WO2018051924A1

WO2018051924A1 - 硬化性組成物、その硬化方法、それにより得られる硬化物

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Publication number: WO2018051924A1
Application number: PCT/JP2017/032543
Authority: WO
Inventors: 一輝長坂; 松本　拓也; 泰延大野
Original assignee: 株式会社Adeka
Priority date: 2016-09-13
Filing date: 2017-09-08
Publication date: 2018-03-22
Also published as: TW201827517A

Abstract

硬化物の硬化性に優れ、かつ、低粘度である重合禁止剤を含有する硬化性組成物、その硬化方法、それにより得られる弾性率に優れる硬化物を提供する。　カチオン硬化性成分（Ａ）と、カチオン重合開始剤（Ｂ）と、ラジカル硬化性成分（Ｃ）と、ラジカル重合開始剤（Ｄ）と、重合禁止剤（Ｅ）と、を含有する硬化性組成物であり、ラジカル硬化性成分（Ｃ）１００質量部に対して重合禁止剤（Ｅ）が５×１０^－３～０．２質量部含有されてなる。重合禁止剤（Ｅ）は、フェノール化合物であることが好ましい。

Description

硬化性組成物、その硬化方法、それにより得られる硬化物

　本発明は、硬化性組成物、その硬化方法、それにより得られる硬化物に関し、詳しくは、硬化物の硬化性に優れ、かつ、低粘度である重合禁止剤を含有する硬化性組成物、その硬化方法、それにより得られる弾性率に優れる硬化物に関する。

　硬化性組成物は、インキ、塗料、各種コーティング剤、接着剤、光学部材等の分野において用いられている。今日、このような硬化性組成物に関し、種々の提案がなされている。例えば、特許文献１では、光に暴露されて硬化可能な光カチオン硬化型接着剤および加熱されて硬化可能な熱カチオン硬化型接着剤が提案されている。また、特許文献２では、優れた塗工性を有し、耐湿熱性、接着強度等に優れた偏光板を、簡易な製造工程で短時間に製造することのできる接着剤用放射線硬化性組成物が提案されている。さらに、特許文献３では、接着力、耐水性および耐熱性がともに優れた偏光板用接着剤組成物が提案されている。

　さらにまた、特許文献４では、低照度でも優れた硬化性を有し、更に優れた耐熱性、耐湿性、熱的寸法安定性、耐候性等を有する光重合性オキシラン系樹脂組成物であって、各種光学フィルムの貼り合わせに、この光重合性オキシラン系樹脂組成物を使用した光硬化性接着剤を使用することによって、光学フィルムの種類を問わず、簡便かつ強固に接着でき、低粘度で薄膜塗工性に優れた、実質的に有機溶剤を含まない光硬化性接着剤が提案されている。また、特許文献５では、３８０ｎｍ以下の光を透過させにくい保護フィルムを用いた場合でも硬化性および接着性に優れたカチオン重合性接着剤が提案されている。さらに、特許文献６では、透明性、各種プラスチック基材との接着性、および加水分解性に優れた硬化物を形成することができる硬化性組成物が提案されている。

特開２００８－０６３３９７号公報特開２００９－２２７８０４号公報特開２０１４－５００９８４号公報特許５８２４７４７号公報国際公開第２０１４／１２９２６１号国際公開第２０１５／１６３２１６号

　これら特許文献１～６で提案されている硬化性組成物には、任意成分として酸化防止剤を含んでもよい旨が記載されている。酸化防止剤は、ポリマーの劣化に大きく影響するラジカルを捕捉する作用があるため、重合禁止剤として作用するが、これらの硬化性組成物は、重合禁止剤を含有させると、硬化性が悪化したり、粘度が上昇するという問題が明らかになった。

　そこで、本発明の目的は、硬化物の硬化性に優れ、かつ、低粘度である重合禁止剤を含有する硬化性組成物、その硬化方法、それにより得られる硬化物を提供することにある。

　本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、硬化性組成物中におけるラジカル硬化性成分に対する、ラジカルやプロトン等を捕捉する重合禁止剤の量を所定の範囲にすることにより、上記課題を解消することができることを見出し、本発明を完成するに至った。

　すなわち、本発明の硬化性組成物は、カチオン硬化性成分（Ａ）と、カチオン重合開始剤（Ｂ）と、ラジカル硬化性成分（Ｃ）と、ラジカル重合開始剤（Ｄ）と、重合禁止剤（Ｅ）と、を含有し、
　前記ラジカル硬化性成分（Ｃ）１００質量部に対して、前記重合禁止剤（Ｅ）が５×１０^－３～０．２質量部含有されてなることを特徴とするものである。

　本発明の硬化性組成物においては、前記重合禁止剤（Ｅ）は、フェノール化合物であることが好ましい。

　また、本発明の硬化性組成物の硬化方法は、本発明の硬化性組成物を、活性エネルギー線の照射または加熱により硬化させることを特徴とするものである。

　さらに、本発明の硬化物は、本発明の硬化性組成物からなることを特徴とするものである。

　本発明によれば、光学フィルムに有用な、密着性に優れ、かつ、低粘度である重合禁止剤を含有する硬化性組成物、その硬化方法、これにより得られる弾性率に優れる硬化物を提供することができる。

　以下、本発明の硬化性組成物、その硬化方法、それにより得られる硬化物について、詳細に説明する。

　本発明の硬化性組成物は、カチオン硬化性成分（Ａ）と、カチオン重合開始剤（Ｂ）と、ラジカル硬化性成分（Ｃ）と、ラジカル重合開始剤（Ｄ）と、重合禁止剤（Ｅ）を含有する（以下、それぞれ、「（Ａ）成分」、「（Ｂ）成分」、「（Ｃ）成分」、「（Ｄ）成分」および「（Ｅ）成分」ともいう）。以下、（Ａ）～（Ｅ）成分について、詳細に説明する。

＜カチオン硬化性成分（Ａ）＞
　本発明の硬化性組成物に使用する（Ａ）成分は、エネルギー線照射または加熱により活性化したカチオン重合開始剤により高分子化または、架橋反応を起こす化合物である。（Ａ）成分としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。エポキシ化合物としては、脂肪族エポキシ化合物（Ａ１）、芳香族エポキシ化合物（Ａ２）、脂環式エポキシ化合物（Ａ３）等が挙げられる。

　脂肪族エポキシ化合物（Ａ１）とは、後述の芳香族エポキシ化合物（Ａ２）や脂環式エポキシ化合物（Ａ３）に該当しないエポキシ化合物を指し、脂肪族エポキシ化合物（Ａ１）の具体例としては、脂肪族アルコールのグリシジルエーテル化物、アルキルカルボン酸のグリシジルエステル等の単官能エポキシ化合物や、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル化物、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル等の多官能エポキシ化合物が挙げられる。代表的な化合物として、アリルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、Ｃ１２～１３混合アルキルグリシジルエーテル、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、ジシクロペンタジエンジメタノールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのグリシジルエーテル、またプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル化物、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステルが挙げられる。さらに、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルや高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。これらの中でも、脂肪族アルコールのグリシジルエーテル化物あるいは脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル化物が、粘度、塗工性および反応性が向上するので好ましい。

　脂肪族エポキシ化合物（Ａ１）としては、市販品のものを用いることができ、例えば、デナコールＥＸ－１２１、デナコールＥＸ－１７１、デナコールＥＸ－１９２、デナコールＥＸ－２１１、デナコールＥＸ－２１２、デナコールＥＸ－３１３、デナコールＥＸ－３１４、デナコールＥＸ－３２１、デナコールＥＸ－４１１、デナコールＥＸ－４２１、デナコールＥＸ－５１２、デナコールＥＸ－５２１、デナコールＥＸ－６１１、デナコールＥＸ－６１２、デナコールＥＸ－６１４、デナコールＥＸ－６２２、デナコールＥＸ－８１０、デナコールＥＸ－８１１、デナコールＥＸ－８５０、デナコールＥＸ－８５１、デナコールＥＸ－８２１、デナコールＥＸ－８３０、デナコールＥＸ－８３２、デナコールＥＸ－８４１、デナコールＥＸ－８６１、デナコールＥＸ－９１１、デナコールＥＸ－９４１、デナコールＥＸ－９２０、デナコールＥＸ－９３１（ナガセケムテックス（株）社製）；エポライトＭ－１２３０、エポライト４０Ｅ、エポライト１００Ｅ、エポライト２００Ｅ、エポライト４００Ｅ、エポライト７０Ｐ、エポライト２００Ｐ、エポライト４００Ｐ、エポライト１５００ＮＰ、エポライト１６００、エポライト８０ＭＦ、エポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）社製）、アデカグリシロールＥＤ－５０３、アデカグリシロールＥＤ－５０３Ｇ、アデカグリシロールＥＤ－５０６、アデカグリシロールＥＤ－５２３Ｐ、アデカレジンＥＰ－４０８８Ｓ（（株）ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。

　芳香族エポキシ化合物（Ａ２）とは、芳香環を含むエポキシ化合物かつ後述する脂環式エポキシ化合物（Ａ３）に該当しないエポキシ化合物を指し、芳香族エポキシ化合物の具体例としては、フェノール、クレゾール、ブチルフェノール等、少なくとも１個の芳香族環を有する多価フェノールまたは、そのアルキレンオキサイド付加物のモノ／ポリグリシジルエーテル化物、例えばビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、または、これらにさらにアルキレンオキサイドを付加した化合物のグリシジルエーテル化物やエポキシノボラック樹脂；レゾルシノールやハイドロキノン、カテコール等の２個以上のフェノール性水酸基を有する芳香族化合物のモノ／ポリグリシジルエーテル化物；フェニルジメタノールやフェニルジエタノール、フェニルジブタノール等のアルコール性水酸基を２個以上有する芳香族化合物のグリシジルエーテル化物；フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸等の２個以上のカルボン酸を有する多塩基酸芳香族化合物のポリグリシジルエステル、安息香酸のグリシジルエステル、スチレンオキサイドまたはジビニルベンゼンのエポキシ化物等が挙げられる。

　芳香族エポキシ化合物（Ａ２）としては、市販品のものを用いることができ、例えば、デナコールＥＸ－１４６、デナコールＥＸ－１４７、デナコールＥＸ－２０１、デナコールＥＸ－２０３、デナコールＥＸ－７１１、デナコールＥＸ－７２１、オンコートＥＸ－１０２０、オンコートＥＸ－１０３０、オンコートＥＸ－１０４０、オンコートＥＸ－１０５０、オンコートＥＸ－１０５１、オンコートＥＸ－１０１０、オンコートＥＸ－１０１１、オンコート１０１２（ナガセケムテックス（株）社製）；オグソールＰＧ－１００、オグソールＥＧ－２００、オグソールＥＧ－２１０、オグソールＥＧ－２５０（大阪ガスケミカル（株）社製）；ＨＰ４０３２、ＨＰ４０３２Ｄ、ＨＰ４７００（ＤＩＣ（株）社製）；ＥＳＮ－４７５Ｖ（新日鉄住金化学（株）社製）；エピコートＹＸ８８００（三菱化学（株）社製）；マープルーフＧ－０１０５ＳＡ、マープルーフＧ－０１３０ＳＰ（日油（株）社製）；エピクロンＮ－６６５、エピクロンＨＰ－７２００（ＤＩＣ（株）社製）；ＥＯＣＮ－１０２０、ＥＯＣＮ－１０２Ｓ、ＥＯＣＮ－１０３Ｓ、ＥＯＣＮ－１０４Ｓ、ＸＤ－１０００、ＮＣ－３０００、ＥＰＰＮ－５０１Ｈ、ＥＰＰＮ－５０１ＨＹ、ＥＰＰＮ－５０２Ｈ、ＮＣ－７０００Ｌ（日本化薬（株）社製）；アデカレジンＥＰ－４０００、アデカレジンＥＰ－４００５、アデカレジンＥＰ－４１００、アデカレジンＥＰ－４９０１（（株）ＡＤＥＫＡ社製）；ＴＥＣＨＭＯＲＥ　ＶＧ－３１０１Ｌ（プリンテック社製）等が挙げられる。これら芳香族エポキシ化合物としては、多官能のものが、硬化性に優れるため好ましい。

　脂環式エポキシ化合物（Ａ３）とは、飽和環にスペーサーを介さず直接オキシラン環が結合しているものをさし、脂環式エポキシ化合物（Ａ３）の具体例としては、少なくとも１個の脂環式環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル化物またはシクロヘキセンやシクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイドやシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。例えば、水素添加ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－１－メチルシクロヘキシル－３，４－エポキシ－１－メチルヘキサンカルボキシレート、６－メチル－３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－６－メチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－３－メチルシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－３－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－５－メチルシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－５－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサン）、プロパン－２，２－ジイル－ビス（３，４－エポキシシクロヘキサン）、２，２－ビス（３，４－エポキシシクロヘキシル）プロパン、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ－２－エチルヘキシル、１－エポキシエチル－３，４－エポキシシクロヘキサン、１，２－エポキシ－２－エポキシエチルシクロヘキサン、α－ピネンオキシド、リモネンジオキシド等が挙げられる。これらの中でも、脂環式エポキシ化合物（Ａ３）としては、水素添加ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレートまたは３，４－エポキシ－１－メチルシクロヘキシル－３，４－エポキシ－１－メチルヘキサンカルボキシレートが、密着性向上の観点から好ましい。

　脂環式エポキシ化合物（Ａ３）としては、市販品のものを用いることができ、例えば、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０００、セロキサイド３０００（（株）ダイセル社製）等が挙げられる。

　オキセタン化合物（Ａ４）としては、３，７－ビス（３－オキセタニル）－５－オキサ－ノナン、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，２－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、１，４－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ヘキサン等の二官能脂肪族オキセタン化合物、３－エチル－３－［（フェノキシ）メチル］オキセタン、３－エチル－３－（ヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（ヒドロキシメチル）オキセタン、３－エチル―３－（クロロメチル）オキセタン等の一官能オキセタン化合物等が挙げられる。これらは１種単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

　オキセタン化合物（Ａ４）としては、アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＥＸＯＨ、ＰＯＸ、ＯＸＡ、ＯＸＴ－１０１、ＯＸＴ－２１１、ＯＸＴ－２１２（東亞合成（株）社製）、エタナコールＯＸＢＰ、ＯＸＴＰ（宇部興産（株）社製）等が挙げられる。

　ビニルエーテル化合物（Ａ５）としては、例えば、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ｎ－ドデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、２－クロロエチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、１，６－シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、１，４－ブタンジオールジビニルエーテル、１，６－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等が挙げられる。

　本発明の硬化性組成物においては、（Ａ）成分において、脂肪族エポキシ化合物（Ａ１）、芳香族エポキシ化合物（Ａ２）、脂環式エポキシ化合物（Ａ３）、オキセタン化合物（Ａ４）およびビニルエーテル化合物（Ａ５）の使用割合は、脂肪族エポキシ化合物（Ａ１）１０～５０質量％、芳香族エポキシ化合物（Ａ２）０～２０質量％、脂環式エポキシ化合物（Ａ３）０～２０質量％、オキセタン化合物（Ａ４）０～５０質量％、ビニルエーテル化合物（Ａ５）０～１０質量％であるのが、粘度、塗工性、反応性および硬化性が向上するので好ましい。

＜カチオン重合開始剤（Ｂ）＞
　本発明の硬化性組成物に使用する（Ｂ）成分は、エネルギー線照射または加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出させることが可能な化合物であればどのようなものでも差し支えないが、好ましくは、エネルギー線の照射によってルイス酸を放出するオニウム塩である複塩、またはその誘導体である。かかる化合物の代表的なものとしては、下記一般式、
［Ａ］^ｒ＋［Ｂ］^ｒ－
で表される陽イオンと陰イオンの塩を挙げることができる。

　ここで陽イオン［Ａ］^ｒ＋はオニウムであることが好ましく、その構造は、例えば、下記一般式、
［（Ｒ^２）_ａＱ］^ｒ＋
で表すことができる。

　さらに、ここで、Ｒ^２は炭素原子数が１～６０であり、炭素原子以外の原子をいくつ含んでいてもよい有機の基である。ａは１～５なる整数である。ａ個のＲ^２は各々独立で、同一でも異なっていてもよい。また、少なくとも１つは、芳香環を有する上記のような有機基であることが好ましい。ＱはＳ，Ｎ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｏ，Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌ，Ｆ，Ｎ＝Ｎからなる群から選ばれる原子あるいは原子団である。また、陽イオン［Ａ］^ｒ＋中のＱの原子価をｑとしたとき、ｒ＝ａ－ｑなる関係が成り立つことが必要である（ただし、Ｎ＝Ｎは原子価０として扱う）。

　また、陰イオン［Ｂ］^ｒ－は、ハロゲン化物錯体であることが好ましく、その構造は、例えば、下記一般式、
［ＬＹ_ｂ］^ｒ－
で表すことができる。

　さらに、ここで、Ｌはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属（Ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｆｅ，Ｓｎ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｃａ，Ｉｎ，Ｔｉ，Ｚｎ，Ｓｃ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｏ等である。Ｙはハロゲン原子である。ｂは３～７の整数である。また、陰イオン［Ｂ］^ｒ－中のＬの原子価をｐとしたとき、ｒ＝ｂ－ｐなる関係が成り立つことが必要である。

　一般式の陰イオン［ＬＹ_ｂ］^ｒ－の具体例としては、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラ（３，５－ジフルオロ－４－メトキシフェニル）ボレート、テトラフルオロボレート（ＢＦ_４）^－、ヘキサフルオロフォスフェート（ＰＦ_６）^－、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ_６）^－、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ_６）^－、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ_６）^－等を挙げることができる。

　また、陰イオン［Ｂ］^ｒ－は、下記一般式、
［ＬＹ_ｂ－１（ＯＨ）］^ｒ－
で表される構造のものも好ましく用いることができる。Ｌ，Ｙ，ｂは上記と同様である。また、その他用いることのできる陰イオンとしては、過塩素酸イオン（ＣｌＯ_４）^－、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ_３ＳＯ_３）^－、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ_３）^－、トルエンスルホン酸陰イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸陰イオン、カンファースルフォネート、ノナフロロブタンスルフォネート、ヘキサデカフロロオクタンスルフォネート、テトラアリールボレート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等を挙げることができる。

　本発明では、このようなオニウム塩の中でも、下記の（ｉ）～（ｉｉｉ）の芳香族オニウム塩を使用することが特に好ましい。本発明の硬化性組成物においては、これらのうち１種を単独で用いてもよく、または２種以上を併用してもよい。

　（ｉ）フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、４－メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－メチルフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩

　（ｉｉ）ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリルクミルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等のジアリールヨードニウム塩

　（ｉｉｉ）下記群Ｉまたは群ＩＩで表されるスルホニウムカチオンとヘキサフルオロアンチモンイオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートイオン等のスルホニウム塩

＜群Ｉ＞

＜群ＩＩ＞

　また、その他好ましいものとしては、（η^５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）〔（１，２，３，４，５，６－η）－（１－メチルエチル）ベンゼン〕－アイアン－ヘキサフルオロホスフェート等の鉄－アレーン錯体や、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム、トリス（エチルアセトナトアセタト）アルミニウム、トリス（サリチルアルデヒダト）アルミニウム等のアルミニウム錯体とトリフェニルシラノール等のシラノール類との混合物；チオフェニウム塩、チオラニウム塩、ベンジルアンモニウム、ピリジニウム塩、ヒドラジニウム塩等の塩；ジエチレントリアミン、トリエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン等のポリアルキルポリアミン類；１，２－ジアミノシクロヘキサン、１，４－ジアミノ－３，６－ジエチルシクロヘキサン、イソホロンジアミン等の脂環式ポリアミン類；ｍ－キシリレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族ポリアミン類；上記ポリアミン類と、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ－ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦ－ジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類またはカルボン酸のグリシジルエステル類等の各種エポキシ樹脂とを常法によって反応させることによって製造されるポリエポキシ付加変性物；上記有機ポリアミン類と、フタル酸、イソフタル酸、ダイマー酸等のカルボン酸類とを常法によって反応させることによって製造されるアミド化変性物；上記ポリアミン類とホルムアルデヒド等のアルデヒド類およびフェノール、クレゾール、キシレノール、第三ブチルフェノール、レゾルシン等の核に少なくとも一個のアルデヒド化反応性場所を有するフェノール類とを常法によって反応させることによって製造されるマンニッヒ化変性物；多価カルボン酸（シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、２－メチルコハク酸、２－メチルアジピン酸、３－メチルアジピン酸、３－メチルペンタン二酸、２－メチルオクタン二酸、３，８－ジメチルデカン二酸、３，７－ジメチルデカン二酸、水添ダイマー酸、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸類；フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸類；シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸類；トリメリト酸、トリメシン酸、ひまし油脂肪酸の三量体等のトリカルボン酸類；ピロメリット酸等のテトラカルボン酸類等）の酸無水物；ジシアンジアミド、イミダゾール類、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル、アミンイミド等を挙げることができる。

　これらの中でも、実用面と光感度向上の観点から、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、鉄－アレーン錯体を用いることが好ましく、下記構造を有する芳香族スルホニウム塩を、カチオン重合開始剤（Ｂ）１００質量％に対して、少なくとも０．１質量％以上含有することがさらに好ましい。

　ここで、式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９およびＲ^２０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基または炭素原子数２～１０のエステル基を表し、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３およびＲ^２４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ^２５は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０のアルキル基または下記化学式（Ａ）～（Ｃ）より選択されるいずれかの置換基を表し、Ａｎ^ｑ－はｑ価の陰イオンを表し、ｐは電荷を中性にする係数を表す。

　ここで、式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８およびＲ^３９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基または炭素原子数２～１０のエステル基を表し、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３およびＲ^３４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数１～１０のアルキル基を表す。

　一般式（１）で表される化合物において、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８およびＲ^３９で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。

　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８およびＲ^３９で表される炭素原子数１～１０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、ｔ－アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、エチルオクチル、２－メトキシエチル、３－メトキシプロピル、４－メトキシブチル、２－ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、３－メトキシブチル、２－メチルチオエチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ジフルオロエチル、トリクロロエチル、ジクロロジフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、デカフルオロペンチル、トリデカフルオロヘキシル、ペンタデカフルオロヘプチル、ヘプタデカフルオロオクチル、メトキシメチル、１，２－エポキシエチル、メトキシエチル、メトキシエトキシメチル、メチルチオメチル、エトキシエチル、ブトキシメチル、ｔ－ブチルチオメチル、４－ペンテニルオキシメチル、トリクロロエトキシメチル、ビス（２－クロロエトキシ）メチル、メトキシシクロヘキシル、１－（２－クロロエトキシ）エチル、１－メチル－１－メトキシエチル、エチルジチオエチル、トリメチルシリルエチル、ｔ－ブチルジメチルシリルオキシメチル、２－（トリメチルシリル）エトキシメチル、ｔ－ブトキシカルボニルメチル、エチルオキシカルボニルメチル、エチルカルボニルメチル、ｔ－ブトキシカルボニルメチル、アクリロイルオキシエチル、メタクリロイルオキシエチル、２－メチル－２－アダマンチルオキシカルボニルメチル、アセチルエチル、２－メトキシ－１－プロペニル、ヒドロキシメチル、２－ヒドロキシエチル、１－ヒドロキシエチル、２－ヒドロキシプロピル、３－ヒドロキシプロピル、３－ヒドロキシブチル、４－ヒドロキシブチル、１，２－ジヒドロキシエチル等が挙げられる。

　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８およびＲ^３９で表される炭素原子数１～１０のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、ｓ－ブチルオキシ、ｔ－ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソアミルオキシ、ｔ－アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘキシルメチルオキシ、テトラヒドロフラニルオキシ、テトラヒドロピラニルオキシ、２－メトキシエチルオキシ、３－メトキシプロピルオキシ、４－メトキシブチルオキシ、２－ブトキシエチルオキシ、メトキシエトキシエチルオキシ、メトキシエトキシエトキシエチルオキシ、３－メトキシブチルオキシ、２－メチルチオエチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ等が挙げられる。

Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２６、Ｒ^２７、Ｒ^２８、Ｒ^２９、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８およびＲ^３９で表される炭素原子数２～１０のエステル基としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシ、ｔ－ブチルカルボニルオキシ、メトキシアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等が挙げられる。

　これらの中でも、実用面と光感度向上の観点から、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、鉄－アレーン錯体を用いることが好ましく、上記構造を有する芳香族スルホニウム塩を、カチオン重合開始剤（Ｂ）１００質量％に対して、少なくとも０．１質量％以上含有することがさらに好ましい。

　（Ａ）成分に対する（Ｂ）成分の使用割合は特に限定されず、本発明の目的を阻害しない範囲内で概ね通常の使用割合で使用すればよいが、例えば、（Ａ）成分１００質量部に対して、（Ｂ）成分０．００１～１５質量部、好ましくは０．１～１０質量部である。少なすぎると硬化が不十分となりやすく、多すぎると硬化物の吸水率や硬化物強度等の諸物性に悪影響を与える場合がある。

＜ラジカル硬化性成分（Ｃ）＞
　ラジカル硬化性成分（Ｃ）としては、例えば、エポキシ基およびエチレン性不飽和基を有する化合物（Ｃ１）または炭素原子数２～２０であるアルコールのアクリレートあるいは炭素原子数２～２０であるアルコールのメタクリレート（Ｃ２）が挙げられる。

　エポキシ基およびエチレン性不飽和基を有する化合物（Ｃ１）としては、例えば、エポキシアクリレートまたはエポキシメタクリレートを挙げることができ、具体的には、従来公知の芳香族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と、アクリル酸またはメタクリル酸とを反応させて得られるアクリレートである。これらのエポキシアクリレートまたはエポキシメタクリレートのうち、特に好ましいものは、アルコール類のグリシジルエーテルのアクリレートまたはメタクリレートである。

　炭素原子数２～２０であるアルコールのアクリレートまたは炭素原子数２～２０であるアルコールのメタクリレート（Ｃ２）としては、分子中に少なくとも１個の水酸基を持つ芳香族または脂肪族アルコール、およびそのアルキレンオキサイド付加体とアクリル酸またはメタクリル酸とを反応させて得られるアクリレートまたはメタクリレートが挙げられ、具体的には、２－エチルヘキシルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、イソアミルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボニルアクリレート、ベンジルアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ε－カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、イソアミルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、イソオクチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、イソボニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、１，３－ブタンジオールジメタクリレート、１，４－ブタンジオールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ε－カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が挙げられる。なお、これらのアクリレートまたはメタクリレートのうち、多価アルコールのポリアクリレート類または多価アルコールのポリメタクリレート類が特に好ましい。

　ラジカル硬化性成分（Ｃ）としては、（Ｃ１）または（Ｃ２）以外のエネルギー線照射または加熱により活性化したラジカル重合開始剤により高分子化または架橋反応する化合物を用いることもでき、例えば、アリルウレタン化合物、不飽和ポリエステル化合物、スチレン系化合物等が挙げられる。

　ラジカル硬化性成分（Ｃ）１００質量％において、エポキシ基およびエチレン性不飽和基を有する化合物（Ｃ１）および炭素原子数２～２０であるアルコールのアクリレートあるいは炭素原子数２～２０であるアルコールのメタクリレート（Ｃ２）の使用割合は、エポキシ基およびエチレン性不飽和基を有する化合物（Ｃ１）０～９９．９質量％、炭素原子数２～２０であるアルコールのアクリレートあるいは炭素原子数２～２０であるアルコールのメタクリレート（Ｃ２）０．１～１００質量％が好ましい。

＜ラジカル重合開始剤（Ｄ）＞
　ラジカル重合開始剤（Ｄ）としては、特に制限はないが、アセトフェノン系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等のケトン系化合物、オキシム系化合物等を用いることができる。

　アセトフェノン系化合物としては例えば、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、４’－イソプロピル－２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、２－ヒドロキシメチル－２－メチルプロピオフェノン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ－ターシャリブチルジクロロアセトフェノン、ｐ－ターシャリブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ－アジドベンザルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパノン－１、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン－ｎ－ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン等が挙げられる。

　ベンジル系化合物としては、ベンジル等が挙げられる。

　ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーケトン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルスルフィド等が挙げられる。

　チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、２－メチルチオキサントン、２－エチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン等が挙げられる。

　オキシム系化合物としては、特に、下記一般式（２）で表される化合物が、感度および耐熱性の点から好ましい。

　ここで、式（２）中、Ｒ^６０およびＲ^６１は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアリールアルキル基もしくは、炭素原子数２～２０の複素環基または単結合を表し、Ｒ^６２およびＲ^６３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基、Ｒ^６４、ＯＲ^６５、ＳＲ^６６、ＮＲ^６７Ｒ^６８、ＣＯＲ^６９、ＳＯＲ^７０、ＳＯ_２Ｒ^７１またはＣＯＮＲ^７２Ｒ^７３を表す。Ｒ^６０およびＲ^６１は、互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^６４、Ｒ^６５、Ｒ^６６、Ｒ^６７、Ｒ^６８、Ｒ^６９、Ｒ^７０、Ｒ^７１、Ｒ^７２およびＲ^７３は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアリールアルキル基または炭素原子数２～２０の複素環含有基を表し、Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、ＣＲ^７４Ｒ^７５、ＣＯ、ＮＲ^７６またはＰＲ^７７を表し、Ｘ^２は、単結合またはＣＯを表し、Ｒ^７４、Ｒ^７５、Ｒ^７６およびＲ^７７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基または炭素原子数７～３０のアリールアルキル基を表し、前記のアルキル基またはアリールアルキル基中のメチレン基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアン基、水酸基、カルボキシル基または複素環基で置換されていてもよく、－Ｏ－で中断されていてもよく、Ｒ^７４、Ｒ^７５、Ｒ^７６およびＲ^７７は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよい。ｈは、０～４の整数を表し、ｉは、０～５の整数を表す。

　一般式（２）の各記号で表されるアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、複素環基の例としては、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアリールアルキル基、ピロリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、ユロリジル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、２－ピロリジノン－１－イル、２－ピペリドン－１－イル、２，４－ジオキシイミダゾリジン－３－イル、２，４－ジオキシオキサゾリジン－３－イル等の複素環基挙げられる。

　その他の光ラジカル重合開始剤としては、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系化合物、ビス（シクロペンタジエニル）－ビス［２，６－ジフルオロ－３－（ピル－１－イル）］チタニウム等のチタノセン系化合物等が挙げられる。

　ラジカル重合開始剤（Ｄ）としてはとしては、市販のものを用いることができ、例えば、Ｎ－１４１４、Ｎ－１７１７、Ｎ－１９１９、ＰＺ－８０８、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（（株）ＡＤＥＫＡ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７８４（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、ＴＲ－ＰＢＧ－３０９、ＴＲ－ＰＢＧ－３１４（Ｔｒｏｎｌｙ社製）等が挙げられる。

　ラジカル硬化性成分（Ｃ）に対するラジカル重合開始剤（Ｄ）の使用割合は、ラジカル硬化性成分（Ｃ）１００質量部に対して、ラジカル重合開始剤（Ｄ）０．１～２５質量部が好ましく、より好ましくは５～２５質量部である。少なすぎると硬化が不十分となりやすく、多すぎると硬化物の吸水率や硬化物強度等の諸物性に悪影響を与える場合がある。

　カチオン硬化性成分（Ａ）とラジカル硬化性成分（Ｃ）の配合割合は、質量部換算で（Ａ）成分：（Ｃ）成分＝９５：５～５：９５が好ましい。

＜重合禁止剤（Ｅ）＞
　重合禁止剤（Ｅ）は、ラジカルやプロトンを捕捉するものであり、エチレン性不飽和化合物の重合禁止剤あるいは酸化防止剤として公知のものを用いることができる。例えば、フェノチアジン、メトキシフェノチアジン、フェニル－α－ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－ｐ－フェニレンジアミン、４，４－テトラメチルジアミノジフェニルアミン、ピペリジン、２，６－ジメチルピペリジン、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、ピペリジノオキシフリーラジカル、２，６－ジメチルピペリジノフリーラジカル、２，２，６，６－テトラメチルピペリジノフリーラジカル等のアミン類、フェノール、メトキシフェノール、ノニルフェノール、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、１，４－ベンゾキノン、ｔ－ブチルカテコール、レゾルシノール、ブチルヒドロキシトルエン、ブチルβ－ヒドロキシプロピオネート、ブチルβ－ブトキシプロピオネート、ブチルマレエート、クレゾール、ブチルヒドロキシアニソール、１，１’，１’’－二トロトリ－２－プロパノール、２，５－ジ－ｔ－ブチルヒドロキノン、１，２，４－トリヒドロキシベンゼン、２，５－ビステトラメチルブチルヒドロキノン、ロイコキニザリン、１，１－ジフェニル－２－ピクリルヒドラジン等のフェノール類、テトラエチルチウラムジスルフィド等の有機硫黄系化合物、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジブチルジチオカルバミン酸銅、アルミニウム－クペロン錯体（クペロンＡｌ）等の金属錯体類等の他、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤として知られているものが挙げられる。これらの重合禁止剤は単独あるいは２種以上を併用することができる。重合禁止剤の中でも、フェノール系酸化防止剤は、リン系酸化防止剤と比較してカチオン硬化成分に対する硬化阻害が少ないあるいはないため、密着性を維持でき、好ましい。

　フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６－ジ－ｔ－ブチル－Ｐ－クレゾール、２，６－ジフェニル－４－オクタデシロキシフェノール、ジステアリル（３，５－ジ第三ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ホスホネート、１，６－ヘキサメチレンビス〔（３，５－ジ第三ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’－チオビス（６－第三ブチル－Ｍ－クレゾール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－第三ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－エチル－６－第三ブチルフェノール）、４，４’－ブチリデンビス（６－第三ブチル－Ｍ－クレゾール）、２，２’－エチリデンビス（４，６―ジ第三ブチルフェノール）、２，２’－エチリデンビス（４－第二ブチル－６－第三ブチルフェノール）、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－第三ブチルフェニル）ブタン、１，３，５－トリス（２，６－ジメチル－３－ヒドロキシ－４－第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５－トリス（３，５－ジ第三ブチル－４－ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５－トリス（３，５－ジ第三ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２，４，６－トリメチルベンゼン、２－第三ブチル－４－メチル－６－（２－アクリロイルオキシ－３－第三ブチル－５－メチルベンジル）フェノール、ステアリル（３，５－ジ第三ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、テトラキス〔３－（３，５－ジ第三ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオン酸メチルメタン、チオジエチレングリコールビス〔（３，５－ジ第三ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６－ヘキサメチレンビス〔（３，５－ジ第三ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ビス〔３，３－ビス（４－ヒドロキシ－３－第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコールエステル、ビス〔２－第三ブチル－４－メチル－６－（２－ヒドロキシ－３－第三ブチル－５－メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，３，５－トリス〔（３，５－ジ第三ブチル－４－ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、３，９－ビス〔１，１－ジメチル－２－｛（３－第三ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、トリエチレングリコールビス〔（３－第三ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオネート等が挙げられる。

　リン系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス〔２－第三ブチル－４－（３－第三ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニルチオ）－５－メチルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６－ジ第三ブチル－４－メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６－トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）－４，４’－Ｎ－ブチリデンビス（２－第三ブチル－５－メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル－１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テトラキス（２，４－ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイト、９，１０－ジハイドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナンスレン－１０－オキサイド、２，２’－メチレンビス（４，６－第三ブチルフェニル）－２－エチルヘキシルホスファイト、２，２’－メチレンビス（４，６－第三ブチルフェニル）－オクタデシルホスファイト、２，２’－エチリデンビス（４，６－ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスファイト、トリス（２－〔（２，４，８，１０－テトラキス第三ブチルジベンゾ〔Ｄ，Ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン－６－イル）オキシ〕エチル）アミン、２－エチル－２－ブチルプロピレングリコールと２，４，６－トリ第三ブチルフェノールのホスファイト等が挙げられる。

　チオエーテル系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン酸ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類、およびペンタエリスリトールテトラ（β－アルキルメルカプトプロピオン酸）エステル類が挙げられる。

　重合禁止剤（Ｅ）としては、市販のものを用いることもでき、例えば、ＤＩＣ－ＴＢＣ（ＤＩＣ（株）社製）、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８、ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２、ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０、ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６、ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５、ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０、ＩＲＧＡＮＯＸ２４５、ＩＲＧＡＮＯＸ２５９、ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４、ＩＲＧＡＮＯＸ５６５、ＩＲＧＡＮＯＸ２９５、ＩＲＧＡＮＯＸＨＰ２２２５ＦＦ、ＩＲＧＡＮＯＸＨＰ２３４１、ＩＲＧＡＮＯＸＨＰ２９２１ＦＦ、ＩＲＧＡＦＯＳ１６８、ＩＲＧＡＳＴＡＢＵＶ１０、ＩＲＧＡＳＴＡＢＵＶ２２（ＢＡＳＦ社製）、ノンフレックスＦ、ノンフレックスＨ、ノンフレックスＤＣＤ、ノンフレックスＭＢＰ、オゾノン３５（精工化学（株）社製）、Ｑ－１３００、Ｑ－１３０１（和光純薬工業（株）社製）、アデカスタブ２１１２、アデカスタブＰＥＰ－８、アデカスタブ２６０、アデカスタブ３０１０、アデカスタブＨＰ－１０、アデカスタブ３２９Ｋ、アデカスタブＰＥＰ－２４Ｇ（（株）ＡＤＥＫＡ製）、スミライザーＧＭ、スミライザーＧＳ、スミライザーＴＰＬ－Ｒ、スミライザーＴＰＳ、スミライザーＴＰＤ（住友化学（株）社製）、Ｇｅｎｏｒａｄ１６（ＲａｈｎＡＧ社製）、Ａｎｔａｇｅ　ＢＨＴ、Ａｎｔａｇｅ　ＤＡＨ、Ａｎｔａｇｅ　ＤＢＨ、Ａｎｔａｇｅ　Ｗ－３００、Ａｎｔａｇｅ　Ｗ－４００、Ａｎｔａｇｅ　Ｗ－５００、Ａｎｔａｇｅクリスタル（川口化学工業（株）社製）等が挙げられる。

　上記重合禁止剤（Ｅ）の使用割合は、上記ラジカル硬化性成分（Ｃ）１００質量部に対して、重合禁止剤（Ｅ）が５×１０^－３～０．２質量部、好ましくは０．０５～０．１質量部である。重合禁止剤（Ｅ）が多すぎると、硬化阻害がおこって硬化が不十分となりやすく、少なすぎると、粘保存安定性が悪化して粘度が上がったり、諸物性とが両立できなくなってしまう。

＜任意のポリマー（Ｆ）＞
　本発明の硬化性組成物には、さらに、下式（Ｉ）で表される単量体から得られるポリマー、下記式（ＩＩ）で表される単量体から得られるポリマー、下記式（Ｉ）で表される単量体から選択される二種以上の単量体から得られるポリマー、下記式（ＩＩ）で表される単量体から選択される二種以上の単量体からな得られるポリマー、または下記式（Ｉ）で表される単量体および下記式（ＩＩ）で表される単量体から得られるポリマーの群より選択される、重量平均分子量がポリスチレン換算で１０００～３００００であるポリマー（Ｆ）（以下、ポリマー（Ｆ）ともいう）を加えることができる。

　ここで、式（Ｉ）中、Ｘ^３は、炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数１～７のアルコキシ基、炭素原子数６～１２のアリール基、炭素原子数６～１２のアリールオキシ基もしくは炭素原子数６～１０の脂環式炭化水素基、またはこれらの基中の水素原子が、エポキシ基、オキセタン基、水酸基およびカルボキシル基からなる群より選択される１種以上の基で置換されたものである。

　ここで、式（ＩＩ）中、Ｒ^１は、水素原子、メチル基またはハロゲン原子を表し、Ｘ^４は、炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数６～１２のアリール基もしくは炭素原子数６～１０の脂環式炭化水素基、またはこれらの基中の水素原子が、エポキシ基、オキセタン基、水酸基およびカルボキシル基からなる群より選択される１種以上の基で置換されたものである。

　上記式（Ｉ）中のＸ^３で表される炭素原子数１～７のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、アミル、ｉｓｏ－アミル、ｔｅｒｔ－アミル、ヘキシル、２－ヘキシル、３－ヘキシル、シクロヘキシル、４－メチルシクロヘキシル、ヘプチル、２－ヘプチル、３－ヘプチル、ｉｓｏ－ヘプチル、ｔｅｒｔ－ヘプチル等が挙げられる。これらの中でも、炭素原子数１～４のアルキル基、または、エポキシ基、オキセタン基、水酸基およびカルボキシル基からなる群より選択される１種以上の基で部分的に置換された炭素原子数１～４のアルキル基が、硬化性の点から好ましい。

　上記式（Ｉ）中のＸ^３で表される炭素原子数１～７のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ｉｓｏ－プロピルオキシ、ブチルオキシ、ｓｅｃ－ブチルオキシ、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ、ｉｓｏ－ブチルオキシ、アミルオキシ、ｉｓｏ－アミルオキシ、ｔｅｒｔ－アミルオキシ、ヘキシルオキシ、２－ヘキシルオキシ、３－ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、４－メチルシクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、２－ヘプチルオキシ、３－ヘプチルオキシ、ｉｓｏ－ヘプチルオキシ、ｔｅｒｔ－ヘプチルオキシ等が挙げられる。これらの中でも、炭素原子数１～４のアルキル基、または、エポキシ基、オキセタン基、水酸基およびカルボキシル基からなる群より選択される１種以上の基で部分的に置換された炭素原子数１～４のアルコキシ基が、硬化性の点から好ましい。

　上記式（Ｉ）中のＸ^３で表される炭素原子数６～１２のアリール基としては、フェニル、メチルフェニル、ナフチル等が挙げられる。

　上記式（Ｉ）中のＸ^３で表される炭素原子数６～１２のアリールオキシ基としては、フェニルオキシ、メチルフェニルオキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。

　上記式（Ｉ）中のＸ^３で表される炭素原子数６～１０の脂環式炭化水素基としては、シクロへキシル、メチルシクロヘキシル、ノルボルニル、ビシクロペンチル、ビシクロオクチル、トリメチルビシクロヘプチル、トリシクロオクチル、トリシクロデカニル、スピロオクチル、スピロビシクロペンチル、アダマンチル、イソボルニル等が挙げられる。

　上記式（Ｉ）において、Ｘ^３の一部がエポキシ基またはオキセタン基で置換されている場合における、式（Ｉ）で表される単量体としては、例えば、下記式（３）～（５）で表される単量体が挙げられる。

　ここで、式（３）中、Ｒ^３は、水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基を表し、ｍは、１～６の整数である。

　ここで、式（４）中、Ｒ^４は、水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基を表し、ｎは、１～６の整数である。

　ここで、式（５）中、Ｒ^５は、水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基を表し、ｓは、１～６の整数である。

　上記式（ＩＩ）において、Ｒ^１で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。

　上記式（ＩＩ）において、Ｘ^４の一部がエポキシ基またはオキセタン基で置換されている場合における、式（ＩＩ）で表される単量体としては、下記式（６）～（８）で表されるものが挙げられる。

　ここで、式（６）中、Ｒ^１は、上記式（ＩＩ）と同じであり、Ｒ^６は、水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基を表し、ｔは、１～６の整数である。

　ここで、式（７）中、Ｒ^１は、上記式（ＩＩ）と同じであり、Ｒ^７は、水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基を表し、ｑは、１～６の整数である。

　ここで、式（８）中、Ｒ^１は、上記式（ＩＩ）と同じであり、Ｒ^８は、水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基を表し、ｙは、１～６の整数である。

　上記ポリマー（Ｆ）において、ポリマーを構成する単量体の使用割合は、上記Ｘが、エポキシ基、オキセタン基、水酸基およびカルボキシル基からなる群より選択される１種以上の基で置換された炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数６～１２のアリール基もしくは炭素原子数６～１０の脂環式炭化水素基である場合における、上記（Ｉ）または（ＩＩ）で表される単量体が１０～１００質量％となるように用いるのが、接着性が向上するので好ましい。

　本発明の硬化性組成物において、上記カチオン硬化性成分（Ａ）およびラジカル硬化性成分（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、上記ポリマー（Ｆ）が１～２０質量部であると、硬化物の硬化性および接着性がよいので好ましい。

＜その他の成分＞
　本発明の硬化性組成物には、必要に応じて、増感剤および／または増感助剤を用いることができる。増感剤は、カチオン重合開始剤（Ｂ）が示す極大吸収波長よりも長い波長に極大吸収を示し、カチオン重合開始剤（Ｂ）による重合開始反応を促進させる化合物である。また増感助剤は、増感剤の作用を一層促進させる化合物である。

　増感剤および増感助剤としては、アントラセン系化合物、ナフタレン系化合物等が挙げられる。

　アントラセン系化合物としては、例えば、下記式（９）で表されるものが挙げられる。

　ここで、式（９）中、Ｒ^１０１およびＲ^１０２は、各々独立に水素原子、炭素原子数１～６のアルキル基または炭素原子数２～１２のアルコキシアルキル基を表し、Ｒ^１０３は水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基を表す。

　上記式（９）で表されるアントラセン系化合物の具体例を挙げると、次のような化合物がある。

　９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジプロポキシアントラセン、９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、９，１０－ジペンチルオキシアントラセン、９，１０－ジヘキシルオキシアントラセン、９，１０－ビス（２－メトキシエトキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－エトキシエトキシ）アントラセン、９，１０－ビス（２－ブトキシエトキシ）アントラセン、９，１０－ビス（３－ブトキシプロポキシ）アントラセン、２－メチル－または２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、２－メチル－または２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、２－メチル－または２－エチル－９，１０－ジプロポキシアントラセン、２－メチル－または２－エチル－９，１０－ジイソプロポキシアントラセン、２－メチル－または２－エチル－９，１０－ジブトキシアントラセン、２－メチル－または２－エチル－９，１０－ジペンチルオキシアントラセン、２－メチル－または２－エチル－９，１０－ジヘキシルオキシアントラセン等。

　ナフタレン系化合物としては、例えば、下記式（１０）で表されるものが挙げられる。

　ここで、式（１０）中、Ｒ^１０４およびＲ^１０５は各々独立に炭素原子数１～６のアルキル基を表す。

　上記式（１０）で表されるナフタレン系化合物の具体例を挙げると、次のような化合物がある。

　４－メトキシ－１－ナフトール、４－エトキシ－１－ナフトール、４－プロポキシ－１－ナフトール、４－ブトキシ－１－ナフトール、４－ヘキシルオキシ－１－ナフトール、１，４－ジメトキシナフタレン、１－エトキシ－４－メトキシナフタレン、１，４－ジエトキシナフタレン、１，４－ジプロポキシナフタレン、１，４－ジブトキシナフタレン等。

　増感剤および増感助剤の使用割合は特に限定されず、本発明の目的を阻害しない範囲内で概ね通常の使用割合で使用すればよいが、例えば、カチオン硬化性成分（Ａ）およびラジカル硬化性成分（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、増感剤および増感助剤それぞれ０．１～３質量部であるのが、硬化性向上の観点から好ましい。

　本発明の硬化性組成物には、必要に応じてシランカップリング剤を用いることができる。シランカップリング剤としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等のアルキル官能性アルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン等のアルケニル官能性アルコキシシラン、３－メタクリロキシブロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシブロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、２－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、Ｎ－β（アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－フェニル－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシラン、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラノルマルブトキシド等のチタンアルコキシド類、チタンジオクチロキシビス（オクチレングリコレート）、チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）等のチタンキレート類、ジルコウニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート等のジルコニウムキレート類、ジルコニウムトリブトキシモノステアレート等のジルコニウムアシレート類、メチルトリイソシアネートシラン等のイソシアネートシラン類等を用いることができる。

　シランカップリング剤の使用量は、特に限定されないが、通常、硬化性組成物中の固形物の全量１００質量部に対して、０．０１～２０質量部の範囲である。

　本発明の硬化性組成物においては、特に制限されず通常用いられる（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）および（Ｅ）の各成分を溶解または分散しえる溶媒を用いることができ、例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸－ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル、テキサノール等のエステル系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、イソ－またはｎ－プロパノール、イソ－またはｎ－ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；エチレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、エトキシエチルプロピオネート等のエーテルエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等のＢＴＸ系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；テレピン油、Ｄ－リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油；ミネラルスピリット、スワゾール＃３１０（コスモ松山石油（株））、ソルベッソ＃１００（エクソン化学（株））等のパラフィン系溶媒；四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、１，２－ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒；クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒；プロピレンカーボネート、カルビトール系溶媒、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられ、これらの溶媒は１種または２種以上の混合溶媒として使用することができる。

　また、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて、ポリオール、無機フィラー、有機フィラー、顔料、染料等の着色剤、消泡剤、増粘剤、界面活性剤、レべリング剤、難燃剤、チクソ剤、希釈剤、可塑剤、安定剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、潜在性添加剤、静電防止剤、流動調整剤、接着促進剤等の各種樹脂添加物等を添加することができる。

　本発明の硬化性組成物は、硬化性、接着性、液保存安定性が向上するので水分量が５質量部以下であることが好ましく、３質量部以下であることがさらに好ましい。水分が多すぎると、白濁したり成分が析出したりする恐れがあるので好ましくない。

　本発明の硬化性組成物は、ロールコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、支持基体上に適用することができる。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。

　支持基体の材料としては、特に制限されず通常用いられるものを使用することができ、例えば、ガラス等の無機材料；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロースエステル；ポリアミド；ポリイミド；ポリウレタン；エポキシ樹脂；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ－１，４－シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン－１，２－ジフェノキシエタン－４，４’－ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリスチレン；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン；ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物；ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸エステル等のアクリル系樹脂；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテルイミド；ポリオキシエチレン、ノルボルネン樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等の高分子材料が挙げられる。なお、支持基体に、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の表面活性化処理を行ってもよい。

　本発明の硬化性組成物をエネルギー線の照射により硬化させる場合、エネルギー線としては、紫外線、電子線、Ｘ線、放射線、高周波等を挙げることができ、紫外線が経済的に最も好ましい。紫外線の光源としては、紫外線レーザー、水銀ランプ、キセノンレーザ、メタルハライドランプ等が挙げられる。

　本発明の硬化性組成物を加熱により硬化させる場合の条件は、７０～２５０℃で１～１００分である。プレベイク（ＰＡＢ；Ｐｒｅ　ａｐｐｌｉｅｄ　ｂａｋｅ）した後、加圧して、ポストベイク（ＰＥＢ；Ｐｏｓｔ　ｅｘｐｏｓｕｒｅ　ｂａｋｅ）してもよいし、異なる数段階の温度でベイクしてもよい。

　加熱条件は各成分の種類および配合割合によって異なるが、例えば、７０～１８０℃で、オーブンなら５～１５分間、ホットプレートなら１～５分間である。その後、塗膜を硬化させるために１８０～２５０℃、好ましくは２００～２５０℃で、オーブンなら３０～９０分間、ホットプレートなら５～３０分間加熱処理することによって硬化膜を得ることができる。

　本発明の硬化性組成物およびその硬化物の具体的な用途としては、接着剤、偏光板用接着剤、メガネ、撮像用レンズに代表される光学材料、塗料、コーティング剤、ライニング剤、インキ、レジスト、液状レジスト、印刷版、カラーテレビ、ＰＣモニタ、携帯情報端末、デジタルカメラ、有機ＥＬ、タッチパネル等の表示素子、絶縁ワニス、絶縁シート、積層板、プリント基盤、半導体装置用・ＬＥＤパッケージ用・液晶注入口用・有機ＥＬ用・光素子用・電気絶縁用・電子部品用・分離膜用等の封止剤、成形材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目止め剤、半導体用・太陽電池用等のパッシベーション膜、層間絶縁膜、保護膜、液晶表示装置のバックライトに使用されるプリズムレンズシート、プロジェクションテレビ等のスクリーンに使用されるフレネルレンズシート、レンチキュラーレンズシート等のレンズシートのレンズ部、またはこのようなシートを用いたバックライト等、マイクロレンズ等の光学レンズ、光学素子、光コネクター、光導波路、光学的造形用注型剤等を挙げることができる。

　本発明の表示装置としては、透明支持体に、必要に応じて下塗り層、反射防止層、偏光素子層、位相差層、複屈折率層、光散乱層、ハードコート層、潤滑層、保護層等の各層を設けたものが挙げられ、各層に本発明の硬化物からなるフィルムを用いることができる。

　以下、本発明の硬化性組成物およびこの硬化性組成物を硬化して得られる硬化物に関し、実施例および比較例を用いてより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例および比較例では部は質量部を意味する。

［実施例１～８、比較例１～３］
　下記の［表１］～［表２］に示す配合で各成分を十分に混合して、各硬化性組成物を調製した。得られた各硬化性組成物につき、下記の手順で粘度、接着性、ガラス転移温度（Ｔｇ）および８０℃における弾性率を測定した。得られた結果を表１、２に併記する。

　カチオン硬化性成分（Ａ）としては下記の化合物Ａ１－１、Ａ１－２、Ａ３－１およびＡ４－１を用いた。
　化合物Ａ１－１：１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
　化合物Ａ１－２：２－エチルヘキシルグリシジルエーテル
　化合物Ａ３－１：セロキサイド２０２１Ｐ（（株）ダイセル社製）
　化合物Ａ４－１：アロンオキセタンＯＸＴ－２２１（オキセタン：東亞合成（株）社製）

　カチオン重合開始剤（Ｂ）としては下記の化合物Ｂ－１を用いた。
　化合物Ｂ－１：下記の２化合物の混合物のプロピレンカーボネート５０％溶液

　ラジカル硬化性成分（Ｃ）としては下記の化合物Ｃ２－１を用いた。
　化合物Ｃ２－１：１，６－ヘキサンジオールジアクリレート

　ラジカル重合開始剤（Ｄ）としては下記の化合物Ｄ１－１を用いた。
　化合物Ｄ－１：イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）

　重合禁止剤（Ｅ）としては下記の化合物Ｅ－１～Ｅ－４を用いた。
　化合物Ｅ－１：ＡＯ－６０（（株）ＡＤＥＫＡ社製酸化防止剤）
　化合物Ｅ－２：ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）
　化合物Ｅ－３：ヒドロキノン（ＨＱ）
　化合物Ｅ－４：トリフェニルホスファイト

　ポリマー（Ｆ）としては下記の化合物Ｆ－１を用いた。
　化合物Ｆ－１：メチルメタクリレート７５質量部とグリシジルメタクリレート　２５質量部の共重合体（重量平均分子量８０００）

（粘度）
　得られた各硬化性組成物を、それぞれ２５℃においてＥ型粘度計で粘度を測定した。

（接着性）
　得られた各硬化性組成物を、一枚のＰＭＭＡフィルム（住友化学（株）製：テクノロイ１２５Ｓ００１）にそれぞれ塗布した後、もう一枚のコロナ放電処理を施したＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー、日本ゼオン（株）製：品番ゼオノアフィルム１４－０６０）フィルムとラミネーターを用いて貼り合わせ、無電極紫外光ランプを用いて１０００ｍＪ／ｃｍ^２に相当する光をＣＯＰフィルム越しに照射して接着して試験片を得た。得られた試験片につき、９０度ピール試験を行った。

（Ｔｇ、８０℃弾性率）
　得られた各硬化性組成物を、それぞれＰＥＴフィルム上にバーコーターで３０μｍの厚さに塗布し、メタルハライドランプを用いて３０００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーを照射した。２４時間後にフィルムから硬化物を取り出し、（株）日立ハイテクサイエンス製の粘弾性測定装置（ＤＭＡ７１００）を用いＴｇを測定した。

　［表１］、［表２］より、本発明の硬化性組成物は、比較例の硬化性組成物に比べて重合禁止剤（Ｅ）の含有量が少ないため低粘度であり、その硬化物の接着性および弾性率に優れることが明らかである。

Claims

　カチオン硬化性成分（Ａ）と、カチオン重合開始剤（Ｂ）と、ラジカル硬化性成分（Ｃ）と、ラジカル重合開始剤（Ｄ）と、重合禁止剤（Ｅ）と、を含有し、
　前記ラジカル硬化性成分（Ｃ）１００質量部に対して、前記重合禁止剤（Ｅ）が５×１０^－３～０．２質量部含有されてなることを特徴とする硬化性組成物。
　前記重合禁止剤（Ｅ）が、フェノール化合物である請求項１に記載の硬化性組成物。
　請求項１記載の硬化性組成物を、活性エネルギー線の照射により硬化させることを特徴とする硬化性組成物の硬化方法。
　請求項２記載の硬化性組成物を、活性エネルギー線の照射により硬化させることを特徴とする硬化性組成物の硬化方法。
　請求項１記載の硬化性組成物を、加熱により硬化させることを特徴とする硬化性組成物の硬化方法。
　請求項２記載の硬化性組成物を、加熱により硬化させることを特徴とする硬化性組成物の硬化方法。
　請求項１記載の硬化性組成物からなることを特徴とする硬化物。
　請求項２記載の硬化性組成物からなることを特徴とする硬化物。