JP3703000B2 - 開放循環冷却水中のシリカを除去する方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリカ除去装置に関する。さらに詳しくは、本発明は、簡単な装置を用いて、シリカ含有水より効果的にシリカを除去し、ビル空調、一般工場、石油化学コンビナートなどの熱交換器などの冷却水系やボイラ水系などのスケール発生を防止することができるシリカ除去装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
冷却水系、ボイラ水系などの水と接触する伝熱面や配管内では、スケール障害が発生する。特に、省資源、省エネルギーの立場から、冷却水の系外への排棄(ブロー)を少なくして高濃縮運転を行う場合、溶解しているシリカが濃縮され、スケール化して熱交換器チューブに付着し、伝熱効率を低下させるような障害が生じる。また、シリカを含む水をボイラに給水すると、ボイラ内で不溶性の物質を生成し、スケール化して給水内管や伝熱面に付着する。スケール成分は熱伝導率が小さいので、伝熱面に付着すると熱伝導が著しく阻害され、ボイラの熱効率が低下するのみならず、スケールの付着部分が局部的に過熱され、管材の機械的強度が低下し、ついには膨出、破裂などの事故にいたる。さらに、亜臨界圧ボイラにおいては、過熱蒸気に対する溶解度の大きいシリカがキャリオーバされ、タービン翼やノズルなどに析出して付着するために、タービン効率の低下を招く。このために、シリカ、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウムなどのシリカ系スケールに対して、さまざまな防止策が検討されている。
例えば、特開昭61−107998号公報には、シリカ系スケールに対する防止効果の優れたスケール防止剤として、アクリルアミド系ポリマーとアクリル酸系ポリマーを含むスケール防止剤が提案されている。しかし、このスケール防止剤は、シリカ濃度が低い場合にはスケール防止効果を発揮するものの、シリカ濃度が高い場合には効果が乏しい。また、特開平2−31894号公報には、シリカスケールとカルシウムスケールが析出する冷却水系において、ケイ酸イオンやカルシウムイオンを高濃度に保持してもスケールの発生を防止し得るスケール防止剤として、ポリエチレングリコールとホスホン酸又はカルボン酸系ポリマーを含有するスケール防止剤が提案されている。しかし、ポリエチレングリコールは、シリカ濃度が低い場合にはスケールの付着を抑える効果はあるが、共存イオンの影響を受けやすく効果が安定しないという問題がある。
冷却水系において使用される水は、通常、工業用水、水道水、地下水などである。わが国は火山国であるために、欧米に比べて一般に用水に含まれるシリカ濃度が高いと言われ、用水から効率よくシリカを除去する手段が強く求められている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、簡単な装置を用いて、シリカ含有水より効果的にシリカを除去し、ビル空調、一般工場、石油化学コンビナートなどの熱交換器などの冷却水系やボイラ水系などのスケール発生を防止することができるシリカ除去装置を提供することを目的としてなされたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、シリカ含有水をシリカゲル粒子と接触させることにより、水中のシリカを効率的に除去し得ることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
(1)シリカ濃度が過飽和状態の開放循環冷却水を、流入口と流出口を有し、シリカゲル粒子が充填されたカラムに通水することを特徴とする開放循環冷却水中のシリカを除去する方法、及び、
(2)シリカ濃度が過飽和状態の開放循環冷却水を、空間速度3〜120h-1で通水する第1項記載の開放循環冷却水中のシリカを除去する方法、
を提供するものである。
さらに、本発明の好ましい態様として、
(3)シリカゲル粒子の粒径が1μm以上である第1項記載のシリカ除去装置、
を挙げることができる。
【0005】
【発明の実施の形態】
本発明のシリカ除去装置は、シリカ含有水の流入口と処理水の流出口を有し、シリカゲル粒子が充填されたカラムを備えた装置である。本発明のシリカ除去装置は、ビル空調、一般工場、石油化学コンビナートなどの開放循環式冷却水系やボイラ水系などに適用し、冷却水よりシリカを除去して、冷却水系の熱交換器本体、循環水のピット、冷却塔などの装置及び配管内に付着するスケールを防止することができる。
図1は、本発明のシリカ除去装置の一態様の模式図である。本発明装置は、シリカ含有水の流入口1と処理水の流出口2を有し、シリカゲル粒子3が充填されたカラム4を備えた装置である。図1では下向流通水ではあるが、カラム4の下部に流入口、上部に流出口を設けて、上向流通水としてもよく、充填されたシリカゲル粒子が流動床を形成してもよい。本発明装置に充填するシリカゲルに特に制限はなく、天然シリカゲル、合成シリカゲルのいずれをも用いることができ、また、組成式SiO2・nH2Oで表されるシリカゲルの外に、Al2O3を含有するシリカアルミナ質ゲルや、ホワイトカーボンと呼ばれる無水ケイ酸、含水ケイ酸なども用いることができる。また、化学修飾されていない通常のシリカゲルの他に、メチル基、ブチル基、オクチル基、オクタデシル基、フェニル基などの炭化水素基で化学修飾されたシリカゲル、アミノ基、アミノプロピル基、4級アンモニウム基、スルホン基などのイオン交換基などで化学修飾されたシリカゲルなども用いることができる。合成シリカゲルは、ケイ酸ナトリウムの水溶液を無機酸により中和し、析出した沈殿を水洗、乾燥することにより得ることができるが、乾燥用やクロマトグラフ用として市販されているシリカゲル粒子を用いることもできる。
【0006】
本発明装置において、カラムに充填するシリカゲル粒子は、粒径が1μm以上であることが好ましく、20μm以上であることがより好ましい。シリカゲル粒子の粒径が1μm未満であると、シリカゲル粒子を取り扱う際の作業性が悪くなり、また通水速度が極端に低下するおそれがある。粒径の上限としては、ハンドリングの面から10mm以下が好ましいが、10mm以上であっても本発明の効果は得られ、特に粒径の上限はない。シリカゲル粒子の形状に特に制限はなく、球状、破砕状など、任意の形状のシリカゲル粒子を用いることができる。シリカゲル粒子の比表面積に特に制限はないが、10〜1,000m2/gであることが好ましく、150〜850m2/gであることがより好ましい。シリカゲル粒子の細孔径に特に制限はないが、1〜50nmであることが好ましく、2〜30nmであることがより好ましい。
図2は、本発明のシリカ除去装置の設置場所の一例を示す工程系統図である。本例は、開放循環式冷却水系に本発明装置を設置した例である。熱交換器5を通過して、熱交換により温度が上昇した温水を冷却塔6で蒸発させ、蒸発潜熱の放出により再冷却し、ピット7に貯留された冷水をポンプ8により循環して使用する。本例では、本発明のシリカ除去装置9は、ポンプの下流側に設置され、冷水が本発明装置を通過することにより、冷水中のシリカが除去される。
【0007】
本発明のスケール除去装置の設置場所に特に制限はなく、例えば、補給水ラインに設置して補給水中のシリカを除去することができ、冷却水系の温水ラインに設置して温水よりシリカを除去することもできる。しかし、冷却塔において再冷却された冷水は、冷却塔における水の蒸発のために濃縮され、シリカ濃度の高い状態にあるので、図2に例示したように、冷却水系の冷水ラインに本発明装置を設置することが好ましい。
本発明装置において、シリカ含有水の通水速度に特に制限はないが、充填されたシリカゲル粒子に対して、空間速度SV1〜120h-1であることが好ましく、SV10〜60h-1であることがより好ましい。通水速度がSV1h-1未満であると、装置が大型化する。通水速度がSV120h-1を超えると、シリカの除去率が低下するおそれがある。
本発明のスケール除去装置によりシリカ含有水中のシリカが除去される機構の詳細は明らかではないが、シリカ濃度が過飽和状態又は過飽和に近い状態になったシリカ含有水がシリカゲル粒子と接触すると、シリカ含有水中のシリカがシリカゲル粒子の表面に析出して成長することにより、水中より除去されるものと推定される。
【0008】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
なお、シリカ濃度は、JIS K 0101 44.1.1にしたがって、水中のイオン状シリカをモリブデン黄吸光光度法により測定し、二酸化ケイ素(SiO2)として表示した。
実施例1
上部にシリカ含有水の流入口、下部に処理水の流出口を設けた直径20mm、長さ200mmのアクリル樹脂製カラムに、粒径40〜75μmのシリカゲル粒子[和光純薬工業(株)、ワコーゲルC−300]40mLを充填した。
このカラムに、メタケイ酸ナトリウムを溶解後にpH調整したシリカ含有水を流量2mL/分で通水した。シリカ含有水の流速LV38.2cm/h、シリカゲル粒子との接触時間20分、空間速度SV3h-1である。このとき、流入口のシリカ含有水のシリカ濃度193.3mg/L、流出口の処理水のシリカ濃度105.2mg/Lであり、シリカの除去率は45.6%であった。
さらに、カラムへのシリカゲル粒子の充填量と、シリカ含有水の流量を調節することにより、空間速度SV6〜1,080h-1に変動させ、流入口のシリカ含有水のシリカ濃度と流出口の処理水のシリカ濃度を測定し、シリカの除去率を求めた。
実施例1の結果を、第1表に示す。
【0009】
【表1】
【0010】
第1表に見られるように、本発明のシリカ除去装置に、シリカ濃度178〜200mg/Lのシリカ含有水を、空間速度SV3〜120h-1で通水すると、約35〜50%のシリカが除去されている。
実施例2
上部にシリカ含有水の流入口、下部に処理水の流出口を設けた直径40mm、長さ400mmのアクリル樹脂製カラムに、粒径40〜75μmのシリカゲル粒子[和光純薬工業(株)、ワコーゲルC−300]100mL(52.2g)を充填した。
このカラムに、シリカ濃度183.4mg/Lのシリカ含有水を流量100mL/分で通水した。シリカ含有水の流速LV7.96cm/分、シリカゲル粒子との接触時間1分、空間速度SV60h-1である。このとき、流出口の処理水のシリカ濃度100.8mg/Lであり、シリカの除去率は45.0%であった。
さらに、シリカ含有水のシリカ濃度を188.9mg/L及び193.3mg/Lとしたとき、処理水のシリカ濃度は105.2mg/L及び109.6mg/Lであり、シリカ除去率は44.3%及び43.3%であった。
実施例3
上部にシリカ含有水の流入口、下部に処理水の流出口を設けた直径40mm、長さ400mmのアクリル樹脂製カラムに、粒径1.7〜3.5mmのシリカゲル粒子[和光純薬工業(株)、シリカゲル、中粒、乾燥用]100mL(76.0g)を充填した。
このカラムに、シリカ濃度198.8mg/Lのシリカ含有水を流量100mL/分で通水した。シリカ含有水の流速LV7.96cm/分、シリカゲル粒子との接触時間1分、空間速度SV60h-1である。このとき、流出口の処理水のシリカ濃度163.5mg/Lであり、シリカの除去率は17.8%であった。
さらに、シリカ含有水のシリカ濃度を199.9mg/Lとしたとき、処理水のシリカ濃度は175.7mg/Lであり、シリカ除去率は12.1%であった。
比較例1
上部にシリカ含有水の流入口、下部に処理水の流出口を設けた直径40mm、長さ400mmのアクリル樹脂製カラムに、粒径2.0〜3.0mmの合成ゼオライト[BAYER社、バイリットWE894]100mL(70.7g)を充填した。
このカラムに、シリカ濃度187.8mg/Lのシリカ含有水を流量100mL/分で通水した。シリカ含有水の流速LV7.96cm/分、合成ゼオライトとの接触時間1分、空間速度SV60h-1である。このとき、流出口の処理水のシリカ濃度185.6mg/Lであり、シリカの除去率は1.2%であった。
さらに、シリカ含有水のシリカ濃度を193.3mg/Lとしたとき、処理水のシリカ濃度は184.5mg/Lであり、シリカ除去率は4.6%であった。
実施例2〜3及び比較例1の結果を、第2表に示す。
【0011】
【表2】
【0012】
第2表に見られるように、シリカ含有水を合成ゼオライトを充填したカラムに通水した比較例1よりも、シリカゲル粒子を充填したカラムに通水した実施例2〜3の方がシリカの除去率が高く、特に粒径40〜75μmの微細なシリカゲル粒子を用いた実施例2では、水中のシリカが効果的に除去されている。
実施例4
上部にシリカ含有水の流入口、下部に処理水の流出口を設けた直径40mm、長さ400mmのアクリル樹脂製カラムに、粒径40〜75μmのシリカゲル粒子[和光純薬工業(株)、ワコーゲルC−300]100mL(52.2g)を充填した。
このカラムに、シリカ濃度185.6mg/Lのシリカ含有水を流量100mL/分で通水した。流出口の処理水のシリカ濃度102.3mg/Lであり、シリカの除去率は44.9%であった。
実施例5
カラムに、粒径0.5〜2.0mmのシリカゲル粒子[品川化成(株)、セカードOW、シリカアルミナ質ゲル]100mL(51.1g)を充填し、実施例4と同様にして、シリカ濃度197.7mg/Lのシリカ含有水を通水した。流出口の処理水のシリカ濃度163.9mg/Lであり、シリカの除去率は17.1%であった。
実施例6
カラムに、粒径〜20μmのシリカゲル粒子[シオノギ(株)、カープレックスXR、ホワイトカーボン]100mL(26.0g)を充填し、実施例4と同様にして、シリカ濃度185.6mg/Lのシリカ含有水を通水した。流出口の処理水のシリカ濃度159.2mg/Lであり、シリカの除去率は14.2%であった。
実施例7
カラムに、粒径0.35〜1.7mmのシリカゲル粒子[和光純薬工業(株)、シリカゲル、小粒、乾燥用]100mL(71.0g)を充填し、実施例4と同様にして、シリカ濃度197.7mg/Lのシリカ含有水を通水した。流出口の処理水のシリカ濃度177.9mg/Lであり、シリカの除去率は10.0%であった。
実施例8
カラムに、粒径1.7〜3.5mmのシリカゲル粒子[和光純薬工業(株)、シリカゲル、中粒、乾燥用]100mL(76.0g)を充填し、実施例4と同様にして、シリカ濃度194.4mg/Lのシリカ含有水を通水した。流出口の処理水のシリカ濃度170.5mg/Lであり、シリカの除去率は12.3%であった。
実施例9
カラムに、粒径3.0〜6.0mmのシリカゲル粒子[和光純薬工業(株)、シリカゲル、大粒、乾燥用]100mL(76.0g)を充填し、実施例4と同様にして、シリカ濃度194.4mg/Lのシリカ含有水を通水した。流出口の処理水のシリカ濃度172.0mg/Lであり、シリカの除去率は11.5%であった。
比較例2
カラムに、粒径0.35〜1.0mmの天然ゼオライト[クニミネ(株)、ゼオクリーン]100mL(95.2g)を充填し、実施例4と同様にして、シリカ濃度193.6mg/Lのシリカ含有水を通水した。流出口の処理水のシリカ濃度185.5mg/Lであり、シリカの除去率は4.2%であった。
比較例3
カラムに、粒径2.0〜3.0mmの合成ゼオライト[BAYER社、バイリットWE894]100mL(70.7g)を充填し、実施例4と同様にして、シリカ濃度193.6mg/Lのシリカ含有水を通水した。流出口の処理水のシリカ濃度185.2mg/Lであり、シリカの除去率は4.3%であった。
比較例4
カラムに、粒径1〜5mmの活性アルミナ[キシダ化学(株)、乾燥用アルミナ]100mL(83.8g)を充填し、実施例4と同様にして、シリカ濃度185.6mg/Lのシリカ含有水を通水した。流出口の処理水のシリカ濃度170.2mg/Lであり、シリカの除去率は8.3%であった。
実施例4〜9及び比較例2〜4の結果を、第3表に示す。
【0013】
【表3】
【0014】
第3表に見られるように、シリカ含有水を、天然ゼオライト、合成ゼオライト又は活性アルミナを充填したカラムに通水した比較例2〜4では、シリカの除去率はいずれも10%に達しないが、シリカゲル粒子を充填したカラムに通水した実施例4〜9ではシリカの除去率は10%以上であり、特に粒径40〜75μmのシリカゲル粒子を用いた実施例4では、高いシリカ除去率が達成されている。
【0015】
【発明の効果】
本発明のシリカ除去装置によれば、薬剤を使用することなく、カラムの充填物の再生を行うことなく、簡単な装置により、容易にシリカ含有水中のシリカを除去してシリカ濃度を低減し、ビル空調、一般工場、石油化学コンビナートなどの熱交換器などの冷却水系のスケール発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明のシリカ除去装置の一態様の模式図である。
【図2】図2は、本発明のシリカ除去装置の設置場所の一例を示す工程系統図である。
【符号の説明】
1 シリカ含有水の流入口
2 処理水の流出口
3 シリカゲル粒子
4 カラム
5 熱交換器
6 冷却塔
7 ピット
8 ポンプ
9 シリカ除去装置
Claims (2)
- シリカ濃度が過飽和状態の開放循環冷却水を、流入口と流出口を有し、シリカゲル粒子が充填されたカラムに通水することを特徴とする開放循環冷却水中のシリカを除去する方法。
- シリカ濃度が過飽和状態の開放循環冷却水を、空間速度3〜120h-1で通水する請求項1記載の開放循環冷却水中のシリカを除去する方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33498399A JP3703000B2 (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 開放循環冷却水中のシリカを除去する方法 |
PH11999003151A PH11999003151B1 (en) | 1999-11-25 | 1999-12-14 | Silica removing device |
MX9911761A MXPA99011761A (es) | 1998-12-18 | 1999-12-15 | Proceso y aparato para evitar formacion de incrustacion de silice. |
BR9907459A BR9907459A (pt) | 1998-12-18 | 1999-12-17 | Processo para a prevenção de formação de incrustação de sìlica e equipamento para esse fim |
TW88122285A TW585843B (en) | 1998-12-18 | 1999-12-17 | Method for the prevention of silica-based scale and preventive apparatus for it |
IDP991159D ID24012A (id) | 1998-12-18 | 1999-12-20 | Proses untuk mencegah pembentukan kerak silika dan alatnya |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33498399A JP3703000B2 (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 開放循環冷却水中のシリカを除去する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001149952A JP2001149952A (ja) | 2001-06-05 |
JP3703000B2 true JP3703000B2 (ja) | 2005-10-05 |
Family
ID=18283419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33498399A Expired - Fee Related JP3703000B2 (ja) | 1998-12-18 | 1999-11-25 | 開放循環冷却水中のシリカを除去する方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3703000B2 (ja) |
PH (1) | PH11999003151B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002361286A (ja) * | 2001-06-06 | 2002-12-17 | Kurita Water Ind Ltd | スケール付着防止方法及び防止装置 |
JP3941006B2 (ja) * | 2003-02-12 | 2007-07-04 | 栗田工業株式会社 | シリカ除去装置及びシリカ含有水の処理方法 |
JP2006026543A (ja) * | 2004-07-16 | 2006-02-02 | Kurita Water Ind Ltd | シリカ除去装置及びシリカ除去方法 |
-
1999
- 1999-11-25 JP JP33498399A patent/JP3703000B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-14 PH PH11999003151A patent/PH11999003151B1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001149952A (ja) | 2001-06-05 |
PH11999003151B1 (en) | 2007-09-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041025 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041224 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20041227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050325 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050524 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050630 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050713 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080729 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090729 Year of fee payment: 4 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090729 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100729 Year of fee payment: 5 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110729 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120729 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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