JPH0973671A - ２層構造ディスクのスペーサ層形成装置及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 生産性に優れた２層構造ディスクのスペーサ
層形成装置及び方法を提供する。 【解決手段】 基板１０１上の低反射膜１０２と面対向
して配置されるスタンパー１０７と、低反射膜１０２と
スタンパー１０７との間に液状のＵＶ硬化樹脂１０３ａ
を供給する樹脂供給ノズル２２を有したＵＶ硬化樹脂供
給供給機２３と、基板１０７とスタンパー１０７との間
を圧接させてＵＶ硬化樹脂１０３ａを圧し潰しながら基
板１０７及びスタンパー１０７と共に回転し、ＵＶ硬化
樹脂１０３ａによるスペーサ層１０３を基板１０７とス
タンパー１０７との間に作るための手段と、このスペー
サ層１０３の形成動作に連動して回転中心側から外周側
に向かって移動しながらスペーサ層１０３に紫外線（Ｕ
Ｖ）スポット光を照射して硬化させるためのＵＶノズル
２４を有したＵＶ照射器２５と、このＵＶ照射器２５よ
りスペーサ層１０３に付与される紫外線の照射量を調整
するための手段とを備えてなる構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル・ビデオ
・ディスク（ＤＶＤ）用の高密度マルチメディアＣＤ
（コンパクト・ディスク）等を製造するのに好適な２層
構造ディスクのスペーサ層形成装置及び方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】今日、次世代高画質映像記録方式として
高密度マルチメディアＣＤを用いた技術が提案されてお
り、これはデジタル・ビデオ・ディスク（ＤＶＤ）で応
用することができる。高密度マルチメディアＣＤは、直
径１２cmの読み出し専用ディスクに現行ＣＤ（６５０メ
ガバイト）の５倍以上にあたる約3.7ギガバイトのデジ
タルデータを片面に記録することができ、さらにディス
クを片面２層構造（以下、この構造のディスクを単に
「２層構造ディスク」と言う）にすることで、記憶容量
が２倍、つまり約7.4ギガバイトになる。

【０００３】図１０は、その２層構造ディスクの一例を
示す概略断面図である。図１０において、この２層構造
ディスク１００は、ポリカーボネート基板１０１上に、
半透明膜（１層目の低反射膜）１０２、スペーサ層（透
明膜）１０３、アルミニューム（Al）等でなる金属膜
（２層目の高反射膜）１０４、保護膜（透明膜）１０５
を順次積層させた構造になっており、またポリカーボネ
ート基板１０１と１層目の低反射膜１０２との間、及び
スペーサ層１０３と２層目の高反射層１０４との間には
それぞれピット（凹凸）が設けられている。ここで、ポ
リカーボネート基板１０１の厚みは約1.2ｍｍ、１層目
の低反射膜１０２の厚みは0.05μｍ、スペーサ層１０３
の厚みは約40μｍ、２層目の高反射膜１０４の厚みは約
0.05μｍ、保護膜１０５の厚みは約10μｍである。

【０００４】そして、このように構成された２層構造デ
ィスク１００を使用した場合は、光学ピックアップ１１
０で、まず１層目にレンズの焦点を合わせて１層目の低
反射膜１０２のピットを読み取りながらディスクの中心
から外周端方向、またはその反対方向へ間欠的に移動す
る。すると、１層目のピットを読み取ることができ（図
１０中の実線で示す光学ピックアップ１１０参照）、２
層目の高反射膜１０４のピットを読み取るには２層目に
レンズの焦点を合わせてディスクの外周端側からディス
クの中心方向、またはその反対方向へ間欠的に移動す
る。すると、２層目のピットを読み取ることができ（図
１０中の点線で示す光学ピックアップ１１０参照）。し
たがって、これを切り換えることで１層目と２層目のピ
ットを連続して読み取ることができる。

【０００５】図１１は２層構造ディスク１００の成形工
程を概略的に示す図である。そこで、図１１を用いて２
層構造ディスク１００の成形方法を工程（１）〜（６）
の順に説明する。工程（１）では、スタンパー（原盤）
１０６を用いてピットの有る基板（ポリカーボネート基
板１０１）を成形する。工程（２）では、ポリカーボネ
ート基板１０１上にスパッタリングにより、半透明膜
（１層目の低反射膜）１０２を付ける。工程（３）で
は、半透明膜１０２上に、紫外線を照射すると硬化する
透明な液状をした樹脂（ＵＶ硬化樹脂）１０３ａを流し
込む。工程（４）では、工程（３）で流し込まれたＵＶ
硬化樹脂１０３ａの上から２層目のスタンパー（原盤）
１０７を圧着させ、ポリカーボネート基板１０１の下か
ら紫外線を照射する。すると、ＵＶ硬化樹脂１０３ａが
スタンパー１０７の型通りに成形され、１層目の低反射
膜１０２上にスペーサ層１０３が形成される。工程
（５）では、スペーサ層１０３上にスパッタリングによ
りアルミニウム金属膜（２層目の高反射膜）１０４を付
ける。工程（６）では、アルミニウム金属膜（２層目の
高反射膜）１０４上に、ＵＶ硬化樹脂１０３ａを流し込
み、紫外線を照射して硬化させると保護層１０５が形成
され、これにより２層構造ディスク１００が完成する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、２層
構造ディスク１００では、１層目の反射膜１０２におけ
るピットを読み取る場合は光学ピックアップ１１０のレ
ンズの焦点を１層目の反射膜１０２に合わせ、２層目の
反射膜１０４におけるピットを読み取る場合は光学ピッ
クアップ１１０のレンズの焦点を２層目の反射膜１０４
に合わせるようにしている。したがって、スペーサ層１
０３の厚みの管理は非常に厳しく要求される。また、ス
ペーサ層１０３を成形する場合、従来では、上面に半透
明膜１０２が設けられたポリカーボネート基板１０１上
にＵＶ硬化樹脂１０３ａを流し込み、この上からスタン
パー１０６を単に圧着させるとともに、ポリカーボネー
ト基板１０１の下から紫外線を照射して硬化させ、その
後、スタンパー１０６を離して形成するようにしてい
る。すなわち、ポリカーボネート基板１０１とスタンパ
ー１０６とで圧力を掛けてＵＶ硬化樹脂１０３ａを均一
に延ばしてスペーサ層１０３を形成する構造であるが、
ポリカーボネート基板１０１等の影響を受けてスペーサ
層１０３における分布精度が悪くなり易い。また、成形
するのに約２〜３分程かかり、生産性も悪いと言う問題
点があった。さらに、成形後にポリカーボネート基板１
０１よりはみ出した余分な材料（バリ）を処理するのに
手間がかかり、作業性が悪いと言う問題点があった。

【０００７】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は生産性に優れた２層構造ディスク
のスペーサ層形成装置及び方法を提供することにある。
さらに、他の目的は、以下に説明する内容の中で順次明
らかにして行く。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の２層構造ディスクのスペーサ層形成装置に
あっては、基板上に第１の反射層とスペーサ層と第２の
反射層を順次配してなるものであって、前記基板上の前
記第１の反射層と面対向して配置される回転スタンパー
と、前記第１の反射層と前記回転スタンパーとの間に液
状のＵＶ硬化樹脂を供給するためのＵＶ硬化樹脂供給手
段と、前記基板と前記回転スタンパーとの間を圧接させ
て前記ＵＶ硬化樹脂を圧し潰しながら前記基板及び前記
回転スタンパーと共に回転し、前記ＵＶ硬化樹脂による
前記スペーサ層を前記基板と前記回転スタンパーとの間
に作るためのスペーサ層形成手段と、前記スペーサ層形
成手段によるスペーサ層形成動作に連動して回転中心側
から外周側に向かって移動しながら前記スペーサ層に紫
外線（ＵＶ）スポット光を照射して硬化させるための紫
外線供給手段と、前記紫外線供給手段より前記スペーサ
層に付与される紫外線の照射量を調整するための手段と
を備えてなる構成としたものである。

【０００９】また、上記目的を達成するため、本発明の
２層構造ディスクのスペーサ層形成方法にあっては、基
板上に第１の反射層とスペーサ層と第２の反射層を順次
配してなるものであって、前記基板上の前記第１の反射
層と面対向して配置される回転スタンパーと前記第１の
反射層との間に液状のＵＶ硬化樹脂を供給し、前記基板
と前記回転スタンパーとの間を圧接させて前記ＵＶ硬化
樹脂を圧し潰しながら前記基板及び前記回転スタンパー
を回転させ、前記基板と前記回転スタンパーとの間に前
記ＵＶ硬化樹脂による前記スペーサ層を作るとともに、
前記スペーサ層形成動作に連動して回転中心側から外周
側に向かい、かつその移動に従って前記スペーサ層に付
与される紫外線（ＵＶ）の照射量を調整するようにした
ものである。

【００１０】上記発明によれば、基板上の第１の反射層
と面対向して配置される回転スタンパーと第１の反射層
との間に液状のＵＶ硬化樹脂を供給し、これを基板と回
転スタンパーとの間で圧し潰すときに、基板と回転スタ
ンパーとを回転させるので、この回転による遠心力でＵ
Ｖ硬化樹脂が基板と回転スタンパーとの間で都合良く引
き延ばされる。また、同時に、回転中心側から外周側に
向かって移動しながら前記スペーサ層に紫外線をスポッ
ト光で与えて硬化させるようにしているので、膜厚をコ
ントロールしながら、所定の膜厚が出来上がった部分か
ら徐々に固めることができる。しかも、スペーサ層が回
転中心から外周側に向かうに従って、その照射を必要と
する面積も大きくなるが、外周側に向かうに従ってスポ
ット光の移動速度を遅くする等してＵＶ照射量を変えて
いるので、ＵＶ硬化樹脂の硬化がどの位置でも同じよう
にでき、全体として均一化されたスペーサ層が簡単、か
つ素早く形成されることになる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて詳細に説明する。図１及び図２は本発明の一実
施の形態例として示すスペーサ層形成装置を示すもの
で、図１は図２のＡ−Ａ線に沿う概略縦断側面図、図２
は同上装置の上面図である。なお、図１及び図２におい
て、図１０及び図１１と同一符号を付したものは図１０
及び図１１と同一のものを示している。

【００１２】図１及び図２において、符号１は装置本体
である。この装置本体１の下側にはガイドフレーム２が
取り付けられている。ガイドフレーム２は、４隅に一端
が装置本体１の下面側に固定されているガイドロッド３
を各々有し、下方に延ばされた他端にはプレート４が固
定して取り付けられている。加えて、プレート４の略中
心にはモータ５が、その回転軸５ａを上方に向けて配設
されている。また、プレート４には、下側に向かってガ
イドロッド６が取り付けられているとともに、このガイ
ドロッド６の下端にプレート７が固定して取り付けら
れ、このプレート７上にシリンダー８が配設されてい
る。

【００１３】シリンダー８は、進退出ロッド８ａを有
し、この進退出ロッド８ａの先端にアンダーフレーム９
が一体移動可能に取り付けられている。なお、アンダー
フレーム９は、ガイドロッド３及びガイドロッド６の外
側に配設されており、内部には上記プレート４，モータ
５等が配設された状態になっている。そして、このアン
ダーフレーム９は、シリンダー８の駆動でガイドロッド
３及びガイドロッド６に案内されて上下方向に往復移動
可能になっている。また、アンダーフレーム９の上面に
おける略中心には貫通孔１０が設けられており、この貫
通孔１０に軸受１１を介してカップリングユニット１２
が回転自在に取り付けられている。

【００１４】カップリングユニット１２は、アンダーフ
レーム９内に配設されている上記モータ５とセンター軸
ユニット１３との間を一体的に連結しているもので、ま
たモータ５とカップリングユニット１２との間にはサブ
カップリング部材１４が介装され、このサブカップリン
グ部材１４を介してモータ５の駆動がカップリングユニ
ット１２に伝達され、回転軸５ａとサブカップリング部
材１４とカップリングユニット１２とが一体に回転可能
になっている。

【００１５】一方、センター軸ユニット１３は、装置本
体１を貫通して、この装置本体１の上側に突出されてお
り、この装置本体１の上面側に固定して取り付けられて
いるホルダーユニット１５によって回転自在に保持され
ている外側筒軸１３Ａと、この外側筒軸１３Ａ内におい
て、この外側筒軸１３Ａと独立して上下方向に移動可能
で、かつ外側筒軸１３Ａと一体に回転可能なセンターピ
ン１３Ｂとで構成されている。そして、ホルダーユニッ
ト１５よりも上側に突出された部分において、外側筒軸
１３Ａの上端にはスタンパー１０７が一体回転可能に取
り付けられ、センターピン１３Ｂの上端には基板位置決
め部材１６が一体回転可能に取り付けられている。ここ
で、スタンパー１０７の外径はポリカーボネート基板１
０１の外径と略等しく形成されていて、ＵＶ硬化樹脂１
０３ａでスペーサ層１０３を作るときに、スタンパー１
０７とポリカーボネート基板１０１との間からはみ出し
た余分なＵＶ硬化樹脂１０３ａでバリが発生しずらく
し、これによって成形後における処理がし易くなるよう
にしている。

【００１６】また、基板位置決め部材１６には、ポリカ
ーボネート基板１０１を配置し、その後から押さえ部材
１９で固定することで、ポリカーボネート基板１０１を
同心的に配置し、一体に回転することができる構造にな
っている。さらに、ホルダーユニット１５には、スタン
パー１０７の回転中心の近傍に一端が開口され、他端が
ホルダーユニット１５の外周部に開口されたエアー供給
・排出路１７が形成されている。このエアー供給・排出
路１７は図示せぬエア制御機に接続されており、このエ
アー供給・排出路１７を通してスタンパー１０７の回転
中心におけるエアを強制的に吸引したり、逆に回転中心
部分にエアーを強制的に吹き付けたりすることができる
構造になっている。

【００１７】加えて、装置本体１の上側において、スタ
ンパー１０７の周囲には、このスタンパー１０７を中心
に配して設けられた廃棄樹脂受け部材２０が固定シャフ
ト２１を介して装置本体１に取り付けられている。この
廃棄樹脂受け部材２０は、後述するようにして、スタン
パー１０７上より振り切られた余分なＵＶ硬化樹脂１０
３ａを受け、さらに廃棄孔２４を通して廃棄通路より排
出するためのものである。また、装置本体１上には、ス
タンパー１０７の上にＵＶ硬化樹脂１０３ａを供給する
ための樹脂供給ノズル２２を有したＵＶ硬化樹脂供給機
２３と、センターピン１３Ｂにセットされたポリカーボ
ネート基板１０１上に紫外線（ＵＶ）を照射するための
ＵＶノズル２４を有したＵＶ照射器２５とが配設されて
いる。そして、ＵＶ硬化樹脂供給用のノズル２２はスタ
ンパー１０７上と、この上から外れた位置とに移動でき
るとともに、ＵＶ照射用のＵＶノズル２４はスタンパー
１０７の中心から外周方向に向かって徐々に連続して移
動できるようになっている。

【００１８】そして、このように構成されたスペーサ層
形成装置では、シリンダー８が駆動されてロッド８ａが
突き出されると、アンダーフレーム９がガイドロッド
３，６にガイドされて上昇し、スタンパー１０７が取り
付けられている外側筒軸１３Ａ及びカップリング部材１
４は動かずに、センターピン１３Ｂ側だけが上昇する。
また、シリンダー８の駆動が停止されてロッド８ａが引
っ込むと、アンダーフレーム９がガイドロッド３，６に
ガイドされて下降し、これと一体にカップリング部材１
４及びセンターピン１３Ｂも下降する。さらに、モータ
５が回転されると、カップリング部材１４を介してセン
ター軸ユニット１３、すなわち外側筒軸１３Ａとセンタ
ーピン１３Ｂとが一体に回転する構造になっている。

【００１９】図３は図１及び図２に示したスペーサ層形
成装置を使用してなる２層構造ディスクの成形工程を概
略的に示す図で、図４乃至図９はスペーサ層形成装置の
要部動作説明図である。そこで、図３に示す成形工程
を、工程（１）〜（６）の順に図１及び図２、図３乃至
図９と共に説明する。なお、図３乃至図９において、図
１及び図２、図１０及び図１１とそれぞれ同一符号を付
したものは図１及び図２、図１０及び図１１と同一のも
のを示している。

【００２０】まず、工程（１）及び（２）は、図１１に
示した従来方法における工程（１）及び（２）と同じで
あり、工程（１）では、スタンパー（原盤）１０６を用
いてピットの有る基板（ポリカーボネート基板１０１）
を成形する。工程（２）では、ポリカーボネート基板１
０１上にスパッタリングにより、半透明膜（１層目の低
反射膜）１０２を付ける。

【００２１】工程（３）乃至工程（４−５）は図１及び
図２に示すスペーサ層形成装置を使用するもので、工程
（３）では、ポリカーボネート基板１０１がセンターピ
ン１３Ｂの基板位置決め部材１６にセットされる前に、
モータ５を低速で回転させ、このモータ５の駆動力で回
転しているセンター軸ユニット１３上のスタンパー（原
盤）１０７の上面に、紫外線を照射すると硬化する透明
な液状をした樹脂（ＵＶ硬化樹脂）１０３ａを樹脂供給
ノズル２２より滴下させて環状に流し込む（図４参
照）。その後、モータ５の回転を停止させる。

【００２２】工程（４−１）では、シリンダー８を駆動
させてロッド８ａを突き出し、アンダーフレーム９を上
昇させる。すると、これに伴ってセンターピン１３Ｂも
一体に上昇する（図５参照）。そして、このセンターピ
ン１３Ｂの基板位置決め部材１６に工程（２）で形成し
た低反射膜１０２を有するポリカーボネート基板１０１
を、低反射膜１０２が下側（スタンパー１０７と対向す
る側）となるようにしてセットし、センターピン１３Ｂ
とポリカーボネート基板１０１とが一体に回転できる状
態にする（図５の２点鎖線の部分参照）。続いて、シリ
ンダー８を駆動させてロッド８ａを引き戻し、アンダー
フレーム９と共にセンターピン１３Ｂを、スタンパー１
０７とポリカーボネート基板１０１との間に空気が入っ
て気泡が出来ないように徐々に下降させ、スタンパー１
０７上にＵＶ硬化樹脂１０３ａを介してポリカーボネー
ト基板１０１を接地させる。また、これと同時にエアー
供給・排出路１７を通して回転中心の下側より強制的に
エア抜きを行い、ＵＶ硬化樹脂１０３ａの一部を内側へ
と拡散させる（図６参照）。図６中にに符号２７で示す
矢印は抜かれているエアを示している。

【００２３】工程（４−２）では、センターピン１３Ｂ
の下降途中または下降終了後に、モータ５を高速で回転
させ、センター軸ユニット１３の外側筒軸１３Ａとセン
ターピン１３Ｂとを一体に、上記エアー供給・排出路１
７のエア抜きを伴いながら回転させる。そして、この回
転による遠心力でＵＶ硬化樹脂１０３ａを外側へと拡散
させて行き、余分なＵＶ硬化樹脂１０３ａは外周より放
出させる（図７参照）。この放出させた余分なＵＶ硬化
樹脂１０３ａは、スタンパー１０７の周囲に設けられた
廃棄樹脂受け部材２０で受けられ、さらに廃棄孔２４を
通して廃棄通路より排出される。なお、ここでは図示し
ないがスタンパー１０７とポリカーボネート基板１０１
との間のＵＶ硬化樹脂１０３ａの厚みがセンサにより監
視され、所定の厚みになるまでポリカーボネート基板１
０１（センターピン１３Ｂ）の下降並びに回転及び上記
エア抜きを行う。また、モータ５による回転、及びエア
抜きは、ＵＶ硬化樹脂１０３ａの粘度等を考慮して決定
される。

【００２４】工程（４−３）では、工程（４−２）でＵ
Ｖ硬化樹脂１０３ａが所定の厚さに拡散されたポリカー
ボネート基板１０１の上側でＵＶノズル２４を中心から
外周側に向かって移動させ、この移動に連動してポリカ
ーボネート基板１０２上で紫外線（ＵＶ）をスポット照
射する（図８参照）。すると、この紫外線がポリカーボ
ネート基板１０１を通してＵＶ硬化樹脂１０３ａに照射
され、この照射でＵＶ硬化樹脂１０３ａを硬化させ、こ
れがポリカーボネート基板１０１側に固着される。すな
わち、ポリカーボネート基板１０１の低反射膜１０２上
にスペーサ層１０３が形成されることになる。また、こ
こでポリカーボネート基板１０１の外周部分にＵＶ硬化
樹脂１０３ａによるバリが出ていたような場合には、図
示しないが、ポリカーボネート基板１０１の外周部分に
カッター刃等が突き出されて削り取られる。

【００２５】なお、紫外線を照射する場合、スペーサ層
形成装置が配置される部屋全体からも紫外線を照射でき
る構造にしても良いものである。すなわち、ＵＶノズル
と併用しても良いもので、この併用の場合はＵＶノズル
２４による紫外線の照射が始まると同時に部屋全体より
紫外線が補助的に照射される（図８中の符号２６で示す
線は、その部屋全体より照射されている紫外線を示して
いる）。さらに、本実施形態例において、ＵＶノズル２
４の移動は、中心から外周まで同じ速さではなく、中心
から外周側に離れるに従って移動速度が遅くなるように
する。これは、中心から外周側に離れるに従って周面積
が増加するためで、ＵＶノズル２４の移動速度を変える
ことにより各部分での紫外線の被照射量が略一定となる
ようにするためである。また、ＵＶノズル２４の移動速
度を変えずに、ＵＶノズル２４の照射量を変えたり、あ
るいはセンター軸ユニット１３の回転数を変えて被照射
量が一定となるようにしても差し支えないものである。

【００２６】そして、このようにＵＶノズル２４を中心
から外周に向かって移動させ、ＵＶ硬化樹脂１０３ａを
硬化させる理由としては次の点にある。ＵＶ硬化樹脂１
０３ａを間に挟んで回転させた場合、ＵＶ硬化樹脂１０
３ａは遠心力で中心側から外周側に拡散されて行き、所
定の寸法は中心側から徐々に得られることになる。そこ
で、中心側から外周側に向かってＵＶノズル２４を移動
させることにより、中心側の寸法精度が得られた部分よ
り徐々に紫外線を照射させて硬化させて行くことができ
る。すなわち、精度が得られた部分を、その精度が得ら
れた状態で直ぐに硬化させることができるので、精度が
狂うことがなくなる。また、全体の精度出しを待たずに
精度の出た部分より順番に硬化させる作業を行うことが
できるので、作業速度が向上することになる。

【００２７】工程（４−４）では、こうしてポリカーボ
ネート基板１０１上にスペーサ層１０３が形成されたら
モータ５を停止させ、センター軸ユニット１３の回転を
止める。

【００２８】工程（４−５）では、シリンダー８を駆動
させてロッド８ａを突き出し、アンダーフレーム９を上
昇させる。すると、これに伴ってセンターピン１３Ｂも
一体に上昇することになる。このとき、エアー供給・排
出路１７を通して回転中心の下側よりポリカーボネート
基板１０１の中心に向かってエアを強く吹き付ける。こ
れにより、スペーサ層１０３とスタンパー１０７との間
に空気が強制的に入り、スペーサ層１０３とスタンパー
１０７との間が剥がれ易くなり、スペーサ１０３をポリ
カーボネート基板１０１に付着させたまま、ポリカーボ
ネート基板１０１とスタンパー１０７の間が素早く剥離
され、スペーサ層形成装置より取り除かれる（図９参
照）。なお、図９中に符号２８で示す矢印は、その吹き
付けられているエアを示している。そして、こうして作
られたものが、低反射膜１０２とスペーサ層１０３を有
したポリカーボネート基板１０１となり、これは次の工
程（５）へと送られる。また、センターピン１３Ｂから
ポリカーボネート基板１０１が取り除かれると、シリン
ダー８を駆動させてロッド８ａを引き戻し、スペーサ層
形成装置は、初期状態に戻り、次のポリカーボネート基
板１０１がセットされるのを待ち、この動作が繰り返さ
れることになる。

【００２９】次に、工程（５）及び（６）は従来方法と
同じであり、工程（５）では、低反射膜１０２とスペー
サ層１０３とが設けられたポリカーボネート基板１０１
の、スペーサ層１０３上にスパッタリングによりアルミ
ニウム金属膜（２層目の高反射膜）１０４を付ける。工
程（６）では、アルミニウム金属膜（２層目の高反射
膜）１０４上に、ＵＶ硬化樹脂１０３ａを流し込み、紫
外線を照射して硬化させると保護層１０５が形成され
る。このように工程（１），（２），（３），（４−
１），（４−２），（４−３），（４−４），（４−
５），（５），（６）を経ることにより従来と同じ２層
構造ディスク１００を素早く作ることができることにな
る。

【００３０】したがって、この実施の形態例によれば、
次の（ａ）乃至（ｄ）に述べるような効果が期待でき
る。 （ａ）ポリカーボネート基板１０１上の低反射膜（第１
の反射層）１０２と面対向して配置されるスタンパー１
０７の上に、液状のＵＶ硬化樹脂１０３ａを滴下させて
環状に供給し、これをポリカーボネート基板１０１とス
タンパー１０７との間で圧し潰すが、このときにポリカ
ーボネート基板１０１とスタンパー１０７とを高速で回
転させ、この回転による遠心力でＵＶ硬化樹脂１０３ａ
をポリカーボネート基板１０１とスタンパー１０７との
間で引き延ばすようにしているので、ＵＶ硬化樹脂１０
３ａの偏りが防げる。また、同時に、回転中心側からポ
リカーボネート基板１０１とスタンパー１０７との間の
エアを強制的に抜きながらゆっくりと圧し潰すので、Ｕ
Ｖ硬化樹脂１０３ａ内にエア（気泡）が混入するのが防
止されるとともに、ＵＶ硬化樹脂１０３ａが内側にも引
かれ、内側に引かれるＵＶ硬化樹脂１０３ａと外側に引
かれるＵＶ硬化樹脂１０３ａとが略均一になって分布精
度が向上し、全体として均一化されたスペーサ層１０３
が簡単、かつ素早く形成されることになる。

【００３１】（ｂ）ポリカーボネート基板１０１上の低
反射膜１０２と面対向して配置されるスタンパー１０７
の上に、このスタンパー１０７を低速回転させている状
態で液状のＵＶ硬化樹脂１０３ａを供給し、これをポリ
カーボネート基板１０１とスタンパー１０７との間で圧
し潰すときに、ポリカーボネート基板１０２とスタンパ
ー１０７とを高速回転させるので、この回転による遠心
力でＵＶ硬化樹脂１０３ａがポリカーボネート基板１０
２とスタンパー１０７との間で都合良く引き延ばされ
る。また、同時に、回転中心側から外周側に向かって移
動しながらスペーサ層１０３に紫外線をスポット光で与
えて硬化させるようにしているので、膜厚をコントロー
ルしながら、しかも所定の膜厚が出来上がった部分から
徐々に固めることができることになり、分布精度が良
く、全体として均一化されたスペーサ層が簡単、かつ素
早く形成されることになる。

【００３２】（ｃ）ポリカーボネート基板１０１上の低
反射層１０２と面対向して配置されるスタンパー１０７
の上にＵＶ硬化樹脂１０３ａを供給し、これをポリカー
ボネート基板１０１とスタンパー１０７との間で圧し潰
すときに、ポリカーボネート基板１０１とスタンパー１
０７とを回転させるので、この回転による遠心力でＵＶ
硬化樹脂１０３ａがポリカーボネート基板１０１とスタ
ンパー１０７との間で都合良く引き延ばされる。また、
同時に、回転中心側から外周側に向かって移動しながら
スペーサ層１０３に紫外線をスポット光で与えて硬化さ
せるようにしているので、膜厚をコントロールしなが
ら、しかも所定の膜厚が出来上がった部分から徐々に固
めることができる。しかも、スペーサ層１０３が回転中
心から外周側に向かうに従って、その照射を必要とする
面積も大きくなるが、外周側に向かうに従ってＵＶスポ
ット光の移動速度を遅くする等してＵＶ照射量を変えて
いるので、ＵＶ硬化樹脂１０３ａの硬化がどの位置でも
同じようにでき、全体として均一化されたスペーサ層が
簡単、かつ素早く形成されることになる。

【００３３】（ｄ）ポリカーボネート基板１０１の外径
とスタンパー１０３の外径を略等しく形成しているの
で、ポリカーボネート基板１０１の外周とスタンパー１
０７の外周よりはみ出したＵＶ硬化樹脂（バリ）が発生
した場合は、ポリカーボネート基板１０１とスタンパー
１０７との回転により振り切り処理が行われるので、バ
リの付着が少なくなる。また、例え付着したとしても外
周面にカッター刃等を簡単に当てることができるのでは
ぎ取り処理がし易くなる。これにより作業性が良くな
り、生産性が向上する。

【００３４】なお、上記実施例では、基板としてポリカ
ーボネート基板１０１を使用した場合について説明した
が、これ以外の基板であっても勿論差し支えないもので
ある。また、ＵＶ硬化樹脂１０３ａをスタンパー１０７
上に滴下させるようにした構造に付いて開示したが、逆
にポリカーボネート基板１０１上にＵＶ硬化樹脂１０３
ａを滴下させるとともに、スタンパー１０３を降下させ
てＵＶ硬化樹脂１０３ａを圧し潰すように構成しても差
し支えないものである。

【００３５】

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
基板上の第１の反射層と面対向して配置される回転スタ
ンパーと第１の反射層との間にＵＶ硬化樹脂を供給し、
これを基板と回転スタンパーとの間で圧し潰すときに、
基板と回転スタンパーとを回転させるので、この回転に
よる遠心力でＵＶ硬化樹脂が基板と回転スタンパーとの
間で都合良く引き延ばされる。また、同時に、回転中心
側から外周側に向かって移動しながら前記スペーサ層に
紫外線をスポット光で与えて硬化させるようにしている
ので、膜厚をコントロールしながら、所定の膜厚が出来
上がった部分から徐々に固めることができる。しかも、
スペーサ層が回転中心から外周側に向かうに従って、そ
の照射を必要とする面積も大きくなるが、外周側に向か
うに従ってスポット光の移動速度を遅くする等してＵＶ
照射量を変えているので、ＵＶ硬化樹脂の硬化がどの位
置でも同じようにでき、全体として均一化されたスペー
サ層が簡単、かつ素早く形成されることになり、生産性
が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】図２のＡ−Ａ線に沿う概略縦断側面図である。

【図２】本発明の一実施の形態例として示すスペーサ層
形成装置を示す上面図である。

【図３】本発明の一実施の形態例として示す２層構造デ
ィスクの成形工程図である。

【図４】本発明の一実施の形態例として示すスペーサ層
形成装置を示す上面図である。

【図５】本実施例装置における動作説明図である。

【図６】本実施例装置における動作説明図である。

【図７】本実施例装置における動作説明図である。

【図８】本実施例装置における動作説明図である。

【図９】本実施例装置における動作説明図である。

【図１０】従来より知られる２層構造ディスクの一例を
示す概略構造図である。

【図１１】従来の２層構造ディスクにおける成形工程図
である。

【符号の説明】

１ 装置本体 １３ センター軸ユニット １３Ａ 外側筒軸 １３Ｂ センターピン １７ エアー供給・排出路 ２２ 樹脂供給ノズル ２３ ＵＶ硬化樹脂供給機 ２４ ＵＶノズル ２５ ＵＶ照射器 １００ ２層構造ディスク １０１ ポリカーボネート基板 １０２ 低反射層（１層目の低反射膜） １０３ スペーサ層 １０３ａ ＵＶ硬化樹脂 １０４ 高反射層（２層目の高反射膜） １０７ スタンパー

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に第１の反射層とスペーサ層と第
   ２の反射層を順次配してなる２層構造ディスクにおける
   スペーサ層を形成する装置において、 前記基板上の前記第１の反射層と面対向して配置される
   回転スタンパーと、 前記第１の反射層と前記回転スタンパーとの間に液状の
   ＵＶ硬化樹脂を供給するためのＵＶ硬化樹脂供給手段
   と、 前記基板と前記回転スタンパーとの間を圧接させて前記
   ＵＶ硬化樹脂を圧し潰しながら前記基板及び前記回転ス
   タンパーと共に回転し、前記ＵＶ硬化樹脂による前記ス
   ペーサ層を前記基板と前記回転スタンパーとの間に作る
   ためのスペーサ層形成手段と、 前記スペーサ層形成手段によるスペーサ層形成動作に連
   動して回転中心側から外周側に向かって移動しながら前
   記スペーサ層に紫外線（ＵＶ）スポット光を照射して硬
   化させるための紫外線供給手段と、 前記紫外線供給手段より前記スペーサ層に付与される紫
   外線の照射量を調整するための手段、 とを備えたことを特徴とする２層構造ディスクのスペー
   サ層形成装置。
2. 【請求項２】 前記紫外線の照射量を調整する手段は、
   前記紫外線スポットの移動速度を変えることで調整し、
   前記紫外線スポット光が回転中心側から外周側に位置さ
   れるのに従って前記紫外線スポットの移動が速くなるよ
   うに構成した請求項１に記載の２層構造ディスクのスペ
   ーサ層形成装置。
3. 【請求項３】 基板上に第１の反射層とスペーサ層と第
   ２の反射層を順次配してなる２層構造ディスクにおける
   スペーサ層を形成する方法において、 前記基板上の前記第１の反射層と面対向して配置される
   回転スタンパーと前記第１の反射層との間にＵＶ硬化樹
   脂を供給し、 前記基板と前記回転スタンパーとの間を圧接させて前記
   ＵＶ硬化樹脂を圧し潰しながら前記基板及び前記回転ス
   タンパーを回転させ、前記基板と前記回転スタンパーと
   の間に前記ＵＶ硬化樹脂による前記スペーサ層を作ると
   ともに、 前記スペーサ層形成動作に連動して回転中心側から外周
   側に向かい、かつその移動に従って前記スペーサ層に付
   与される紫外線（ＵＶ）の照射量を調整するようにした
   ことを特徴とする２層構造ディスクのスペーサ層形成方
   法。
4. 【請求項４】 前記紫外線の照射量の調整は、前記紫外
   線スポットの移動速度を変えることで調整し、前記紫外
   線スポットが回転中心側から外周側に位置されるのに従
   って前記紫外線スポットの移動が速くなるようにした請
   求項３に記載の２層構造ディスクのスペーサ層形成方
   法。