WO2006001207A1 - フレキシブルディスプレイ用基板 - Google Patents

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WO2006001207A1
WO2006001207A1 PCT/JP2005/010984 JP2005010984W WO2006001207A1 WO 2006001207 A1 WO2006001207 A1 WO 2006001207A1 JP 2005010984 W JP2005010984 W JP 2005010984W WO 2006001207 A1 WO2006001207 A1 WO 2006001207A1
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substrate
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PCT/JP2005/010984
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Kazunori Akiyoshi
Kyoko Yamamoto
Original Assignee
Sumitomo Chemical Company, Limited
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    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Definitions

  • the present invention relates to a substrate for a flexible display, a manufacturing method thereof, and a flexible display.
  • Akita
  • a flexible display is one of displays such as liquid crystal displays and organic EL displays. Flexible displays are expected to be used in a wide range of applications due to their ability to be placed on the curved surface of equipment casings.
  • a flexible display usually includes a substrate, a transparent electrode formed thereon, and a display material.
  • a substrate for example, polyethylene terephthalate, polyforce-ponate, polyolefin, and polyethersulfone are known. (For example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2 0 0 3- 1 7 2 4 4)
  • the above-mentioned substrate has a large coefficient of thermal expansion, and the flexure display using this may cause cracks in the transparent electrode due to changes in the ambient temperature, resulting in increased resistance and further disconnection. there were.
  • An object of the present invention is to provide a substrate suitable for a flexible display having sufficient flexibility and a low coefficient of thermal expansion.
  • the present invention has a resin composition layer containing an inorganic layered composite and a resin, and the amount of the inorganic layered compound is 10% by weight or more based on the total amount of the resin and the inorganic layered compound.
  • a flexible display substrate which is 0% by weight or less.
  • the present invention also provides a display including the above-mentioned substrate for flexure display and an electrode.
  • the present invention has a resin composition layer containing a resin and an inorganic layered compound, and the amount of the inorganic layered compound is 10% by weight or more and 70% by weight or less based on the total amount of the resin and the inorganic layered compound.
  • the use of the resin composition as a flexible display substrate is provided.
  • the substrate for flexible displays of the present invention (hereinafter referred to as “substrate”) has a resin composition layer containing an inorganic layered compound and a resin.
  • the inorganic layered compound may be an inorganic compound having a layered structure in which unit crystal layers are stacked on each other, and preferably has swelling and cleavage when mixed with a solvent.
  • Such inorganic layered compounds are clay minerals that swell and cleave when mixed with a solvent.
  • smectite, kaolinite, dickite, nacrite, octalosite, antigolite, chrysotile, pie mouth It is phyllite, montmorillonite, hectorite, tetrasilicmy power, sodium teniolite, muscovite, margarite, .talc, vermiculite, phlogopite, zansophyllite, chlorite.
  • smectai koji, kaolinite, montmorillonite, hectorite, tetrasilicmy power, sodium teniolite, and talc are preferable.
  • the inorganic layered compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • the inorganic layered compound has an average particle size sufficiently smaller than the wavelength of visible light (about 400 nm to about 80 nm), for example, 30 nm or less.
  • the inorganic layered compound has an average particle diameter of preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, and preferably 30 O nm or less, and more preferably 20 nm or less. .
  • the substrate containing the inorganic layered compound having the average particle diameter has a low coefficient of thermal expansion and a high visible light transmittance, for example, 80% or more.
  • the average particle size L (nm) may be measured by a dynamic light scattering method by dispersing the inorganic layered compound in a solvent.
  • the inorganic layered compound may have an aspect ratio of usually 50 or more, preferably 100 or more, and usually 30 or less, preferably 20.00 or less.
  • An inorganic layered compound having an aspect ratio in this range easily aligns with the resin, and the resulting substrate has high transparency.
  • the aspect ratio Z may be calculated from the above average particle diameter L and the unit thickness a determined from the diffraction peak of the inorganic layered compound measured by the powder X-ray diffraction method according to the following formula.
  • the inorganic layered compound is a particle, and the particle may be oriented.
  • the inorganic layered compound is, for example, a plate-like particle, and the surface having the largest area may be substantially parallel to the surface of the substrate (for example, the display surface). In this specification, this orientation is referred to as “orientation in the plane direction”.
  • a substrate in which the inorganic layered compound is oriented in the plane direction has a lower coefficient of thermal expansion in the plane direction.
  • the amount of the inorganic layered compound is 10% by weight or more, preferably 20% by weight or more, and 70% by weight or less, preferably 60% by weight, based on the total amount of the resin and the inorganic layered compound. % Or less.
  • the substrate has a low coefficient of thermal expansion.
  • the resin is usually a thermoplastic resin, and is preferably transparent to visible light.
  • the resin examples include low-density polyethylene, high-density polyethylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene monobutene copolymer, ethylene monohexene copolymer, ethylene octene copolymer, ethylene-norbornene copolymer, Polyolefins such as ethylene-dmon copolymer, polypropylene, ethylene monovinyl acetate copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer, ionomer resin; polyethylene terephthalate, poly pentyl reflate, polyethylene naphthalate Polyester such as Nylon 1, Nylon 1, 6, 6, Metaxylene diamine Adipic acid condensation polymer; Amide resin such as polymethylmethacrylimide; Acrylic resin such as polymethyl methacrylate; Polystyrene, Styrene acrylonitrile Copolymers, Styrene-acrylonitrile-butadiene copolymers, Styrene-acryl
  • the resin preferably has excellent heat resistance.
  • the glass transition point (Tg) is 1550 ° C or higher, more preferably 1800 ° C or higher, and further preferably 2200 ° C or higher. is there.
  • the resin having excellent heat resistance include ethylene-norbornene copolymer, ethylene monomonide copolymer, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, cellulose triacetate, cellulose diacetate, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, Polytetrafluoroethylene, Polypinyl alcohol, Ethylene-vinyl alcohol copolymer, Polycar Ponate, Polysulfone, Polyethersulfone, Polyetherether cane
  • Liquid crystal resin Coffins may be used alone or in combination of two or more.
  • the substrate having the composition layer containing the inorganic layered compound and the resin has an average coefficient of thermal expansion from 20 ° C. to 15 ° C., usually not less than 10 ppm pmZ ° C., preferably 0 pp. mZ ° C or higher, and usually 25 p ⁇ Preferably it is 20 ppm / ° C or less.
  • the substrate having the resin composition layer containing the resin having the aspect ratio, the average particle diameter, or the oriented inorganic layered compound and the resin has a small average thermal expansion coefficient and a visible light transmittance of usually 80% or more.
  • This substrate is used as a back side substrate or a front side substrate (a visible display side substrate) of a flexible display.
  • substrate may have an effect layer which does not contain an inorganic layered compound as layers other than the resin composition layer containing the said inorganic layered compound and resin.
  • the resin layer preferably has a thickness smaller than that of the resin composition layer.
  • the substrate preferably has at least one other resin composition layer containing an inorganic layered compound and a resin as a layer other than the resin composition layer containing the inorganic layered compound and the resin.
  • the resin of the resin composition layer and the resin of the other resin composition layer may be the same type or different types, and preferably the same type. In the case of the same type, adhesion between the resin composition layer and other resin composition layers is improved.
  • the amount of the inorganic layered compound in the resin composition layer is 1 with respect to the total amount of the inorganic layered compound and the resin in the resin composition layer. It is 0% by weight or more, preferably 20% by weight or more, 70% by weight or less, preferably 60% by weight or less.
  • the amount of the inorganic layered compound in the other resin composition layer is usually 0.1% by weight or more, preferably 0.3%, based on the total amount of the inorganic layered compound and the resin in the other resin composition layer. % By weight, usually 10% by weight or less, preferably 5 layers % Or less.
  • the substrate has a thickness of usually not less than, preferably not less than 5, more preferably not less than 10, usually not more than 500,000 zm, preferably not more than 300, more preferably not more than 2500 / xm. .
  • a substrate having a thickness in the above range has sufficient flexibility, mechanical strength, and transparency.
  • the thickness of each layer is 0.5 ⁇ m or more, preferably the above, more preferably 1.5 m or more, and usually 200 Below, it is preferably 150 m or less, more preferably 100 m or less.
  • the thickness of the resin composition layer is the thickness of the other resin composition layer (when there are a plurality of other resin composition layers, the total of these). Larger is preferred.
  • the substrate may contain additives such as UV absorbers, colorants, and antioxidants.
  • the solvent examples include water, alcohols (for example, methanol), dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dichloromethane, black mouth form, toluene, acetone, and N-methylpyrrolidone.
  • the inorganic layered compound those described above may be used.
  • the inorganic layered compound is preferably surface-treated from the viewpoint of improving dispersibility, and for example, a surface-treated with a quaternary ammonium salt is preferable.
  • the resin those described above may be used.
  • the total amount of the inorganic layered compound and the resin is usually 5% by weight or more, preferably 10% by weight or more, and usually 50% by weight or less, preferably 35% by weight or less, based on the solvent.
  • the total amount of the inorganic layered compound and the resin is within the above range. If it exists, the board
  • the mixture of the inorganic layered compound, the resin and the solvent may be performed, for example, by methods 1 to 4, preferably methods 1 to 3.
  • Method 1 Mixing a solution in which a resin is dissolved in a solvent and a dispersion obtained by adding an inorganic layered compound to the solvent to swell and cleave the inorganic layered compound
  • Method 2 Add an inorganic layered compound to the solvent and add an inorganic layered compound
  • Method 3 swell and cleave the inorganic layered compound by adding the inorganic layered compound to the solution in which the resin is added to the solvent.
  • Method 4 Inorganic layered layer The compound and resin are heat-kneaded and the resulting mixture and solvent are mixed.
  • the plate may be any material that does not dissolve in the solvent of the previous period, or that does not break when peeling as described later.
  • the plate is glass, metal, or resin.
  • Application is direct gravure, reverse gravure and micro gravure; roll coating such as two-port one-beat beat coating, bottom feed three-bar reverse coating; doc evening blade and die coating, dip coating, bar coating This can be done by ticking. These may be performed alone or in combination.
  • the coating is preferably performed by roll coating or a doctor blade.
  • the inorganic layered compound can be oriented by a force (shear) in a direction parallel to the surface of the substrate (for example, the display surface). Drying may be performed by reduced pressure drying, hot air drying, infrared drying, or the like.
  • the substrate obtained by peeling off the layers may be stretched. Stretching may be uniaxial or biaxial. By stretching, the inorganic layered compound is oriented in the plane direction of the substrate.
  • the above mixed solution is applied to a plate and dried to form the first layer, and then the mixed solution is applied to the first layer and dried to form the second layer. After forming (repeating these operations as necessary to form a layer), the layer is peeled off from the plate. Can be manufactured.
  • the substrate having two or more layers may be produced by a method of preparing two or more layers and laminating them.
  • the interface between the two layers may be subjected to corona treatment, anchor coating treatment or the like.
  • the substrate may be produced by, for example, a method of applying a mixture of a solvent, an inorganic layered compound, and a resin to a flexible plate and drying it.
  • the flexible display of the present invention includes the substrate and electrodes (anode, cathode).
  • the flexure display is, for example, a flexible organic EL display or a flexible liquid crystal display.
  • a flexible organic EL display usually has an anode, a cathode, and a light emitting layer.
  • an electron transport layer between the cathode and the light emitting layer (the anode, the light emitting layer, the electron transport layer, and the cathode in this order)
  • B Having a hole transport layer between the anode and the light-emitting layer (Anode, hole transport layer, light-emitting layer, 'having a cathode in this order.)
  • C Between the cathode and the light-emitting layer And an electron transport layer and a hole transport layer between the anode and the light emitting layer (having an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode in this order).
  • an anode, a hole transport layer, a light-emitting layer, and an electron transport layer are sequentially formed on the substrate, and then the obtained laminate and another substrate are formed.
  • What is necessary is just to manufacture what formed the cathode by the method of pile
  • One of the substrate used for this method and the other substrate is transparent.
  • the anode is, for example, a conductive metal oxide, a translucent thin metal layer, indium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), indium Um ⁇ zinc ⁇ oxide, gold, platinum, silver, copper.
  • the anode may be formed by vacuum deposition, sputtering, ion plating, or plating. Further, the anode may be a transparent conductive organic layer, or polyaniline or a derivative thereof, or polythiophene or a derivative thereof.
  • the hole transport layer may be, for example, polyvinyl carbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine compound group in a side chain or a main chain, polyaniline or a derivative thereof, polythiophene or the like Derivatives, poly (p-phenylenevinylene) or derivatives thereof, or poly (2,5-chainylenevinylene) or derivatives thereof.
  • the hole transport layer may be formed by a coating method (a mixed solution of these compounds and a polymer binder is used as a raw material).
  • the light emitting layer may be an organic EL material, and may be either a low molecular compound or a high molecular compound.
  • Low molecular weight compounds include, for example, naphthalene derivatives, anthracene or derivatives thereof, perylene or derivatives thereof, dyes such as polymethine, xanthene, coumarin, and cyanine, metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, Aromatic amines, tetraphenylcyclopentagen or derivatives thereof, or tetraphenylbutadiene or derivatives thereof. (Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 57-51781 and 59-194393).
  • the light emitting layer may be formed by a vacuum deposition method (powder is used as a raw material) or a coating method (a solution is used as a raw material).
  • the polymer compound include poly (p-phenylene biylene), polyfluorene, and polyparaphenylene derivatives. (J pn. J. Ap 1. Phy s. 30, L 1941, 1991; Adv. Mater. 4, 36, 1992).
  • the electron transport layer may be, for example, an oxadiazole derivative, anthraquinodimethane or a derivative thereof, benzoquinone or a derivative thereof, naphthoquinone or a derivative thereof Derivatives, anthraquinones or derivatives thereof, tetracyananthracinodimene or derivatives thereof, fluorenone derivatives, diphenyldiethylene ethylene or derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof Polyquinoline or a derivative thereof, polyquinoxaline or a derivative thereof, or polyfluorene or a derivative thereof.
  • the electron transport layer may be formed by a vacuum deposition method (powder is used as a raw material) or a coating method (a solution is used as a raw material).
  • the cathode is, for example, a material with a low work function, such as lithium, sodium, potassium, solevidium, cesium, beryllium, magnesium, force ⁇ / sym, strut n-tium, barium, aluminum, scandium, vanadium, zinc, yttrium.
  • Metals such as indium, cerium, samarium, europium, terbium, ytterbium, alloys containing two or more of these, one or more of these, gold, silver, platinum, copper, manganese, titanium, conol, nickel, tungsten And an alloy containing at least one of tin, graphite, or a graphite intercalation compound.
  • the cathode may be formed by a vacuum evaporation method, a sputtering method, or a method in which a metal thin film is thermocompression bonded.
  • the light emission pattern can be changed by changing the arrangement of the anode and cathode.
  • the planar anode and cathode may be arranged so as to overlap.
  • a mask having a specific pattern window is installed on the surface of the flexible display showing the above-mentioned planar light emission. Either one or both of the anode and the cathode that emit light may be formed in a specific pattern.
  • the display may be either passive drive or active drive (for example, combined with TFT).
  • the flexible display can be used as a display device such as a computer, a TV, a mobile terminal, a mobile phone, a force navigation, a viewfinder of a video camera.
  • the flexible display since the flexible display is self-luminous and thin, it can be suitably used as a planar light source for backlight of a liquid crystal display device or a planar illumination light source.
  • Example 1 The total light transmittance of the sample was measured using a halogen lamp, and this was taken as the visible light transmittance.
  • Example 1 The total light transmittance of the sample was measured using a halogen lamp, and this was taken as the visible light transmittance.
  • PES polyethersulfone
  • NMP N-methylpyrrolidone
  • the mixture D was applied with a doctor blade (application gap: 0.48 mm, width: about 9 cm), and dried under reduced pressure at 190 ° C for 10 minutes to remove the solvent. Thereafter, the glass plate was taken out of the dryer and cooled at room temperature for 1 minute. Next, the mixture C was applied with a doctor blade (application gap: 0.72 mm, width: about 10 cm), and dried under reduced pressure at 190 ° C. for 10 hours or more to completely remove the solvent. The glass plate was taken out of the dryer to produce a substrate having three layers containing smectite and PES.
  • the thickness of the substrate is 12 ⁇ m (the total thickness of the layer formed by applying and drying the mixture C is 8 m, and the thickness of the layer formed by applying and drying the mixture D is It was 4 m.) It was easy to peel off from the glass plate and had sufficient flexibility.
  • the substrate before stretching had an average thermal expansion coefficient of 20 ° (: ⁇ 150 ° C of 19.7 pmZt: and a total light transmittance of 95%.
  • the average coefficient of thermal expansion (MD) from 8 ° C to 150 ° C was 8ppmZ ° C
  • the average coefficient of thermal expansion (TD) from 20 ° C to 150 ° C was 12ppm / ⁇ C.
  • the flexible display does not lose its function as a display device due to changes in ambient temperature.
  • the solution A prepared in the same manner as in Example 1 was applied on a glass plate whose surface had been cleaned with a doctor blade (application gap: 0.24 mm, width: about 8 cm). The solvent was removed by drying under reduced pressure for 10 minutes. Thereafter, the glass plate was taken out of the dryer and cooled at room temperature for 1 minute.
  • Solution A was applied onto the formed layer with a doctor blade (application gap: 0.48 mm, width: about 9 cm), and the solvent was removed by drying at 190 ° (:, 10 minutes under reduced pressure. Remove the plate from the dryer, cool it under room temperature air for 1 minute, and apply solution A with a doctor blade (applying gap: 0.72 mm, width: approx. 10 cm) and dry under reduced pressure for 190 hours or more for 10 hours. The glass plate was taken out of the dryer, and a substrate having three layers containing PES was produced.
  • the substrate had a thickness of 12 m, could be easily peeled off from the glass plate, and had sufficient flexibility.
  • the substrate before stretching had an average coefficient of thermal expansion of 20 to 150 ° C and 60 ppmZ ° C. 9 ⁇

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Abstract

本発明は、フレキシブルディスプレイ用基板、その製造方法、フレキシブルディスプレイを提供する。フレキシブルディスプレイ用基板は、無機層状化合物及び樹脂を含む樹脂組成物層を有し、無機層状化合物の量が、樹脂及び無機層状化合物の合計量に対し、１０重量％以上、７０重量％以下である。フレキシブルディスプレイ用基板の製造方法は、溶媒、無機層状化合物及び樹脂の混合物を板に塗布し、乾燥し、得られた層を剥離する。また、ディスプレイは、前記のフレキシブルディスプレイ用基板と電極を含む。

Description

技術分野
本発明は、 フレキシカレディスプレイ用基板、 その製造方法、 フレキシブルデ イスプレイに関する。 明 田
背景技術
書
フレキシブルディスプレイは、 液晶ディスプレイ、 有機 E Lディスプレイ等の ディスプレイの 1つである。 フレキシブルディスプレイは、 機器の筐体上の曲面 にも配置することができること力ら、 広範囲の応用が期待されている。
フレキシブルディスプレイは、 通常、 基板、 その上に形成された透明電極、 及 び表示材料を含む。 基板として、 例えば、 ポリエチレンテレフタレート、 ポリ力 ーポネート、 ポリオレフイン、 ポリエーテルスルホンが知られている。 （例えば 、 特開 2 0 0 3— 1 7 2 4 4号公報）
しかし、 前記の基板は、 熱膨張率が大きく、 これを用いるフレキシカレデイス プレイは、 周囲の温度変化により、 透明電極に亀裂が入って抵抗が大きくなつた り、 さらに断線が生じたりすることがあった。
発明の開示
本発明の目的は、 十分なフレキシピリティを有し、 かつ熱膨張率が小さいフレ キシプルディスプレイに好適な基板を提供することにある。
本発明者らは、 熱膨張率が小さく、 フレキシカレディスプレイに使用可能な基 板について検討した結果、 本発明を完成させるに至った。 すなわち、 本発明は、 無機層状ィ匕合物及び樹脂を含む樹脂組成物層を有し、 無 機層状化合物の量が、 樹脂及び無機層状化合物の合計量に対し、 1 0重量％以上 、 7 0重量％以下であるフレキシブルディスプレイ用基板を提供する。
また、 本発明は、 前記のフレキシカレディスプレイ用基板と電極を含むディス プレイを提供する。
さらに、 本発明は、 樹脂及び無機層状化合物を含む樹脂組成物層を有し、 無機 層状化合物の量が、 樹脂及び無機層状化合物の合計量に対し、 1 0重量％以上、 7 0重量％以下である樹脂組成物のフレキシブルディスプレイ用基板としての使 用を提供する。 発明を実施するための形態
フレキシブルディスプレイ用基板
本発明のフレキシブルディスプレイ用基板 （以下、 "基板" と称する。 ) は、 無機層状化合物及び樹脂を含む樹脂組成物層を有する。
無機層状化合物は、 単位結晶層が互いに積み重なった層状構造を有している無 機化合物であればよく、 好ましくは溶媒と混合したとき、 膨潤性、 へき開性を有 するものである。 このような無機層状化合物は、 溶媒と混合したとき、 膨潤性、 へき開性を有する粘土鉱物であり、 例えば、 スメクタイト、 カオリナイト、 ディ ッカイト、 ナクライト、 八ロイサイト、 アンチゴライト、 クリソタイル、 パイ口 フィライト、 モンモリロナイト、 ヘクトライト、 テトラシリリックマイ力、 ナト リウムテニオライト、 白雲母、 マーガライト、.タルク、 バーミキユライト、 金雲 母、 ザンソフイライト、 緑泥石である。 これらの中でも、 樹脂への分散性の観点 で、 スメクタイ卜、 カオリナイト、 モンモリロナイト、 ヘクトライト、 テトラシ リリックマイ力、 ナトリウムテニオライト、 タルクが好ましい。 無機層状化合物 は、 単独または 2種以上組合せて用いてもよい。 無機層状化合物は、 通常、 平均粒子径が可視光線 （約 4 0 0 nm〜約 8 0 O n m) の波長より十分小さく、 例えば 3 0 O nm以下である。 無機層状化合物は、 平均粒子径が、 好ましくは 5 0 nm以上であり、 さらに好ましくは 1 0 0 nm以 上であり、 また好ましくは 3 0 O nm以下、 さらに好ましくは 2 0 0 nm以下で ある。 前記の平均粒子径をもつ無機層状化合物を含む基板は、 熱膨張率が低く、 かつ可視光線の透過率も高く、 例えば 8 0 %以上である。 なお、 平均粒子径 L ( nm) は、 無機層状化合物を溶媒中に分散させて、 動的光散乱法により測定すれ ばよい。
また、 無機層状化合物は、 アスペクト比が通常 5 0以上、 好ましくは 1 0 0以 上であり、 また通常 3 0 0以下、 好ましくは 2 0 0以下であってもよい。 この範 囲のアスペクト比をもつ無機層状化合物は、 樹脂に容易に配向し、 また得られる 基板の透明性も高くなる。 アスペクト比 Zは、 前記の平均粒子径 Lと、 粉末 X線 回折法により測定した無機層状化合物の回折ピークから求められる単位厚み aか ら次式により算出すればよい。
Z = LZ a
さらに、 無機層状化合物は、 粒子であり、 その粒子が配向していてもよい。 こ の場合、 無機層状化合物は、 例えば、 板状粒子であって、 その面積が最大の面が 基板の面 （例えば、 表示面） と略平行になっていればよい。 本明細書では、 この 配向を "面方向に配向" と称する。 無機層状化合物が面方向に配向している基板 は、 面方向の熱膨張率がより低い。
無機層状化合物の量は、 樹脂及び無機層状ィ匕合物の合計量に対して、 1 0重量 %以上、 好ましくは 2 0重量％以上であり、 また 7 0重量％以下、 好ましくは 6 0重量％以下である。 このような層を有することにより、 基板は、 熱膨張率が小 さくなる。 無機層状化合物の量が 7 0重量％を超えると、 無機層状化合物を樹脂 中に均一に分散させることが困難となる傾向がある。 樹脂は、 通常、 熱可塑性樹脂であり、 好ましくは可視光線に対して透明なもの である。 樹脂は、 例えば、 低密度ポリエチレン、 高密度ポリエチレン、 エチレン —プロピレン共重合体、 エチレン一ブテン共重合体、 エチレン一へキセン共重合 体、 エチレンーォクテン共重合体、 エチレン—ノルポルネン共重合体、 エチレン —ドモン共重合体、 ポリプロピレン、 エチレン一酢酸ビニル共重合体、 エチレン —メチルメ夕クリレート共重合体、 アイオノマ一樹脂などのポリオレフィン；ポ リエチレンテレフタレ一卜、 ポリプチレンチレフ夕レート、 ポリエチレンナフタ レートなどのポリエステル；ナイロン一 6、 ナイロン一 6， 6、 メタキシレンジ ァミン一アジピン酸縮重合体；ポリメチルメ夕クリルイミドなどのアミド系樹脂 ；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂；ポリスチレン、 スチレン一ァ クリロニトリル共重合体、 スチレン—ァクリロニトリル一ブタジエン共重合体、 ポリァクリロニトリルなどのスチレン一ァクリロニトリル系樹脂； トリ酢酸セル ロース、 ジ酢酸セルロースなどの疎水化セルロース系樹脂；ポリ塩化ビニル、 ポ リ塩化ビニリデン、 ポリフッ化ビニリデン、 ポリテトラフルォロエチレンなどの ハロゲン含有樹脂；ポリピニルアルコ一ル、 エチレン—ビニルアルコール共重合 体、 セルロース誘導体などの水素結合性樹脂；ポリカーボネート；ポリサルホン ；ポリエーテルサルホン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリフエ二レンォキシ ド；ポリメチレンォキシド；液晶樹脂である。 樹脂は、 耐熱性に優れるものが好 ましく、 例えば、 ガラス転移点 （T g) が 1 5 0 °C以上、 より好ましくは 1 8 0 °C以上、 さらに好ましくは 2 0 0 °C以上である。 耐熱性に優れる榭脂は、 例えば 、 エチレン—ノルボルネン共重合体、 エチレン一ドモン共重合体、 ポリエチレン テレフ夕レート、 ポリエチレンナフタレート、 トリ酢酸セルロース、 ジ酢酸セル ロース、 ポリ塩化ビニリデン、 ポリフッ化ビニリデン、 ポリテトラフルォロェチ レン、 ポリピニルアルコール、 エチレン—ビニルアルコール共重合体、 ポリカー ポネート、 ポリサルホン、 ポリエーテルサルホン、 ポリエ一テルエーテルケ卜ン
、 液晶樹脂である。 榭脂は、 単独または 2種以上組み合わせて用いてもよい。 前記の無機層状化合物と樹脂を含む測 組成物層を有する基板は、 2 0 °Cから 1 5 0 °Cまでの平均熱膨張率が、 通常一 1 0 p pmZ°C以上、 好ましくは 0 p p mZ°C以上であり、 また、 通常 2 5 p ρ
Figure imgf000006_0001
好ましくは 2 0 p p m/°C 以下である。
また、 前記のアスペクト比、 平均粒子径又は配向した無機層状化合物と樹脂を 含む樹脂組成物層を有する基板は、 平均熱膨張率が小さく、 かつ可視光線の透過 率が通常 8 0 %以上である。 この基板は、 フレキシブルディスプレイの背面側基 板、 または前面側基板 （視認される表示側の基板） として使用される。 基板は、 前記の無機層状化合物及び樹脂を含む樹脂組成物層以外の層として、 無機層状化合物を含まない觀旨層を有してもよい。 樹脂層は、 厚さが、 樹脂組成 物層の厚さより小さいことが好ましい。
また、 基板は、 前記の無機層状化合物及び樹脂を含む樹脂組成物層以外の層と して、 少なくとも 1つの、 無機層状化合物及び樹脂を含む他の樹脂組成物層を有 するものが好ましい。 樹脂組成物層の樹脂と、 他の樹脂組成物層の樹脂は、 同種 、 異種いずれであってもよく、 好ましくは同種である。 同種の場合、 樹脂組成物 層と、 他の樹脂組成物層の密着性が向上する。
基板が樹脂組成物層と、 他の樹脂組成物層を含む場合、 樹脂組成物層の無機層 状化合物の量は、 樹脂組成物層中の無機層状化合物と樹脂の合計量に対して、 1 0重量％以上、 好ましくは 2 0重量％以上であり、 7 0重量％以下、 好ましくは 6 0重量％以下でぁる。 一方、 他の樹脂組成物層の無機層状化合物の量は、 他の 樹脂組成物層中の無機層状化合物と樹脂の合計量に対して、 通常 0 . 1重量％以 上、 好ましくは 0 . 3重量％以上であり、 通常 1 0重量％以下、 好ましくは 5重 量％以下である。 基板は、 厚みが通常 以上、 好ましくは 5 以上、 さらに好ましくは 1 0 以上であり、 通常 5 0 0 zm以下、 好ましくは 3 0 0 m以下、 さらに好 ましくは 2 5 0 /xm以下である。 厚みが前記範囲の基板は、 十分なフレキシピリ ティ、 機械的強度及び透明性を有する。 基板が樹脂組成物層と、 他の樹脂組成物 層を含む場合、 各層の厚みは 0 . 5 ^m以上、 好ましくは 以上、 さらに好 ましくは 1 . 5 m以上であり、 通常 2 0 0 以下、 好ましくは 1 5 0 m以 下、 さらに好ましくは 1 0 0 m以下である。 また、 樹脂組成物層 （樹脂組成物 層が複数ある場合、 これらの合計） の厚さは、 他の樹脂組成物層 （他の樹脂組成 物層が複数ある場合、 これらの合計） の厚さより大きいことが好ましい。 基板は、 紫外線吸収剤、 着色剤、 酸化防止剤のような添加剤を含んでもよい。 基板の製造方法
前記の基板は、 例えば、 溶媒、 無機層状化合物及び樹脂の混合物を板に塗布し 、 乾燥し、 得られた層を剥離する方法により製造すればよい。
溶媒は、 例えば、 水、 アルコール類 （例えば、 メタノール） 、 ジメチルホルム アミド、 ジメチルスルホキシド、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム、 トルエン、 ァ セトン、 N—メチルピロリドンである。 無機層状化合物は、 前記のものを用いれ ばよい。 また、 無機層状化合物は、 分散性向上の観点から、 表面処理したものが 好ましく、 例えば、 4級アンモニゥム塩で表面処理したものが好ましい。 樹脂は 、 前記のものを用いればよい。 無機層状化合物と樹脂の合計量は、 溶媒に対して 、 通常 5重量％以上、 好ましくは 1 0重量％以上であり、 通常 5 0重量％以下、 好ましくは 3 5重量％以下である。 無機層状化合物と樹脂の合計量が前記範囲で あると、 前記の厚さをもつ基板を容易に得ることができる。
無機層状化合物、 樹脂及び溶剤の混合物は、 例えば、 方法 1〜4、 好ましくは 方法 1〜3により行えばよい。 方法 1 ：溶媒に樹脂を溶解した溶液と、 溶媒に無 機層状化合物を添加して無機層状化合物を膨潤、 へき開させた分散液を混合する 、 方法 2 ：溶媒に無機層状化合物を添加し無機層状化合物を膨潤、 へき開させた 分散液と、 樹脂を混合する、 方法 3 ：溶媒に樹脂をした溶液に、 無機層状化合物 を添加して無機層状化合物を膨潤、 へき開させる、 方法 4：無機層状ィ匕合物と樹 脂を加熱混練し、 得られた混合物と溶媒を混合する。 板は、 前期の溶媒に溶解しないもの ほた後述する剥離を行う場合、 破損しな いもの） であればよく、 例えば、 ガラス、 金属、 樹脂である。 塗布は、 ダイレク トグラビア、 リバースグラビア及びマイクログラビア； 2本口一ルビートコ一テ ィング、 ボトムフィード 3本リバースコーティングのようなロールコ一ティング ； ドク夕一ブレードやダイコ一ティング、 ディップコ一ティング、 バーコ一ティ ング等により行えばよい。 これらは単独、 または組み合わせて行ってもよい。 無 機層状化合物を面方向に配向させる場合、 塗布は、 ロールコーティング、 ドク夕 一ブレードで行うことが好ましい。 これらの方法によれば、 基板の面 （例えば、 表示面） と平行方向の力 （剪断） により、 無機層状化合物を配向させられる。 乾 燥は、 減圧乾燥、 熱風乾燥、 赤外線乾燥等により行えばよい。
層を剥離して得られた基板は、 延伸を行ってもよい。 延伸は 1軸、 2軸いずれ であってもよい。 延伸を行うことにより、 無機層状化合物は基板の面方向に配向 する。
2つ以上の層を有する基板は、 例えば、 上の混合液を板に塗布、 乾燥して第 1 層を形成した後、 第 1層の上に混合液を塗布、 乾燥して第 2層を形成 （必要に応 じてこれらの操作を繰り返して層を形成） した後、 板から層を剥離する方法によ り製造すればよい。
また、 2つ以上の層を有する基板は、 2つ以上の層を調製し、 これらを積層す る方法により製造してもよい。 この場合、 2つの層の界面にコロナ処理、 アンカ —コート剤処理等を施してもよい。 また、 前記の基板は、 例えば、 溶媒、 無機層状化合物及び樹脂の混合物を可撓 性板に塗布し、 乾燥する方法により製造してもよい。
本発明のフレキシブルディスプレイは、 前記の基板と電極 （陽極、 陰極） を含 む。 フレキシカレディスプレイは、 例えば、 フレキシブル有機 E Lディスプレイ 、 フレキシブル液晶ディスプレイである。 フレキシブル有機 E Lディスプレイは 、 通常、 陽極、 陰極及び発光層を有し、 例えば、 （a) 陰極と発光層の間に電子 輸送層を有するもの （陽極、 発光層、 電子輸送層、 陰極をこの順に有する。 ） 、 ( b) 陽極と発光層の間に正孔輸送層を有するもの （陽極、 正孔輸送層、 発光層 、'陰極をこの順に有する。 ) , ( c ) 陰極と発光層の間に電子輸送層を有し、 か つ陽極と発光層の間に正孔輸送層を有するもの （陽極、 正孔輸送層、 発光層、 電 子輸送層、 陰極をこの順に有する。 ) である。 例えば、 前記 （c ) のフレキシブ ル有機 E Lディスプレイは、 前記の基板に陽極、 正孔輸送層、 発光層、 電子輸送 層を順次形成した後、 得られた積層板と、 もう 1つの前記基板に陰極を形成した ものを、 電極 （陽極、 陰極） が両端になるように、 重ね、 端部を封止する方法に より製造すればよい。 この方法に使用する基板、 及び、 もう 1つの基板のうち、 いずれかは透明である。
陽極は、 例えば、 導電性の金属酸化物、 半透明の金属薄層であり、 酸化インジ ゥム、 酸化亜鉛、 酸化スズ、 インジウム ·スズ ·オキサイド （I TO) 、 インジ ゥム ·亜鉛 ·オキサイド、 金、 白金、 銀、 銅である。 陽極は、 真空蒸着法、 スパ ッ夕リング法、 イオンプレーティング法、 メツキ法により形成すればよい。 また 、 陽極は、 透明導電性の有機層であってもよく、 ポリア二リンもしくはその誘導 体、 ポリチォフェンもしくはその誘導体であってもよい。
正孔輸送層は、 例えば、 ポリビニルカルバゾールもしくはその誘導体、 ポリシ ランもしくはその誘導体、 側鎖もしくは主鎖に芳香族ァミン化合物基を有するポ リシロキサン誘導体、 ポリア二リンもしくはその誘導体、 ポリチォフェンもしく はその誘導体、 ポリ （p—フエ二レンビニレン） もしくはその誘導体、 またはポ リ （2, 5—チェ二レンビニレン） もしくはその誘導体である。 正孔輸送層は、 塗布法 （原料として、 これらの化合物と高分子バインダーの混合溶液を使用する 。 ） により形成すればよい。
発光層は、 有機 EL材料であればよく、 低分子化合物、 高分子化合物のいずれ でもよい。 低分子化合物は、 例えば、 ナフタレン誘導体、 アントラセンもしくは その誘導体、 ペリレンもしくはその誘導体、 ポリメチン系、 キサンテン系、 クマ リン系、 シァニン系のような色素類、 8—ヒドロキシキノリンもしくはその誘導 体の金属錯体、 芳香族ァミン、 テトラフエニルシクロペンタジェンもしくはその 誘導体、 またはテトラフェニルブタジエンもしくはその誘導体である。 （特開昭 57— 51781号公報、 同 59—194393号公報） 。 発光層は、 真空蒸着 法 （原料として粉末を使用する。 ） 又は、 塗布法 （原料として溶液を使用する。 ) により形成すればよい。 高分子化合物は、 たとえば、 ポリ （p—フエ二レンビ 二レン） 、 ポリフルオレン、 ポリパラフエ二レン誘導体である。 （J pn. J. Ap 1. Phy s. 第 30巻、 L 1941頁、 1991年； Adv. Ma t e r. 第 4巻、 36頁、 1992年） 。
電子輸送層は、 例えば、 ォキサジァゾール誘導体、 アントラキノジメタンもし くはその誘導体、 ベンゾキノンもしくはその誘導体、 ナフトキノンもしくはその 誘導体、 アントラキノンもしくはその誘導体、 テトラシァノアンスラキノジメ夕 ンもしくはその誘導体、 フルォレノン誘導体、 ジフエ二ルジシァノエチレンもし くはその誘導体、 ジフエノキノン誘導体、 または 8—ヒドロキシキノリンもしく はその誘導体の金属錯体、 ポリキノリンもしくはその誘導体、 ポリキノキサリン もしくはその誘導体、 ポリフルオレンもしくはその誘導体である。 電子輸送層は 、 真空蒸着法 （原料として粉末を使用する。 ) 、 又は塗布法 （原料として溶液を 使用する。 ） により形成すればよい。
陰極は、 例えば、 仕事関数の小さい材料であり、 リチウム、 ナトリウム、 カリ ゥム、 ゾレビジゥム、 セシウム、 ベリリウム、 マグネシウム、 力 ^/シゥム、 スト口 ンチウム、 バリウム、 アルミニウム、 スカンジウム、 バナジウム、 亜鉛、 イット リウム、 インジウム、 セリウム、 サマリウム、 ユーロピウム、 テルビウム、 イツ テルビウムのような金属、 これら 2つ以上を含む合金、 これら 1つ以上と、 金、 銀、 白金、 銅、 マンガン、 チタン、 コノ ルト、 ニッケル、 タングステン及び錫の うち 1つ以上を含む合金、 グラフアイトまたはグラフアイト層間化合物である。 陰極は、 真空蒸着法、 スパッタリング法、 金属薄膜を熱圧着する方法により形成 すればよい。 フレキシブルディスプレイでは、 発光パターンは、 陽極と陰極の配置を変える ことにより、 変えることが可能である。 例えば、 面状の発光を示すフレキシブル ディスプレイでは、 面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。 特定 パターンの発光を示すフレキシブルディスプレイでは、 前記の面状の発光を示す フレキシブルディスプレイの表面に特定パターンの窓を有するマスクを設置する 、 非発光部の有機物層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする、 陽極または陰 極のいずれか一方または両方の電極を特定パ夕一ンに形成すればよい。 数字、 文 字および記号を表示可能なセグメントタイプのフレキシブルディスプレイでは、 独立して電圧を印加できる、 複数の電極を特定パターンに形成すればよい。 また
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陽極をス卜ライ ププ状状にに形形成成しし、、 陽陽極極とと直直行行すするるよよううにに陰陰極極ををスストトラライイププ状状にに形形成成すすれればばよよいい。。 ささ ららにに、、 発発光光色色のの異異ななるる複複数数のの蛍蛍光光体体をを塗塗りり分分けけるる方方法法、、 カカララ一一フフィィルルタターーままたたはは 蛍蛍光光変変換換フフィィルルタタ一一をを用用いいるる方方法法にによよりり、、 部部分分カカララーー表表示示、、 ママルルチチカカララ一一表表示示のの フフレレキキシシブブルルデディィススププレレイイがが得得らられれるる。。 ドドッッ
Figure imgf000012_0002
ルディスプレイは、 パッシブ駆動、 アクティブ駆動 （例えば、 T F Tと組み合わ せる） のいずれであってもよい。 フレキシブルディスプレイは、 コンピュータ、 テレビ、 携帯端末、 携帯電話、 力一ナビゲーシヨン、 ビデオカメラのビューファインダーのような表示装置とし て用いることができる。 また、 フレキシブルディスプレイは、 自発光型で薄いの で、 液晶表示装置のバックライト用の面状光源、 あるいは面状の照明用光源とし て好適に用いることができる。 実施例
本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、 本発明はこれらの実施例に限 定されるものではない ς 基板の物性は次の方法で測定した。 平均熱膨張率 （p p mZt:)
熱分析システム （ "S S C 5 0 0 0型"、 セイコーインスツルメント製） を用 い、 昇温速度： 1 0 °CZ分の条件で、 試料の 2 0 °C〜1 5 0 °Cの線熱膨張率は測 定し、 その平均値で表した。 延伸後の平均熱膨張率 (p pm/°C) 島津製作所製ストログラフを用い、 試料を 200 °Cにて 10 mmZ分で 2倍に 延伸した後、 同温度で 5分熱固定を行った。 次いで試料の中央部について熱分析 システム （ "SSC 5000型" 、 セイコーインスツルメント製） を用い、 昇温 速度： 10°C/分の条件で、 20°C〜150°Cの線熱膨張率 （MD、 TD) は測 定し、 各々、 その平均値で表した。 可視光線透過率 （％)
ハロゲンランプを用いて試料の全光線透過率を測定し、 これを可視光線透過率 とした。 実施例 1
10 OmL三口フラスコの側管に、 三方コックおよびジムロートを取り付け、 主管にフッ素樹脂製攪拌翼を装着した。 三口フラスコに、 ポリエーテルサルホン ( "PES" と称する。 ） （商品名： "PES 7600 p"、 Tg： 230°C、 住友化学製） 15gと、 N—メチルピロリドン （ "NMP" と称する。 ） 45g を入れ、 80°Cにて 3時間攪拌して、 PESの 25重量％NMP溶液 （ "溶液 A " と称する。 ） を調製した。
10 OmL三角フラスコに、 有機修飾されたスメク夕イト （商品名 "合成スメ クタイト S TN"、 有機修飾成分： 23重量％、 平均粒子径 : 140 nm、 コー プケミカル製） 15 g (有機修飾成分 3. 45 gを含む。 ） と、 NMP45gを 入れ、 高速回転ホモジナイザーを用いて分散、 さらに、 超音波分散装置を用いて 分散させて、 スメクタイトの 25重量％NMP溶液 ( "溶液 ' と称する。 ） を 調製した。 3 OmL蓋つきサンプル瓶に、 溶液 A 10 と、 溶液8 6. 67 gを入れ 、 次いで、 PESおよびスメクタイト （有機修飾成分含む） の合計量が、 サンプ ル瓶内の内容物に対して、 20重量％となるように NMPを添加し、 内容物を高 速回転ホモジナイザーを用いて攪拌して、 スメク夕イト （無機層状化合物） 、 P ES (樹脂） 及び NMP (溶媒） の混合物 ( "混合物 C" と称する。 ） を得た。 混合物 Cのスメクタイトの量は、 スメクタイトと PESの合計量に対して、 30 . 8重量％であった。
3 OmL蓋つきサンプル瓶に、 溶液 A 10 gと、 溶液 B 0. 65 gを入れ 、 次いで、 PESおよびスメク夕イト （有機修飾成分含む） の合計量が、 サンプ ル瓶内の内容物に対して、 20重量％となるように NMPを添加し、 内容物を高 速回転ホモジナイザーを用いて攪拌して、 混合物 Dを得た。 混合物 Dのスメクタ イトの量は、 スメクタイトと PESの合計量に対して、 4. 7重量％であった。 表面を洗浄したガラス板に、 ドク夕一ブレード （塗布ギャップ： 0. 24mm 、 幅：約 8 cm) により、 混合物 Cを塗布し、 190°C、 10分間減圧乾燥して 溶媒を除いた。 その後、 ガラス板を乾燥機から取り出し、 室温空気下で 1分間冷 却した。
形成した層の上に、 ドクターブレード （塗布ギャップ： 0. 48mm、 幅：約 9 cm) により、 混合物 Dを塗布し、 190°C、 10分間減圧乾燥して溶媒を除 いた。 その後、 ガラス板を乾燥機から取り出し、 室温空気下で 1分間冷却した。 次いで、 ドクターブレード （塗布ギャップ： 0. 72mm、 幅：約 10 cm) により、 混合物 Cを塗布し、 190°C、 10時間以上減圧乾燥して溶媒を完全に 除いた。 ガラス板を乾燥機から取り出して、 スメク夕イト及び PESを含む層を 3つ有する基板を製造した。 基板は、 厚さが 12^m (混合物 Cを塗布、 乾燥して形成された層の厚さの合 計は 8 mであり、 混合物 Dを塗布、 乾燥して形成された層の厚さは 4 mであ つた。 ） であり、 ガラス板から容易に剥がすことができ、 十分なフレキシビリテ ィを有していた。
延伸前の基板は、 20 ° (：〜 150 °Cの平均熱膨張率が 19. 7 p mZt:であ り、 全光線透過率が 95%であった。 また、 延伸後の基板は、 20°C〜150°C の平均熱膨張率 (MD) が 8ppmZ°Cであり、 20°C〜 150°Cの平均熱膨張 率 （TD) が 12 ppm/^Cであった。 この基板を含むフレキシブルディスプレ ィは、 周囲の温度変化により表示装置としての機能が損なわれることがない。 比較例 1
表面を洗浄したガラス板上に、 ドク夕一ブレード （塗布ギャップ： 0. 24m m、 幅：約 8 cm) により、 実施例 1と同じ操作で調製した溶液 Aを塗布し、 1 90°C、 10分間減圧乾燥して溶媒を除いた。 その後、 ガラス板を乾燥機から取 り出し、 室温空気下で 1分間冷却した。
形成した層の上に、 ドクターブレード （塗布ギャップ： 0. 48mm、 幅：約 9 cm) により、 溶液 Aを塗布し、 190° (：、 10分間減圧乾燥して溶媒を除い た。 その後、 ガラス板を乾燥機から取り出し、 室温空気下で 1分間冷却した。 さらに、 ドクターブレード （塗布ギャップ： 0. 72mm、 幅：約 10 cm) により、 溶液 Aを塗布し、 190 、 10時間以上減圧乾燥して溶媒を完全に除 いた。 ガラス板を乾燥機から取り出して、 PESを含む層を 3つ有する基板を製 造した。
基板は、 厚みが 12 mであり、 ガラス板から容易に剥がすことができ、 十分 なフレキシピリティを有していた。
延伸前の基板は、 20 〜 150°Cの平均熱膨張率が 60 p pmZ°Cであった 9ΐ
l7860l0/S00Zdf/X3d .0ΖΪ00/900Ζ OAV

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 無機層状化合物及び樹脂を含む樹脂組成物層を有し、 無機層状化合物の量が 、 樹脂及び無機層状化合物の合計量に対し、 1 0重量％以上、 7 0重量％以下で あるフレキシブルディスプレイ用基板。
2. 無機層状化合物は、 スメクタイト、 カオリナイト、 デイツカイト、 ナクライ ト、 ハロイサイト、 アンチゴライト、 クリソタイル、 パイロフイライト、 モンモ リロナイト、 ヘクトライト、 テトラシリリックマイ力、 ナトリウムテニオライト 、 白雲母、 マーガライト、 タルク、 パ一ミキユライト、 金雲母、 ザンソフィライ ト及び緑泥石からなる群より選ばれる少なくとも 1つである請求項 1記載の基板
3 . 無機層状化合物は、 スメクタイト、 力オリナイ卜、 モンモリロナイト、 へク トライト、 テトラシリリックマイ力、 ナトリウムテニオライト及びタルクからな る群より選ばれる少なくとも 1つである請求項 2記載の基板。
4. 無機層状化合物は、 平均粒子径が 3 0 O nm以下である請求項 1記載の基板
5 . 樹脂は、 熱可塑性である請求項 1記載の基板。
6. 樹脂は、 ガラス転移点が 1 5 0 °C以上である請求項 1記載の基板。
7 . 樹脂は、 エチレン一ノルポルネン共重合体、 エチレンードモン共重合体、 ポ リエチレンテレフ夕レート、 ポリエチレンナフ夕レート、 トリ酢酸セルロース、 ジ酢酸セルロース、 ポリ塩化ビニリデン、 ポリフッ化ビニリデン、 ポリテトラフ ルォロエチレン、 ポリビニルアルコール、 エチレン一ビニルアルコール共重合体 、 ポリカーボネート、 ポリサルホン、 ポリエーテルサルホン、 ポリエーテルエー テルケトン及び液晶樹脂からなる群より選ばれる少なくとも 1つである請求項 6 記載の基板。
8. さらに、 無機層状化合物及び樹脂を含む他の樹脂組成物層を有する請求項 1 記載の基板。
9. 他の樹脂組成物層中の無機層状ィ匕合物の量は、 無機層状化合物の量と樹脂の 合計量に対して、 0. 1重量％以上、 1 0重量％以下である請求項 8記載の基板 1 0. 溶媒、 無機層状化合物及び樹脂の混合物を板に塗布し、 乾燥し、 得られた 層を剥離する、 フレキシブルディスプレイ用基板の製造方法。
1 1 . 無機層状化合物及び樹脂を含む樹脂組成物層を有し、 無機層状化合物の量 が、 樹脂及び無機層状化合物の合計量に対し、 1 0重量％以上、 7 0重量％以下 である基板と電極を含むディスプレイ。
1 2. 樹脂組成物層は、 2 0 °Cから 1 5 0 °Cまでの平均熱膨張率が一 1 0 p pm 。 C以上、 2 5 p pmZ°C以下である請求項 1 1記載のディスプレイ。
1 3. 樹脂組成物層は、 可視光線透過率が 8 0 %以上である請求項 1 1記載のデ イスプレイ。
1 4. 樹脂及び無機層状化合物を含む樹脂組成物層を有し、 無機層状化合物の量 が、 樹脂及ぴ無機層状化合物の合計量に対し、 1 0重量％以上、 7 0重量％以下 である樹脂組成物のフレキシカレディスプレイ用基板としての使用。
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