JPH09245387A - 情報記録ディスクの製造装置と情報記録ディスクの製造方法 - Google Patents

情報記録ディスクの製造装置と情報記録ディスクの製造方法

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JPH09245387A
JPH09245387A JP8082118A JP8211896A JPH09245387A JP H09245387 A JPH09245387 A JP H09245387A JP 8082118 A JP8082118 A JP 8082118A JP 8211896 A JP8211896 A JP 8211896A JP H09245387 A JPH09245387 A JP H09245387A
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JP
Japan
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curable resin
information recording
resin
reflective layer
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JP8082118A
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English (en)
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Yoshinori Yoshimura
芳紀 吉村
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Original Assignee
Sony Disc Technology Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 紫外線硬化樹脂が基板の内側からはみ出すの
を防止して、高品質なディスクを効率よく作ることがで
きる情報記録用ディスクの製造装置を提供すること。 【解決手段】 基板１０１上の第１の反射層１０２に対
応して配置されるスタンパー１０７と、第１の反射層１
０２とスタンパー１０７の間に、紫外線硬化樹脂１０３
ａを供給する紫外線硬化樹脂供給手段２００と、基板１
０１の第１の反射層１０２とスタンパー１０７の間で、
紫外線硬化樹脂１０３ａを基板１０１の第１の反射層１
０２とスタンパー１０７の間に広げて、基板１０１の第
１の反射層１０２上にスペーサ層１０３を形成する際
に、基板１０１の内周側のスペーサ層１０３の部分領域
を硬化させる部分紫外線照射手段２００と、を備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、いわゆるデジタル
・ビデオ・ディスク（ＤＶＤ）用の高密度マルチメディ
アディスクのようなディスク等を製造するのに用いて好
適な大容量の情報記録用ディスクの製造方法と情報記録
用ディスクの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】今日、次世代高画質映像記録方式として
は、たとえば大容量の情報記録用高密度マルチメディア
ディスクを用いた技術が提案されており、これはいわゆ
るデジタル・ビデオ・ディスク（ＤＶＤ）として用いる
ことができる。高密度マルチメディアディスク（たとえ
ば高密度マルチメディアＣＤ）の情報記録部は、直径１
２ｃｍの読み出し専用ディスクに現行ＣＤ（コンパクト
ディスク：６５０メガバイト）の５倍以上にあたる約
３．７ギガバイトのデジタルデータを片面に記録するこ
とができる。さらに基板の片面に２層の情報記録部を備
えることで、記憶容量が２倍、つまり約７．４ギガバイ
トになる。
【０００３】図１８は、上述の情報記録用ディスクの一
例を示す概略断面図である。図１８において、このディ
スク１００は、ポリカーボネート基板１０１上に、半透
明層（１層目の低反射層）１０２、スペーサ層（透明
層）１０３、アルミニウム（Ａｌ）等でなる金属層（２
層目の高反射層）１０４、保護層（透明層）１０５を順
次積層させた構造になっている。低反射層１０２と高反
射層１０４は情報記録部である。したがって、このポリ
カーボネート基板１０１と１層目の反射層１０２との
間、及びスペーサ層１０３と２層目の高反射層１０４と
の間には、それぞれピット（凹凸）が設けられている。
たとえばポリカーボネート基板１０１の厚みは約１．２
ｍｍ、１層目の低反射層１０２の厚みは０．０５μｍ、
スペーサ層１０３の厚みは約４０μｍ、２層目の高反射
層１０４の厚みは約０．０５μｍ、保護層１０５の厚み
は約１０μｍである。
【０００４】このように構成された情報記録用ディスク
１００は、基板１０１と保護層１０５であるので、２層
構造ディスクとも呼んでいる。実線で示す光学ピックア
ップ１１０は１層目にレンズの焦点を合わせて１層目の
低反射層１０２のピットを読み取りながらディスクの中
心から外周端方向、またはその反対方向へ間欠的に移動
する。すると、光学ピックアップ１１０は１層目の低反
射層１０２のピットの情報を読み取ることができる。
【０００５】一方、破線で示す同じ光学ピックアップ１
１０が、２層目の高反射層１０４のピットを読み取るに
は２層目にレンズの焦点を合わせてディスクの外周端側
からディスクの中心方向、またはその反対方向へ間欠的
に移動する。すると、光学ピックアップ１１０は２層目
の高反射層１０４のピットの情報を読み取ることができ
る。したがって、光学ピックアップ１１０のレンズの焦
点を切り換えることで１層目と２層目の反射層のピット
のデジタル情報を選択して読み取ることができる。
【０００６】図１９はディスク１００の成形工程を概略
的に示す図である。図１９を用いて、ディスク１００の
成形方法を、工程（１）〜（６）の順に説明する。工程
（１）では、スタンパー（原盤）１０６がポリカーボネ
ート基板１０１にピットを成形する。工程（２）では、
ポリカーボネート基板１０１上に、スパッタリングによ
り１層目の低反射層１０２が設けられる。工程（３）で
は、紫外線を照射すると硬化する透明な液状をした樹脂
（以下、ＵＶ硬化樹脂という）１０３ａが低反射層１０
２の上にたとえばスピンコート法で流し込まれる。
【０００７】工程（４）では、工程（３）で流し込まれ
たＵＶ硬化樹脂１０３ａの上から２層目のスタンパー
（原盤）１０７が圧着され、ポリカーボネート基板１０
１の下から紫外線を照射する。すると、ＵＶ硬化樹脂１
０３ａがスタンパー１０７の型通りに成形され、１層目
の低反射層１０２上にスペーサ層１０３が形成される。
工程（５）では、スペーサ層１０３上にスパッタリング
により２層目の高反射層１０４が設けられる。工程
（６）では、２層目の高反射層１０４上に、ＵＶ硬化樹
脂１０３ａがスピンコート法で流し込まれて、このＵＶ
硬化樹脂１０３ａが、紫外線を照射して硬化させると保
護層１０５が形成され、これにより基板１０１と保護層
１０５を有する２層構造のディスク１００が完成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述したよ
うな貼り合わせ型のディスク１００では、ディスクの信
頼性あるいは強度の向上を図るために、１層目の低反射
層１０２と２層目の高反射層１０４は、広い領域でスペ
ーサ層１０３により接着するのが望ましいが、このよう
にスピンコート法により紫外線硬化樹脂を供給する場合
には、ポリカーボネート基板１０１のセンター孔付近の
接着が非常に難しいという問題がある。この理由として
は、次のようなものがある。
【０００９】（１）一般的に、ポリカーボネート基板１
０１の内周側の位置には、溝を設けて、この溝の空間
を、ＵＶ硬化樹脂１０３ａの余分な部分を収容するバッ
ファ部分とすることで、ＵＶ硬化樹脂１０３ａがポリカ
ーボネート基板１０１の所定の位置からさらに内側に出
ていくのを止めるようにしている。このために、センタ
ー孔付近に設けるバッファ用の溝の容量が限られる。し
かもこのような溝をポリカーボネート基板１０１の内側
よりに設けると、ポリカーボネート基板１０１の強度が
低下してしまう。従って、ポリカーボネート基板１０１
の内側よりの部分には、十分なバッファ容量を有する溝
を確保することができない。
【００１０】（２）ＵＶ硬化樹脂１０３ａは、温度変化
が小さくても大きく粘度が変化するために、上述した溝
のバッファでは、ＵＶ硬化樹脂１０３ａの挙動が変わる
ことによりＵＶ硬化樹脂１０３ａがポリカーボネート基
板１０１の内側からはみ出してしまうという不良が発生
する。この不良を防止するためには、ＵＶ硬化樹脂１０
３ａのみならず、ディスクの製造装置全体の温度調節を
精密に行う必要があるという問題がある。
【００１１】そこで本発明は上記課題を解消するために
なされたものであり、紫外線硬化樹脂が基板の内側から
はみ出すのを防止して、高品質なディスクを効率よく作
ることができる情報記録用ディスクの製造装置と情報記
録用ディスクの製造方法を提供することを目的としてい
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明にあ
っては、基板上に情報記録部としての第１の反射層とス
ペーサ層と情報記録部としての第２の反射層を順次配置
して情報記録用ディスクを製造するための製造装置にお
いて、基板上の第１の反射層に対応して配置されるスタ
ンパーと、第１の反射層とスタンパーの間に、紫外線硬
化樹脂を供給する紫外線硬化樹脂供給手段と、基板の第
１の反射層とスタンパーの間で、紫外線硬化樹脂を基板
の第１の反射層とスタンパーの間に広げて、基板の第１
の反射層上にスペーサ層を形成する際に、基板の内周側
のスペーサ層の部分領域を硬化させる部分紫外線照射手
段と、を備えることを特徴とする情報記録用ディスクの
製造装置により、達成される。
【００１３】本発明では、紫外線硬化樹脂供給手段が、
紫外線硬化樹脂を第１の反射層とスタンパーの間に供給
する。そして基板の第１の反射層とスタンパーの間にお
いて、供給された紫外線硬化樹脂を広げて基板にスペー
サ層を形成する際に、部分紫外線照射手段が、基板の内
周側のスペーサ層の部分領域を先に硬化させるようにな
っている。このようにすることで、スペーサ層の全体領
域を硬化させる前に、基板の内周側に展開されてくるス
ペーサ層の部分領域を硬化させることができるので、紫
外線硬化樹脂が基板の内周側からはみ出るような不良現
象を確実に防止することができる。そして、基板の外周
側から出る紫外線硬化樹脂は硬化しないので、その外周
側から出た紫外線硬化樹脂は再利用できる。
【００１４】また上記目的は本発明にあっては、第１の
基板と第２の基板との間に情報記録部である反射層を備
えるように、第１の基板と第２の基板を貼り合わせるこ
とで形成される情報記録用ディスクの製造方法におい
て、第１の基板と第２の基板の間に紫外線硬化樹脂を供
給して広げて第１の基板と第２の基板を貼り合わせる際
に、第１の基板と第２の基板の内周側の紫外線硬化樹脂
の部分領域を先に硬化させることを特徴とする情報記録
用ディスクの製造方法により、達成される。
【００１５】本発明では、第１の基板と第２の基板を貼
り付ける際に、第１の基板と第２の基板の内周側の紫外
線硬化樹脂の部分領域を先に硬化させることで、紫外線
硬化樹脂が基板の内周側からはみ出るような不良現象を
防止できる。このため、高品質な２枚の基板を貼り合わ
せたディスクを作ることができる。そして、基板の外周
側から出る紫外線硬化樹脂は硬化しないので、その外周
側から出た紫外線硬化樹脂は再利用できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明
の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨
の記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。図１及び図２は本発明の好ましい実施の形態として
示す情報記録用ディスクの製造装置を示すもので、図１
は図２のＡ−Ａ線に沿う概略縦断側面図、図２はこの製
造装置の上面図である。
【００１７】図１の２層構造ディスクの製造装置は、本
体１、スタンパー１０７、紫外線硬化樹脂供給手段であ
るＵＶ硬化樹脂供給機２３、部分紫外線照射手段である
固定ＵＶ照射器２００、スペーサ層形成手段２５０等を
有している。
【００１８】まず本体１およびその周辺の機構部分につ
いて説明する。図１及び図２において、本体１の下側に
はガイドフレーム２が取り付けられている。ガイドフレ
ーム２は４本のガイドロッド３を有し、各ガイドロッド
３の一端が本体１の下面側の４隅部に固定されている。
ガイドロッド３の下方に延ばされた他端には、プレート
４が取り付けられている。プレート４の略中心にはモー
タ５が、その回転軸５ａを上方に向けて配設されてい
る。
【００１９】プレート４には、ガイドロッド６の上端部
が取り付けられているとともに、このガイドロッド６の
下端部にプレート７が取り付けられ、このプレート７上
にシリンダー８が配設されている。シリンダー８は、進
退出ロッド８ａを有し、この進退出ロッド８ａの先端に
アンダーフレーム９が一体移動可能に取り付けられてい
る。アンダーフレーム９は、ガイドロッド３及びガイド
ロッド６の外側に配設されており、内部には上記プレー
ト４、モータ５等が収容された状態になっている。この
アンダーフレーム９は、シリンダー８の駆動でガイドロ
ッド３及びガイドロッド６に案内されて、Ｚ方向（上下
方向）に往復移動可能になっている。アンダーフレーム
９の上面の略中心には、貫通孔１０が設けられており、
この貫通孔１０には軸受１１を介してカップリングユニ
ット１２が回転自在に取り付けられている。
【００２０】カップリングユニット１２は、アンダーフ
レーム９内のモータ５の出力軸５ａとセンター軸ユニッ
ト１３とを一体的に連結している。モータ５の出力軸５
ａとカップリングユニット１２との間にはサブカップリ
ング部材１４が設けられ、このサブカップリング部材１
４を介して、モータ５の駆動力がカップリングユニット
１２に伝達され、出力軸５ａとサブカップリング部材１
４とカップリングユニット１２がｒ方向に一体に回転可
能になっている。
【００２１】一方、センター軸ユニット１３は、本体１
を貫通して本体１の上側に突出されている。このセンタ
ー軸ユニット１３は、本体１の上面側に固定して取り付
けられているホルダーユニット１５によって回転自在に
保持されている外側筒軸１３Ａと、この外側筒軸１３Ａ
内において、この外側筒軸１３Ａと独立して上下方向に
移動可能で、かつ外側筒軸１３Ａと一体に回転可能なセ
ンターピン１３Ｂを有している。ホルダーユニット１５
よりも上側に突出された部分において、スタンパー１０
７が外側筒軸１３Ａの上端に対して一体に回転可能に取
り付けられ、センターピン１３Ｂの上端には基板位置決
め部材１６が一体に回転可能に取り付けられている。ス
タンパー１０７の外径は、ポリカーボネート基板１０１
の外径と略等しく形成されている。この理由は、図８の
ようにＵＶ硬化樹脂１０３ａでスペーサ層１０３を作る
ときに、スタンパー１０７とポリカーボネート基板１０
１との間からはみ出した余分なＵＶ硬化樹脂１０３ａで
バリが発生しずらくし、これによって成形後における処
理がし易くするためである。
【００２２】図８のように、基板位置決め部材１６に
は、ポリカーボネート基板１０１を配置し、その後から
押さえ部材１９で固定することで、ポリカーボネート基
板１０１とセンターピン１３Ｂは同心的に配置され、ポ
リカーボネート基板１０１とセンターピン１３Ｂを一体
に回転することができる構造になっている。図１のホル
ダーユニット１５には、スタンパー１０７の回転中心の
近傍に一端が開口され、他端がホルダーユニット１５の
外周部に開口されたエアー供給・排出路１７が形成され
ている。このエアー供給・排出路１７は、エアー制御機
１３０に接続されており、エアー制御機１３０は、この
エアー供給・排出路１７を通してスタンパー１０７の回
転中心におけるエアーを強制的に吸引したり、逆に回転
中心部分にエアーを強制的に吹き付けたりすることがで
きる。
【００２３】図１の本体１の上側のスタンパー１０７の
周囲には、廃棄樹脂受け部材２０が、このスタンパー１
０７を中心にして、固定シャフト２１を介して本体１に
取り付けられている。この廃棄樹脂受け部材２０は、後
述するようにして、スタンパー１０７上より振り切られ
た余分なＵＶ硬化樹脂１０３ａを受け、さらに廃棄孔を
通して廃棄通路より外部に排出するためのものである。
図１の本体１の周辺には、紫外線硬化樹脂供給手段であ
るＵＶ硬化樹脂供給機２３と部分紫外線照射手段である
固定ＵＶ照射器２００が設けられている。ＵＶ硬化樹脂
供給機２３は、上下動及び水平動手段１２３を備えてお
り、上下動及び水平動手段１２３を作動することによ
り、ＵＶ硬化樹脂供給機２３の樹脂供給ノズル２２は、
矢印Ｚ方向に上下動して位置決め可能であり、かつ矢印
Ｘ方向に水平移動して位置決め可能である。
【００２４】固定ＵＶ照射器２００は、図１４に示すよ
うにスペーサ層の内周部分（内周側の部分領域１０３
ｂ）を局所的に硬化させる紫外線照射手段であり、押さ
え部材１９の付近に配置されている。固定ＵＶ照射器２
００は、本体１に対して固定されている。
【００２５】図１のスペーサ層形成手段２５０は、上述
した回転駆動手段であるモータ５、センター軸ユニット
１３等を有している。このスペーサ層形成手段２５０
は、図７に例示するようにポリカーボネート基板１０１
の低反射層１０２とスタンパー１０７の間で紫外線硬化
樹脂１０３ａを押し広げて、図８のようにポリカーボネ
ート基板１０１の低反射層１０２上にスペーサ層１０３
を形成するためのものである。
【００２６】図１のシリンダー８が駆動されてロッド８
ａが上方に突き出されると、アンダーフレーム９がガイ
ドロッド３，６にガイドされてＺ方向に上昇し、スタン
パー１０７が取り付けられている外側筒軸１３Ａ及びカ
ップリング部材１４はＺ方向に動かない状態で、図６の
ようにセンターピン１３Ｂとカップリング部材１４の接
続部材１４ａがＺ方向に上昇する。
【００２７】シリンダー８の駆動が停止されてロッド８
ａが下方に引っ込むと、アンダーフレーム９がガイドロ
ッド３，６にガイドされて下降し、アンダーフレーム９
と一体にカップリング部材１４の接続部材１４ａ及びセ
ンターピン１３Ｂも下降する。この状態で、接続部材１
４ａがカップリング部材１４にかみ合うので、モータ５
が駆動すると、センター軸ユニット１３の外側筒軸１３
Ａとセンターピン１３Ｂとがカップリング部材１４を介
して一体に回転する。なお、制御部１００は、上下動及
び水平動手段１２３、エアー制御機１３０、モータ３６
３，５、シリンダ８などの駆動を制御し、固定ＵＶ照射
器２００の駆動も制御する。
【００２８】図３は、図１及び図２の製造装置で行われ
る情報記録用ディスク１００の製造工程（１）〜（６）
を概略的に示している。このディスク１００は、ポリカ
ーボネート基板１０１と保護層１０５、及びこれらの間
にある低反射層１０２、スペーサ層１０３、高反射層１
０４を有するディスクである。図４〜図１０はディスク
の製造装置の動作説明図である。図３と図４の工程
（１）では、スタンパー（原盤）１０６がピットの有る
基板（ポリカーボネート基板１０１）を成形する。工程
（２）では、ポリカーボネート基板１０１上には、スパ
ッタリングにより１層目の低反射層１０２が設けられ
る。
【００２９】図３の次の工程（３）乃至工程（４−４）
は、図１及び図２の製造装置を使用して実行する。図５
の工程（３）では、図１のポリカーボネート基板１０１
がセンターピン１３Ｂの基板位置決め部材１６にセット
される前に、モータ５を低速で回転させる。図５のよう
に、このモータ５の駆動力で回転しているセンター軸ユ
ニット１３上のスタンパー（原盤）１０７の上面には、
ＵＶ硬化樹脂１０３ａが、樹脂供給ノズル２２より滴下
されて環状に形成される。この場合に、ＵＶ硬化樹脂１
０３ａは、スタンパー１０７の半径のほぼ中央に滴下さ
せるのが好ましい。その後、モータ５の回転を停止させ
る。
【００３０】図６の工程（４−１）では、図１のシリン
ダー８を駆動させてロッド８ａを突き出し、アンダーフ
レーム９を上昇させる。図６のようにこれに伴ってセン
ターピン１３Ｂも一体に上昇する。このセンターピン１
３Ｂの基板位置決め部材１６に、工程（２）で形成した
低反射層１０２を有するポリカーボネート基板１０１
を、低反射層１０２が下側（スタンパー１０７と対向す
る側）となるようにセットし、センターピン１３Ｂとポ
リカーボネート基板１０１とが一体に回転できる状態に
する。
【００３１】続いて、図７の工程（４−１）のように、
シリンダー８を駆動させてロッド８ａを引き戻し、図１
のアンダーフレーム９と共にセンターピン１３Ｂを、ス
タンパー１０７とポリカーボネート基板１０１との間に
空気が入ってＵＶ硬化樹脂１０３ａに気泡が出来ないよ
うに徐々に下降させ、ポリカーボネート基板１０１はス
タンパー１０７上にＵＶ硬化樹脂１０３ａを介して接地
される。これと同時に、図７に示すようにエアー制御機
１３０が作動してエアー供給・排出路１７を通して回転
中心の下側より強制的にエアー抜きを行い、ＵＶ硬化樹
脂１０３ａの一部をスタンパー１０７の内側へと積極的
に拡散させる。図７中の符号２７の矢印は抜かれている
エアーを示している。
【００３２】図８の工程（４−２）では、センターピン
１３Ｂの下降途中または下降終了後に、モータ５を高速
で回転させて、センター軸ユニット１３の外側筒軸１３
Ａとセンターピン１３Ｂとを一体に、エアー供給・排出
路１７でのエアー抜きを伴いながら回転させる。図１２
の状態から図１３のように、この回転による遠心力でＵ
Ｖ硬化樹脂１０３ａが外側へと拡散されて行き、図１４
のように余分なＵＶ硬化樹脂１０３ａは外周より放出さ
せる。この放出させた余分なＵＶ硬化樹脂１０３ａは、
スタンパー１０７の周囲に設けられた図１の廃棄樹脂受
け部材２０で受けて、さらに廃棄孔を通して廃棄通路よ
り排出される。
【００３３】図１２のＵＶ硬化樹脂１０３ａは、上述し
たエアー抜きによる吸引力および／またはポリカーボネ
ート基板１０１からの押し付け圧力により、図１３のよ
うにポリカーボネート基板１０１の内周領域ＩＡへ達す
ることになる。このように、図１のエアー制御機１３０
を用いてＵＶ硬化樹脂１０３ａを内周領域ＩＡ側に吸引
したりあるいはポリカーボネート基板１０１の圧力によ
り内周領域ＩＡ側にＵＶ硬化樹脂１０３ａを引き寄せる
理由は、一般にＵＶ硬化樹脂１０３ａが、内周領域ＩＡ
側には動きにくいのを助けるためである。ある時間が経
過したところで、図９と図１３に示すように、図１の制
御部１００の指令により固定ＵＶ照射器２００が紫外線
ＵＶＲを内周領域ＩＡに局所的に照射する。つまり固定
ＵＶ照射器２００としては、スポット型の紫外線照射装
置あるいは集光レンズを有する紫外線照射装置を採用す
ることができ、小さいスポットの紫外線ＵＶＲあるいは
環状の紫外線ＵＶＲをＵＶ硬化樹脂１０３ａの部分領域
１０３ｂに照射することができる。
【００３４】ＵＶ硬化樹脂１０３ａが、図１４に示すよ
うに紫外線ＵＶＲが照射されている内周領域ＩＡに達す
ると、図１４のようにＵＶ硬化樹脂１０３ａの一部分で
はあるが、内周領域ＩＡに対応する部分領域１０３ｂ
が、紫外線ＵＶＲの照射により局所的に硬化される。こ
れにより、ＵＶ硬化樹脂１０３ａは、これ以上内側には
寄れなくなり、ＵＶ硬化樹脂１０３ａが、ポリカーボネ
ート基板１０１のセンター孔１０１ｃからはみ出ること
がなくなる。この固定ＵＶ照射器２００により紫外線Ｕ
ＶＲの照射される位置を調整することにより、ＵＶ硬化
樹脂１０３ａが内周領域ＩＡに寄れる位置を制御するこ
とができる。
【００３５】このような方式を採用することにより、第
１の特徴点としては、周囲温度の変化があってＵＶ硬化
樹脂１０３ａの粘度が変わりＵＶ硬化樹脂１０３ａの挙
動が変化したとしても、ＵＶ硬化樹脂１０３ａが内周領
域ＩＡに達するまでに時間があり、このＵＶ硬化樹脂１
０３ａが紫外線ＵＶＲ照射位置まで到達すれば、同じ位
置でＵＶ硬化樹脂１０３ａを硬化してその流れを止める
ことができるので非常に扱いが楽であることである。
【００３６】また、第２の特徴点としては、固定ＵＶ照
射器２００が硬化させるＵＶ硬化樹脂１０３ａの領域
は、内周領域ＩＡに対応する極小さい部分領域１０３ｂ
であるので、図１７に示すように外周側に出る余分なＵ
Ｖ硬化樹脂１０３ａは硬化せず、これらの余分なＵＶ硬
化樹脂１０３ａの再利用に何ら問題はないということで
ある。なお、図示しないがスタンパー１０７とポリカー
ボネート基板１０１との間のＵＶ硬化樹脂１０３ａの厚
みがセンサにより監視され、所定の厚みになるまでポリ
カーボネート基板１０１（センターピン１３Ｂ）の下降
並びに回転及びエアー抜きを行う。また、モータ５によ
る回転及びエアー抜きの度合は、ＵＶ硬化樹脂１０３ａ
の粘度等を考慮して決定される。
【００３７】次に、図示しない紫外線照射装置がＵＶ硬
化樹脂１０３ａの全体に紫外線照射して硬化させること
で基板５０１と６０１の間にスペーサ層１０３が形成さ
れたら、回転手段７７０を停止させて基板５０１，６０
１の回転を止める。そして、エアー制御機７９０の作動
を止めて、こうして作られたのが、ディスク５００であ
る。このように工程（１）ないし工程（６）を経ること
により、図１１のような基板１０１と保護層１０５の間
に２層の反射層１０２，１０４とスペーサ層１０３を有
する情報記録用ディスク１００が効率よく歩溜りよく作
れる。
【００３８】上述した実施の形態によれば、次の（ａ）
乃至（ｅ）に述べるようなメリットがある。 （ａ）ポリカーボネート基板１０１上の低反射層１０２
と面対向して配置されるスタンパー１０７の上に、液状
のＵＶ硬化樹脂１０３ａを滴下させて環状に供給し、こ
れをポリカーボネート基板１０１とスタンパー１０７と
の間で圧し潰すが、このときにポリカーボネート基板１
０１とスタンパー１０７とを高速で回転させ、この回転
による遠心力でＵＶ硬化樹脂１０３ａをポリカーボネー
ト基板１０１とスタンパー１０７との間で引き延ばすよ
うにしている。このため、ＵＶ硬化樹脂１０３ａの厚み
の偏りが防げる。
【００３９】同時に、回転中心側からポリカーボネート
基板１０１とスタンパー１０７との間のエアーを強制的
に抜きながらゆっくりと圧し潰すので、ＵＶ硬化樹脂１
０３ａ内にエアー（気泡）が混入するのが防止されると
ともに、ＵＶ硬化樹脂１０３ａが内側にも引かれ、内側
に引かれるＵＶ硬化樹脂１０３ａと外側に引かれるＵＶ
硬化樹脂１０３ａとが略均一になって分布精度が向上
し、全体として厚みの均一化されたスペーサ層１０３が
簡単、かつ素早く形成されることになる。
【００４０】（ｂ）上述したように、本発明の実施の形
態では、図１３と図１４に示す要領で、ＵＶ硬化樹脂１
０３ａの部分領域１０３ｂのみを硬化させるので、ポリ
カーボネート基板１０１側に従来のようなはみ出し防止
用の溝を形成する必要がない。しかも、固定ＵＶ照射器
２００の紫外線ＵＶＲの照射位置を変えることにより、
ある程度自由にＵＶ硬化樹脂１０３ａの部分領域１０３
ｂの設定をすることができる。しかも、ＵＶ硬化樹脂１
０３ａの粘度変化等の影響を受けにくく、安定した部分
領域１０３ｂの位置決めが可能である。図１４のよう
に、ポリカーボネート基板１０１の内周側の孔１０１ｃ
の近くまでＵＶ硬化樹脂１０３ａを充填することができ
るので、図１１に示すように、低反射層１０２と高反射
層１０４を十分な接着力で全面にわたって接着できる。
しかも図１４に示すようにＵＶ硬化樹脂１０３ａの当初
硬化する部分が部分領域１０３ｂのみに限られるので、
外部へ出る余分なＵＶ硬化樹脂１０３ａは硬化せずに再
利用することができる。
【００４１】（ｃ）ポリカーボネート基板１０１の外径
とスタンパー１０３の外径を略等しく形成しているの
で、ポリカーボネート基板１０１の外周とスタンパー１
０７の外周よりはみ出したＵＶ硬化樹脂（バリ）が発生
した場合は、ポリカーボネート基板１０１とスタンパー
１０７との回転により振り切り処理が行われるので、バ
リの付着が少なくなる。また、例え付着したとしても外
周面にカッター刃等を簡単に当てることができるのでは
ぎ取り処理がし易くなる。これにより作業性が良くな
り、生産性が向上する。
【００４２】ところで、上述の本発明の実施の形態で
は、情報記録用ディスクとしては、基板の片面に２つの
反射層を有するディスクを例にあげている。しかし本発
明における情報記録用ディスクは、このような基板の片
面に２つの反射層とスペーサ層を有するいわゆる片面２
層構造のディスクに限らず、次のような構造のディスク
も対象としている。
【００４３】たとえば、図１５〜図１７は、このスーパ
デンシティ規格の情報記録用ディスク５００の製造工程
を示している。このディスク５００は、図１７のように
たとえば０．６ｍｍのポリカーボネートの基板５０１
と、０．６ｍｍのポリカーボネートの基板６０１を貼り
合わせたものである。基板５０１の内側にはピットがあ
り、アルミニウムの第１の反射層５０１ａとその保護層
５０１ｂが形成され、基板６０１の内側にはピットがあ
り、アルミニウムの第２の反射層６０１ａとその保護層
６０１ｂが形成されている。
【００４４】基板５０１の反射層５０１ａと保護層５０
１ｂ側と、基板６０１の反射層６０１ａと保護層６０１
ｂ側が、図１５〜図１７の工程により対向するようにし
て、ＵＶ硬化樹脂１０３ａで貼り合される。まず、基板
５０１を基板６０１に対面させない状態で、図１５の回
転手段７７０が基板６０１を低速で回転させながら、Ｕ
Ｖ硬化樹脂供給機８１０が基板６０１の保護層６０１ｂ
上にＵＶ硬化樹脂１０３ａを滴下する。この場合、ＵＶ
硬化樹脂１０３ａは保護層６０１ｂの上において、半径
方向に関してほぼ中央に滴下される。その後、基板６０
１の回転を停止し、図１５のように基板５０１を基板６
０１に対面させる。次に、回転手段７７０が基板５０１
と基板６０１を同期して高速回転させながら、図１５の
押付手段７５０が基板５０１を基板６０１に押しつける
とともに、エアー制御機７９０が強制的に基板５０１，
６０１のエアー抜きを行うことにより、ＵＶ硬化樹脂１
０３ａはスムーズに基板の内周方向と外周方向に広がっ
ていく。
【００４５】図１６のように、固定ＵＶ照射器２００
が、小さいスポット状の紫外線ＵＶＲ、あるいは環状の
紫外線ＵＶＲを、基板５０１を通して基板６０１の保護
層６０１ｂの内周領域ＩＡに局所的に照射する。図１７
のように、ＵＶ硬化樹脂１０３ａは、紫外線ＵＶＲが照
射されている内周領域ＩＡに達すると、ＵＶ硬化樹脂１
０３ａの一部分ではあるが、内周領域ＩＡに対応する部
分領域１０３ｂが、紫外線ＵＶＲの照射により局所的に
硬化される。これにより、ＵＶ硬化樹脂１０３ａはこれ
以上内側には寄れなくなり、ＵＶ硬化樹脂１０３ａがポ
リカーボネート基板６０１のセンター穴６０１ｂからは
み出なくなる。
【００４６】次に、回転手段７７０を停止させて基板５
０１，６０１の回転を止める。そして場所を変えて、図
示しない紫外線照射装置がＵＶ硬化樹脂１０３ａの全体
に紫外線を照射して硬化させることで基板５０１と６０
１の間にスペーサ層１０３が形成される。こうして作ら
れたのがディスク５００である。
【００４７】このように紫外線ＵＶＲが内周領域ＩＡに
達すると、図１７のようにＵＶ硬化樹脂１０３ａの一部
分ではあるが、内周領域ＩＡに対応する部分領域１０３
ｂが、紫外線ＵＶＲの照射により局所的に硬化される。
これにより、ＵＶ硬化樹脂１０３ａは、これ以上内側に
は寄れなくなり、ＵＶ硬化樹脂１０３ａが、ポリカーボ
ネート基板１０１のセンター孔１０１ｃからはみ出るこ
とがなくなる。この固定ＵＶ照射器２００により紫外線
ＵＶＲの照射される位置を調整することにより、ＵＶ硬
化樹脂１０３ａが内周領域ＩＡに寄れる位置を制御する
ことができる。
【００４８】このような方式を採用することにより、第
１の特徴点としては、周囲温度の変化があってＵＶ硬化
樹脂１０３ａの粘度が変わりＵＶ硬化樹脂１０３ａの挙
動が変化したとしても、ＵＶ硬化樹脂１０３ａが内周領
域ＩＡに達するまでに時間があり、このＵＶ硬化樹脂１
０３ａが紫外線ＵＶＲ照射位置まで到達すれば、同じ位
置でＵＶ硬化樹脂１０３ａを硬化してその流れを止める
ことができるので非常に扱いが楽であることである。
【００４９】また、第２の特徴点としては、固定ＵＶ照
射器２００が硬化させるＵＶ硬化樹脂１０３ａの領域
は、内周領域ＩＡに対応する極小さい部分領域１０３ｂ
であるので、図１７に示すように外周側に出る余分なＵ
Ｖ硬化樹脂１０３ａは硬化せず、これらの余分なＵＶ硬
化樹脂１０３ａの再利用に何ら問題はないということで
ある。この実施の形態であっても、固定ＵＶ照射器２０
０により紫外線ＵＶＲが内周領域ＩＡに上述した実施の
形態と同様に局部的に照射するので、ＵＶ硬化樹脂１０
３ａの部分領域１０３ｂだけを先に硬化させることがで
きる。なお、上記実施の形態では、基板としてポリカー
ボネート基板を使用した場合について説明したが、これ
以外の種類の基板であっても勿論差し支えないものであ
る。
【００５０】また、図６の実施の形態においてはＵＶ硬
化樹脂１０３ａをスタンパー１０７上に滴下させるよう
にした構造について開示したが、逆にポリカーボネート
基板１０１上にＵＶ硬化樹脂１０３ａを滴下させるとと
もに、スタンパー１０３を降下させてＵＶ硬化樹脂１０
３ａを圧し潰すように構成しても差し支えないものであ
る。また、本発明における情報記録用ディスクは、上記
の種類のディスクに限らず、次のようなディスクをも含
む。たとえば、図１１の情報記録用ディスク１００で
は、基板１０１と保護層１０４の間に２つの反射層１０
２，１０４が配置されているが、基板１０１と保護層１
０４の間に１つの反射層が配置されているディスクであ
ってもよい。図１７の情報記録用ディスク５００では、
基板５０１と基板６０１の間に２つの反射層５０１ａ，
６０１ａが配置されいてるが、基板５０１と基板６０１
の間に１つあるいは３つ以上の反射層が配置されている
ディスクであってもよい。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
紫外線硬化樹脂が基板の内側からはみ出すのを防止し
て、高品質なディスクを効率よく作ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の２層構造ディスクの製造装置を示す縦
方向（図２のＡ−Ａ線における）の断面図。
【図２】図１の製造装置の一部を示す上面図。
【図３】２層構造ディスクの製造工程を示す図。
【図４】２層構造ディスクの工程（１）及び工程（２）
を示す図。
【図５】製造工程（３）を示す図。
【図６】製造工程（４−１）を示す図。
【図７】製造工程（４−１）を示す図。
【図８】製造工程（４−２）を示す図。
【図９】製造工程（４−３）を示す図。
【図１０】製造工程（４−４）を示す図。
【図１１】製造工程（５）及び製造工程（６）を示す
図。
【図１２】図７の工程（４−２）に対応して示し、ＵＶ
硬化樹脂の展開していく始めの状態を示す図。
【図１３】ＵＶ硬化樹脂が広がっていく途中の状態を示
す図。
【図１４】ＵＶ硬化樹脂の内周側が固定ＵＶ照射器によ
り部分照射されている状態を示す図。
【図１５】別の情報記録用ディスクの製造を示し、２つ
の基板内にＵＶ硬化樹脂の展開していく始めの状態を示
す図。
【図１６】図１５のＵＶ硬化樹脂が広がっていく途中の
状態を示す図。
【図１７】図１５のＵＶ硬化樹脂の内周側が固定ＵＶ照
射器により部分照射されている状態を示す図。
【図１８】情報記録用ディスクの一例を示す図。
【図１９】従来の情報記録用ディスクの製造方法を示す
図。
【符号の説明】
１・・・本体、１３・・・センター軸ユニット、１３Ａ
・・・外側筒軸、１３Ｂ・・・センターピン、１７・・
・エアー供給・排出路、２２・・・樹脂供給ノズル、２
３・・・ＵＶ硬化樹脂供給機、１００・・・情報記録用
ディスク、１０１・・・ポリカーボネート基板（基
板）、１０２・・・低反射層（１層目の低反射層、第１
の低反射層）、１０３・・・スペーサ層、１０３ａ・・
・ＵＶ硬化樹脂（紫外線硬化樹脂）、１０３ｂ・・・部
分領域、１０４・・・高反射層（２層目の高反射層、第
２の反射層）、１０７・・・スタンパー、５・・・回転
駆動手段、２３・・・紫外線硬化樹脂供給手段、２５・
・・紫外線照射手段、２００・・・部分紫外線照射手
段、２５０・・・スペーサ層形成手段、５００・・・情
報記録用ディスク、５０１，５０２・・・基板

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上に情報記録部としての第１の反射
    層とスペーサ層と情報記録部としての第２の反射層を順
    次配置して情報記録用ディスクを製造するための製造装
    置において、 基板上の第１の反射層に対応して配置されるスタンパー
    と、 第１の反射層とスタンパーの間に、紫外線硬化樹脂を供
    給する紫外線硬化樹脂供給手段と、 基板の第１の反射層とスタンパーの間で、紫外線硬化樹
    脂を基板の第１の反射層とスタンパーの間に広げて、基
    板の第１の反射層上にスペーサ層を形成する際に、基板
    の内周側のスペーサ層の部分領域を硬化させる部分紫外
    線照射手段と、を備えることを特徴とする情報記録用デ
    ィスクの製造装置。
  2. 【請求項２】 部分紫外線照射手段は、基板とスタンパ
    ーを回転してスペーサ層を形成する際に紫外線を照射す
    る請求項１に記載の情報記録用ディスクの製造装置。
  3. 【請求項３】 基板上に情報記録部としての第１の反射
    層とスペーサ層と情報記録部としての第２の反射層を順
    次配置して情報記録用ディスクを製造するための製造方
    法において、 第１の反射層とスタンパーの間に、紫外線硬化樹脂を供
    給して、 基板の第１の反射層とスタンパーの間で、紫外線硬化樹
    脂を基板の第１の反射層とスタンパーの間に広げて、基
    板の第１の反射層上にスペーサ層を形成する際に、基板
    の内周側のスペーサ層の部分領域だけを先に硬化させ
    る、ことを特徴とする情報記録用ディスクの製造方法。
  4. 【請求項４】 スペーサ層を形成する際に、基板とスタ
    ンパーを回転させる請求項３に記載の情報記録用ディス
    クの製造方法。
  5. 【請求項５】 第１の基板と第２の基板の間に情報記録
    部である反射層を備えるように、第１の基板と第２の基
    板を貼り合わせることで形成される情報記録用ディスク
    の製造方法において、 第１の基板と第２の基板の間に紫外線硬化樹脂を供給し
    て広げて第１の基板と第２の基板を貼り合わせる際に、
    第１の基板と第２の基板の内周側の紫外線硬化樹脂の部
    分領域を先に硬化させることを特徴とする情報記録用デ
    ィスクの製造方法。
  6. 【請求項６】 情報記録用ディスクの第１の基板は第２
    の反射層を有し、第２の基板は第２の反射層を有し、紫
    外線硬化樹脂は第１の反射層と第２の反射層の間に供給
    される請求項５に記載の情報記録用ディスクの製造方
    法。
  7. 【請求項７】 紫外線硬化樹脂を広げる際には、第１の
    基板と第２の基板を回転する請求項５に記載の情報記録
    用ディスクの製造方法。
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