WO2007091524A1 - 樹脂膜形成装置、方法およびプログラム - Google Patents

Abstract

　中心に孔（２）を有する円板状のディスク（１）を載置しディスク（１）を孔（２）を中心に回転させるスピンナ（１６）と、ディスク（１）の孔（２）の周囲に樹脂（３）を塗布する樹脂供給装置と、スピンナ（１６）に載置されたディスク（１）の樹脂（３）を硬化する光線を照射する光線照射装置であってスピンナ（１６）に載置されたディスク（１）の内周側から外周側に向けて光線の照射位置を移動しディスク（１）の外周に至る手前で光線の照射を停止する光線照射装置（１７）とを備える樹脂膜形成装置を提供する。

Description

明 細 書

樹脂膜形成装置、方法およびプログラム

技術分野

[0001] 本発明は、ディスクに榭脂膜を形成する榭脂膜形成装置、榭脂膜形成方法および 榭脂膜形成装置を制御するための制御装置可読のプログラムに関する。特に、榭脂 の再利用可能な榭脂膜形成装置、榭脂膜形成方法およびプログラムに関する。 本願は、 2006年 2月 7日に出願された特願 2006— 029211号に対し優先権を主 張し、その内容をここに援用する。

背景技術

[0002] 光ディスクは、 CD (Compact Disc)から DVD (Digital Versatile Disc)、更に 次世代 DVDへと進化し、その記録密度が向上している。これらの光ディスクでは、例 えばポリカーボネート製基板の表面の螺旋形の溝に微小な凹凸を形成し、その凹凸 をレーザ光線で走査することにより、記録が読み取られる。 CDのように 1枚の基板に 記録されている場合には、記録面を保護するために、記録面は榭脂でコーティングさ れる。また、 DVDなどでは、記録密度を向上するために、記録面を有する 2枚以上の 基板を接着剤用の樹脂で貼り合せることで製造される。

[0003] 基板表面にコーティング用あるいは接着剤用の榭脂を塗布するときには、一般に、 基板の中心孔の付近に榭脂を円環状に塗布して力 高速回転を行い、榭脂を展延 して樹脂の膜厚を全体的に均一にしている。そして、展延した樹脂に中央側力ゝら外 周側に向って順次光線を照射し、榭脂を硬化している（特許文献 1の第 11— 13頁、 図 1参照)。

特許文献 1：特開平 2004— 280927

発明の開示

[0004] ディスクに塗布した榭脂を高速回転により展延しながら、榭脂を硬化する場合には 、高速回転により榭脂を展延するときに、ディスクの外縁に達した榭脂の一部は回転 により吹き飛ばされる。ここで、吹き飛ばされる榭脂が光線の照射を受けていると吸光 度、粘度などの特性が変化し、榭脂の再利用が困難となり、榭脂の無駄が生ずる。そ こで、本発明は、榭脂の再利用が可能な榭脂膜形成装置、榭脂膜形成方法および 榭脂膜形成装置を制御するための制御装置可読のプログラムを提供することを目的 とする。

[0005] 上記目的を達成するために、本発明の第 1の側面に係る榭脂膜形成装置は、例え ば図 1および図 3に示すように、中心に孔 2を有する円板状のディスク 1を載置し、デ イスク 1を孔 2を中心に回転させるスピンナ 16 ( 16 A、 16B)と；ディスク 1の孔 2の周囲 に榭脂 3を塗布する榭脂供給装置 13と;スピンナ 16に載置されたディスク 1の榭脂 3 を硬化する光線を照射する光線照射装置であって、スピンナ 16に載置されたデイス ク 1の内周側から外周側に向けて光線の照射位置を移動し、ディスク 1の外周に至る 手前で光線の照射を停止する光線照射装置 17 (17A、 17B)とを備える。

[0006] このように構成すると、外周に至る手前で光線の照射を停止するので、ディスクの周 囲から漏れる榭脂には光線が照射されず、よって漏れた榭脂の吸光度、粘度などの 特性は変化することなぐ榭脂の再利用が可能となる。なお、ここでいう「榭脂を硬化 する」には、榭脂を完全に硬化する場合の他、完全に硬化せずゲル状となりその後 の回転の遠心力により外周に広がらな 、程度に硬化する場合 (以下、「半硬化」 t ヽ う）を含む。

[0007] また、本発明の第 2の側面に係る榭脂膜形成装置では、例えば図 3に示すように、 上記榭脂膜形成装置において、光線照射装置 17は、スピンナ 16に載置されたディ スク 1の内周側から外周側に向けて、光線の照射位置を連続的に移動するように構 成されてもよい。

[0008] このように構成すると、光線の照射位置をディスクの内周側から外周側に向けて連 続的に移動するので、内側の榭脂から硬化し始め、徐々に外周側に硬化していくの で、榭脂は光線の照射を受けていない榭脂だけがディスクの周囲から漏れる。

[0009] また、本発明の 3の側面に係る榭脂膜形成装置では、例えば図 3および図 5に示す ように、上記榭脂膜形成装置において、スピンナ 16は、第 1の回転速度 V3でデイス ク 1を回転させて孔 2の周囲に塗布された榭脂 3を展延し、その後に第 1の回転速度 V3より遅い第 2の回転速度でディスク 1を回転させ;光線照射装置 17は、スピンナ 16 が第 2の回転速度でディスク 1を回転させているときに、光線をディスク 1に照射し始 めてもよい。

[0010] このように構成すると、第 1の回転速度でディスクを回転させることにより榭脂を素早 く展延し、ディスク上に満遍なく行き渡らせた後、第 1の回転速度より遅い第 2の回転 速度にすることにより、榭脂がディスクの外周方向に移動する速度が遅くなり、その状 態で光線を照射するので、光線を照射された榭脂が外周方向に移動することが抑え られる。

[0011] また、本発明の第 4の側面に係る榭脂膜形成装置では、例えば図 2に示すように、 上記榭脂膜形成装置において、榭脂供給装置により榭脂 3が塗布されたディスク 1に 、榭脂 3が塗布された面側から、ディスク 1とは別のディスク 1 'を重ねるディスク重ね合 わせ装置 14を備えてもよい。

[0012] このように構成すると、 DVDなど記録密度を向上するために記録面を有する 2枚以 上の基板を製造することができ、その際にも記録面を有する 2枚以上の基板を貼り合 せるための接着剤用の榭脂につ 、て再利用可能となる。

[0013] また、本発明の第 5の側面に係る榭脂膜形成装置では、例えば図 3に示すように、 上記榭脂膜形成装置にぉ ヽて、スピンナ 16に載置されたディスク 1から漏れた榭脂 3 を吸引する榭脂吸引装置 41〜43を備えてもよい。ここで、「漏れた」とは、榭脂がディ スクの保持力 解放されることをいい、回転により樹脂が飛散すること、および、デイス クの周囲カも榭脂が垂れることを含む。

[0014] このように構成すると、ディスク力も漏れた榭脂を確実に回収することができ、榭脂 の再利用率が向上する。

[0015] また、本発明の第 6の側面に係る榭脂膜形成装置では、例えば図 1に示すように、 上記榭脂膜形成装置 100において、展延され、光線照射装置 17により光線を照射さ れた榭脂 3に、再度光線を照射する硬化装置 21を備えてもよい。

[0016] このように構成すると、光線照射装置によりディスクの内周側から外周側に向けて光 線の照射位置を移動し、ディスクの外周に至る手前で光線の照射を停止することによ り、移動しながら照射される光線により完全に硬化していない榭脂も、また、ディスク の最外周の硬化して 、な 、榭脂も完全に硬化し、接着剤としてあるいは保護膜として の硬化榭脂となる。 [0017] 前記目的を達成するために、本発明の第 7の側面に係る榭脂膜形成方法は、例え ば図 10に示すように、中心に孔を有する円板状のディスクの該孔の周囲に榭脂を塗 布する榭脂供給工程 S10と;榭脂供給工程 S10により榭脂を塗布されたディスクを第 1の回転速度で回転させる第 1回転工程 S30と;第 1回転工程 S30に続いて、回転速 度を低減する減速工程 S40と;減速工程 S40と同時に、あるいは、減速工程 S40に 続、て、榭脂を硬化させる光線の照射位置をディスクの中心側力も外周側に向けて 移動しながら榭脂を硬化させる光線照射工程 S 50、 S60と；光線の照射を、ディスク の外周を照射する手前で停止する光線照射停止工程 S70とを備える。

[0018] このように構成すると、榭脂を塗布された円板状のディスクを第 1の回転速度で回転 させて榭脂を円板上に素早く満遍なく展延し、回転速度を低減させ、光線の照射位 置をディスクの中心側から外周側に向けて移動しながら榭脂を硬化させる光線を照 射し、ディスクの外周を照射する手前で光線の照射を停止するので、ディスクの周囲 から漏れる榭脂には光線が照射されず、よって漏れた榭脂の吸光度、粘度などの特 性は変化することなく、榭脂の再利用が可能な榭脂膜形成方法となる。

[0019] また、本発明の第 8の側面に係る榭脂膜形成方法では、例えば図 10に示すように 、上記榭脂膜形成方法において、ディスクに塗布された榭脂であって、ディスクから 漏れた榭脂を回収する榭脂回収工程 S80を備えでもよい。

[0020] このように構成すると、ディスクカゝら漏れた榭脂を回収するので、榭脂が再利用され 、榭脂の無駄のない榭脂膜形成方法となる。

[0021] また、本発明の第 9の側面は、例えば図 10に示すように、上記榭脂膜形成方法に おいて、光線照射停止工程 S70の後に、榭脂を硬化させる光線を照射する第 2の光 線照射工程 S 100を備えてもょ 、。

[0022] このように構成すると、ディスクの内周側力 外周側に向けて光線の照射位置を移 動し、ディスクの外周を照射する手前で光線の照射を停止することにより、移動しなが ら照射される光線により完全に硬化していない榭脂、また、ディスクの最外周の硬化 して!/、な!/、榭脂をも完全に硬化させることができるので、接着剤としてある 、は保護 膜としての硬化榭脂を形成する榭脂膜形成方法となる。

[0023] 前記目的を達成するために、本発明の第 10の側面に係るプログラムは、例えば図 1および図 10に示すように、中心に孔を有する円板状のディスクに榭脂膜を形成す る榭脂膜形成装置 100を制御するための制御装置可読のプログラムであって、ディ スクの孔の周囲に榭脂を塗布する榭脂塗布ステップ S 10と；榭脂が塗布されたデイス クを載置したスピンナ 16を第 1の回転速度で回転させる回転ステップ S30と；回転ス テツプ S30に続いて、スピンナ 16の回転速度を減速する減速ステップ S40と;減速ス テツプ S40に続いて、ディスクの内周側力も外周側に向けて光線を照射する光線照 射ステップ S50、 S60と;光線の照射を、ディスクの外周を照射する手前で停止する 光線照射停止ステップ S70とを行わせる。

[0024] このように構成すると、外周に至る手前で光線の照射を停止するので、ディスクの周 囲から漏れる榭脂には光線が照射されず、よって漏れた榭脂の吸光度、粘度などの 特性は変化することなく、榭脂の再利用が可能となるように榭脂膜形成装置を制御す るプログラムとなる。

[0025] 榭脂膜形成装置が、中心に孔を有する円板状のディスクを載置しディスクを孔を中 心に回転させるスピンナと、ディスクの孔の周囲に榭脂を塗布する榭脂供給装置と、 スピンナに載置されたディスクの榭脂を硬化する光線を照射する光線照射装置であ つて、スピンナに載置されたディスクの内周側から外周側に向けて光線の照射位置 を移動しディスクの外周に至る手前で光線の照射を停止する光線照射装置とを備え るので、外周に至る手前で光線の照射が停止され、ディスクの周囲力 漏れる榭脂に は光線が照射されず、よって漏れた榭脂の吸光度、粘度などの特性は変化すること なぐ榭脂の再利用が可能となる。

[0026] また、榭脂膜形成方法が、中心に孔を有する円板状のディスクの孔の周囲に榭脂 を塗布する榭脂供給工程と、榭脂供給工程により榭脂を塗布されたディスクを第 1の 回転速度で回転させる第 1回転工程と、第 1回転工程に続いて回転速度を低減する 減速工程と、減速工程と同時にあるいは減速工程に続いて榭脂を硬化させる光線の 照射位置をディスクの中心側から外周側に向けて移動しながら榭脂を硬化させる光 線照射工程と、光線の照射をディスクの外周を照射する手前で停止する光線照射停 止工程とを備えるので、榭脂を塗布された円板状のディスクを第 1の回転速度で回転 させて榭脂を円板上に素早く満遍なく展延し、回転速度を低減させ、光線の照射位 置をディスクの中心側から外周側に向けて移動しながら榭脂を硬化させる光線を照 射し、ディスクの外周を照射する手前で光線の照射を停止するので、ディスクの周囲 から漏れる榭脂には光線が照射されず、よって漏れた榭脂の吸光度、粘度などの特 性は変化することなく、榭脂の再利用が可能な榭脂膜形成方法となる。

[0027] また、中心に孔を有する円板状のディスクに榭脂膜を形成する榭脂膜形成装置を 制御するための制御装置可読のプログラム力 ディスクの孔の周囲に榭脂を塗布す る榭脂塗布ステップと、榭脂が塗布されたディスクを載置したスピンナを第 1の回転速 度で回転させる回転ステップと、回転ステップに続いてスピンナの回転速度を減速す る減速ステップと、減速ステップに続 、てディスクの内周側力 外周側に向けて光線 を照射する光線照射ステップと、光線の照射をディスクの外周を照射する手前で停 止する光線照射停止ステップとを行わせるので、外周に至る手前で光線の照射が停 止され、ディスクの周囲力 漏れる榭脂には光線が照射されず、よって漏れた榭脂の 吸光度、粘度などの特性は変化することなぐ榭脂の再利用が可能となるように榭脂 膜形成装置を制御するプログラムとなる。

[0028] また、上記の他、本発明は以下の構成を有するものであっても良い。

本発明は、前記榭脂膜形成装置であって、前記光線照射装置が、光線照射部と、 前記光線照射部を支持するアームと、前記アームを支持し、前記アームを旋回させ て、回転している前記ディスクの内周側から外周側へ走行させる旋回駆動部と、を具 備する。

[0029] このように構成することにより、旋回運動によって光線照射位置の厳密な意味での 連続移動が容易となる効果が得られる。更に、光線照射位置の移動速度を旋回運動 の速度によって調整することが出来る効果が得られる。

[0030] 本発明は、前記榭脂膜形成装置であって、前記光線照射装置が、光線照射部と、 前記光線照射部を支持するアームと、前記アームを支持し、前記アームを旋回させ て、回転している前記ディスクの内周側から外周側へ走行させる旋回駆動部と、前記 旋回駆動部に接続され、前記光線照射部が前記ディスクの外周部に移動してきたと きに、前記アームを上昇させて前記光線照射部を上昇させる垂直駆動部と、を具備 する。 [0031] このような構成においては、前記アームを上昇させることによってディスクと光線照 射部との距離が長くなるため、光線の照射を停止するのと同様の効果が得られる。

[0032] 本発明は、中心に孔を有する円板状のディスクをスピンナに載置し、前記孔を中心 に回転させる工程と、前記ディスクの前記孔の周囲に榭脂を塗布する工程と、前記ス ピンナに載置された前記ディスクの内周側から外周側に向けて照射位置を移動させ ながら光線を照射する工程と、前記ディスクの外周に至る手前で前記光線の照射を 停止する工程とを備える榭脂膜形成方法である。

[0033] このように構成すると、外周に至る手前で光線の照射が停止されるので、ディスクの 周囲から漏れる榭脂には光線が照射されず、よって漏れた榭脂の吸光度、粘度など の特性は変化することなぐ榭脂の再利用が可能となる。

図面の簡単な説明

[0034] [図 1]図 1は、本発明に係る榭脂膜形成装置の構成を説明する平面図である。

[図 2A]図 2Aは、ディスク重ね合わせ装置の全体構成とその動きを説明する側面図 である。

[図 2B]図 2Bは、ディスク重ね合わせ装置によりディスク基板を吸着保持している状態 を説明する拡大部分断面図である。

[図 3]図 3は、スピンナと光線照射装置およびスピンナに載置されたディスク力 漏れ た榭脂を捕捉するコーターハウス、コーターハウスで捕捉された榭脂を吸引する榭脂 吸引装置並びに制御装置を説明する部分断面ブロック図である。

[図 4]図 4は、光線照射装置の照射部の走行を説明する斜視図である。

[図 5]図 5は、時刻毎のスピンナによるディスクの回転速度と、光線照射装置による紫 外線照射位置との関係を表すグラフである。

[図 6]図 6は、ディスクの回転による樹脂の広がり速度と、紫外線照射位置の移動速 度との関係を説明する模式図である。

[図 7]図 7は、時刻毎のスピンナによるディスクの回転速度と、光線照射装置による紫 外線照射位置との関係を表すグラフである。

[図 8]図 8は、スピンナと光線照射装置およびスピンナに載置されたディスク力 漏れ た榭脂を捕捉するコーターハウス、コーターハウスで捕捉された榭脂 3を吸引する榭 脂吸引装置並びに制御装置を説明する部分断面ブロック図である。

[図 9]図 9は、スピンナと光線照射装置およびスピンナに載置されたディスク力 漏れ た榭脂を捕捉するコーターハウス、コーターハウスで捕捉された榭脂を吸引する榭脂 吸引装置並びに制御装置を説明する部分断面ブロック図である。

[図 10]図 10は、本発明に係る榭脂膜の形成方法の要部を説明するフロー図である。

[図 11A]図 11Aは、従来技術により形成した榭脂膜のディスク上の半径位置での分 布を表すグラフである。

[図 11B]図 11Bは、本発明により形成した榭脂膜のディスク上の半径位置での分布を 表すグラフである。

[図 12]図 12は、榭脂の紫外線領域における吸光度特性の比較を説明するグラフで、 曲線 Aは未使用の榭脂の吸光度を、曲線 Bは本発明による榭脂膜形成においてディ スクから漏れ回収された榭脂の吸光度を、曲線 Cは硬化しな 、程度に紫外線を照射 した後の樹脂の吸光度を表す。

符号の説明

1、 1' …ディスク基板

2···孔

3…榭脂

4、 5· "光ディスク

10···ディスク載置アーム

11···ターンテーブル

lla、b'"受け部

12···反転装置

13···樹脂供給装置

13&···供給ノズル

14·· 'ディスク重ね合わせ装置

15···移載装置

16(16A、 16B) ···スピンナ

16a…受け台 b' "回転軸

c…回転駆動装置

( 17A、 17B) · · ·光線照射装置·· '受け台

·· ，移載装置

·· •ターンテー -ブル

·· •硬化装置

·· 'ターンテー -ブル

·· ，反転装置

·· •除電装置

·· •移載装置

·· ，検査装置

·· '昇降ステ -ジ

·· •移載装置

·· •良品テーブル

·· •不良品テ -ブノレ

·· 'コーターノヽ >ウス

·· ，吸引管

·· '榭脂溜め

·· •吸引装置

·· 'シャッター

·· ，制御装置

1· ··ディスク受け台

2· ··突起

· ··切欠き

· ··カラム

1· -'ァーム

· ··吸着部 143···吸着面

144···真空部

145···懸架部

146···真空チューブ

171···照射部

172···照射アーム

173···垂直駆動部

174···旋回駆動部

175· "光ファイバ

176···紫外線光源

178···照射制御装置

180···光線照射装置

181·· -LED

188· "LED制御装置

R1 · · ·紫外線の照射を開始するディスク内周側の位置

R2- · '紫外線の照射を停止するディスク外周側の位置

VI、 V2、 V3-- 'ディスクの回転速度

発明を実施するための最良の形態

[0036] 以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、各図にお いて、互いに同一または相当する装置には同一符号を付し、重複した説明は省略す る。

[0037] 先ず、図 1を参照して本発明に係る榭脂膜形成装置 100について説明する。図 1は 、本発明に係る榭脂膜形成装置 100の構成を説明する平面図である。榭脂膜形成 装置 100は、ディスク基板 1 (図 3参照）をターンテーブル 11の受け部 11aに載置する ディスク載置アーム 10と、受け部 11aに載置されたディスク基板 1を処理工程に送る ターンテーブル 11と、受け部 11aに載置されたディスク基板 1を上下反転させる反転 装置 12と、ディスク基板 1の孔 2(図 3参照)の周囲に榭脂を塗布する榭脂供給装置 1 3と、榭脂 3を塗布されたディスク基板 1にディスク基板 1' (図 3参照）を重ねるディスク 重ね合わせ装置 14と、榭脂 3が塗布されてディスク基板 1、 1 'が重ね合わされたディ スク 4 (図 3参照)をターンテーブル 11からスピンナ 16A、 16Bに、また、スピンナ 16A 、 16B力も受け台 18に移載する移載装置 15と、ディスク 4を孔 2を中心に回転するス ピンナ 16A、 16Bと、スピンナ 16A、 16B上のディスク 4に光線を照射する光線照射 装置 17A、 17Bとを備える。ここで、スピンナ 16A、 16Bと光線照射装置 17A、 17Bと 力 ^系列備えられているのは、スピンナ 16A、 16Bでのディスク 4の回転と、光線照射 装置 17A 17Bによる光線の照射に時間が掛カるので、 2系列とし、榭脂膜形成装 置 100全体としての作業効率を向上するためである。スピンナ 16A、 16Bと光線照射 装置 17A 17Bとは 2系列でなく 1系列としてもよぐあるいは 3系列以上としてもよい 。 1系列とすれば榭脂膜形成装置 100が単純化、小型化、あるいは軽量化される。ま た、ディスク 4の回転と、光線の照射により時間が掛カる場合には、 3系列以上とする ことにより、榭脂膜形成装置 100全体としての作業効率を向上することができる。なお 、以降、 2系列のスピンナと光線照射装置とを区別するときには、スピンナ 16A、 16B と光線照射装置 17A、 17Bと記載する力 区別しないときには、スピンナ 16と光線照 射装置 17と記載する。

[0038] 榭脂膜形成装置 100はさらに、光線を照射されたディスク 4を一時載置する受け台 18と、ディスク 4を受け台 18からターンテーブル 20に、また、ターンテーブル 20から ターンテーブル 22に移載する移載装置 19と、ディスク 4を硬化装置 21に移動させる ターンテーブル 20と、ターンテーブル 20上のディスク 4に再度光線を照射し榭脂 3全 体を完全に硬化させる硬化装置 21と、ディスク 4を反転装置 23および除電装置 24に 移動するターンテーブル 22と、ディスク 4を上下反転する反転装置 23と、ディスク 4を 除電する除電装置 24と、ディスク 4をターンテーブル 22から検査装置 26にまた、検 查装置 26から昇降ステージ 27に移載する移載装置 25と、ディスク 4を検査する検査 装置 26と、ディスク 4を移載装置 28の高さにまで上昇させる昇降ステージ 27と、ディ スク 4を昇降ステージ 27から良品テーブル 29および不良品テーブル 30に移載する 移載装置 28と、検査で良品とされたディスク 4を積載する良品テーブル 29と、検査で 不良品とされたディスク 4を積載する不良品テーブル 30とを備える。

[0039] ディスク基板 1、 1，は、典型的にはポリカーボネート榭脂製の円盤であるが、材質は ポリカーボネート榭脂には限られず、レーザ光線を透過する他の材質も好適に用い られる。ディスク基板 1は円形の薄板で、その中心に円形の孔 2が形成されている。 外形は円形とするのが一般的であるが、円形でなくてもよい。ディスク基板 1の寸法の 一例としては、直径 120mm、中心孔の径 15mm、厚さ 0. 6mmであるが、寸法は用 途により様々である。ディスク基板 1の片面には螺旋形の溝または信号を形成する微 小な凹状の溝が形成されている。ディスク基板 1とディスク基板 1 'とはそれぞれ異な る溝が形成され、別々にターンテーブル 11の傍に仮置きされている。ディスク基板 1 とディスク基板 1 'とは交互に、ディスク載置アーム 10により、溝が形成された面を上 面としてターンテーブル 11の受け部 11aに載置される。ディスク載置アーム 10は、溝 が形成された面に接触することなぐ孔 2を内側からあるいは外縁を外側力も把持し て、ディスク基板 1、 1 'を受け部 11aに載置する。

[0040] ターンテーブル 11は、 12台の受け部 11aを備えている。受け台の数は 12台に限 定されないが、 12台であるとターンテーブル 11が 30度ずつ間欠的に回転することに より、順次同じ位置となるので、好適である。受け部 11aは、中央部が空間になってい て、その周辺が円環状に窪んで、その窪み上にディスク基板 1を載置する。受け部 1 laの円環状の窪みは、ターンテーブル 11の外周側で切り開かれており、外に開いて いる。このように外側が開いていることにより、後述する反転装置 12のアームを受け 部 11aに載置されたディスク基板 1の下面側に挿入することができる。

[0041] 反転装置 12は、受け部 11aに載置されたディスク基板 1 'の上下面を反転させる装 置で、図 3に示すように 2枚のディスク基板 1、 1 'を重ね合わせるときに溝が形成され た面を内側に挟むようにするために、ターンテーブル 11の各受け部 1 laに 1つおき に載置されたディスク基板 1 'を上下反転する。反転装置 12では、アームの先端でデ イスク基板 1 'を把持し、受け部 11aから持ち上げた後、アームが軸周りに 180度回転 することにより、ディスク基板 1 'の上下面を反転し、再度受け部 11a上に載置する。な お、反転装置 12は、ターンテーブル 11に載置される前のディスク基板 1 'を上下反転 するように、ターンテーブル 11とは別に設置されてもょ 、。

[0042] 榭脂供給装置 13は、ディスク基板 1の孔 2の周囲に円環状に榭脂を塗布する。榭脂 膜形成装置 100では、 2枚のディスク基板 1、 1 'を貼り合わせるので、榭脂としては液 状の接着剤としての紫外線硬化樹脂が用いられる。榭脂供給装置 13は、榭脂を供 給するノズル 13aが孔 2の周囲の円周上を移動することにより、榭脂を円環状に塗布 するが、ノズル 13aが固定されていて、ディスク基板 1がゆっくりと回転してもよい。榭 脂は、ディスク反転装置 12で上下面が反転されて 、な 、ディスク基板 1上に塗布さ れる。すなわち、ディスク基板 1の溝が形成された面に塗布される。また、榭脂供給装 置 13は、ターンテーブル 11に載置される前のディスク基板 1に榭脂を塗布するように 、ターンテーブル 11とは別に設置されてもよい。

[0043] 図 2に示すように、ディスク重ね合わせ装置 14は、ディスク反転装置 12で上下面が 反転されたディスク基板 1 'を吸着保持し、隣の受け部 1 laに載置されたディスク基板 1の上に重ね合わせる装置である。図 2Aはディスク重ね合わせ装置 14の全体構成と その動きを説明する側面図で、図 2Bは、ディスク重ね合わせ装置 14によりディスク基 板 1 'を吸着保持して 、る状態を説明する拡大部分断面図である。ディスク重ね合わ せ装置 14は、ディスク基板 1 'を吸着する吸着部 142を 2つ備え、 2つの吸着部 142 を懸架するアーム 141と、アーム 141の中心（2つの吸着部 142の中間点）で垂下し アームを 180度回転させるカラム 140とを備える。カラム 140は、不図示の固定台に より、所定の 2つの受け部 11aの中間位置のターンテーブル 11上方でアーム 141の 中心を垂下し、吸着部 142はそれぞれ受け部 11aの直上に位置する。そこで、 1つの 受け部 11aに載置されたディスク基板 1 'を吸着保持し、アーム 141を 180度回転す ることにより、隣の受け部 11a上に移動し、ディスク基板 1に重ね合わせる。アーム 14 1を 180度回転させる手段は、従来の方法を用いることができる。

[0044] ここで、図 2Bを参照して、ディスク基板 1，を吸着保持する構成にっ ヽて、詳細に説 明する。吸着部 142は、ディスク基板 1 'を吸着する吸着面 143を有し、吸着面 143に は、真空部 144が設けられ、真空部 144は真空チューブ 146と連接し、不図示の真 空装置により空気を吸引され、ディスク基板 1 'を吸着面 143に吸着する。吸着面 14 3は、ディスク基板 1，を傷付けないよう、また、真空吸着し易いように、例えば硬質ゴ ムなどの比較的柔らかい素材で形成してもよい。吸着部 142は、アーム 141から懸架 するために懸架部 145を有している。ディスク基板 1 'を吸着し、また、ディスク基板 1 ' をディスク基板 1に重ね合わせるに際し、ターンテーブル 11にディスク基板 1、 1 'を所 要の高さまで持ち上げる昇降台が備えられていれば、懸架部 145は単にアーム 141 力 懸架するだけの部材でよ 、が、ターンテーブル 11に昇降台が備えられて 、な ヽ ときには、懸架部 145は、例えばソレノイドなどにより伸縮し、吸着面 143を鉛直方向 に上下移動させる構成とする。 2枚のディスク基板 1、 1 'を重ね合わせるために、ディ スク反転装置 12で上下面が反転されたディスク基板 1 'を昇降台で持ち上げ、あるい は、懸架部 145で吸着面 143を下げ、吸着面 143をディスク基板 1 'に当接し、吸着 保持する。昇降台を下げ、あるいは、懸架部 145を縮めて、ディスク基板 1 'を受け台 11aの上方に離してから、アーム 141を 180度回転させてディスク基板 1 'を隣の受け 台 11aのディスク基板 1上に移動させる。昇降台によりディスク基板 1が上昇し、ある いは、懸架部 145が伸びて吸着面 143すなわち、ディスク基板 1 'を下げ、ディスク基 板 1，がディスク基板 1と重ね合わされたならば、ディスク基板 1，の吸着を解放する。 ディスク基板 1 'の吸着を解放したならば、昇降台を下げ、あるいは、懸架部 145を縮 めて、吸着面 143を受け台 11aの上方に離す。一の受け台 11a上でディスク基板 1 ' の吸着が行われるときに、隣の受け台 11aでディスク基板 1 'のディスク基板 1との重 ね合わせが行われる。

これまでは、ディスク重ね合わせ装置 14が 2つの吸着部 142を備え、アーム 141が 180度回転することにより、隣の受け台 11a上に移動するものとして説明した力 ディ スク重ね合わせ装置 14はアーム 141により固定支持された吸着部 142を一つだけ備 え、ディスク基盤 1 'を吸着保持し、ターンテーブル 11が 30度回転し、隣のディスク基 板 1が吸着部 142の直下に来たら、その位置でディスク基板 1 'をディスク基板 1に重 ね合わせるように構成してもよ ヽ。ディスク基板 1 'が吸着保持され持ち上げられた状 態のまま、ターンテーブル 11が 30度回転し、隣の受け部 11aに載置されていたディ スク基板 1の上にディスク基板 に重ね合わせることにより、 2枚のディスク基板 1、 1 ' が重ね合わせられる。このように、上カゝら重ねるディスク基板 1 'を移動することなく重 ね合わせると、ディスク基板 1とディスク基板 1 'とが、回転を含めてずれることがない。 一方、 2つの吸着部 142を備え、ターンテーブル 11の回転を待たずにアーム 141を 180度回転させてディスク基板 1，を移動させ、ディスク基板 1，をディスク基板 1に重 ね合わせると、作業時間が短縮される。なお、ディスク重ね合わせ装置 14は、図 2に 例示した構成には限られず、ディスク基板 1 'を持ち上げて、ディスク基板 1の上に重 ねる装置であれば他の構成でもよ 、。

[0046] 移載装置 15は、重ね合わせられたディスク基板 1、 1 ' (榭脂 3と併せて、ディスク 4と 称する）をターンテーブル 11の受け台 11aからスピンナ 16A、 16Bに移載し、また、 1 6A、 16B力も受け台 18に移載する。そのために、互いに直行する 3本のアームを有 し、受け台 11aからスピンナ 16Aにディスク 4を移載すると同時に、スピンナ 16Aから 受け台 18にディスク 4を移載し、受け台 11 aからスピンナ 16Bにディスク 4を移載する と同時に、スピンナ 16B力も受け台 18にディスク 4を移載できる構造となっている。そ こで、受け台 l la、スピンナ 16A、受け台 18およびスピンナ 16Bとは、この順で反時 計回りに円周上で互いに 90度離れた位置に配置されて 、る。移載装置 15は 2本の アームで 2つのディスク 4を同時に移載する構造としてもよ!/、が、 3本のアームを有す ることにより、ディスク 4を移載するための回転角を小さくすることができる。また、 4本 のアームを有する構造とすれば、元の位置に戻す動作を省略できるので、さらに移 載装置の回転角を小さくすることができる。

[0047] スピンナ 16は、ディスク 4を高速で回転させ榭脂 3をディスク 4に満遍なく展延すると 共に、光線照射装置 17による光線をディスク 4の全周に照射させるために、ディスク 4 を回転する装置である。スピンナ 16には、光線照射装置 17が組まれて設置されてい る。

[0048] ここで、図 3をも参照して、スピンナ 16と光線照射装置 17について、さらに詳しく説 明する。図 3は、スピンナ 16と光線照射装置 17およびスピンナ 16に載置されたディ スク 4から漏れた榭脂 3を捕捉するコーターハウス 40、コーターハウス 40で捕捉され た榭脂 3を吸引する榭脂吸引装置としての吸引管 41、榭脂溜め 42、吸引装置 43並 びに制御装置 60を説明する部分断面ブロック図である。図 3中、 1点鎖線は、制御信 号の伝達経路を示す。

[0049] スピンナ 16は、ディスク 4を載置し回転する受け台 16aと、回転軸 16bと、回転駆動 装置 16cとを有する。受け台 16aは、ディスク 4を載置する円形の平板と平板の中央 の円柱形の突起を有し、突起はディスク基板 1、 1 'の孔 2に嵌入する。そのため、ディ スク 4の中心と受け台 16aの回転中心とがー致する。突起は、孔 2に嵌入しやすいよう 、円柱形ではなぐ先に行くほど細くなるように形成してもよい。受け台 16aの突起の 裏側に当たる鉛直下方には円柱形の回転軸 16bが受け台 16aと同心に配置されて いる。回転軸 16bの他端は回転駆動装置 16cに接続し、回転駆動装置 16cの回転 により受け台 16aが突起を中心に回転する。回転駆動装置 16cは、例えばモータと 変速機とを備え、受け台 16aの回転速度を可変としている。変速機を備えず、インバ 一ターモータとしてもよいし、他の機構により受け台 16aを可変な回転速度で回転す る構成であればよい。

[0050] コーターハウス 40は、受け台 16aを囲むように形成された容器で、スピンナ 16によ り回転させられたディスク 4から飛散した榭脂 3を周囲の壁で捕捉して溜め、その他デ イスク 4から漏れた榭脂 3を溜める。コーターハウス 40の底面には開口が設けられ、開 口には、コーターハウス 40に溜められた榭脂 3を吸引する管である吸引管 41が接続 する。吸引管 41の他端は榭脂溜め 42に接続する。榭脂溜め 42は、密封された容器 で、吸引管 41に接続する開口と、吸引装置 43に接続するための開口とを有する。そ の他に、榭脂溜め 42に貯留された榭脂をときどき抜き取るための抜き取り口（不図示 )を有していてもよい。なお、抜き取り口は通常運転時には封止されている。吸引装 置 43は、コーターハウス 40の内部から、吸引管 41、榭脂溜め 42を経て空気を吸引 する装置で、典型的には、ドラフトファンが用いられる。吸引装置 43で榭脂溜め 42か ら吸引された空気は、大気に放出される。榭脂溜め 42から吸引装置 43に空気が吸 引される位置にデミスタ (不図示）を設置してもよい。

[0051] 光線照射装置 17は、ディスクに照射する光線としての紫外線をスポット状に出す照 射部 171と、照射部 171から照射される紫外線を発生する紫外線光源 176と、紫外 線光源 176の紫外線の発生を制御する照射制御装置 178と、紫外線光源 176で発 生した紫外線を照射部 171に伝達する光ファイバ 175とを有する。照射部 171は、デ イスク 4の孔 2の周囲の内周側の位置 R1から外周側へ向けて走行しながらディスク 4 の表面に紫外線を照射する。すなわち、照射部 171が走行するので、ディスク表面 上の紫外線の照射位置が移動する。しかし、外周に至る手前の位置 R2でそれ以上 外周側に走行することなく停止し、ディスク 4への紫外線の照射は終了する。照射部 171の走行や紫外線の照射、すなわち、紫外線光源 176での紫外線の発生は、照 射制御装置 178で制御される。ここで、半径 60mm (直径 120mm)のディスク基板を 用いる場合には、内周側の位置 R1は中心から半径 10〜25mm (ディスク基板の半 径の 16〜42%)の範囲とし、外周に至る手前の位置 R2は中心から半径 40〜58m m (ディスク基板の半径の 66〜97%)の範囲とするのが典型的である。

[0052] なお、スピンナ 16の回転駆動装置 16cが受け台 16aを回転するタイミングと回転速 度、および、光線照射装置 17がディスクに紫外線を照射するタイミングや照射部 171 の位置（走行速度を含む）、照射量などは、制御装置 60で制御され、スピンナ 16の 回転と光線照射装置 17の紫外線の照射は協働して行われる。また、制御装置 60は 、榭脂膜形成装置 100全体の動作を制御し、他に、例えば吸引装置 43の稼動と停 止などを制御してもよい。

[0053] ここで、図 4をも参照して、光線照射装置 17の照射部 171の走行について、さらに 詳しく説明する。図 4は、光線照射装置 17の照射部 171の走行を説明する斜視図で ある。照射部 171は、照射アーム 172に支持されている。照射部 171は、光ファイバ 1 75の端面としてもよいし、光ファイバ 175の端面にレンズ機構を設けて、紫外線を絞 つたり広げたりする機能を持たせてもよい。照射アーム 172は、垂直駆動部 173を介 して旋回駆動部 174により支持されている。垂直駆動部 173は、鉛直方向に上下し、 上昇することにより照射部 171をディスク 4から遠ざけ、ディスク 4への紫外線の照射 を実質的になくすことができる。ここで紫外線の照射が実質的になくなるとは、紫外線 が照射されて 、るとしても、榭脂 3が硬化しな 、程度の弱 、紫外線しか照射されな ヽ ことを意味し、「照射を停止する」の概念に含まれる。旋回駆動部 174は、照射アーム 172を旋回することにより、照射部 171をディスク 4の中心側と外周側との間を走行さ せるもので、ディスク 4の外周の外側まで走行するように構成されてもよいが、ディスク 4の外周に至る手前で停止するように、あるいは、外周に至る手前までしか走行しな いように旋回駆動部 174の旋回が制限されるように構成されてもよい。照射部 171と 紫外線光源 176とを接続し、紫外線光源 176の紫外線を照射部 171に伝達する光 ケーブル 175は柔軟な構造をしており、柔軟に変形するので、照射部 171の走行に 対しほとんど抵抗なく追随できる。

[0054] 図 1に戻り、榭脂膜形成装置 100の説明を続ける。受け台 18は、 2つのスピンナ 16 A、 16Bで光線照射装置 17A、 17B力も紫外線の照射を受けたディスク 4を一箇所 に仮置きする台である。受け台 18に一時載置されたディスク 4は、移載装置 19により ターンテーブル 20に移載される。移載装置 19は、所定の角度で開いた 2本のアーム を有し、 2本のアームを回転することによりディスク 4を受け台 18からターンテーブル 2 0に、ターンテーブル 20から次のターンテーブル 22に同時に移載することができる。 すなわち、受け台 18とターンテーブル 20のディスク 4を載置 ·搬出する位置と、受け 台 22のディスク 4を載置する位置とは、移載装置 19のアームの回転中心を中心とし た円弧上で等間隔に配置される。

[0055] ターンテーブル 20にはディスク 4を載置する受け部が 4台設けられ、ターンテープ ル 20力回転することにより、受け部に載置されたディスク 4が硬化装置 21に送られる 。ターンテーブル 20は 90度ずつ間欠的に回転し、載置されたディスク 4を硬化装置 2 1に送る。硬化装置 21は、ディスク 4の全面に紫外線を照射し、ディスク 4の榭脂 3を 完全に硬化させる装置である。硬化装置 21では、スピンナ 16と光線照射装置 17とで 榭脂 3を硬化させる場合と異なり、ディスク 4を回転させることなくディスク 4に紫外線を 照射する。硬化装置 21には、ノ ルス状に紫外線を発生するキセノンランプあるいは 連続的に発生する紫外線発生ランプをターンテーブル 20の上面あるいは下面ある いは両面に備える。硬化装置 21で榭脂 3を完全に硬化されたディスク 4は、移載装 置 19によりターンテーブル 22に移載される。

[0056] ターンテーブル 22は、ターンテーブル 11と同様に、ターンテーブル 22の外周側で 切り開かれ、外に開いている円筒形の受け部を有している。受け部は 4台設置され、 90度ずつ間欠的に回転する。ターンテーブル 22が回転することにより、ディスク 4は 反転装置 23および除電装置 24に順次送られる。反転装置 23は、反転装置 12と同 様の構造をしており、後に行われる検査工程の関係で必要な場合に、選択的にディ スク 4の上下面を反転する。そのために、ターンテーブル 22の受け部も外側が開いた 構造としている。除電装置 24は、イオンィ匕した空気を吹き出し、ディスク 4の表面に付 着したホコリなどを除去する装置である。

[0057] ホコリなどを除去されたディスク 4は、移載装置 25により、ターンテーブル 22から検 查装置 26に移載される。移載装置 25は、所定の角度で開いた 2本のアームを有し、 2本のアームを回転することによりディスク 4をターンテーブル 22から検査装置 26に、 検査装置 26から次の昇降ステージ 27に同時に移載することができる。すなわち、タ ーンテーブル 22からディスク 4を取り外す位置と、検査装置 26の位置と、昇降ステー ジ 27の位置とは、移載装置 25のアームの回転中心を中心とした円弧上で等間隔に 配置される。

[0058] 検査装置 26は、ディスク 4を載置し、載置したディスク 4の下面側からディスク 4の検 查を行う。検査は、例えば、ディスク基板 1、 1 'の傷の有無、 2枚のディスク基板 1、 1 ' の位置関係のずれ、榭脂 3の一様な広がり、ディスク 4のそりなどである。検査を終え たディスク 4は、移載装置 25により、昇降ステージ 27に移載される。昇降ステージ 27 は、これまでの工程が行われる高さと、製品を搬出する高さとの間を昇降するステー ジを有する。すなわち、榭脂膜形成装置 100では、製品としてのディスク 4を上方から 搬出し、以降の工程に送りやすくしている。昇降ステージ 27は、ディスク 4を載置する と上昇し、ディスク 4が移載装置 28の吸着面 (不図示）に接触するまで上昇する。移 載装置 28は、 1本の旋回するアームを有し、アームの先端下面にはディスク 4を吸着 する吸着面を有する。ディスク 4をアーム先端の吸着面で吸着し、そのアームを旋回 することにより、ディスク 4を検査の結果により、検査結果が合格のものは良品テープ ル 29に、検査結果が不合格のものは不良品テーブル 30に移載する。良品テーブル 29は、 8台の受け部を有し、 45度ずつ間欠的に回転して、製品としてのディスク 4を 1 枚ずつ各受け部に載置する。不良品テーブル 30は、検査結果が不合格であり、製 品として使用できな 、ディスク 4を置くスペースで、ディスク 4は積み重ねられてもよぐ 積み重ねやす ヽように、ディスク 4の外周を支えるガイドを設けてもょ 、。

[0059] 続いて、榭脂膜形成装置 100を用いて榭脂膜を形成して 2枚のディスク基板 1、 1， を貼り合わせてディスク 4を製造する方法について説明する。ディスク基板 1、 1 'は予 め別に製造され、記録の溝も形成された上で、ディスク基板 1およびディスク基板 1 ' それぞれ別々に榭脂膜形成装置 100の傍に搬送され、ディスク載置アーム 10の届く 範囲に、溝を形成された面を上に向けて保管される。ディスク基板 1およびディスク基 板 1，は、ディスク載置アーム 10により交互にターンテーブル 11の受け部 11aに順番 に載置される。すなわち、ターンテーブル 11の受け部 11aには、ディスク基板 1とディ スク基板 1 'が交互に載置される。

[0060] ターンテーブル 11は 30度ずつ間欠的に回転する。反転装置 12は、ディスク 1が反 転装置 12の位置にきてもディスク 1を反転することはなぐディスク 1 'が反転装置 12 の位置にきたときだけディスク 1 'を上下反転する。また、榭脂供給装置 13は、デイス ク 1が榭脂供給装置 13の位置にきたときにディスク 1の孔 2の周囲に榭脂を供給する 。榭脂 3は、供給ノズル 13aが孔 2の周囲を一回りしつつ塗布することにより、孔 2の周 りに円環状に塗布される。そして、ディスク重ね合わせ装置 14において、反転装置 1 2により上下反転されたディスク 1 '力 榭脂 3を塗布されたディスク 1に重ね合わされ、 ディスク 4となる。ディスク 1 'が上下反転されているので、重ね合わせ装置 14でデイス ク 1，を移動して隣の受け部 1 la上のディスク 1に重ね合わせることで、 2枚のディスク 1、 1'の溝を形成された面同士が合わされる。そして、ディスク 4は、移載装置 15によ りターンテーブル 11からスピンナ 16に移載される。

[0061] スピンナ 16にディスク 4が載置されると、スピンナ 16はディスク 4を回転し始める。デ イスク 4が回転している間に、図 3および図 4に示すように、旋回駆動部 174により照 射アーム 172が旋回され照射部 171を内周側の位置 R1に走行させ、また、垂直駆 動部 173により榭脂 3を硬化させるのに足る照射強度の紫外線がディスク 4に照射さ れる位置まで照射部 171が下げられる。あるいは、絞りで紫外線の照射強度を調整し てもよい。しかし、紫外線の照射はまだ開始されない。なお、紫外線の照射が連続的 に続けられて、垂直駆動部 173により照射部 171をディスク 4から遠ざけておき、ディ スク 4への紫外線の照射を実質的になくす状態に保っていてもよい。なお、ディスク 4 をスピンナ 16に載置し、あるいは搬出するときには、旋回駆動部 174により照射ァー ム 172を旋回し、スピンナ 16の上部力も外れた待機位置として、ディスク 4の載置'搬 出の障害とならないようにするのが好適である。

[0062] ここで、図 5をも参照して、スピンナ 16におけるディスク 4の回転と、光線照射装置 1 7の紫外線照射について説明する。図 5は、時刻毎のスピンナ 16によるディスク 4の 回転速度 Vと、光線照射装置による紫外線照射位置 Rとの関係を表すグラフであり、 横軸は時刻、縦軸はディスク 4の回転速度 (左側の軸）と紫外線照射位置 (右側の軸 )であり、太い線が回転速度 Vを、細くマーカーの付いた線が紫外線照射位置 Rを表 す。先ず、時刻 tOから回転を開始して、第 1の回転速度としての高速回転速度 V3ま で回転速度を上昇させる。高速回転速度 V3は、例えば 2000〜10000 (min^_1)で ある。そして、時刻 tlから時刻 t2まで、高速回転速度 V3を維持する。高速回転速度 V3を維持する時間は、典型的には数秒である力 維持する時間がなくてもよい。この 場合には、 tlと t2が同じ時刻になる。高速回転されることにより、孔 2の周囲に円環状 に塗布された榭脂 3は、遠心力により外周方向に広がり、ディスク基板 1とディスク基 板 1 'との間に満遍なく行き渡る。ただし、榭脂 3の厚さは、均一となることはほとんどな ぐ遠心力で外周に広がるので、外周側になればなるほど厚くなるのが一般的である

[0063] 時刻 t2で回転速度 Vを下げ始め、時刻 t3で回転速度 Vを低速回転速度 VIとする 。低速回転速度 VIは、高速回転速度 V3よりも低ぐ榭脂 3が遠心力で外周に広がる 速さが遅くなる回転速度であって、例えば数 100〜7000 (min^_1)である。なお、第 2 の回転速度は、必ずしも低速回転速度 VIを指すのではなぐ高速回転速度 V3より 低減された回転速度 Vの総てを指す。すなわち、高速回転速度 VIより下げ始めた回 転速度 Vも第 2の回転速度である。回転速度 Vを下げ始めたならば、光線照射装置 1 7にて、内周側の位置 R1から紫外線照射を始める。紫外線の照射をはじめるのは、 内周側の榭脂 3の厚さ、すなわち、ディスク基板 1とディスク基板 1 'との間隔が所定の 長さとなったときである。榭脂 3は紫外線硬化榭脂を用いているので、紫外線の照射 を受けることにより硬化し始める。榭脂 3は、光線照射装置 17からの紫外線により完 全に硬化してもよいし、完全に硬化せずゲル状となりその後の回転の遠心力により外 周に広がらな 、 (榭脂 3の厚さが薄くならな 、)程度に硬化することでもよ!/、。

[0064] 低速回転速度 VIで回転を維持することにより、紫外線の照射を受けた位置以外の 榭脂 3は遠心力により外周側に広がり続ける。硬化した位置に隣接する外周側の榭 脂 3の厚さが薄くなり、所定の厚さになると、旋回駆動部 174により照射アーム 172が 旋回され照射部 171を、すなわち紫外線を照射する位置を外周側に移動し、当該位 置の榭脂 3を硬化させる。このように、榭脂 3の厚さが所定の厚さとなったことを確認し ながら光線照射装置 17からの紫外線を照射する位置を外周側に移動することにより 、榭脂 3の厚さを均一にして、榭脂 3を硬化することができる。実際には、榭脂 3の厚さ が所定の厚さとなる時刻は、榭脂 3の粘度、回転速度 V等により定まるので、光線照 射装置 17からの紫外線を照射する位置を外周側に移動する移動速度を予め定めて おくことができる。すなわち、ディスク 4を回転させながら、紫外線照射位置を内周側 から外周側へ連続的に移動し、その移動速度を適切に調整することにより、榭脂 3の 膜厚をより均一に保つことが可能となる。なお、紫外線を照射する位置を外周側に移 動するのは、上述のように、旋回駆動部 174の旋回運動により実現され、移動速度も 旋回運動の速度によって調整される。

[0065] ここで、図 6をも参照して、榭脂 3の外周側への広がりと光線照射装置 17からの紫 外線照射位置の移動との関係を説明する。図 6は、ディスク 4の回転による榭脂 3の 広がり速度と、紫外線照射位置の移動速度との関係を説明する模式図である。低速 回転速度 VIでディスク 4を回転しても、榭脂 3は遠心力により外周側に広がる。その ときの榭脂 3の広がりの速度は、榭脂 3の粘性や回転速度、ディスク基板 1、 1，の所 定の間隔によっても異なる力 典型的には l〜5mmZsec程度である。それに対し、 照射部 171を外周側に走行する走行速度、すなわち光線照射装置 17からの紫外線 を照射する位置の移動速度は、榭脂 3の広がりの速度よりも速くすることが好ましぐ 例えば 10〜50mmZsecとする。そこで、図 6に示すように、僅かに紫外線照射を受 け、外周側に広がろうとする榭脂 3は、移動する紫外線照射に追いつかれ、紫外線 照射を受けて硬化する。すなわち、僅かにでも紫外線照射の影響を受けた榭脂 3が 外周側に広がり、ディスク 4の外周力 飛散することがない。

[0066] なお、外周側になると、ディスク 4上の外周側の点は内周側の点より早く回転移動し ており、同じ走行速度で照射部 171を移動すると、外周側ほど紫外線の照射量が減 少する。しかし、紫外線の照射量は徐々に減少するので、榭脂 3の硬化の程度が急 激に変化することはなぐ榭脂 3の厚さが不均一になる原因とはならない。すなわち、 外周側でも、ゲル状となりその後の回転の遠心力により外周に広がらな 、程度には 硬化するような紫外線の照度強度とする。あるいは、外周側となる程に照射部 171の 走行速度を遅くしてもよぐこの場合には、外周側と内周側との榭脂 3の硬化の程度 を均一とすることができる。あるいは、紫外線の照射強度を外周となる程に強くして、 同じ走行速度で照射部 171を走行してもよい。この場合には、紫外線の照射強度を 調整することにより、均一な榭脂 3の硬化を得られる。また、外周になる程に榭脂 3の 膜厚が薄くなり易い場合には、照射部 171の走行速度を外周側となる程に速くするこ とが要求される。この場合にも、紫外線の照射強度を外周になるに従って大きくする ことで、榭脂 3の硬化状態を調整できる。なお、紫外線の照射強度は、紫外線光源 1 76での紫外線の発生量を調節しても、照射部 171がレンズ機構を有する場合にはレ ンズの調節により調節しても、あるいは、垂直駆動部 173の上下移動により調節して ちょい。

図 5に戻り、スピンナ 16におけるディスク 4の回転と、光線照射装置 17の紫外線照 射について説明を続ける。光線照射装置 17の紫外線を照射する位置 Rは、ディスク 4の外周に至る手前の位置 R2で止められる。そして、その後、紫外線の照射を受け て硬化した範囲の外側、すなわち紫外線の照射を受けて 、な 、部分の榭脂 3の厚さ が所定の厚さになる時刻 t5まで低速回転速度 VIでの回転が持続され、時刻 t5でス ピンナ 16の回転速度 Vを低減し、時刻 t6で回転速度 Vが 0 (ゼロ）となる。低速回転 速度 VIでの回転が持続されている間は、ディスク 4での外周からは遠心力により榭 脂 3が飛散しており、紫外線の照射をディスク 4の外周まで行うと、紫外線の照射を受 けつつ硬化していない榭脂 3が飛散する。光線照射装置 17による紫外線の照射は、 照射部 171が位置 R2に達した段階で、停止される。紫外線の照射の停止は、紫外 線光源 176での紫外線の発生を停止してもよいし、あるいは、垂直駆動部 173により 、照射部 171をディスク 4から遠ざけ、ディスク 4への紫外線の照射を実質的になくす ことでもよい。その後、旋回駆動部 174の旋回により照射部 171および照射アーム 17 2は待機位置に待避される。このように、旋回駆動部 174と垂直駆動部 173との動き により、紫外線照射位置の移動、ディスク 4の載置'搬出の障害となる照射部 171、照 射アーム 172の待機、あるいは、照射の開始と停止を行うことができるので、装置構 成が簡単となり、また、動作時間を短くすることができる。光線照射装置 17の照射部 1 71の高さを、スピンナ 16の受け台 16aに載置された状態のディスク 4の表面に紫外 線を照射するのに適当な高さに予め設定しておけば、垂直駆動部 173を動作させる ことなぐ旋回駆動部 174による旋回動作のみでディスク 4の所定範囲の照射を実現 することができるため、さらに動作時間の短縮が可能となる。 [0067] 榭脂 3は一度紫外線の照射を受けると、紫外線吸光度特性や粘度などが変化する ので、紫外線の照射を受けた榭脂 3を新し ヽ榭脂と混ぜて再利用することは難 、。 そこで、ディスク 4の外周に至る僅かに手前の位置 R2で紫外線照射を止め、最外周 の榭脂 3に紫外線を照射しないようにし、その後の回転でも照射された榭脂が飛散し な!、ように回転を制御して 、るので、ディスク 4から飛散した榭脂 3に紫外線の照射を 受けた榭脂が混入することを防ぐことができる。特に前述の通りに、僅かにでも紫外 線照射の影響を受けた榭脂 3が外周側に広がり、ディスク 4の外周から飛散すること 力 、ので、紫外線の照射を受けた榭脂がディスク 4から飛散して混入することを防 止できる。

[0068] 図 3に示すように、ディスク 4から飛散した榭脂 3は、コーターハウス 40の壁面にあた り、自然落下してコーターハウス 40の底面に集まる。その際に、吸引装置 43で空気 を吸引することにより、榭脂溜め 42、吸引管 41を介してコーターハウス 40から空気が 吸引される。コーターハウス 40の中心部はスピンナ 16の受け台 16aにより塞がれて いるので、受け台 16aの周囲から吸引管 41に向けて空気を吸引し、すなわち、デイス ク 4の周囲に下方に向けての、また、コーターハウス 40の底面から吸引管 41への空 気の流れが形成される。よって、ディスク 4から飛散した榭脂 3は、空気の流れにも押 されて、吸引管 41に流れる。吸引管 41に流れた榭脂 3は、榭脂溜め 42の底部に集 まる。榭脂溜め 42では、上方に吸引装置 43へ連通する開口が設けられているので、 空気だけが吸引装置 43に吸引される。そのため、榭脂 3は榭脂溜め 42に貯留される 。なお、図 3では、吸引管 41が 1本だけ示されているが、吸引管 41は複数本備えられ 、一つの榭脂溜め 42に連通し、あるいは、複数の榭脂溜め 42に連通してもよい。特 に榭脂の粘性が高い場合には、複数の吸引管 41をコーターハウス 40の底面に配置 した方が、榭脂 3を榭脂溜め 42に集め易い。榭脂溜め 42に集められた榭脂 3は、適 宜取り出され、榭脂として再利用される。

[0069] なお、図 7に示すように、紫外線の照射を停止した後に、一端回転速度 Vを中速の 回転速度 V2まで上昇させてから、回転を停止してもよい。図 7は、図 5と同様に、時 刻毎のスピンナ 16によるディスク 4の回転速度 Vと、光線照射装置 17による紫外線照 射位置 Rとの関係を表すグラフであり、横軸は時刻、縦軸はディスク 4の回転速度 (左 側の軸）と紫外線照射位置 (右側の軸)であり、太い線が回転速度 Vを、細くマーカー の付いた線が紫外線照射位置 Rを表す。図 7のように、外周に至る手前まで紫外線を 照射して榭脂 3を硬化させた後、時刻 t7で回転速度 Vを回転速度 V2まで上げること により、硬化していない外周の榭脂 3を早く薄くすることができ、作業効率が向上する 。なお、回転速度 V2は、硬化した榭脂が回転により飛散しないような回転速度である 。特に、榭脂膜形成装置 100において、榭脂 3の展延 '硬化が作業工程のボトルネッ クとなる場合に、僅かな時間の短縮でも、榭脂膜形成装置 100全体の作業効率の向 上に寄与する。また、一定の低回転速度 VIで回転しながら紫外線の照射をすること なぐ紫外線の照射を回転速度 V3から回転速度 VIまで徐々に下げる間に行い、す なわち、紫外線を照射している時間（時刻 t2から時刻 t4)をかけて回転速度を高速の 回転速度 V3から低速の回転速度 VIまで下げるようにしてもよい。この場合には、図 5あるいは図 7のグラフにおいて、時刻 t3がなぐ時刻 t2から時刻 t4にかけて回転速 度が V3から VIに下げられる。回転速度の下げ方も、図 5あるいは図 7では時刻に対 して直線的に下げている力 直線的に下げなくてもよい。また、時刻 t3から時刻 t4の 間では、必ずしも一定の回転速度にする必要はなぐ膜厚の状態によって、回転速 度を上昇させたり、下降させたりしても構わない。この間に回転速度を上昇または下 降させることによって、ディスク 4の膜厚を高精度に制御することができる。

図 1に戻り、榭脂膜形成装置 100による 2枚のディスク基板 1、 1 'を貼り合わせたデ イスク 4の製造方法についての説明を続ける。ディスク 4は、スピンナ 16 A、 16Bから 移載装置 15により受け台 18に載置される。移載装置 15が 3本のアームを有し、ァー ムの開き角がターンテーブル 11の受け部 1 laのディスク 4を搬出される位置、スピン ナ 16および受け台 18によって作られる角度と一致しているので、受け部 11aからスピ ンナ 16への榭脂 3の展延 '硬化を行う前のディスク 4の移載と、スピンナ 16から受け 台 18への榭脂 3の展延 '硬化を行った後のディスク 4の移載とを同時に行うことができ 、効率がよい。受け台 18に仮置きされたディスク 4は、移載装置 19によりターンテー ブル 20の受け部に移載される。受け台 18を介してスピンナ 16からターンテーブル 2 0へディスク 4を移載することにより、スピンナ 16の作動とターンテーブル 20の作動と の間にタイミングの差が生じても不都合なく榭脂膜形成装置 100を稼働することがで きるが、受け台 18および移載装置 19を備えず、移載装置 15によりスピンナ 16からタ ーンテーブル 20へディスク 4を移載してもよ!、。

[0071] ターンテーブル 20は、 90度ずつ間欠的に回転することにより、ディスク 4を硬化装 置 21に送り、また、ディスク 4が載置された位置に戻す。ターンテーブル 20上の同じ 位置で、ディスク 4を載置 '搬出するので、一つの移載装置 19にてディスク 4の載置' 搬出が可能となる。硬化装置 21は、ディスク 4全体に紫外線を照射し、光線照射装 置 17にて紫外線の照射を受けていない榭脂 3、あるいは、半硬化状態であった榭脂 3を完全に硬化する。ここで、完全に硬化するとは、榭脂 3が固化することをいう。榭 脂 3が完全に硬化したディスク 4は移載装置 19により、ターンテーブル 22に移載され る。受け台 18、ターンテーブル 20およびターンテーブル 22の位置関係は移載装置 19の 2本のアームにより作られる角度と一致しているので、移載装置 15と同様に、受 け台 18からターンテーブル 20へのディスク 4の移載、ターンテーブル 20からターン テーブル 22へのディスク 4の移載とを同時に行うことができ、効率がよい。

[0072] ターンテーブル 22は、 90度ずつ間欠的に回転することにより、ディスク 4を反転装 置 23および除電装置 24に送る。反転装置 23では、後の検査のため、ディスク 4に形 成された膜の状態に応じてディスク 4の上下面を反転する。そして、除電装置 24にて イオン化された空気がディスク 4の上下面に吹き付けられ、ディスク 4の表面にホコリ 等が付着していても除去され、表面が清浄化される。表面が清浄化されたディスク 4 は、移載装置 25により、検査装置 26に移載される。検査装置 26では、ディスク 4の製 品としての検査を行う。例えば、ディスク基板 1とディスク基板 1 'との位置関係のずれ や傷の有無を検査する。その際に、除電装置 24にてホコリ等が除去されているので 、検査においてホコリ等を傷と誤認したり、ディスク基板 1、 1 'の位置の誤認がなぐ 信頼性が向上する。

[0073] 検査装置 26での検査を終えたディスク 4は、移載装置 25により、昇降ステージ 27 に移載される。ターンテーブル 22のディスク 4を搬出する位置、検査装置 26および 昇降ステージ 27の位置関係も移載装置 25の 2本のアームにより作られる角度と一致 しているので、移載装置 15、 19と同様に、ターンテーブル 22から検査装置 26への ディスク 4の移載と、検査装置 26から昇降ステージ 27へのディスク 4の移載とを同時 に行うことができ、効率がよい。昇降ステージ 27によりディスク 4は持ち上げられ、移 載装置 28のアーム先端の下面に当接し、アーム下面に設けられた吸着部により吸着 保持される。移載装置 28に吸着保持されたディスク 4は、検査結果に応じて、検査結 果が合格の場合には良品テーブル 29に、検査結果が不合格の場合には、不良品テ 一ブル 30に移載される。良品テーブル 29に載置されたディスク 4は、良品テーブル 2 9から後段の工程に送られ、出荷される。また、不良品テーブル 30に載置されたディ スク 4は、不良品として処理される。昇降ステージ 27により良品テーブル 29あるいは 不良品テーブル 30に移載されるディスク 4の高さが高くなるので、ディスク 4は、良品 テーブル 29あるいは不良品テーブル 30上で積み重ねることができる。また、昇降ス テージ 27により榭脂膜形成装置 100からディスク 4の搬出位置を高くするので、後段 の処理工程を行い易くすると共に、ターンテーブル 11、スピンナ 16、光線照射装置 1 7等、位置精度が高いことが要求される装置を低く安定よくすることができるが、良品 テーブル 29、不良品テーブル 30等を同じ高さに設置して、昇降ステージ 27を備え ていなくてもよい。

[0074] 次に、図 8を参照して、光線照射装置 17でディスク 5の内周側力も外周側に向けて 照射位置を移動し、外周に至る手前で光線の照射を停止する別の例を説明する。図 8は、図 3と同様、スピンナ 16と光線照射装置 17およびスピンナ 16に載置されたディ スク 5から漏れた榭脂 3を捕捉するコーターハウス 40、コーターハウス 40で捕捉され た榭脂 3を吸引する榭脂吸引装置としての吸引管 41、榭脂溜め 42、吸引装置 43並 びに制御装置 60を説明する部分断面ブロック図である。図 8中、 1点鎖線は、制御信 号の伝達経路を示す。なお、図 8では、ディスク 5として、 1枚のディスク基板 1に保護 膜としての榭脂膜 3を形成するだけで、 2枚のディスク基板を貼り合わせるディスク 4と は異なるディスク 5を示している力 ディスク 5ではなぐディスク 4を用いてもよい。

[0075] 図 8においては、光線照射装置 17の照射部 171からディスク 5への紫外線の照射 を遮断するシャッター 46がコーターハウス 40の側壁から延伸している点で、図 3とは 異なる。すなわち、紫外線の照射を停止する位置 R2から外周側の照射部 171の経 路において、照射部 171とディスク 5との間にシャッター 46として、紫外線を遮断する 板を配置する。シャッター 46を備えることにより、照射部 171が停止せず、あるいは、 上昇してディスク 5から遠ざけられなくても、シャッター 46に紫外線が遮蔽されることに より、ディスク 5への紫外線の照射が停止される。

[0076] なお、シャッター 46をコーターハウス 40の側壁を支点として回動可能とし、あるいは 、折りたたみまたは伸縮可能とし、ディスク 5の載置 ·搬出のときに、ディスク 5の移送 の障害とならない位置に待避させることが好ましい。あるいは、シャッター 46は、照射 部 171の直線あるいは円弧状の経路の直下にだけ配置すればよいので、ディスク 5 の載置 '搬出をディスク 5を傾斜させ、シャッター 46と接触しないようにして移送しても よい。

[0077] 続いて、図 9を参照して、光線照射装置 180でディスク 4の内周側力も外周側に向 けて照射位置を移動し、外周に至る手前で光線の照射を停止する別の例を説明す る。図 9は、スピンナ 16と光線照射装置 180およびスピンナ 16に載置されたディスク 4から漏れた榭脂 3を捕捉するコーターハウス 40、コーターハウス 40で捕捉された榭 脂 3を吸引する榭脂吸引装置としての吸引管 41、榭脂溜め 42、吸引装置 43並びに 制御装置 60を説明する部分断面ブロック図である。図 9中、 1点鎖線は、制御信号の 伝達経路を示す。光線照射装置 180は、照射部 171が移動しながら紫外線を照射 する構成ではなぐ小さく連続的に配置された発光ダイオード (LED) 181a、 181b, • · ·が順次点灯することにより、照射位置をディスク 4の内側から外側に移動する。最 外周の LED18 ljがディスク 4の外周に至る手前までしか配置されて 、な 、ので、紫 外線の照射は、ディスク 4の外周に至る手前で停止される。なお、図 9では、 LED 18 la〜181jを 10個配置したように図示して 、るが、より多数の LEDを配置してもよ!/、。 各 LED181a〜181jの間隔は、例えば 5mm以下とし、あるいは、 2mm以下とし、デ イスク 4の内側の LED18 laから順次点灯して、連続的な照射の移動とする。紫外線 の照射位置は、厳密な意味では連続的に移動してはいないが、複数の LED181a〜 181jが内周側力も外周側に向けて順次発光することにより、榭脂が内周側から外周 側に向けて順次硬化するので、実質的に連続的に移動することになる。 LEDは、デ イスク 4の半径方向に直線的に配置されてもよいし、あるいは、斜めに配置しても、千 鳥掛けに配置してもよく、ディスク 4の半径方向に連続的に移動しながら紫外線を照 射できればよい。なお、紫外線を発生するのは LEDには限られず、他のランプでもよ いが、ここでは、 LEDとして説明する。

[0078] 光線照射装置 180では、各 LED181a〜181jの点灯は、 Osecおきに点灯する。す なわち、内周側の LEDが消灯されると同時に隣接する外周側の LEDが点灯する。な お、 0. lsec未満のような僅かな時間の点灯時間の間隔あるいは点灯時間の重複が あってもよい。いずれの場合においても、榭脂 3の膜厚が所定の厚さで一様となるよう に、内側力 外側に向けて順次紫外線を照射する。 LED181a〜181jの点灯および 消灯は、 LED制御装置 188により制御される。 LED制御装置 188は、制御装置 60 により制御され、スピンナ 16の回転あるいはディスク 4の載置等とのタイミングを調整 することが好ましい。このように、照射位置を内周側力 外周側に連続的に移動する のに、 LEDを内周側力 外周側に向けて順次点灯 *消灯する構成とする光線照射装 置 180では、機械的な可動部が減少するので、装置が単純化し、機械的故障の発 生を抑えることができる。一方、光線照射装置 17のように、旋回駆動部 174の旋回に より照射アーム 172を介して照射部 171を走行させる構成とすると、紫外線照射位置 の厳密な意味での連続移動が容易であり、また、スピンナ 16上から照射部 171およ び照射アーム 172を待避することが容易でディスク 4をスピンナに載置し搬出し易い。

[0079] 榭脂膜形成装置 100では、図 1に示すように、ターンテーブル 11、ターンテーブル 20およびターンテーブル 22にて、ディスク 4が、榭脂供給装置 13、硬化装置 21等の 処理装置に送られるものとして説明した力 ターンテーブルに備えられる処理装置は 、図 1に示す例には限られず、また、ターンテーブルではなぐベルトコンベア等によ り順次処理装置に搬送されてもよい。

[0080] また、榭脂膜形成装置 100では、間に榭脂 3を挟んでディスク基板 1、 1 'を貼り合わ せるための接着剤としての榭脂膜を形成するものとして説明したが、図 8に示すディ スク 5のように、ディスク基板 1の保護膜としての榭脂膜を形成する装置として用いても よい。あるいは、ディスク重ね合わせ装置 14等を備えず、上記で説明した榭脂の展 延と硬化の手法を、保護膜を形成する装置に用いても、同様の効果が得られる。

[0081] ここで、図 10を参照して、榭脂膜の形成方法についてまとめる。図 10は、本発明に 係る榭脂膜の形成方法の要部を説明するフロー図である。先ず、ディスク基板の孔 の周囲に榭脂を円環状に塗布する (ステップ S10)。必要に応じて、榭脂が塗布され たディスク基板の榭脂が塗布された面に、ディスク基板を重ねる (ステップ S 12)。ディ スク基板は重ねずに、ステップ 12をスキップしてもよい。ディスク基板に榭脂が塗布さ れた、あるいは、ディスク基板が重ね合わされたディスクをスピンナに載置する (ステツ プ S20)。あるいは、ディスクをスピンナに載置 (ステップ S 20)した後に、榭脂をデイス クに塗布 (ステップ S 10)してもよい。

[0082] スピンナでディスクを高速回転し (ステップ S 30)、その後に、回転速度を減速する（ ステップ S40)。回転速度を減速したならば、あるいは回転速度を減速中に、紫外線 をディスクの内周側の位置に照射し始める (ステップ S50)。紫外線の照射位置をディ スクの内周側力 外周側に向けて移動する (ステップ S60)。紫外線の照射位置がデ イスクの外周に至る手前で照射を停止する (ステップ S 70)。ディスクを回転して!/、る 間にディスク力も漏れた榭脂を回収する (ステップ S80)。なお、図 10のフロー図では 、榭脂の回収 (ステップ S80)が紫外線の照射を停止した (ステップ S70)後に行われ るように図示されている力 ディスクを回転している間（ステップ S30〜S70)中、榭脂 の回収が行われてもよい。その後、ディスクの回転を停止する (ステップ S90)。なお、 ディスクの回転は完全に停止されなくても、遠心力により樹脂がディスク力 漏れなく なる程度に減速することでもよい。そして、ディスク全面に紫外線を照射し、榭脂を完 全に硬化させる (ステップ S 100)。なお、移動しながら照射する紫外線 (ステップ S50 力 70)により、照射を受けた部分の榭脂が完全に硬化しているときには、ステップ S 100での紫外線の照射は、硬化されて!ヽな 、ディスクの外周近傍だけでもよ!/、。

[0083] なお、上記の榭脂膜形成方法を、榭脂膜形成装置 100ではなぐ如何なる構成の 榭脂供給装置、スピンナ、紫外線照射装置に行わせてもよぐ例えば、各個別の装 置を用いてもよい。また、上記の榭脂膜形成方法に制御するプログラムを制御装置 に組み込むことにより、榭脂膜を形成してもよい。

[0084] 図 11に本発明に係る榭脂膜形成装置 ·方法にて形成した榭脂膜の厚さの分布と 従来技術により形成した榭脂膜の厚さの分布を示す。図 11Aは従来技術により形成 した榭脂膜のディスク上の半径位置での分布を、図 11Bは本発明により形成した榭 脂膜のディスク上の半径位置での分布を表すグラフで、図 11A及び B共に、横軸は ディスク上の半径位置、縦軸は測定した榭脂膜厚さの最大値と最小値 (左側の軸)と 榭脂膜厚さの最大値と最小値との差 (周方向の膜厚のバラツキ)である。

[0085] ここで、従来技術により形成した榭脂膜のディスク上の半径位置での分布とは、特 開平 2004— 280927号公報に記載のように、ディスク基板の孔の周囲に円環状に 榭脂を塗布した後、高速回転により榭脂を展延し、榭脂が展延しない程度の遅い回 転速度で回転させながら内周側力 所定の厚さの榭脂に紫外線を照射し、再度高速 回転により榭脂を展延した後、遅い回転速度で所定の厚さの榭脂に紫外線を照射し 、この操作を繰返して形成した榭脂膜の同心円状の各半径位置の厚さを数点測定し て求めた分布である。一方、本発明により形成した榭脂膜のディスク上の半径位置で の分布とは、ディスク基板の孔の周囲に円環状に榭脂を塗布した後、高速回転により 榭脂を展延し、回転速度を減速させて榭脂の展延する速度を遅めて榭脂膜の厚さが 所定厚さになるのに合わせて内周側力 外周側に徐々に位置を移動しながら紫外 線を照射し、外周に至る手前で照射を停止して形成した榭脂膜について、同様に計 測した厚さの分布である。

[0086] 図 11Aに示す従来技術により形成した榭脂膜の厚さの分布においても、厚さのバ ラツキは小さく抑えられはするものの、図 11Bに示す本発明により形成した榭脂膜の 厚さの分布において、第 1の回転速度による高速回転の後に、第 2の回転速度による 低速回転で榭脂が展延しているときに、内周から外周へと紫外線を連続的に照射し ているため、更にバラツキが小さぐ膜厚がより均一になっており、次世代大容量光デ イスク等、より精度を要求されるディスクに適用するのに好適であることが分かる。

[0087] 図 12は、榭脂の紫外線領域における吸光度特性の比較を説明するグラフで、横軸 は紫外線領域での波長と、縦軸は吸光度としている。図 12において、曲線 Aは未使 用の樹脂の吸光度を、曲線 Bは本発明による榭脂膜形成においてディスクから漏れ 回収された榭脂の吸光度を、曲線 Cは硬化しない程度に紫外線を照射した後の榭脂 の吸光度を表す。吸光度により紫外線硬化型榭脂の硬化反応の程度を判断すること ができ、紫外線硬化反応が進行すると紫外線波長領域での吸光度が変化する。曲 線 Cの紫外線を照射した榭脂の吸光度は、曲線 Aの紫外線照射前の樹脂の吸光度 と比べて、吸光度が大きく変化しており、紫外線硬化反応が進んでいることが分かる 。それに対して、曲線 Bの本発明による榭脂膜形成においてディスクから漏れ回収さ れた榭脂の吸光度は、曲線 Aの吸光度と比べて全く変化しておらず、曲線 Bは曲線 Aと重なっている。すなわち、本発明による榭脂膜形成においてディスクから漏れ回 収された榭脂は、紫外線硬化反応が全く進んでおらず、再利用が充分に可能である ことがわ力ゝる。

産業上の利用可能性

上記のように、漏れた榭脂の吸光度、粘度などの特性を変化させることなぐ榭脂の 再利用が可能な樹脂膜形成装置を提供する。

Claims

請求の範囲

[1] 中心に孔を有する円板状のディスクを載置し、該ディスクを前記孔を中心に回転さ せるスピンナと、

前記ディスクの前記孔の周囲に榭脂を塗布する榭脂供給装置と、

前記スピンナに載置されたディスクの前記榭脂を硬化する光線を照射する光線照 射装置であって、前記スピンナに載置されたディスクの内周側から外周側に向けて 前記光線の照射位置を移動し、前記ディスクの外周に至る手前で前記光線の照射を 停止する光線照射装置とを備える、

樹脂膜形成装置。

[2] 前記光線照射装置は、前記スピンナに載置されたディスクの内周側から外周側に 向けて、前記光線の照射位置を連続的に移動する、

請求項 1に記載の榭脂膜形成装置。

[3] 前記スピンナは、第 1の回転速度で前記ディスクを回転させて前記孔の周囲に塗布 された前記榭脂を展延し、その後に前記第 1の回転速度より遅い第 2の回転速度で 前記ディスクを回転させ、

前記光線照射装置は、前記スピンナが前記第 2の回転速度で前記ディスクを回転 させているときに、前記光線を前記ディスクに照射し始める、

請求項 1に記載の榭脂膜形成装置。

[4] 前記榭脂供給装置により前記樹脂が塗布されたディスクに、前記樹脂が塗布され た面側から、前記ディスクとは別のディスクを重ねるディスク重ね合わせ装置を備える 請求項 1に記載の榭脂膜形成装置。

[5] 前記スピンナに載置されたディスクから漏れた前記榭脂を吸弓 Iする榭脂吸弓 I装置 を備える、

請求項 1に記載の榭脂膜形成装置。

[6] 前記展延され、前記光線照射装置により光線を照射された榭脂に、再度光線を照 射する硬化装置を備える、

請求項 1に記載の榭脂膜形成装置。

[7] 前記光線照射装置は、

光線照射部と、

前記光線照射部を支持するアームと、

前記アームを支持し、前記アームを旋回させて、回転している前記ディスクの内周 側から外周側へ走行させる旋回駆動部と、を具備する

請求項 1に記載の榭脂膜形成装置。

[8] 前記光線照射装置は、

光線照射部と、

前記光線照射部を支持するアームと、

前記アームを支持し、前記アームを旋回させて、回転している前記ディスクの内周 側から外周側へ走行させる旋回駆動部と、

前記旋回駆動部に接続され、前記光線照射部が前記ディスクの外周部に移動して きたときに、前記アームを上昇させて前記光線照射部を上昇させる垂直駆動部と、を 具備する

請求項 1に記載の榭脂膜形成装置。

[9] 中心に孔を有する円板状のディスクをスピンナに載置し、前記孔を中心に回転させ る工程と、

前記ディスクの前記孔の周囲に榭脂を塗布する工程と、

前記スピンナに載置された前記ディスクの内周側から外周側に向けて照射位置を 移動させながら光線を照射する工程と、

前記ディスクの外周に至る手前で前記光線の照射を停止する工程とを備える、 榭脂膜形成方法。