WO2008013153A1 - Réceptacle pour tranche muni d'une feuille d'amortissement - Google Patents

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WO2008013153A1
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wafer
cushion sheet
mounting
storage container
tray
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Nobuyuki Kasama
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Miraial Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a wafer storage container with a cushion sheet used for transporting or storing a semiconductor wafer.
  • Patent Document 1 JP 2003-168731
  • Patent Document 2 JP 2005_191419
  • the semiconductor wafer is in a flat state in an environment where it is sandwiched between two cushion sheets between two stacked wafer mounting trays. However, when the upper and lower wafer mounting trays are separated and the semiconductor wafer is not sandwiched between the cushion sheets, the flat semiconductor wafer is warped due to the presence of internal stress. If this state change is repeated many times, the semiconductor wafer may be damaged.
  • An object of the present invention is to prevent a semiconductor wafer from being damaged during transportation, and to keep the semiconductor wafer in a flat state, and to repeat the state change (a state in which the flat state is warped). It is an object of the present invention to provide a wafer storage container with a cushion sheet that can prevent occurrence of wafer breakage.
  • the wafer storage container with a cushion sheet of the present invention is placed in a state where a plurality of wafer placement trays for placing and holding a semiconductor wafer are stacked, An elastic wafer mounting cushion sheet for mounting a semiconductor wafer is attached to the upper surface of the mounting tray, and the semiconductor wafer mounted on the surface of the wafer mounting cushion sheet is connected to each semiconductor wafer and its upper side.
  • a wafer storage container with a cushion sheet configured to be stored in an inner space formed between the wafer mounting trays stacked adjacent to each other!
  • the wafer A wafer suction surface is formed on the surface of the mounting cushion sheet to absorb the semiconductor wafer, and the wafer mounting tray has an opening facing the back surface of the wafer mounting cushion sheet.
  • the wafer mounting cushion sheet is elastically deformed to swell upward in each region facing the plurality of bottom openings, and the wafer mounting cushion sheet absorbs the wafer. A part or all of the surface and the semiconductor wafer are peeled off.
  • the wafer suction surface of the wafer mounting cushion sheet is formed by a large number of fine suction cups, and the semiconductor wafer is sucked and fixed to the fine suction cups by pressing the fine suction cups against the semiconductor wafer. Also good.
  • the wafer mounting cushion sheet is formed to a size capable of mounting substantially the entire surface of the semiconductor wafer, and a wafer adsorbing surface is formed on a part or the entire surface of the wafer mounting cushion sheet. Te! /
  • the wafer suction surface may be formed only at a position that matches the plurality of bottom surface openings formed in the wafer mounting tray, or the plurality of bottom surface openings formed in the wafer mounting tray.
  • the wafer suction surface is formed only at the position where it does not match! /!
  • the wafer suction surface may be formed on the wafer mounting cushion sheet with a uniform density or a partially different density
  • a portion other than the wafer suction surface is recessed from the wafer suction surface. It's formed, but it's okay.
  • a tray suction surface that is airtightly attracted to the upper surface of the wafer mounting tray may be formed on the back surface of the wafer mounting cushion sheet.
  • the suction force of the wafer suction surface with respect to the semiconductor wafer may be set smaller than the suction force of the tray suction surface with respect to the upper surface of the wafer mounting tray.
  • the wafer mounting cushion sheet is formed by integrally stacking a tray adsorption functional layer having a tray adsorption surface, a cushion functional layer functioning as an elastic cushion, and a wafer adsorption functional layer having a wafer adsorption surface. It may be configured. In that case, the cushion function layer may be formed of an elastomeric polymer material or a foamed polymer material having elasticity.
  • each bottom opening formed in the wafer loading tray may be arranged without being biased in the region facing the back surface of the wafer loading cushion sheet. It may be formed in the shape of a groove extending radially from the periphery.
  • a wafer pressing cushion sheet having elasticity for pressing the semiconductor wafer against the wafer mounting cushion sheet may be disposed on the lower surface side of the wafer mounting tray.
  • the electrical surface resistance of the cushion sheet and / or wafer pressing cushion sheet should be in the range of 10 8 to 10 1Q Q.
  • the wafer storage container with a cushion sheet of the present invention is arranged in a state where a plurality of wafer placement trays for placing and holding semiconductor wafers are stacked, and on the upper surface of each wafer placement tray, A wafer mounting cushion sheet for mounting a semiconductor wafer is attached, and the semiconductor wafer force placed on the surface of the wafer mounting cushion sheet.
  • a wafer storage container with a cushion sheet configured to be stored in an inner space formed between the mounting tray and the surface of the wafer mounting cushion sheet, the semiconductor wafer is attracted to the surface.
  • a wafer suction surface is formed, and the wafer placement tray has a plurality of bottom surface openings that face the back surface of the wafer placement cushion sheet and a plurality of bottom openings.
  • the wafer mounting cushion sheet is elastically deformed into a state in which the wafer mounting cushion sheet is sucked to the bottom opening side in each region facing the plurality of bottom opening, and a part or all of the wafer suction surface of the wafer mounting cushion sheet is In this case, the wafer suction surface is formed only at a position that matches the plurality of bottom surface openings formed on the wafer loading tray. , Torayo.
  • the semiconductor wafer is always attracted and fixed onto the wafer placement cushion sheet.
  • the semiconductor wafer is always kept in a flat state, and the semiconductor wafer is caused by repeated state changes (a state that is flat and warped).
  • Use force S to prevent the occurrence of damage.
  • the wafer placement cushion sheet having the semiconductor wafer adsorbed on the front surface is inflated (or sucked) with pressurized air at a plurality of locations from the back side thereof, thereby providing a wafer adsorption surface of the wafer placement cushion sheet. Since a part or all of the semiconductor wafer is peeled off from the semiconductor wafer, the semiconductor wafer can be easily separated from the wafer mounting cushion sheet without damaging it.
  • FIG. 1 is a side sectional view showing a state in which a semiconductor wafer is removed from a wafer mounting tray according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view showing a part of a state in which a large number of wafer mounting trays of the wafer storage container with a cushion sheet according to the first embodiment of the present invention are stacked.
  • FIG. 3 is a side sectional view showing a state where two wafer mounting trays according to the first embodiment of the present invention are separated.
  • FIG. 4 is a side sectional view showing a state where two wafer mounting trays according to the first embodiment of the present invention are coupled together.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an adsorption function layer that is detachably adsorbed to the bottom surface of the semiconductor wafer or wafer mounting tray according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a side cross-sectional view showing a state where the cushion sheet is detached from the wafer mounting tray according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a sectional view taken along the line VII-VII in FIG. 3 of the wafer mounting tray according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a partial cross-sectional view of a state where the wafer mounting trays according to the first embodiment of the present invention are uncoupled.
  • FIG. 9 is a side cross-sectional view of a state where a semiconductor wafer is removed from a wafer mounting tray according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is a side sectional view showing a state in which a semiconductor wafer is removed from a wafer mounting tray according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a perspective view of a bottom opening provided in a wafer mounting tray according to a fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is a plan view of a wafer mounting cushion sheet according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view of a wafer mounting cushion sheet according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a plan view of a wafer mounting cushion sheet according to a sixth embodiment of the present invention.
  • FIG. 15 is a partial side cross-sectional view showing a state where a semiconductor wafer is removed from a wafer mounting tray according to a seventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 shows the overall structure of the wafer storage container with a cushion sheet.
  • a plurality of wafer loading trays 1 are placed on top of each other in a horizontal state.
  • FIG. 2 shows a state in which a part of the plurality of stacked wafer loading trays 1 is separated.
  • a pair of base trays 2 in which coupling grooves 3 for coupling to a mechanical interface device (not shown) are formed are attached to upper and lower ends of the plurality of stacked wafer mounting trays 1.
  • each wafer mounting tray 1 formed of a plastic material such as polycarbonate resin or the like is overlaid, so that the semiconductor wafer W placed on the wafer mounting tray 1 becomes each wafer mounting tray 1.
  • the wafer mounting tray 1 stacked adjacently on the upper side thereof are housed in an inner space formed.
  • the semiconductor wafer W is not directly mounted on the wafer mounting tray 1, but is mounted on the upper surface of the wafer mounting tray 1 (hereinafter abbreviated as "mounting cushion 5"). ).
  • [0024] 6 is an annular seal member made of a resilient member disposed so as to surround the entire circumference of the mounting cushion 5 at a position outside the entire circumference.
  • Reference numeral 7 denotes a gripping portion formed at a 180 ° symmetrical position on the outer edge of each wafer loading tray 1 so that the wafer loading tray 1 can be individually held by a mechanical device.
  • a coupling hole 8 for coupling with the wafer loading tray 1 located above the wafer loading tray 1 8 is formed in four places.
  • the coupling hooks 9 are detachably engaged with the respective coupling holes 8 and are formed to protrude in four locations downward from the lower surface of the wafer loading tray 1.
  • a tray coupling mechanism for releasably coupling a plurality of wafer mounting trays 1 at an arbitrary overlapping position in a state where the plurality of wafer mounting trays 1 are overlapped with each other includes a coupling hole 8 and a coupling hook 9.
  • ing. 10 is a key insertion hole for inserting a hook removal key (not shown) for releasing the engagement between the coupling hole 8 and the coupling hook 9.
  • Reference numeral 11 denotes an air supply port for sending pressurized air from the outside when the semiconductor wafer W is removed from the wafer mounting tray 1, and details thereof will be described later.
  • FIGS. 3 and 4 show a state in which the two wafer loading trays 1 positioned above and below are separated from each other. It is side surface sectional drawing which shows the state passed. However, in order to show the cross sections of the coupling hook 9 and the air supply port 11 in one drawing, the drawings of different cross-sectional positions are shown in combination.
  • the annular seal member 6 is arranged in a state in which the lower half is fitted in an annular groove formed slightly inside the outer edge of the upper surface of each wafer mounting tray 1.
  • Each wafer mounting tray 1 is formed in a dish shape in which a portion located on the inner side of the annular seal member 6 falls downward on both the upper and lower surfaces, and the mounting cushion 5 is disposed there.
  • the mounting cushion 5 is an abbreviation of the semiconductor wafer W made of a material that does not have a chemical adverse effect on the semiconductor wafer W in all parts, for example, a material in which the generation of impurity gas is not more than a specified value. It is formed in a disk shape large enough to be placed on the entire surface. Such a mounting tack 5 is detachably attached to the cushion functional layer 5A that functions as an elastic cushion that protects the semiconductor wafer W from external impacts, etc., and the upper surface 13 of the wafer mounting tray 1.
  • a tray adsorption function layer 5B having a tray adsorption surface to be adsorbed and a wafer adsorption function layer 5C having a wafer adsorption surface that is detachably adsorbed to the semiconductor wafer W are laminated to form three layers 5A, 5B, and 5C. It is constructed by laminating and integrating.
  • the cushion functional layer 5A is formed of a polymer material having elasticity such as a foamed polymer material such as urethane foam or an elastomeric polymer material.
  • Each of the tray adsorption functional layer 5B and the wafer adsorption functional layer 5C provided on both the front and back surfaces of the cushion functional layer 5A is, for example, a foamed acrylic latex made of an acrylate copolymer that hardly causes chemical adverse effects on the surroundings.
  • foamed acrylic latex made of an acrylate copolymer that hardly causes chemical adverse effects on the surroundings.
  • foam rubber polymer material foam elastomer polymer material, or urethane foam polymer material.
  • each of the adsorption functional layers 5B and 5C has a fine sucker on the entire exposed surface (however, it may be a part of the exposed surface), and the fine sucker is the adsorption partner.
  • the fine suction cups are attracted and fixed to the upper surface 13 of the wafer mounting tray 1 or the semiconductor wafer W.
  • each suction function layer 5B, 5C fine suction cup (gas The average diameter of bubbles 5h ') should be about 10 m or more and 50 Hm or less! / ⁇ .
  • the bubble 5h can be either an open cell or a closed cell.
  • Figure 5 is simplified and shown schematically.
  • the back surface of the mounting cushion 5 is the upper surface of the wafer mounting tray 1.
  • the semiconductor wafer W is adsorbed and fixed to 13 in an airtight manner, and the semiconductor wafer W is adsorbed and fixed to the wafer adsorption functional layer 5C on the upper surface of the mounting cushion 5. Therefore, even when the wafer mounting tray 1 is tilted when the two wafer mounting trays 1 are separated or the semiconductor wafer W is inspected, the mounting cushion 5 slides down from the wafer mounting tray 1. There is no fear that the semiconductor wafer W slides down from the mounting cushion 5.
  • the semiconductor wafer W is fixed to the upper surface of the mounting cushion 5 by suction, the semiconductor wafer W is always kept flat without warping. It is possible to prevent the occurrence of a phenomenon of damage by repeating the state.
  • a mounting cushion 5 If such a mounting cushion 5 is picked by hand and pulled with a certain level of force, it can be easily removed from the upper surface 13 of the wafer mounting tray 1 for cleaning and replacement as shown in FIG. You can do the power S. However, when removing the semiconductor wafer W from the mounting cushion 5, the wafer of the mounting cushion 5 with respect to the semiconductor wafer W is prevented so that the mounting cushion 5 does not come off from the wafer mounting tray 1 before that.
  • the adsorption force of the adsorption function layer 5C may be set smaller than the adsorption force of the tray adsorption function layer 5B of the mounting cushion 5 with respect to the upper surface 13 of the wafer loading tray 1. In order to do so, for example, the diameter or density of the bubbles 5h of the adsorption functional layers 5B and 5C may be appropriately varied! / ,.
  • an elastic wafer pressing cushion sheet 15 (hereinafter referred to as “short”) for pressing the semiconductor wafer W against the mounting cushion 5 of the lower wafer mounting tray 1.
  • pressing cushion 15 Abbreviated as “pressing cushion 15”) is detachably adsorbed!
  • the pressing cushion 15 of this embodiment has a size that can press a predetermined region or substantially the entire surface of the semiconductor wafer W with a material that does not exert a chemical adverse effect on the semiconductor wafer W, similarly to the mounting cushion 5. It is formed in a disk shape.
  • the cushion functional layer 15A that functions as a resilient cushion and the detachable attachment to the lower surface 14 of the wafer loading tray 1
  • a suction function layer 15B having a wafer suction surface that is freely sucked is laminated and integrated.
  • the cushion function layer 15A and the suction function layer 15B are the cushion function layer 5A forming the mounting cushion 5 and the tray suction function.
  • the structure is the same as that of the layer 5B (or the wafer adsorption functional layer 5C). Therefore, the pressing cushion 15 can be detachably attached to the lower surface 14 of the wafer mounting tray 1 by suction. If it is picked by hand and pulled with a certain level of force, it can be easily removed from the bottom surface 14 of the wafer loading tray 1 for cleaning and replacement as shown in FIG.
  • both the mounting cushion 5 and the pressing cushion 15 may be fixed to the wafer mounting tray 1 by means of mechanical fixation using a fixed frame or the like, or heat sealing, etc. Les. If the mounting cushion 5 is fixed to the upper surface 13 of the wafer mounting tray 1 (at least the outer peripheral portion is airtight), the pressure of the pressurized air, which will be described later, and the suction force with the semiconductor wafer W are limited. There is a merit that is reduced.
  • the air chamber 16 is provided in the bottom wall of the wafer loading tray 1 as described above.
  • the plurality of bottom surface openings 17 are generally large in number in the region facing the back surface of the mounting cushion 5 (for example, 20
  • the total area of the semiconductor wafer W is more than half of the area of the semiconductor wafer W.
  • the air chamber 16 is formed in a state in which the wafer mounting tray 1 is cut out in a single disk shape that directly communicates with all of the plurality of bottom openings 17, and it is necessary to prevent the air chamber 16 from being crushed by an external force. In such a case, a columnar body or the like may be appropriately disposed in the air chamber 16.
  • the air supply port 11 communicates directly with the outer periphery of the air chamber 16.
  • the semiconductor wafer W can be separated from the mounting cushion 5 with a light force, and the force S can be easily separated from the mounting cushion 5 without damaging the semiconductor wafer W. Further, if the mounting cushion 5 is pulled with a greater force than the semiconductor wafer W is peeled off from the mounting cushion 5 as described above, the mounting cushion 5 may be peeled off from the upper surface 13 of the wafer mounting tray 1. It is possible to clean and replace the mounting cushion 5 as necessary with a force S.
  • the coupling hook 9 is integrally formed with the end of an elongated shaft portion protruding from the lower surface 14 of the wafer loading tray 1 and the hook portion bent outward in an L shape. It has a formed configuration. Therefore, as shown in FIG. 4, when the wafer loading tray 1 is placed on the lower wafer loading tray 1 and pressed against the lower wafer loading tray 1, the shaft portion of the coupling hook 9 is elastically deformed and the hook portion is coupled to the coupling hole. After entering into 8, the connecting hook 9 returns to its original shape before elastic deformation. As a result, the hook portion of the coupling hook 9 is engaged in a state where it cannot be pulled out into the coupling hole 8, and the two overlapping wafer loading trays 1 are coupled to each other.
  • the annular seal member 6 attached to the lower wafer mounting tray 1 is crushed by the lower surface 14 of the upper wafer mounting tray 1 over the entire circumference.
  • the space in which the inner semiconductor wafer W is accommodated is sealed from the outside.
  • the semiconductor wafer W force placed on the lower wafer placement tray 1 is elastically sandwiched between the lower placement cushion 5 and the upper pressing cushion 15, It is safely held without being directly affected by external force impact.
  • the electrical surface resistance of the semiconductor wafer W is generally about 10 9 ⁇ , and the surface resistances of the mounting cushion 5 and the pressing cushion 15 that are in contact with both the front and back surfaces of the semiconductor wafer W are about the same.
  • the surface resistance of both the mounting cushion 5 and the pressing cushion 15 is preferably in the range of 10 8 to; 10 1Q Q. Most preferably, the surface resistance of the mounting cushion 5 and the pressing cushion 15 is the same. In addition, it should be about 10 9 ⁇ , which is the same as the semiconductor wafer W.
  • FIG. 9 and FIG. 10 show the second and third embodiments according to the present invention, and show the state when the semiconductor wafer W is removed from the wafer mounting tray 1 force, Only a part of the wafer adsorption functional layer 5C of the mounting cushion 5 is a wafer adsorption surface 50 that is adsorbed to the semiconductor wafer W, and the remaining area is a non-adsorption surface 51 that is not adsorbed to the semiconductor wafer W. ing.
  • the wafer suction surface 50 is formed only at a position that matches the plurality of bottom surface openings 17 formed in the wafer loading tray 1, and the third embodiment shown in FIG.
  • the wafer suction surface 50 is formed only at positions that do not match the plurality of bottom surface openings 17 formed on the wafer mounting tray 1. With this configuration, the semiconductor wafer W and the mounting cushion 5 are more easily separated by blowing pressurized air from the air supply port 11.
  • FIG. 11 shows one of the bottom openings 17 of the fourth embodiment according to the present invention.
  • each bottom opening 17 formed in the wafer loading tray 1 is formed in a cross-shaped groove shape.
  • 17 a is a vent hole that leads to the air chamber 16.
  • the bottom opening 17 is formed in such a shape, when the pressure of the pressurized air acts on the mounting cushion 5 from the bottom opening 17, the partial force along the bottom opening 17 of the mounting cushion 5 gradually deforms, and gradually. Since the semiconductor wafer W and the mounting cushion 5 are gently peeled while the deformation spreads around the periphery, the impact applied to the semiconductor wafer W can be reduced. The same effect can be obtained even if the bottom opening 17 is formed in a groove shape extending radially from the center to the periphery, such as a spiral groove shape or a number of straight radiation groove shapes.
  • FIG. 12 shows the wafer adsorption functional layer 5 C of the mounting cushion 5 according to the fifth embodiment of the present invention.
  • the entire surface of the mounting cushion 5 is a semiconductor wafer. Since the wafer suction surface 50 adsorbed on W is formed, the wafer adsorption surface 50 is formed at a uniform density at equal intervals, and the remaining portion is a non-adsorption surface 51 that is not adsorbed on the semiconductor wafer W.
  • the projections become the wafer adsorption surface 50, and the depressions (that is, the depressions) are non-adsorption surfaces. 51.
  • the non-adsorptive surface 51 can be formed by thermal processing or the like.
  • the suction force of the wafer suction functional layer 5C can be arbitrarily set by appropriately selecting the density of the wafer suction surface 50.
  • the wafer suction surface 50 may be formed with a different density depending on the region. Further, as in the sixth embodiment shown in FIG. 14, the wafer suction surface 50 may be continuously formed in a mesh shape.
  • FIG. 15 shows a seventh embodiment according to the present invention.
  • an air intake port I for sucking out air in the air chamber 16 from the outside is provided instead of the air supply port 11 of the wafer mounting tray 1, an air intake port I for sucking out air in the air chamber 16 from the outside is provided.
  • air in the air chamber 16 is sucked out by the suction pump 30 or the like through the intake port I, and the pressure in the air chamber 16 is reduced, so that the mounting cushion 5 faces each of the plurality of bottom openings 17.
  • the region is elastically deformed so as to be attracted to the bottom opening 17 side, and a part or all of the wafer adsorption functional layer 5C of the mounting cushion 5 and the semiconductor wafer W are peeled off.
  • the wafer suction surface is only provided at a position that matches the plurality of bottom openings 17 formed in the wafer loading tray 1. 50 should be formed.
  • a tray suction surface (5B) that is airtightly attracted to the upper surface 13 of the wafer mounting tray 1 is formed on the back surface of the mounting cushion 5!
  • the suction force of the wafer suction surface (5C) to the semiconductor wafer W is higher than that of the wafer mounting tray 1. It is set smaller than the suction force of the tray suction surface (5B) to the surface 13.
  • Placement cushion 5 has a tray suction function layer 5B having a tray suction surface, a cushion function layer 5A functioning as an elastic tassition, and a wafer suction function having a wafer suction surface Layer 5C is integrally laminated.
  • the cushion functional layer 5A is formed of an elastic elastomeric polymer material or foamed polymer material having elasticity.
  • a plurality of bottom surface openings 17 are arranged in a uniform manner in a region facing the back surface of the mounting cushion 5 without being biased.
  • An elastic pressing cushion 15 for pressing the semiconductor wafer W against the mounting cushion 5 is disposed on the lower surface 14 side of the wafer mounting tray 1.
  • the electrical surface resistance of both or one of the mounting cushion 5 and the pressing cushion 15 is in the range of 10 8 to; 10 1Q Q.
  • a tray coupling mechanism 8, 9 is provided for releasably coupling the plurality of wafer mounting trays 1 to each other in a state of being overlapped with each other!
  • the tray coupling mechanism is not limited to a structure in which the coupling hook 9 is engaged with the coupling hole 8, but has any other structure. Even so!

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Description

明 細 書
クッションシート付ウェハ収納容器
技術分野
[0001] この発明は、半導体ウェハを搬送あるいは保管するために用いられるクッションシ ート付ウェハ収納容器に関する。 背景技術
[0002] 半導体の製造工程にお!/、て、薄!/、半導体ウェハを各工程間あるいは各々の工程 内で搬送あるいは保管する際に、半導体ウェハを破損したり汚損したりするおそれの ないよう、半導体ウェハはウェハ収納容器内に収納される。
[0003] そして、半導体ウェハを一枚毎に独立して安全に収納することができるように、複数 のウェハ載置トレイを重ね合わせて、二つのウェハ載置トレイの間に形成される内側 空間内に半導体ウェハを一枚ずつ個別に収納するようにしたウェハ収納容器が提 案されている(例えば、特許文献 1)。
[0004] さらに、近年のように極薄化が進んで脆弱になった半導体ウェハを安全に収納する ために、二つのウェハ載置トレイの間に形成される内側空間内で一枚の半導体ゥェ ハをニ枚のクッションシートの間に挟み込んだクッションシート付ウェハ収納容器が提 案されている。半導体ウェハをクッションシートの間に挟み込むことにより、半導体ゥ ェハが振動や衝撃等の外力によって破損することが防止される(例えば、特許文献 2 )。
特許文献 1 :特開 2003— 168731
特許文献 2 :特開 2005_ 191419
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] 半導体ウェハは、重ね合わされた二つのウェハ載置トレイの間で二枚のクッション シートの間に挟み込まれた環境では平坦な状態になっている。しかし、上下のウェハ 載置トレイが分離されて半導体ウェハがクッションシートの間に挟み込まれていない 環境になると、平坦な状態だった半導体ウェハが内部応力の存在等により反った状 態になり、そのような状態変化が数多く繰り返されると半導体ウェハが破損するおそ れが生じる場合がある。
[0006] そこで、半導体ウェハをその下側のクッションシートに粘着させて半導体ウェハが常 に平坦な状態を保つようにすることが考えられる力 半導体ウェハが極薄になってく ると、クッションシートから剥離させる際にクッションシートに対する粘着力により破損し てしまうおそれがある。
[0007] 本発明の目的は、半導体ウェハが搬送中等に破損することがなぐしかも半導体ゥ ェハを常に平坦な状態に保って、状態変化(平坦な状態と反った状態)の繰り返しに よる半導体ウェハの破損発生を防止することができるクッションシート付ウェハ収納容 器を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0008] 上記の目的を達成するため、本発明のクッションシート付ウェハ収納容器は、半導 体ウェハを載せて保持するためのウェハ載置トレイが複数重ね合わされた状態に配 置され、各ウェハ載置トレイの上面には、半導体ウェハを載せるための弾力性のある ウェハ載置クッションシートが取り付けられて、ウェハ載置クッションシートの表面に載 せられた半導体ウェハが、各半導体ウェハとその上側に隣接して重ね合わされたゥ ェハ載置トレイとの間に形成される内側空間内に収納された状態になるように構成さ れたクッションシート付ウェハ収納容器にお!/、て、ウェハ載置クッションシートの表面 には半導体ウェハに対して吸着するウェハ吸着面が形成され、ウェハ載置トレイには 、ウェハ載置クッションシートの裏面に面して開口する複数の底面開口と、複数の底 面開口に連通する空気室と、空気室内に外部から加圧空気を送り込むための給気 口と力 S設けられ、給気口から空気室内に加圧空気を送り込んで空気室内の気圧を上 昇させることにより、ウェハ載置クッションシートが複数の底面開口に面する各領域で 上方に膨らんだ状態に弾性変形して、そのウェハ載置クッションシートのウェハ吸着 面の一部又は全部と半導体ウェハとの間が剥がれた状態になるものである。
[0009] なお、ウェハ載置クッションシートのウェハ吸着面が多数の微細吸盤により形成され ていて、微細吸盤を半導体ウェハに押し付けることにより半導体ウェハが微細吸盤に 吸着固定された状態になるようにしてもよい。 [0010] また、ウェハ載置クッションシートは半導体ウェハの略全面を載せられる大きさに形 成されていて、そのウェハ載置クッションシートの表面側の一部又は全面にウェハ吸 着面が形成されて!/、てもよレ、。
[0011] そして、ウェハ載置トレイに形成されている複数の底面開口と合致する位置だけに ウェハ吸着面が形成されていてもよぐあるいは、ウェハ載置トレイに形成されている 複数の底面開口と合致しなレ、位置だけにウェハ吸着面が形成されて!/、てもよ!/、。
[0012] また、ウェハ吸着面が一様な密度又は部分的に相違する密度でウェハ載置クッシ ヨンシートに形成されていてもよぐその場合に、ウェハ吸着面以外の部分がウェハ 吸着面より窪んで形成されてレ、てもよレ、。
[0013] また、ウェハ載置トレイの上面に気密に吸着するトレイ吸着面がウェハ載置クッショ ンシートの裏面に形成されていてもよぐその場合、ウェハ載置クッションシートのゥェ ハ吸着面とトレイ吸着面の各吸着力に関し、半導体ウェハに対するウェハ吸着面の 吸着力の方がウェハ載置トレイの上面に対するトレイ吸着面の吸着力より小さく設定 されているとよい。
[0014] また、ウェハ載置クッションシートが、トレイ吸着面を有するトレイ吸着機能層と弾力 的なクッションとして機能するクッション機能層とウェハ吸着面を有するウェハ吸着機 能層とを一体に積層して構成されていてもよい。その場合、クッション機能層が弾力 性を有するエラストマ一系高分子材料又は発泡高分子材料により形成されていても よい。
[0015] また、複数の底面開口力 ウェハ載置クッションシートの裏面に対向する領域に偏り なく全体的に配置されていてもよぐウェハ載置トレイに形成されている各底面開口 の形状が中心から周囲に放射状に延びる溝状に形成されてもよい。
[0016] また、半導体ウェハをウェハ載置クッションシートに対して押し付けるための弾力性 のあるウェハ押付クッションシートがウェハ載置トレイの下面側に配置されていてもよ ぐその場合に、ウェハ載置クッションシート及びウェハ押付クッションシートの双方又 は一方の電気的な表面抵抗が 108〜; 101Q Qの範囲にあるとよい。また、複数のウェハ 載置トレイを互いに重ね合わされた状態で任意の重ね位置にお!/、て解除自在に結 合するためのトレイ結合機構が設けられて!/、てもよ!/、。 [0017] また、本発明のクッションシート付ウェハ収納容器は、半導体ウェハを載せて保持 するためのウェハ載置トレイが複数重ね合わされた状態に配置され、各ウェハ載置ト レイの上面には、半導体ウェハを載せるための弾力性のあるウェハ載置クッションシ ートが取り付けられて、ウェハ載置クッションシートの表面に載せられた半導体ウェハ 力 各半導体ウェハとその上側に隣接して重ね合わされたウェハ載置トレイとの間に 形成される内側空間内に収納された状態になるように構成されたクッションシート付ゥ ェハ収納容器において、ウェハ載置クッションシートの表面には半導体ウェハに対し て吸着するウェハ吸着面が形成され、ウェハ載置トレイには、ウェハ載置クッションシ ートの裏面に面して開口する複数の底面開口と、複数の底面開口に連通する空気 室と、外部から空気室内の空気を吸い出すための吸気口とが設けられ、吸気口を通 じて外部から空気室内の空気を吸い出して空気室内の気圧を低下させることにより、 ウェハ載置クッションシートが複数の底面開口に面する各領域で底面開口側に吸い 付けられた状態に弾性変形して、そのウェハ載置クッションシートのウェハ吸着面の 一部又は全部と半導体ウェハとの間が剥がれた状態になるものであってもよぐその 場合には、ウェハ載置トレイに形成されている複数の底面開口と合致する位置だけ にウェハ吸着面が形成されてレ、るとょレ、。
発明の効果
[0018] 本発明によれば、ウェハ載置クッションシートの表面に、半導体ウェハに対して吸 着するウェハ吸着面を形成したことにより、半導体ウェハを常にウェハ載置クッション シート上に吸着固定された状態にすることができ、その結果、半導体ウェハが搬送中 等に破損するおそれがなぐしかも半導体ウェハを常に平坦な状態に保って、状態 変化(平坦な状態と反った状態)の繰り返しによる半導体ウェハの破損発生を防止す ること力 Sでさる。
[0019] そして、半導体ウェハが表面に吸着されたウェハ載置クッションシートをその裏面 側から複数箇所において加圧空気で膨らませる(又は、吸気する)ことにより、ウェハ 載置クッションシートのウェハ吸着面の一部又は全部と半導体ウェハとの間が剥がれ た状態になるので、半導体ウェハを破損することなくウェハ載置クッションシートから 容易に录 IJ離させることカでさる。 図面の簡単な説明
[図 1]本発明に係る第 1の実施の形態のウェハ載置トレイから半導体ウェハが取り外 される際の状態の側面断面図である。
[図 2]本発明に係る第 1の実施の形態のクッションシート付ウェハ収納容器のウェハ 載置トレイが多数重ね合わされた状態の一部を分離して示す斜視図である。
[図 3]本発明に係る第 1の実施の形態の二つのウェハ載置トレイが分離された状態の 側面断面図である。
[図 4]本発明に係る第 1の実施の形態の二つのウェハ載置トレイが結合された状態の 側面断面図である。
[図 5]本発明に係る第 1の実施の形態の半導体ウェハ又はウェハ載置トレイの底面に 対して着脱自在に吸着される吸着機能層の略示断面図である。
[図 6]本発明に係る第 1の実施の形態のウェハ載置トレイからクッションシートが取り外 される状態の側面断面図である。
[図 7]本発明に係る第 1の実施の形態のウェハ載置トレイの図 3における VII— VII断 面図である。
[図 8]本発明に係る第 1の実施の形態のウェハ載置トレイどうしの結合が解かれる状 態の部分断面図である。
[図 9]本発明に係る第 2の実施の形態のウェハ載置トレイから半導体ウェハが取り外 される際の状態の側面断面図である。
[図 10]本発明に係る第 3の実施の形態のウェハ載置トレイから半導体ウェハが取り外 される際の状態の側面断面図である。
[図 11]本発明に係る第 4の実施の形態のウェハ載置トレイに設けられた底面開口の 斜視図である。
[図 12]本発明に係る第 5の実施の形態のウェハ載置クッションシートの平面図である
[図 13]本発明に係る第 5の実施の形態のウェハ載置クッションシートの断面図である
[図 14]本発明に係る第 6の実施の形態のウェハ載置クッションシートの平面図である [図 15]本発明に係る第 7の実施の形態のウェハ載置トレイから半導体ウェハが取り外 される際の状態の部分側面断面図である。
符号の説明
[0021] 1 ウェハ載置トレイ
5 載置クッション (ウェハ載置クッションシート)
5 A クッション機能層
5B トレイ吸着機能層
5C ウェハ吸着機能層
8 結合孔 (トレィ結合機構)
9 結合フック (トレイ結合機構)
11 給気口
I I 吸気口
13 上面
14 下面
15 押付クッション(ウェハ押付クッションシート)
15A クッション機能層
15B 吸着機能層
16 空気室
17 底面開口
20 加圧ポンプ
30 吸気ポンプ
50 ウェハ吸着面
51 非吸着面
W 半導体ウェハ
発明を実施するための最良の形態
[0022] 以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図 2はクッションシート付ウェハ収納容器の全体構成を示しており、半導体ウェハ W を載せて保持するためのウェハ載置トレイ 1が、水平な状態で複数上下に重ね合わ されて配置されている。なお図 2には、複数重ね合わされたウェハ載置トレイ 1の一部 を分離した状態が図示されている。重ね合わされた複数のウェハ載置トレイ 1の上下 両端には、図示されていない機械的インターフェイス装置と結合させるための結合溝 3が形成された一対のベーストレイ 2が取り付けられている。
[0023] 例えばポリカーボネート樹脂等のようなプラスチック材で成形された各ウェハ載置ト レイ 1が重ね合わされることにより、ウェハ載置トレイ 1に載せられた半導体ウェハ Wが 、各ウェハ載置トレイ 1とその上側に隣接して重ね合わされたウェハ載置トレイ 1との 間に形成される内側空間内に収納された状態になる。ただし、半導体ウェハ Wは、ゥ ェハ載置トレイ 1に直接載せられるのではなぐウェハ載置トレイ 1の上面に取り付け られたウェハ載置クッションシート 5 (以下、短く「載置クッション 5」と略称する)に載せ られている。
[0024] 6は、載置クッション 5の周囲をそれより外側位置で全周にわたって囲む状態に配 置された弾力性のある部材からなる環状シール部材。 7は、ウェハ載置トレイ 1を個別 に機械装置で持つことができるように、各ウェハ載置トレイ 1の外縁部の 180° 対称 位置に形成された把持部である。
[0025] 各ウェハ載置トレイ 1の上面の環状シール部材 6より外縁寄りの位置には、そのゥェ ハ載置トレイ 1の上側に位置するウェハ載置トレイ 1と結合させるための結合孔 8が例 えば 4箇所に形成されている。それに対応して、各結合孔 8と係脱自在に係合する結 合フック 9力 ウェハ載置トレイ 1の下面から下方に向けて 4箇所に突出形成されてい
[0026] このように、複数のウェハ載置トレイ 1を互いに重ね合わされた状態で任意の重ね 合わせ位置において解除自在に結合するためのトレィ結合機構が、結合孔 8と結合 フック 9とで構成されている。 10は、結合孔 8と結合フック 9との係合を外すフック外し キー(図示せず)を差し込むためのキー差込孔。 11は、半導体ウェハ Wをウェハ載 置トレイ 1から取り外す際に外部から加圧空気を送り込むための給気口であり、その 詳細については後述する。
[0027] 図 3と図 4は、上下に位置する二つのウェハ載置トレイ 1が分離された状態と重ね合 わされた状態とを示す側面断面図である。ただし、結合フック 9や給気口 11等の断面 を一つの図面で示すために、異なる断面位置の図を複合して図示している。環状シ 一ル部材 6は、各ウェハ載置トレイ 1の上面の外縁より少し内側位置に形成された環 状溝内に下半部が嵌め込まれた状態に配置されている。そして、各ウェハ載置トレイ 1は、環状シール部材 6より内側に位置する部分が上下両面共に下方に落ち込んだ 皿状に形成されて、そこに載置クッション 5が配置されている。
[0028] 載置クッション 5は、全ての部分において半導体ウェハ Wに対し化学的悪影響を及 ぼさない、例えば不純物ガスの発生が規定値以下であるような材料により、半導体ゥ ェハ Wの略全面を載せられる大きさの円盤状に形成されている。そのような載置タツ シヨン 5は、半導体ウェハ Wを外部からの衝撃等から保護する弾力的なクッションとし て機能するクッション機能層 5Aと、ウェハ載置トレイ 1の上面 13に対して着脱自在に 吸着するトレイ吸着面を有するトレイ吸着機能層 5Bと、半導体ウェハ Wに対して着脱 自在に吸着するウェハ吸着面を有するウェハ吸着機能層 5Cとを積層して、三つの 層 5A, 5B, 5Cを積層一体化して構成されている。そのうちのクッション機能層 5Aは 、例えば発泡ウレタン等のような発泡高分子材料又はエラストマ一系高分子材料等 のような弾力性を有する高分子材料により形成されている。
[0029] クッション機能層 5Aの表裏両面に設けられたトレイ吸着機能層 5Bとウェハ吸着機 能層 5Cは各々、例えば周囲に化学的悪影響を及ぼし難いアクリル酸エステル共重 合体からなる発泡アクリルラテックス等のような発泡ゴム系高分子材料、発泡エラスト マー系高分子材料又は発泡ウレタン系高分子材料等で形成されている。そして、図 5に略示されるように、発泡体からなる各吸着機能層 5B, 5Cに多数形成された気泡 5hのうち外気に向かって開口する気泡 5 が各々微細吸盤として機能する。
[0030] したがって、各吸着機能層 5B, 5Cはその露出する面の全面が微細吸盤になって おり(但し、露出面の一部であっても差し支えない)、微細吸盤を吸着相手であるゥェ ハ載置トレイ 1の上面 13又は半導体ウェハ Wに押し付けることにより、微細吸盤がゥ ェハ載置トレイ 1の上面 13又は半導体ウェハ Wに吸着固定された状態になる。なお 、そのような吸着力を確保するために、ウェハ載置トレイ 1の上面 13と半導体ウェハ Wの表面は滑面であることが望ましい。また、各吸着機能層 5B, 5Cの微細吸盤 (気 泡 5h' )の平均直径は 10 m程度以上で 50 H m程度以下であることが望まし!/ヽ。 なお、気泡 5hは連続気泡又は独立気泡のどちらでもよぐ図 5は単純化して略示して ある。
[0031] このような構成により、図 3に示されるように、半導体ウェハ Wがウェハ載置トレイ 1 上に載置された状態においては、載置クッション 5の裏面がウェハ載置トレイ 1の上面 13に気密に吸着固定され、半導体ウェハ Wが載置クッション 5上面のウェハ吸着機 能層 5Cに吸着固定された状態になっている。したがって、二つのウェハ載置トレイ 1 の分離作業や半導体ウェハ Wの検査等の際にウェハ載置トレイ 1が傾いた状態にさ れても、載置クッション 5がウェハ載置トレイ 1上から滑り落ちるおそれがなぐ且つ半 導体ウェハ Wが載置クッション 5上から滑り落ちるおそれもない。また、半導体ウェハ Wが載置クッション 5の上面に吸着固定された状態になることにより、半導体ウェハ W が常に反りのない平坦な状態に保たれるので、半導体ウェハ Wが平坦な状態と反つ た状態を繰り返すことにより破損する現象の発生を未然に防止することができる。
[0032] そのような載置クッション 5は、手で摘んである程度以上の力で引っ張れば、図 6に 示されるように、ウェハ載置トレイ 1の上面 13から簡単に取り外して洗浄したり交換し たりすること力 Sできる。ただし、半導体ウェハ Wを載置クッション 5上から取り外す際に 、それより先に載置クッション 5がウェハ載置トレイ 1から外れてしまうことがないように 、半導体ウェハ Wに対する載置クッション 5のウェハ吸着機能層 5Cの吸着力を、ゥェ ハ載置トレイ 1の上面 13に対する載置クッション 5のトレイ吸着機能層 5Bの吸着力よ り小さく設定しておくとよい。そのようにするには、例えば両吸着機能層 5B, 5Cの気 泡 5hの直径又は密度等を適宜相違させればよ!/、。
[0033] ウェハ載置トレイ 1の下面 14には、半導体ウェハ Wを下側のウェハ載置トレイ 1の載 置クッション 5に対して押し付けるための弾力性のあるウェハ押付クッションシート 15 ( 以下、短く「押付クッション 15」と略称する)が着脱自在に吸着されて!/、る。
[0034] この実施の形態の押付クッション 15は、載置クッション 5と同様に、半導体ウェハ W に対し化学的悪影響を及ぼさない材料により半導体ウェハ Wの所定の領域又は略 全面を押圧できる大きさの円盤状に形成されている。具体的には、弾力的なクッショ ンとして機能するクッション機能層 15Aと、ウェハ載置トレイ 1の下面 14に対して着脱 自在に吸着されるウェハ吸着面を有する吸着機能層 15Bとを積層一体化して構成さ れている。
[0035] この実施の形態の押付クッション 15を形成して!/、るクッション機能層 15Aと吸着機 能層 15Bは、前述の載置クッション 5を形成しているクッション機能層 5Aとトレイ吸着 機能層 5B (又はウェハ吸着機能層 5C)と同じ構成になっている。したがって、押付ク ッシヨン 15はウェハ載置トレイ 1の下面 14に着脱自在に吸着固定することが可能であ る。そして、手で摘んである程度以上の力で引っ張れば、図 6に示されるように、ゥェ ハ載置トレイ 1の下面 14から簡単に取り外して洗浄したり交換したりすることができる
[0036] ただし、載置クッション 5及び押付クッション 15は共に、固定枠等を用いた機械的固 定又は熱融着等の手段によりウェハ載置トレイ 1に固定されて!/、ても差し支えなレ、。 載置クッション 5がウェハ載置トレイ 1の上面 13に(少なくとも外周部分を気密に)固定 されていると、後述する加圧空気の圧力の制限や半導体ウェハ Wとの間の吸着力の 制限等が軽減されるメリットがある。
[0037] 図 3及び図 4に戻って、ウェハ載置トレイ 1の底壁内には空気室 16が前述の給気口
11と連通する状態に形成され、ウェハ載置トレイ 1の上面 13には、空気室 16と直接 連通する複数の底面開口 17が載置クッション 5の裏面のトレイ吸着機能層 5Bに面す る位置に形成されている。
[0038] 複数の底面開口 17は、図 3における VII— VII断面を図示する図 7にも示されるよう に、載置クッション 5の裏面に対向する領域に偏りなく全体的に多数 (例えば、 20〜1 000個程度)配置され、例えばその総面積が半導体ウェハ Wの面積の半分以上ある ように形成されている。空気室 16は、複数の底面開口 17全部に直接連通する一つ の円盤状にウェハ載置トレイ 1をくり抜いた状態に形成されており、空気室 16が外力 で潰れるのを防止する必要がある場合には空気室 16内に柱状体等を適宜配置すれ ばよい。給気口 11は、空気室 16の外周部に直接連通している。
[0039] そのような構成により、図 1に示されるように、加圧ポンプ 20等で給気口 11から空気 室 16内に加圧空気を送り込んで空気室 16内の気圧を上昇させると、載置クッション 5が複数の底面開口 17に面する各領域で外方に膨らんだ状態に弾性変形するので 、載置クッション 5が膨らんだ部分では、その頂部付近以外の領域で載置クッション 5 のウェハ吸着機能層 5Cと半導体ウェハ Wとの吸着状態が剥離する。
[0040] したがって、その後は半導体ウェハ Wを軽い力で載置クッション 5から分離すること ができ、半導体ウェハ Wを破損させることなく載置クッション 5から容易に離脱させるこ と力 Sできる。また、前述のように半導体ウェハ Wを載置クッション 5から剥離させるのよ りさらに大きな力で載置クッション 5を引っ張ると、載置クッション 5をウェハ載置トレイ 1 の上面 13から剥離することができ、載置クッション 5を必要に応じて洗浄したり交換し たりすること力 Sでさる。
[0041] 再び図 3及び図 4に戻って、結合フック 9はウェハ載置トレイ 1の下面 14から突出す る細長い軸部の先端に、外方に L字状に折れ曲がったフック部が一体に形成された 構成になっている。したがって、図 4に示されるように、ウェハ載置トレイ 1をその下位 置のウェハ載置トレイ 1に重なり合う状態に載せて押し付けると、結合フック 9の軸部 が弾性変形しながらフック部が結合孔 8内に入り込んだ後、結合フック 9が弾性変形 前の元の形状に戻る。その結果、結合フック 9のフック部が結合孔 8に抜け出せない 状態に係合して、重なり合う二つのウェハ載置トレイ 1どうしが結合された状態になる
[0042] すると、下側のウェハ載置トレイ 1に取り付けられて!/、る環状シール部材 6が全周に わたって上側のウェハ載置トレイ 1の下面 14で押しつぶされた状態になり、その内側 の半導体ウェハ Wが収容された空間が外部からシールされた状態になる。その結果 、下側のウェハ載置トレイ 1に載せられている半導体ウェハ W力 下側の載置クッショ ン 5と上側の押付クッション 15との間に弾力的に挟み付けられた状態になって、外部 力 の衝撃等の影響を直接受けることなく安全に保持される。
[0043] このようにして、半導体ウェハ Wを載せたウェハ載置トレイ 1を適宜の数だけ重ね合 わせて結合させた状態で安全に搬送及び保管することができる。そして、ウェハ載置 トレイ 1を分離する際には、図 8に示されるように、図示されていないフック外しキーを キー差込孔 10から差し込んで結合フック 9の軸部を弾性変形させる。それによつて、 結合フック 9が結合孔 8から外れる状態になるので、上側のウェハ載置トレイ 1を持ち 上げて下側のウェハ載置トレイ 1と分離することができる。 [0044] ところで、半導体ウェハ Wの電気的な表面抵抗は一般に 109 Ω程度であり、半導体 ウェハ Wの表裏両面に接触する載置クッション 5と押付クッション 15の表面抵抗をそ れと同程度にすることで、半導体ウェハ Wとの接触面へのゴミの付着や半導体ウェハ Wに形成された電子回路への電気的悪影響等を抑制することができる。したがって、 載置クッション 5と押付クッション 15の双方又は一方の表面抵抗が 108〜; 101Q Qの範 囲にあるとよぐ最も望ましくは、載置クッション 5と押付クッション 15の表面抵抗が共 に半導体ウェハ Wと同じ 109 Ω程度であるとよい。
[0045] 図 9と図 10は、本発明に係る第 2と第 3の実施の形態であって、ウェハ載置トレイ 1 力、ら半導体ウェハ Wが取り外される際の状態を示しており、各々載置クッション 5のゥ ェハ吸着機能層 5Cの一部の領域だけが半導体ウェハ Wに吸着するウェハ吸着面 5 0であって、残りの領域は半導体ウェハ Wに吸着しない非吸着面 51になっている。図 9に示される第 2の実施の形態では、ウェハ載置トレイ 1に形成されている複数の底 面開口 17と合致する位置だけにウェハ吸着面 50が形成され、図 10に示される第 3 の実施の形態では、ウェハ載置トレイ 1に形成されている複数の底面開口 17と合致 しない位置だけにウェハ吸着面 50が形成されている。このように構成することにより、 半導体ウェハ Wと載置クッション 5との剥離が給気口 11からの加圧空気吹き込みでよ り容易に行われる。
[0046] 図 11は、本発明に係る第 4の実施の形態の底面開口 17の一つを示している。この 実施の形態においては、ウェハ載置トレイ 1に形成されている各底面開口 17が十字 の溝状に形成されている。 17aは、空気室 16に通じる通気孔である。底面開口 17を このような形状に形成すると、加圧空気の圧力が底面開口 17から載置クッション 5に 作用した時、載置クッション 5が底面開口 17に沿う部分力も徐々に変形して、次第に その周辺に変形が広がりながら半導体ウェハ Wと載置クッション 5が緩やかに剥離す るので、半導体ウェハ Wに加わる衝撃を小さくすることができる。なお、底面開口 17 を、渦巻き溝状又は真っ直ぐな多数の放射溝状等のように中心から周辺に放射状に 延びる溝状に形成しても同様の作用効果が得られる。
[0047] 図 12は、本発明に係る第 5の実施の形態の載置クッション 5のウェハ吸着機能層 5 Cを示している。この実施の形態においては、載置クッション 5の全面が半導体ウェハ Wに吸着するウェハ吸着面 50なのではなぐウェハ吸着面 50が等間隔に一様な密 度で形成されて、残りの部分が半導体ウェハ Wに吸着しない非吸着面 51になってい る。図 13にその断面が図示されているように、ウェハ吸着機能層 5Cの表面に凹凸を 形成すれば、凸部がウェハ吸着面 50になって、凹部(即ち、窪んだ部分)は非吸着 面 51になる。或いは、熱加工等で非吸着面 51を形成することもできる。このようにし て、ウェハ吸着面 50の密度を適宜選択することにより、ウェハ吸着機能層 5Cの吸着 力を任意に設定することができる。また、ウェハ吸着面 50を領域によって相違する密 度で形成してもよい。また、図 14に示される第 6の実施の形態のように、ウェハ吸着 面 50を網の目状に連続的に形成してもよい。
[0048] 図 15は、本発明に係る第 7の実施の形態を示している。この実施の形態において は、ウェハ載置トレイ 1の給気口 11に代えて、外部から空気室 16内の空気を吸い出 すための吸気口 I が設けられている。その結果、吸気口 I を通じて吸引ボン プ 30等で空気室 16内の空気を吸い出し、空気室 16内の気圧を低下させることによ り、載置クッション 5が複数の底面開口 17に面する各領域で底面開口 17側に吸い付 けられた状態に弾性変形して、その載置クッション 5のウェハ吸着機能層 5Cの一部 又は全部と半導体ウェハ Wとの間が剥がれた状態になる。なお、この実施の形態に おいては、図 9に示される第 2の実施の形態と同様に、ウェハ載置トレイ 1に形成され ている複数の底面開口 17と合致する位置だけにウェハ吸着面 50を形成しておくの がよい。
[0049] また、次の(1)〜(8)の各項目の内容についても、前述の各実施の形態と同様の構 成を第 7の実施の形態において採用することができる。
(1)ウェハ載置トレイ 1の上面 13に気密に吸着するトレイ吸着面(5B)が載置クッシ ヨン 5の裏面に形成されて!/、る。
(2)載置クッション 5のウェハ吸着面(5C)とトレイ吸着面(5B)の各吸着力に関し、 半導体ウェハ Wに対するウェハ吸着面(5C)の吸着力の方がウェハ載置トレイ 1の上 面 13に対するトレイ吸着面(5B)の吸着力より小さく設定されている。
(3)載置クッション 5が、トレイ吸着面を有するトレイ吸着機能層 5Bと、弾力的なタツ シヨンとして機能するクッション機能層 5Aと、ウェハ吸着面を有するウェハ吸着機能 層 5Cとを一体に積層して構成されている。
(4)クッション機能層 5Aが弾力性を有するエラストマ一系高分子材料又は発泡高 分子材料により形成されてレ、る。
(5)複数の底面開口 17が、載置クッション 5の裏面に対向する領域に偏りなく全体 的に配置されている。
(6)半導体ウェハ Wを載置クッション 5に対して押し付けるための弾力性のある押付 クッション 15がウェハ載置トレイ 1の下面 14側に配置されている。
(7)載置クッション 5及び押付クッション 15の双方又は一方の電気的な表面抵抗が 108〜; 101Q Qの範囲にある。
(8)複数のウェハ載置トレイ 1を互いに重ね合わされた状態で任意の重ね位置に ぉレ、て解除自在に結合するためのトレィ結合機構 8, 9が設けられて!/、る。
なお、本発明は上記各実施の形態に限定されるものではなぐ例えば、トレイ結合 機構は、結合フック 9を結合孔 8に係合させる構造に限らず、それ以外のどのような構 造のものであっても差し支えな!/、。

Claims

請求の範囲
[1] 半導体ウェハを載せて保持するためのウェハ載置トレイが複数重ね合わされた状 態に配置され、上記各ウェハ載置トレイの上面には、上記半導体ウェハを載せるた めの弾力性のあるウェハ載置クッションシートが取り付けられて、上記ウェハ載置タツ シヨンシートの表面に載せられた上記半導体ウェハが、上記各半導体ウェハとその 上側に隣接して重ね合わされたウェハ載置トレイとの間に形成される内側空間内に 収納された状態になるように構成されたクッションシート付ウェハ収納容器において、 上記ウェハ載置クッションシートの表面には上記半導体ウェハに対して吸着するゥ ェハ吸着面が形成され、
上記ウェハ載置トレイには、上記ウェハ載置クッションシートの裏面に面して開口す る複数の底面開口と、上記複数の底面開口に連通する空気室と、上記空気室内に 外部から加圧空気を送り込むための給気口とが設けられ、
上記給気口から上記空気室内に加圧空気を送り込んで上記空気室内の気圧を上 昇させることにより、上記ウェハ載置クッションシートが上記複数の底面開口に面する 各領域で上方に膨らんだ状態に弾性変形して、そのウェハ載置クッションシートのゥ ェハ吸着面の一部又は全部と上記半導体ウェハとの間が剥がれた状態になることを 特徴とするクッションシート付ウェハ収納容器。
[2] 請求の範囲 1のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記ウェハ載置クッシ ヨンシートのウェハ吸着面が多数の微細吸盤により形成されて!/、て、上記微細吸盤を 上記半導体ウェハに押し付けることにより上記半導体ウェハが上記微細吸盤に吸着 固定された状態になるクッションシート付ウェハ収納容器。
[3] 請求の範囲 1のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記ウェハ載置クッシ ヨンシートは上記半導体ウェハの略全面を載せられる大きさに形成されていて、その ウェハ載置クッションシートの表面側の一部又は全面に上記ウェハ吸着面が形成さ れて!/、るクッションシート付ウェハ収納容器。
[4] 請求の範囲 3のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記ウェハ載置トレイ に形成されている上記複数の底面開口と合致する位置だけに上記ウェハ吸着面が 形成されているクッションシート付ウェハ収納容器。
[5] 請求の範囲 3のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記ウェハ載置トレイ に形成されてレ、る上記複数の底面開口と合致しなレ、位置だけに上記ウェハ吸着面 が形成されているクッションシート付ウェハ収納容器。
[6] 請求の範囲 3のクッションシート付ウェハ収納容器にお!/、て、上記ウェハ吸着面が 一様な密度又は部分的に相違する密度で上記ケ ートに形成さ れて!/、るクッションシート付ウェハ収納容器。
[7] 請求の範囲 6のクッションシート付ウェハ収納容器にお!/、て、上記ウェハ吸着面以 外の部分が上記ウェハ吸着面より窪んで形成されて!/ ート付ウェハ収 納容器。
[8] 請求の範囲 1のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記ウェハ載置トレイ の上面に気密に吸着するトレイ吸着面が上記ゥ: ートの裏面に形 成されてレ、るクッションシート付ウェハ収納容器。
[9] 請求の範囲 8のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記ウェハ載置クッシ ヨンシートのウェハ吸着面とトレイ吸着面の各吸着力に関し、上記半導体ウェハに対 する上記ウェハ吸着面の吸着力の方が上記ウェハ載置トレイの上面に対する上記ト レイ吸着面の吸着力より小さく設定されているクッションシート付ウェハ収納容器。
[10] 請求の範囲 8のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記ウェハ載置クッシ ヨンシートが、上記トレィ吸着面を有するトレイ吸着機能層と弾力的なクッションとして 機能するクッション機能層と上記ウェハ吸着面を有するウェハ吸着機能層とを一体に 積層して構成されているクッションシート付ウェハ収納容器。
[11] 請求の範囲 10のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記クッション機能 層が弾力性を有するエラストマ一系高分子材料又は発泡高分子材料により形成され て!/、るクッションシート付ウェハ収納容器。
[12] 請求の範囲 1のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記複数の底面開口 力 上記ウェハ載置クッションシートの裏面に対向する領域に偏りなく全体的に配置 されて!/、るクッションシート付ウェハ収納容器。
[13] 請求の範囲 1のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記ウェハ載置トレイ に形成されている上記各底面開口の形状が中心から周囲に放射状に延びる溝状に 形成されているクッションシート付ウェハ収納容器。
[14] 請求の範囲 1のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記半導体ウェハを 上記ウェハ載置クッションシートに対して押し付けるための弾力性のあるウェハ押付 クッションシートが上記ウェハ載置トレイの下面側に配置されているクッションシート付 ウェハ収納容器。
[15] 請求の範囲 14のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記ウェハ載置タツ シヨンシート及び上記ウェハ押付クッションシートの双方又は一方の電気的な表面抵 抗が 108〜 101。 Ωの範囲にあるクッションシート付ウェハ収納容器。
[16] 請求の範囲 1のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記複数のウェハ載 置トレイを互いに重ね合わされた状態で任意の重ね位置にお!/、て解除自在に結合 するためのトレイ結合機構が設けられているクッションシート付ウェハ収納容器。
[17] 半導体ウェハを載せて保持するためのウェハ載置トレイが複数重ね合わされた状 態に配置され、上記各ウェハ載置トレイの上面には、上記半導体ウェハを載せるた めの弾力性のあるウェハ載置クッションシートが取り付けられて、上記ウェハ載置タツ シヨンシートの表面に載せられた上記半導体ウェハが、上記各半導体ウェハとその 上側に隣接して重ね合わされたウェハ載置トレイとの間に形成される内側空間内に 収納された状態になるように構成されたクッションシート付ウェハ収納容器において、 上記ウェハ載置クッションシートの表面には上記半導体ウェハに対して吸着するゥ ェハ吸着面が形成され、
上記ウェハ載置トレイには、上記ウェハ載置クッションシートの裏面に面して開口す る複数の底面開口と、上記複数の底面開口に連通する空気室と、外部から上記空気 室内の空気を吸い出すための吸気口とが設けられ、
上記吸気口を通じて外部から上記空気室内の空気を吸い出して上記空気室内の 気圧を低下させることにより、上記ウェハ載置クッションシートが上記複数の底面開口 に面する各領域で上記底面開口側に吸い付けられた状態に弾性変形して、そのゥ ェハ載置クッションシートのウェハ吸着面の一部又は全部と上記半導体ウェハとの間 が剥がれた状態になることを特徴とするクッションシート付ウェハ収納容器。
[18] 請求の範囲 17のクッションシート付ウェハ収納容器において、上記ウェハ載置トレ ィに形成されている上記複数の底面開口と合致する位置だけに上記ウェハ吸着面 が形成されているクッションシート付ウェハ収納容器。
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