WO2006059774A1 - ジアリルビスフェノール化合物の精製方法 - Google Patents

ジアリルビスフェノール化合物の精製方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2006059774A1
WO2006059774A1 PCT/JP2005/022400 JP2005022400W WO2006059774A1 WO 2006059774 A1 WO2006059774 A1 WO 2006059774A1 JP 2005022400 W JP2005022400 W JP 2005022400W WO 2006059774 A1 WO2006059774 A1 WO 2006059774A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
formula
compound
bisphenol
diarylbisphenol
purifying
Prior art date
Application number
PCT/JP2005/022400
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Ryuuzoh Minakami
Original Assignee
Api Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Api Corporation filed Critical Api Corporation
Priority to JP2006546715A priority Critical patent/JPWO2006059774A1/ja
Publication of WO2006059774A1 publication Critical patent/WO2006059774A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C37/68—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
    • C07C37/70—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
    • C07C37/72—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by liquid-liquid treatment

Definitions

  • the present invention relates to 2,2-bis (3-aryl-4-phenylphenol) propane (hereinafter referred to as 2,2-diarylbisphenol A) or 2,2-bis (3-aryl-1). 4-Hydroxy-1-methylphenyl) Propane (hereinafter referred to as 2,2-diarylbisphenol C).
  • 2,2-diarylbisphenol A 2,2-bis (3-aryl-4-phenylphenol propane
  • 2,2-bis (3-aryl-1) 2,2-bis (3-aryl-1).
  • 4-Hydroxy-1-methylphenyl) Propane hereinafter referred to as 2,2-diarylbisphenol C.
  • 2,2-Diarylbisphenol A or 2,2-diarylbisphenol C is obtained by using bisphenol A or bisphenol C as a raw material and reacting with sodium chloride after forming sodium salt with sodium methylate. 4,4, -bisphenol A diallyl ether. (In the formula (3) shown below, when R is hydrogen) or 4, 4, monobisphenol C diallyl ether (in formula (3) shown below) In general, it is produced by the Claisen transition method in which R is a methyl group (for example, see Japanese Examined Patent Publication Nos. 5-60452 and 5-60451). Since 2,2-diarylbisphenol A or 2,2-diarylbisphenol C obtained by the reaction is a liquid, it cannot be purified by recrystallization or the like, or purified by distillation. However, when distillation under reduced pressure at 190 ° C or higher, there was a disadvantage that the aryl group was eliminated and the decomposition reaction of the monoallyl bisphenol compound and the raw material bisphenol A or bisphenol C was generated.
  • 2,2-diarylbisphenol A or 2,2-diarylbisphenol C compounds are generally used as hardeners for semiconductor encapsulants and additives for polyimide resins.
  • High-purity raw materials that are used in such electronic materials and have as few impurities as possible have been demanded.
  • 2,2-diarylbisphenol A or 2,2-diarylbisphenol C has not been able to achieve a low purity product of 85 to 92%. . Therefore, there has been a demand for a purification method that can easily purify 2,2-diarylbisphenol A or 2,2-diarylbisphenol C.
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • R is as defined above.
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • R is as defined above.
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • the diaryl bisphenol compound represented by the formula (1) is purified without isolation.
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • a method for purifying a diaryl bisphenol compound represented by: 2,2-diarylbisphenol A or 2,2-diaryl bisphenol C First, 2,2-diarylbisphenol A or 2,2-diarylebisphenol A dissolved in a non-water-soluble organic solvent such as an aromatic hydrocarbon solvent is at least used in an aqueous solution. Separate and wash at least once. In this process, bisphenol A or bisphenol, which is an impurity mainly derived from raw materials, and the formula (2)
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • Monoallyl bisphenol A or monoallyl bisphenol C which is a by-product represented by the following can be removed or reduced.
  • an alkaline aqueous solution is added to the solution containing 2,2-diarylbisphenol A or 2,2-diarylbisphenol C after washing, and 2,2-diarylbisphenol A or 2, 2-Diarylbisphenol C is converted into an alcoholic salt to obtain an aqueous solution in which the alcoholic salt is completely dissolved in water, and the aqueous solution is an aliphatic hydrocarbon solvent, an aromatic hydrocarbon organic solvent, etc. Low polarity impurities can be removed by washing with a water-insoluble organic solvent.
  • the solution is returned to neutrality and extracted and purified with a water-insoluble organic solvent such as an aliphatic ester hydrocarbon solvent or an aromatic hydrocarbon solvent, and the solvent is distilled off.
  • a water-insoluble organic solvent such as an aliphatic ester hydrocarbon solvent or an aromatic hydrocarbon solvent
  • the water-insoluble organic solvent that dissolves 2,2-diarylbisphenol A or 2,2-diarylbisphenol C at the time of liquid separation treatment is chlorobenzene or dichlorobenzene.
  • Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene can be used, and halogen hydrocarbon solvents such as dichloroethane and methylene chloride can be used.
  • toluene is lighter in specific gravity than water in terms of operability and safety. It is preferable to use an aromatic hydrocarbon solvent such as xylene.
  • bisphenol A or bisphenol C which is an impurity mainly derived from raw materials, and monoallyl bisphenol A or monoaryl bisphenol C represented by the above formula (2) are used for removing or reducing the alkali.
  • the alkali used at this time is preferably 0.1 to 0.4 times equivalent to 2,2-diarylbisphenol A or 2,2-diarylbisphenol C, and is preferably 0.0. 1 to 3 times equivalent is more preferable, and 0.1 to 2 times equivalent is particularly preferable.
  • the number of liquid separation washings is 1 to 10 times, preferably 1 to 3 times.
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • M represents an alkali metal.
  • An aqueous solution in which the compound represented by The organic solvents that can be used at this time are methyl chloride, dichloromethane, halogenated hydrocarbon solvents such as black mouth form, aliphatic hydrocarbon solvents such as heptane and hexane, benzene, toluene, and xylene. And aromatic hydrocarbon solvents such as mesitylene, black-opened benzene, and dichlorobenzene. Among them, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, and mesitylene are preferable from the viewpoint of solubility and operability of impurities.
  • M is an alkali metal, specifically lithium, sodium, or potassium.
  • this alkali salt compound represented by the above formula (4) is neutralized with an acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, and an aromatic hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, xylene or mesitylene, ethyl acetate or butyl acetate. After extraction with a non-water-soluble organic solvent such as an aliphatic ester hydrocarbon solvent, the solvent is distilled off.
  • an acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid
  • an aromatic hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, xylene or mesitylene, ethyl acetate or butyl acetate.
  • the temperature condition in the liquid separation washing operation described above is not particularly limited, but is 0 to 80 ° C, preferably 10 to 30 ° C.
  • the operation may be performed under an inert gas such as nitrogen or argon.
  • the force decoloring operation is carried out by using a compound represented by the above formula (4) (2, 2, -diarylbisphenol A or 2, It is preferably carried out in an aqueous solution in which 2-diarylbisphenol C) is dissolved.
  • 2,2-diarylbisphenol A or 2,2-diarylbisphenol C which is useful as a hardener for semiconductor encapsulant, additive for polyimide resin, etc.
  • the purification can be easily performed, and a high-purity product can be easily obtained.
  • 2,2-Diarylbisphenol A or 2,2-diarylbisphenol C obtained by the purification method of the present invention is useful for electronic materials such as curing agents for semiconductor encapsulants and additives for polyimide resins. .

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

本発明は、一般式（１）：　（式中、Ｒは水素原子若しくはメチル基を示す。）で表されるジアリルビスフェノール化合物を非水系有機溶媒に溶解させた後、アルカリ含有水溶液で、少なくとも一回以上洗浄する、ジアリルビスフェノール化合物の精製方法に関する。また、上記ジアリルビスフェノール化合物が非水系有機溶媒に溶解した溶液に、アルカリ水溶液を加え、こうして得られたジアリルビスフェノール化合物のアルカリ含有水溶液を非水系有機溶媒で少なくとも一回以上洗浄した後、中和し、溶媒で抽出した後に溶媒を留去する、ジアリルビスフェノール化合物の精製方法に関する。本発明によれば、半導体封止剤の硬化剤やポリイミド樹脂用添加剤等として有用な２，２−ジアリルビスフェノールＡ若しくは２，２−ジアリルビスフェノールＣを高純度かつ容易に得ることができる。

Description

明 細 書
ジァリルビスフ ノール化合物の精製方法
技術分野
本発明は、 2, 2 -ビス (3—ァリル一 4—ヒ ドロキシフエ二ノレ) プロパン（以 下、 2, 2—ジァリルビスフエノール Aと称する。 ) 若しくは 2， 2—ビス (3 ーァリル一 4ーヒ ドロキシ一 5 _メチルフエニル） プロパン (以下、 2， 2—ジ ァリルビスフエノール Cと称する。 ） の精製方法に関する。 これらの化合物は、 半導体封止剤の硬化剤やポリイミド樹脂添加剤等の電子材料として有用な化合 物である。
背景技術
2， 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2, 2—ジァリルビスフエノール Cは、原料としてビスフエノール A若しくはビスフエノール Cを使用し、 ソジゥ ムメチラートでナトリゥム塩とした後に塩化ァリルを反応させることによりァ リノレエーテル化した 4, 4， ービスフエノール Aジァリルエーテル . (以下に示す 式 (3) において、 Rが水素の場合) 若しくは 4， 4， 一ビスフエノール Cジァ リルエーテル （以下に示す式 （3) において、 Rがメチル基の場合） を加熱転移 させるクライゼン転移法を用いて製造するのが一般的である （例えば、特公平 5 -60452号公報、 特公平 5— 60451号公報等参照。 ）。その反応で得ら れる 2, 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2， 2—ジァリルビスフエノー ル Cは液体であるため、再結晶法等による精製ができず、 また、蒸留で精製する としても 190°C以上で減圧蒸留を行うと、ァリル基が脱離し、モノアリルビス フエノール化合物及び原料であるビスフエノール A若しくはビスフエノール C が生成する分解反応等が起こる欠点があつた。
また、 上記以外の精製法として、 200°Cに加熱し、真空蒸留にて不純物を除 去する精製法が開示されている （例えば、特開 2000— 191575号公報参 照。 ） 。 し力 し、 この方法は、 原料由来の臭気を弱めるといった報告であり、 化 合物自身の純度を大きく高めるものではなかった。
これら 2, 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2, 2—ジァリルビスフエ ノール C化合物は、一般的に半導体封止剤用硬化剤やポリイミド樹脂用添加剤と いった電子材料に使用されており、できるだけ不純物が少ない高純度の原料が要 求されていた。 しかしながら、 これまで 2， 2—ジァリルビスフエノール A若し くは 2， 2—ジァリルビスフエノール Cについては、 8 5〜9 2 %と低純度の製 品し力得られていなかった。 それ故、 2 , 2—ジァリルビスフエノール A若しく は 2， 2—ジァリルビスフエノール Cを容易に高純度にできる精製方法が求めら れていた。
本発明は半導体封止剤の硬化剤やポリイミド樹脂用添加剤等として有用な 2 , 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2， 2—ジァリルビスフエノール Cを高 純度かつ容易に得ることができる 2 , 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2， 2—ジァリルビスフエノール Cの精製方法を提供することを目的とする。
発明の開示
本発明者は、 上記の課題を解決すベく鋭意研究を重ねた結果、
式 （1 ) ：
Figure imgf000003_0001
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ） で表される 2， 2—ジァリル ビスフエノール A若しくは 2， 2—ジァリルビスフエノールじより、 ァリル基の 数が少ない化合物の方がアル力リ含有水溶液中で先にアル力リ塩になりやすく、 また、水に溶解しやすいという点に着目し、その溶解度の違いを利用することに より、 高純度の 2， 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2 , 2—ジァリルビ スフエノール Cを得ることができることを見出し、 本発明を完成するに至った。 即ち、 本発明は、
[ 1 ] 式 （1 ) ：
Figure imgf000003_0002
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ） で表されるジァリルビスフエ ノール化合物を非水系有機溶媒に溶解させた後、当該溶液を前記ジァリルビスフ ェノール化合物に対して 0. 01〜0. 4倍当量のアルカリを含むアルカリ水溶 液で、少なくとも一回以上洗浄して、前記ジァリルビスフエノール化合物に含有 される不純物である原料由来のビスフエノール及び式 （2) ：
Figure imgf000004_0001
(式中、 Rは前記と同義であ
ェノール化合物を除去若しく
Figure imgf000004_0002
ノール化合物の精製方法、
[2] 式 （1) ：
Figure imgf000004_0003
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ) で表されるジァリルビスフエ ノール化合物が非水系有機溶媒に溶解した溶液に、当該ジァリルビスフエノール 化合物に対して 2〜 10倍当量のアル力リを含むアル力リ 7溶液を加え、こうし て得られた前記ジァリルビスフエノール化合物のアル力リ含有水溶液を非水系 有機溶媒で少なくとも一回以上洗浄した後、 中和し、溶媒で抽出した後に溶媒を 留去して、前記ジァリルビスフエノール化合物に含有される不純物である低極性 不純物を除去若しくは低減させることを特徴とする、ジァリルビスフヱノール化 合物の精製方法、
[3] 上記 [1]記載の方法及び [2]記載の方法を組み合わせてなる、ジァリルビ スフエノール化合物の精製方法、
[4] 式 （3) ：
Figure imgf000005_0001
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ） で表されるビスフエノールジ ァリルエーテル化合物の加熱転移反応で生成した式（ 1 ) で表されるジァリルビ スフエノール化合物を含む反応生成物から、 式 （1) で表されるジァリルビスフ ェノール化合物を単離することなく精製する、上記 [ 1 ]〜[ 3 ]のいずれか一つに 記載の方法、
[5] 式 （1) ：
Figure imgf000005_0002
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ） で表されるジァリルビスフエ ノール化合物に含有される不純物である原料由来のビスフエノール及び式 (2)：
Figure imgf000005_0003
(式中、 Rは前記と同義である。 ） で表される副生成物であるモノァリルビスフ ェノール化合物を除去若しくは低減させるために非水系有機溶媒に溶解させた 後、 0. 01〜0. 3倍当量のアルカリ含有水溶液で、 少なくとも一回以上洗浄 することを特徴とするジァリルビスフエノール化合物の精製方法、
[6] 式 （1) ：
(1)
Figure imgf000005_0004
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ） で表されるジァリルビスフェ ノール化合物に含有される不純物である低極性不純物を除去若しくは低減させ るために 2〜 3倍当量のアルカリを加え、 上記式（1 ) のアルカリ含有水溶液を 非水系有機溶媒で少なくとも一回以上洗浄後、 中和し、溶媒で抽出した後に溶媒 を留去することを特徴とするジァリルビスフエノール化合物の精製方法、
[ 7 ] 原料由来のビスフエノール化合物及び副生成物であるモノァリルビスフ ェノール化合物、低極性不純物を上記 [ 5 ]又は [ 6 ]に記載の精製方法を組み合わ せて除去若しくは低減させることを特徴とするジァリルビスフヱノール化合物 の精製方法、 及び
[ 8 ] 式 （3 ) ：
Figure imgf000006_0001
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ） で表されるビスフエノールジ ァリルエーテル化合物の加熱転移反応の後、式（1 ) で表されるジァリルビスフ ェノール化合物を単離することなく精製することを特徴とする上記 [ 5 ]〜[ 7 ] のいずれかに記載のジァリルビスフエノール化合物の精製方法、 に関する。 上記の精製方法により、容易に高純度の 2 , 2—ジァリルビスフエノール A若 しくは 2， 2—ジァリルビスフエノール Cを得ることができる。
以下、 本発明をより詳しく説明する。
本発明において、 主に 4 , 4， 一ビスフエノール Aジァリルエーテル若しくは 4， 4， 一ビスフエノール Cジァリルエーテルの加熱転移反応によって製造され る式 （1 ) ：
Figure imgf000006_0002
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ） で表されるジァリルビスフエ ノール化合物、すなわち、 2 , 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2 , 2— ジァリルビスフエノール Cを精製する方法は、 まず、芳香族炭化水素溶媒等の非 水溶性有機溶媒に溶解した 2， 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2 , 2— ジァリノレビスフエノーノレ Cを、アル力リ水溶液で少なくとも一回以上分液洗浄す る。 この工程で、主に原料由来の不純物であるビスフエノール A又はビスフエノ 一ル 及び式 ( 2 )
Figure imgf000007_0001
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ) で表される副生成物であるモ ノアリルビスフエノール A若しくはモノアリルビスフエノール Cを除去若しく は低減できる。
次に、 上記洗浄後の 2， 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2 , 2—ジァ リルビスフエノール Cを含む溶液に、 アルカリ水溶液を加えて、 2， 2—ジァリ ルビスフエノール A若しくは 2， 2 -ジァリルビスフエノール Cをアル力リ塩に して、かかるアル力リ塩が水に完全に溶解した水溶液を得、該水溶液を脂肪族炭 化水素溶媒、 芳香族炭化水素有機溶媒等の非水溶性有機溶媒で洗浄することで、 低極性不純物が除去できる。
最後にその溶液を中性に戻し、脂肪族エステル系炭化水素溶媒、芳香族炭化水 素溶媒等の非水溶性有機溶媒で抽出精製し、 溶媒を留去する。
不純物を除去する方法は、必ずしも原料由来のビスフエノール Aゃビスフエノ ール Cゃモノアリルビスフエノール A若しくはモノァリルビスフエノール Cを 先に除去する必要はなく、 先に低極性不純物を除去した後に行うこともできる。 本発明において、低極性不純物とは、 2— （3—ァリルー 4ーヒドロキシフエ ニル） 一 2— （4，一ァリルォキシフエニル） プロパン、 トリァリルビスフエノ ール A、 テトラァリルビスフエノール A、 2— ( 5—ァリル一 4ーヒ ドロキシ一 3—メチルフエ二ノレ) — 2— ( 4 'ーァリルォキシ一 3 '—メチルフエ二ノレ) プロ パンやァリノレ化合物の二量体或いは多量体等である。
また、本発明において、分液処理を行う際に 2， 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2 , 2—ジァリルビスフエノール Cを溶解する非水溶性有機溶媒は、 クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼン、 ベンゼン、 トノレェン、 キシレン等の芳香族 系炭化水素溶媒ゃジクロロェタン、塩化メチレン等のハロゲン系炭化水素溶媒等 の使用が可能であるが、操作性及び安全面の点から、比重が水より軽いトルエン、 キシレン等の芳香族系炭化水素溶媒を使用するのが好ましい。
また、主に原料に由来する不純物であるビスフエノール A若しくはビスフエノ ール C及び上記式（2 ) で表されるモノアリルビスフエノール A若しくはモノア リルビスフエノール Cを除去若しくは低減する際に使用するアルカリ水溶液に おけるアル力リは、水酸化ナトリゥム、水酸化力リゥム、水酸化リチウム等が好 ましい。 また、 このときに使用するアルカリの量は、 2 , 2—ジァリルビスフエ ノール A若しくは 2， 2—ジァリルビスフエノール Cに対して、 0 . 0 1〜0 . 4倍当量が好ましく、 0 . 0 1〜3倍当量がより好ましく、 0 . 0 1 ~ 2倍当量 がとりわけ好ましい。 また、 分液洗浄回数は、 1〜 1 0回、 好ましくは、 1〜3 回がよい。
また、 転移反応時に副生成物として生成する低極性不純物を除去する工程で、 2 , 2—ジァリノレビスフエノール A若しくは 2， 2—ジァリルビスフエノール C をアルカリ塩にするのに使用するアル力リは、水酸化ナトリゥムゃ水酸化力リゥ ム、 水酸化リチウム等のアルカリ金属を使用する。 その使用量は、 2 , 2—ジァ リルビスフエノール A若しくは 2， 2—ジァリルビスフエノール Cの 2〜1 0倍 当量が好ましく、 2〜3倍当量がより好ましく、 2〜2 . 5倍当量がとりわけ好 ましい。 また、 2 , 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2， 2—ジァリルビ スフエノーノレ Cのアルカリ塩、 すなわち、 式 （4 )
Figure imgf000009_0001
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。また、 Mはアルカリ金属を示す。） で表される化合物を溶解した水溶液を非水溶性有機溶媒で洗浄し、反応で生成し た低極性不純物を除去するのであるが、 この時使用できる有機溶媒は、塩化メチ レンゃジクロロメタン、 クロ口ホルム等のハロゲン系炭化水素溶媒、 ヘプタン、 へキサン等の脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼン、 トルエン、キシレン、メシチレン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒が挙げられるが、 中 でも、 不純物の溶解性及び操作性の点から、 トルエン、 キシレン、 メシチレン等 の芳香族炭化水素溶媒が好ましい。 なお、 上記式 （4 ) における Mとしては、 ァ ルカリ金属であり、 具体的にはリチウム、 ナトリウム、 カリウムである。
最後にこのアルカリ塩にした上記式（4 ) で表される化合物を塩酸若しくは硫 酸等の酸で中和し、ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 メシチレン等の芳香族炭化 水素溶媒や酢酸ェチル、酢酸プチル等の脂肪族エステル系炭化水素溶媒等の非水 溶性有機溶媒で抽出した後に、 溶媒を留去する。
以上記載の分液洗浄操作における温度条件は、特に限定されるわけではないが、 0〜8 0 °C、 好ましくは 1 0〜3 0 °Cである。 また、 全ての工程において、 窒素 ゃァルゴン等不活性ガス下で操作を行ってもよい。
なお、活性炭等の脱色剤も使用することも可能である力 脱色操作は、 アル力 リ塩にした上記式（4 ) で表される化合物 ( 2 , 2—ジァリルビスフエノール A 若しくは 2， 2—ジァリルビスフエノール C) を溶解した水溶液にて実施するの が好ましい。
実施例
実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によってなん ら限定されるものではない。
実施例 1 4, 4， ージァリルォキシビスフエノール A78 g (0. 25モル） 、 ダイァ ナフレシァ W— 8 (出光興産社製） 50 g、 白灯油 50 gを四つ口フラスコに仕 込み、窒素雰囲気下、 200〜205°Cで 8時間還流反応を行った。反応終了後、 室温まで冷却した。 2層になったその下層を、 コック付きの四つ口フラスコに移 しトルエン 50 m 1を投入した。 トルェン投入前の反応液は、 H P L Cで 2， 2 —ジァリルビスフエノール Aは 91. 4%であった。 このトルエンに溶解した上 記溶液を各々 0. 5 %N a O H水溶液 100 g、 0. 3%Na O H水溶液 100 g、 0. 25%Na O H水溶液 100 gで窒素雰囲気下、 分液洗浄した。
次にこのトルエン溶液に窒素雰囲気下 20 gの N a OHを含む水溶液 100 gを投入し、十分撹拌を行った。 すると 2, 2—ジァリルビスフエノール Aはジ ナトリウム塩となり、 水層に溶解した。 そして、 その溶液を静置後、 分液操作で トルエン層を除いた。 更に同様にトルエン 50m 1で 2回、 2, 2—ジァリルビ スフエノール Aジナトリウム塩の水溶液を洗浄した。
その後、 その水層を 35 %塩酸 52 gで中和し、 トルエン投入後分液を行い、 中性になるまで分液水洗を行った。 そして、 そのトルエン層を取り出し、 窒素雰 囲気下エバポレーターにてトルエンを十分留去し、淡黄色の溶液が 62 g (収率 80%) 得られた。 このとき、 得られた化合物を HP LCで分析した結果、 2， 2ージァリルビスフエノール Aは 97. 3 %、モノァリルビスフエノール Aは 0. 5%、 低極性不純物総計は 2. 2%であった。
実施例 2
4, 4， —ビスフエノール Cジァリルエーテル 86 g (0. 25モル） 、 ダイ ァナフレシァ W— 8 (出光興産社製） 50 g、 白灯油 50 gを四つ口フラスコに 仕込み、実施例 1と同様の方法にてその製造及び精製を行った。得られた化合物 を HP LCで分析した結果、 2， 2—ジァリルビスフエノール Cは 96. 4%、 モノァリルビスフエノール Cは 0.4 %、低極性不純物総計は 3. 2 %であつた。 比較例 1
4， 4， ービスフエノール Aジァリルエーテル 78 g ( 0 · 25モル） 、 ダイ ァナフレシァ W— 8 (出光興産社製） 50 g、 白灯油 50 gを四つ口フラスコに 仕込み、 窒素雰囲気下、 200〜205 °Cで 8時間還流反応を行った。 反応終了 後、室温まで冷却した。 2層になったその下層をコック付きの四つ口フラスコに 移しトルエン 5 Omlを投入した。この後に窒素雰囲気下 20 gの Na OHを含 む水溶液 100 gを投入し、十分撹拌を行レ、、 2, 2—ジァリルビスフエノール Aをジナトリゥム塩にし、水層に 2， 2—ジァリルビスフエノール Aジナトリゥ ム塩を十分溶解した。 そしてその溶液を静置後、 トルエン層を除いた。 その水層 を 35%塩酸 52 gで中和、 トルェン投入後分液を行い、 中性になるまで水洗を 行った。 そして、 そのトルエン層を取り出し、 窒素雰囲気下エバポレーターにて トルエンを十分留去した。 得られた化合物を HP LCで分析した結果、 2， 2- ジァリルビスフエノール Aは 92. 3%、モノァリルビスフエノール Aは 3. 5 %. 低極性不純物の総計は 4. 2%であった。
比較例 2
4， 4， 一ビスフエノール Cジァリルエーテル 86 g (0. 25モル） 、 ダイ ァナフレシァ W— 8 (出光興産社製） 50 g、 白灯油 50 gを四つ口フラスコに 仕込み、実施例 2と同様の方法にて 2， 2—ジァリールビスフエノールを製造し た。 得られた化合物を H P L Cで分析した結果、 2, 2—ジァリルビスフエノー ル Cは 89. 0%、 モノアリルビスフエノール Cは 5. 2%、 低極性不純物の総 計は 5. 8%であった。
産業上の利用可能性
本発明によれば、半導体封止剤の硬化剤ゃポリイミド樹脂用添加剤等として有 用な 2， 2—ジァリルビスフエノール A若しくは 2， 2—ジァリルビスフエノー ル Cを製造するにあたり、その精製を容易に行うことができ、高純度の製品を容 易に得ることが可能である。本発明の精製方法により得られた 2， 2—ジァリル ビスフエノール A若しくは 2， 2—ジァリルビスフエノール Cは、半導体封止剤 用硬化剤ゃポリイミド樹脂用添加剤といった電子材料に有用である。
本出願は、 日本で出願された特願 2004— 346366を基礎としており、 それらの内容は本明細書に全て包含される。

Claims

請求の範囲
Figure imgf000012_0001
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ） で表されるジァリルビスフェ ノール化合物を非水系有機溶媒に溶解させた後、当該溶液を前記ジァリルビスフ ェノール化合物に対して 0 . 0 1〜0 . 4倍当量のアルカリを含むアルカリ水溶 液で、少なくとも一回以上洗浄して、前記ジァリルビスフエノール化合物に含有 される不純物である原料由来のビスフエノール及び式 （2 ) ：
Figure imgf000012_0002
(式中、 Rは前記と同義である。 ） で表される副生成物- ェノール化合物を除去若しくは低減させることを特徴とする、 ェ ノール化合物の精製方法。
2 . 式 （1 ) ：
Figure imgf000012_0003
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ） で表されるジァリルビスフエ ノール化合物が非水系有機溶媒に溶解した溶液に、当該ジァリルビスフエノール 化合物に対して 2〜 1 0倍当量のアル力リを含むアルカリ水溶液を加え、こうし て得られた前記ジァリルビスフエノール化合物のアル力リ含有水溶液を非水系 有機溶媒で少なくとも一回以上洗浄した後、 中和し、溶媒で抽出した後に溶媒を 留去して、前記ジァリルビスフエノール化合物に含有される不純物である低極性 不純物を除去若しくは低減させることを特徴とする、ジァリルビスフエノール化 合物の精製方法。
3 .請求の範囲第 1項記載の方法及ぴ請求の範囲第 2項に記載の方法を組み合わ せてなる、 ジァリルビスフエノール化合物の精製方法。
4 . 式 （3 ) ：
Figure imgf000013_0001
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ) で表されるビスフエノールジ 了リルエーテルィヒ合物の加熱転移反応で生成した式 ( 1 ) で表されるジァリルビ スフエノール化合物を含む反応生成物から、式（1 ) で表されるジァリルビスフ エノール化合物を単離することなく精製する、請求の範囲第 1〜第 3項のいずれ か一項に記載の方法。
5 . 式 （1 ) ：
Figure imgf000013_0002
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ) で表されるジァリルビスフエ ノール化合物に含有される不純物である原料由来のビスフエノーノレ及ぴ式（2 ) ：
Figure imgf000013_0003
(式中、 Rは前記と同義である。 ） で表される副生成物であるモノァリルビスフ ェノ "ル化合物を除去若しくは低減させるために非水系有機溶媒に溶解させた 後、 0 . 0 1〜0 . 3倍当量のアルカリ含有水溶液で、 少なくとも一回以上洗浄 することを特徴とするジァリルビスフエノール化合物の精製方法。
6 . 式 （1 )
Figure imgf000014_0001
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ） で表されるジァリルビスフエ ノール化合物に含有される不純物である低極性不純物を除去若しくは低減させ るために 2〜3倍当量のアルカリを加え、上記式（1 ) のアルカリ含有水溶液を 非水系有機溶媒で少なくとも一回以上洗浄後、 中和し、溶媒で抽出した後に溶媒 を留去することを特徴とするジァリルビスフエノール化合物の精製方法、
7 .原料由来のビスフエノール化合物及び副生成物であるモノァリルビスフエノ ール化合物、低極性不純物を請求の範囲第 5項又は第 6項に記載の精製方法を組 み合わせて除去若しくは低減させることを特徴とするジァリルビスフエノール 化合物の精製方法。
8 . 式 （3 ) ：
Figure imgf000014_0002
(式中、 Rは水素原子若しくはメチル基を示す。 ) で表されるビスフエノールジ ァリ /レエーテノレ化合物の加熱転移反応の後、式（ 1 ) で表されるジァリルビスフ ェノール化合物を単離することなく精製することを特徴とする請求の範囲第 5 〜第 7項のいずれかに記載のジァリルビスフエノール化合物の精製方法。
PCT/JP2005/022400 2004-11-30 2005-11-30 ジアリルビスフェノール化合物の精製方法 WO2006059774A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006546715A JPWO2006059774A1 (ja) 2004-11-30 2005-11-30 ジアリルビスフェノール化合物の精製方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004346366 2004-11-30
JP2004-346366 2004-11-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006059774A1 true WO2006059774A1 (ja) 2006-06-08

Family

ID=36565198

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2005/022400 WO2006059774A1 (ja) 2004-11-30 2005-11-30 ジアリルビスフェノール化合物の精製方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPWO2006059774A1 (ja)
WO (1) WO2006059774A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007026754A1 (ja) * 2005-09-01 2007-03-08 Api Corporation ２，２－ビス（３－アリル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6229543A (ja) * 1985-08-01 1987-02-07 Mitsui Toatsu Chem Inc β，γ−不飽和アルケニル基置換フエノ−ル類の製造法
JPH11140007A (ja) * 1997-11-12 1999-05-25 Gun Ei Chem Ind Co Ltd プロペニル基含有ビスフェノール誘導体

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6229543A (ja) * 1985-08-01 1987-02-07 Mitsui Toatsu Chem Inc β，γ−不飽和アルケニル基置換フエノ−ル類の製造法
JPH11140007A (ja) * 1997-11-12 1999-05-25 Gun Ei Chem Ind Co Ltd プロペニル基含有ビスフェノール誘導体

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007026754A1 (ja) * 2005-09-01 2007-03-08 Api Corporation ２，２－ビス（３－アリル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2006059774A1 (ja) 2008-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5757860B2 (ja) 結晶形態のテノホビルジソプロキシル及びその製造方法
JP5461712B2 (ja) Ｎ−（ブロモアセチル）−３，３−ジニトロアゼチジンの合成及び単離法並びにそれを含む組成物
EP2632907B1 (en) Process for preparing 2-(2-hydroxyphenyl)-benz[1,3]oxazin-4-one and its use for preparing deferasirox
JP2010505945A (ja) メチル−４−ホルミルベンゾエートとジメチルテレフタレートの単離方法
WO2006059774A1 (ja) ジアリルビスフェノール化合物の精製方法
CN1394196A (zh) 高纯度四溴双酚－a的不妨害生态环境的制备方法
JP6072329B1 (ja) アセトアミド誘導体の製造方法
US20050096352A1 (en) Process for the preparation of pantoprazole and salts thereof
JP2005532406A (ja) ニトロフェノールの製造方法
CN113735785A (zh) 3,6-二氯吡嗪-2-甲腈的制备方法
JP4617667B2 (ja) チオール化合物の製造方法
JP6023432B2 (ja) ペルフルオロブタンスルホニルフルオリド、ペルフルオロブタンスルホン酸カリウム塩、およびペルフルオロブタンスルホニルフルオリドの製造方法
KR100881890B1 (ko) 사포그렐레이트 염산염의 제조방법
WO2007069265A1 (en) A novel process for the synthesis of lamotrigine and its intermediate
JP2009001506A (ja) トリヒドロキシベンゾフェノンの製造方法
JP4127017B2 (ja) ベンジルカルバゼート化合物の製造法
JP2010077077A (ja) Ｎ−ペンタノイル−ｎ−［２’−（１ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イルメチル］−ｌ−バリンの製造方法
JP4482280B2 (ja) ２，５−ビス（アミノメチル）−１，４−ジチアン化合物の精製方法及び製造方法
JP2506376B2 (ja) ２−（４−メチルアミノブトキシ）ジフェニルメタン・塩酸塩の製造方法
JP2007182426A (ja) テトラフルオロテレフタル酸ジフルオライドの製造方法
JP2005023022A (ja) 高純度１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン類の製造方法
KR101622630B1 (ko) 디클로페낙 콜린 염의 합성 방법
JP6425980B2 (ja) ケトキシムアルカリ金属塩若しくはケトキシムアルカリ土類金属塩から対応するケトン化合物を製造する方法
KR101521607B1 (ko) 메틸 4-포밀벤조에이트와 디메틸테레프탈레이트를 고수율로 분리회수하는 방법
JPS627912B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KM KN KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV LY MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU LV MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2006546715

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 05814279

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1