WO2006009185A1 - シリカ除去装置及びシリカ除去方法 - Google Patents

シリカ除去装置及びシリカ除去方法 Download PDF

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Tomoo Kato
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Kurita Water Industries Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a silica removing apparatus and a silica removing method. More specifically, the present invention uses a simple device to remove silica from the reverse osmosis membrane concentrated water to a saturation concentration or less, effectively preventing the generation of silica scale in the reverse osmosis membrane concentrated water loop, The present invention relates to a silica removing device and a silica removing method capable of collecting the entire raw water as reverse osmosis membrane permeated water.
  • Reverse osmosis membranes are widely used as means for removing impurities in water to be treated in pure water production equipment.
  • permeated water having a reduced impurity concentration is obtained, and the removed impurities are concentrated in the concentrated water.
  • a pure water treatment device that treats permeate treated in two stages using two reverse osmosis membrane separators in series with an electrodialyzer has been proposed.
  • An example is shown in which the osmosis membrane permeate water drops to 1.5 pm and the second reverse osmosis membrane permeate water decreases to 0.0 19 ppm (Patent Document 1).
  • Silica removed from the raw water accumulates in the reverse osmosis membrane concentrated water, and when the concentration exceeds the saturation concentration, it deposits as a silica scale on piping in the reverse osmosis membrane concentrated water loop, causing various obstacles. .
  • the silica is removed from the reverse osmosis membrane concentrated water to a saturation concentration or less using a simple apparatus having a different principle from that of crystallization, and the reverse osmosis membrane concentrated water loop is removed.
  • an apparatus for removing silica from reverse osmosis membrane concentrated water which can effectively prevent the generation of silica scale in the tank.
  • the present inventors have used silica-containing water as a silica-removing device capable of effectively removing silica from silica-containing water using a simple device and preventing the generation of silica scale in a cooling water system or boiler water system.
  • a silica removal device having a column filled with silica gel particles having a water inlet and a treated water outlet (Patent Document 3).
  • silica in silicic acid-containing water can be adsorbed and polymerized on the surface of silica gel particles to reduce the silica concentration in water and effectively prevent the generation of silica scale.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2-4 0 2 2 0 (Page 2, Page 5, Figure 1)
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-1 3 7 7 5 7 (Page 2, Page 4, Figure 1)
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 2 0 0 1-1 4 9 9 5 2 (Page 2, Fig. 2) Disclosure of Invention
  • the present invention uses a simple device to remove silica from the reverse osmosis membrane concentrated water to below the saturation concentration, effectively preventing the generation of silica scale in the reverse osmosis membrane concentrated water loop, and reducing the total amount of raw water.
  • the object of the present invention is to provide a silica removing device and a scouring force removing method that can be recovered as reverse osmosis membrane permeated water.
  • the present inventor adjusted the pH of raw water to the acidic side and supplied it to the reverse osmosis membrane device, while preventing the generation of silica scale.
  • the inventors have found that silica in water can be efficiently removed by increasing the concentration factor in the reverse osmosis membrane device, and the present invention has been completed based on this finding. .
  • a device that removes silica in water with a reverse osmosis membrane (A) Raw water tank, (B) Raw water pH adjusting means, (C) Reverse osmosis membrane device, (D) Reverse osmosis membrane concentrated water p H removal means, (E) Silica removal means filled with a porous silica-containing removal agent, and (F) Silica removal apparatus characterized by having means for returning the effluent water of the silica removal means to the raw water tank,
  • Porous silica-containing remover is produced from silica gel, diatomaceous earth and volcanic glass.
  • the silica removing device according to (1) comprising at least one selected from the group consisting of
  • the average particle size of the porous silica-containing removal agent is 0.1 to 0.8 mm (1) or (2) the silica removal device according to
  • the silica removal method characterized by passing water through the silica removal means filled with the porous silica-containing removal agent and returning the effluent water of the silica removal means to the raw water tank, and
  • FIG. 1 is a process flow diagram of one embodiment of the silica removing apparatus of the present invention.
  • reference numeral 1 is a raw water tank
  • 2 is a pH adjusting means
  • 3 is a reverse osmosis membrane device
  • 4 is a pH adjusting means
  • 5 is a silica removing means.
  • the apparatus for removing scouring force of the present invention is an apparatus for removing silica in water with a reverse osmosis membrane.
  • A Raw water tank
  • B Raw water pH adjusting means
  • C Reverse osmosis membrane device
  • D Reverse osmosis membrane Concentrated water pH adjusting means
  • E A silica removing means filled with a porous silica-containing removing agent
  • F A means for returning the effluent of the silica removing means to the raw water tank.
  • FIG. 1 is a process flow diagram of one embodiment of the silica removing apparatus of the present invention.
  • the raw water stored in the raw water tank 1 is sent out, the pH adjusting means 2 is added to adjust the pH to the acidic side, and the reverse osmosis membrane apparatus 3 is used for reverse osmosis. Separation into permeated water and reverse osmosis membrane concentrated water.
  • pH adjustment means 4 adds alkaline power to adjust pH to neutrality, and passes it through scouring force removal means 5 filled with a porous silica-containing removal agent. Water is used to deposit and remove the scouring force in the reverse osmosis membrane concentrated water, and the effluent from the silica removal means is returned to the raw water tank.
  • the solubility of silica in water is higher on the alkaline side than on the acidic side, and therefore the alkaline side is considered to be more advantageous for scale prevention.
  • Force according to the present invention, by adjusting the raw water to a predetermined pH, the concentration in the reverse osmosis membrane device can be increased and the silica in the water can be efficiently removed while suppressing the generation of scale.
  • a decarboxylation tower can be provided before the reverse osmosis membrane apparatus to decarboxylate raw water
  • a softening apparatus can be provided to soften the raw water.
  • the softening device include an Na-type strongly acidic cation exchange resin packed tower and an H-type strongly acidic cation exchange resin packed tower. The pH of the raw water can be lowered by passing the raw water through the H-type cation exchange resin.
  • the reverse osmosis membrane used in the device of the present invention is preferably an acid resistant membrane.
  • the type of the reverse osmosis membrane device is not particularly limited, and examples thereof include a flat membrane module, a spiral module, a tubular module, and a hollow fiber module.
  • the water supplied to the reverse osmosis membrane device was condensed with the reverse osmosis membrane permeated water from which impurities such as silica, sodium, potassium, chloride ion, sulfate ion and carbonate ion were removed, and these impurities were concentrated. Separated into reverse osmosis membrane concentrated water.
  • the silica removing means is filled with a porous silica-containing remover.
  • the porous silica-containing remover is preferably an amorphous porous silica-containing remover selected from the group consisting of silica gel, diatomaceous earth, and volcanic glass.
  • silica gel used in the present invention device, and either natural silica gel or synthetic silica gel can be used.
  • silica gel represented by the composition formula S i 0 2 ⁇ ⁇ ⁇ 2 ⁇ , ⁇ Silica-alumina gel containing A 1 2 0 3 , caustic anhydride called white carbon, hydrous caustic acid, etc. can also be used.
  • Siri force gel chemically modified with hydrocarbon groups such as methyl group, butyl group, octyl group, octadecyl group, and phenyl group, an amino group, an aminopropyl group
  • Silica gel chemically modified with ion exchange groups such as quaternary ammonium groups and sulfonic acid groups can also be used.
  • Synthetic silica gel can be obtained by neutralizing an aqueous solution of sodium silicate with an inorganic acid, washing the precipitated precipitate with water, and drying, but use silica gel that is commercially available for drying. You can also.
  • the porosity of silica gel is usually 40 to 60% by volume.
  • diatomaceous earth used in the apparatus of the present invention.
  • examples include refined products, calcined products obtained by firing natural diatomaceous earth, and purified products obtained by treating natural diatomaceous earth with dilute hydrochloric acid and then washing with water.
  • Diatomaceous earth contains sio 2
  • the volcanic glass used in the apparatus of the present invention is a glassy aluminosilicate such as pearlite, obsidian, rosinite, rhyolite, nevadaite, and lysoid.
  • the volcanic glass has an S i 0 2 content of 70 to 76% by weight.
  • mold or spherical shape can be used suitably.
  • the destructive removal agent can be obtained, for example, by crushing volcanic glass.
  • the removal agent formed into a spherical shape can be formed into a spherical shape during the production process of silica gel, or diatomaceous earth can be formed into a spherical shape.
  • the silica removing means filled with the porous silica-containing removal agent is a fluidized bed type upward flow device in which the removal agent flows, a fixed bed type downward flow device or a fixed bed type in which the column is filled with the removal agent. Any of the upward flow devices can be used.
  • the average particle diameter of the porous silica-containing removal agent used in the apparatus of the present invention is preferably 0.1 to 0.8 mm, and more preferably 0.2 to 0.6 mm.
  • the average particle size is a particle size corresponding to 50% by volume in a cumulative distribution curve in which the horizontal axis is the particle size and the vertical axis is the cumulative relative particle amount (volume basis).
  • the particle size of the non-spherical removal agent is determined as the particle size of the spherical removal agent having the same volume.
  • the fluidized bed type upward flow silica removal means has a moderately large sedimentation speed and good silica removal performance. The speed can be increased to reduce the size of the device.
  • the fixed bed type silica removal means has low filtration resistance and good silica removal performance, so the water flow rate is increased. Thus, the apparatus can be reduced in size.
  • the fixed bed type silica removing means it is more preferable to use a spherical removing agent because the filtration resistance is small.
  • a plurality of silica removing means can be provided in series in multiple stages.
  • the silica removing means filled with the silica-containing removing agent arranged in series in a plurality of stages is preferably operated by a memory go round method.
  • the silica concentration at the outlet of the first silica removal means is measured and the silica removal performance is lost.
  • remove the first-stage silica removal means from the system by switching the valve, etc. replace the filled porous silica-containing removal agent with a new one, and then switch the valve so that it becomes the last-stage silica removal means Can do.
  • the capacity of the porous silica-containing removal agent is fully utilized to reduce the processing cost, the removal agent replacement frequency is reduced, the work efficiency is improved, and the silica removal performance is improved. A stable and constant silica removal rate can be maintained.
  • the silica removal performance of the porous silica-containing removal agent decreases as the period of use increases, in order to obtain the desired silica removal rate, even if the silica removal performance remains, the removal rate decreases. It was necessary to replace it with a new one.
  • the replacement timing of the silica removing means can be judged by measuring the silica concentration at the outlet of the front-stage silicic force removing means, or after treating a certain amount of water flow.
  • the silica removing means can be a silica removing means capable of switching water flow between an upward flow and a downward flow. By switching the water flow direction, it is possible to prevent an increase in pressure loss due to dirt accumulated on the top of the force ram.
  • the switching timing of the water flow direction can be controlled by a differential pressure gauge, or it can be controlled by a timer.
  • the porous silica-containing removal agent is preferably filled in the silica removal means after being immersed in neutral or acidic water.
  • the pH of neutral or acidic water is preferably 1 to 7, and more preferably 2 to 5.
  • the silica removal means is filled with the removal agent containing porous silica in the dry state, dust is generated during the filling operation, the temperature rises due to heat of hydration immediately after passing water, contains porous silica It takes time for the bubbles in the pores of the remover to escape, and problems such as a low silica removal rate immediately after filling occur.
  • a high silica removal rate can be obtained for reasons such as suppressing surface deterioration and deterioration.
  • crystalline silica such as quartz is used as a seed crystal to contact water.
  • the silica adsorbs on the surface of the seed crystal at normal temperature and pressure, but the crystal does not grow and the silica removal effect is not sufficient.
  • the porous silica-containing removal agent used in the apparatus of the present invention is amorphous, has a large porosity, and silica contained in the reverse osmosis membrane concentrated water is taken into the pores in the removal agent, and between the silanol groups. Since it is deposited on the surface of the pores by the polymerization reaction, the volume of the removal agent will hardly change even if a large amount of silica is deposited. Therefore, the porous silica-containing removal agent can be packed in the column, and the operation can be continued stably in the downward flow.
  • the pH of the raw water is adjusted to 2-7, preferably 3-6, more preferably 5.0-5.5, and the raw water is supplied to the reverse osmosis membrane device and supplied to the reverse osmosis membrane permeated water. And reverse osmosis membrane Separate into concentrated water. By doing so, it is possible to efficiently remove silica in the water by suppressing the generation of scale and increasing the concentration factor in the reverse osmosis membrane device. If the pH of the raw water is less than 2, the reverse osmosis membrane may deteriorate. When the pH of raw water exceeds 7, precipitation of silica scale becomes a problem.
  • the pH of the reverse osmosis membrane concentrated water is adjusted to 6.5-9, more preferably 7-8, and then it is passed through a silica removing means filled with a porous silica-containing removing agent. If the pH of the reverse osmosis membrane concentrated water is less than 6.5, dissociation of the surface of the porous silica-containing removal agent becomes small, and the silica adsorption force may be reduced. Reverse osmosis membrane If the pH of the concentrated water exceeds 9, the saturation solubility of silica increases, and the silica removal performance may decrease. Adjusting the pH of the reverse osmosis membrane concentrated water to 9.3 actually decreases the silica removal performance.
  • the silica deposition rate is increased, and in the silica removal means, silica force is deposited on the surface of the porous silica-containing removal agent, and the silica concentration of the reverse osmosis membrane concentrated water is reduced. It can be effectively reduced.
  • Siri force in the raw water containing silica is adjusted by adjusting the pH of the raw water to the 10 to 12 altitude side, passing through the reverse osmosis membrane, reverse osmosis membrane concentrated water and reverse osmosis membrane permeate water. It can also be removed by separating them.
  • it is essential to install a decarboxylation tower and a softening device in front of the reverse osmosis membrane device, whereas the pH of the raw water is set to the acidic side. In the case of adjustment, the decarboxylation tower and the softening device can be omitted.
  • the effluent water from the silica removing means is returned to the raw water tank and circulated together with the replenished raw water to remove the contained silica.
  • the silica contained in the raw water is all deposited in the surface of the porous silica-containing removal agent in the silica removal means, except for a very small amount of silica contained in the reverse osmosis membrane permeate and moving out of the system. Therefore, all raw water can be converted to reverse osmosis membrane permeated water without discarding the reverse osmosis membrane concentrated water as professional water.
  • This equipment consists of a raw water tank 1 with a capacity of 2 Om 3 , pH adjustment means 2 to adjust the pH to 5.0 by adding hydrochloric acid to the raw water as a pH adjuster, reverse osmosis membrane equipment [Kurita Industrial Co., Ltd., KROA- 2023] 3.
  • Calcium chloride, sodium bicarbonate and sodium silicate 3 are dissolved in activated carbon treated tap water, calcium hardness 2 OmgCaC0 3 ZL, M alkalinity 20 mg CaC0 3 / L, silica concentration 5 OmgSi0 2 / L, Synthetic water with pH 7.0 was prepared and used as raw water.
  • Sodium hydroxide aqueous solution was added to the permeable membrane and adjusted to pH 7.0, and the silica removal column was fed upward with SV (Space Velocity) 2 h- 1 .
  • the porous silica-containing remover in the column remained in a fixed bed state.
  • the silica concentration of water flowing out from the silica removal column was 10 O mg Si0 2 ZL. All water flowing out from the silica removal column was returned to the raw water tank. The resulting raw water supply was 6. O m 3 Zh.
  • the silica concentration of the reverse osmosis membrane permeated water and the silica concentration of the silica removal column effluent remain constant, and the total amount of raw water is reversed without discharging the reverse osmosis concentrated water out of the system. It could be recovered as osmotic membrane permeated water.
  • silica is removed from the reverse osmosis membrane concentrated water to a saturation concentration or less, effectively preventing the generation of silica scale in the reverse osmosis membrane concentrated water loop, and the reverse osmosis membrane concentration.
  • the entire amount of raw water can be converted to reverse osmosis membrane permeate without discharging water out of the system.

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Abstract

(Ａ)原水槽、(Ｂ)原水のｐＨ調整手段、(Ｃ)逆浸透膜装置、(Ｄ)逆浸透膜濃縮水のｐＨ調整手段、(Ｅ)多孔質シリカ含有除去剤を充填したシリカ除去手段、及び(Ｆ)シリカ除去手段の流出水を原水槽に返送する手段を有する逆浸透膜による水中シリカの除去装置；並びに原水のｐＨを２～７に調整し、逆浸透膜装置に供給して逆浸透膜透過水と逆浸透膜濃縮水に分離し、逆浸透膜濃縮水のｐＨを６.５～９に調整したのち、多孔質シリカ含有除去剤を充填したシリカ除去手段に通水し、シリカ除去手段の流出水を原水槽に返送する水中シリカの除去方法。簡単な装置により逆浸透膜濃縮水からシリカを飽和濃度以下まで除去し、逆浸透膜濃縮水ループにおけるシリカスケールの発生を効果的に防止し、原水の全量を逆浸透膜透過水として回収することができる。

Description

明細書 シリカ除去装置及びシリ力除去方法 技術分野
本発明は、 シリカ除去装置及びシリカ除去方法に関する。 さらに詳しくは、 本 発明は、 簡単な装置を用いて、 逆浸透膜濃縮水からシリカを飽和濃度以下まで除 去し、 逆浸透膜濃縮水ループにおけるシリカスケールの発生を効果的に防止する とともに、 原水の全量を逆浸透膜透過水として回収することができるシリカ除去 装置及びシリカ除去方法に関する。 背景技術
逆浸透膜は、 純水製造装置における被処理水中の不純物を除去する手段として 広く用いられている。 被処理水を逆浸透膜に通水すると、 不純物濃度が低下した 透過水が得られるとともに、 除去された不純物が濃縮水中に濃縮される。 例え ば、 逆浸透膜分離器を 2基直列で用いて 2段処理した透過水を、 電気透析器で処 理する純水処理装置が提案され、 シリカ濃度が、 原水 2 1 p p m、 第 1逆浸透膜 透過水 1 . 5 p m, 第 2逆浸透膜透過水 0 . 0 1 9 p p mと低下する例が示され ている（特許文献 1 )。 原水から除去されたシリカは、 逆浸透膜濃縮水中に蓄積さ れ、 その濃度が飽和濃度を超えると、 シリカスケールとして逆浸透膜濃縮水ル プ中の配管などに析出し、 さまざまな障害を引き起こす。
このために、 逆浸透膜濃縮水中に蓄積する不純物を晶析などにより除去する試 みがなされている。 例えば、 塩類を含む原水の脱塩処理において、 塩類の濃縮率 を上げて塩類の処理を容易に行うことができる水処理方法として、 逆浸透膜装置 により分離された濃縮水を透過膜装置でろ過し、 透過膜装置の濃縮水を晶析槽に 導入し シリカ粒子の添加などの晶析促進手段により処理する方法が提案されて いる（特許文献 2 )。 し力 し、 この方法では、 シリカの晶析は常温常圧では進行し にくいので、 効率が悪いという問題がある。 すなわち、 シリカを晶析により除去 するには限界があった。 このために、 晶析とは原理が異なる簡単な装置を用い て、 逆浸透膜濃縮水からシリカを飽和濃度以下まで除去し、 逆浸透膜濃縮水ルー プにおけるシリカスケールの発生を効果的に防止することができる逆浸透膜濃縮 水のシリカ除去装置が求められていた。
本発明者らは、 簡単な装置を用いて、 シリカ含有水より効果的にシリカを除去 し、 冷却水系やボイラ水系などのシリカスケール発生を防止することができるシ リカ除去装置として、 シリカ含有水の流入口と処理水の流出口を有し、 シリカゲ ル粒子が充填されたカラムを備えたシリカ除去装置を提案した（特許文献 3 )。 こ の装置を用レ、ることにより、 シリ力含有水中のシリカをシリカゲル粒子の表面に 吸着及び重合させて、 水中のシリカ濃度を低下させ、 効果的にシリカスケールの 発生を防止することが可能となったが、 逆浸透膜濃縮水の処理に十分に対応し得 るものではなかった。
[特許文献 1 ]特開平 2— 4 0 2 2 0号公報 (第 2頁、 第 5頁、 第 1図）
[特許文献 2 ]特開平 1 0— 1 3 7 7 5 7号公報 (第 2頁、 第 4頁、 図 1 )
[特許文献 3 ]特開 2 0 0 1 - 1 4 9 9 5 2号公報 (第 2頁、 図 2 ) 発明の開示
本発明は、 簡単な装置を用いて、 逆浸透膜濃縮水からシリカを飽和濃度以下ま で除去し、 逆浸透膜濃縮水ループにおけるシリカスケールの発生を効果的に防止 するとともに、 原水の全量を逆浸透膜透過水として回収することができるシリカ 除去装置及びシリ力除去方法を提供することを目的としてなされたものである。 本発明者は、 上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、 原水の p Hを酸 性側に調整して逆浸透膜装置に供給することにより、 シリカスケールの発生を防 止しつつ、 逆浸透膜装置における濃縮倍率を高めて、 効率的に水中のシリカを除 去し得ることを見いだし、 この知見に基づいて本発明を完成するに至った。.
すなわち、 本発明は、
( 1 ) 逆浸透膜により水中のシリカを除去する装置において、 （A)原水槽、 （B ) 原水の p H調整手段、 （C)逆浸透膜装置、 （D)逆浸透膜濃縮水の p H調整手段、 (E)多孔質シリカ含有除去剤を充填したシリカ除去手段、 及び、 （F)シリカ除去 手段の流出水を原水槽に返送する手段を有することを特徴とするシリカ除去装 置、
( 2 ) 多孔質シリカ含有除去剤が、 シリカゲル、 珪藻土及ぴ火山岩質ガラスから なる群から選ばれる少なくとも 1つからなる（ 1 )記載のシリカ除去装置、
(3) 多孔質シリカ含有除去剤の平均粒径が、 0.1〜0.8 mmである（1)又は (2)記載のシリカ除去装置、
(4) 原水の pHを 2〜7に調整し、 逆浸透膜装置に供給して逆浸透膜透過水と 逆浸透膜濃縮水に分離し、 逆浸透膜濃縮水の pHを 6.5〜 9に調整したのち、 多孔質シリカ含有除去剤を充填したシリカ除去手段に通水し、 シリカ除去手段の 流出水を原水槽に返送することを特徴とするシリカ除去方法、 及び、
(5) 多孔質シリカ含有除去剤が、 シリカゲル、 珪藻土及び火山岩質ガラスから なる群から選ばれる少なくとも 1つからなる（ 4 )記載のシリ力除去方法、 を提供するものである。 図面の簡単な説明
F i g. 1は本発明のシリカ除去装置の一態様の工程系統図である。 図中符号 1は原水槽、 2は pH調整手段、 3は逆浸透膜装置、 4は pH調整手段、 5はシ リカ除去手段である。 発明を実施するための最良の形態
本発明のシリ力除去装置は、 逆浸透膜により水中のシリカを除去する装置にお いて、 （A)原水槽、 （B)原水の pH調整手段、 （C)逆浸透膜装置、 （D)逆浸透膜 濃縮水の pH調整手段、 （E)多孔質シリカ含有除去剤を充填したシリカ除去手 段、 及ぴ、 （F)シリカ除去手段の流出水を原水槽に返送する手段を有する。
F i g. 1は、 本発明のシリカ除去装置の一態様の工程系統図である。 本態様 の装置においては、 原水槽 1に貯留された原水を送り出し、 pH調整手段 2によ り pH調整剤を添カ卩して pHを酸性側に調整し、 逆浸透膜装置 3により逆浸透膜 透過水と逆浸透膜濃縮水とに分離する。 分離された逆浸透膜濃縮水には、 pH調 整手段 4—によりアル力リを添加して p Hを中性に調整し、 多孔質シリカ含有除去 剤を充填したシリ力除去手段 5に通水して、 逆浸透膜濃縮水中のシリ力を析出さ せて除去し、 シリカ除去手段の流出水を原水槽に返送する。
通常、 シリカの水への溶解度は、 酸性側よりもアルカリ性側の方が大きいの で、 アルカリ性側の方がスケール防止に有利であると考えられている。 し力 し、 本発明によれば、 原水を所定の p Hに調整することにより、 スケールの発生を抑 えつつ、 逆浸透膜装置における濃縮倍率を高めて、 効率的に水中のシリカを除去 することができる。
本発明装置においては、 必要に応じて逆浸透膜装置の前段に脱炭酸塔を設けて 原水を脱炭酸し、 軟化装置を設けて原水を軟化することができる。 軟化装置とし ては、 例えば、 N a型強酸性カチオン交換樹脂充填塔、 H型強酸性カチオン交換 樹脂充填塔などを挙げることができる。 原水を H型カチオン交換樹脂に通水する ことにより、 原水の p Hを下げることができる。
本発明装置に用いる逆浸透膜は、 耐酸性膜であることが好ましい。 逆浸透膜装 置の型式に特に制限はなく、 例えば、 平面膜モジュール、 スパイラルモジユー ル、 管型モジュール、 中空糸モジュールなどを挙げることができる。 逆浸透膜装 置に供給された水は、 シリカ、 ナトリウム、 カリウム、 塩化物イオン、 硫酸ィォ ン、 炭酸イオンなどの不純物が除去された逆浸透膜透過水と、 これらの不純物が 濃縮された逆浸透膜濃縮水に分離される。
本発明装置においては、 シリカ除去手段に、 多孔質シリカ含有除去剤を充填す る。 多孔質シリカ含有除去剤は、 シリカゲル、 珪藻土及び火山岩質ガラスからな る群から選ばれる非晶質の多孔質シリカ含有除去剤であることが好ましい。 本発 明装置に用いるシリカゲルに特に制限はなく、 天然シリカゲル、 合成シリカゲル のいずれをも用いることができ、 また、 組成式 S i 02· η Η2Οで表されるシリカ ゲルの外に、 · A 1 203を含有するシリカアルミナ質ゲルや、 ホワイトカーボンと 呼ばれる無水ケィ酸、 含水ケィ酸なども用いることができる。 また、 化学修飾さ れていない通常のシリカゲルの外に、 メチル基、 ブチル基、 ォクチル基、 ォクタ デシル基、 フエニル基などの炭化水素基で化学修飾されたシリ力ゲル、 ァミノ 基、 ァミノプロピル基、 第四級アンモニゥム基、 スルホン酸基などのイオン交換 基などで化学修飾されたシリカゲルなども用いることができる。 合成シリカゲル は、 ケィ酸ナトリゥムの水溶液を無機酸により中和し、 析出した沈殿を水洗、 乾 燥することにより得ることができるが、 乾燥用ゃク口マトグラフ用として市販さ れているシリカゲルを用いることもできる。 シリカゲルの空隙率は、 通常 4 0〜 6 0容量％である。
本発明装置に用いる珪藻土に特に制限はなく、 例えば、 天然に産したままの未 精製品、 天然の珪藻土を焼成した焼成品、 天然の珪藻土を希塩酸で処理したの ち、 水洗、 乾燥した精製品などを挙げることができる。 珪藻土は、 s i o2含有量
8 5〜9 5重量％、 空隙率 8 0〜8 5容量％の多孔質である。 本発明装置に用い る火山岩質ガラスは、 真珠岩、 黒曜岩、 松脂岩、 流紋岩、 ネバダ岩、 リソィダイ トなどのガラス質のアルミノケィ酸塩である。 火山岩質ガラスは、 S i 02含有量 7 0〜7 6重量％である。
本発明装置に用いる多孔質シリカ含有除去剤の形状に特に制限はないが、 破砕 型又は球状に成形された除去剤を好適に用いることができる。 破碎型の除去剤 は、 例えば、 火山岩質ガラスを破砕することにより得ることができる。 球状に成 形された除去剤は、 例えば、 シリカゲルの製造工程中に球状に成形することがで き、 あるいは、 珪藻土を球状に成形することができる。
本発明装置において、 多孔質シリカ含有除去剤を充填したシリカ除去手段は、 除去剤が流動する流動床式上向流装置、 除去剤をカラムに充填した固定床式下向 流装置又は固定床式上向流装置のいずれともすることができる。
本発明装置に用いる多孔質シリカ含有除去剤の平均粒径は、 0 . 1〜0 . 8 mm であることが好ましく、 0 . 2〜0 . 6 mmであることがより好ましい。 本発明に おいて、 平均粒径とは、 粒径を横軸、 累積相対粒子量 (体積基準）を縦軸とする累 積分布曲線において、 5 0体積％に相当する粒径である。 球状でない除去剤の粒 径は、 同一体積を有する球状の除去剤の粒径として求める。 除去剤の平均粒径が 0 . 1〜0 . 8 mmであると、 流動床式上向流シリカ除去手段においては、 沈降速 度が適度に大きく、 良好なシリカ除去性能を有するので、 通水速度を大きくし て、 装置を小型化することができる。 また、 除去剤の平均粒径が 0 . 1〜0 . 8 m mであると、 固定床式シリカ除去手段においては、 ろ過抵抗が小さく、 良好なシ リカ除去性能を有するので、 通水速度を大きくして、 装置を小型化することがで きる。 固定床式シリカ除去手段において、 球状の除去剤を使用すると、 ろ過抵抗 が小さいのでより好ましい。
本発明装置においては、 複数個のシリカ除去手段を、 直列多段に設けることが できる。 直列多段に配置したシリカ含有除去剤を充填したシリカ除去手段は、 メ リーゴーラウンド方式で運転することが好ましい。 メリーゴーラウンド方式で は、 最前段のシリカ除去手段の出口のシリカ濃度を測定し、 シリカ除去性能が失 われたとき、 最前段のシリカ除去手段を弁の切り替えなどにより系から外し、 充 填した多孔質シリカ含有除去剤を新品に交換したのち、 最後段のシリカ除去手段 となるように弁を切り替えることができる。 メリーゴーラウンド方式を採用する ことにより、 多孔質シリカ含有除去剤の能力を最大限に利用して処理コストを低 減し、 除去剤交換頻度を減少して作業効率を向上するとともに、 シリカ除去性能 を安定して、 一定したシリカ除去率を維持することができる。
多孔質シリカ含有除去剤のシリカ除去性能は、 使用期間が長くなると低下する ために、 目的とするシリカ除去率を得るためには、 シリカ除去性能が残っていて も、 除去速度が低下した時点で新品に交換する必要があった。 シリカ除去手段を 直列多段に設け、 メリーゴーラウンド方式で運転することにより、 シリカ除去手 段の能力を使い切ることができる。 シリカ除去手段の交換時期は、 最前段のシリ 力除去手段の出口のシリカ濃度を測定して判断することができ、 あるいは、 一定 の通水量を処理した後とすることもできる。
本発明装置において、 シリカ除去手段は、 通水を上向流と下向流に切り替え可 能なシリカ除去手段とすることができる。 通水方向を切り替えることにより、 力 ラム上部に堆積した汚れによる圧損の上昇を防止することができる。 通水方向の 切り替え時期は、 差圧計により制御することができ、 あるいは、 タイマーにより 制御することもできる。
本発明装置においては、 多孔質シリカ含有除去剤は、 中性又は酸性の水に浸漬 したのち、 シリカ除去手段に充填することが好ましい。 中性又は酸性の水の p H は、 1〜 7であることが好ましく、 2〜 5であることがより好ましい。 乾燥状態 で多孔質シリカ含有除去剤をシリカ除去手段に充填したのち通水すると、 充填作 業の際に粉塵が発生する、 通水直後に水和熱で温度が上昇する、 多孔質シリカ含 有除去剤の細孔内の気泡が抜けるのに時間がかかり、 充填直後のシリカ除去率が 低いなどの問題が生ずる。 多孔質シリカ含有除去剤を水に浸漬したのちシリカ除 去手段に充填することにより、 これらの問題が解消される。 また、 多孔質シリカ 含有除去剤を酸性の水に浸漬したのちシリカ除去手段に充填すると、 表面の変 質、 劣化を抑えることができるなどの理由により、 高いシリカ除去率を得ること ができる。
水中のシリカを除去するために、 石英などの結晶性シリカを種晶として水と接 触させると、 常温常圧では種晶の表面にシリカが吸着するものの結晶の成長はお こらず、 シリカ除去効果が充分でない。 本発明装置に用いる多孔質シリカ含有除 去剤は非晶質であり、 空隙率が大きく、 逆浸透膜濃縮水に含まれるシリカは、 除 去剤内の細孔に取り込まれ、 シラノール基間の重合反応により細孔の表面に析出 するので、 多量のシリカが析出しても除去剤の体積はほとんど変化することがな レ、。 したがって、 多孔質シリカ含有除去剤をカラムに充填して、 下向流で安定し て運転を続けることができる。
本発明方法においては、 原水の p Hを 2〜7、 好ましくは 3〜 6、 より好まし くは 5 . 0〜5 . 5に調整し、 逆浸透膜装置に供給して逆浸透膜透過水と逆浸透膜 濃縮水に分離する。 このようにすることにより、 スケールの発生を抑えつつ、 逆 浸透膜装置における濃縮倍率を高めて、 効率的に水中のシリカを除去することが できる。 原水の p Hが 2未満であると、 逆浸透膜が劣化するおそれがある。 原水 の p Hが 7を超えると、 シリカスケールの析出が問題となる。
本発明方法においては、 逆浸透膜濃縮水の p Hを 6 . 5〜9、 より好ましくは 7〜8に調整したのち、 多孔質シリカ含有除去剤を充填したシリカ除去手段に通 水する。 逆浸透膜濃縮水の p Hが 6 . 5未満であると、 多孔質シリカ含有除去剤 の表面の解離が小さくなり、 シリカの吸着力が低下するおそれがある。 逆浸透膜 濃縮水の p Hが 9を超えると、 シリカの飽和溶解度が上昇し、 シリカ除去性能が 低下するおそれがある。 逆浸透膜濃縮水の p Hを 9 . 3に調整すると、 現実にシ リカ除去性能が低下する。 逆浸透膜濃縮水を中性にすることにより、 シリカの析 出速度を速め、 シリカ除去手段において、 多孔質シリカ含有除去剤の表面にシリ 力を析出させ、 逆浸透膜濃縮水のシリカ濃度を効果的に低下させることができ る。
シリカを含有する原水中のシリ力は、 原水の p Hを 1 0〜1 2のアル力リ性側 に調整して逆浸透膜に通水し、 逆浸透膜濃縮水と逆浸透膜透過水に分離すること によっても除去することができる。 し力 し、 原水の p Hをアルカリ性側に調整す る場合は、 逆浸透膜装置の前段に脱炭酸塔と軟化装置を設けることが必須である のに対して、 原水の p Hを酸性側に調整する場合は、 脱炭酸塔と軟化装置を省略 することができるので、 設備的には簡単である。 また、 原水の p Hを酸性側に調 整する場合は、 逆浸透膜濃縮水のシリカ濃度を 5 0 O m g SiO,ノ Lまで上げて、 効率的に逆浸透処理を行うことができる。 さらに、 逆浸透膜は、 アルカリ性側よ りも酸性側の方が劣化しにくく、 耐用年数が伸びると考えられる。 .
本発明方法においては、 シリカ除去手段の流出水を原水槽に返送し、 補充され る原水とともに循環処理して、 含有されるシリカを除去する。 原水中に含有され るシリカは、 逆浸透膜透過水に含まれて系外に移行するごく僅かのシリカを除い て、'すべてシリカ除去手段において、 多孔質シリカ含有除去剤の表面に析出し除 去されるので、 逆浸透膜濃縮水をプロ一水として廃棄することなく、 原水のすべ てを逆浸透膜透過水とすることができる。 実施例
以下に、 実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、 本発明はこれらの 実施例によりなんら限定されるものではない。
実施例 1
F i g. 1に示す装置を用いて、 水中のシリカ除去を行った。 この装置は、 容 量 2 Om3の原水槽 1、 原水に pH調整剤として塩酸を添加し、 pHを 5.0に調 整する pH調整手段 2、 逆浸透膜装置 [栗田工業（株）、 KROA- 2023] 3、 逆浸透膜濃縮水にアル力リを添カ卩して p Hを 7.0に調整する p H調整手段 4、 あらかじめ pH6.0の希塩酸に浸漬した多孔質シリカ含有除去剤 [富士シ リシァ化学（株）、 フジシリカゲル I D破碎品、 40メッシュ通過、 平均粒径 0. 37 mm] 750 Lを充填した内径 1 , 000 mm、 高さ 1， 000 mmのシリカ 除去手段 5としてのカラムを備えている。
活性炭処理した水道水に、 塩化カルシウム、 重炭酸ナトリゥム及ぴケィ酸ナト リウム 3号を溶解して、 カルシウム硬度 2 OmgCaC03ZL、 Mアルカリ度 20m gCaC03/ L、 シリカ濃度 5 OmgSi02/L、 p H 7.0の合成水を調製し、 原水 として用いた。
原水槽に原水 18. Om3を仕込み、 通水速度 6.75 m3Zhで送り出し、 pH 調整剤を添加して p H 5.0に調整して、 温度 25 °C、 圧力 1 MP aで逆浸透膜 装置に供給し、 回収率 88容量％で運転して、 逆浸透膜透過水 6. Om3Zhと逆 浸透膜濃縮水 0.75m3Zhを得た。 逆浸透膜透過水のシリカ濃度は 2 m gSi02 "Lであり、 逆浸透膜濃縮水のシリカ濃度は 50 OmgSi02/Lであった。 逆浸 透膜濃縮水に水酸化ナトリゥム水溶液を加えて p H 7 . 0に調整し、 シリカ除去 カラムに S V (Space Velocity, 空隙速度） 2 h—1で上向流で送り込んだ。 カラム 中の多孔質シリカ含有除去剤は、 固定床の状態を保っていた。 シリカ除去カラム から流出する水のシリカ濃度は 1 0 O m g Si02Z Lであった。 シリカ除去カラム から流出する水は、 全て原水槽に返送した。 この結果として得られた原水供給量 は、 6 . O m3Zhであった。
2 4 0時間の運転中、 逆浸透膜透過水のシリカ濃度、 シリカ除去カラム流出水 のシリカ濃度は一定の値を保ち、 逆浸透濃縮水を系外に排出することなく、 原水 の全量を逆浸透膜透過水として回収することができた。 産業上の利用可能性
本発明によれば、 簡単な装置を用いて、 逆浸透膜濃縮水からシリカを飽和濃度 以下まで除去し、 逆浸透膜濃縮水ループにおけるシリカスケールの発生を効果的 に防止し、 逆浸透膜濃縮水を系外に排出することなく、 原水の全量を逆浸透膜透 過水とすることができる。

Claims

請求の範囲
1. 逆浸透膜により水中のシリカを除去する装置において、 （A)原水槽、 （B)原 水の pH調整手段、 （C)逆浸透膜装置、 （D)逆浸透膜濃縮水の pH調整手段、 (E)多孔質シリカ含有除去剤を充填したシリカ除去手段、 及び、 （F)シリカ除去 手段の流出水を原水槽に返送する手段を有することを特徴とするシリカ除去装 置。
2. 多孔質シリカ含有除去剤が、 シリカゲル、 珪藻土及ぴ火山岩質ガラスからな る群から選ばれる少なくとも 1つからなる請求の範囲 1記載のシリカ除去装置。
3. 多孔質シリカ含有除去剤の平均粒径が、 0. 1〜0.8mmである請求の範囲 1又は 2記載のシリ力除去装置。
4. 原水の pHを 2〜7に調整し、 逆浸透膜装置に供給して逆浸透膜透過水と逆 浸透膜濃縮水に分離し、 逆浸透膜濃縮水の pHを 6.5〜9に調整したのち、 多 孔質シリカ含有除去剤を充填したシリ力除去手段に通水し、 シリカ除去手段の流 出水を原水槽に返送することを特徴とするシリ力除去方法。
5. 多孔質シリカ含有除去剤が、 シリカゲル、 珪藻土及び火山岩質ガラスからな る群から選ばれる少なくとも 1つからなる請求の範囲 4記載のシリカ除去方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7876995B2 (en) 2008-10-29 2011-01-25 Commscope, Inc. Of North Carolina Telecommunications patching systems with obliquely-angled patching modules
US20180194659A1 (en) * 2015-07-09 2018-07-12 Kurita Water Industries Ltd. Recovery method and recovery device for discharged cooling water
WO2019036787A1 (pt) * 2017-08-22 2019-02-28 Allflow Equipamentos Industriais E Comercio Ltda. Sistema de reaproveitamento de águas de rejeito oriundas de processo de filtragem por osmose reversa e método para o tratamento de águas de rejeito

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101734777B (zh) * 2008-11-24 2011-11-02 财团法人工业技术研究院 降低水中二氧化硅的方法
JP5440199B2 (ja) * 2010-01-19 2014-03-12 栗田工業株式会社 シリコンウエハエッチング排水の処理方法及び処理装置
JP2017119256A (ja) * 2015-12-28 2017-07-06 日本国土開発株式会社 シリカ吸着剤およびその製造方法
JP7149129B2 (ja) * 2018-08-03 2022-10-06 オルガノ株式会社 シリカ含有水の処理方法および処理装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11244853A (ja) * 1998-03-06 1999-09-14 Kurita Water Ind Ltd 純水の製造方法
JP2000015257A (ja) * 1998-07-06 2000-01-18 Kurita Water Ind Ltd 高純度水の製造装置および方法
JP2002018437A (ja) * 2000-05-02 2002-01-22 Kurita Water Ind Ltd カルシウム及びシリカ含有水の処理方法及び処理装置
JP2003001255A (ja) * 2001-06-25 2003-01-07 Kurita Water Ind Ltd 循環冷却水の処理方法
JP2003326259A (ja) * 2002-05-14 2003-11-18 Toray Ind Inc 造水方法および造水装置
JP2004025027A (ja) * 2002-06-25 2004-01-29 Kurita Water Ind Ltd 逆浸透膜を用いた水処理方法
JP2004230256A (ja) * 2003-01-29 2004-08-19 Kurita Water Ind Ltd 逆浸透膜濃縮水のシリカ除去装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09248571A (ja) * 1996-03-18 1997-09-22 Ngk Insulators Ltd 純水製造装置
JP3703000B2 (ja) * 1999-11-25 2005-10-05 栗田工業株式会社 開放循環冷却水中のシリカを除去する方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11244853A (ja) * 1998-03-06 1999-09-14 Kurita Water Ind Ltd 純水の製造方法
JP2000015257A (ja) * 1998-07-06 2000-01-18 Kurita Water Ind Ltd 高純度水の製造装置および方法
JP2002018437A (ja) * 2000-05-02 2002-01-22 Kurita Water Ind Ltd カルシウム及びシリカ含有水の処理方法及び処理装置
JP2003001255A (ja) * 2001-06-25 2003-01-07 Kurita Water Ind Ltd 循環冷却水の処理方法
JP2003326259A (ja) * 2002-05-14 2003-11-18 Toray Ind Inc 造水方法および造水装置
JP2004025027A (ja) * 2002-06-25 2004-01-29 Kurita Water Ind Ltd 逆浸透膜を用いた水処理方法
JP2004230256A (ja) * 2003-01-29 2004-08-19 Kurita Water Ind Ltd 逆浸透膜濃縮水のシリカ除去装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7876995B2 (en) 2008-10-29 2011-01-25 Commscope, Inc. Of North Carolina Telecommunications patching systems with obliquely-angled patching modules
US20180194659A1 (en) * 2015-07-09 2018-07-12 Kurita Water Industries Ltd. Recovery method and recovery device for discharged cooling water
US11130694B2 (en) * 2015-07-09 2021-09-28 Kurita Water Industries Ltd. Recovery method for discharged cooling water
WO2019036787A1 (pt) * 2017-08-22 2019-02-28 Allflow Equipamentos Industriais E Comercio Ltda. Sistema de reaproveitamento de águas de rejeito oriundas de processo de filtragem por osmose reversa e método para o tratamento de águas de rejeito
US11242269B2 (en) 2017-08-22 2022-02-08 Allflow Equipamentos Industriais E Comercio Ltda. System for recycling wastewater from reverse osmosis filtering processes and method for treating wastewater

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