JPS6263593A - グリセロ−ル誘導体の製造法 - Google Patents
グリセロ−ル誘導体の製造法Info
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- JPS6263593A JPS6263593A JP60203860A JP20386085A JPS6263593A JP S6263593 A JPS6263593 A JP S6263593A JP 60203860 A JP60203860 A JP 60203860A JP 20386085 A JP20386085 A JP 20386085A JP S6263593 A JPS6263593 A JP S6263593A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は一般式（１）
トリメチルシリル基を示し、Ｒ１はアルキル基、アニル
基であシ、Ｙは水素原子、低級アルキル基。
基であシ、Ｙは水素原子、低級アルキル基。
アルケニル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を示
し、ｎは１〜５の整数である。また Ｒ２は水素原子又
は水酸基の保護基を示す。）で表わされるアンチ型グリ
セロール誘導体の製造法に関する。
し、ｎは１〜５の整数である。また Ｒ２は水素原子又
は水酸基の保護基を示す。）で表わされるアンチ型グリ
セロール誘導体の製造法に関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする問題点前記一般
式（ＩＩＩ）で表わされるアンチ型グリセロール誘導体
は、種々の光学活性物質の反応中間体として用いること
ができ、特に置換ビニルシリル基を有するアンチ型グリ
セロール誘導体は、下記の式に示すように、ニブキシ死
後、トリメチルシリル基を脱離し、エポキシアルコール
を開環することによシ立体規制された糖誘導体に導くこ
とが可能である。
式（ＩＩＩ）で表わされるアンチ型グリセロール誘導体
は、種々の光学活性物質の反応中間体として用いること
ができ、特に置換ビニルシリル基を有するアンチ型グリ
セロール誘導体は、下記の式に示すように、ニブキシ死
後、トリメチルシリル基を脱離し、エポキシアルコール
を開環することによシ立体規制された糖誘導体に導くこ
とが可能である。
Ｈ
ム
ＯＨＯＨ
（リビトール−５−酢酸エステル）
従って、一般式［１［１）で表わされるアンチ型グリセ
ロール誘導体を選択的に製造することは医薬、農薬等の
生理活性物質の製造にとって有効である。
ロール誘導体を選択的に製造することは医薬、農薬等の
生理活性物質の製造にとって有効である。
従来、このようなグリセロール誘導体の製造法として一
般式（１） 方法が知られている。例えば、「テトラヘドロンレタ吻
ズ（Ｔａｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌａｔｔｅｒｓ） ＋
２４巻、２８号、２８４３頁」及び「プルテン・オプ・
ザ・ケミカル・ソサイヤティ・オプ・ジャパン（Ｂｕｌ
ｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｊｃａｌ ５ｏｃ
ｌｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ）４２巻、２９５７頁、１
９６９年」には、２，３−インプロピリデングリセルア
ルデヒドにグリニヤール試薬等を反応させ、対応するグ
リセロール誘導体を得ることが記載されている。しかし
ながら、グリセルアルデヒドが前記一般式〔■〕で示さ
れるグリセルアルデヒドの対掌体の１つである構造式〔
１′〕 で表わされる絶対配置を有するものである場合には、得
られるグリセロール誘導体は、構造式〔■′〕及び［”
ｌＶ）で表わされるグリセロール誘導体の混合物である
。即ち、 （式中、Ｒ及びＲ２は前記と同じ意味を表わす。また、
構造式〔■〕のグリセロール誘導体をシン凰、構造式〔
■りのものをアンチ型と略称する。）。
般式（１） 方法が知られている。例えば、「テトラヘドロンレタ吻
ズ（Ｔａｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌａｔｔｅｒｓ） ＋
２４巻、２８号、２８４３頁」及び「プルテン・オプ・
ザ・ケミカル・ソサイヤティ・オプ・ジャパン（Ｂｕｌ
ｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｊｃａｌ ５ｏｃ
ｌｅｔｙ ｏｆ Ｊａｐａｎ）４２巻、２９５７頁、１
９６９年」には、２，３−インプロピリデングリセルア
ルデヒドにグリニヤール試薬等を反応させ、対応するグ
リセロール誘導体を得ることが記載されている。しかし
ながら、グリセルアルデヒドが前記一般式〔■〕で示さ
れるグリセルアルデヒドの対掌体の１つである構造式〔
１′〕 で表わされる絶対配置を有するものである場合には、得
られるグリセロール誘導体は、構造式〔■′〕及び［”
ｌＶ）で表わされるグリセロール誘導体の混合物である
。即ち、 （式中、Ｒ及びＲ２は前記と同じ意味を表わす。また、
構造式〔■〕のグリセロール誘導体をシン凰、構造式〔
■りのものをアンチ型と略称する。）。
更に、ｒ、）ヤーナル・オブ・オルガニック・ケミスト
リー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｌｅ Ｃｈｅ
ｍｉｓｔｒｙ） ５０巻、３号、４２２頁、１９８５年
」には、構造式〔１つで表わされるグリセルアルデヒド
とツメチル銅リチウムとの反応により、グリセロール誘
導体を得る方法が提案されているが、得られたグリセロ
ール誘導体は同様にシン型とアンチ型の混合物である。
リー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｌｅ Ｃｈｅ
ｍｉｓｔｒｙ） ５０巻、３号、４２２頁、１９８５年
」には、構造式〔１つで表わされるグリセルアルデヒド
とツメチル銅リチウムとの反応により、グリセロール誘
導体を得る方法が提案されているが、得られたグリセロ
ール誘導体は同様にシン型とアンチ型の混合物である。
この場合、シン型又はアンチ型のグリセロール誘導体を
選択率よく得る方法として、構造式〔Ｉ′〕で表わされ
るグリセルアルデヒドにｎ−プチルトリイングロポキン
チタンを反応させて構造式〔■勺で表わされるアンチ型
のグリセロールを優先的に得る方法も提案されているが
必ずしも満足すべき結果を得ていない。
選択率よく得る方法として、構造式〔Ｉ′〕で表わされ
るグリセルアルデヒドにｎ−プチルトリイングロポキン
チタンを反応させて構造式〔■勺で表わされるアンチ型
のグリセロールを優先的に得る方法も提案されているが
必ずしも満足すべき結果を得ていない。
なお、本発明者は先に特願昭６０−４５８７３号におい
て、構造式〔Ｉ′〕で表わされるグリセルアルデヒドに
グリニヤール試薬を反応させて構造式ＣＰＤで表わされ
るシン型のグリセロール誘導体を選択的に合成する方法
を提案したが、アンチ型グリセロール誘導体を効率よく
選択的に製造する方法は知られていない。
て、構造式〔Ｉ′〕で表わされるグリセルアルデヒドに
グリニヤール試薬を反応させて構造式ＣＰＤで表わされ
るシン型のグリセロール誘導体を選択的に合成する方法
を提案したが、アンチ型グリセロール誘導体を効率よく
選択的に製造する方法は知られていない。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、一般式〔■〕
で表わされるアンチ型グリセロール誘導体を効率よく選
択的に合成する方法を提供することを目的とする。
で表わされるアンチ型グリセロール誘導体を効率よく選
択的に合成する方法を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段及び作用
即ち、本発明者は上記目的を達成するため、鋭意努力検
討の結果、 一般式（１） で表わされるグリセルアルデヒドと 一般式（ＩＩ） ＲＭｇＸ （［１ 表わされる置換ビニルトリメチルシリル基を示し、表わ
される置換フェニル基、Ｙは水素原子、低級アルキル基
、アルケニル基、低級アルコキシ基又はハロダン原子を
示し、ｎは１〜５の整数である。
討の結果、 一般式（１） で表わされるグリセルアルデヒドと 一般式（ＩＩ） ＲＭｇＸ （［１ 表わされる置換ビニルトリメチルシリル基を示し、表わ
される置換フェニル基、Ｙは水素原子、低級アルキル基
、アルケニル基、低級アルコキシ基又はハロダン原子を
示し、ｎは１〜５の整数である。
で表わされるグリニヤール試薬とを第一銅塩、アルキル
リチウム及び溶媒の存在下に反応させることによシ、 一般式ＣＩ［Ｉ］ （式中、Ｒ２は水素原子又は水酸基の保護基を示し、Ｒ
は一前記と同じ意味を表わす） で表わされるアンチ型グリセロール誘導体が選択的に得
られることを見出し、本発明をなすに至ったものである
。
リチウム及び溶媒の存在下に反応させることによシ、 一般式ＣＩ［Ｉ］ （式中、Ｒ２は水素原子又は水酸基の保護基を示し、Ｒ
は一前記と同じ意味を表わす） で表わされるアンチ型グリセロール誘導体が選択的に得
られることを見出し、本発明をなすに至ったものである
。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係るアンチ型グリセロール誘導体の製造法は、
上述したように一般式ＣＩ）で表わされるグリセルアル
デヒドと一般式〔■〕で聚わされるグリニヤール試薬と
を第一銅塩、アルキルリチウム及び溶媒の存在下に反応
させるものであるが、−）般式（ＩＩ）で表わされるグ
リニヤール試薬が置換ビニルシリル基を有する場合は、
生成するグリセロ−ル誘導体は殆んどアンチ型グリセロ
ール誘導体であシ、優れた選択性と有している。
上述したように一般式ＣＩ）で表わされるグリセルアル
デヒドと一般式〔■〕で聚わされるグリニヤール試薬と
を第一銅塩、アルキルリチウム及び溶媒の存在下に反応
させるものであるが、−）般式（ＩＩ）で表わされるグ
リニヤール試薬が置換ビニルシリル基を有する場合は、
生成するグリセロ−ル誘導体は殆んどアンチ型グリセロ
ール誘導体であシ、優れた選択性と有している。
この場合、一般式ＣＩ）で表わされるグリセルアルデヒ
ドの対掌体の一つである構造式〔■′〕のグリセルアル
デヒドは、例、ｔばＤ−マンニトールを２．２−ジメト
キシグロパン等で処理して得られるジアセトニドを四酢
酸鉛又は過沃素酸ナトリウムと反応させて、構造式〔■
′〕のグリセルアルデヒドに含まれる２、３−０−イソ
プロピリデン−Ｄ−グリセルアルデヒドを得ることがで
きる。
ドの対掌体の一つである構造式〔■′〕のグリセルアル
デヒドは、例、ｔばＤ−マンニトールを２．２−ジメト
キシグロパン等で処理して得られるジアセトニドを四酢
酸鉛又は過沃素酸ナトリウムと反応させて、構造式〔■
′〕のグリセルアルデヒドに含まれる２、３−０−イソ
プロピリデン−Ｄ−グリセルアルデヒドを得ることがで
きる。
この構造式〔■′〕で表わされるグリセルアルデヒドは
、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下、無水状態で
一般式〔■〕で堀わされるグリニヤール試薬を第一銅塩
、アルキルリチウム及び溶媒の存在下に反応させて一般
式〔■〕で我わされるアンチ型グリセロール誘導体へ導
くことができる。
、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下、無水状態で
一般式〔■〕で堀わされるグリニヤール試薬を第一銅塩
、アルキルリチウム及び溶媒の存在下に反応させて一般
式〔■〕で我わされるアンチ型グリセロール誘導体へ導
くことができる。
即ち、一般式ＣＩ）で表わされるグリセルアルデヒドの
対掌体の一つである構造式〔■りの絶対配置を有するア
ルデヒド からは、一般式〔■〕で表わされるアンチ型グリセロー
ル誘導体の対掌体の一つである一般式〔■′〕（式中、
Ｒ、Ｒ２は前記と同じ意味を有する）の絶対配置を有す
るアンチ型グリセロール誘導体と得ることができる。
対掌体の一つである構造式〔■りの絶対配置を有するア
ルデヒド からは、一般式〔■〕で表わされるアンチ型グリセロー
ル誘導体の対掌体の一つである一般式〔■′〕（式中、
Ｒ、Ｒ２は前記と同じ意味を有する）の絶対配置を有す
るアンチ型グリセロール誘導体と得ることができる。
マタ、一般式（１）で表わされるグリセルアルデヒドの
対掌体の他の一つである構造式〔■〃〕の絶対配置を有
するアルデヒド を用いる場合は、一般式ＣＩＩ［）で表わされるアンチ
型グリセロール誘導体の対掌体の一つである構造式〔■
“〕 （式中、Ｒ、Ｒ２は前記と同じ意味を有する）の絶対配
置を有するアンチ型グリセロール誘導体を得ることがで
きる。
対掌体の他の一つである構造式〔■〃〕の絶対配置を有
するアルデヒド を用いる場合は、一般式ＣＩＩ［）で表わされるアンチ
型グリセロール誘導体の対掌体の一つである構造式〔■
“〕 （式中、Ｒ、Ｒ２は前記と同じ意味を有する）の絶対配
置を有するアンチ型グリセロール誘導体を得ることがで
きる。
この場合、本発明によって得られるアンチ型グリセロー
ル誘導体〔■′〕及び〔■“〕において Ｒ２が水素原
子である場合は、必要に応じその水酸基を保護すること
が可能である。保護基としては通常の保護基を挙げるこ
とができ、例えばベンジル基、アルキル基、トリアルキ
ルシリル基及びテトラヒドロピラニル基等がある。
ル誘導体〔■′〕及び〔■“〕において Ｒ２が水素原
子である場合は、必要に応じその水酸基を保護すること
が可能である。保護基としては通常の保護基を挙げるこ
とができ、例えばベンジル基、アルキル基、トリアルキ
ルシリル基及びテトラヒドロピラニル基等がある。
更に、一般式（Ｉ［Ｉ］で表わされるアンチ型グリセロ
ール誘導体において、置換ビニルシリル基を有するアン
チ型グリセロール誘導体のトリメチルシリル基は容易に
脱離し、アルケニル基となる。
ール誘導体において、置換ビニルシリル基を有するアン
チ型グリセロール誘導体のトリメチルシリル基は容易に
脱離し、アルケニル基となる。
このアルケニル基を有するアンチ型グリセロール誘導体
の二重結合を水素化することにょ）、容易にアルキル基
に導くことが可能である。
の二重結合を水素化することにょ）、容易にアルキル基
に導くことが可能である。
が好適に使用される。その使用量はグリニヤール試薬と
等モル量が好ましい。
等モル量が好ましい。
また、アルキルリチウムとしてはメチルリチウム、ブチ
ルリチウム、等を挙げることができ、その使用量はグリ
ニヤール試薬と等モル量が好ましい。
ルリチウム、等を挙げることができ、その使用量はグリ
ニヤール試薬と等モル量が好ましい。
更に、本発明の反応を進めるに際して使用する溶媒とし
ては、通常グリニヤール反応に使用される溶媒を用いる
ことができ、例えばジエチルエーテル等のジアルキルエ
ーテル類、テト２ヒドロ７ラン等の環状エーテル類を挙
げることができ、特にテトラヒドロフランは好適に使用
される。
ては、通常グリニヤール反応に使用される溶媒を用いる
ことができ、例えばジエチルエーテル等のジアルキルエ
ーテル類、テト２ヒドロ７ラン等の環状エーテル類を挙
げることができ、特にテトラヒドロフランは好適に使用
される。
反応温度は一７８℃〜０℃の範囲を採用することができ
るが、特に−７８℃〜−１０℃の範囲が好ましい。また
反応時間は通常３０分〜１０時間である。
るが、特に−７８℃〜−１０℃の範囲が好ましい。また
反応時間は通常３０分〜１０時間である。
発明の効果
本発明方法によれば、一般式（１）で表わされるグリセ
ルアルデヒドと一般式〔■〕で表わされるグリニヤール
試薬とを第一銅塩、アルキルリチウム及び溶媒の存在下
に反応させることによシ、従来選択的に得ることが困難
であった一般式〔■〕で表わされるアンチ型グリセロー
ル誘導体を選択的に収率よく合成することが可能となり
、このため本発明方法はアンチ型グリセロール誘導体の
特徴を生かした糖誘導体、医薬及び農薬等の生理活性物
質やこれらの中間体の工業的製造に非常に有用である。
ルアルデヒドと一般式〔■〕で表わされるグリニヤール
試薬とを第一銅塩、アルキルリチウム及び溶媒の存在下
に反応させることによシ、従来選択的に得ることが困難
であった一般式〔■〕で表わされるアンチ型グリセロー
ル誘導体を選択的に収率よく合成することが可能となり
、このため本発明方法はアンチ型グリセロール誘導体の
特徴を生かした糖誘導体、医薬及び農薬等の生理活性物
質やこれらの中間体の工業的製造に非常に有用である。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本
発明は下記実施例に制限されるものではない。
発明は下記実施例に制限されるものではない。
〔実施例１〕
アルゴン雰囲気下、シアン化第一銅２５０ ｍ９（２，
７９ミリモル）とテトラヒドロ７ラン５ゴの懸濁溶液に
一５０℃でビニルｌ−’Ｊメチルシリル臭化マグネシウ
ムのテトラヒドロフラン溶液５．４７ｍ（２，７９ミリ
モル）を滴下し、更にその後同じ温度でメチルリチウム
のジエチルエーテル溶液１．６３ｍ１（２，７９ミリモ
ル）をゆっくり滴下した。
７９ミリモル）とテトラヒドロ７ラン５ゴの懸濁溶液に
一５０℃でビニルｌ−’Ｊメチルシリル臭化マグネシウ
ムのテトラヒドロフラン溶液５．４７ｍ（２，７９ミリ
モル）を滴下し、更にその後同じ温度でメチルリチウム
のジエチルエーテル溶液１．６３ｍ１（２，７９ミリモ
ル）をゆっくり滴下した。
この溶液を２分間攪拌後、−７８℃に冷却し、次いで、
２．３−０−イングロピリデングリセルアルデヒド（式
１／ ）のテトラヒドロ７ラン溶液１ｄ（１，８６ミリ
モル）をこの溶液中にゆっくり滴下した。この温度で１
０分間、更に昇温して室温で１’０時間攪拌した後、飽
和塩化アンモニウム水溶液２０ｄ及び１０％アンモニア
水溶液２０−を加え、引続き１時間攪拌した。
２．３−０−イングロピリデングリセルアルデヒド（式
１／ ）のテトラヒドロ７ラン溶液１ｄ（１，８６ミリ
モル）をこの溶液中にゆっくり滴下した。この温度で１
０分間、更に昇温して室温で１’０時間攪拌した後、飽
和塩化アンモニウム水溶液２０ｄ及び１０％アンモニア
水溶液２０−を加え、引続き１時間攪拌した。
ｎ−ヘキサン−ジエチルエーテル（１：１）混合溶媒１
０ｍＡ！を使用し、水層よシ反応生成物を抽出した。こ
の操作を３回行なりた後、抽出液を合わせ、硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を
得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトを用い
て精製した。収量３７ Ｉｒｎ９（収率８７％）。
０ｍＡ！を使用し、水層よシ反応生成物を抽出した。こ
の操作を３回行なりた後、抽出液を合わせ、硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を
得た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトを用い
て精製した。収量３７ Ｉｒｎ９（収率８７％）。
この精製物をメチルエーテル化しガスクロマトグラフィ
ー分析登行ったところ化合物１１１’−Ａと化合物ＩＶ
−Ａの生成モル比は１９．５：１であった。
ー分析登行ったところ化合物１１１’−Ａと化合物ＩＶ
−Ａの生成モル比は１９．５：１であった。
（アンチ型１１１’−Ａの選択率は９５．１チであった
。）また、化合物１１１’−Ａの分析値は下記の通りで
あったＯ ’Ｈ−ＮＭＲ： ＣＣｌ４溶媒 δ０．０１ （Ｓ 、 ９Ｈ，３ＣＨ３） 、 １．１
８と１．２６（２Ｓ 、 ６Ｈ，２ＣＨ３）。
。）また、化合物１１１’−Ａの分析値は下記の通りで
あったＯ ’Ｈ−ＮＭＲ： ＣＣｌ４溶媒 δ０．０１ （Ｓ 、 ９Ｈ，３ＣＨ３） 、 １．１
８と１．２６（２Ｓ 、 ６Ｈ，２ＣＨ３）。
２．２８ （ｂｒｓ 、１１（−ＯＨ） 、３．６６
（ｄ 、Ｊ＝７Ｈｚ ｒ ２Ｈ、ＣＨ２０） 。
（ｄ 、Ｊ＝７Ｈｚ ｒ ２Ｈ、ＣＨ２０） 。
３．９８ （ｄｄｄ、 Ｊ＝４Ｈｚ、 ６．４Ｈｚ、
８．４Ｈｚ、 ＩＨ，ＣＨＣＨ２０）。
８．４Ｈｚ、 ＩＨ，ＣＨＣＨ２０）。
４．３５（ｂｒｓ、 ＩＨ，ＣＨＯＨ） 、 ５．３７
（ｍ、 ＩＨ，ＨＣＨ＝Ｃ）。
（ｍ、 ＩＨ，ＨＣＨ＝Ｃ）。
５．８０ （ｍ 、 Ｉ Ｈ、ＨＣＨ＝Ｃ）１３Ｃ−Ｎ
ＭＲ： ＣＤＣ１，溶媒 δ −０，８１，２５，２，２６，４，６４，３，７２
，７，７７，７，１０９，３゜１２５．５，１５０．１ 〔α〕。＋１１．５ （Ｃ１，０８，ＣＨＣｔ、）〔実
施例２〕 Ｉ１１’−Ｂ ＩＶ−Ｂアルゴン雰囲気
下、臭化イソブチルマグネシウムのジエチルエーテル溶
液８．６６ｍ（１２，８ミリモル）に０℃でチタノセン
ジクロライド１７６■を加え、２０分間攪拌した。更に
１−トリメチルシリルヘプチン−１の：３Ｌ／（１４，
１ミリモル）をゆっくシ滴下した後、２５℃で１２時間
攪拌した。
ＭＲ： ＣＤＣ１，溶媒 δ −０，８１，２５，２，２６，４，６４，３，７２
，７，７７，７，１０９，３゜１２５．５，１５０．１ 〔α〕。＋１１．５ （Ｃ１，０８，ＣＨＣｔ、）〔実
施例２〕 Ｉ１１’−Ｂ ＩＶ−Ｂアルゴン雰囲気
下、臭化イソブチルマグネシウムのジエチルエーテル溶
液８．６６ｍ（１２，８ミリモル）に０℃でチタノセン
ジクロライド１７６■を加え、２０分間攪拌した。更に
１−トリメチルシリルヘプチン−１の：３Ｌ／（１４，
１ミリモル）をゆっくシ滴下した後、２５℃で１２時間
攪拌した。
次に、シアン化第一銅１．１５ｐ（１２，８ミリモル）
とテトラヒドロフラン２５１Ｍ！の懸濁溶液を一５０℃
で滴下後、メチルリチウムのジエチルエーテル溶液７．
４９ｄ（１２，８ミリモル）を更に滴下し、２分間攪拌
した。この溶液を一７８℃に冷却後、２．３−０−イン
グロピリデングリセルアルデヒド■′のテトラヒドロフ
ラン溶液３ｍＪ（８，５３ミリモル）をゆっくシ滴下し
、この温度で１０分間、更に昇温して室温で１時間攪拌
した。次いで、飽和塩化アンモニウム水溶液１００１ｎ
ｌと１０％アンモニア水溶液１００−を加え引続き２時
間攪拌した。
とテトラヒドロフラン２５１Ｍ！の懸濁溶液を一５０℃
で滴下後、メチルリチウムのジエチルエーテル溶液７．
４９ｄ（１２，８ミリモル）を更に滴下し、２分間攪拌
した。この溶液を一７８℃に冷却後、２．３−０−イン
グロピリデングリセルアルデヒド■′のテトラヒドロフ
ラン溶液３ｍＪ（８，５３ミリモル）をゆっくシ滴下し
、この温度で１０分間、更に昇温して室温で１時間攪拌
した。次いで、飽和塩化アンモニウム水溶液１００１ｎ
ｌと１０％アンモニア水溶液１００−を加え引続き２時
間攪拌した。
水層よシ反応生成物をｎ−へキサ７４０ｍを使用し、３
回抽出した。抽出液を集め、硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。この粗生成物
をシリカグルカラムクロマトを用いて精製した。収量１
８７ｒｖ（収率７３チ）であった。
回抽出した。抽出液を集め、硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。この粗生成物
をシリカグルカラムクロマトを用いて精製した。収量１
８７ｒｖ（収率７３チ）であった。
この精製物をメチルエーテル化し、ガスクロマトグラフ
ィー分析を行ったところ化合物１１１’−Ｂと化合物Ｉ
Ｖ−Ｂの生成モル比は２５：１であり、アンチ型１１１
７−Ｈの選択率は９６．２％であった。
ィー分析を行ったところ化合物１１１’−Ｂと化合物Ｉ
Ｖ−Ｂの生成モル比は２５：１であり、アンチ型１１１
７−Ｈの選択率は９６．２％であった。
また、化合物１１１／−Ｈの分析値は次の通りであった
。
。
１Ｈ−ＮＭＲ： ｃｃｔ４溶媒
δ ０．０４（Ｓ 、 ９Ｈ，３ＣＨ３） 、 ０．６
３〜０．９０（ｍ、 ３Ｈ，ＣＨ３） 。
３〜０．９０（ｍ、 ３Ｈ，ＣＨ３） 。
１．００〜１．５０ （ｍ 、１２Ｈ１２ＣＨｓと＋Ｃ
Ｈ２−）、ＣＨ，）。
Ｈ２−）、ＣＨ，）。
１．７８〜２．２０（ｍ、３Ｈ，ＯＨとＣＨ＝ＣＨ２Ｃ
） 、 ３．６１と３．６２（２ｄ 、 Ｊ＝７．６Ｈ
！、６Ｈｚ、２Ｈ，ＣＨ２０）、 ３．７３〜４．０１
（ｍ。
） 、 ３．６１と３．６２（２ｄ 、 Ｊ＝７．６Ｈ
！、６Ｈｚ、２Ｈ，ＣＨ２０）、 ３．７３〜４．０１
（ｍ。
Ｉ Ｈ＝ ＣＨ＝Ｈ２０） −４，１７（ｄ −Ｊ ＝
４ Ｈｚ 、Ｉ Ｈ、ＣＨＯＨ） 、６．２６（ｄｔ
、Ｊ＝ １．２Ｈｚ 、 ７．２Ｈｚ 、 Ｉ Ｈ、Ｃ
Ｈ＝Ｃ）１３Ｃ−ＮＭＲ： ＣＤＣｔ、溶媒 δ０．３２ 、１３．９ 、２２．５ 、２５．２ 、
２６．４ 、２９．４ 、３１．５ 、３１．９ 。
４ Ｈｚ 、Ｉ Ｈ、ＣＨＯＨ） 、６．２６（ｄｔ
、Ｊ＝ １．２Ｈｚ 、 ７．２Ｈｚ 、 Ｉ Ｈ、Ｃ
Ｈ＝Ｃ）１３Ｃ−ＮＭＲ： ＣＤＣｔ、溶媒 δ０．３２ 、１３．９ 、２２．５ 、２５．２ 、
２６．４ 、２９．４ 、３１．５ 、３１．９ 。
６４．１ 、７２．２．７８．１ 、１０９．２ 、１
３６．５ 、１４３．４次に参考例を示す。
３６．５ 、１４３．４次に参考例を示す。
〔参考例１〕
ＯＨ６Ｈ
Ｉ［［’ −Ａ Ｖ水素化ナトリウ
ム４７．０Ｆ９（０，９８１ミリモル、５０％油分）と
へキサメチルホスホロアミド３−の懸濁溶液に室温で化
合物Ｉ［［／−Ａのヘキサメチルホスホロアミド溶液１
ｉｄ（０，９８１ミリモル）を滴下し、５分間攪拌した
。次に、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライド
のテトラヒドロフラン溶液１．４１ｍ／（０，９８１ミ
リモル）を滴下して１０分間攪拌した。次いで、飽和塩
化アンモニウム水溶液５ ｍｌを加え攪拌を続けた。水
層より反応生成物をｎ−ヘキサン−ジエチルエーテル（
１：１）の混合溶媒５Ｍを使用し、３回抽出した。
ム４７．０Ｆ９（０，９８１ミリモル、５０％油分）と
へキサメチルホスホロアミド３−の懸濁溶液に室温で化
合物Ｉ［［／−Ａのヘキサメチルホスホロアミド溶液１
ｉｄ（０，９８１ミリモル）を滴下し、５分間攪拌した
。次に、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライド
のテトラヒドロフラン溶液１．４１ｍ／（０，９８１ミ
リモル）を滴下して１０分間攪拌した。次いで、飽和塩
化アンモニウム水溶液５ ｍｌを加え攪拌を続けた。水
層より反応生成物をｎ−ヘキサン−ジエチルエーテル（
１：１）の混合溶媒５Ｍを使用し、３回抽出した。
抽出液を集め、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒
を留去して粗生成物を得た。この粗生成物をシリカｒル
カ２ムクロマトを用いて精製した。
を留去して粗生成物を得た。この粗生成物をシリカｒル
カ２ムクロマトを用いて精製した。
収量１３２ＷＩｇ（収率８５チ）。
また、化合物Ｖの分析値は次の通シであった。
’Ｈ−ＮＭＲ： ＣＣｌ４溶媒
δ１．２５と１．３３（２８、６Ｈ，２ＣＨ３） 、
２．５２（ｂｒｓ、ＬＨ，０Ｈ）３．７８〜４．３０
（ｍ 、４ Ｈ−ＣＨ２ＣＨ（０）ＣＨＯＨ） 、５．
１０〜５．５３（ｍ ＃ ２Ｈ、ＣＨ２−Ｃ） ５．８５（ｄｄｄ、Ｊ−４，５Ｈｚ、１０Ｈｚ、１７Ｈ
ｚ、ＩＨ，ＣＨ＝ＣＨ２）〔α）Ｄ−４，２°（ｃ Ｏ
，８６、ｃａｃｚ３）〔参考例２〕 水素化ナトリウム８０〜（１，ロアミリモル、５０％油
分）とへキサメチルホスホロアミド３ ｒｎｌの懸濁液
、化合物■／−ｎのヘキサメチルホスホロアミド溶液１
ｍＡ！（１，ロアミリモル）及びテトラーｎ−ブチルア
ンモニウムフルオライドのテトラヒドロフラン溶液２．
４９ｍ（１，ロアミリモル）を使用し、参考例１と同様
に反応を行ない化合物■３５３■（収率９３チ）を得た
。
２．５２（ｂｒｓ、ＬＨ，０Ｈ）３．７８〜４．３０
（ｍ 、４ Ｈ−ＣＨ２ＣＨ（０）ＣＨＯＨ） 、５．
１０〜５．５３（ｍ ＃ ２Ｈ、ＣＨ２−Ｃ） ５．８５（ｄｄｄ、Ｊ−４，５Ｈｚ、１０Ｈｚ、１７Ｈ
ｚ、ＩＨ，ＣＨ＝ＣＨ２）〔α）Ｄ−４，２°（ｃ Ｏ
，８６、ｃａｃｚ３）〔参考例２〕 水素化ナトリウム８０〜（１，ロアミリモル、５０％油
分）とへキサメチルホスホロアミド３ ｒｎｌの懸濁液
、化合物■／−ｎのヘキサメチルホスホロアミド溶液１
ｍＡ！（１，ロアミリモル）及びテトラーｎ−ブチルア
ンモニウムフルオライドのテトラヒドロフラン溶液２．
４９ｍ（１，ロアミリモル）を使用し、参考例１と同様
に反応を行ない化合物■３５３■（収率９３チ）を得た
。
化合物■の分析値は次の通シであった。
’Ｈ−ＮＭＲ： ｃｃｔ４溶媒
δ０．７１〜１．０６ （ｍ 、３ Ｈ−ＣＨｓ ）
、１．１０〜１．６０ （ｍ −１２Ｈ。
、１．１０〜１．６０ （ｍ −１２Ｈ。
２０Ｈ，と＋ＣＨ２＋、ＣＨ，） 、 １．８３〜２．
５０ （ｍ 、 ３Ｈ、ＣＨ２−ＣＭ−ＣとＯＨ）
３．７３〜４．２２ （ｍ 、４ ＨｌＣＨ２ＣＨ（０
）ＯＨ） 。
５０ （ｍ 、 ３Ｈ、ＣＨ２−ＣＭ−ＣとＯＨ）
３．７３〜４．２２ （ｍ 、４ ＨｌＣＨ２ＣＨ（０
）ＯＨ） 。
５．４０（ｄｄ、Ｊ−５，３Ｈｚ、１６Ｈｚ、ＩＨ，Ｃ
印ＣＨ−ＣＨ２）。
印ＣＨ−ＣＨ２）。
５．７２（ｄｔ、Ｊ ＝１６Ｈｚ、７Ｈｚ、ＬＨ，（Ｈ
＝ＣＨ−ＣＨＯ）〔α）２５＋２０．９ （Ｃ１，１４
，ＣＨＣｔ、）〔参考例３〕 ■ ■ 化合物Ｖ２４２１ｎ９（１，５３ミリモル）とメタノー
ル３ゴの混合溶液に５モルチカーデン担体付パラジウム
触媒６５．２■を加え、常圧、室温で１時間水素化を行
なった。反応溶液よシ触媒を除去後、減圧下溶媒を留去
して粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトによシ精製した。
＝ＣＨ−ＣＨＯ）〔α）２５＋２０．９ （Ｃ１，１４
，ＣＨＣｔ、）〔参考例３〕 ■ ■ 化合物Ｖ２４２１ｎ９（１，５３ミリモル）とメタノー
ル３ゴの混合溶液に５モルチカーデン担体付パラジウム
触媒６５．２■を加え、常圧、室温で１時間水素化を行
なった。反応溶液よシ触媒を除去後、減圧下溶媒を留去
して粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトによシ精製した。
化合物■の収Ｉ１２２０１１１９（収率９０％）であり
た。
た。
化合物■の分析値は次の通シであった。
’Ｈ−ＮＭＲ： ｃｃｔ４溶媒
δ１．０１ （ｔ 、 Ｊ＝ｃ７Ｈｚ、３Ｈ，ＣＨ３）
、 １．２０〜１．６５（ａｔ、 ２Ｈ。
、 １．２０〜１．６５（ａｔ、 ２Ｈ。
Ｃ竺２ＣＨ３） 、 １．２９と１．３４（２８，６Ｈ
，２ＣＨ，）。
，２ＣＨ，）。
１．９３（ｂｒｓ、ＩＨ，ＯＲ） 。
３．４７〜４−０６ （ｍ 、４ ＨｌＣＨ２ＣＨ（０
）ＣＨＯＨ）１５Ｃ−脇： ｃｏｃｔ、溶媒 δ１０．０ 、２５．２ 、２５．７ 、２６．４ 、
６４．８ 、７２．３ 、７８．５ 、１０８．８〔α
）２５＋１８．５°（ＣＯ，４４、ＣＨＯ２３）〔参考
例４〕 化合物ＶＩ２４０＋Ｑ（１，０５ミリモル）とメタノー
ル５Ｈの混合溶液及び５モルチカーがン担体付・母ラジ
ウム触媒４４．８ｆｆ＋９を使用し、参考例３と同様に
水素化反応を行なった。化合物■の収量は２２３■（収
率９２チ）であシ、また化合物■の分析値は次の通シで
ちった。
）ＣＨＯＨ）１５Ｃ−脇： ｃｏｃｔ、溶媒 δ１０．０ 、２５．２ 、２５．７ 、２６．４ 、
６４．８ 、７２．３ 、７８．５ 、１０８．８〔α
）２５＋１８．５°（ＣＯ，４４、ＣＨＯ２３）〔参考
例４〕 化合物ＶＩ２４０＋Ｑ（１，０５ミリモル）とメタノー
ル５Ｈの混合溶液及び５モルチカーがン担体付・母ラジ
ウム触媒４４．８ｆｆ＋９を使用し、参考例３と同様に
水素化反応を行なった。化合物■の収量は２２３■（収
率９２チ）であシ、また化合物■の分析値は次の通シで
ちった。
’Ｈ−ＮＭＲ： ｃｃｔ４溶媒
δ０．７６〜１．０３ （ｍ 、３Ｈ、ＣＨｓ ） 、
１．１３〜１．６４ （ｍ 、１８Ｈ。
１．１３〜１．６４ （ｍ 、１８Ｈ。
２ＣＨ，と＋ＣＨ２＋６ＣＨ３）、２．２０（ｂｒｓ、
ＩＨ，ＯＨ）。
ＩＨ，ＯＨ）。
３．５２〜４−０３ （ｍ ｔ ４ Ｈ、ＣＨ２ＣＨ（
０）ＣＨ（０） ）１３Ｃ−小組： ＣＤＣｌ３ δ１４．０ 、２２．６ 、２５．３ 、２５．７ 、
２６．５ 、２９．１ 、２９．５ 、３１．８ 。
０）ＣＨ（０） ）１３Ｃ−小組： ＣＤＣｌ３ δ１４．０ 、２２．６ 、２５．３ 、２５．７ 、
２６．５ 、２９．１ 、２９．５ 、３１．８ 。
３２．８，６４．７．７０．８．７Ｂ、８，１０８゜９
〔α）、 ＋１２．９° （ＣＯ，９８、ＣＨＯ２，）
〔参考例５〕 ０℃に冷却した化合物１１１’−Ａ １５０１ｎ９（０
，６５ミリモル）とジクロロメタン３ｄの混合溶液に７
０１のｔ−プチルハイドロノ４−オキサイド溶液０．１
６８ｍ（１，３０ミリモル）をゆりくシ滴下し、触媒量
のビスアセチルアセトナート酸化バナジルを加えた。６
時間反応後、ジメチルサルファイド２ｄを加え、室温で
３０分間攪拌した。
〔α）、 ＋１２．９° （ＣＯ，９８、ＣＨＯ２，）
〔参考例５〕 ０℃に冷却した化合物１１１’−Ａ １５０１ｎ９（０
，６５ミリモル）とジクロロメタン３ｄの混合溶液に７
０１のｔ−プチルハイドロノ４−オキサイド溶液０．１
６８ｍ（１，３０ミリモル）をゆりくシ滴下し、触媒量
のビスアセチルアセトナート酸化バナジルを加えた。６
時間反応後、ジメチルサルファイド２ｄを加え、室温で
３０分間攪拌した。
次に、飽和炭酸水素す） ＩＪウム水溶液５ｄを加え攪
拌した。水層よシ反応生成物をジクロロメタン５−を使
用して２回抽出した。抽出液を合せ、硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。この
粗生成物とシリカｒルカラムクロマトを用いて精製した
。収量は１３７■（収率８５チ）であった。
拌した。水層よシ反応生成物をジクロロメタン５−を使
用して２回抽出した。抽出液を合せ、硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧下溶媒を留去して粗生成物を得た。この
粗生成物とシリカｒルカラムクロマトを用いて精製した
。収量は１３７■（収率８５チ）であった。
化合物■の分析値は次の通りであった。
’Ｈ−ＮＭＲ： ｃｃｔ４とＤ２０の混合溶媒δ０．０
３（Ｓ、９Ｈ，３Ｃ）１．）、１．１５と１．２３ （
２８、６Ｈ、２ＣＨ，）。
３（Ｓ、９Ｈ，３Ｃ）１．）、１．１５と１．２３ （
２８、６Ｈ、２ＣＨ，）。
２．４１と２．７５ （２ｄ −Ｊ ＝５ Ｈｚ 、２
Ｈ、Ｈ２Ｃ”””Ｃ） 。
Ｈ、Ｈ２Ｃ”””Ｃ） 。
３．４３〜４．０３ （ｍ 、ＣＨ２ＣＨ（０）ＣＨＯ
Ｈ）”Ｃ−ＮＭＲ： ＣＤＣＬ、溶媒 ａ ３．０３．２５．２，２６．３，４６．２，５２．
９．６６．８，７０．９，７５．８゜１０９．０ ［α］２５＋３．２ （Ｃ１，０５，ＣＨＣＬ、）〔参
考例６〕 （）ＨＯＨ ■Ｘ 化合物Ｘ４１２１ｎ９（１，ロアミリモル）とテトラヒ
ドロ７ラン５ｄの混合溶液に室温でテトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムフルオライドのテトラヒドロフラン溶液２
．５０ｍ１（１，ロアミリモル）ト加えた後、０℃でカ
リウムｔ−ブトキサイド１８８Ｔｎ９（１，６７ミＩＪ
モル）を一度に加えて５分間攪拌した。次に、飽和塩化
アンモニウム水溶液５ ｍｌを加え攪拌した。水溜よシ
反応生成物を酢酸エチル５プを使用して３回抽出した。
Ｈ）”Ｃ−ＮＭＲ： ＣＤＣＬ、溶媒 ａ ３．０３．２５．２，２６．３，４６．２，５２．
９．６６．８，７０．９，７５．８゜１０９．０ ［α］２５＋３．２ （Ｃ１，０５，ＣＨＣＬ、）〔参
考例６〕 （）ＨＯＨ ■Ｘ 化合物Ｘ４１２１ｎ９（１，ロアミリモル）とテトラヒ
ドロ７ラン５ｄの混合溶液に室温でテトラ−ｎ−ブチル
アンモニウムフルオライドのテトラヒドロフラン溶液２
．５０ｍ１（１，ロアミリモル）ト加えた後、０℃でカ
リウムｔ−ブトキサイド１８８Ｔｎ９（１，６７ミＩＪ
モル）を一度に加えて５分間攪拌した。次に、飽和塩化
アンモニウム水溶液５ ｍｌを加え攪拌した。水溜よシ
反応生成物を酢酸エチル５プを使用して３回抽出した。
抽出液を合せ、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒
を留去して粗生成物を得た。この粗生成物を７リカｒル
カラムクロマトを用いて精製した。収量は２３１ ｉｓ
；＋ （収率８０％）であった。
を留去して粗生成物を得た。この粗生成物を７リカｒル
カラムクロマトを用いて精製した。収量は２３１ ｉｓ
；＋ （収率８０％）であった。
化合物Ｘの分析値は次の通シであった。
’Ｈ−ＮＭＲ： ｃｃｔ４とＤ２０の混合溶媒δ１，３
１と１．３９（２Ｓ、６Ｈ，２ＣＨ３）。
１と１．３９（２Ｓ、６Ｈ，２ＣＨ３）。
３−６３〜４−３０ （ｍ 、４ Ｈ、ＣＨ２ＣＨ（０
）ＣＨＯＨ）〔α）Ｄ−３０，３（Ｃ０，９７１，ＣＨ
ＣＬ３）〔参考例７〕 化合物＃Ｍ−Ｘ ２１１■（１，２１ミリモル）と８３
チのｔ−ブタノール水溶液３ｍＡ！の混合溶液に、室温
で０．５規定水酸化す） ＩＪウム水溶液２．４２ｍＪ
（１，２１ミリモル）を加えた後、７０℃で１５時間攪
拌した。次に、エチルアルコール１５−を加えた後、減
圧下ｔ−ブタノールと水を共沸除去した。この粗生成物
をシリカダルカラムクロマトを用いて精製し九。収量は
１６３ダ（収率７０チ）であった。
）ＣＨＯＨ）〔α）Ｄ−３０，３（Ｃ０，９７１，ＣＨ
ＣＬ３）〔参考例７〕 化合物＃Ｍ−Ｘ ２１１■（１，２１ミリモル）と８３
チのｔ−ブタノール水溶液３ｍＡ！の混合溶液に、室温
で０．５規定水酸化す） ＩＪウム水溶液２．４２ｍＪ
（１，２１ミリモル）を加えた後、７０℃で１５時間攪
拌した。次に、エチルアルコール１５−を加えた後、減
圧下ｔ−ブタノールと水を共沸除去した。この粗生成物
をシリカダルカラムクロマトを用いて精製し九。収量は
１６３ダ（収率７０チ）であった。
化合物Ｘの分析値は次の通）であったＯ’Ｈ−ＮＭＲ：
ＣＤＣ１，溶媒 δ１．２６と１．３３（２８，６Ｈ，２ＣＨ，）、３．
５０〜４．４０（ｒｎ。
ＣＤＣ１，溶媒 δ１．２６と１．３３（２８，６Ｈ，２ＣＨ，）、３．
５０〜４．４０（ｒｎ。
ｌ ＯＨ） 融点 ８２〜８３℃
〔α１Ｄ １３．３° （Ｃ１，２３，ＥｔｏＨ）〔参
考例８〕 Ｈ ＸＩ Ｘｌｌ 化合物←Ｘ［１１８■（０，６１５ミリモル）とメタノ
ール２ ｍｌの混合溶媒に室温で１２規定塩酸３滴を加
えて２時間攪拌した。次に、ピリシンで反応液を中和後
、減圧下溶媒を留去した。更にピリジン３プを加えて無
水酢酸０．５７８ｒｎｌ（６，１５ミリモル）を室温で
滴下後、１２時間攪拌した。
考例８〕 Ｈ ＸＩ Ｘｌｌ 化合物←Ｘ［１１８■（０，６１５ミリモル）とメタノ
ール２ ｍｌの混合溶媒に室温で１２規定塩酸３滴を加
えて２時間攪拌した。次に、ピリシンで反応液を中和後
、減圧下溶媒を留去した。更にピリジン３プを加えて無
水酢酸０．５７８ｒｎｌ（６，１５ミリモル）を室温で
滴下後、１２時間攪拌した。
次いで、３規定塩酸１５ｄを加え、水層よす反応生成物
を酢酸エチルｉ ｏｄ１使用して２回抽出した。抽出液
を集め、飽和炭酸水素す） ＩＪウム水溶液１５−を加
えてアルカリ性とし、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下溶媒を留去し粗生成物を得た。この粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトで精製し、化合物■のりビトール５
酢酸エステル１８１ダ（収率８１％）を得た。
を酢酸エチルｉ ｏｄ１使用して２回抽出した。抽出液
を集め、飽和炭酸水素す） ＩＪウム水溶液１５−を加
えてアルカリ性とし、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下溶媒を留去し粗生成物を得た。この粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトで精製し、化合物■のりビトール５
酢酸エステル１８１ダ（収率８１％）を得た。
このリビトール５酢酸エステルの分析値は次の通シであ
った。
った。
１３Ｃ−ＮＭＲ： ｃＤｃｔ３溶媒
δ２０．５ 、２０．６ 、６１．６ 、６９．２ 、
６９．４ 、１６９．２ 、１６９．６ 。
６９．４ 、１６９．２ 、１６９．６ 。
１７０．３
また、他の分析値は文献に記載の値と一致していた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 で表わされるグリセルアルデヒドと、 一般式〔II〕 ＲＭｇＸ〔II〕 （式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒは▲数式、化学式、表等
があります▼で 表わされる置換ビニルトリメチルシリル基を示し、Ｒ＿
１はアルキル基、アルケニル基又は▲数式、化学式、表
等があります▼で表わされる置換フェニル基、Ｙは水素
原子、低級アルキル基、アルケニル基、低級アルコキシ
基又はハロゲン原子を示し、ｎは１〜５の整数である。 ）で表わされるグリニヤール試薬とを第一銅塩、アルキ
ルリチウム及び溶媒の存在下に反応させることを特徴と
する 一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 （式中、Ｒ＾２は水素原子又は水酸基の保護基を示し、
Ｒは前記と同じ意味を表わす） で表わされるアンチ型グリセロール誘導体の製造法。 ２、第一銅塩としてシアン化第一銅を使用する特許請求
の範囲第１項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60203860A JPS6263593A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | グリセロ−ル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60203860A JPS6263593A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | グリセロ−ル誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6263593A true JPS6263593A (ja) | 1987-03-20 |
| JPS6352036B2 JPS6352036B2 (ja) | 1988-10-17 |
Family
ID=16480893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60203860A Granted JPS6263593A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | グリセロ−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6263593A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02231484A (ja) * | 1988-03-11 | 1990-09-13 | Noguchi Kenkyusho | トリオール誘導体とその製造法 |
| WO2007011150A1 (en) * | 2005-07-20 | 2007-01-25 | Enzychem Co., Ltd. | Preparation of glycerol derivatives and intermediates therefor |
| JP4880095B2 (ja) * | 2009-06-26 | 2012-02-22 | 株式会社Ｃｋｕ | 熱交換器 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0395343A (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-19 | Daikin Ind Ltd | 空気調和装置の運転制御装置 |
-
1985
- 1985-09-13 JP JP60203860A patent/JPS6263593A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02231484A (ja) * | 1988-03-11 | 1990-09-13 | Noguchi Kenkyusho | トリオール誘導体とその製造法 |
| WO2007011150A1 (en) * | 2005-07-20 | 2007-01-25 | Enzychem Co., Ltd. | Preparation of glycerol derivatives and intermediates therefor |
| US7868196B2 (en) | 2005-07-20 | 2011-01-11 | Enzychem Co., Ltd. | Preparation of glycerol derivatives and intermediates therefor |
| JP4880095B2 (ja) * | 2009-06-26 | 2012-02-22 | 株式会社Ｃｋｕ | 熱交換器 |
| JP4880094B2 (ja) * | 2009-06-26 | 2012-02-22 | 株式会社Ｃｋｕ | 熱交換器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6352036B2 (ja) | 1988-10-17 |
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