WO2007097154A1 - 液体塗布装置及びそのメンテナンス方法 - Google Patents

液体塗布装置及びそのメンテナンス方法 Download PDF

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WO2007097154A1
WO2007097154A1 PCT/JP2007/051159 JP2007051159W WO2007097154A1 WO 2007097154 A1 WO2007097154 A1 WO 2007097154A1 JP 2007051159 W JP2007051159 W JP 2007051159W WO 2007097154 A1 WO2007097154 A1 WO 2007097154A1
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tank
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PCT/JP2007/051159
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Katsuaki Komatsu
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Konica Minolta Holdings, Inc.
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • B41J2202/12Embodiments of or processes related to ink-jet heads with ink circulating through the whole print head

Definitions

  • the present invention relates to a liquid application apparatus and a maintenance method thereof.
  • a liquid crystal display device displays an image by adjusting light transmittance of liquid crystal using an electric field.
  • liquid crystal is driven by an electric field formed between a pixel electrode disposed to face the upper and lower substrates and a common electrode.
  • a liquid crystal display device has a thin film transistor array substrate (lower plate) and a color filter / array substrate (upper plate) which are bonded to face each other, and a cell gap is fixed between these two substrates. And a liquid crystal in which the cell gap is filled.
  • a thin film transistor array substrate is composed of a large number of signal lines and thin film transistors, and an alignment film applied thereon for liquid crystal alignment.
  • Color filter 'array substrate is composed of color filters for color realization, black' matrices for light leakage prevention, and an alignment film applied thereon for liquid crystal alignment.
  • this spacer has been sprayed by a spray method or the like onto a substrate using a spacer spraying device.
  • the spacers tend to be unevenly distributed.
  • the display quality may be degraded.
  • the TFT is likely to be damaged when a force is applied to the substrate.
  • the spacer By printing or to supply it to a specific position using a dispenser inkjet device.
  • the supply by the ink jet apparatus can be performed by arranging one spacer at a nearly accurate position, and using an ink jet head having a large number of nozzles can simultaneously perform a large number of operations. Since the spacer of can be placed at the specified position, it has the advantage of good productivity.
  • a solvent which discharges the spacer using a large particle such as a large diameter particle having a diameter of several meters, which is different from the ordinary colored liquid. It will be done.
  • the spacer it is necessary for the spacer to be uniformly mixed in the discharge liquid supplied to the ink jet head. It also needs to be uniform inside the head.
  • the spacers are not uniformly dispersed in the discharge liquid, the discharge becomes unstable and discharge failure occurs, or the number of discharge liquid spacers is stabilized due to concentration fluctuation. It is easy to cause problems in such discharge characteristics. For this reason, it is necessary to stir in a tank for supplying a solvent containing a spacer to be a discharge liquid so that the spacer can be uniformly dispersed in the solvent.
  • an apparatus for simultaneously supplying liquid crystal and a spacer there is an apparatus for simultaneously supplying liquid crystal and a spacer.
  • a stirring apparatus by a motor driven screw is attached to a tank for supplying a liquid crystal containing a force spacer and agitation is performed.
  • the spacers are dispersed uniformly in the liquid crystal (see, for example, Patent Document 1).
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-281562
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-66215
  • a liquid in which large diameter particles are dispersed such as a liquid mixed with spacer particles for a liquid crystal panel while being subjected to pressure, especially in the inside of the head.
  • the present invention suppresses the sedimentation and aggregation of particles dispersed in a liquid, prevents discharge failure and concentration fluctuation during liquid discharge, and stably and accurately discharges a liquid from a head, and a liquid applicator The purpose is to provide a maintenance method.
  • a plurality of pressure chambers communicating with each of the plurality of nozzles
  • a head having a piezoelectric element provided corresponding to each of the pressure chambers to change the volume of the pressure chambers, a common liquid chamber in communication with the plurality of pressure chambers,
  • a liquid tank having means for storing the liquid and promoting dispersion of the particles; a first liquid flow path connecting the common liquid chamber and the liquid tank;
  • a liquid applying apparatus comprising: a means for circulating the liquid in a circulation flow path including the common liquid chamber, the first liquid flow path, the liquid tank, and the second liquid flow path.
  • the liquid application device wherein the means for promoting the dispersion of the particles has an ultrasonic wave generator for giving an ultrasonic wave to the particles.
  • the liquid described in 1 or 2 is characterized in that the means for circulating the liquid has liquid delivery means provided in at least one of the first liquid flow path and the second liquid flow path. Coating device.
  • the maintenance method for a liquid application device according to any one of 1 to 3, wherein the liquid is not circulated in the circulation channel during the discharge of the liquid for applying the nozzle.
  • a maintenance method of a liquid application apparatus wherein the liquid is circulated in the circulation channel during a period in which the liquid for application of the nozzle force is not discharged.
  • a driving waveform to such an extent that the liquid is not discharged from the nozzle is applied to the piezoelectric element, and the method for maintaining a liquid application device according to 4. 6.
  • the sweep of the drive frequency is from 1 kHz to 1 ZAL (AL is the acoustic resonance period of the pressure chamber 1 Z
  • a cloth device and its maintenance method can be provided.
  • FIG. 1 is a perspective view showing the main part of a liquid application device 100.
  • FIG. 1 is a perspective view showing the main part of a liquid application device 100.
  • FIG. 2 is a perspective view of a head of the liquid application device 100.
  • FIG. 3 (a) is a plan view showing the thin film transistor array substrate, and (b) is a cross sectional view showing the thin film transistor 'array substrate cut along the line III-III' in (a).
  • FIG. 4 is a conceptual diagram of an embodiment of a liquid supply system of the liquid application device 100.
  • FIG. 5] (a) to (c) are cross-sectional views showing the operation at the time of liquid discharge of the head.
  • FIG. 6 A timing chart of pulse waveforms applied to the pressure chamber and the air chamber at the time of liquid discharge.
  • FIG. 7 is a timing chart of pulse waveforms applied to the pressure chamber and the air chamber when the liquid meniscus in the nozzle 13 slightly vibrates.
  • FIG. 9 is a flowchart showing the specific operation of the liquid application apparatus.
  • FIG. 10 is a perspective view of another embodiment of the head of the liquid application device.
  • FIG. 1 is a perspective view showing the main part of the liquid application apparatus according to the present invention and the liquid application apparatus This will be described with reference to FIG. 2 which is a perspective view of the head used in FIG. In addition.
  • FIG. 2 is a schematic diagram of the head, and electrodes and the like are omitted.
  • 1 is a carriage, which is coupled to a part of the timing belt 2, is driven by forward and reverse rotation of a carriage motor 3, is guided by a guide member 4, and an arrow X in FIG. As shown in FIG. 1, it is configured to be able to reciprocate in parallel along the platen unit 5.
  • Reference numeral 7 denotes a head for discharging a liquid in which spacer particles are dispersed, and has a large number of nozzles 13 for liquid discharge formed in a direction perpendicular to the transport direction of the thin film transistor array substrate 6. It is configured integrally with 1.
  • a plurality of cylindrical pressure chambers 80 and a plurality of air chambers 80A partitioned by a partition formed of piezoelectric elements are alternately formed, and the pressure chambers 80 are respectively connected to the common liquid chamber 8 at one end. It is in fluid communication with the liquid.
  • the other end of each pressure chamber 80 communicates with the plurality of nozzles 13 formed on the nozzle surface 17, and the liquid pressurized by the piezoelectric element in each pressure chamber 80 is discharged from each nozzle 13. It has become so.
  • Each of the air chambers 80A does not communicate with the common liquid chamber 8 at one end so that no liquid flows.
  • the other end of each air chamber 80A is not formed with the plurality of nozzles 13 of the nozzle surface 17.
  • the flow path may be one in which one functioning as a pressure chamber to which the liquid is supplied and one functioning as an air chamber not to which the liquid is supplied may be alternately arranged. Also, it may be made to function as a pressure chamber altogether without providing an air chamber. In the former case, even if the partition of the pressure chamber is sheared, it is easy to drive the partition without affecting other adjacent pressure chambers.
  • a head of a type driven by a piezoelectric element is used.
  • a supply port and a discharge port are formed, and the supply port is communicated with the first liquid connection port 9, and the discharge port is communicated with the second liquid communication port 10.
  • the common fluid chamber 8 is configured to be part of the fluid circulation path.
  • a large number of nozzles 13 from which the liquid is discharged are disposed to face the platen unit 5, and apply the thin film transistor ′ array substrate 6 on the top of the stage 5.
  • arrows in Figure 4 The liquid flows in the mark direction, the liquid is supplied to the head 7 from the first liquid connection port 9, the liquid from the common liquid chamber 8 in the head passes through the second liquid communication port 10, and the sub tank 40 (see FIG. 4). Returned to ic o.
  • the thin film transistor 'array substrate 6 is shown by the transfer motor 11 together with the ⁇ stage 5
  • [0028] 14 is a capping means provided with a suction cap 16 for covering the nozzle surface 17 of the head 7, and is provided outside the area where the thin film transistor array substrate is transported. Further, the capping means 14 has a function as a liquid recovery means for recovering the liquid discharged from the head 7.
  • a cleaning unit 15 abuts on the nozzle surface 17 of the head 7 to clean the carriage 1 as the carriage 1 reciprocates. Also, the cleaning means 15 is provided outside the area where the thin film transistor array substrate is transported, as with the capping means 14, and is closer to the area where the thin film transistor array substrate is transported than the capping means 14. It is located in
  • [0030] 18 is a control means comprising a CPU (central processing unit), work memory and the like, and a series of operations of the liquid application apparatus 100, for example, drive of the transport motor, movement of the head 7, discharge of droplets, caving Control the capping operation and the like by means 14. Furthermore, the control means 18 is configured to include control of liquid circulation and the like according to the present invention.
  • the reference numeral 18 includes a drive signal generator 500 (see FIG. 5) provided with a circuit for generating an ejection pulse and a micro-vibration pulse described later.
  • Reference numeral 19 denotes a cable, which achieves an electrical connection between the connector 12 of the head 7 and the control means 18.
  • Reference numeral 21 denotes a waste liquid tank for storing the liquid predischarged from the head 7 and collected by the capping means 14.
  • a home position sensor 22 is a photoelectric sensor or the like, which senses the side surface of the carriage 1 and detects the standby position of the carriage 1, that is, the position where the nozzle surface 17 of the head 7 is covered by the capping means 14. .
  • the liquid application device 100 supplies power when the device is stopped.
  • a backup power supply device capable of performing the necessary operation is provided even when the device is shut down, even when the device is shut down.
  • the head 7 located at the capping position is moved to the start position of the application area by the carriage motor 3 based on the control signal indicating the application start from the control means 18 and the position is set. Fix it.
  • an electric signal based on the discharge data from the control means 18 is applied to the piezoelectric element of the head 7, the liquid in which the spacer particles are dispersed is discharged from a suitable nozzle, Apply to array substrate 6.
  • the thin film transistor 'array substrate 6 is fed in the direction of the arrow Y in accordance with the discharge of the liquid from the head 7, and the above-described coating operation is continued until the processing associated with the predetermined discharge data is completed.
  • the dispersion liquid of the spacer 82 is applied to a predetermined area (see FIGS. 3 (a) and 3 (b) described later), and the solvent is volatilized to evaporate the solvent 82. It becomes possible to arrange in the area.
  • the spacer 82 used in the present embodiment can be used as long as it has a diameter that can be discharged from the nozzle of the head 7.
  • the diameter of the spacer is different depending on the purpose of use, but in the case of a liquid crystal display element, it is set in accordance with the thickness (cell thickness) of the liquid crystal layer sealed in the liquid crystal device. Ru.
  • the diameter is defined by the volume average particle size.
  • the diameter of the nozzle 13 of the head 7 is ⁇ 20 to 30 (m), which is about 5 to 8 times the diameter of the spacer particle. Much larger than the pigment particle size ( ⁇ 0.1 m) of general pigment dispersion ink.
  • the volume average particle size can be measured with a laser type particle size distribution measuring apparatus LA-920 (manufactured by Horiba, Ltd.) or Multitizer-III (manufactured by Coulter Co.).
  • these spacers 82 can be formed of, for example, spherical members made of a resin such as silicon dioxide or polystyrene.
  • any volatile organic solvent or aqueous solvent or a mixed solvent thereof can be used, as long as the liquid can be ejected from the head 7.
  • the ratio of the spacer to the solvent should be set appropriately within the range that can be discharged from the nozzle of the head 7.
  • the density of the spacer is low!
  • the one with one spacer is necessary because one droplet should contain one or more particles. 20% by volume or less is more preferable, with a product% or more being preferable.
  • the volume ratio of a 15 pl droplet to a spherical spacer particle of ⁇ 4 m is 434: 1, and 1 volume% contains an average of 4 spherical spacer particles per drop. Become.
  • water, isopropyl alcohol, ethanol or the like is selected as a single solvent or a mixed solvent of two or more kinds, and the spacer 82 is made uniform at a predetermined concentration by ultrasonic waves or the like.
  • FIG. 3 (a) is a plan view showing the thin film transistor 'array substrate 6 according to the embodiment, and FIG. 3 (b) shows the thin film transistor' array substrate 6 cut along the line III- 'of FIG. 3 (a).
  • FIG. 3 (b) shows the thin film transistor' array substrate 6 cut along the line III- 'of FIG. 3 (a).
  • the thin film transistor 'array substrate 6 has gate lines 52 selectively formed on the lower substrate 51 so as to have different widths, and gate lines 52.
  • a data line 154 formed to intersect with the gate insulating film 62, a thin film transistor 81 formed at each intersection, and a pixel electrode 72 formed in the pixel region 84 provided in the intersection structure.
  • a storage capacitor 79 formed in the overlapping portion of the pixel electrode 72 and the gate line 52, and a spacer 82 formed to overlap the gate line 52.
  • the gate line 52 supplies a gate signal to the gate electrode 56 of the thin film transistor 81.
  • the gate line 52 includes a line portion 52a defining the pixel area 84, and a protrusion 52b protruding from the line portion 52a.
  • the line portion 52a is formed to have a width dl, and prevents the decrease in the aperture ratio of the pixel electrode 72 due to the protruding portion 52b.
  • the protrusion 52 b is formed to have a relatively wider width d 2 than the line 52 a in a region where the spacer 82 is formed by being jetted by the liquid application device 100.
  • the protrusions 52b may have a width of about 30 to 50 ⁇ m parallel to the data line 154 and a width of about 30 to 50 ⁇ m perpendicular to the data line 154.
  • the protrusion 52b may be formed in a circular shape wider than the width of the circular spacer 82.
  • the spacers 82 maintain the cell gap between the thin film transistor 'array substrate 6 and the color filter' array substrate.
  • Such a spacer 82 is formed by using the liquid coating device 100 in the projecting area of the gate line 52 which is overlapped with the color filter 'array substrate black'matrices' (not shown). That is, the spacer 82 is a storage 'capacitor 7 It is formed to overlap 8.
  • the spacer 82 is an ideal means because spacer particles can be arranged at such a specific place.
  • FIG. 4 is a conceptual view showing an embodiment of a liquid supply system applied to the liquid application apparatus according to the present invention.
  • the first liquid flow channel 23 and the second liquid flow channel 25 are flow channels shielded from the atmosphere, and the liquid used is a liquid in which spacer particles are dispersed.
  • Reference numeral 40 denotes a sub-tank having an air communication hole, in which a liquid in which spacer particles are dispersed is stored, and the liquid circulates through the liquid flow path.
  • a sub tank 40 is provided. It is done. Then, a valve 54 and a pump 30 for pumping the liquid from the liquid tank 20 to the sub tank 40 are provided between the liquid tank 20 and the sub tank 40! /.
  • the liquid is circulated to the first liquid flow path 23 which is a liquid supply flow path for supplying the liquid from the sub tank 40 which is a liquid tank to the first liquid connection port 9 of the head 7.
  • a pump 24 is provided which is an example of a means for causing the liquid to be pumped to feed the liquid to the head 7. That is, the subtank 40, the first liquid flow path 23 and the pump 24 cooperate to function as a liquid supply means.
  • the pump 24 is stopped during the discharge of the liquid for the nozzle coating and does not circulate the liquid in the circulation flow path.
  • the pump 24 is configured such that the first liquid flow path 23 can be communicated when the pump 24 is stopped.
  • the liquid flows back to the subtank 40 through the second liquid flow path 25 which is a liquid discharge flow path through which the liquid flows back from the second liquid connection port 10 to the subtank 40.
  • a suction pump 28 is provided in the middle of the flow path of the capping means 14 to the waste liquid tank 21, and the liquid in the capping means 14 and the liquid 13 from the nozzle 13 of the head 7 are suctioned to form a waste tank 21.
  • the pump 24 and the suction pump 28 have a flexible flow path, and a pressing member such as a plurality of rollers sequentially squeezes a part of the tube in the longitudinal direction of the tube to squeeze the liquid.
  • the fluid type and various other known types may be used.
  • reference numeral 201 denotes a stirring screw provided in the liquid tank 20
  • reference numeral 401 denotes a stirring screw provided in the sub tank 40
  • reference numeral 202 denotes ultrasonic vibration provided in the liquid tank 20.
  • a piezoelectric element 402 is a piezoelectric element attached to the sub tank 40 for generating ultrasonic vibration.
  • the stirring screw 401 is installed in the liquid in the sub tank 40, and the stirring screw 201 is installed in the liquid in the liquid tank 20, and each motor is rotated at high speed.
  • the stirring screw 201 and the stirring screw 401 are always rotated regardless of the liquid discharge from the head 7.
  • the rotation of the stirring screw imparts a shearing force to the liquid stored in the sub-tank 40 and the liquid tank 20 to prevent aggregation of the spacer particles contained in the liquid.
  • the piezoelectric element 202 generating ultrasonic vibration is brought into contact with the liquid tank 20, and the piezoelectric element 402 generating ultrasonic vibration is brought into contact with the sub tank 40, and the liquid is stored in the sub tank 40 and the liquid tank 20.
  • ultrasonic vibration By constantly applying ultrasonic vibration to the liquid, aggregation of the spacer particles in the liquid is further prevented.
  • an ultrasonic wave generator used here it is not necessary to prepare a special one, and it is not necessary to use a known ultrasonic wave generator.
  • both shear force by the stirring screw and ultrasonic waves are applied to the liquid. Either one of them is effective. In particular, ultrasound is effective.
  • the stirring screw 401 and the piezoelectric element 402 are an example of a means for promoting the dispersion of the particles in the present invention.
  • the sub tank 40 since the shear force and the ultrasonic wave are given to the liquid, it is stored in the sub tank 40 !, even if the dispersion state of the spacer particles contained in the liquid becomes unstable. It is dispersed, and the liquid is supplied to the head 7 in the best dispersed state. Therefore, good liquid discharge and application are always made.
  • a rotating member such as a stirring screw which is also used in a common dispersing machine.
  • a system for circulating the liquid in the circulation flow path including the common liquid chamber 8, the first liquid flow path 23, the subtank 40 and the second liquid flow path 25 of the head 7 as described above is By forming at the same time, since the liquid is circulated through the head 7 even when discharge for coating the substrate 6 is performed, the above-mentioned re-dispersion works more effectively. For this reason, it is possible to suppress sedimentation and aggregation of particles dispersed in the liquid, to prevent discharge failure and concentration fluctuation at the time of liquid discharge, and to stably discharge the liquid from the head with high accuracy.
  • a piezoelectric element is attached to a tank, and ultrasonic waves are generated and agitated by driving this with a voltage waveform of a predetermined frequency.
  • ultrasonic wave generating means may be arranged.
  • the ultrasonic agitation suppresses the settling and floating of the spacer and disperses the solution uniformly in the liquid, and also suppresses the aggregation of the spacers, and adhesion of the spacer to the tank wall surface is achieved. Restrain.
  • the liquid application device 100 at least when the liquid application device 100 is stopped, at least when the liquid application device 100 is stopped, in order to more effectively prevent settling and aggregation of spacer particles in the head and in the vicinity of the nozzle when the liquid application device 100 is stopped.
  • Such a storage solution is removed at the time of activation of the liquid application apparatus 100 by being replaced with the liquid in which the spacer particles are dispersed.
  • the storage solution uses one having substantially the same components as the liquid excluding the spacer particles.
  • the head 7 is normally connected to the sub tank 40 via the liquid flow paths 25 and 23, and the like, and the liquid can be supplied from the sub tank 40 to the head 7 so as to be able to be supplied.
  • the switching valves 405 and 406 are switched to the storage fluid channels 407 and 408 side, the nozzle surface 17 of the head 7 is sealed by the capping means 14, and the suction pump is connected to the cap.
  • the storage solution tank 403 force is also a head filled with the storage solution via the storage solution flow paths 407, 405, 10 and 408, 406, 9 7 Pour into the solution and completely replace the storage solution with the liquid in which the spacer particles are dispersed.
  • the waste fluid generated at this time is stored in the waste fluid tank 21 through the suction pump 28. Will be held.
  • the switching valves 405 and 406 are switched to the liquid flow paths 23 and 25 side, the nozzle surface 17 of the head 7 is sealed by the capping means 14, and the capping is performed.
  • the liquid in which the spacer particles are dispersed is made to flow from the subtank 40 into the head 7 filled with the storage liquid, The spacer particles completely displace the dispersed liquid.
  • the waste fluid generated at this time is held in the waste fluid tank 21 via the suction pump 28.
  • the present invention is not limited to the above replacement method, and any method can be used as long as it is a method in which the liquid in which the spacer particles filled in the head 7 are dispersed and the storage solution are almost completely replaced. Such substitution makes it possible to more effectively suppress the sedimentation and aggregation of particles inside the head while the device is at rest.
  • the storage solution is preferably a compound which is the same as or similar to the solvent constituting the liquid in which the spacer particles are dispersed. Since the same or similar compound as the solvent constituting the liquid is used, there is little possibility that the spacer particles will precipitate or aggregate even if the storage liquid is mixed in the liquid to be applied. Become.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the head 7 shown in FIG. 2.
  • FIG. 5 (a) shows the pressure chamber 80 neutral
  • FIG. 5 (b) shows the expansion
  • FIG. 5 (c) shows the contraction.
  • 13 is a nozzle
  • 124 is a cover plate
  • 26 is a substrate
  • 27 is a partition.
  • the pressure chamber 80 and the air chamber 80A are formed by the partition wall 27, the cover plate 124 and the substrate 26 !.
  • the head 7 is separated between the cover plate 124 and the substrate 26 by a plurality of partition walls 27 A, 27 B, 27 C that also function as piezoelectric material such as PZT, which is an electrical-mechanical conversion means. It shows a shear mode (shear mode) type head 7 in which a large number of pressure chambers 80 and air chambers 80A are alternately arranged side by side. In FIG. 5, a number of pressure chambers 80 and three of the air chambers 80A are shown.
  • One end of the pressure chamber 80 (hereinafter, this may be referred to as the nozzle end) is connected to the nozzle 13 formed in the nozzle forming member, and the other end (hereinafter, this may be referred to as the mar-hold end) is a common liquid chamber Connected to eight.
  • the pressure chamber 80, the partition wall 27 in the air chamber 8 OA, and the upper force of both partition walls 27 are connected to the surface of the substrate 26 over the bottom surface of the substrate 2 9A, 29B, 29C are formed in close contact with each other, and the electrodes 29A, 29B, 29C are connected to the drive signal generator 500.
  • an insulating protective film is formed on the surface of each electrode in contact with the liquid.
  • the protective film polyparaxylylene is preferable.
  • the drive signal generation unit 500 outputs a micro-vibration pulse and an ejection pulse.
  • each of the partition walls 27 is a force piezoelectric material constituted of two piezoelectric materials 27a and 27b different in polarization direction as shown by the arrows in FIG. 5 here. Well, it should be at least part of the bulkhead 27.
  • DRR drive method is a typical drive method for share mode type heads.
  • Each pressure chamber 80, each air chamber 80A Figure 6 shows the timing chart of the pulse waveform applied to the
  • a voltage is applied to the electrode of each pressure chamber, and the electrode of each adjacent air chamber is grounded.
  • a discharge pulse of a positive voltage of 1AL width is applied to the pressure chamber, the partition of the pressure chamber is deformed outward, and a negative pressure is generated in the pressure chamber 80. Due to this negative pressure, liquid flows from the subtank 40 into the pressure chamber 80 (Draw).
  • AL Acoustic Length
  • This AL applies a rectangular wave voltage pulse to the partition wall 27 which is an electrical-mechanical conversion means to measure the velocity of the ejected droplet, and makes the rectangular wave voltage value constant to change the rectangular wave pulse width. It is determined as the pulse width at which the droplet's flight velocity is maximized.
  • a noise is a rectangular wave with a constant voltage crest value, and assuming 0V as 0% and a crest voltage of 100%, the width of the panel is the rise 10% of the voltage from 0 V and the crest voltage It is defined as the time between 10% falling from.
  • square wave refers to a waveform in which the rise time and fall time between 10% and 90% of the voltage is within 1Z2, preferably 1Z4, of AL.
  • the voltage ratio VonZVoff between the voltage Von of the first pulse P1 and the voltage Voff of the second pulse P2 is preferably 1.5 or more. This is because, in the present embodiment, the voltage of the micro-vibration pulse described later is set to the same voltage as the voltage Voff of the second pulse P2 of the ejection pulse. By setting the voltage ratio VonZVoff at this time to 1.5 or more.
  • the vibration of the meniscus of the nozzle by the micro-vibration pulse can be set to an appropriate amount, and even when the micro-vibration pulse is applied immediately before and after the ejection pulse, the reverberation of the pressure wave by the ejection pulse and the pressure by the micro-vibration pulse Stable discharge can be realized by appropriately canceling the reverberation of the waves.
  • the voltage ratio at which the dynamic viscosity at the time of liquid discharge becomes lower compared to the static viscosity is large.
  • the liquid contains particles, a remarkable effect is exerted. If the liquid contains a volatile solvent and particles are added, the viscosity of the liquid will rise sharply due to volatilization drying of the liquid solvent, so by applying a micro-vibration pulse, it is possible to Thickening of the liquid can be effectively suppressed.
  • the micro-oscillation pulse that causes micro-vibration to a certain degree without discharging the nozzle force is similar to the case of applying the ejection pulse to the drive signal generation unit 500 shown in FIG. Generated.
  • the micro-vibration pulse consists only of a square wave that is restored after the volume of the pressure chamber is contracted, and includes a square wave with a pulse width of 2AL.
  • the efficiency of micro-oscillating the meniscus is better compared to the method using the trapezoidal wave, and it is possible to vibrate at a low driving voltage. There is an effect that can be designed.
  • since the volume of the pressure chamber is contracted and then returned to its original state it is possible to effectively apply micro-vibration without discharging a droplet from the nozzle.
  • each air chamber 80A is first grounded at the home position etc., and the electrode of each pressure chamber 80 is a micro-vibration pulse consisting of a square wave of positive voltage of 2AL width. Is applied.
  • the pressure chamber is returned to its original state after being contracted, and the meniscus in the nozzle is slightly vibrated so as to push out the nozzle force droplet to such an extent as not to be ejected.
  • the micro-vibration pulse is repeated as necessary in the drive cycle T2.
  • Such a micro-vibration pulse is set to the same voltage as the voltage Voff of the second pulse P2 that constitutes the ejection pulse.
  • Voff voltage of the second pulse P2
  • micro-vibration pulse can be efficiently applied to such an extent that droplets are not discharged from the nozzle that the micro-vibration is too strong.
  • the circuit cost can be reduced by reducing the number of power supply voltages in the drive signal generation unit 500 for generating the discharge pulse and the micro-vibration pulse.
  • the nozzle opening is used even if a liquid containing volatile solvent and particles is used by applying a micro-vibration pulse to the electrode at the home position etc. as described above. Thickening of the nearby liquid can be effectively suppressed.
  • the micro-vibration pulse is a driving waveform that does not eject the liquid by the nozzle force applied to the piezoelectric element in the present specification, and a pressure wave is generated in the pressure chamber filled with the liquid by exciting the piezoelectric element. Good re-dispersion of the spacer particles contained in the liquid in the pressure chamber occurs. Aggregation and sedimentation of the spacer particles can be prevented more effectively.
  • the circulation when performing the circulation, by applying a micro-vibration pulse, vibration is applied to the liquid to be circulated, and in particular, the circulation of the liquid in the dead space of the common liquid chamber is promoted.
  • the effect of preventing aggregation and sedimentation of the spacer particles by circulation can be enhanced.
  • These spacer particles are of various sizes depending on their aggregation. Therefore, as shown in FIG. 8, it is preferable to sweep the drive frequency of the drive waveform of the micro-vibration pulse between 1 kHz and 1 ZAL (AL is 1 Z 2 of the acoustic resonance period of the pressure chamber). It is more preferable to do it.
  • FIG. 8 shows an example of sweeping the drive frequency between 1 kHz and 50 kHz in 1 second over 1 second.
  • the horizontal axis is time, and the vertical axis is the drive frequency of the micro-vibration pulse. is there. Since the AL of head 7 is 5 ⁇ sec, 50 kHz corresponds to 1Z (4AL).
  • the frequency of mechanical vibration is different depending on the size of the spacer particle, because the dispersion effect on the spacer particle and the promoting effect on the circulation of the liquid (the ease of movement of the particle) differ, so the frequency is swept. However, it is effective to disperse and move all kinds of spacer particles by giving vibration.
  • the power is turned on to start the device (Sl).
  • the head 7 has the suction bow I cap 16 of the capping means 14 in close contact with the nozzle surface 17, and the switching valves 405, 406 are selected so that the liquid flows in the storage liquid flow paths 407, 408. It is assumed that
  • the storage solution is replaced with the liquid in which the spacer particles are dispersed (S2).
  • the switching valves 405 and 406 are selected so that the liquid flows in the second liquid flow path 25 and the first liquid flow path 23, respectively.
  • the entire pressure chamber is driven by the drive waveform shown in FIG. 6 to discharge the liquid while suctioning the liquid from the nozzle 13 to perform the purge operation (S3).
  • the capping means 14 is operated to bring the suction cap 16 into close contact with the head 7. Then, the nozzle surface 17 is wiped by the cleaning unit 15 (S4).
  • the suction means 16 of the caving means 14 is operated to bring the suction cap 16 of the caving means 14 into close contact with the nozzle face 17, and all pressure chambers are driven with the drive waveform shown in FIG. ). While sweeping the frequency with the drive waveform shown in FIG. 7 to drive the entire pressure chamber, the pump 24 is driven to perform the circulation operation (S6).
  • This standby operation is an example of the maintenance method according to the present embodiment, and automatically started when the time set by the time detection means such as a timer (not shown) is exceeded even if the user starts it manually. Even if I let it start, it is good.
  • the time detection means such as a timer (not shown)
  • the standby operation is stopped, and the carriage 1 starts traveling, and when the head 7 enters the application area, it is shown in FIG. 6 according to the ejection data.
  • the application is performed by discharging the liquid droplet toward the substrate 6 in the drive waveform (S 8).
  • the micro-vibration pulse is applied while the carriage 1 is traveling to the home position coating area to prevent thickening of the liquid in the liquid waste of the nozzle.
  • the carriage 1 When the application is completed, the carriage 1 is moved to the home position, and it is determined whether there is a command to stop the apparatus (S9). When the apparatus is not stopped, the process returns to S3 again, and the standby operation of S3 to S6 is continued until the coating data is sent.
  • the liquid in which the spacer particles are dispersed is replaced with the storage solution (S10).
  • the suction bow I cap 16 of the capping means 14 is brought into close contact with the nozzle surface 17 to perform the capping (S11), and the apparatus is stopped (S12).
  • the suction cap 16 is made of an elastic material such as rubber as is known, it is compressed by slightly pressing it against the nozzle surface, and the pressure in the above-mentioned enclosed space also rises with it, and the circulating flow Even if the flow velocity of the liquid in the passage is further increased, the meniscus of the liquid is not broken.
  • FIG. 10 a force showing an example using an edge shutter type head as shown in FIG. 2
  • an example which is not limited to the head having such a configuration For example, as shown in FIG. 10, it is possible to use a side shutter type head.
  • the components having the same functions as those of the head shown in FIG. 2 are designated by the same reference numerals and their description will not be repeated.
  • each head 7 of FIG. 10 a plurality of cylindrical pressure chambers 80 partitioned by partition walls made of piezoelectric elements are formed, one end communicating with the common liquid chamber 8A and the other end communicating with the common liquid chamber 8B. And the liquid is flowing into it.
  • the side surfaces of each pressure chamber 80 communicate with the plurality of nozzles 13 formed on the nozzle surface 17, and the liquid pressurized by the piezoelectric element in each pressure chamber 80 is discharged from each nozzle 13. It becomes.
  • a discharge port is formed in the upper part of the supply liquid chamber 8A at the upper part of the common liquid chamber 8B.
  • the supply port of the common liquid chamber 8B is communicated with the first liquid connection port 9, the discharge port of the common liquid chamber 8A is communicated with the second liquid communication port 10, and the common liquid chambers 8A, 8B and the pressure chambers 80 are connected. It is configured to be part of a fluid circulation path. With such a configuration, the effects of the present invention can be further enhanced, which is a preferred embodiment.
  • the liquid is supplied to the head 7 from the first liquid connection port 9, and the common liquid chamber 8 B force liquid passes through the second liquid communication port 10 through the pressure chambers 80 and the common liquid chamber 8 A. , Flows to sub tank 40.

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Abstract

液体に分散された粒子の沈降、凝集を抑制し、液体吐出時の吐出不良や濃度変動を防止し、安定して精度良く液体をヘッドから吐出させる液体塗布装置及びそのメンテナンス方法を提供する。複数の圧力室に連通した共通液室とを有するヘッドと、液体を貯蔵するとともに粒子の分散を促進する手段を有する液体タンクと、共通液室と液体タンクを接続する第1の液体流路と、共通液室と液体タンクを接続する第2の液体流路とを有し、共通液室、第1の液体流路と、液体タンク及び第2の液体流路とを含む循環流路において前記液体を循環させる手段を有することを特徴とする液体塗布装置。

Description

明 細 書
液体塗布装置及びそのメンテナンス方法
技術分野
[0001] 本発明は、液体塗布装置及びそのメンテナンス方法に関する。
背景技術
[0002] 液晶表示装置は、電界を利用して液晶の光透過率を調節することで画像を表示す る。このような液晶表示装置は、上下部基板に対向するように配置された画素電極と 共通電極の間に形成される電界によって液晶を駆動する。
[0003] 液晶表示装置は、互いに対向して合着された薄膜トランジスタ 'アレイ基板 (下板) 及びカラーフィルタ ·アレイ基板(上板)と、これら二つの基板の間にお 、てセルギヤッ プを一定に維持させるためのスぺーサ (以下、スぺーサ粒子と記す場合がある)と、そ のセルギャップに満たされた液晶とを具備する。
[0004] 薄膜トランジスタ ·アレイ基板は、多数の信号配線及び薄膜トランジスタと、それらの 上に液晶配向のために塗布された配向膜から構成される。カラーフィルタ 'アレイ基 板は、カラー具現のためのカラーフィルタ及び光漏れの防止のためのブラック 'マトリ ッタスと、それらの上に液晶配向のために塗布された配向膜から構成される。
[0005] 従来このスぺーサは、スぺーサ散布装置を用いて基板上にスプレー法等で散布さ れている。
[0006] しかし、このような散布を行うと、スぺーサが不均一に分布する傾向がある。特に、 表示画素内でスぺーサの凝集があると、それが認識され表示品位が低下するという ような問題点も生じる。また、 TFT等の能動素子を設けた基板を用いた場合には、突 出した TFT部分にスぺーサがあると、基板に力がかかった時に、 TFTが破損しやす V、と 、うような問題点もあった。
[0007] このため、スぺーサを配置する場所を指定して、 TFT部分を避けたり、遮光膜部分 に配置したりすることが望まれている。これを解決するために、スぺーサを印刷により 配置する方法や、デイスペンサゃインクジェット装置を用いて特定の位置に供給する ことが提案されている。 [0008] これらの中で、インクジェット装置による供給は、ほぼ正確な位置に 1個ずつスぺー サを配置して 、くことが可能であり、多数のノズルを有するインクジェットヘッドを用い れば同時に多数のスぺーサを指定位置に配置できるので生産性が良いという利点を 有する。
[0009] このスぺーサ吐出用インクジェット装置においては、通常の着色液体とは異なり通 常径が数 mというような大きな径のスぺーサという粒を有する溶媒を用いて、スぺー サを吐出することになる。このためには、インクジェットヘッドに供給される吐出液にス ぺーサが均一に混ざっている必要がある。また、ヘッド内部でも均一である必要があ る。
[0010] 吐出液にスぺーサが均一に分散していないと、吐出が不安定になり、吐出不良を 生じたり、濃度変動により吐出液のスぺーサの数が安定しな力つたりというような吐出 特性に問題を生じやすい。このため、吐出液となるスぺーサを含有した溶媒を供給 するタンクにぉ 、て、撹拌を行 、スぺーサが溶媒中に均一に分散するようにしなくて はいけない。
[0011] このような装置として、液晶とスぺーサを同時に供給するための装置がある力 スぺ ーサを含有した液晶を供給するタンクにモーター駆動のスクリューによる撹拌装置を 付けて撹拌を行 、スぺーサが液晶中に均一に分散するようにして 、る(例えば、特許 文献 1参照)。
[0012] また、圧力室を圧電素子で振動させて分散させる方法が開示されている (例えば、 特許文献 2参照)。
特許文献 1 :特開平 5— 281562号公報
特許文献 2 :特開 2000— 66215号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0013] し力しながら、液晶パネル用のスぺーサ粒子を混入した液体のような径の大きな粒 子を分散させた液体は、沈降速度が大きぐ上記従来技術においては、特にヘッド の内部、ノズル付近でスぺーサ粒子の沈降、凝集が起こり、安定して精度良く吐出で きないといった課題がある。 [0014] 本発明は、液体に分散された粒子の沈降、凝集を抑制し、液体吐出時の吐出不良 や濃度変動を防止し、安定して精度良く液体をヘッドから吐出させる液体塗布装置 及びそのメンテナンス方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0015] 本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。 粒子が分散された液体を吐出する複数のノズルと、
前記複数のノズルのそれぞれに連通する複数の圧力室と、
圧力室のそれぞれに対応して設けられて圧力室の容積を変化させる圧電素子と、 複数の圧力室に連通した共通液室とを有するヘッドと、
前記液体を貯蔵するとともに前記粒子の分散を促進する手段を有する液体タンクと、 前記共通液室と液体タンクを接続する第 1の液体流路と、
前記共通液室と液体タンクを接続する第 2の液体流路とを有し、
前記共通液室、第 1の液体流路、液体タンク及び第 2の液体流路を含む循環流路に おいて前記液体を循環させる手段を備えることを特徴とする液体塗布装置。
2.
前記粒子の分散を促進する手段は、前記粒子に超音波を与える超音波発生器を有 することを特徴とする 1に記載の液体塗布装置。
3.
前記液体を循環させる手段は、前記第 1の液体流路及び前記第 2の液体流路のうち の少なくとも一方に設けられた液体送出手段を有することを特徴とする 1または 2に記 載の液体塗布装置。
4.
1乃至 3の何れか 1つに記載の液体塗布装置のメンテナンス方法であって、前記ノズ ルカ 塗布のための液体の吐出中には、前記循環流路にお 、て前記液体を循環さ せず、前記ノズル力 塗布のための液体を吐出しない期間に、前記循環流路におい て前記液体を循環させることを特徴とする液体塗布装置のメンテナンス方法。 前記循環を行う際に、前記ノズルから液体を吐出させない程度の駆動波形を前記圧 電素子に印加することを特徴とする 4に記載の液体塗布装置のメンテナンス方法。 6.
前記駆動波形の駆動周波数を掃引することを特徴とする 5に記載の液体塗布装置の メンテナンス方法。
7.
前記駆動周波数の掃引を 1kHzから 1ZAL (ALは圧力室の音響的共振周期の 1Z
2)の間で行うことを特徴とする 6に記載の液体塗布装置のメンテナンス方法。
8.
吸引により前記ヘッド内の液体を前記ノズル力 排出させるパージ動作を行う期間内 に、前記圧電素子を駆動することを特徴とする 4乃至 7の何れか 1つに記載の液体塗 布装置のメンテナンス方法。
発明の効果
[0016] 本発明によれば、液体に分散された粒子の沈降、凝集を抑制し、液体吐出時の吐 出不良や濃度変動を防止し、安定して精度良く液体をヘッドから吐出させる液体塗 布装置及びそのメンテナンス方法を提供することができる。
図面の簡単な説明
[0017] [図 1]液体塗布装置 100の主要部を示す斜視図である。
[図 2]液体塗布装置 100のヘッドの斜視図である。
[図 3] (a)は薄膜トランジスタ ·アレイ基板を示す平面図であり、 (b)は (a)の線 III - III ' に沿って切り取った薄膜トランジスタ 'アレイ基板を示す断面図である。
[図 4]液体塗布装置 100の液体供給系の実施の形態の概念図である。
[図 5] (a)〜(c)はヘッドの液体吐出時の作動を示す断面図である。
[図 6]液体吐出時に圧力室、空気室に印加されるパルス波形のタイミングチャートで ある。
[図 7]ノズル 13内の液体メニスカスが微振動する時に圧力室、空気室に印加されるパ ルス波形のタイミングチャートである。
[図 8]ノズル 13内の液体メニスカスが微振動する時の周波数掃引のタイミングチャート である。
[図 9]液体塗布装置の具体的な動作を示すフローチャート図である。
[図 10]液体塗布装置のヘッドの他の実施の形態の斜視図である。
符号の説明
[0018] 1 キャリッジ
6 基板
7 ヘッド
8 共通液室
9 第 1の液体連結口
10 第 2の液体連結口
13 ノズル
14 キヤッビング手段
20 液体タンク
21 廃液タンク
23 第 1の液体流路
24 ポンプ
25 第 2の液体流路
27 廃液流路
40 サブタンク
100 液体塗布装置
405, 406 切替弁
発明を実施するための最良の形態
[0019] 以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。なお、本欄の記載は請求 の範囲の技術的範囲や用語の意義を限定するものではない。また、以下の本発明の 実施の形態における断定的な説明はべストモードを示すものであって、本発明の用 語の意義や技術的範囲を限定するものではな 、。
<液体塗布装置 >
本発明に係る液体塗布装置の主要部を示す斜視図である図 1及び液体塗布装置 にて使用されるヘッドの斜視図である図 2を用いて説明する。なお。図 2はヘッドの概 略図であり、電極等は省略してある。
[0020] 液体塗布装置 100において、 1はキャリッジであり、タイミングベルト 2の一部に結合 されており、キャリッジモータ 3の正逆回転により駆動され、ガイド部材 4に案内されて 、図の矢印 Xで示すように、プラテン部 5に沿って平行に往復移動できるように構成さ れている。
[0021] 7は、スぺーサ粒子が分散された液体を吐出するヘッドで、薄膜トランジスタ 'アレイ 基板 6の搬送方向と直角方向に形成された液体吐出用の多数のノズル 13を有し、キ ャリッジ 1と一体的に構成されている。
[0022] ヘッド 7〖こは、圧電素子からなる隔壁で仕切られた筒状の複数の圧力室 80と複数 の空気室 80Aが交互に形成され、圧力室 80はそれぞれ一端で共通液室 8に連通し 液体が流れ込むようになつている。そして、それぞれの圧力室 80の他端は、ノズル面 17に形成された複数のノズル 13に連通し、各圧力室 80にて圧電素子により加圧さ れた液体は、各ノズル 13から吐出されるようになっている。空気室 80Aはそれぞれ一 端で共通液室 8に連通せず液体が流れ込まないようになつている。そして、それぞれ の空気室 80Aの他端は、ノズル面 17の複数のノズル 13は形成されていない。
[0023] ここで、流路は、本実施形態のように液体が供給される圧力室として機能するものと 、液体が供給されない空気室として機能するものとが交互に配置されるものでもよい し、また、空気室を設けずに全て圧力室として機能させるようにしたものであってもよ い。前者の場合、圧力室の隔壁がせん断変形しても、隣接した他の圧力室に影響す ることがなぐ隔壁の駆動が容易である。
[0024] 本実施形態では大きな径のスぺーサ、すなわち固形物を吐出するため、圧電素子 による駆動するタイプのヘッドを用いる。
[0025] そして、共通液室 8の上部において、供給口と排出口が形成されており、供給口が 第 1の液体連結口 9に、排出口が第 2の液体連通口 10にそれぞれ連通され、共通液 室 8が液体の循環路の一部となるよう構成されて 、る。
[0026] 液体が吐出される多数のノズル 13はプラテン部 5に対向して配設され、 ΧΥ Θステ ージ 5上の薄膜トランジスタ 'アレイ基板 6に対して塗布を行う。循環時は、図 4中の矢 印方向に液体が流れ、ヘッド 7に液体は第 1の液体連結口 9より供給され、ヘッド内 共通液室 8から液体は、第 2の液体連通口 10を通り、サブタンク 40 (図 4参照)に還 ic れ o。
[0027] 薄膜トランジスタ 'アレイ基板 6は ΧΥ Θステージ 5とともに、搬送モータ 11により、図
1の矢印 Yで示す方向に搬送される。
[0028] 14は、ヘッド 7のノズル面 17を被覆する吸引キャップ 16を備えるキヤッビング手段 であり、薄膜トランジスタ ·アレイ基板が搬送される領域よりも外側に設けられて ヽる。 また、キヤッビング手段 14は、ヘッド 7から吐出された液体を回収する液体回収手段 としての機能を有する。
[0029] 15はクリーニング手段であり、キャリッジ 1が往復移動する際に、ヘッド 7のノズル面 17に当接し、清掃をする。また、クリーニング手段 15は、キヤッビング手段 14と同様 に薄膜トランジスタ 'アレイ基板が搬送される領域よりも外側に設けられており、かつ、 キヤッビング手段 14よりも薄膜トランジスタ 'アレイ基板の搬送される領域に近い側に 配設されている。
[0030] 18は、 CPU (中央処理装置)、ワークメモリ等からなる制御手段で、液体塗布装置 1 00の一連の動作、例えば、搬送モータの駆動、ヘッド 7の移動並びに液滴の吐出、 キヤッビング手段 14によるキヤッビング動作等を制御する。更に、制御手段 18は、本 発明に係わる液体循環等の制御をも含んだ構成となっている。なお、 18には、後述 する吐出パルスゃ微振動パルスを生成するための回路が設けられる駆動信号発生 部 500 (図 5参照)が含まれる。
[0031] 19はケーブルで、ヘッド 7のコネクタ 12と制御手段 18との電気的結合を達成してい る。
[0032] 21は、ヘッド 7から予備吐出されキヤッビング手段 14で回収された液体を貯溜する ための廃液タンクである。
[0033] 22は、光電センサ等力 なるホームポジションセンサで、キャリッジ 1の側面を感知 し、キャリッジ 1の待機位置、即ち、キヤッビング手段 14によりヘッド 7のノズル面 17が 被覆される位置を検出する。
[0034] また、図示していないが、液体塗布装置 100は、装置の停止時に電力供給をするこ とが可能なバックアップ電源装置を備え、装置の停止時にぉ 、てもノ ックアップ電源 装置より電力供給を受け、必要な動作を行うことが可能なように構成されている。
[0035] 液体塗布装置 100が塗布開始すると、制御手段 18からの塗布開始を示す制御信 号に基づいて、キヤッビング位置にあるヘッド 7は、キャリッジモータ 3により塗布領域 のスタート位置に移動し位置を固定する。制御手段 18からの吐出データに基づく電 気信号がヘッド 7の圧電素子に付与されると、スぺーサ粒子が分散された液体を適 宜のノズルから吐出し、 ΧΥ Θステージ 5上の薄膜トランジスタ 'アレイ基板 6に塗布す る。薄膜トランジスタ 'アレイ基板 6は、ヘッド 7からの液体の吐出に合わせて矢印 Y方 向に送り出され、所定の吐出データに伴う処理が終了するまで、上記の塗布動作が すすめられる。
[0036] 具体的には、スぺーサ 82の分散液を後述する所定領域(図 3 (a)、 (b)参照)に塗 布して、溶媒を揮発させることによりスぺーサ 82を所定領域に配設することが可能と なる。
<スぺーサが分散された液体 >
本実施形態で使用されるスぺーサ 82は、ヘッド 7のノズルから吐出可能な径のスぺ ーサであれば使用できる。スぺーサの径は使用目的より異なるが、液晶表示素子の 場合には、液晶装置に封入される液晶層の厚み (セル厚)に合わせてそれぞれ設定 され、通常 4〜6 /z m程度とされる。径は、体積平均粒径で定義される。また、ヘッド 7 のノズル 13の直径は、 φ 20〜30 ( m)であり、スぺーサ粒子径の 5〜8倍程度であ る。一般の顔料分散インクの顔料粒径( φ 0. 1 m)より遙かに大き 、。
なお、体積平均粒径は、レーザー式粒度分布測定装置 LA— 920 (堀場製作所製) やマルチタイザ一 III (コールター社製)で測定できる。
[0037] また、これらスぺーサ 82は、例えば二酸ィ匕珪素やポリスチレン等の榭脂からなる球 状部材にて構成することができる。
[0038] 液体は、ヘッド 7から吐出できる液体であればよぐ通常は揮発性の有機溶媒また は水系溶媒またはそれらの混合溶媒が用いられる。スぺーサと溶媒との比率は、へッ ド 7のノズルから吐出可能な範囲で適宜設定されればょ 、。スぺーサの濃度が低!ヽ 方が好ましいが、 1つの液滴に 1粒以上は含ませる必要があるため、スぺーサが 1体 積%以上が好ましぐ 20体積%以下がより好ましい。例えば、 15plの液滴と φ 4 m の球状スぺーサ粒子の体積比は、 434 : 1であり、 1体積%であると 1滴当たり平均 4 個の球状スぺーサ粒子が含まれることになる。
[0039] 本実施形態にぉ 、ては、水、イソプロピルアルコール、エタノール等力 選択される 単一の溶媒又は 2種以上の混合溶媒に、スぺーサ 82を超音波等により所定の濃度 で均一に分散したスぺーサ分散溶液を用意する。
<基板上のスぺーサの配置 >
図 3 (a)は実施形態に係る薄膜トランジスタ 'アレイ基板 6を示す平面図で、図 3 (b) は図 3 (a)の線 III— ΙΠ 'に沿って切り取った薄膜トランジスタ 'アレイ基板 6を示す断面 図である。
[0040] 図 3 (a)、図 3 (b)を参照すれば、薄膜トランジスタ 'アレイ基板 6は、下部基板 51上 に選択的に幅が異なるように形成されたゲートライン 52と、ゲートライン 52にゲート絶 縁膜 62を介して交差するように形成されたデータライン 154と、その交差部毎に形成 された薄膜トランジスタ 81と、その交差構造に用意された画素領域 84に形成された 画素電極 72と、画素電極 72とゲートライン 52の重畳部に形成されたストレージ'キヤ パシタ 78と、ゲートライン 52と重畳するように形成されるスぺーサ 82とを具備する。
[0041] ゲートライン 52は薄膜トランジスタ 81のゲート電極 56にゲート信号を供給する。こ のようなゲートライン 52は、画素領域 84を定義するライン部 52aと、ライン部 52aから 突出した突出部 52bからなる。ライン部 52aは、幅 dlを持つように形成されていて、突 出部 52bによる画素電極 72の開口率の減少を防止する。突出部 52bは、スぺーサ 8 2が液体塗布装置 100により噴射されて形成される領域において、ライン部 52aより 相対的に広い幅 d2に形成される。例えば、突出部 52bは、データライン 154と平行な 幅が約 30〜50 μ mに、データライン 154と垂直な幅が約 30〜50 μ mに形成される 。このような突出部 52bは円形形態のスぺーサ 82の幅より広い円形に形成される。
[0042] スぺーサ 82は、薄膜トランジスタ 'アレイ基板 6とカラーフィルタ 'アレイ基板との間の セルギャップを維持する。このようなスぺーサ 82は、カラーフィルタ 'アレイ基板のブラ ック 'マットリックス(図示しない)と重畳されるゲートライン 52の突出部領域に液体塗 布装置 100を利用して形成される。すなわち、スぺーサ 82はストレージ'キャパシタ 7 8と重畳するように形成される。
[0043] 以上のように、透明な液晶電極にはスぺーサ 82を置かず、不透明なゲートライン 5 2の上に置くと画質を劣化させず好適である。インクジェット方式はこのような特定の 場所にスぺーサ粒子を配置できるため理想的な手段である。
<液体供給系 >
次に、図 4を用いて本発明に係る第 1の液体流路及び第 2の液体流路の実施形態 について説明する。図 4は本発明に係る液体塗布装置に適用される液体供給系の 実施の形態を示す概念図である。第 1の液体流路 23及び第 2の液体流路 25は大気 遮断された流路であり、使用される液体はスぺーサ粒子が分散された液体である。
[0044] 40は、大気連通孔を有するサブタンクであり、内部にはスぺーサ粒子が分散された 液体が貯蔵され、液体流路を通り、液体が循環する。
[0045] 液体タンク 20から、ヘッド 7の第 1の液体連結口 9までの第 1の液体流路 23で、へッ ド 7のノズル部の液体背圧を安定させるために、サブタンク 40が設けられている。そし て、液体タンク 20からサブタンク 40までの間に、弁 54、液体を液体タンク 20からサブ タンク 40に圧送するポンプ 30が設けられて!/、る。
[0046] 循環時にお 、て、液体タンクであるサブタンク 40からヘッド 7の第 1の液体連結口 9 まで液体を供給する液体供給流路である第 1の液体流路 23には、液体を循環させる 手段の一例であり液体をヘッド 7に圧送する送液手段として機能するポンプ 24が設 けられている。すなわち、サブタンク 40、第 1の液体流路 23及びポンプ 24が協働し て液体供給手段として機能するものである。なお。ポンプ 24は、前記ノズルカゝら塗布 のための液体の吐出中には、停止しており、前記循環流路において前記液体を循環 させない。ポンプ 24は停止時において、第 1の液体流路 23が連通可能となるように 構成されている。
[0047] 第 2の液体連結口 10からサブタンク 40へ液体が還流する液体排出流路である第 2 の液体流路 25を通りサブタンク 40へ液体が還流する。
[0048] また、キヤッビング手段 14から廃液タンク 21の流路の途中には吸引ポンプ 28が設 けられており、キヤッビング手段 14内の液体やヘッド 7のノズル 13から液体を吸引し て廃液タンク 21に送り込むこともできる。 [0049] ポンプ 24、吸引ポンプ 28は、流路を可撓性のもので構成し、複数のローラ等の押 圧部材でそのチューブの一部をチューブの長手方向に順次押しつぶすことで、液体 を流動させる形式のものや、このほか公知の種々の形式のものが用いられる。
[0050] また、図 4において、 201は液体タンク 20内に設けられた撹拌スクリュー、 401はサ ブタンク 40内に設けられた撹拌スクリュー、 202は液体タンク 20に付設された超音波 振動を発生させる圧電素子、 402はサブタンク 40に付設された超音波振動を発生さ せる圧電素子である。
[0051] このように、サブタンク 40に撹拌スクリュー 401を液体中に設置し、また、液体タンク 20に撹拌スクリュー 201を液体中に設置し、各々をモーターで高速に回転させるよう にしている。この撹拌スクリュー 201、撹拌スクリュー 401はヘッド 7からの液体吐出に 関わらず、常時回転させるようにしてある。この撹拌スクリューの回転によって、サブタ ンク 40、液体タンク 20に貯留されている液体にせん断力を与え、液体中に含有され て 、るスぺーサ粒子の凝集を防止して 、る。
[0052] 更に液体タンク 20に超音波振動を発生させる圧電素子 202を接触させ、また、サ ブタンク 40に超音波振動を発生させる圧電素子 402を接触させ、サブタンク 40、液 体タンク 20に貯留されている液体に常時超音波振動を与えることによって、液体中 のスぺーサ粒子の凝集を更に防止して 、る。ここで使用する超音波発生器としては、 特別なものを用意する必要はなぐ公知の超音波発生器で力まわない。
[0053] なお、本例では撹拌スクリューによるせん断力と超音波の両方を液体に与えている 力 これらはいずれか一方でも有効である。特に超音波が効果的である。
[0054] 撹拌スクリュー 401ゃ圧電素子 402は、本発明における粒子の分散を促進する手 段の一例である。サブタンク 40の中で、液体にせん断力や超音波を与えるので、サ ブタンク 40中に貯蔵されて!、る液体中に含有されるスぺーサ粒子の分散状態が不 安定となっていても再分散され、ヘッド 7に対しては分散状態が最良の状態で液体供 給がされることになる。したがって常に良好な液体吐出並びに塗布がなされる。
[0055] 再分散を効率よく行うには、前述したようにせん断力が必要である力 これには一般 の分散機でも使用されている撹拌スクリューのような回転部材を応用することが好まし い。 [0056] 更に、前述のようにヘッド 7の前記共通液室 8、第 1の液体流路 23、サブタンク 40及 び第 2の液体流路 25を含む循環流路において前記液体を循環させる系を同時に形 成しておくことで、基板 6の塗布のための吐出を行って ヽな 、ときでも液体はヘッド 7 を介して循環されるので、上記再分散はより有効に作用する。このため、液体に分散 された粒子の沈降、凝集を抑制し、液体吐出時の吐出不良や濃度変動を防止し、安 定して精度良く液体をヘッドから吐出させることができる。
[0057] このようにして、ヘッド 7からの液体吐出の有無にかかわらず、常に液体に強制的な 分散のための力を加えておき、分散状態がいつでも同じとなるように作用させておく。
[0058] 超音波による撹拌は、代表的な方法としては圧電素子をタンクに付設しておき、こ れを所定の周波数の電圧波形で駆動することにより、超音波を発生させ撹拌を行う。 もちろん、これ以外の超音波発生手段を配置してもよい。
[0059] 特に、この超音波による撹拌は、スぺーサの沈降や浮上を抑え均一に液中に分散 させるとともに、スぺーサ同士の凝集を抑制し、タンク壁面へのスぺーサの付着を抑 制する。
また、液体塗布装置 100の停止時における、特にヘッドの内部、ノズル付近でのスぺ ーサ粒子の沈降、凝集をより効果的に防止するために、液体塗布装置 100の停止時 には、少なくともヘッド内部に保存液を充填する。このような保存液は、液体塗布装置 100の起動時に、スぺーサ粒子を分散した液体に置換されることで取り除かれる。 本実施形態において、保存液は、スぺーサ粒子を除いた液体とほぼ同様な成分を 有するものを用いている。
[0060] 液体塗布装置 100において、ヘッド 7は通常サブタンク 40と液体流路 25, 23等を 介して接続されており、サブタンク 40から液体をヘッド 7に供給可能に構成されて ヽ る。塗布装置 100を停止させた場合、切替え弁 405、 406を保存液流路 407, 408 側に切り替え、ヘッド 7のノズル面 17をキヤッビング手段 14により封止して、キャップと 接続されている吸引ポンプ 28によりキャップ内に負圧を発生させることにより、保存液 タンク 403力も保存液流路 407, 405, 10を介して、及び 408、 406, 9を介して保存 液を液体の充填されたヘッド 7内に流し、スぺーサ粒子が分散された液体と保存液を 完全に置換する。この時発生した廃液は、吸引ポンプ 28を介して廃液タンク 21に保 持される。
[0061] 液体塗布装置 100を起動させた場合は、逆に切替え弁 405、 406を液体流路 23, 25側に切り替え、ヘッド 7のノズル面 17をキヤッビング手段 14により封止して、キヤッ プと接続されている吸引ポンプ 28によりキャップ内に負圧を発生させることにより、サ ブタンク 40からスぺーサ粒子が分散された液体を保存液の充填されたヘッド 7内に 流し、保存液とスぺーサ粒子が分散された液体を完全に置換する。この時発生した 廃液は、吸引ポンプ 28を介して廃液タンク 21に保持される。
[0062] なお上記の置換方法のみに限定されず、少なくともヘッド 7に充填されているスぺ ーサ粒子が分散された液体と保存液がほぼ完全に置き換わる方法であればすべて 利用可能である。このような置換により、装置停止中のヘッド内部の粒子の沈降や凝 集をより効果的に抑制できる。
[0063] 保存液は、スぺーサ粒子が分散された液体を構成する溶媒と同一または類似の化 合物を使用することが好ましい。液体を構成する溶媒と同一または類似の化合物を 使用しているため、保存液が塗布する液体に混入した場合であっても、スぺーサ粒 子が沈降したり、凝集したりするおそれが少なくなる。
<ヘッドの駆動方法 >
図 5は、図 2に示すヘッド 7の断面図であり、図 5 (a)は圧力室 80が中立、図 5 (b)は 膨張、図 5 (c)は縮小状態を示している。同図において、 13はノズル、 124はカバー プレート、 26は基板、 27は隔壁である。そして、圧力室 80、空気室 80Aが隔壁 27、 カバープレート 124及び基板 26によって形成されて!、る。
[0064] ヘッド 7は、ここでは図 5に示すように、カバープレート 124と基板 26の間に、電気. 機械変換手段である PZT等の圧電材料力もなる複数の隔壁 27A、 27B、 27Cで隔 てられた圧力室 80と空気室 80Aが交互に多数並設されたせん断モード(シェアモー ド)タイプのヘッド 7を示している。図 5では多数の圧力室 80と空気室 80Aの一部であ る 3本が示されている。圧力室 80の一端 (以下、これをノズル端という場合がある)は ノズル形成部材に形成されたノズル 13につながり、他端(以下、これをマ-ホールド 端という場合がある)は共通液室 8に接続されている。そして、各圧力室 80、空気室 8 OA内の隔壁 27表面には両隔壁 27の上方力 基板 26の底面に亘つて繋がる電極 2 9A、 29B、 29Cが密着形成され、各電極 29A、 29B、 29Cは駆動信号発生部 500 に接続している。
[0065] また、各電極の液体に接する表面は、絶縁性の保護膜が形成されて ヽる。保護膜 としては、ポリパラキシリレンが好適である。
[0066] この駆動信号発生部 500は、微振動パルスと吐出パルスとを出力する。
[0067] 各隔壁 27は、ここでは図 5の矢印で示すように分極方向が異なる 2枚の圧電材料 2 7a、 27bによって構成されている力 圧電材料は例えば符号 27aの部分のみであつ てもよく、隔壁 27の少なくとも一部にあればよい。
[0068] 各隔壁 27表面に密着形成された電極 29A、 29B、 29Cに駆動信号発生部 500の 制御により吐出パルスが印加されると、以下に例示する動作によって圧力室 80内の スぺーサ粒子が分散された液体を液滴としてノズル 13から吐出する。
[0069] まず、電極 29A、 29B、 29Cのいずれにも吐出パルスが印加されない時は、隔壁 2 7A、 27B、 27Cのいずれも変形しないが、図 5 (a)に示す状態において、電極 29A 及び 29Cを接地すると共に電極 29Bに吐出パルスを印加すると、隔壁 27B、 27Cを 構成する圧電材料の分極方向に直角な方向の電界が生じ、各隔壁 27B、 27C共に 、それぞれ隔壁 27a、 27bの接合面にズリ変形を生じ、図 5 (b)に示すように隔壁 27B 、 27Cは互いに外側に向けて変形し、圧力室 80の容積を拡大して圧力室 80内に負 の圧力が生じて液体が流れ込む (Draw)。
[0070] また、この状態力も電位を 0に戻すと、隔壁 27B、 27Cは図 5 (b)に示す膨張位置か ら図 5 (a)に示す中立位置に戻り、圧力室 80内の液体に高い圧力が掛かる(Releas e) 0次いで、図 5 (c)に示すように、隔壁 27B、 27Cを互いに逆方向に変形するように 吐出パルスを印加して、圧力室 80の容積を縮小すると、圧力室 80内に正の圧力が 生じる(Reinforce)。これにより圧力室 80を満たしている液体の一部によるノズル内 の液体メニスカスがノズル力も押し出される方向に変化する。この正の圧力が液滴を ノズルから吐出する程に大きくなると、液滴はノズルから吐出する。他の各圧力室も吐 出パルスの印加によって上記と同様に動作する。このような吐出法を DRR駆動法と 呼び、シェアモードタイプのヘッドの代表的な駆動法である。
[0071] 力かる吐出動作について図 6を用いて更に説明する。各圧力室 80、各空気室 80A に印加されるパルス波形のタイミングチャートを図 6に示す。
[0072] 液体吐出時には、まず各圧力室の電極に電圧を掛け、その両隣の各空気室の電 極を接地する。例えば圧力室に 1AL幅の正電圧の吐出パルスを掛けると、圧力室の 隔壁が外側に変形し、その圧力室 80内に負圧が発生する。この負圧により、サブタ ンク 40から圧力室 80に液体が流れ込む(Draw)。
[0073] この状態を 1AL間保つと、圧力が正圧に反転するので、このタイミングで電極を接 地すると、隔壁の変形が元に戻り、高い圧力が圧力室 80内の液体に掛かる(Releas e) 0更に、同じタイミングで圧力室の電極に負電圧を掛けると、隔壁が内側に変形し 、更に高い圧力が液体に掛カり(Reinforce)、ノズルから液柱が押し出される。 1AL 後、圧力が反転して圧力室 80内が負圧になり、更に 1AL経過すると、圧力室 80内 の圧力が反転して正圧になるので、このタイミングで電極を接地すると、隔壁の変形 が元に戻り、残留する圧力波をキャンセルできる。
[0074] その後、所定の休止時間(本例では、 2AL時間)を経過後、吐出周期 T1で上記同 様の動作を繰り返す。
[0075] なお、 AL (Acoustic Length)とは、圧力室の音響的共振周期の 1Z2である。こ の ALは、電気'機械変換手段である隔壁 27に矩形波の電圧パルスを印加して吐出 する液滴の速度を測定し、矩形波の電圧値を一定にして矩形波のパルス幅を変化さ せたときに、液滴の飛翔速度が最大になるパルス幅として求められる。また、ノ レスと は、一定電圧波高値の矩形波であり、 0Vを 0%、波高値電圧を 100%とした場合に、 パノレス幅とは、電圧の 0Vからの立ち上がり 10%と波高値電圧からの立ち下がり 10% との間の時間として定義する。更に、ここで矩形波とは、電圧の 10%と 90%との間の 立ち上がり時間、立ち下がり時間のいずれもが ALの 1Z2、好ましくは 1Z4以内であ るような波形を指す。
[0076] かかるせん断モードタイプのヘッド 7では、隔壁の変形は壁の両側に設けられる電 極に掛カる電圧差で起こるので、液体吐出を行う圧力室の電極に負電圧を掛ける代 わりに、液体吐出を行う圧力室の電極を接地して、その両隣の空気室の電極に正電 圧を掛けるようにしても同様に動作させることができる。この後者の方法によれば、正 電圧だけで駆動させることができるために好まし!/、態様である。 [0077] 本実施形態において用いられる図 6に示すこれらの吐出パルスは、同図に示すよう に、圧力室 80の容積を膨張させ 1AL後に元の容積に戻す矩形波力 なる第 1のパ ルス P1と、圧力室 80の容積を収縮させ一定時間後に元の容積に戻す矩形波からな る第 2のパルス P2とを含んでおり、第 1のパルス P1の電圧 Vonが第 2のパルス P2の 電圧 Vofはりも大き!/、駆動パルスからなって!/、る。このように電圧 Vonを電圧 Vofは りも大きく設定することは、特に、吐出する液体の粘度が高い場合において圧力室 8 0内への液体の供給を促進する効果もある。
[0078] この第 1のパルス P1の電圧 Vonと第 2のパルス P2の電圧 Voffとの電圧比 VonZV offは、 1. 5以上であることが好ましい。これは、本実施形態においては、後述する微 振動パルスの電圧を吐出パルスの第 2のパルス P2の電圧 Voffと同電圧に設定する 力 このときの電圧比 VonZVoffを 1. 5以上にすることにより、微振動パルスによるノ ズルのメニスカスの振動を適量に設定でき、且つ、吐出パルスの直前、直後に微振 動パルスを印加した場合にも、吐出パルスによる圧力波の残響と微振動パルスによる 圧力波の残響とが適度に打ち消し合うことにより、安定な吐出を実現することができる 。特に、揮発性の溶媒にスぺーサ粒子を分散した液体においては、液体吐出時の動 的な粘度が静的な粘度に比較して低くなるものが多ぐ電圧比 VonZVoffを 1. 5以 上に大きく設定することにより、安定に微振動を付加することができるため好ましい。
[0079] なお、この電圧比 VonZVoffは、 1以下に小さくすると、微振動パルスによるメニス カスの振動が大きくなり、微振動パルス印加後の圧力波の残響が吐出パルスによる 駆動に大きく影響して、液滴の吐出が不安定になる。一方、電圧比 VonZVoffを 5 以上に大きくすると、微振動パルスによるメニスカスの振動が小さぐノズルの液体メ ニスカスにおける液体の増粘に対しての改善効果が得られ難くなるため好ましくない
[0080] また、特に本発明では、液体に粒子を含むため顕著な効果を発揮する。液体が揮 発性の溶剤を含み、且つ、粒子が添加されている場合、液体溶剤の揮発乾燥により 液体粘度が急激に上昇するため、微振動パルスを印加することにより、ノズルのメ- スカスでの液体の増粘を効果的に抑制することができる。
[0081] 次に、図 7を用いて、力かる揮発性の溶媒を含む液体を用いたシェアモードタイプ のヘッド 7において、メニスカスに微振動を与える動作について説明する。
[0082] 本実施形態にぉ 、て、ノズル力 液滴を吐出させな 、程度に微振動させる微振動 パルスは、吐出パルスを印加する場合と同様、図 5に示す駆動信号発生部 500にお いて生成される。微振動パルスは、圧力室の容積を収縮させた後に元に戻す矩形波 のみからなり、パルス幅が 2ALの矩形波を含んでいる。微振動パルスに矩形波を用 いることで、台形波を使用する方法に比べてメニスカスを微振動させる効率が良ぐ 低い駆動電圧で振動させることができる上に、簡単なデジタル回路で駆動回路を設 計できる効果がある。また、圧力室の容積を収縮させた後に元に戻すので、ノズルか ら液滴を吐出することがなく効果的に微振動を与えることができる。
[0083] 例えば、図 7に示す例では、ホームポジション等において、始めに各空気室 80Aの 電極を接地し、各圧力室 80の電極に 2AL幅の正電圧の矩形波からなる微振動パル スを印加している。これにより圧力室は容積が収縮した後に元に戻ることで、そのノズ ル内のメニスカスは、ノズル力 液滴を吐出させない程度に押し出させるように微振 動が与えられる。
[0084] 所定の休止期間を経過した後、駆動周期 T2で必要に応じてこの微振動パルスを 繰り返す。
[0085] このような微振動パルスは、吐出パルスを構成する第 2のパルス P2の電圧 Voffと同 電圧に設定している。これにより、微振動パルスの電圧を電圧の低い Voff電圧に設 定することで、微振動が強く掛カりすぎることがなぐ液滴をノズルから吐出させない 程度の微振動を効率良く掛けることができる。また、吐出パルス及び微振動パルスを 発生するための駆動信号発生部 500における電源電圧数を少なくして回路コストを 下げることができる効果ちある。
[0086] 本実施形態では、このように、ホームポジション等にお!、て微振動パルスを電極に 印加していることで、揮発性の溶媒と粒子を含む液体を使用しても、ノズル開口付近 の液体の増粘を効果的に抑制することができる。また、微振動パルスは、本明細書に おける圧電素子に印加するノズル力 液体を吐出させない程度の駆動波形であり、 圧電素子が励振されることにより液体が満たされた圧力室内には圧力波が発生し、 圧力室内の液体に含有されるスぺーサ粒子の良好な再分散が起こり、ヘッド内にお けるスぺーサ粒子の凝集や沈降をより効果的に防止できる。
[0087] また前記循環を行う際に、微振動パルスを印加することにより、循環される液体に振 動が付与され、特に共通液室のデッドスペースの液体の循環を促進させる。循環に よるスぺーサ粒子の凝集や沈降防止の効果を高めることができる。これらのスぺーサ 粒子はその凝集によって大小様々な大きさである。従って、図 8に示すように前記微 振動パルスの駆動波形の駆動周波数を掃引することが好ましぐ駆動周波数の掃引 を 1kHzから 1ZAL(ALは圧力室の音響的共振周期の 1Z2)の間で行うことがさら に好ましい。
[0088] 図 8は駆動周波数を 1kHzと 50kHzの間を 1秒かけて 1往復させて掃引する例を示 すものであり、横軸が時間であり、縦軸が微振動パルスの駆動周波数である。ヘッド 7 の ALは、 5 μ secであるので、 50kHzは lZ (4AL)に相当する。
[0089] 機械的振動の周波数はスぺーサ粒子の大きさによって、スぺーサ粒子に対するそ の分散効果や液体の循環の促進効果 (粒子の移動しやすさ)が異なるため、周波数 を掃引しながら振動を与えるのが様々なサイズのスぺーサ粒子を全て分散、移動す るのに効果的である。
<液体塗布装置 100の動作フロー >
次に、液体塗布装置 100の具体的な動作の流れについて、図 9に示すフロー図を 用いて説明する。なお前述のように、サブタンク 40と液体タンク 20の撹拌スクリューと 圧電素子は装置の起動、停止にかかわらず常時作動しているものとする。
[0090] まず、装置を長期間停止した後、装置起動のため電源を入れる (Sl)。この時、へッ ド 7はキヤッビング手段 14の吸弓 Iキャップ 16がノズル面 17に密着されており、また、 切替弁 405, 406は保存液流路 407, 408に液体が流れるよう選択されているものと する。
[0091] ホームポジションで保存液をスぺーサ粒子が分散された液体に置換する(S2)。置 換後は、切替弁 405, 406は,それぞれ第 2の液体流路 25、第 1の液体流路 23に液 体が流れるよう選択されて 、る。ホームポジションで図 6に示す駆動波形で全圧力室 を駆動して液体を吐出させながらノズル 13から液体を吸引して、パージ動作を行う( S3)。次いでキヤッビング手段 14を動作させ、吸引キャップ 16のヘッド 7への密着を 解除し、クリーニング手段 15によるノズル面 17のワイビングを行う(S4)。キヤッビング 手段 14を動作させ、キヤッビング手段 14の吸引キャップ 16をノズル面 17に密着させ て、図 6に示す駆動波形で全圧力室を駆動して液体を吸弓 Iキャップ 16に予備吐出 する(S5)。図 7に示す駆動波形で周波数掃引して全圧力室を駆動しながら、ポンプ 24を駆動させて循環動作を行う(S6)。
[0092] この S3〜S6までのホームポジションでの待機動作は、塗布データが送られてくるま で継続する。この待機動作は、本実施形態に係るメンテナンス方法の一例であり、使 用者が手動で開始させても、図示されないタイマー等の時間検出手段にて設定され た時間を超えた場合に自動的に開始させるようにしても良 、。
[0093] 塗布データが送られてくると (S7)、この待機動作を停止し、キャリッジ 1が走行を開 始してヘッド 7が塗布領域内に入ると、吐出データに応じて図 6に示す駆動波形で液 滴を基板 6に向けて吐出することで塗布を行う(S8)。なおキャリッジ 1がホームポジシ ヨンカゝら塗布領域に走行中にぉ 、て前記微振動パルスを印加してノズルの液体メ- スカスにおける液体の増粘を防止することが好ましい。
[0094] 塗布が終わると、キャリッジ 1がホームポジションに移動し、装置を停止する指令が あるかどうかを判断する(S9)。装置を停止しない場合は、再度 S3に戻り、 S3〜S6の 待機動作を塗布データが送られてくるまで継続する。
[0095] 装置を停止する場合は、スぺーサ粒子が分散された液体を保存液に置換する(S1 0)。キヤッビング手段 14の吸弓 Iキャップ 16をノズル面 17に密着させてキヤッビングを 行い (S 11)、装置を停止する (S 12)。
[0096] このように循環を行う際に、吸引キャップ 16でヘッド 7のノズル面を覆うことが好まし い。これにより、循環流路内の液体の流速を、高めても、上記吸引キャップ 16による 密閉空間内の空気がその圧力に対抗するので、ノズル内の液体のメニスカスが破壊 されることがなぐ液体が漏れ出るおそれがない。特に、吸引キャップ 16は公知のよう にゴム等の弾性材料で製作されて ヽるから、ノズル面に少し強く当てることで圧縮さ れ、それにともない上記密閉空間も圧力がわずか上昇して、循環流路内の液体の流 速を一層高めても液体のメニスカスを破壊することがなくなる。
[0097] また塗布実行時においても、同様なメニスカス破壊を防止する観点から、循環を行 わないことが好ましい。
[0098] さらに、全圧力室の圧電素子を駆動して液体を吐出させながらノズル 13から液体を 吸引して、パージ動作を行うことにより、吸引時に強い圧力波を発生させて粒子の移 動を促進させることができるためこのまし 、。
[0099] ここで、以上の実施の形態においては、図 2に示すようなエッジシユーター型のへッ ドを用いた例を示した力 特に、このような構成のヘッドに限定される物ではなぐ例 えば図 10に示すようなサイドシユーター型のヘッドを用いることもできる。図 10におい て、図 2のヘッドと同一の機能を有する構成については、同一の符号を記し、重複す る説明は省略する。
[0100] 図 10の各ヘッド 7には、圧電素子からなる隔壁で仕切られた筒状の複数の圧力室 80が形成され、それぞれ一端が共通液室 8Aに他端が共通液室 8Bに連通し、液体 が流れ込むようになつている。そして、それぞれの圧力室 80の側面は、ノズル面 17 に形成された複数のノズル 13に連通し、各圧力室 80にて圧電素子により加圧された 液体は、各ノズル 13から吐出されるようになって 、る。
[0101] そして、共通液室 8Bの上部において供給ロカ 共通液室 8Aの上部において排出 口がそれぞれ形成されている。共通液室 8Bの供給口が第 1の液体連結口 9に、共通 液室 8Aの排出口が第 2の液体連通口 10にそれぞれ連通され、共通液室 8A, 8B及 び各圧力室 80が液体の循環路の一部となるよう構成されている。このような構成によ り、本発明の効果をより高めることができ、好ましい態様である。
[0102] このヘッド 7に液体は第 1の液体連結口 9より供給され、共通液室 8B力 液体は、 各圧力室 80、共通液室 8Aを介して、第 2の液体連通口 10を通り、サブタンク 40に 流 れる。

Claims

請求の範囲
[1] 粒子が分散された液体を吐出する複数のノズルと、
前記複数のノズルのそれぞれに連通する複数の圧力室と、
圧力室のそれぞれに対応して設けられて圧力室の容積を変化させる圧電素子と、 複数の圧力室に連通した共通液室とを有するヘッドと、
前記液体を貯蔵するとともに前記粒子の分散を促進する手段を有する液体タンクと、 前記共通液室と液体タンクを接続する第 1の液体流路と、
前記共通液室と液体タンクを接続する第 2の液体流路とを有し、
前記共通液室、第 1の液体流路、液体タンク及び第 2の液体流路を含む循環流路に おいて前記液体を循環させる手段を備えることを特徴とする液体塗布装置。
[2] 前記粒子の分散を促進する手段は、前記粒子に超音波を与える超音波発生器を有 することを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の液体塗布装置。
[3] 前記液体を循環させる手段は、前記第 1の液体流路及び前記第 2の液体流路のうち の少なくとも一方に設けられた液体送出手段を有することを特徴とする請求の範囲第 1項または請求の範囲第 2項に記載の液体塗布装置。
[4] 請求の範囲第 1項乃至請求の範囲第 3項の何れか 1項に記載の液体塗布装置のメ ンテナンス方法であって、前記ノズル力 塗布のための液体の吐出中には、前記循 環流路にお 、て前記液体を循環させず、前記ノズル力 塗布のための液体を吐出し ない期間に、前記循環流路において前記液体を循環させることを特徴とする液体塗 布装置のメンテナンス方法。
[5] 前記循環を行う際に、前記ノズルから液体を吐出させない程度の駆動波形を前記圧 電素子に印加することを特徴とする請求の範囲第 4項に記載の液体塗布装置のメン テナンス方法。
[6] 前記駆動波形の駆動周波数を掃引することを特徴とする請求の範囲第 5項に記載の 液体塗布装置のメンテナンス方法。
[7] 前記駆動周波数の掃引を 1kHzから 1ZAL (ALは圧力室の音響的共振周期の 1Z
2)の間で行うことを特徴とする請求の範囲第 6項に記載の液体塗布装置のメンテナ ンス方法。 吸引により前記ヘッド内の液体を前記ノズル力 排出させるパージ動作を行う期間内 に、前記圧電素子を駆動することを特徴とする請求の範囲第 4項乃至請求の範囲第 7項の何れか 1項に記載の液体塗布装置のメンテナンス方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103894308A (zh) * 2012-12-24 2014-07-02 软控股份有限公司 轮胎检测毛刷润滑机构及其方法
JP2017023958A (ja) * 2015-07-24 2017-02-02 武蔵エンジニアリング株式会社 固体粒子を含有する液体材料の吐出装置および吐出方法並びに塗布装置
US10800171B2 (en) 2018-03-16 2020-10-13 Ricoh Company, Ltd. Liquid discharge device and liquid discharge apparatus

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5286757B2 (ja) * 2007-11-30 2013-09-11 コニカミノルタ株式会社 インクジェット記録装置
CN102540582A (zh) * 2012-02-09 2012-07-04 华映视讯(吴江)有限公司 适用于液晶显示面板的涂胶组件
DE202012002510U1 (de) * 2012-03-02 2012-03-28 Francotyp-Postalia Gmbh Druckergerät
CN104808410B (zh) * 2015-05-22 2018-09-04 京东方科技集团股份有限公司 显示面板和显示装置
CN109219521B (zh) * 2016-06-03 2020-08-04 柯尼卡美能达株式会社 喷墨记录装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000218830A (ja) * 1999-02-03 2000-08-08 Konica Corp インクジェット装置
JP2003072104A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Micro Jet:Kk 吐出用ヘッドおよび吐出装置
JP2005306005A (ja) * 2004-03-23 2005-11-04 Canon Inc 液体吐出装置および液体処理方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6013557A (ja) * 1983-07-04 1985-01-24 Nec Corp インクジエツト式印字ヘツド
JP2525565B2 (ja) * 1984-04-20 1996-08-21 コニカ株式会社 インクジェット記録装置
JPH05281562A (ja) 1992-04-01 1993-10-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法
JPH07164640A (ja) * 1993-12-15 1995-06-27 Ricoh Co Ltd インクジェット記録装置
US5980034A (en) * 1996-03-11 1999-11-09 Videojet Systems International, Inc. Cross flow nozzle system for an ink jet printer
JP2000066215A (ja) 1998-08-20 2000-03-03 Ricoh Co Ltd 粒子散布装置
JP3911928B2 (ja) * 1999-10-19 2007-05-09 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェット記録ヘッド用保存液
EP1095776B1 (en) * 1999-10-29 2006-10-04 Eastman Kodak Company Improved ultrasonic cleaning system in ink jet printing systems
US6533397B2 (en) * 2000-10-10 2003-03-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming apparatus
DE60219981T2 (de) * 2001-03-21 2007-09-06 Fujifilm Corp. Tintenstrahldruckverfahren und Tintenstrahldruckapparat
WO2003081328A1 (fr) * 2002-03-26 2003-10-02 Sekisui Chemical Co., Ltd. Procede de fabrication d'un dispositif d'affichage a cristaux liquides, substrat pour ledit d'affichage a cristaux liquides, procede de fabrication dudit substrat pour l'affichage a cristaux liquides et dispersion de particules d'espacement
US7195327B2 (en) * 2003-02-12 2007-03-27 Konica Minolta Holdings, Inc. Droplet ejection apparatus and its drive method
JP4449473B2 (ja) * 2004-01-30 2010-04-14 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェット記録装置
US7427124B2 (en) * 2004-03-30 2008-09-23 Fujifilm Corporation Ejection head, image forming apparatus, and ejection control method
JP2006192638A (ja) * 2005-01-12 2006-07-27 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット記録装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000218830A (ja) * 1999-02-03 2000-08-08 Konica Corp インクジェット装置
JP2003072104A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Micro Jet:Kk 吐出用ヘッドおよび吐出装置
JP2005306005A (ja) * 2004-03-23 2005-11-04 Canon Inc 液体吐出装置および液体処理方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103894308A (zh) * 2012-12-24 2014-07-02 软控股份有限公司 轮胎检测毛刷润滑机构及其方法
JP2017023958A (ja) * 2015-07-24 2017-02-02 武蔵エンジニアリング株式会社 固体粒子を含有する液体材料の吐出装置および吐出方法並びに塗布装置
WO2017018304A1 (ja) * 2015-07-24 2017-02-02 武蔵エンジニアリング株式会社 固体粒子を含有する液体材料の吐出装置および吐出方法並びに塗布装置
RU2706311C2 (ru) * 2015-07-24 2019-11-15 Мусаси Инджиниринг, Инк. Выпускное устройство и способ выпуска для жидкого материала, содержащего твердые частицы, и устройство для нанесения покрытий
US10800171B2 (en) 2018-03-16 2020-10-13 Ricoh Company, Ltd. Liquid discharge device and liquid discharge apparatus

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