WO2005116103A1 - 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物 - Google Patents

光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物 Download PDF

Info

Publication number
WO2005116103A1
WO2005116103A1 PCT/JP2005/009645 JP2005009645W WO2005116103A1 WO 2005116103 A1 WO2005116103 A1 WO 2005116103A1 JP 2005009645 W JP2005009645 W JP 2005009645W WO 2005116103 A1 WO2005116103 A1 WO 2005116103A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
resin composition
mass
optical
composition
liquid resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2005/009645
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Katsuyuki Takase
Ryouji Tatara
Masanobu Sugimoto
Zen Komiya
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Japan Fine Coatings Co Ltd
DSM IP Assets BV
Original Assignee
JSR Corp
Japan Fine Coatings Co Ltd
DSM IP Assets BV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp, Japan Fine Coatings Co Ltd, DSM IP Assets BV filed Critical JSR Corp
Priority to US11/596,744 priority Critical patent/US20070232713A1/en
Publication of WO2005116103A1 publication Critical patent/WO2005116103A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/52Phosphorus bound to oxygen only
    • C08K5/524Esters of phosphorous acids, e.g. of H3PO3
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0037Production of three-dimensional images
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Definitions

  • the present invention relates to a radiation-curable liquid resin composition for optical three-dimensional modeling and a photolithographic product obtained by photo-curing the composition.
  • one layer of the radiation-curable liquid resin composition is supplied onto the cured resin layer, and the liquid surface is selectively irradiated with light, whereby the previously formed cured resin layer is formed.
  • a new cured resin layer is integrally laminated on top of this.
  • the above process is repeated a predetermined number of times while changing or not changing the pattern to be irradiated with light, whereby a three-dimensional object formed by integrally laminating a plurality of cured resin layers is formed.
  • This optical three-dimensional modeling method can easily and easily obtain power even in a complicated three-dimensional object.
  • This technology is extremely useful in the prototyping process in the development of new products in the automotive and consumer electronics industries, and is becoming an indispensable means for shortening the development period and reducing costs.
  • (A) radical polymerizable organic compounds such as urethane (meth) acrylate, oligoester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, thiol and ene conjugate, and photosensitive polyimide.
  • a resin composition containing the same see JP-A-1-204915, JP-A-2-208305 and JP-A-3-160013).
  • a resin containing a cationically polymerizable organic compound such as an epoxy conjugate, a cyclic ether conjugate, a cyclic ratatone compound, a cyclic acetal conjugate, a cyclic thioether compound, a spiro ortho ester compound, or a butyl ether compound.
  • a cationically polymerizable organic compound such as an epoxy conjugate, a cyclic ether conjugate, a cyclic ratatone compound, a cyclic acetal conjugate, a cyclic thioether compound, a spiro ortho ester compound, or a butyl ether compound.
  • a resin composition containing a radically polymerizable organic compound and a cationically polymerizable organic compound JP-A-2-28261, JP-A-2-75618, JP-A-6-228413, JP-A-6-228413) 11-310626, JP-A-11-228610, JP-A-11-24939).
  • JP-A-8-256062 and JP-A-2003-73457 disclose optical three-dimensional structures.
  • An anti-oxidation agent is described as a component that can be added to the radiation-curable liquid resin composition used in the molding method. It has been described.
  • An object of the present invention is to provide a radiation-curable liquid resin composition for optical three-dimensional modeling that has a small side surface step, has excellent surface smoothness, and can obtain a high-precision optical molded article. is there.
  • the present invention provides the following radiation-curable liquid resin composition for optical three-dimensional molding and an optical molded article.
  • Optical stereolithography wherein the content of the component (A) is 0.1 to 10% by mass relative to the total amount of the composition, and the content of the polyether polyol conjugate (F) is 1 to 35% by mass.
  • Radiation curable liquid resin composition wherein the content of the component (A) is 0.1 to 10% by mass relative to the total amount of the composition, and the content of the polyether polyol conjugate (F) is 1 to 35% by mass.
  • (G) Number average particle size measured by electron microscopy 10 to: The radiation for optical three-dimensional modeling according to 1 or 2 above, which contains 1 to 35% by mass of an elastomer particle having a LOOO nm of the total amount of the composition. Curable liquid resin composition.
  • R 1 and R 2 are each independently an optionally branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and m and n are each independently 1 or 2. ]
  • R 3 and R 4 are each independently an optionally branched alkyl group having 6 to 10 carbon atoms. ]
  • R 5 is hydrogen or a methyl group
  • R 6 and R 7 are each independently an organic group
  • R 6 and R 7 are combined to form a cyclic structure. You may. ]
  • An optically molded article obtained by irradiating the radiation curable liquid resin composition for optical three-dimensional molding according to any one of the above items 1 to 4 with light.
  • the radiation-curable liquid resin composition for optical three-dimensional modeling of the present invention (hereinafter, referred to as the composition of the present invention) is capable of obtaining a high-precision stereolithographic product having excellent surface smoothness due to small side steps. There is an advantage that can be.
  • the radiation-curable liquid resin composition for optical stereolithography of the present invention contains the above components (A) to (F) as essential components.
  • the components (A) to (F) and the optional component (G) will be described.
  • the component (A) used in the composition of the present invention is a compound having a phenolic hydroxyl group and a Z or phosphite group.
  • known antioxidants and the like can be mentioned, and a hindered phenol compound or a phosphorus compound is particularly preferable.
  • the curing of the radically polymerizable compound is hindered to a certain extent, and thus, even after irradiation with light, the polymerization of the cationically polymerizable compound and the like gradually progresses. (Delay curability), and the level difference on the side of the modeled product is reduced.
  • the component (A) include the following compounds.
  • the hindered phenolic compound include pentaerythrityltyl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (ilganox 1010), thiodiethylenebis [3- (3,5 —Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate (Irganox 1035FF), benzenepropanoic acid—3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy, ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-tert— Butyl-4-hydroxy-1-m-tolyl) propionate] (ilganox 245), octadecyl-3- (3,5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate (ilganox 1076), 3,3,3,3 ", 5,5 ', 5 "hexar t-buty
  • Examples of the phosphorus compound include tris (2,4-di-butylbutyl) phosphite (ilgafos 168) and bis [2,4bis (1,1 dimethylethyl) -6-methylphenyl] ethyl ester Acid (ilgafos 38), 6- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-t-butylbenz [d, f] [l, 3 2] —Dioxaphosphuepin (Sumilyzer-1 GP) and the like.
  • Irgafos is a registered trademark of Ciba 'Specialty Chemicals Co., Ltd.
  • Sumilizer is a registered trademark of Sumitomo Chemical Co., Ltd.
  • the hindered phenol-based component (A) include, for example, Irganox 1010, 1035FF, 245, 1076, 1330, 3114, 1520L, 3125 (all of which are Chino Specialty Chemicals Co., Ltd.), Sumilizer BHT, GA-80 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Cya nox 1790 (manufactured by Scitech Co., Ltd.), and the like.
  • phosphorus-based (A) components include, for example, Irgafos 168, 12, and 38 (all manufactured by Ciba's Chemicals, Inc., Chemicals, Inc.), ADK STAB 329K, PEP36, PEP-8 ( As mentioned above, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Sandstab P-EPQ (manufactured by Clariant), Weston 618, 619G, Ultranox 626 (above, manufactured by General Electric), Sumilizer GP (manufactured by Sumitomo Chemical) and the like can be mentioned.
  • IT and R 2 are each independently an optionally branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and m and n are each independently 1 or 2.
  • R 3 and R 4 are each independently an optionally branched alkyl group having 6 to 10 carbon atoms.
  • R 6 and R 7 are each independently an organic group, and R 6 and R 7 may combine to form a cyclic structure .
  • the content of the component (A) in the composition of the present invention is usually 0.1 with respect to the total amount of the composition. To 10% by mass, preferably 0.1 to 5% by mass, and particularly preferably 1.0 to 5.0% by mass.
  • the component (B) used in the composition of the present invention is a cationically polymerizable compound, which undergoes a polymerization reaction or a crosslinking reaction when irradiated with light in the presence of a cationic photopolymerization initiator. It is.
  • the (B) cationic polymerizable compound is not particularly limited, but a compound having two or more alicyclic epoxy groups in one molecule is preferable. By including a compound having two or more alicyclic epoxy groups in one molecule in a total amount of the component (B) of 50% by mass or more, favorable curing speed and mechanical strength can be maintained.
  • (B) the cationically polymerizable compound include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, and brominated bis.
  • Polyglycidyl ethers of polyether polyols diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids; monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols; phenol, cresol, butylphenol Monoglycidyl ethers of polyether alcohols obtained by adding an enol or alkylene oxide; glycidyl esters of higher fatty acids; epoxidized soybean oil; butyl epoxystearate; octyl epoxystearate; epoxidized flax oil; Examples thereof include polybutadiene.
  • the above cationically polymerizable compound can constitute the component (B) alone or in combination of two or more.
  • (B) Commercially available cationic polymerizable compounds include UVR-6100, UVR-6105, UVR-6110, UVR-6128, UVR-6200, UVR-6216 (all manufactured by Union Carnoide), Ceroxide 2021, Ceroxide 2021P, Ceroxide 2081, Ceroxide 2083, Ceroxide 2085, Eporide GT—300, Eporide GT—301, Eporide GT—302, Eporide GT—400, Eporide 401, Eporide 403 )), KRM—2100, KRM—2110, KRM—2199, KRM—2400, KR M—2410, KRM—2408, KRM—2490, KRM—2200, KRM—2720, KRM 2750 (more than Asahi Denka Kogyo ( Co., Ltd.), Rapi-cure DVE-3, CHVE, PEPC (hereafter, made by ISP) Epicoat 828, Epicoat 812, Epicoat 1031, Epicoat 872, Epicoat
  • the content of the component (B) in the composition of the present invention is more preferably 40 to 75% by mass, more preferably 30 to 80% by mass, which is usually 15 to 85% by mass, based on the total amount of the composition. V, even more preferred.
  • the content of the component (B) exceeds 85% by mass, the deformation such as warpage of the stereolithography tends to increase, while when it is less than 15% by mass, the mechanical and thermal characteristics of the stereolithography are sufficient. Tend not to be obtained.
  • the component (C) used in the composition of the present invention is a cationic polymerization initiator, and is a compound capable of initiating the cationic polymerization of the component (B) by receiving radiation.
  • the radiation means visible light, ultraviolet light, infrared light, electron beam, X-ray, ⁇ -ray, j8-ray, ⁇ -ray and the like.
  • (C) the cationic polymerization initiator include a compound represented by the following general formula (4).
  • M is a metal or metalloid constituting the central atom of the halide complex [MX], for example, B, p + q
  • (C) Commercially available cationic polymerization initiators include UVI-6950, UVI-6970, UVI-6974, UVI-6990 (all manufactured by Union Carbide), Adeka Optomer SP-150, SP — 151, SP—170, SP—172 (all manufactured by Asahi Den-Dani Kogyo Co., Ltd.), Irgacure 261 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), CI-2481, CI 2624, CI 2639, CI 2064 (Manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), CD-1010, CD-1011, CD-1012 (manufactured by Sartoma), DTS-102, DTS-103, NAT-103, NDS-103, TPS-103 , MDS-103, MPI-103, BBI-103 (all manufactured by Midori Kagaku), PCI-061T, PCI-062T, PCI-020 PCI, PCI, PC
  • UVI-6970, UVI-6974, Adeka Optoma SP-170, SP-172, CD-1012, MPI-103, and CPI-110A have high photocuring sensitivity to resin compositions containing them. It is particularly preferable because it can be expressed.
  • the above-mentioned cationic photopolymerization initiators can constitute the component (C) alone or in combination of two or more.
  • the content of the component (C) in the composition of the present invention is usually from 0.1 to 10% by mass, preferably from 0.2 to 5% by mass, and more preferably from 0.1 to 10% by mass relative to the total amount of the composition. 1 to 5% by mass .
  • the content of the component (C) is less than 0.1% by mass, the radiation curability of the obtained resin composition is reduced, and a three-dimensional product having sufficient mechanical strength must be formed. I can't do it.
  • the content exceeds 10% by mass when the obtained resin composition is subjected to the optical three-dimensional molding method, it is not possible to obtain appropriate light transmittance, and it is difficult to control the curing depth. The modeling accuracy of a three-dimensional object tends to decrease.
  • the monofunctional monomer and the polyfunctional monomer may be used alone or in combination of two or more, and ⁇ ⁇ indicates a component (D) which is a combination of at least one monofunctional monomer and at least one polyfunctional monomer. ) Can be configured.
  • the component (D) has a trifunctional or higher functionality, ie, a polyfunctional monomer having three or more ethylenically unsaturated bonds in one molecule. It is preferred that they are contained in proportions.
  • the content of the trifunctional or higher polyfunctional monomer is more preferably 70% by mass or more, particularly preferably 80% by mass or more, and most preferably 100% by mass. When the content ratio of the trifunctional or higher polyfunctional monomer is 60% by mass or more, the radiation curability of the obtained resin composition is further improved, and the three-dimensional object to be formed is temporally deformed. Tend.
  • the monofunctional monomer as the component (D) include acrylamide, (meth) atalyloyl morpholine, 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, and isovol-loxyshetyl.
  • (Meth) acrylate isovol (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (Meth) acrylate, ethyl diethylene glycol (Meth) acrylate, t-octyl (Meth) acrylamide, diacetone (Meth) acrylamide, Dimethylaminoethyl (meth) acrylate, getylaminoethyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, dicyclopentadiene (meth) acrylate, dicyclopente-loxoxetyl (meth) acrylate, dicyclopente- Le (meta) atarilate, N, N—Dimethi Le (meth) acrylamide tetrachloro mouth phenyl (meth) acrylate, 2-tetrachloro mouth phenoxy shetyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) atearylate, t
  • the multifunctional monomer of the component (D) include ethylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl di (meth) acrylate, triethylene glycol diatalate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, Tricyclodecanedilmethylene di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, Proprotaton modified tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) atalylate, trimethylol propane tri (meth) acrylate, ethylene oxide (hereinafter referred to as “EO”) modified trimethylol propane tri (meta) ) Atharylate, propylene oxide (hereinafter referred to as “PO”) Trimethylol propane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) atalylate
  • component (D) Commercially available monofunctional monomers of component (D) include, for example, Aronix M-101, M-102, M-111, M-113, M-117, M-152, TO-1210 (and above, Toagosei Co., Ltd.), KAYARAD TC-110S, R-564, R-128H (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Biscoat 192, Biscoat 220, Biscoat 2311HP, Biscoat 2000, Biscoat 2100, Biscoat 2150, VISCOAT 8F, VISCOAT 17F (all manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.
  • component (D) Commercially available polyfunctional monomers of component (D) include, for example, SA1002 (all manufactured by Mitsubishi Idani Gaku Co., Ltd.), Biscoat 195, Biscoat 230, Biscoat 260, Biscoat 215, and Pisco 310.
  • VISCOAT 214HP VISCOAT 295, VISCOAT 300, VISCOAT 360, VISCOAT GPT, VISCOAT 400, VISCOAT 700, VISCOAT 540, VISCOAT 3000, VISCOTE 3700 (all manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), CALAD R—526, HDDA , NPGDA, TPGDA, MANDA, R—551, R—712, R—604, R—684, PET—30, GPO—303, TMPTA, THE—330, DPHA ⁇ DPHA— 2H ⁇ DPHA— 2C, DPHA— 21 , D—310, D—330, DPCA—20, DPCA—30, DPCA—60, DPCA—120, DN—0075, DN—2475, T—1420, T—2020, T—2040, TPA—320, TPA — 3 30, RP—1040, RP—2040, R—011, R—300, R—205 (Nippon Dani
  • New Frontier BPE-4, BR-42M, GX-8345 (all manufactured by Dai-ichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.), ASF-400 (all manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Lipoxy SP-1506, SP -1507, SP-1509, VR-77, SP-4010, SP-4060 (all manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), NK Ester A-BPE-4 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) ) And the like.
  • the content of the component (D) in the composition of the present invention is usually from 0.1 to 25% by mass, and preferably from 0.1 to 15% by mass, based on the total amount of the composition.
  • the radiation curability of the resin composition obtained by adding the component (D) is improved, and at the same time, the three-dimensional object to be formed is deformed with time. If the content is more than mass%, there is a disadvantage in that the impact resistance and fracture toughness of the cubic object decrease.
  • the component (E) used in the composition of the present invention is a radical polymerization initiator, a compound which is decomposed by receiving radiation such as light, and which initiates a radical polymerization reaction of the component (D) by generated radicals. It is.
  • (E) the radical polymerization initiator include, for example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal, anthraquinone, 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-12-methylpropane-one, carbazole, xanthone, 4-chloro Mouth benzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 1,1-dimethoxy deoxybenzoin, 3,3 'dimethyl 4-methoxybenzophenone, thioxanthone compound, 2-methyl-1 [4 (methylthio) phenyl ] — 2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1-one, triphenylamine, 2,4,6 trimethylbenzoy Ludiphenylphosphine oxide, bis (2,6 dimethoxy benzoyl) 2,4,4 trimethylpentylphosphin
  • radical polymerization initiators can constitute the component (E) alone or in combination of two or more.
  • the content of the component (E) in the composition of the present invention is usually from 0.01 to 10% by mass, and preferably from 0.1 to 5% by mass, based on the total amount of the composition.
  • the content ratio of the component (E) is less than 0.01% by mass, the radical polymerization reaction rate (curing rate) of the obtained resin composition is low, so that it takes time for molding and the resolution is low. Or tend to decrease.
  • the content ratio of the component (E) exceeds 10% by mass, an excessive amount of the polymerization initiator lowers the curing characteristics of the resin composition and adversely affects the moisture resistance and heat resistance of the three-dimensional object. May have an effect.
  • the component (F) used in the composition of the present invention is a polyether polyol.
  • the radiation curability of the resin composition is improved, and the mechanical properties, particularly the elastic modulus, of the cured product obtained by irradiating the composition of the present invention with light are improved. It is possible to suppress a temporal change in the shape and mechanical properties of the three-dimensional object obtained by the molding.
  • the polyether polyol (F) preferably has three or more hydroxyl groups in one molecule, and particularly preferably has three to six hydroxyl groups in one molecule.
  • polyether polyol examples include trivalent or higher polyvalent polyols such as trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, sorbitol, sucrose, and quadrol.
  • polyether polyols obtained by modifying norecone with cyclic ethereal conjugates such as ethylene oxide (EO), propylene oxide (PO), butylene oxide, and tetrahydrofuran.
  • EO modification ethylene oxide
  • PO propylene oxide
  • tetrahydrofuran examples include EO modification.
  • Trimethylolpropane PO-modified trimethylolpropane, tetrahydrofuran-modified trimethylolpropane, EO-modified glycerin, PO-modified glycerin, tetrahydrofuran-modified glycerin, EO-modified pentaerythritol, PO-modified pentaerythritol, tetrahydrofuran-modified pentaerythritol, EO-modified sorbitol, PO-modified sorbitol , EO-modified sucrose, PO-modified sucrose, EO-modified sucrose, EO-modified quadol, and the like.
  • the above-mentioned polyether polyols can constitute the component (F) alone or in combination of two or more.
  • F polyether polyols include Sanix TP-400, Sanix GP-600, Sanix GP-1000, Sanix SP-750, Sanix GP-250, and Sanix GP- 400, Sannics GP-600 (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.), TM P-3Glycol, PNT-4 Glycol, EDA-P-4, EDA-P-8 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.), G—300, G—400, G—700, T—400, EDP—450, SP—600, SC-800 (all manufactured by Asahi Deni Dani Kogyo Co., Ltd.), SCP—400, SCP—1000, SP-1600 (all manufactured by Sakamoto Yakuhin Kogyo Co., Ltd.).
  • the content of the component (F) in the composition of the present invention is usually 1 to 35% by mass, preferably 1 to 25% by mass, and particularly preferably 3 to 15% by mass based on the total amount of the composition. %.
  • the content of the component (F) is less than 1% by mass, the delayed curing property of the resin composition is reduced, and the radiation curing property cannot be sufficiently improved. In some cases, it is not possible to obtain a three-dimensional object having good stability and physical stability.
  • the content ratio of the component (F) exceeds 35% by mass, the radiation curability of the obtained resin composition tends to decrease, and the elastic modulus of the three-dimensional object obtained by stereolithography tends to decrease. .
  • the component (G) used in the composition of the present invention is an elastomer particle having a number average particle diameter of 10 to: LOOO nm as measured by electron microscopy.
  • elastomer particles having a number average particle diameter of 10 to 1000 nm include polybutadiene, polyisoprene, butadiene Z acrylonitrile copolymer, styrene Z butadiene copolymer, and styrene Z isoprene copolymer.
  • Ethylene Z propylene copolymer ethylene Z ao olefin copolymer, ethylene Z ao olefin Z polyene copolymer, acrylic rubber, butadiene Z (meth) acrylate copolymer, styrene Z butadiene block copolymer And elastomer particles containing a styrene-Z isoprene block copolymer or the like as a base component.
  • elastomer particles which may be core Z-shell type particles, polybutadiene, polyisoprene, styrene Z-butadiene copolymer, styrene Z-isoprene copolymer, butadiene Z (meth) acrylate Elastomer particles obtained by coating a polymer, styrene Z-butadiene block copolymer, styrene Z isoprene block copolymer, etc. with a partially cross-linked core coated with a methyl methacrylate polymer.
  • particles coated with a methyl metharylate Z glycidyl meta acrylate copolymer are particularly preferred.
  • component (G) commercially available core Z-shell type elastomer particles as described above include, for example, Reginas Bond RKB (manufactured by Reginas Kasei Co., Ltd.), Techno MBS-61, MBS-69 (all above). And Techno Polymer Co., Ltd.).
  • the content ratio of the component (G) in the composition of the present invention is usually 1 to 35% by mass, preferably 2 to 20% by mass, and particularly preferably 3 to 15% by mass based on the total amount of the composition. %.
  • the content of the component (G) is less than 1% by weight, impact resistance and fracture toughness are reduced.
  • the content is more than 35% by weight, the viscosity increases and bubbles may be generated during molding.
  • the modeling accuracy of the obtained three-dimensional object tends to decrease.
  • the radiation-curable liquid resin composition of the present invention may further contain a photosensitizer (polymerization accelerator), a reactive diluent, and the like.
  • a photosensitizer polymerization accelerator
  • the photosensitizer include amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, triethylamine, and ethylamine; thioxanthone, thioxanthone derivatives, anthraquinone, anthraquinone derivatives, anthracene, anthracene derivatives, perylene.
  • the radiation-curable liquid resin composition for stereolithography of the present invention contains various additives as other optional components within a range that does not impair the object and effects of the present invention. ⁇ ⁇ You can.
  • Examples of powerful additives include polyamides, polyamideimides, polyurethanes, polybutadiene, polychloroprene, polyester, styrene-butadiene block copolymer, petroleum resin, xylene resin, ketone resin, cellulose resin, fluorine-based oligomer, Polymers or oligomers such as silicone oligomers and polysulfide oligomers; polymerization inhibitors such as phenothiazine and 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol; polymerization initiation assistants; leveling agents; Surfactants; plasticizers; ultraviolet absorbers; silane coupling agents; inorganic fillers; pigments;
  • the radiation-curable liquid resin composition of the present invention can be produced by uniformly mixing the above components (A) to (G) and, if necessary, the above optional components.
  • the viscosity (25 ° C.) of the radiation-curable liquid resin composition thus obtained is preferably 10 to 20, OOOcps, more preferably 50 to 10, and OOOcps. Preferably, it is 50 cps to 5, OOOcps.
  • the composition of the present invention is prepared by charging an appropriate amount of the above-mentioned components (A) to (G) and other additives into a stirring vessel, usually at a temperature of 30 to 70 ° C, preferably 50 to 60 ° C, It can be produced by stirring usually for 1 to 6 hours, preferably for 1 to 2 hours.
  • the stereolithography of the present invention is obtained by irradiating the composition of the present invention with light.
  • the radiation-curable liquid resin composition of the present invention obtained as described above is suitably used as a radiation-curable liquid resin composition in an optical three-dimensional molding method. That is, the radiation-curable liquid resin composition of the present invention is selectively irradiated with light such as visible light, ultraviolet light, or infrared light to supply the energy required for curing by an optical three-dimensional molding method.
  • light such as visible light, ultraviolet light, or infrared light
  • Means for selectively irradiating the radiation-curable liquid resin composition with light is not particularly limited. Various means can be adopted. For example, a method of irradiating the composition while scanning convergent light or the like obtained using a laser beam or a lens, a mirror, or the like, using a mask having a light transmitting portion of a predetermined pattern, and passing through this mask Means for irradiating the composition with non-convergent light, a light guide member formed by bundling a number of optical fibers, and irradiating the composition with light through the optical fibers corresponding to a predetermined pattern on the light guide member.
  • means for shooting can be employed.
  • a mask that electro-optically forms a mask image including a light transmitting area and a light non-transmitting area according to a predetermined pattern according to the same principle as that of the liquid crystal display device is used. You can also.
  • a small spot diameter is used as a means for selectively irradiating the composition with light.
  • the light irradiation surface (for example, the scanning plane of the convergent light) of the resin thread contained in the container is the liquid surface of the resin composition and the contact surface with the container wall of the light transmitting container. Any of these may be used.
  • the liquid surface of the resin composition or the contact surface with the container wall is used as the light irradiation surface, the light can be irradiated directly from outside of the container or through the container wall.
  • the light irradiation position (irradiation surface) is continuously changed from the uncured portion to the uncured portion.
  • the cured portions are laminated to form a desired three-dimensional shape.
  • the irradiation position can be moved by various methods, for example, by moving any one of a light source, a container for storing the resin composition, and a cured portion of the resin composition, and moving the resin to the container. Examples of the method include an additional supply of the composition. A typical example of the above-described optical three-dimensional molding method will be described.
  • the supporting stage provided so as to be able to move up and down in a container is caused to lower (settle) the surface level of the resin composition by a very small amount.
  • the thin layer (1) is formed by supplying the resin composition thereon. Next, the thin layer (1) is selectively irradiated with light to form a solid cured resin layer (1). Next, a radiation-curable liquid resin composition is supplied on the cured resin layer (1) to form a thin layer (2), and the thin layer (2) is selectively irradiated with light. Thus, a new cured resin layer (2) is formed on the cured resin layer (1) so as to be continuously and integrally laminated thereon. And light illuminated By repeating this process a predetermined number of times with or without changing the pattern to be formed, a three-dimensional object in which a plurality of cured resin layers (n) are physically laminated is formed.
  • the three-dimensionally obtained object thus obtained is taken out of the container, and after removing the unreacted resin composition remaining on the surface thereof, washing is performed if necessary.
  • the detergent include alcohol-based organic solvents such as alcohols such as isopropyl alcohol and ethyl alcohol; ketone-based organic solvents such as acetone, ethyl acetate, and methyl ethyl ketone; and terpenes.
  • Representative aliphatic organic solvents include low-viscosity thermosetting resins and radiation-curable resins. In the case of producing a three-dimensional object having good surface smoothness, it is preferable to wash using the above-mentioned thermosetting resin or radiation-curing resin.
  • the post-cured resin not only hardens the resin on the surface but also hardens the unreacted resin composition that may remain inside the three-dimensional object. Even if you prefer to do a post cure.
  • the optically formed object of the present invention is high in accuracy and has excellent surface smoothness with few side steps.
  • each component was charged into a stirring vessel and stirred at 60 ° C. for 3 hours to prepare liquid resin compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6.
  • the formulation in Table 1 is shown in mass%.
  • the laser power on the irradiated surface (liquid surface) is 100 mW, and the scanning speed is such that the curing depth is 0.2 mm for each composition.
  • a process for forming a cured resin layer (thickness xomm) by selectively irradiating the radiation-curable resin composition with laser light to form a sample for evaluation was performed.
  • the test piece was taken out of the solid creator, and the resin composition adhering to the outer surface was was washed away.
  • the test pieces were allowed to stand in a constant temperature and humidity room at a temperature of 23 ° C and a humidity of 50% for 24 hours, and then the measurement was performed. Irregularities (steps) on the side of the object were measured with a laser microscope (OPTIPHOT-POL, manufactured by Nikon Corporation).
  • IrganoxlOlO pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl 4-hydroxyphenyl) propionate] (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
  • Irganoxl520L 4,6 bis (octylthiomethyl) o Talesol (manufactured by Chinoku Suzuki Charity Chemicals Co., Ltd.)
  • Irganox245 Triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] Ciba's Specialty Chemicals Co., Ltd.
  • Irgafos38 bis [2,4bis (1,1dimethylethyl) -6-methylphenyl] ethyl ester phosphite (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
  • CPI-6976 (1) diphenyl (ferthiophene) sulfo-dumhexafluoro antimonate and (2) bis [4 (diphenylsulfo-o) phenyl] sulfide bishexaflu Mixture of ovalantimonate (Acet Corporation)
  • composition of the present invention is suitably used for optical three-dimensional modeling.
  • composition of the present invention is suitably used for applications that require higher three-dimensional modeling accuracy, particularly improvement in surface smoothness caused by side steps between the respective layers of the modeled product.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

 側面段差が小さく、表面平滑性に優れ、高精度の光造形物を得ることができる、下記成分(A)から(F): (A)フェノール性水酸基及び/又は亜リン酸エステル基を有する化合物、 (B)カチオン重合性化合物、 (C)カチオン性重合開始剤、 (D)ラジカル重合性化合物、 (E)ラジカル重合開始剤、及び (F)ポリエーテルポリオール化合物 を含有し、  組成物全量に対する(A)成分の含有量が0.1~10質量%であり、(F)ポリエーテルポリオール化合物の含有量が1~35質量%である光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物を提供する。

Description

光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化さ せて得られる光造形物
技術分野
[0001] 本発明は、光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂組成物及びそれを光硬化さ せて得られる光造形物に関する。
背景技術
[0002] 放射線硬化性の液状物質 (液状榭脂組成物)に選択的に光照射して硬化榭脂層 を形成する工程を繰り返すことにより、当該硬化榭脂層が一体的に積層されてなる立 体形状物を形成する光学的立体造形法が知られている (特開昭 60— 247515号公 報、特開昭 62— 35966号公報、特開昭 62— 101408号公報、特開平 5— 24119 号公報参照)。この光学的立体造形法の代表的な例を説明すると、容器内に収容さ れた放射線硬化性液状榭脂組成物の液面に、紫外線レーザー等の光を選択的に 照射することにより、所定のパターンを有する硬化榭脂層を形成する。次いで、この 硬化榭脂層の上に、一層分の放射線硬化性液状榭脂組成物を供給し、その液面に 選択的に光を照射することにより、先行して形成された硬化榭脂層上にこれと連続す るよう新しい硬化榭脂層を一体的に積層形成する。そして、光が照射されるパターン を変化させながらあるいは変化させずに上記の工程を所定回数繰り返すことにより、 複数の硬化榭脂層が一体的に積層されてなる立体形状物が形成される。この光学 的立体造形法は、目的とする立体形状物の形状が複雑なものであっても、容易にし 力も短時間で得ることができる。本技術は、自動車や家電産業の新製品開発におけ る試作過程において極めて有用であり、開発期間の短縮とコスト削減に不可欠な手 段になりつつある。
[0003] 従来、光学的立体造形法に使用される放射線硬化性液状榭脂組成物としては、下 記〔ィ〕〜〔ハ〕のような榭脂組成物が紹介されて 、る。
〔ィ〕ウレタン (メタ)アタリレート、オリゴエステル (メタ)アタリレート、エポキシ (メタ)ァク リレート、チオール及びェンィ匕合物、感光性ポリイミド等のラジカル重合性有機化合 物を含有する榭脂組成物(特開平 1— 204915号公報、特開平 2— 208305号公報 、特開平 3— 160013号公報参照)。
〔口〕エポキシィ匕合物、環状エーテルィ匕合物、環状ラタトン化合物、環状ァセタールイ匕 合物、環状チォエーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビュルエーテル化 合物等のカチオン重合性有機化合物を含有する榭脂組成物 (特開平 1— 213304 号公報参照)。
〔ハ〕ラジカル重合性有機化合物とカチオン重合性有機化合物とを含有する榭脂組 成物(特開平 2— 28261号公報、特開平 2— 75618号公報、特開平 6— 228413号 公報、特開平 11— 310626号公報、特開平 11— 228610号公報、特開平 11— 24 0939号公報参照)。
[0004] このような立体造形法により得られる立体形状物は、これまでデザインを検討するた めの形状確認モデルとして多用されてきた。し力しながら、近年の巿場動向として、よ り高い立体造形精度、特に造形物の各積層間の側面段差に起因する表面の平滑性 の改善を重視する傾向がある。
[0005] ところが、〔ィ〕の組成では、硬化収縮が大きぐ高い造形精度を得ることは非常に困 難である。〔口〕の組成では、高い造形精度を得ることができるものの、靭性の低い脆 い硬化物を与える傾向にある。また、光硬化後の初期強度 (グリーン強度)や硬化速 度において〔ィ〕より劣り、速い造形速度を達成しにくい。〔ハ〕は、上記 2つの手法の 欠点を補う形で、高い造形精度と優れた機械的特性を達成している。しかしながら、 汎用樹脂と比較して一部の機械的 ·熱的特性が劣って 、る。特に破壊靱性にぉ 、て 汎用樹脂より低いことが、問題となっている。
[0006] 一方、立体造形精度を改善するためには光硬化後の寸法歪みを低減させる必要 力 Sあるため、光硬化後の初期強度 (グリーン強度)を増加させるために放射線硬化性 を高める必要があるところ、光硬化速度の大き!ヽ放射線硬化性液状榭脂組成物を用 いた場合、光照射後の短時間に硬化反応がほぼ完了してしまい、又は遅延硬化反 応の寄与が少ないため、各積層間に側面段差を生じる場合が多ぐ結果的に光造形 物の表面、特にその側面において十分な平滑性を得ることが困難であった。
[0007] 特開平 8— 256062号公報及び特開 2003— 73457号公報には、光学的立体造 形法に使用される放射線硬化性液状榭脂組成物に添加することができる成分として 酸ィ匕防止剤が記載されているが、光造形物の造形精度、特に側面段差との関係に っ ヽては記載されて ヽな 、。
[0008] 本発明の目的は、側面段差が小さぐ表面平滑性に優れ、高精度の光造形物を得 ることができる光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂組成物を提供することであ る。
発明の開示
[0009] 即ち、本発明は、下記の光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂組成物及び光 造形物を提供する。
1.下記成分 ( から ):
(A)フ ノール性水酸基及び Z又は亜リン酸エステル基を有する化合物、
(B)カチオン重合性ィ匕合物、
(C)カチオン性重合開始剤、
(D)ラジカル重合性化合物、
(E)ラジカル重合開始剤、及び
(F)ポリエーテルポリオール化合物
を含有し、
組成物全量に対する前記 (A)成分の含有量が 0. 1〜10質量%であり、前記 (F) ポリエーテルポリオ一ルイ匕合物の含有量が 1〜35質量%である光学的立体造形用 放射線硬化性液状榭脂組成物。
2.組成物全量に対する前記 (B)から (E)成分の含有量が下記の通りである上記 1に 記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂組成物。
(B)カチオン重合性ィ匕合物 15〜85質量%、
(C)カチオン性重合開始剤 0. 1〜: LO質量%、
(D)ラジカル重合性化合物 0. 1〜25質量%、
(E)ラジカル重合開始剤 0. 01〜: LO質量%
3. (G)電子顕微鏡法で測定した数平均粒径 10〜: LOOOnmのエラストマ一粒子を組 成物全量の 1〜35質量%含有する上記 1又は 2に記載の光学的立体造形用放射線 硬化性液状榭脂組成物。
4. (A)フエノール性水酸基及び Z又は亜リン酸エステル基を有する化合物力 下記 式( 1)、式 (2)及び式 (3)で示される化合物からなる群から選択される一以上の化合 物である上記 1〜3のいずれか一に記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状榭 脂組成物。
[化 1]
( 1 )
Figure imgf000005_0001
[式(1)中、 R1及び R2は、各々独立に、炭素数 1〜4の分岐していてもよいアルキル 基であり、 m及び nは、各々独立に、 1又は 2である。 ]
[化 2]
Figure imgf000005_0002
[式(2)中、 R3及び R4は、各々独立に、炭素数 6〜 10の分岐していてもよいアルキル 基である。 ]
[化 3]
Figure imgf000005_0003
[式(3)中、 R5は、水素又はメチル基であり、 R6及び R7は、各々独立に、有機基であ り、 R6と R7が結合して環状構造を形成していてもよい。 ]
5.上記 1〜4の ヽずれか一つに記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂 組成物に光を照射することにより得られる光造形物。
本発明の光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂組成物(以下、本発明の組成 物という)は、側面段差が小さぐ表面平滑性に優れ、高精度の光造形物を得ること ができるという利点がある。
発明を実施するための最良の形態
[0011] 以下、本発明を詳細に説明する。
I.光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂組成物
本発明の光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂組成物 (以下、本発明の組成 物という)は、上記 (A)〜(F)成分を必須構成成分とする。以下、(A)〜(F)成分及 び任意成分である (G)成分等につ ヽてそれぞれ説明する。
[0012] (A)成分
本発明の組成物に用いられる (A)成分は、フエノール性水酸基及び Z又は亜リン 酸エステル基を有する化合物である。(A)成分としては、公知の酸化防止剤等を挙 げることができ、特にヒンダードフエノール系化合物又は、リン系化合物が好ましい。 ( A)成分を添加することにより、ラジカル重合性ィ匕合物の硬化が一定の阻害を受け、 このため光照射後にお 、てもカチオン重合性ィヒ合物等の重合が徐々に進行し (遅延 硬化性)、造形物側面の積層段差が低減する。
[0013] (A)成分の具体例としては、下記化合物等を挙げることができる。ヒンダードフエノ ール性化合物としては、例えば、ペンタエリスリチルチルーテトラキス [3— (3, 5—ジ —t ブチル 4 ヒドロキシフエ-ル)プロピオネート] (ィルガノックス 1010)、チォ ジエチレン ビス [3— (3, 5—ジ tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロピオネー ト(ィルガノックス 1035FF)、ベンゼンプロパン酸— 3, 5 ビス(1, 1—ジメチルェ チル)ー4ーヒドロキシ、エチレンビス(ォキシエチレン)ビス [3—(5—tert—ブチルー 4 ヒドロキシ一 m—トリル)プロピオネート] (ィルガノックス 245)、ォクタデシル一 3 — (3, 5— t—ブチル 4 ヒドロキシフエ-ル)プロピオネート(ィルガノックス 1076 )、 3, 3,, 3", 5, 5' , 5" へキサー tーブチルー a, a ' , a"— (メシチレン— 2, 4, 6 —卜リイル)卜リ— P—タレゾール (ィルガノックス 1330)、 1, 3, 5 卜リス(3, 5 ジ— t ブチル 4 ヒドロキシベンジル) 1, 3, 5 トリァジン一 2, 4, 6 (1H, 3H, 5H ) -トリオン(ィルガノックス 3114)、 4, 6 ビス(ォクチルチオメチル) o クレゾ一 ル (ィルガノックス 1520L)、 9 ビス [2— {3— (3— tert—ブチル 4 ヒドロキシ— 5 メチルフエ-ル)プロピオ-口キシ } 1, 1ージメチルェチル ]ー2, 4, 8, 10—テ トラォキサスピロ [5. 5]ゥンデカン (スミライザ一 GA— 80)、 2, 6 ジ一 t—ブチノレ —4—メチルフエノール (スミライザ一 BHT)等が挙げられる。(上記において、ィル ガノックスは、チバ 'スペシャルティ ·ケミカルズ (株)の登録商標、スミライザ一は、住 友化学工業 (株)の登録商標である。 )
[0014] リン系化合物としては、例えば、トリス(2, 4 ジー t ブチルフエ-ル)フォスファイト( ィルガフォス 168)、ビス [2, 4 ビス( 1 , 1 ジメチルェチル) - 6 メチルフエ-ル ]ェチルエステル亜リン酸 (ィルガフォス 38)、 6—[3—(3—t—ブチルー 4ーヒドロ キシー5 メチルフエ-ル) プロポキシ ]—2, 4, 8, 10—テトラー t—ブチルベンズ[ d、f] [l, 3, 2]—ジォキサホスフエピン (スミライザ一 GP)等が挙げられる。(上記に おいて、ィルガフォスは、チバ'スペシャルティ'ケミカルズ (株)の登録商標、スミライ ザ一は、住友化学工業 (株)の登録商標である。 )
[0015] ヒンダードフエノール系の(A)成分の市販品としては、例えば Irganox 1010、 10 35FF、 245、 1076、 1330、 3114、 1520L、 3125 (以上、チノ 'スペシャルティ一, ケミカルズ株式会社製)、 Sumilizer BHT、 GA—80 (住友化学株式会社製)、 Cya nox 1790 (サイテック株式会社製)、等が挙げられる。
[0016] リン系の(A)成分の市販品としては、例えば Irgafos 168、 12、 38 (以上、チバ 'ス ぺシャルティ^ ~ ·ケミカルズ株式会社製)、 ADK STAB 329K、 PEP36、 PEP— 8 (以上、旭電化工業株式会社製)、 Sandstab P— EPQ (クラリアント社製)、 Westo n 618、 619G、 Ultranox 626 (以上、ジェネラルエレクトリック社製)、 Sumilizer GP (住友化学製)等が挙げられる。
[0017] 以上挙げた (A)成分の中で、ペンタエリスリチルチルーテトラキス [3— (3, 5 ジー tーブチルー 4ーヒドロキシフエ-ル)プロピオネート]、ベンゼンプロパン酸—3, 5— ビス(1, 1—ジメチノレエチノレ) 4 ヒドロキシ、エチレンビス(ォキシエチレン)ビス [3 - (5— tert ブチル—4—ヒドロキシ— m—トリル)プロピオネート]、 4, 6—ビス(オタ チルチオメチル) - 0 -クレゾール、ビス [2, 4 ビス( 1 , 1 ジメチルェチル) 6— メチルフエ-ル]ェチルエステル亜リン酸、 6— [3—(3— t—ブチルー 4ーヒドロキシ 5 メチルフエ-ル) プロポキシ ] 2, 4, 8, 10—テトラー t—ブチルベンズ [d、 f ] [1, 3, 2]—ジォキサホスフエピンが優れた遅延硬化性を示すため好ましい。 本発明の組成物における (A)成分としては、下記式(1)、式(2)及び式(3)で示さ れる化合物からなる群力 選択される一以上の化合物を用いることが特に好まし 、。
[化 4]
Figure imgf000008_0001
式(1)中、 IT及び R2は、各々独立に、炭素数 1〜4の分岐していてもよいアルキル 基であり、 m及び nは、各々独立に、 1又は 2である。
上記式(1)で示される構造を有する化合物の市販品としては、前記の IrganoxlOl 0, 1035, 245, Sumilizer GA— 80力挙げられる。
[化 5]
Figure imgf000008_0002
式(2)中、 R3及び R4は、各々独立に、炭素数 6〜 10の分岐していてもよいアルキル 基である。
上記式(2)で示される構造を有する化合物の市販品としては、 Irganoxl520Lが 挙げられる。
[化 6]
Figure imgf000008_0003
式(3)中、 は、水素又はメチル基であり、 R6及び R7は、各々独立に、有機基であ り、 R6と R7が結合して環状構造を形成していてもよい。
上記式(3)で示される構造を有する化合物の市販品としては、 Irgafos38、 Sumili zer GPが挙げられる。
本発明の組成物中における (A)成分の含有量は、組成物全量に対して、通常 0. 1 〜10質量%であり、好ましくは、 0. 1〜5質量%であり、特に好ましくは 1. 0〜5. 0質 量%である。
[0020] (B)成分
本発明の組成物に用いられる (B)成分は、カチオン重合性ィ匕合物であり、カチオン 性光重合開始剤の存在下で光照射することにより重合反応や架橋反応を起こすィ匕 合物である。
[0021] (B)カチオン重合性ィ匕合物としては、特に限定されるものではないが、 1分子中に 2 個以上の脂環式エポキシ基を有する化合物が好ましい。 1分子中に 2個以上の脂環 式エポキシ基を有する化合物を (B)成分の全量中に 50質量%以上含有することに より、良好な硬化速度や機械的強度を保つことができる。
[0022] (B)カチオン重合性化合物の具体例としては、ビスフエノール Aジグリシジルエーテ ル、ビスフエノール Fジグリシジルエーテル、ビスフエノール Sジグリシジルエーテル、 臭素化ビスフエノール Aジグリシジルエーテル、臭素化ビスフエノール Fジグリシジル エーテル、臭素化ビスフエノール Sジグリシジルエーテル、エポキシノボラック榭脂、 水添ビスフエノール Aジグリシジルエーテル、水添ビスフエノール Fジグリシジルエー テル、水添ビスフエノール Sジグリシジルエーテル、 3, 4—エポキシシクロへキシルメ チルー 3' , 4 '—エポキシシクロへキシルカルボキシレート、 2- (3, 4 エポキシシク 口へキシルー 5, 5—スピロ 3, 4—エポキシ)シクロへキサン一メタ ジォキサン、ビ ス(3, 4—エポキシシクロへキシノレメチノレ)アジペート、ビス(3, 4—エポキシ 6—メ チルシクロへキシルメチル)アジペート、 3, 4 エポキシー6—メチルシクロへキシル 3' , 4 '—エポキシ 6'—メチルシクロへキサンカルボキシレート、 ε —力プロラクト ン変性 3, 4—エポキシシクロへキシルメチルー 3' , 4 '—エポキシシクロへキサンカル ボキシレート、トリメチルカプロラタトン変性 3, 4—エポキシシクロへキシルメチルー 3' , 4 '—エポキシシクロへキサン力ノレボキシレート、 βーメチノレー δ バレロラタトン変 性 3, 4—エポキシシクロへキシルメチルー 3' , 4 '—エポキシシクロへキサンカルボキ シレート、メチレンビス(3, 4—エポキシシクロへキサン)、エチレングリコールのジ(3, 4 -エポキシシクロへキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3, 4—エポキシシクロへ キサンカルボキシレート)、エポキシシクロへキサヒドロフタル酸ジォクチル、エポキシ シクロへキサヒドロフタル酸ジ 2 ェチルへキシル、 1, 4 ブタンジオールジグリシ ジルエーテル、 1, 6 へキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコ 一ルジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリェチ レングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ポリプロピレ ングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリ セリン等の脂肪族多価アルコールに 1種又は 2種以上のアルキレンオキサイドを付カロ することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族 長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルェ 一テル類;フエノール、クレゾール、ブチルフエノール又はアルキレンオキサイドを付 加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類;高級脂肪酸の グリシジルエステル類;エポキシ化大豆油;エポキシステアリン酸ブチル;エポキシス テアリン酸ォクチル;エポキシ化アマ-油;エポキシィ匕ポリブタジエン等を挙げることが できる。上記のカチオン重合性ィ匕合物は、 1種単独で又は 2種以上組み合わせて (B )成分を構成することができる。
[0023] これらのカチオン重合性化合物のうち、 3, 4 エポキシシクロへキシルメチルー 3 ' , 4 '—エポキシシクロへキシルカルボキシレート、ビス(3, 4—エポキシシクロへキシ ルメチル)アジペート、 ε一力プロラタトン変性 3, 4—エポキシシクロへキシルメチル 3' , 4 '—エポキシシクロへキシルカルボキシレート、トリメチルカプロラタトン変性 3 , 4 エポキシシクロへキシノレメチノレー 3' , 4'—エポキシシクロへキサンカノレボキシレ ート、 β—メチルー δ —バレロラタトン変性 3, 4—エポキシシクロへキシルメチル 3, , 4' エポキシシクロへキサン力ノレボキシレート、ビスフエノール Αジグリシジルエー テル、ビスフエノール Fジグリシジルエーテル、水添ビスフエノール Aジグリシジルエー テル、水添ビスフエノール Fジグリシジルエーテル、 1, 4 ブタンジオールジグリシジ ノレエーテノレ、 1, 6 へキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパン トリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ グリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等が好まし!/、。
[0024] さらに好ましくは、 3, 4 エポキシシクロへキシノレメチノレー 3' , 4'—エポキシシクロ へキシルカルボキシレート、ビス(3, 4—エポキシシクロへキシルメチル)アジペート等 1分子中に 2個以上の脂環式エポキシ基を有する化合物である。良好な硬化速度や 機械的強度を保っためには、このエポキシィ匕合物が成分 (B)中に 50質量%以上の 割合で含有して 、ることが望ま 、。
[0025] (B)カチオン重合性化合物の市販品としては、 UVR— 6100、 UVR— 6105、 UV R— 6110、 UVR— 6128、 UVR— 6200、 UVR— 6216 (以上、ユニオンカーノイド 社製)、セロキサイド 2021、セロキサイド 2021P、セロキサイド 2081、セロキサイド 20 83、セロキサイド 2085、ェポリード GT— 300、ェポリード GT— 301、ェポリード GT — 302、ェポリード GT— 400、ェポリード 401、ェポリード 403 (以上、ダイセルィ匕学 工業(株)製)、 KRM— 2100、 KRM— 2110、 KRM— 2199、 KRM— 2400、 KR M— 2410、 KRM— 2408、 KRM— 2490、 KRM— 2200、 KRM— 2720、 KRM 2750 (以上、旭電化工業 (株)製)、 Rapi—cure DVE— 3、 CHVE、 PEPC (以 上、 ISP社製)ェピコート 828、ェピコート 812、ェピコート 1031、ェピコート 872、ェ ピコート CT508 (以上、ジャパンエポキシレジン株式会社製)、 XDO (以上、東亞合 成株式会社製)、 VECOMER 2010、 2020、 4010、 4020 (以上、ァライドシグナ ルネ土製)等を挙げることができる。
[0026] 本発明の組成物中における成分 (B)の含有量は、組成物全量に対して、通常 15 〜85質量%である力 30〜80質量%がより好ましぐ 40〜75質量%がさらに好まし V、。成分 (B)の含有量が 85質量%を超えると光造形物の反り等の変形が大きくなる 傾向にあり、一方、 15質量%未満の場合は光造形物の十分な機械的、熱的特性が 得られない傾向にある。
[0027] (C)成分
本発明の組成物に用いられる (C)成分は、カチオン性重合開始剤であり、放射線 を受けることによって、前記成分 (B)のカチオン重合を開始させることができる化合物 である。ここで、放射線とは可視光、紫外光、赤外光、電子線、 X線、 α線、 j8線、 γ 線等を意味する。
[0028] (C)カチオン性重合開始剤の具体例としては、下記一般式 (4)で表される化合物 等を挙げることができる。
[0029] [R8 R9 R10 R11 W] +P[MX ] "q (4)
a b e d p+q 〔式中、カチオンはォ -ゥムイオンであり、 Wは S、 Se、 Te、 P、 As、 Sb、 Bi、 O, I、 Br 、 CI又は N = Nであり、 R8、 R9、 R1C)及び R11は同一又は異なる有機基であり、 a、 b、 c 及び dは各々 0〜3の整数であって、(a+b + c + d)は Wの価数に等しい。 Mはハロ ゲン化物錯体 [MX ]の中心原子を構成する金属又はメタロイドであり、例えば B、 p+q
P、 As, Sb、 Fe、 Sn、 Biゝ Al、 Ca、 In、 Ti、 Zn、 Sc、 V、 Cr、 Mn、 Co等である。 Xは 、例えば F、 Cl、 Br等のハロゲン原子であり、 qはハロゲン化物錯体イオンの正味の 電荷であり、 pは Mの原子価である。〕で表される構造を有するォニゥム塩を挙げるこ とができる。このォ-ゥム塩は、光を受けることによりルイス酸を放出する化合物である 。上記一般式 (4)中におけるァ-オン [MX ] _qの具体例としては、テトラフルォロ
P + q
ボレート(BF _)、へキサフルォロホスフェート(PF _)、へキサフルォロアンチモネ一
4 6
ト(SbF―)、へキサフルォロアルセネート(AsF―)、へキサクロ口アンチモネート(Sb
6 6
C1―)等が挙げられる。
6
[0030] (C)カチオン性重合開始剤の市販品としては、 UVI— 6950、 UVI— 6970、 UVI — 6974、 UVI— 6990 (以上、ユニオンカーバイド社製)、アデカオプトマー SP— 15 0、SP— 151、SP— 170、SP— 172 (以上、旭電ィ匕工業 (株)製)、 Irgacure 261 ( 以上、チバスペシャルティケミカルズ (株)製)、 CI— 2481、 CI 2624、 CI 2639、 CI 2064 (以上、日本曹達 (株)製)、 CD— 1010、 CD— 1011、 CD—1012 (以上 、サートマ一社製)、 DTS— 102、 DTS— 103、 NAT— 103、 NDS— 103、 TPS— 103、 MDS— 103、 MPI— 103、 BBI— 103 (以上、みどり化学 (株)製)、 PCI— 06 1T、 PCI— 062T、 PCI— 020Τ、 PCI— 022Τ (以上、 日本化薬 (株)製)、 CPI— 11 OA (以上、サンァプロ株式会社製)、 CPI— 6976 (以上、ァセトコーポレーション社製 )等を挙げることができる。これらのうち、 UVI— 6970、 UVI— 6974、アデカオプトマ 一 SP— 170、 SP— 172、 CD— 1012、 MPI— 103、 CPI— 110Aは、これらを含有 してなる榭脂組成物に高い光硬化感度を発現させることができることから特に好まし い。上記のカチオン性光重合開始剤は、 1種単独で又は 2種以上組み合わせて成分 (C)を構成することができる。
[0031] 本発明の組成物中における(C)成分の含有量は、組成物全量に対して、通常 0. 1 〜10質量%であり、好ましくは 0. 2〜5質量%、さらに好ましくは 1〜5質量%である 。(C)成分の含有割合が 0. 1質量%未満である場合には、得られる榭脂組成物の放 射線硬化性が低下し、十分な機械的強度、を有する立体形状物を造形することがで きない。一方、 10質量%を超える場合には、得られる榭脂組成物を光学的立体造形 法に供する場合に、適当な光透過性を得ることができず硬化深さの制御が困難となり 、得られる立体形状物の造形精度が低下する傾向がある。
[0032] (D)成分
本発明の組成物に用いられる (D)成分は、ラジカル重合性化合物である。具体的 にはエチレン性不飽和結合 (C = C)を有する化合物であり、 1分子中に 1個のェチレ ン性不飽和結合を有する単官能モノマー、及び 1分子中に 2個以上のエチレン性不 飽和結合を有する多官能モノマーを挙げることができる。
[0033] 単官能モノマー及び多官能モノマーは、各々 1種単独で又は 2種以上組み合わせ る力、ある ヽは単官能モノマーの少なくとも 1種と多官能モノマーの少なくとも 1種とを 組み合わせて成分 (D)を構成することができる。
[0034] (D)成分中には 3官能以上、即ち 1分子中に 3個以上のエチレン性不飽和結合を 有する多官能モノマー力 (D)成分全量を 100質量%として、 60質量%以上の割合 で含有されて 、ることが好まし 、。この 3官能以上の多官能モノマーのさらに好まし ヽ 含有割合は 70質量%以上であり、特に好ましくは 80質量%以上、最も好ましくは 10 0質量%である。 3官能以上の多官能モノマーの含有割合が 60質量%以上であると 、得られる榭脂組成物の放射線硬化性がより向上すると共に、造形される立体形状 物の経時的変形が生じに《なる傾向がある。
[0035] (D)成分の単官能性モノマーの具体例としては、アクリルアミド、(メタ)アタリロイル モルホリン、 7—アミノー 3, 7—ジメチルォクチル (メタ)アタリレート、イソブトキシメチ ル (メタ)アクリルアミド、イソボル-ルォキシェチル (メタ)アタリレート、イソボル-ル (メ タ)アタリレート、 2—ェチルへキシル (メタ)アタリレート、ェチルジエチレングリコール( メタ)アタリレート、 t—ォクチル (メタ)アクリルアミド、ジアセトン (メタ)アクリルアミド、ジ メチルアミノエチル (メタ)アタリレート、ジェチルアミノエチル (メタ)アタリレート、ラウリ ル (メタ)アタリレート、ジシクロペンタジェン (メタ)アタリレート、ジシクロペンテ-ルォ キシェチル (メタ)アタリレート、ジシクロペンテ-ル (メタ)アタリレート、 N, N—ジメチ ル (メタ)アクリルアミドテトラクロ口フエ-ル (メタ)アタリレート、 2—テトラクロ口フエノキ シェチル (メタ)アタリレート、テトラヒドロフルフリル (メタ)アタリレート、テトラブロモフエ -ル (メタ)アタリレート、 2—テトラブロモフエノキシェチル (メタ)アタリレート、 2—トリク ロロフエノキシェチル (メタ)アタリレート、トリブロモフエ-ル (メタ)アタリレート、 2—トリ
—ヒドロキシプロピル(メタ)アタリレート、ビ-ルカプロラタタム、 N—ビニルピロリドン、 フエノキシェチル(メタ)アタリレート、ブトキシェチル(メタ)アタリレート、ペンタクロロフ ェ-ル(メタ)アタリレート、ペンタブロモフエ-ル(メタ)アタリレート、ポリエチレングリコ ールモノ (メタ)アタリレート、ポリプロピレングリコールモノ (メタ)アタリレート、ボル-ル (メタ)アタリレート、メチルトリエチレンジグリコール (メタ)アタリレートで表される化合 物等を挙げることができる。
(D)成分の多官能性モノマーの具体例としては、エチレングリコールジ (メタ)アタリ レート、ジシクロペンテ-ルジ (メタ)アタリレート、トリエチレングリコールジアタリレート 、テトラエチレングリコールジ (メタ)アタリレート、トリシクロデカンジィルジメチレンジ (メ タ)アタリレート、トリス(2—ヒドロキシェチル)イソシァヌレートジ (メタ)アタリレート、トリ ス(2—ヒドロキシェチル)イソシァヌレートトリ(メタ)アタリレート、力プロラタトン変性トリ ス(2—ヒドロキシェチル)イソシァヌレートトリ(メタ)アタリレート、トリメチロールプロパ ントリ(メタ)アタリレート、エチレンォキシド(以下「EO」という。)変性トリメチロールプロ パントリ(メタ)アタリレート、プロピレンォキシド(以下「PO」という。)変性トリメチロール プロパントリ(メタ)アタリレート、トリプロピレングリコールジ (メタ)アタリレート、ネオペン チルダリコールジ (メタ)アタリレート、ビスフエノール Aジグリシジルエーテルの両末端 (メタ)アクリル酸付カ卩物、 1, 4—ブタンジオールジ (メタ)アタリレート、 1, 6—へキサ ンジオールジ (メタ)アタリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アタリレート、ペンタエリ スリトールテトラ (メタ)アタリレート、ポリエステルジ (メタ)アタリレート、ポリエチレンダリ コールジ (メタ)アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ(メタ)アタリレート、ジペンタ エリスリトールペンタ (メタ)アタリレート、ジペンタエリスリトールテトラ (メタ)アタリレート 、力プロラタトン変性ジペンタエリスリトールへキサ (メタ)アタリレート、力プロラタトン変 性ジペンタエリスリトールペンタ (メタ)アタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ (メタ )アタリレート、 EO変性ビスフエノール Aジ (メタ)アタリレート、 PO変性ビスフエノール Aジ (メタ)アタリレート、 EO変性水添ビスフエノール Aジ (メタ)アタリレート、 PO変性 水添ビスフエノール Aジ (メタ)アタリレート、 EO変性ビスフエノール Fジ (メタ)アタリレ ート、フエノールノボラックポリグリシジルエーテルの(メタ)アタリレート等を挙げること ができる。
[0037] これらの中で、 3官能以上の多官能モノマーに該当する上記に例示されたトリ (メタ) アタリレートイ匕合物、テトラ (メタ)アタリレートイ匕合物、ペンタ (メタ)アタリレートイ匕合物、 へキサ (メタ)アタリレートイ匕合物等が好ましぐ中でもトリス (アタリロイルォキシェチル) イソシァヌレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アタリレート、 EO変性トリメチロール プロパントリ(メタ)アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ(メタ)アタリレート、ジぺ ンタエリスリトールペンタ (メタ)アタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ (メタ)アタリ レートが特に好ましい。
[0038] (D)成分の単官能性モノマーの市販品としては、例えばァロニックス M— 101、 M — 102、 M— 111、 M— 113、 M— 117、 M— 152、 TO— 1210 (以上、東亞合成( 株)製)、 KAYARAD TC—110S、R—564、R—128H (以上、 日本化薬 (株))、 ビスコート 192、ビスコート 220、ビスコート 2311HP、ビスコート 2000、ビスコート 21 00、ビスコート 2150、ビスコート 8F、ビスコート 17F (以上、大阪有機化学工業 (株) 製)等を挙げることができる。
[0039] (D)成分の多官能性モノマーの市販品としては、例えば、 SA1002 (以上、三菱ィ匕 学 (株)製)、ビスコート 195、ビスコート 230、ビスコート 260、ビスコート 215、ピスコ一 ト 310、ビスコート 214HP、ビスコート 295、ビスコート 300、ビスコート 360、ビスコー ト GPT、ビスコート 400、ビスコート 700、ビスコート 540、ビスコート 3000、ビスコート 3700 (以上、大阪有機化学工業 (株)製)、カャラッド R— 526、 HDDA、 NPGDA、 TPGDA、 MANDA、 R— 551、 R— 712、 R— 604、 R— 684、 PET— 30、 GPO— 303、 TMPTA、 THE— 330、 DPHAゝ DPHA— 2Hゝ DPHA— 2C、 DPHA— 21 、 D— 310、 D— 330、 DPCA— 20、 DPCA— 30、 DPCA— 60、 DPCA— 120、 D N— 0075、 DN— 2475、 T— 1420、 T— 2020、 T— 2040、 TPA— 320、 TPA— 3 30、 RP— 1040、 RP— 2040、 R— 011、 R— 300、 R— 205 (以上、 日本ィ匕薬 (株) 製)、ァロニックス M— 210、 M— 220、 M— 233、 M— 240、 M— 215、 M— 305、 M— 309、 M— 310、 M— 315、 M— 325、 M— 400、 M— 6200、 M— 6400 (以上 、東亞合成(株)製)、ライトアタリレート BP— 4EA、 BP— 4PA、 BP— 2EA、 BP— 2P A、 DCP—A (以上、共栄社ィ匕学 (株)製)、ニューフロンティア BPE— 4、 BR—42M 、 GX— 8345 (以上、第一工業製薬 (株)製)、 ASF— 400 (以上、新日鐡化学 (株) 製)、リポキシ SP— 1506、 SP- 1507, SP- 1509, VR- 77, SP— 4010、 SP-4 060 (以上、昭和高分子(株)製)、NKェステルA—BPE—4 (以上、新中村化学ェ 業 (株)製)等を挙げることができる。
[0040] 本発明の組成物中における(D)成分の含有量は、組成物全量に対して、通常 0. 1 〜25質量%であり、好ましくは 0. 1〜15質量%である。(D)成分を添加することによ り得られる榭脂組成物の放射線硬化性が向上するとともに、造形される立体形状物 の経時的変形が生じに《なる傾向にある力 その含有量が 25質量%を超えると立 体形状物の耐衝撃性や破壊靭性が低下する点で不都合がある。
[0041] (E)成分
本発明の組成物に用いられる (E)成分は、ラジカル重合開始剤であり、光等の放 射線を受けることにより分解し、発生するラジカルによって (D)成分のラジカル重合反 応を開始させる化合物である。
[0042] (E)ラジカル重合開始剤の具体例としては、例えばァセトフエノン、ァセトフエノンべ ンジルケタール、アントラキノン、 1— (4—イソプロピルフエ-ル) 2 ヒドロキシ一 2 メチルプロパン 1 オン、カルバゾール、キサントン、 4 クロ口べンゾフエノン、 4 , 4'ージァミノべンゾフエノン、 1, 1ージメトキシデォキシベンゾイン、 3, 3' ジメチ ルー 4ーメトキシベンゾフエノン、チォキサントン系化合物、 2—メチルー 1 [4 (メ チルチオ)フエニル]— 2—モルフオリノープロパン一 2 -オン、 2 -ベンジル 2—ジ メチルアミノー 1— (4—モルフォリノフエ-ル)一ブタン一 1—オン、トリフエ-ルァミン、 2, 4, 6 トリメチルベンゾィルジフエ-ルホスフィンオキサイド、ビス(2, 6 ジメトキシ ベンゾィル) 2, 4, 4 トリーメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ベンジルジメチ ルケタール、 1—ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、 2—ヒドロキシ一 2—メチル 1 フエ-ルプロパン 1 オン、フルォレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベ ンゾインェチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾフエノン、ミヒラーケト ン、 3—メチルァセトフエノン、 3, 3' , 4, 4'ーテトラ(t ブチルパーォキシカルボ二 ル)ベンゾフエノン(BTTB)、及び BTTBとキサンテン、チォキサンテン、クマリン、ケト クマリンその他の色素増感剤との組み合わせ等を挙げることができる。これらのうち、 ベンジルジメチルケタール、 1ーヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、 2, 4, 6 ト リメチルベンゾィルジフエ-ルホスフィンオキサイド、 2 ベンジル 2—ジメチルァミノ 1 (4 モルフォリノフエ-ル) ブタン 1 オン等が特に好ましい。上記のラジ カル重合開始剤は、 1種単独で又は 2種以上組み合わせて (E)成分を構成すること ができる。
[0043] 本発明の組成物中における(E)成分の含有量は、組成物全量に対して、通常 0. 0 1〜10質量%であり、好ましくは 0. 1〜5質量%である。(E)成分の含有割合が 0. 0 1質量%未満である場合には、得られる榭脂組成物のラジカル重合反応速度 (硬化 速度)が低くなつて造形に時間を要したり、解像度が低下したりする傾向がある。一方 、(E)成分の含有割合が 10質量%を超える場合には、過剰量の重合開始剤が榭脂 組成物の硬化特性を低下させたり、立体形状物の耐湿性や耐熱性に悪影響を及ぼ すことがある。
[0044] (F)成分
本発明の組成物に用いられる (F)成分は、ポリエーテルポリオールである。成分 (F )を添加することにより、榭脂組成物の放射線硬化性を改善し、本願組成物に光を照 射して得られる硬化物の機械的特性、特に弾性率を向上させることにより光造形によ り得られる立体造形物の形状や機械的特性の経時的変化を抑制することができる。
[0045] (F)ポリエーテルポリオールは、 1分子中に 3個以上の水酸基を有するものが好まし く、 1分子中に 3〜6個の水酸基を有するものが特に好ましい。 1分子中に有する水酸 基の数が 3個以上のポリエーテルポリオールを用いることにより、十分な放射線硬化 性の向上効果が得られ、また、得られる立体形状物の機械的特性、特に弾性率が安 定する傾向がある。
[0046] (F)ポリエーテルポリオールの具体例としては、トリメチロールプロパン、グリセリン、 ペンタエリスリトール、ソルビトール、スクロース、クオドロール等の 3価以上の多価ァ ノレコーノレを、エチレンォキシド(EO)、プロピレンォキシド(PO)、ブチレンォキシド、 テトラヒドロフラン等の環状エーテルィ匕合物で変性することにより得られるポリエーテ ルポリオールを挙げることができ、具体的には、 EO変性トリメチロールプロパン、 PO 変性トリメチロールプロパン、テトラヒドロフラン変性トリメチロールプロパン、 EO変性 グリセリン、 PO変性グリセリン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、 EO変性ペンタエリス リトール、 PO変性ペンタエリスリトール、テトラヒドロフラン変性ペンタエリスリトール、 E O変性ソルビトール、 PO変性ソルビトール、 EO変性スクロース、 PO変性スクロース、 EO変性スクロース、 EO変性クオドール等を挙げることができる。上記のポリエーテル ポリオールは、 1種単独で、又は 2種以上組み合わせて成分 (F)を構成することがで きる。
[0047] (F)ポリエーテルポリオールの市販品としては、サンニックス TP— 400、サンニック ス GP— 600、サンニックス GP— 1000、サンニックス SP— 750、サンニックス GP— 2 50、サンニックス GP— 400、サンニックス GP— 600 (以上、三洋化成(株)製)、 TM P— 3Glycol、 PNT— 4 Glycol, EDA— P— 4、 EDA— P— 8 (以上、日本乳化剤( 株)製)、 G— 300、 G— 400、 G— 700、 T— 400、 EDP— 450、 SP— 600、 SC-8 00 (以上、旭電ィ匕工業 (株)製)、 SCP— 400, SCP— 1000、 SP— 1600 (以上、阪 本薬品工業株式会社製)等を挙げることができる。
[0048] 本発明の組成物中における(F)成分の含有量は、組成物全量に対して、通常 1〜 35質量%であり、好ましくは 1〜25質量%、特に好ましくは 3〜15質量%である。成 分 (F)の含有量が 1質量%未満である場合には、榭脂組成物の遅延硬化性が低下 するほか、放射線硬化性の向上効果を十分に図ることができず、また、形状安定性 及び物性安定性の良好な立体形状物を得ることができない場合がある。一方、成分 ( F)の含有割合が 35質量%を超える場合にも、得られる榭脂組成物の放射線硬化性 が低下し、光造形により得られる立体形状物の弾性率が低下する傾向がある。
[0049] (G)成分
本発明の組成物に用いられる (G)成分は、電子顕微鏡法で測定した数平均粒子 径 10〜: LOOOnmのエラストマ一粒子である。(G)成分を添加することにより、本発明 の組成物に光を照射して得られる硬化物の耐衝撃性や破壊靭性を向上させることが できる。
[0050] (G)数平均粒子径 10〜1000nmのエラストマ一粒子の具体例としては、ポリブタジ ェン、ポリイソプレン、ブタジエン Zアクリロニトリル共重合体、スチレン Zブタジエン 共重合体、スチレン Zイソプレン共重合体、エチレン Zプロピレン共重合体、ェチレ ン Z aーォレフイン系共重合体、エチレン Z aーォレフイン Zポリェン共重合体、ァ クリルゴム、ブタジエン Z (メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン Zブタジエン ブロック共重合体、スチレン Zイソプレンブロック共重合体等をベース成分とするエラ ストマー粒子等を挙げることができる。また、コア Zシェル型の粒子であってもよぐ前 記エラストマ一粒子の内、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン Zブタジエン共重 合体、スチレン Zイソプレン共重合体、ブタジエン Z (メタ)アクリル酸エステル共重合 体、スチレン Zブタジエンブロック共重合体、スチレン Zイソプレンブロック共重合体 等を部分架橋したコアに、メチルメタアタリレートポリマーで被覆したエラストマ一粒子
、メチルメタアタリレート Zグリシジルメタアタリレート共重合体で被覆した粒子が特に 好ましい。
[0051] (G)成分のうち、上記のようなコア Zシェル型エラストマ一粒子の市販品としては、 例えば、レジナスボンド RKB (レジナス化成(株)製)、テクノ MBS— 61、 MBS— 69 ( 以上、テクノポリマー (株)製)等を挙げることができる。
[0052] 本発明の組成物中における(G)成分の含有割合は、組成物全量に対して、通常 1 〜35質量%であり、好ましくは 2〜20質量%、特に好ましくは 3〜15質量%である。 ( G)成分の含有割合が 1重量%未満である場合には、耐衝撃性や破壊靭性が低下し 、一方、 35質量%を超える場合には、粘度が高くなり造形時に気泡が発生したり、得 られる立体形状物の造形精度が低下する傾向がある。
[0053] 本発明の放射線硬化性液状榭脂組成物には、さらに光増感剤 (重合促進剤)、反 応性希釈剤等を含有させることができる。光増感剤としては、トリエタノールァミン、メ チルジエタノールァミン、トリエチルァミン、ジェチルァミン等のアミン系化合物;チォ キサントン、チォキサントンの誘導体、アントラキノン、アントラキノンの誘導体、アント ラセン、アントラセンの誘導体、ペリレン、ペリレンの誘導体、ベンゾフエノン、ベンゾィ ンイソプロピルエーテル等が挙げられる n [0054] また本発明の光造形用放射線硬化性液状榭脂組成物には、本発明の目的、効果 を損なわな 、範囲にぉ 、て、その他の任意成分として各種の添加剤が含有されて ヽ てもよい。力かる添加剤としては、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジ ェン、ポリクロ口プレン、ポリエステル、スチレン ブタジエンブロック共重合体、石油 榭脂、キシレン榭脂、ケトン樹脂、セルロース榭脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系 オリゴマー、ポリスルフイド系オリゴマー等のポリマーあるいはオリゴマー;フエノチアジ ン、 2, 6 ジ— t—ブチル—4—メチルフエノール等の重合禁止剤;重合開始助剤; レべリング剤;濡れ性改良剤;界面活性剤;可塑剤;紫外線吸収剤;シランカップリン グ剤;無機充填剤;顔料;染料等を挙げることができる。本発明の放射線硬化性液状 榭脂組成物は、上記成分 (A)〜成分 (G)、及び必要ならば上記任意成分を均一に 混合することによって製造することができる。このようにして得られる放射線硬化性液 状榭脂組成物の粘度(25°C)は、 10〜20, OOOcpsであることが好ましぐ更に好まし くは 50〜10、 OOOcpsであり、特に好ましくは 50cps〜5, OOOcpsである。
[0055] 次に、本発明の組成物の製造方法について説明する。本発明の組成物は、上記 成分 (A)〜(G)及びその他の添加剤等の適量を攪拌容器に仕込み、通常、 30〜7 0°C、好ましくは 50〜60°Cの温度で、通常 1〜6時間、好ましくは 1〜2時間攪拌する こと〖こよって製造することができる。
[0056] 本発明の糸且成物を用いれば、側面段差が少なぐ表面平滑性に優れ、高精度の光 造形物を製造することができる。
[0057] II.光造形物
本発明の光造形物は、前記本発明の組成物に光を照射することにより得られること を特徴とする。
[0058] 以上のようにして得られる本発明の放射線硬化性液状榭脂組成物は、光学的立体 造形法における放射線硬化性液状榭脂組成物として好適に使用される。すなわち、 本発明の放射線硬化性液状榭脂組成物に対して、可視光、紫外光、赤外光等の光 を選択的に照射して硬化に必要なエネルギーを供給する光学的立体造形法により、 所望の形状の立体形状物を製造することができる。
[0059] 放射線硬化性液状榭脂組成物に光を選択的に照射する手段としては、特に制限さ れるものではなぐ種々の手段を採用することができる。例えば、レーザー光、あるい はレンズ、ミラー等を用いて得られた収束光等を走査させながら組成物に照射する手 段、所定のパターンの光透過部を有するマスクを用い、このマスクを介して非収束光 を組成物に照射する手段、多数の光ファイバ一を束ねてなる導光部材を用い、この 導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバ一を介して光を組成物に照 射する手段等を採用することができる。また、マスクを用いる手段においては、マスク として、液晶表示装置と同様の原理により、所定のパターンに従って、光透過領域と 光不透過領域とからなるマスク像を電気光学的に形成するものを用いることもできる。 以上において、目的とする立体形状物が微細な部分を有するもの又は高い寸法精 度が要求されるものである場合には、組成物に選択的に光を照射する手段として、ス ポット径の小さいレーザー光を走査する手段を採用することが好ましい。なお、容器 内に収容されている榭脂糸且成物における光の照射面 (例えば収束光の走査平面)は 、当該榭脂組成物の液面、透光性容器の器壁との接触面の何れであってもよい。榭 脂組成物の液面又は器壁との接触面を光の照射面とする場合には、容器の外部か ら直接又は器壁を介して光を照射することができる。
前記の光学的立体造形法にお!、ては、通常、榭脂組成物の特定部分を硬化させ た後、光の照射位置 (照射面)を、既硬化部分から未硬化部分に連続的に又は段階 的に移動させることにより、硬化部分を積層させて所望の立体形状とする。ここで、照 射位置の移動は種々の方法によって行うことができ、例えば光源、榭脂組成物の収 容容器、榭脂組成物の既硬化部分の何れかを移動させたり当該容器に榭脂組成物 を追加供給する等の方法を挙げることができる。前記の光学的立体造形法の代表的 な一例を説明すると、収容容器内において昇降自在に設けられた支持ステージを榭 脂組成物の液面力 微小量降下 (沈降)させることにより、当該支持ステージ上に榭 脂組成物を供給してその薄層(1)を形成する。次いで、この薄層(1)に対して選択的 に光を照射することにより、固体状の硬化榭脂層(1)を形成する。次いで、この硬化 榭脂層(1)上に放射線硬化性液状榭脂組成物を供給してその薄層(2)を形成し、こ の薄層(2)に対して選択的に光照射することにより、前記硬化榭脂層(1)上にこれと 連続して一体的に積層するよう新しい硬化榭脂層(2)を形成する。そして、光照射さ れるパターンを変化させながら或いは変化させずに、この工程を所定回数繰り返すこ とにより、複数の硬化榭脂層 (n)がー体的に積層されてなる立体形状物が造形され る。
[0061] このようにして得られる立体形状物を収容容器から取り出し、その表面に残存する 未反応の榭脂組成物を除去した後、必要に応じて洗浄する。ここで、洗浄剤としては 、イソプロピルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類に代表されるアルコ ール系有機溶剤;アセトン、酢酸ェチル、メチルェチルケトン等に代表されるケトン系 有機溶剤;テルペン類に代表される脂肪族系有機溶剤;低粘度の熱硬化性榭脂及 び放射線硬化性榭脂を挙げることができる。なお、表面平滑性の良好な立体形状物 を製造する場合には、前記熱硬化性榭脂又は放射線硬化性榭脂を使用して洗浄す ることが好ましぐこの場合には、洗浄に使用した硬化性榭脂の種類に応じて、熱照 射又は光照射によるポストキュア一を行う必要がある。なお、ポストキュア一は、表面 の榭脂を硬化させるだけでなく、立体形状物の内部に残存することのある未反応の 榭脂組成物をも硬化させることができるので、有機溶剤により洗浄した場合にもポスト キュア一を行うことが好まし 、。
[0062] 本発明の光造形物は、高精度で、側面段差が少なぐ表面平滑性に優れている。
<実施例 >
[0063] 以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する力 本発明はこれらの実 施例によって何ら限定されるものではない。
[0064] [液状榭脂組成物の調製]
表 1に示す配合処方に従って各成分を攪拌容器内に仕込み、 60°Cで 3時間攪拌 することにより、実施例 1〜8及び比較例 1〜6の液状榭脂組成物を調製した。表 1の 配合処方は、質量%で示す。
[0065] 実施例 1〜8及び比較例 1〜6の各液状榭脂組成物を用いて、遅延硬化性及び造 形側面段差の評価試験を行った。評価結果を表 1に示す。
[0066] 評価方法
[遅延硬化性] 各榭脂液を用いて、光造形機 SCS— 300P (ディーメック株式会社) を用いてライン描画 (照射面 (液面)におけるレーザーパワー lOOmWで、走査速度 8 70mmZ秒で照射光量が硬化幅 160 μ mとした場合約 70mjZcm2となるように長さ 4cmを 1回だけ描画することで、硬化ラインを 1本製作した。)し、光照射の直後及び 2 0分経過後に、それぞれ榭脂液からライン状の硬化物を取り出して、硬化幅、硬化深 度を光学顕微鏡で測定した。光照射直後の硬化深度を D、 20分経過後の硬化深
0
度を D とした場合に、 D — Dで表される硬化深度の増加量を求めた。硬化深度の
20 20 0
増加量が 40 μ m以上である場合を〇、 20〜40 μ mである場合を△、 20 μ m以下で ある場合を Xと判定した。
[0067] [造形側面段差 m) ]
ソリッドクリエーター SCS - 300P (ソニーマ-ュファクチユアリングシステムズ (株)製 )を使用し、照射面 (液面)におけるレーザーパワー 100mW、各組成において硬化 深さが 0. 2mmとなる走査速度の条件で、放射線硬化性榭脂組成物に対して選択的 にレーザー光を照射して硬化樹脂層(厚さ xomm)を形成する工程を繰り返すこと により、評価用試料を造形した。次いで、この試験片をソリッドクリエーター力 取り出 し、外表面に付着している榭脂組成物を洗浄除去した。試験片は温度 23°C、湿度 5 0%の恒温恒湿室内に 24時間静置したのち、測定を行った。造形物側面の凹凸部( 段差)をレーザー顕微鏡 (ニコン株式会社製 OPTIPHOT— POL)により計測した。
[0068] [表 1]
表 1
Figure imgf000024_0001
[0069] IrganoxlOlO :ペンタエリスリチルーテトラキス [3— (3、 5 ジ一 t—ブチル 4 ヒ ドロキシフエ-ル)プロピオネート] (チバ 'スぺシャリティ ·ケミカルズ株式会社製)
Irganoxl520L :4, 6 ビス(ォクチルチオメチル) o タレゾール (チノく'スぺ シャリティ ·ケミカルズ株式会社製)
Irganox245:トリエチレングリコール—ビス [ 3— ( 3— t ブチル 5 メチル 4— ヒドロキシフエ-ル)プロピオネート] チバ 'スぺシャリティ ·ケミカルズ株式会社製)
Irgafos38:ビス [2, 4 ビス( 1 , 1 ジメチルェチル) - 6 メチルフエ-ル]ェチル エステル亜りん酸 (チバ 'スぺシャリティ ·ケミカルズ株式会社製)
SumilizerGP : 6— [3— (3— t ブチル— 4—ヒドロキシ— 5—メチルフエ-ル)プロ ポキシ ]ー2, 4, 8, 10—テトラー tーブチルジベンズ [d, f] [l, 3, 2]ジォキサフォス ぺピン (住友化学工業株式会社製)
CPI-6976 : (1)ジフエ-ル(フエ-ルチオフエ-ル)スルホ -ゥムへキサフルォロ アンチモネートと、(2)ビス [4 (ジフエ-ルスルホ -ォ)フエ-ル]スルファイドビスへ キサフルォロアンチモネートの混合物(ァセトコーポレーション製)
エラストマ一粒子 (レジナス化成株式会社製レジナスボンド RKB)
産業上の利用可能性
[0070] 本発明の組成物は、光学的立体造形用途に好適に用いられる。
本発明の組成物は、より高い立体造形精度、特に造形物の各積層間の側面段差 に起因する表面の平滑性の改善が必要とされる用途に好適に用いられる。

Claims

請求の範囲
[1] 下記成分 ( から ):
(A)フ ノール性水酸基及び Z又は亜リン酸エステル基を有する化合物、
(B)カチオン重合性ィ匕合物、
(C)カチオン性重合開始剤、
(D)ラジカル重合性化合物、
(E)ラジカル重合開始剤、及び
(F)ポリエーテルポリオール化合物
を含有し、
組成物全量に対する前記 (A)成分の含有量が 0. 1〜10質量%であり、前記 (F) ポリエーテルポリオ一ルイ匕合物の含有量が 1〜35質量%である光学的立体造形用 放射線硬化性液状榭脂組成物。
[2] 組成物全量に対する前記 (B)から (E)成分の含有量が下記の通りである請求項 1 記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂組成物。
(B)カチオン重合性ィ匕合物 15〜85質量%、
(C)カチオン性重合開始剤 0. 1〜: LO質量%、
(D)ラジカル重合性化合物 0. 1〜25質量%、
(E)ラジカル重合開始剤 0. 01〜: L0質量%
[3] (G)電子顕微鏡法で測定した数平均粒径 10〜: LOOOnmのエラストマ一粒子を組 成物全量の 1〜35質量%含有する請求項 1に記載の光学的立体造形用放射線硬 化性液状榭脂組成物。
[4] (A)フ ノール性水酸基及び Z又は亜リン酸エステル基を有する化合物が、下記 式( 1)、式 (2)及び式 (3)で示される化合物からなる群から選択される一以上の化合 物である請求項 1に記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂組成物。
[化 7]
Figure imgf000026_0001
[式(1)中、 R1及び R2は、各々独立に、炭素数:!〜 4の分岐していてもよいアルキル 基であり、 m及び nは、各々独立に、 1又は 2である。 ]
[化 8]
Figure imgf000027_0001
[式(2)中、 R3及び R4は、各々独立に、炭素数 6〜10の分岐していてもよいアルキル 基である。 ]
[化 9]
Figure imgf000027_0002
[式(3)中、 R5は、水素又はメチル基であり、 R6及び R7は、各々独立に、有機基であ り、 R5と R6が結合して環状構造を形成していてもよい。 ]
[5] 請求項 1〜4のいずれか一に記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状榭脂組 成物に光を照射することにより得られる光造形物。
PCT/JP2005/009645 2004-05-26 2005-05-26 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物 Ceased WO2005116103A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/596,744 US20070232713A1 (en) 2004-05-26 2005-05-26 Radiation Curable Liquid Resin Composition for Optical Three-Dimensional Molding and Optical Molded Article Obtained by Photocuring Same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004-156251 2004-05-26
JP2004156251A JP4620380B2 (ja) 2004-05-26 2004-05-26 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2005116103A1 true WO2005116103A1 (ja) 2005-12-08

Family

ID=35450851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2005/009645 Ceased WO2005116103A1 (ja) 2004-05-26 2005-05-26 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20070232713A1 (ja)
JP (1) JP4620380B2 (ja)
KR (1) KR20070052705A (ja)
CN (1) CN1957011A (ja)
WO (1) WO2005116103A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008115057A1 (en) * 2007-03-20 2008-09-25 Dsm Ip Assets B.V. Stereolithography resin compositions and three-dimensional objects made therefrom
US20080292993A1 (en) * 2006-12-22 2008-11-27 Canon Kabushiki Kaisha Photo-cationic polymerizable epoxy resin composition, liquid discharge head, and manufacturing method thereof

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4750381B2 (ja) * 2004-05-31 2011-08-17 Jsr株式会社 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物
JP4744200B2 (ja) * 2005-06-20 2011-08-10 シーメット株式会社 平滑化した造形端面を有する立体造形物
JP5334389B2 (ja) * 2007-03-29 2013-11-06 Jsr株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物及び立体造形物
CN101215369B (zh) * 2008-01-16 2010-04-07 京东方科技集团股份有限公司 光固化树脂、感光树脂组合物及其制备方法
US8501033B2 (en) * 2009-03-13 2013-08-06 Dsm Ip Assets B.V. Radiation curable resin composition and rapid three-dimensional imaging process using the same
KR102187131B1 (ko) * 2014-10-15 2020-12-04 동우 화인켐 주식회사 입체 조형용 광경화성 수지 조성물
CN107111225B (zh) 2014-12-23 2021-07-27 普利司通美国轮胎运营有限责任公司 聚合物产品的增材制造方法
US11097531B2 (en) 2015-12-17 2021-08-24 Bridgestone Americas Tire Operations, Llc Additive manufacturing cartridges and processes for producing cured polymeric products by additive manufacturing
WO2018051924A1 (ja) * 2016-09-13 2018-03-22 株式会社Adeka 硬化性組成物、その硬化方法、それにより得られる硬化物
JP6865460B2 (ja) * 2016-09-29 2021-04-28 シーメット株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
US11453161B2 (en) 2016-10-27 2022-09-27 Bridgestone Americas Tire Operations, Llc Processes for producing cured polymeric products by additive manufacturing
CN112470551B (zh) * 2018-09-26 2024-05-14 电化株式会社 有机电致发光显示元件用密封剂
CN111070672A (zh) * 2019-11-18 2020-04-28 深圳光韵达光电科技股份有限公司 基于热固化机理的3d打印方法及装置
WO2021131790A1 (ja) * 2019-12-27 2021-07-01 三井化学株式会社 硬化性組成物および有機el表示装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1077331A (ja) * 1996-09-02 1998-03-24 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 液状硬化性樹脂組成物
JPH11310626A (ja) * 1998-02-24 1999-11-09 Jsr Corp 光硬化性液状樹脂組成物
JP2003073457A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Asahi Denka Kogyo Kk 光学的立体造形用樹脂組成物およびこれを用いた光学的立体造形方法
JP2003238691A (ja) * 2002-02-15 2003-08-27 Jsr Corp 光硬化性樹脂組成物

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0445437A (ja) * 1990-06-13 1992-02-14 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JP2622186B2 (ja) * 1990-07-18 1997-06-18 株式会社クラレ 有機珪素化合物の蒸留方法
TW482765B (en) * 1996-08-05 2002-04-11 Sumitomo Chemical Co Phosphites, process for producing the same and their use
JP2001257285A (ja) * 2000-03-09 2001-09-21 Nippon Steel Chem Co Ltd 熱紫外線硬化型樹脂層付き銅箔及びこれを用いた半導体装置の製造方法
WO2001095030A2 (en) * 2000-06-09 2001-12-13 Dsm N.V. Resin composition and three-dimensional object
US20040137368A1 (en) * 2003-01-13 2004-07-15 3D Systems, Inc. Stereolithographic resins containing selected oxetane compounds

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1077331A (ja) * 1996-09-02 1998-03-24 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 液状硬化性樹脂組成物
JPH11310626A (ja) * 1998-02-24 1999-11-09 Jsr Corp 光硬化性液状樹脂組成物
JP2003073457A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Asahi Denka Kogyo Kk 光学的立体造形用樹脂組成物およびこれを用いた光学的立体造形方法
JP2003238691A (ja) * 2002-02-15 2003-08-27 Jsr Corp 光硬化性樹脂組成物

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080292993A1 (en) * 2006-12-22 2008-11-27 Canon Kabushiki Kaisha Photo-cationic polymerizable epoxy resin composition, liquid discharge head, and manufacturing method thereof
WO2008115057A1 (en) * 2007-03-20 2008-09-25 Dsm Ip Assets B.V. Stereolithography resin compositions and three-dimensional objects made therefrom
CN103760752A (zh) * 2007-03-20 2014-04-30 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 立体光刻树脂组合物以及由其制成的三维物品
US8980971B2 (en) 2007-03-20 2015-03-17 Dsm Ip Assets B.V. Stereolithography resin compositions and three-dimensional objects made therefrom

Also Published As

Publication number Publication date
JP4620380B2 (ja) 2011-01-26
JP2005336302A (ja) 2005-12-08
US20070232713A1 (en) 2007-10-04
CN1957011A (zh) 2007-05-02
KR20070052705A (ko) 2007-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5843508B2 (ja) 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物、及びそれを光硬化させて得られる光造形物
EP2135136B1 (en) Stereolithography resin compositions and three-dimensional objects made therefrom
JP3786480B2 (ja) 光硬化性樹脂組成物
WO2005116103A1 (ja) 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物
JP2000302964A (ja) 立体造形用光硬化性樹脂組成物およびこれを硬化してなる造形物
JP3626275B2 (ja) 光硬化性樹脂組成物
JP4017238B2 (ja) 光硬化性液状樹脂組成物
JP5317503B2 (ja) 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物及び立体造形物
JP2013166893A (ja) 光学的立体造形用放射線硬化性組成物
JP4578223B2 (ja) 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
JP3820289B2 (ja) 樹脂製成形用型製造用光硬化性樹脂組成物および樹脂製成形用型の製造方法
JPH11228610A (ja) 光硬化性樹脂組成物
JP4863288B2 (ja) 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物及び立体造形物
JP4017236B2 (ja) 光硬化性液状樹脂組成物
WO2014158015A1 (en) Radiation-curable liquid resin composition for optical three-dimensional shaping, and optically shaped article obtained by photo-curing the same
JP5334389B2 (ja) 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物及び立体造形物
JP2005015627A (ja) 光硬化性液状樹脂組成物
WO2006100964A1 (ja) 立体形状物の製造方法及び立体形状物
JP2005281414A (ja) 放射線硬化性液状樹脂組成物
JP2005053936A (ja) 光硬化性液状樹脂組成物
JP2007169423A (ja) 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物
JP4750381B2 (ja) 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物
WO2006135054A1 (ja) 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを硬化させて得られる光造形物
JP2003192887A (ja) 光硬化性液状樹脂組成物
JP3930890B2 (ja) 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS KE KG KM KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200580016942.8

Country of ref document: CN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Country of ref document: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020067027043

Country of ref document: KR

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11596744

Country of ref document: US

Ref document number: 2007232713

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase
WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 11596744

Country of ref document: US