitaminas son preparados por una secuencia de reacciones a partir
del compuesto de formula 24, que ya es conocido. El compuesto de fórmula 25 se obtiene por reacción con ácido peryódico en dietiléter anhidro.
El compuesto de fórmula 26 se prepara por tratamiento con tetrabromuro de carbono en diclorometano.
El compuesto de fórmula 27 se prepara por tratamiento con di-/sopropilamiduro de litio en THF anhidro seguido de atrapado del enolato con N-(5-cloro-2-piridil)triflimida.
La conversión del compuesto 27 en el óxido de fosfina 28, requerido para el acoplamiento de Wittig-Horner, se realiza a través de procedimientos conocidos.
Esquema 6
24 25, Z = O 27 28 26, Z = CBr2 Como se muestra en el esquema 7, algunos de los compuestos de formula IV son preparados por una secuencia de reacciones a partir de los compuesto de formula 8a, 8b, 9a, 9b o 23, ya descritos. Los compuestos de fórmula 29, 30, 31 , 32, o 33 se obtienen por reacción con el anión del bromuro de bromometiltrifosfonio en tolueno anhidro. Esquema 7
Ejemplo 1
26,26,26, 27,27,27,28,28,28-Nonadeuterovitamina D2 (1a)
A una disolución de 0.21 mmoles del óxido de fosfina 34 en 5 mL de tetrahidrofurano anhidro enfriada a -78 0C se añaden 0.21 mmoles de n-butil litio 1 .5 M en hexano gota a
gota bajo atmósfera de argón. Después de agitar 30 minutos, se añade gota a gota, una disolución de 0.21 mmoles de Ia cetona 9b en 3 ml_ de tetrahidrofurano anhidro durante un periodo de 30 minutos. A continuación se agita Ia mezcla de reacción a -78 0C durante 2 horas. La reacción se detiene por adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y Ia mezcla resultante se deja alcanzar temperatura ambiente. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con acetato de etilo y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice.
La eliminación del grupo protector de silicio puede efectuarse mediante el tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 2 mL de metanol desoxigenado y anhidro, con 200 mg de resina DOWEX AG 50W-X4 bajo atmósfera de argón y agitando en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 24 horas. Esta mezcla de reacción se detiene mediante Ia adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica por cromatografía rápida en columna de gel de sílice (92% de rendimiento). RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.21 y 6.02 (sistema AB, 2H, J = 12.6 Hz, H-6 y H-7); 5.37 (2H, m, H-22 y H-23); 5.05 (1 H, s ancho, H-19E); 4.84 (2H, s ancho, H-19Z); 3.93 (1 H, m, H-3); 1.03 (3H, d, J = 7 Hz, CH3-21 ); 0.54 (3H, s, CH3-18). Ejemplo 2 26,26,26,27,27,27,28,28,28-Nonadeutero-25-hidroxivitamina D2 (1 b)
CD3
A un disolución de 0.55 mmoles del óxido de fosfina 34 en 10 mL de tetrahidrofurano anhidro enfriada a -78 0C se añaden 0.55 mmoles de n-butil litio 1.5 M en hexano gota a gota bajo atmósfera de argón. Después de agitar 30 minutos, se añade gota a gota, una disolución de 0.53 mmoles de Ia cetona 8b en 5 mL de tetrahidrofurano anhidro durante un periodo de 30 minutos. A continuación se agita Ia mezcla de reacción a -78 0C durante 2 horas. La reacción se detiene por adición de una disolución acuosa de cloruro sódico. La mezcla se deja alcanzar temperatura ambiente. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con acetato de etilo y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice.
La eliminación de los grupos protectores puede efectuarse mediante tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 3 ml_ de metanol desoxigenado y anhidro, con 250 mg de resina DOWEX AG 50W-X4 bajo atmósfera de argón y agitando en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 24 horas. Después de añadir una disolución acuosa de cloruro sódico, el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica por cromatografía rápida en columna de gel de sílice (88% de rendimiento).
RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.22 y 6.03 (sistema AB, 2H, J = 12.6 Hz, H-6 y H-7); 5.33 (2H, m, H-22 y H-23); 5.04 (1 H, s ancho, H-19E); 4.84 (2H, s ancho, H-19Z); 3.95 (1 H, m, H-3); 1.03 (3H, d, J = 7 Hz, CH3-21 ); 0.54 (3H, s, CH3-18).
Ejemplo 3
26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-Nonadeutero-1 α-hidroxivitamina D2 (1 c)
A un disolución de 0.25 mmoles del óxido de fosfina 35 en 6 ml_ de tetrahidrofurano anhidro enfriada a -78 0C se añaden 0.25 mmoles de n-butil litio 1.5 M en hexano gota a gota bajo atmósfera de argón. Después de agitar 30 minutos, se añade gota a gota, una disolución de 0.23 mmoles de Ia cetona 9b en 5 ml_ de tetrahidrofurano anhidro durante un periodo de 30 minutos. A continuación se agita Ia mezcla de reacción a -78 0C durante 2 horas. La reacción se detiene por adición de una disolución acuosa de cloruro sódico. La mezcla se deja alcanzar temperatura ambiente. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con acetato de etilo y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice. La eliminación de los grupos protectores puede efectuarse mediante tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 3 mL de metanol desoxigenado y anhidro, con 200 mg de resina DOWEX AG 50W-X4 bajo atmósfera de argón y agitando en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 24 horas. Después de añadir una disolución acuosa de cloruro sódico, el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica por cromatografía rápida en columna de gel de sílice (90% de rendimiento).
RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.22 y 6.03 (sistema AB, 2H, J = 12.6 Hz, H-6 y H-7); 5.33
(2H, m, H-22 y H-23); 5.04 (1 H, s ancho, H-19E); 4.84 (2H, s ancho, H-19Z); 4.43 (1 H, m, H-1 ); 4.29 (1 H, m, H-3); 1.03 (3H, 6, J = I Hz, CH3-21 ); 0.54 (3H, s, CH3-18). Ejemplo 4
26,26,26,27,27,27,28,28,28-Nonadeutero-1 α,25-hidroxivitamina D2 (1 d)
A un disolución de 0.21 mmoles del óxido de fosfina 35 en 5 ml_ de tetrahidrofurano anhidro enfriada a -78 0C se añaden 0.21 mmoles de n-butil litio 1.5 M en hexano gota a gota bajo atmósfera de argón. Después de agitar 30 minutos, se añade gota a gota, una disolución de 0.21 mmoles de Ia cetona 8b en 3 ml_ de tetrahidrofurano anhidro durante un periodo de 30 minutos. A continuación se agita Ia mezcla de reacción a -78 0C durante 2 horas. La reacción se detiene por adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y Ia mezcla obtenida se deja alcanzar temperatura ambiente. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con acetato de etilo y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice.
La eliminación de los grupos protectores puede efectuarse mediante tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 5 mL de metanol desoxigenado y anhidro, con 150 mg de resina DOWEX AG 50W-X4 bajo atmósfera de argón y agitando en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 24 horas. Después de añadir una disolución acuosa de cloruro sódico, el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica por cromatografía rápida en columna de gel de sílice (85% de rendimiento).
RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.38 y 6.01 (sistema AB, 2H, J = 11 Hz, H-6 y H-7); 5.35 (2H, m, H-22 y H-23); 5.31 (1 H, s ancho, H-19E); 5.00 (1 H, s ancho, H-19Z); 4.44 (1 H, m, H-1 ); 4.27 (1 H, m, H-3); 1.03 (3H, 6, J = I Hz, CH3-21 ); 0.55 (3H, s, CH3-18). Ejemplo 5 26,26,26, 27,27, 27-Hexadeutero-3-epi-1 α-hidroxivitamina D3 (1e)
Una disolución 0.27M de tricloruro de indio en THF se añade sobre una disolución de 0.43 mmoles del bromuro vinílico 33 en 5 ml_ de tetrah id rotura no anhidro con agitación y bajo argón a temperatura ambiente. La disolución resultante se enfría a -78 0C y se Ie añaden gota a gota 1.61 mmoles de í-butil litio 1.5 M en pentano. Después de agitar durante 1 h a -78 0C y a 0 0C durante otra hora, se añade una suspensión de 0.22 mmol del enoltriflato 27, 0.6 ml_ de trietilamina, 0.01 mmol de tetra-kis-(trifenilfosfina) paladio(O) en 5 ml_ de THF. Tras 3 horas de agitación, Ia reacción se detiene por adición de 3 ml_ de agua. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con hexano y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice. La eliminación de los grupos protectores se efectúa por tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 3 mL de acetonitrilo anhidro, 1 mL de diclorometano y 1 mL de trietilamina, con 0.2 mL de fluoruro de piridinio (70% HF/ 30% piridina) bajo argón y agitación en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 4 horas. Después de añadir una disolución acuosa de bicarbonato sódico, el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica por cromatografía rápida en columna de gel de sílice (72% de rendimiento).
RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.43 y 6.01 (sistema AB, 2H, J = 11 Hz, H-6 y H-7); 5.29 (1 H, s ancho, H-19E); 4.99 (1 H, s ancho, H-19Z); 4.31 (1 H, m, H-1 ); 4.05 (1 H, m, H-3); 0.93 (3H, d, J = 6 Hz, CH3-21 ); 0.53 (3H, s, CH3-18). Ejemplo 6 26,26,26, 27,27, 27-Hexadeutero-3-epi-1 α,25-dihidroxivitamina D3 (If)
Una disolución 0.46M de bromuro de cinc en THF se añade sobre una disolución de 0.21 mmoles del bromuro vinílico 36 en 2 mL de tetrahidrofurano anhidro con agitación y bajo
argón a temperatura ambiente. La disolución resultante se enfría a -78 0C y se Ie añaden gota a gota 0.79 mmoles de í-butil litio 1.5 M en pentano. Después de agitar durante 1 h a -78 0C y a 0 0C durante otra hora, se añade una suspensión de 0.1 1 mmol del enoltriflato 27, 0.3 ml_ de trietilamina, 0.005 mmol de tetra-kis-(trifenilfosfina) paladio (0) en 2 ml_ de THF. Tras 3 horas de agitación, Ia reacción se detiene por adición de 3 ml_ de agua. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con hexano y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice. La eliminación de los grupos protectores se efectúa por tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 1 mL de acetonitrilo anhidro, 0.5 mL de diclorometano y 0.5 mL de trietilamina, con 0.1 mL de fluoruro de piridinio (70% HF/ 30% piridina) bajo argón y agitación en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 4 horas. Después de añadir una disolución acuosa de bicarbonato sódico, el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica por cromatografía rápida en columna de gel de sílice (75% de rendimiento). RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.43 y 6.01 (sistema AB, 2H, J = 11 Hz, H-6 y H-7); 5.29 (1 H, s ancho, H-19E); 4.99 (1 H, s ancho, H-19Z); 4.31 (1 H, m, H-1 ); 4.05 (1 H, m, H-3); 0.93 (3H, d, J = 6 Hz, CH3-21 ); 0.53 (3H, s, CH3-18). Ejemplo 7 26,26,26, 27,27, 27-Hexadeutero-3-epi-1 α-hidroxivitamina D2 ("Ig)
A una disolución de 1.85 mmoles del óxido de fosfina 28 en 30 mL de tetrahidrofurano anhidro enfriada a -78 0C se añaden 1.85 mmoles de n-butil litio 2.56 M en hexano gota a gota bajo atmósfera de argón. Después de agitar 30 minutos, se añade gota a gota, una disolución de 0.21 mmoles de Ia cetona 9a en 3 mL de tetrahidrofurano anhidro durante un periodo de 30 minutos. A continuación se agita Ia mezcla de reacción a -78 0C durante 4 horas. La reacción se detiene por adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y Ia mezcla resultante se deja alcanzar temperatura ambiente. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con acetato de etilo y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice.
La eliminación de los grupos protectores se efectúa por tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 5 ml_ de acetonitrilo anhidro, 2.5 ml_ de diclorometano y
2.5 ml_ de trietilamina, con 0.5 ml_ de fluoruro de piridinio (70% HF/ 30% piridina) bajo argón y agitación en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 4 horas. Después de añadir una disolución acuosa de bicarbonato sódico, el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica por cromatografía rápida en columna de gel de sílice (85% de rendimiento).
RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.22 y 6.05 (sistema AB, 2H, J = 1 1 Hz, H-6 y H-7); 5.43-
5.23 (2H, m, H-22 y H-23); 5.05 (1 H, s ancho, H-19E); 4.82 (2H, s ancho, H-19Z); 4.32 (1 H, m, H-1 ); 4.04 (1 H, m, H-3); 3.95 (1 H, m, H-3); 1.03 (3H, d, J = 7 Hz, CH3-21 ); 0.54
(3H, s, CH3-18).
Ejemplo 8
26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-Nonadeutero-3-epi-1 α-hidroxivitamina D2 (1 h)
A una disolución de 0.074 mmoles del óxido de fosfina 28 en 2 ml_ de tetrahidrofurano anhidro enfriada a -78 0C se añaden 0.093mmoles de n-butil litio 1.5 M en hexano gota a gota bajo atmósfera de argón. Después de agitar 30 minutos, se añade gota a gota, una disolución de 0.074 mmoles de Ia cetona 9b en 1 ml_ de tetrahidrofurano anhidro durante un periodo de 30 minutos. A continuación se agita Ia mezcla de reacción a -78 0C durante 4 horas. La reacción se detiene por adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y Ia mezcla resultante se deja alcanzar temperatura ambiente. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con acetato de etilo y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice. La eliminación del grupo protector de silicio puede efectuarse mediante el tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 2 mL de metanol desoxigenado y anhidro, con 200 mg de resina DOWEX AG 50W-X4 bajo atmósfera de argón y agitando en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 24 horas. Esta mezcla de reacción se detiene mediante Ia adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica por cromatografía rápida en columna de gel de sílice (93% de rendimiento).
RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.22 y 6.05 (sistema AB, 2H, J = 1 1 Hz, H-6 y H-7); 5.43-
5.23 (2H, m, H-22 y H-23); 5.05 (1 H, s ancho, H-19E); 4.82 (2H, s ancho, H-19Z); 4.31 (1 H, m, H-1 ); 4.05 (1 H, m, H-3); 3.93 (1 H, m, H-3); 0.57 (3H, s, CH3-18). Ejemplo 9 26,26,26, 27,27, 27-Hexadeutero-3-epi-1 α,25-dihidroxivitamina D2 ("I i)
A una disolución de 1.65 mmoles del óxido de fosfina 28 en 20 ml_ de tetrahidrofurano anhidro enfriada a -78 0C se añaden 1.73 mmoles de n-butil litio 2.5 M en hexano gota a gota bajo atmósfera de argón. Después de agitar 30 minutos, se añade gota a gota, una disolución de 0.21 mmoles de Ia cetona 8a en 8 ml_ de tetrahidrofurano anhidro durante un periodo de 30 minutos. A continuación se agita Ia mezcla de reacción a -78 0C durante 4 horas. La reacción se detiene por adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y Ia mezcla resultante se deja alcanzar temperatura ambiente. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con acetato de etilo y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice.
La eliminación del grupo protector de silicio puede efectuarse mediante el tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 10 mL de metanol desoxigenado y anhidro, con 650 mg de resina DOWEX AG 50W-X4 bajo atmósfera de argón y agitando en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 24 horas. Esta mezcla de reacción se detiene mediante Ia adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica por cromatografía rápida en columna de gel de sílice (70% de rendimiento).
RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.22 y 6.05 (sistema AB, 2H, J = 1 1 Hz, H-6 y H-7); 5.43- 5.23 (2H, m, H-22 y H-23); 5.05 (1 H, s ancho, H-19E); 4.82 (2H, s ancho, H-19Z); 4.32 (1 H, m, H-1 ); 4.04 (1 H, m, H-3); 3.95 (1 H, m, H-3); 1.02 (3H, d, J = 7 Hz, CH3-21 ); 0.54 (3H, s, CH3-18). Ejemplo 10 26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-Nonadeutero-3-epi-1 α,25-dihidroxivitamina D2 (1 j)
A una disolución de 0.558 mmoles del óxido de fosfina 28 en 9 ml_ de tetrahidrofurano anhidro enfriada a -78 0C se añaden 0.50 mmoles de n-butil litio 2.25 M en hexano gota a gota bajo atmósfera de argón. Después de agitar 30 minutos, se añade gota a gota, una disolución de 0.267 mmoles de Ia cetona 8b en 5 ml_ de tetrahidrofurano anhidro durante un periodo de 30 minutos. A continuación se agita Ia mezcla de reacción a -78 0C durante 4 horas. La reacción se detiene por adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y Ia mezcla resultante se deja alcanzar temperatura ambiente. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con acetato de etilo y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice.
La eliminación del grupo protector de silicio puede efectuarse mediante el tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 10 mL de metanol desoxigenado y anhidro, con 650 mg de resina DOWEX AG 50W-X4 bajo atmósfera de argón y agitando en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 24 horas. Esta mezcla de reacción se detiene mediante Ia adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica por cromatografía rápida en columna de gel de sílice (91% de rendimiento).
RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.23 y 6.04 (sistema AB, 2H, J = 1 1 Hz, H-6 y H-7); 5.45- 5.25 (2H, m, H-22 y H-23); 5.05 (1 H, s ancho, H-19E); 4.82 (2H, s ancho, H-19Z); 4.32 (1 H, m, H-1 ); 4.04 (1 H, m, H-3); 3.95 (1 H, m, H-3); 1.03 (3H, d, J = 7 Hz, CH3-21 ); 0.54 (3H, s, CH3-18). Ejemplo 11 26,26,26, 27,27, 27-Hexadeutero-24fí,25-dihidroxivitamina D3 (1 k)
A un disolución de 0.90 mmoles del óxido de fosfina 34 en 20 ml_ de tetrah id rotura no anhidro enfriado a -78 0C se añaden 0.90 mmoles de n-butillitio 1.5 M en hexano gota a gota bajo atmósfera de argón. Después de agitar 30 minutos, se añade gota a gota, una disolución de 0.40 mmoles de Ia cetona 18 en 10 ml_ de tetrah i drofu rano anhidro durante un periodo de 30 minutos. A continuación se agita Ia mezcla de reacción a -78 0C durante 2 horas. La mezcla obtenida después de añadir una disolución acuosa de cloruro sódico. La mezcla se deja alcanzar temperatura ambiente. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con acetato de etilo y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice. La eliminación de los grupos protectores puede efectuarse mediante tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 20 mL de tetrahidrofurano anhidro, con 1.5 mmol de una disolución 1 M de fluoruro de tetrabutilamonio en tetrahidrofurano bajo atmósfera de argón y agitando en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 4 horas. La reacción se detiene mediante Ia adición de disolución acuosa de cloruro sódico y el soluto se aisla por extracción con acetato de etilo. A continuación se disuelve en 10 mL de tetrahidrofurano y se añade 1 mmol de una disolución acuosa 1 M de hidróxido de litio agitando bajo atmósfera de argón y en Ia oscuridad a temperatura ambiente. Al cabo de 6 horas se añade 1 mmol más de hidróxido de litio (1 M, ac.) y Ia operación se repite al cabo de otras 6 horas. Tras agitar durante 24 horas, Ia mezcla de reacción se detiene mediante Ia adición de una disolución acuosa de cloruro amónico y el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice.
RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.21 y 6.02 (sistema AB, 2H, J = 11 Hz, H-6 y H-7); 5.03 (1 H, s ancho, H-19E); 4.81 (1 H, s ancho, H-19Z); 3.93 (1 H, m, H-3); 3.32 (1 H, m, H-24); 0.93 (3H, d, J = 6 Hz, CH3-21 ); 0.54 (3H, s, CH3-18). Ejemplo 12 26,26,26, 27,27, 27-Hexadeutero-1 α,24fí,25-trihidroxivitamina D3 (11)
A un disolución de 0.65 mmoles del óxido de fosfina 35 en 15 mL de tetrahidrofurano anhidro enfriado a -78 0C se añaden 0.65 mmoles de n-butillitio 1.5 M en hexano gota a
gota bajo atmósfera de argón. Después de agitar 30 minutos, se añade gota a gota, una disolución de 0.31 mmoles de Ia cetona 18 en 7 ml_ de tetrah id roturan o anhidro durante un periodo de 30 minutos. A continuación se agita Ia mezcla de reacción a -78 0C durante 2 horas. La reacción se detiene por adición de una disolución acuosa de cloruro sódico y se deja alcanzar temperatura ambiente. El aislamiento del compuesto del título puede hacerse por extracción con acetato de etilo y Ia purificación mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice.
La eliminación de los grupos protectores puede efectuarse mediante tratamiento de una disolución del compuesto del título sililado en 20 mL de tetrahidrofurano anhidro, con 1.5 mmol de una disolución 1 M de fluoruro de tetrabutilamonio en tetrahidrofurano bajo atmósfera de argón y agitando en Ia oscuridad a temperatura ambiente durante 4 horas. El compuesto obtenido después de añadir una disolución acuosa de cloruro sódico y extraer con acetato de etilo, se disuelve en 10 mL de tetrahidrofurano y se añade 1 mmol de una disolución acuosa 1 M de hidróxido de litio agitando bajo atmósfera de argón y en Ia oscuridad a temperatura ambiente. Al cabo de 6 horas se Ie añade 1 mmol de una disolución acuosa 1 M de hidróxido de litio y Ia operación se repite al cabo de otras 6 horas. Tras agitar durante 24 horas, se añade una disolución acuosa de cloruro amónico y el compuesto del título se aisla por extracción con acetato de etilo y se purifica mediante cromatografía rápida en columna de gel de sílice. RMN 1H (250 MHz, CDCI3, δ): 6.37 y 6.05 (sistema AB, 2H, J = 12 Hz, H-6 y H-7); 5.33 (1 H, s ancho, H-19E); 5.00 (1 H, s ancho, H-19Z); 4.43 (1 H, m, H-1 ); 4.23 (1 H, m, H-3); 3.35 (1 H, m, H-24); 0.93 (3H, d, J = 6 Hz, CH3-21 ); 0.54 (3H, s, CH3-18).
Claims
1. Un compuesto de fórmula I:
N
A es un enlace sencillo, doble o triple,
M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato, o acetato, R1, R2, R3 y R4 se seleccionan independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, t- butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato, o acetato, con Ia condición de que cuando N es hidrógeno o metilo, entonces R2 es necesariamente hidroxilo.
2. Un compuesto de fórmula I, seleccionado entre 26,26,26,27,27,27,28,28,28-nonadeuterovitamina D2 (1a),
26,26,26, 27,27,27,28,28,28-nonadeutero-25-hidroxivitamina D2 (1 b), 26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-nonadeutero-1 α-hidroxivitamina D2 (1 c), 26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-nonadeutero-1 α,25-dihidroxivitamina D2 (1 d), 26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-3-epi-1 α-hidroxivitamina D3 (1e), 26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-3-epi-1 α,25-dihidroxivitamina D3 (1f),
26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-3-epi-1 α-hidroxivitamina D2 (1g), 26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-nonadeutero-3-epi-1 α-hidroxivitamina D2 (1 h), 26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-3-epi-1 α,25-dihidroxivitamina D2 (1 i), 26,26,26, 27,27,27, 28,28,28-nonadeutero-3-epi-1 α,25-dihidroxivitamina D2 (1 j), 26,26,26, 27,27,27-hexadeutero--?4fí,25-dihidroxivitamina D3 ("I k),
26,26,26, 27,27,27-hexadeutero-1 α,24fí,25-trihidroxivitamina D3 (11).
3. Un procedimiento para Ia preparación de los compuestos de fórmula I,
A es un enlace sencillo, doble o triple,
M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato, o acetato,
R1, R2, R3 y R4 se seleccionan independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, t- butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato, o acetato, que comprende una reacción de Wittig-Horner entre los compuestos Il y III en presencia de una base.
A es un enlace sencillo, doble o triple,
M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, R1, R2, R3 y R4 se seleccionan independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, t- butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato.
4. Un procedimiento según Ia reivindicación 3, que se caracteriza porque Ia base empleada se selecciona preferentemente entre n-butil litio, í-butóxido potásico, hidruro sódico o amiduro sódico.
5. Un procedimiento para Ia preparación de los compuestos de fórmula I,
N
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato, o acetato, R1, R2, R3 y R4 se seleccionan independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, t- butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato, o acetato, que comprende un acoplamiento de los compuestos IV y V en presencia de un catalizador, en donde
A es un enlace sencillo, doble o triple,
M es un grupo trideuterometilo, N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, R3 se selecciona entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/so-propilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato,
X es bicloruro de indio (-InCI2), bromuro de cinc (-ZnBr) o dialcoxiboro [-B(OR)2], y Σ es un SiR3, SiR2R', siendo R y R' radicales alquilo o arilo, o un grupo metoximetilo.
6. Procedimiento según Ia reivindicación 5, donde el catalizador empleado se selecciona preferentemente entre tetra-/αs-trifenilfosfina paladio(O), dicloruro de paladio(ll) bis- trifenilfosfina, dicloruro de paladio(ll) bis-(diifenilfosfin)ferroceno, acetato de paladio(ll), dicloruro de paladio(ll)bis-acetonitrilo, tris(dibenzilidenacetona)dipaladio(0), acetilacetonato de niquel(ll) o bis(1 ,5-diciclooctadienil) niquel(O).
7. Los compuestos de fórmula III,
A es un enlace sencillo, doble o triple, M es un grupo trideuterometilo, N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, R3 se selecciona independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, /-butildimetilsililo, tri-/so-propilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, excepto el compuesto siguiente:
8. Los compuestos de fórmula IV,
N
A es un enlace sencillo, doble o triple,
M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, R3 se selecciona independientemente entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/so-propilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, X es bicloruro de indio (-InCI2), bromuro de cinc (-ZnBr) o dialcoxiboro [-B(OR)2].
9. Los compuestos de fórmula Vl,
M es un grupo trideuterometilo,
N es un hidrógeno, trideuterometilo, metilo, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/sopropilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, R1 es un grupo hidroxilo, trialquilsililoxi o benzoato,
R2 es hidrógeno, un grupo hidroxilo, trialquilsililoxi; o R1 y R2 conjuntamente son halometileno, R3 se selecciona entre hidrógeno, hidroxilo ó -OR, en donde R se selecciona entre los grupos metoximetilo, metoxietilo, trimetilsililetoximetilo, trimetilsililo, trietilsililo, í-butildimetilsililo, tri-/so-propilsililo, í-butildifenilsililo, dimetilfenilsililo, dimetilbencilsililo, benzoato, p-nitrobenzoato, pivalato o acetato, excepto el compuesto siguiente:
10. Los compuesto de fórmula VII,
A es un enlace sencillo o doble,
M es un grupo trideuterometilo,
R1 es un grupo hidroxilo, trialquilsililoxi o benzoato,
R2 es hidrógeno, o R1 y R2 conjuntamente pueden ser un grupo carbonilo o halometileno.
A es un enlace sencillo, doble o triple, M es un grupo trideuterometilo, Y es un grupo hidroxilo, carbamato o dietilfosfato, R1 es un grupo hidroxilo, trialquilsililoxi o benzoato,
R2 es hidrógeno, o R1 y R2 conjuntamente pueden ser un grupo carbonilo o halometileno.
12. Los compuestos de fórmula IX, X y Xl
Z es un oxígeno o un grupo dibromometileno, X es un hidrógeno, un grupo hidroxilo o un grupo trialquilsililoxi, Σ es un SiR3, SiR2R', siendo R y R' radicales alquilo o arilo, o un grupo metoximetilo.
13. Uso de los compuestos de fórmula I, según Ia reivindicación 1 , en métodos de cuantificación de Ia vitamina D, sus metabolitos y/o análogos por espectrometría de masas.
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