WO2005078281A1

WO2005078281A1 - 真空装置

Info

Publication number: WO2005078281A1
Application number: PCT/JP2005/002151
Authority: WO
Inventors: Tadahiro Ohmi
Original assignee: Tadahiro Ohmi
Priority date: 2004-02-17
Filing date: 2005-02-14
Publication date: 2005-08-25
Also published as: US20080206072A1; TW200537025A; JP4633370B2; JP2005232977A

Abstract

　半導体製造分野等に用いられる、消費電力を抑制することができる真空装置を提供する。　ガス導入口とガス排出口を備えた真空容器１０、１１、１２、１３、１４、および１５と、真空容器内部を減圧を減圧にしまたは減圧状態に保つ少なくとも１段の真空ポンプと、真空ポンプのうちの最後段の真空ポンプ４ｂ、５ｂ、６ｂ、７ｂ、８ｂ、および９ｂの吐出ポートに接続された、入力側を減圧する能力を持つコンプレッサ４ｃ、５ｃ、６ｃ、７ｃ、８ｃ、および９ｃとを有している。

Description

明細書

真空装置

技術分野

[0001] 本発明は、真空装置に関し、特に、半導体装置やフラットパネル表示装置等の製造分野等において用いられる真空装置に関する。

背景技術

[0002] 半導体製造分野のほか、多くの産業分野で、真空装置が用いられている。

[0003] 真空装置は、一般的に、真空容器と、前記真空容器内部を真空あるいは減圧状態に保つ真空ポンプとを備えて、る。

[0004] そして、真空装置は、クリーンルーム内に配置されると共に、真空容器内に、所定の処理ガスを導入、排気しながら、所定の処理を行うように構成されている。

[0005] この種の、半導体デバイス製造装置の製造分野に用いられる複数段の真空ポンプを有する真空装置は例えば、特許文献 1に開示されて 1ヽる。

[0006] この種の従来の真空装置は、反応チャンバ内部を減圧あるいは真空状態になすために、反応チャンバに第 1の真空ポンプとして高真空ポンプを接続し、高真空ポンプの後段に、第 2の真空ポンプとしてブースターポンプおよび第 3の真空ポンプとしてノックポンプをそれぞれ配置してヽる。

[0007] 高真空ポンプとして一般には到達圧力（10— ⁷Torr以下）の分子流領域で作動する高真空ポンプが用いられている。具体的には、高真空ポンプとしては、一般にターボ分子ポンプある、はねじ溝ポンプが用いられる。

[0008] ターボ分子ポンプならびにねじ溝ポンプは、一般に、小型のものでも排気速度は大きいものの、許容背圧が ITorr以下（具体的には 0. 5Torr以下）と小さい。このため

、高真空ポンプの後段に、到達圧力が比較的低いものの、比較的低い背圧で作動する中、低真空ポンプが一一二段設けられている。

[0009] 例えば、高真空ポンプの後段に二段の真空ポンプが設けられる場合には、高真空ポンプの後段に中真空ポンプとしてブースターポンプ等が設けられ、さらに、ブースターポンプの後段に、到達圧力が低いものの、比較的低い背圧で作動する低真空ポンプとして、ノックポンプ (ルーツ型バックポンプ等）が設けられる。

[0010] 多くの場合、反応チャンバから排気されたガスは廃棄されるが、特にクリプトンゃキセノン等の希ガスをプラズマ励起に用いた場合などは、高価な希ガスを回収することが通常行われている。その場合、ノックポンプの吐出側は回収装置のコンプレッサに接続される。従来の回収装置のコンプレッサは、単に入力した気体を溜めて圧力を高め、吐出するものであった。

[0011] 上述したように、半導体デバイス製造装置の製造に使用される真空装置においては、一般に一つの反応チャンバ (真空容器）に対して 2— 3台の真空ポンプが多段に用いられて、る。これら真空ポンプは互いに前述のごとく構造が異なることが多、が、一般に、いずれも電気モータによって駆動される。このため、真空ポンプの使用台数が多いこの種の真空装置においては、消費電力が大きくなる。真空装置の消費電力は、結果的に半導体デバイス製造装置の製造コストに影響するため、その省電力化が望まれる。

[0012] 特に、多段の真空ポンプのうちの最終段の低真空ポンプ (バックポンプ）には大容量が必要とされるため、その消費電力も大きい。よって、ノックポンプの電力を抑えることが、真空装置全体の消費電力低減、ひいては、半導体デバイス製造装置の製造コスト削減に効果的であり、望まれることであった。

[0013] ここで、ノックポンプの消費電力が多い理由は、一つにはその吐出側が大気であり

(大気圧は 760Torr)大気側から吸入側への逆拡散を防ぐために常時 (反応チャンバが非運転中であっても）排気運転をしていなければならないこと、第二には、吸入側からは減圧されたガスが入ってくる力その圧力を大気圧以上に高めないと該ガスが大気中には出て行かないためである。

[0014] 特許文献 1 :特開 2002— 39061号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0015] したがって、本発明の課題は、消費電力を抑制することができる真空装置ならびに真空ポンプを提供することである。課題を解決するための手段 [0016] 本発明によれば、ガス導入口とガス排出口とを備える真空容器と、前記真空容器の前記ガス排出口に接続され、前記真空容器内部を減圧にしまたは減圧状態に保つ少なくとも 1段の真空ポンプと、前記真空ポンプのうちの最終段の真空ポンプの吐出口に接続された入力側を減圧する能力を持つコンプレッサとを有することを特徴とする真空装置が得られる。

[0017] 前記真空装置容器に導入するガス量や真空ポンプの能力によって前記真空ボンプの段数は 1段または複数段とされる。

[0018] 本発明において、最終段の真空ポンプから吐出されたガスを回収再利用するためのガス回収装置がさらに設置され、前記コンプレッサは該ガス回収装置におけるガス回収用コンプレッサであることが好ましい。

[0019] 本発明ではまた、ガス導入口とガス排出口を備える減圧容器と、前記減圧容器に接続され該減圧容器内部を減圧にすると共に減圧状態を保つ機械構造の複数段の真空ポンプと、最終段の真空ポンプから吐出されたガスの回収再利用を行うためのガス回収装置とを有する真空装置において、前記最終段の真空ポンプの吐出口に接続され、該最終段の真空ポンプの減圧動作を補助し、該吐出口からの逆拡散を抑制するための減圧能力を持ったガス回収用コンプレッサを備えたことを特徴とする真空装置が得られる。

[0020] 前記減圧装置に導入するガスの供給量が所定量よりも少ない場合 (その場合には、ガス回収用コンプレッサの排気速度が相対的に大きぐ前段の真空ポンプの所定背圧以下に排気できることになる）には、前記最終段の真空ポンプが省略されて、最終段の前段の真空ポンプから吐出されたガスが前記ガス回収装置によって回収再利用され、かつ前記ガス回収用コンプレッサが前記最終段の前段の真空ポンプの吐出口に接続される。

[0021] 複数段の真空ポンプは、第 1の真空ポンプと、前記第 1の真空ポンプの後段に接続された第 2の真空ポンプと、前記第 2の真空ポンプの後段に接続された第 3の真空ポンプとからなることがあり、その場合、前記第 1の真空ポンプがターボ分子ポンプまたはねじ溝ポンプであり、前記第 2の真空ポンプがブースターポンプであり、前記第 3の真空ポンプがドライポンプであることが好まし、。導入するガスの供給量が所定量よりも少ない場合 (その場合には、ガス回収用コンプレッサの排気速度が相対的に大きく

、前段の真空ポンプの所定背圧以下に排気できることになる）には、前記第 3の真空ポンプが省略されて、前記第 2の真空ポンプに減圧能力を持つコンプレッサが接続される。

[0022] 前記最後段のポンプの吐出口とくに大気側を臨む吐出口に付加的に取り付けられるコンプレッサは真空ポンプの機能を持つもの、ということもできる。発明の効果

[0023] 本発明による真空装置においては、最終段の真空ポンプの吐出口に真空ポンプの機能を持ったあるいは減圧能力を持ったガス回収用コンプレッサを接続したので、該コンプレッサが最終段の真空ポンプの減圧動作を補助し (即ち、減圧能力のあるコンプレッサが最終段真空ポンプの吐出口の圧力を下げるので、最終段真空ポンプは吸入したガスの圧力を大気圧以上まで上げる必要がなくなる）、かつ、最終段の真空ポンプの吐出口からの逆拡散を抑制する結果、従来に比べて最終段真空ポンプの消費電力を抑制することができ、その結果として半導体デバイス製造装置等の製造コストを削減することができる。

図面の簡単な説明

[0024] [図 1]本発明の実施例による、半導体製造用の真空装置を示す概略図である。

[図 2] (a)および (b)は、本発明の実施例による真空装置における最終段の真空ボンプとしてのスクリューポンプを示す断面図である。

[図 3]本発明の作用効果を説明するための、吸入圧とポンプの消費電力との関係を比較例と共に示す図である。

符号の説明

[0025] 1、 2、 3 高真空ポンプ

4a、 5a、 6a、 7a、 8a、 9a ブースターポンプ

4b、 5b、 6b、 7b、 8b、 9b ノックポンプ

4c、 5c、 6c、 7c 8c、 9c コンプレッサ

10、 11、 12 反応チャンバ

13、 14 ロードロックチャンノ 15 トランスファチャンノ

25 雄ロータ

26 雌ロータ

27、 28 回転軸

31、 32 タイミングギア

33 水冷ジャケット

42 主ケーシング

43 端板

46、 55 副ケーシング

56 吸入口

57 吐出口

B ガス回収装置

発明を実施するための最良の形態

[0026] 以下、本発明の真空装置の実施例について、図面を参照して説明する。

実施例 1

[0027] 図 1を参照して、この真空装置は、複数の反応チャンバ 10、 11、および 12と、反応チャンバ 10、 11、および 12内部を減圧あるいは真空状態になすために、各反応チヤンバ 10、 11、および 12にそれぞれ 1台あるいは複数台配置された第 1の真空ポンプとして高真空ポンプ 1、 2、および 3と、高真空ポンプの後段に配置された、第 2の真空ポンプとしてブースターポンプ 4a、 5a、および 6aと、第 3の真空ポンプとしてのバックポンプ 4b、 5b、および 6bとを備えて!/、る。

[0028] また、前記高真空ポンプ 1、 2、および 3と、ブースターポンプ 4a、 5a、および 6aとの間には、ノレブ 22、 23、および 24が設けられている。

[0029] さらに、前記反応チャンバ 10、 11、および 12にウェハ等の被処理物を搬入するためのロードロックチャンバ 13および 14と、ロードロックチャンバ 13に搬入された被処理物を反応チャンバ 10、 11、および 12に移送し、また反応チャンバ 10、 11、および 12からロードロックチャンバ 14に移送するロボット (搬送装置）が収容されているトランスファチャンバ 15とが設けられている。 [0030] また、ロードロックチャンバ 13にはブースターポンプ 8a、バックポンプ 8b、ならびにコンプレッサ 8cが接続され、ロードロックチャンバ 14にはブースターポンプ 7a、バックポンプ 7b、ならびにコンプレッサ 7cが接続され、トランスファチャンバ 15にはブースタ一ポンプ 9aならびにバックポンプ 9bが接続され、減圧あるいは真空状態になすことができるように構成されて、る。

[0031] さらに、反応チャンバ 10、 11、および 12には、図示しないが、ガス導入口およびヒータ等の加熱手段が設けられており、加熱下で所定のガスを導入しながら、成膜等の所定の処理がなされるように構成されて、る。

[0032] 尚、図中の符号 A1は、前記高真空ポンプ 1、 2、および 3と、ブースターポンプ 4a、

5a、および 6aとの間の配管を示し、符号 A2は、反応チャンバ 10、 11、および 12と高真空ポンプ 1、 2、および 3との間の配管を示している。また図中、符号 Rはクリーンルームを示す。

[0033] この真空装置が待機した状態にあっては、トランスファチャンバ 15ならびに反応チヤンバ 10、 11、および 12は減圧あるいは真空状態に維持されている。

[0034] そして、装置外部の大気中力も複数のウェハ等の被処理物を入れたカセットがロードロツクチャンバ 13に搬入され、ロードロックチャンバ 13が真空引される。

[0035] 次に、ロードロックチャンバ 13とトランスファチャンバ 15の間のゲート弁（図示せず）が開き、被処理物搬送用ロボットが搬送アームによりカセット内の被処理物を一枚取り出してトランスファチャンバ 15に移動させる。

[0036] その後、反応チャンバ 10とトランスファチャンバ 15間のゲート弁（図示せず）が開き

、搬送アームにより被処理物を反応チャンバ 10内のステージ上に載置する。

[0037] そして、成膜処理等の所定の処理後、処理された被処理物は、搬送アームにより他の反応チャンバ 11または 12、ある!/、はロードロックチャンバ 14に搬送される。

[0038] そして処理が終了した後、最終的にロードロックチャンバ 14から外部に搬送される。

[0039] 図 1に示した装置においては、高真空ポンプとして到達圧力（10— ⁷Torr以下）の分子流領域で作動する高真空ポンプが用いられている。具体的には、高真空ポンプとしては、ターボ分子ポンプある、はねじ溝ポンプが用いられる。

[0040] ターボ分子ポンプならびにねじ溝ポンプは、一般に、小型のものでも排気速度は大きいものの、許容背圧が ITorr以下（具体的には 0. 5Torr以下）と小さい。このため、高真空ポンプの後段に、到達圧力が比較的低いものの、比較的低い背圧で作動する中、低真空ポンプが一一二段設けられている。

[0041] 例えば、高真空ポンプの後段に二段の真空ポンプが設けられる場合には、高真空ポンプの後段に中真空ポンプとしてブースターポンプ等が設けられ、さらに、ブースターポンプの後段に、到達圧力が低いものの、比較的低い背圧で作動する低真空ポンプとして、ノックポンプ (ルーツ型バックポンプ等）が設けられる。

[0042] 本発明では、図 1における最終段の真空ポンプであるバックポンプ 4b、 5b、 6b、 7b 、 8b、および 9bにはそれぞれに、ノックポンプによる減圧動作を補助し、あるいは吐出口からの逆拡散を抑制できる、真空ポンプの機能を持ったコンプレッサ 7c、 8c、および 9c、あるいは、真空ポンプの機能を持ったコンプレッサ 4c、 5c、および 6cを内蔵したガス回収装置 Bが備えられて、る。

[0043] 本発明の実施の形態 1においては、図 1のバックポンプ 4b、 5b、 6b、 7b、 8b、および 9bそれぞれ力スクリューポンプを有している。

[0044] 図 2 (a)および (b)を参照すると、スクリューポンプは、雄ロータ 25および雌ロータ 26 が主ケーシング 42に収納されており、主ケーシング 42の一端側を密封する端板 43 に取り付けられた軸受け 35および 36ならびに副ケーシング 46に取り付けられた軸受け 37および 38によって回転自在に支持されて！、る。

[0045] 雄ロータ 25および雌ロータ 26の回転軸 27および 28には、副ケーシング 46内に収納されたタイミングギア 31および 32が取り付けられており、雄ロータ 25および雌ロータ 26が互いに接触しないように両ロータ間の隙間が調整されている。また、雄ロータ 25の回転軸には、カップリングまたは変速用ギアを介してモータ Mが取り付けられており、モータ Mの回転は、雄ロータ 25に伝達され、タイミングギア 31および 32を介して雌ロータ 26を回転させるように構成されて、る。

[0046] 主ケーシング 42の一端側には、吸気口 56が設けられて副ケーシング 55が取り付けられている。また、主ケーシング 42の端板 43には、雄ロータ 25および雌ロータ 26 で圧縮された気体を吐出する吐出口 57が形成されている。

[0047] また、主ケーシング 42や圧縮気体等は気体の圧縮によって温度が上昇するため、主ケーシング 42の外側には、冷却ジャケット 33が形成されており、この冷却ジャケット 33内に水等の冷媒を流通し、主ジャケット 42や圧縮気体等が冷却されるようになつている。

[0048] このように構成されたスクリューポンプは、モータ Mによって雄ロータ 25を駆動すると、タイミングギア 31および 32によって雌ロータ 26が回転駆動される。そして、雄ロータ 25および雌ロータ 26の回転【こ伴!/、、上段のブースターポンプ 4a、 5a、 6a、 7a、 8a 、および 9a (図 1)力も気体が吸入口 56を通して雄ロータ 25、雌ロータ 26および主ケ一シング 42によって形成される作動室に吸入される。吸い込まれた気体は雄ロータ 2 5および雌ロータ 26の回転に伴い、圧縮されながら吐出口 57を通じて吐出される。

[0049] ここで、本真空装置は、スクリューポンプ 4b、 5b、 6b、 7b、 8b、および 9bの吐出口 5 7に接続され、大気圧近傍の外部力吐出口 57を通じた逆拡散を抑制し、消費電力を削減するために真空ポンプの機能を持ったコンプレッサ 7c、 8c、および 9c、あるいは、真空ポンプの機能を持ったコンプレッサ 4c、 5c、および 6cを内蔵したガス回収装置 Bを備えている。

[0050] この結果、バックポンプ 4b、 5b、 6b、 7b、 8b、および 9bの逆拡散は著しく減少され、消費電力を大きく減少できた。また、真空ポンプの機能を持ったコンプレッサ (4c、 5c、 6c、 7c、 8c、および 9c)の到達圧力は 300Torr程度まで減圧することができる。

[0051] 図 3は、図 1に示すような真空装置において、バックポンプ 4b、 5b、 6b、 7b、 8b、および 9bとしてスクリューポンプを使用した際の、スクリューポンプの吸入口 56における圧力とスクリューポンプの消費電力との関係を検証した結果を示して、る。この検証においては、バックポンプ 4b、 5b、 6b、 7b、 8b、および 9bの吐出口を真空ポンプの機能を持ったコンプレッサ 4c、 5c、 6c、 7c、 8c、および 9cで排気をした場合と、バックポンプ 4b、 5b、 6b、 7b、 8b、および 9bの吐出口に真空ポンプの機能を持ったコンプレッサを着けな、場合との測定を行った。

[0052] 図 3から明らかなように、真空ポンプの機能を持ったコンプレッサを備えたスクリューポンプは、真空ポンプの機能を持ったコンプレッサを持たな、スクリューポンプに比ベて、吸入圧に関わらず全般に消費電力が低い。特に、吸入圧が lOTorr以下では、真空ポンプの機能を持ったコンプレッサを備えたスクリューポンプは、真空ポンプの機能を持ったコンプレッサを持たないスクリューポンプに比べ、消費電力がおおよそ 5 0%削減されている。

[0053] 言!、換えれば、図 1に示すような真空装置のバックポンプ 4b、 5b、および 6bとしてスクリューポンプを適用した場合には、反応チャンバ 10、 11、および 12 (図 1)内へのガス非導入時により高い効果が現れる。

[0054] また、本発明による真空装置における真空ポンプの段数は多段構成に限らず、 2段または 1段でもよい。即ち、その背圧がコンプレッサの効果が現れる圧力範囲であるならば、コンプレッサが接続されるべき真空ポンプ (最終段の真空ポンプ）は多段構成のうちのバックポンプに限らず、二段の真空ポンプの 2段目のものでも、一段の真空ポンプの 1段目のものでも可能である。またこの真空ポンプはルーツタイプ等さまざまな形式の真空ポンプであってもよ、。

[0055] 図 1の反応チャンバ 10に導入されるガスの供給量が所定の量より少ない場合には、最終段のバックポンプ 4bが省略できることを次に具体的に説明する。

[0056] この場合のガス供給の所定量は、種々の条件、特にプロセス圧力、ブースターボンプ 4aの性能 (背圧、排気速度等)およびコンプレッサ 4cの性能 (圧力、排気速度等）によって決まる。たとえば、プロセス圧力力 Torr、ブースターポンプ 4aの性能が背圧 200Torr、排気速度 2000LZmin、コンプレッサ 4cの性能が圧力 200Torr、排気速度 50LZminとすると、ブースターポンプの 4aの背圧を 200Torr以下にしな!/ヽとブースターポンプ 4aは性能が出な!/、ので、コンプレッサ 4cでブースターポンプ 4a の吐出口の圧力を 200Torr以下まで排気する必要がある。そのときの最大導入ガス量は、「導入ガス量 X 760Torr (大気圧） ÷コンプレッサ 4cの排気速度 50LZmin= 200Torr (ブースターポンプ 4aの背圧）」との式が成り立つことから、この式を計算して求めると、最大導入ガス量は、 13LZminとなる。この導入ガス量 13LZminの反応チャンバ 10をブースターポンプ 4a (背圧 200Torr、排気速度 2000LZmin)で排気すると、チャンバ圧力は、「導入ガス量 13LZmin X 760Torr (大気圧） ÷ブースタ一ポンプ 4aの排気速度 2000LZmin= 5Torr」となり、プロセス圧力力 Torr以下であれば、導入ガス量は 13LZminを流すことができる。即ち、上記の条件では、反応チャンバ 10に導入されるガスの供給量が 13LZmin以下の場合には、最終段のノックポンプ 4bが省略できるとともに高真空ポンプ 1も省略することができ、ブースタ一ポンプ（第 2の真空ポンプ) 4aとコンプレッサ 4cとで反応チャンバ 10を排気できる。産業上の利用可能性

以上の実施例では半導体デバイス製造用の真空装置について説明したが、本発明の真空装置の用途としては、半導体デバイス製造装置に限定されるものではなぐ減圧を必要とするあらゆる産業分野で用いることができる。

Claims

請求の範囲

[1] ガス導入口とガス排出口とを備える真空容器と、前記真空容器の前記ガス排出口に接続され、前記真空容器内部を減圧にしまたは減圧状態に保つ少なくとも 1段の真空ポンプと、前記真空ポンプのうちの最終段の真空ポンプの吐出口に接続された、入力側を減圧する能力を持つコンプレッサとを有することを特徴とする真空装置。

[2] 前記真空装置容器に導入するガス量によって前記真空ポンプの段数が 1段または複数段となされた請求項 1に記載の真空装置。

[3] 前記真空ポンプの段数が複数段である請求項 1に記載の真空装置。

[4] 前記最終段の真空ポンプから吐出されたガスを回収再利用するためのガス回収装置をさらに有し、

前記コンプレッサは、前記ガス回収装置におけるガス回収用コンプレッサである請求項 1乃至 3のいずれか 1つに記載の真空装置。

[5] ガス導入口とガス排出口を備える減圧容器と、前記減圧容器に接続され該減圧容器内部を減圧にすると共に減圧状態を保っための複数段の真空ポンプと、該真空ポンプのうちの最終段の真空ポンプから吐出されたガスの回収再利用を行うためのガス回収装置とを有する真空装置において、

前記最終段の真空ポンプの吐出口に接続され、該最終段の真空ポンプの減圧動作を補助し、該吐出口からの逆拡散を抑制するための減圧能力を持ったガス回収用コンプレッサを備えたことを特徴とする真空装置。

[6] 前記減圧装置に導入するガスの供給量が所定量よりも少なぐ前記最終段の真空ポンプが省略されて、最終段の前段の真空ポンプから吐出されたガスが前記ガス回収装置によって回収再利用され、かつ、前記ガス回収用コンプレッサが前記最終段の前段の真空ポンプの吐出口に接続された請求項 5に記載の真空装置。

[7] ガス導入口とガス排出口を備える減圧容器と、前記減圧容器内部を減圧に保っための第 1の真空ポンプと、前記第 1の真空ポンプの後段に接続された第 2の真空ボンプと、前記第 2の真空ポンプの後段に接続された第 3の真空ポンプと、前記第 3の真空ポンプに接続された、減圧能力を持つコンプレッサとを有することを特徴とする真空装置。

[8] 前記第 1の真空ポンプがターボ分子ポンプまたはねじ溝ポンプであり、前記第 2の真空ポンプがブースターポンプであり、前記第 3の真空ポンプがドライポンプである請求項 7に記載の真空装置。

[9] 前記第 3の真空ポンプから吐出されたガスを回収再利用するためのガス回収装置をさらに有し、前記コンプレッサは該ガス回収装置におけるガス回収用コンプレッサである請求項 7または 8に記載の真空装置。

[10] 導入するガスの供給量が所定量よりも少なヽガス導入口とガス排出口とを備える減圧容器と、前記減圧容器内部を減圧に保っための第 1の真空ポンプと、前記第 1の真空ポンプの後段に接続された第 2の真空ポンプと、前記第 2の真空ポンプに接続された、減圧能力を持つコンプレッサとを有することを特徴とする真空装置。

[11] 前記第 1の真空ポンプがターボ分子ポンプまたはねじ溝ポンプであり、前記第 2の真空ポンプがブースターポンプである請求項 10に記載の真空装置。

[12] 前記第 2の真空ポンプから吐出されたガスを回収再利用するためのガス回収装置をさらに有し、

前記コンプレッサは、前記ガス回収装置におけるガス回収用コンプレッサである請求項 10または 11に記載の真空装置。

[13] 前記コンプレッサに接続された真空ポンプがスクリューポンプである請求項 1乃至 1

2のいずれか 1つに記載の真空装置。

[14] 前記コンプレッサとそれが接続された真空ポンプとを直列に連動させる請求項 1乃至 13のいずれ力 1つに記載の真空装置。