WO2005039262A1 - 部品内蔵モジュールの製造方法及び部品内蔵モジュール - Google Patents

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electrically insulating
wiring board
component
via hole
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Yoshitake Hayashi
Masayoshi Koyama
Satoru Yuhaku
Kazuo Otani
Susumu Matsuoka
Yasushi Taniguchi
Seiichi Nakatani
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Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a component built-in module incorporating electronic components and a component built-in module.
  • a component built-in module in which active components such as semiconductors and passive components such as capacitors are embedded in a composite sheet containing an inorganic filler and a thermosetting resin.
  • this component built-in module contains a large amount of fine-particle inorganic filler, it has high heat dissipation, a low dielectric constant, and can easily embed electronic components. Accordingly, the component built-in module can be formed as a short wiring and can also have a shielding effect, and therefore has high noise resistance and is useful as a high-frequency operation-compatible wiring board that is three-dimensionally mounted at high density.
  • a via hole is formed in a composite sheet.
  • a method of manufacturing a component built-in module employing a method of filling a conductive resin paste into a module has been proposed, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-122022.
  • the protective films 1002a and 1002b are attached to both sides of the uncured composite sheet 1001 to form a sheet material 100 with a thickness of about 100.
  • a laser processing or punching process is used to form a housing 1004 conforming to the shape of the electronic component 1301 (see FIG. 22A). Formed into sheet material 1003.
  • FIG. 20C after the protective film 1002b on one side is peeled off, the protective film 1002c is newly attached and the opening of the cavity 1004 is closed.
  • a via hole 1005 penetrating the sheet material 103 is formed by laser processing or punch processing.
  • the via hole 1005 is filled with the conductive resin paste 1006 by using a method such as a printing method.
  • the protective films 1002a and 1002c are peeled off to form a sheet material 1100.
  • a sheet material 1200 is prepared by the same process as the above-described sheet material 110 except that no cavity is formed.
  • the sheet material 1200 serves to prevent interference between the electronic components 1301 (see FIG. 22A) and the second wiring board 1400 (see FIG. 22A). Fulfill.
  • the two sheet materials 1 100; the sheet material 1200, the first wiring pattern 130 2, and the first wiring pattern 130 2 The first wiring board 1300 including the electronic component 1301 mounted on the first wiring board 1402 and the second wiring board 1400 including the second wiring pattern 1401 are aligned by ft and laminated. Then, by performing heat pressing, the first wiring pattern 13 02 and the second wiring pattern 140 1 become conductive resin paste 100 6, and the via conductors 1 5 0 1, 1 5 0 2, 150 3 (both shown in Figure 22B) are electrically connected. In this way, the component built-in module 1500 shown in FIG. 22B can be manufactured.
  • the present invention provides a method of manufacturing a component built-in module having high reliability in electrical connection and a component built-in module.
  • the manufacturing method of the component built-in module of the present invention includes:
  • a second electrically insulating sheet is laminated over the cavity to laminate the first electrically insulating sheet and the second electrically insulating sheet.
  • a third surface of the third electrically insulating sheet on which the cavity is formed (1) A first wiring board including a wiring pattern and an electronic component mounted on the first wiring pattern is provided, and the first wiring board is sandwiched by the third electrically insulating sheet.
  • the stacked first wiring board, the third electrically insulating sheet, and the second wiring board are heated and pressed by a hot press, and the first wiring pattern and the second wiring pattern are electrically connected to each other. Electrical connection with via conductors made of conductive resin paste.
  • the module with a built-in component of the present invention includes:
  • An electrical insulating sheet that is disposed between the first wiring pattern and the second wiring pattern and that incorporates the electronic component
  • a component built-in module formed in a via hole penetrating the electrically insulating sheet and including a via conductor that electrically connects the first wiring pattern and the second wiring pattern,
  • the side surface of the via conductor is continuously connected in the axial direction of the via conductor.
  • FIG. 1 is a sectional view of a component built-in module according to a first embodiment of the present invention. is there.
  • 2A to 2D are cross-sectional views illustrating each step of the method for manufacturing the component built-in module according to the first embodiment of the present invention.
  • 3A to 3D are cross-sectional views illustrating each step of the method for manufacturing the component built-in module according to the first embodiment of the present invention.
  • FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views showing steps of a method of filling a via hole with a conductive resin base while forming a base layer.
  • FIGS. 5A to 5C are cross-sectional views showing steps of a method of filling a via hole with a conductive resin paste while forming a first layer.
  • FIGS. 6A to 6C are cross-sectional views showing steps of a method of filling a via hole with a conductive resin paste without forming a paste layer.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state in which a paste layer having a predetermined thickness is formed around the opening of the peer hole.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of the module with a built-in component according to the second embodiment of the present invention.
  • 9A to 9D are cross-sectional views illustrating each step of a method for manufacturing a component built-in module according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing the component built-in module according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a sectional view of a component built-in module according to a third embodiment of the present invention.
  • 12A to 12C are cross-sectional views showing each step of the method for manufacturing the component built-in module according to the third embodiment of the present invention.
  • FIGS. 13A and 13B are cross-sectional views showing steps of a method for manufacturing a component built-in module according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view of the module with a built-in component according to the fourth embodiment of the present invention. It is.
  • FIGS. 15A to 15C are cross-sectional views showing each step of the method for manufacturing a component-embedded module according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIGS. 16A and 16B are cross-sectional views showing steps of a method for manufacturing a component built-in module according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 17 is a cross-sectional view of the module with a built-in component according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIGS. 18A to 18C are cross-sectional views showing each step of the method for manufacturing the component built-in module according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIGS. 19A and 19B are cross-sectional views showing steps of a method for manufacturing a component built-in module according to the fifth embodiment of the present invention.
  • 20A to 20F are cross-sectional views showing steps of a conventional method for manufacturing a component built-in module.
  • Figures 21A to D show the conventional methods for manufacturing a module with built-in components:! : It is sectional drawing which shows a process.
  • FIGS. 22A and 22B are cross-sectional views showing the steps of a conventional method for manufacturing a component built-in module. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • a second electric insulating sheet is laminated on one principal surface of a first electric insulating sheet formed through a cavity so as to cover the capity.
  • the second electrically insulating sheet plays a role of preventing interference between a built-in electronic component and a second wiring board described later.
  • the cavities may be formed in accordance with the size of the electronic components to be built therein. For example, the capacity of the cavities
  • the electronic component may be formed so as to be about 80 to 120% of the volume of the electronic component.
  • means such as punching and laser processing can be used.
  • the first and second electrically insulating sheets include 70 to 95% by weight of an inorganic filler and 5 to 30% by weight of a thermosetting resin composition in an uncured state. Those having a viscosity of 100 to 2000 Pas are preferably used.
  • the amount of the inorganic filler is less than 70% by weight or the flow viscosity is less than 100 Pa ⁇ s, the viscosity of the first and second electrically insulating sheets rapidly decreases in the hot pressing step described below. Flowability may increase. In that case, the conductive resin paste in the via holes formed in the first and second electrically insulating sheets may flow, and the formed via conductor may be deformed.
  • the inorganic filler exceeds 95% by weight or when the flow viscosity exceeds 2000 Pas, the moldability is deteriorated because the viscosity of the first and second electrically insulating sheets is too high.
  • the non-machine quality filler one, A l 2 ⁇ 3, Mg_ ⁇ , BN, A 1 N, it is possible to use the S i ⁇ 2, etc., as the thermosetting resin composition, an epoxy resin, A composition mainly composed of a phenol resin, a cyanate resin or the like can be used.
  • the thicknesses of the first and second electrically insulating sheets may be, for example, 50 to 600 m and 50 to 100 m, respectively.
  • the second electrically insulating sheet on the first electrically insulating sheet may be laminated by, for example, a vacuum laminating machine or the like.
  • the lamination conditions at this time are preferably lamination at a temperature of 100 ° C. or less and a pressure of 1 MPa or less. If the lamination is performed at a temperature exceeding 100, the first and second electrically insulating sheets may be excessively hardened, and the adhesiveness to the wiring board may be reduced in a hot pressing step described later. Also, when laminated at a pressure exceeding 1 MPa, it becomes a 1st electrically insulating sheet. The resulting cavity may be deformed. In addition, in order to maintain good adhesion between the first electrical insulation sheet and the second electrically insulating sheet, at a temperature of 30 ° C or more, a temperature of 0.05 MPa or more should be applied. It is preferable to laminate under pressure.
  • a via hole penetrating the third electrically insulating sheet is formed by, for example, punching or laser processing.
  • the diameter of the via hole may be, for example, 50 to 200 m.
  • the via holes are filled with a conductive resin paste by, for example, a printing method or the like.
  • a conductive resin paste for example, a paste containing a conductive powder containing a metal such as silver, copper, gold, and nickel and a thermosetting resin such as an epoxy resin can be used.
  • a first wiring board including a first wiring pattern and an electronic component mounted on the first wiring pattern is arranged on a main surface of the third electrically insulating sheet on which the cavity is formed; and (3) The second wiring board including the second wiring pattern is arranged so as to face the first wiring board with the electric insulating sheet interposed therebetween.
  • the first wiring board, the third electrically insulating sheet and the second electrical insulating sheet are so arranged that the electronic component is built in the cavity and a via hole is arranged between the first wiring pattern and the second wiring pattern. Align with the wiring board and laminate.
  • the base material of the first and second wiring boards for example, an electrically insulating base material such as a glass / epoxy base material can be used.
  • the first and second wiring patterns can be formed by a known method.
  • a metal foil such as a copper foil adhered to an electrical insulating substrate by hot pressing can be formed by using a photolithography technique. It is obtained by patterning.
  • the height and pitch of the wiring may be, for example, 5 to 30 m and 20 to 200 m, respectively.
  • active components such as semiconductors and passive components such as capacitors Parts can be used.
  • the laminated first wiring board, third electrical insulating sheet, and second wiring board are heated and pressed by a hot press.
  • the first wiring pattern and the second wiring pattern are electrically connected by the via conductor made of the conductive resin paste, and the component built-in module is obtained.
  • the cavity when forming the third electrically insulating sheet, the cavity may be opposed to the first electrically insulating sheet with the second electrically insulating sheet interposed therebetween.
  • the third electric insulating sheet is formed by further laminating a fourth electric insulating sheet formed by penetrating the second electric wiring sheet.
  • the second electric wiring board arranged to face the first electric wiring board An electronic component mounted on the second wiring pattern, wherein when the first wiring board, the third electrically insulating sheet and the second wiring board are laminated, The first wiring board, the third electrically insulating sheet, and the second wiring board so that the electronic components mounted on the second wiring pattern are embedded in the cavities formed on the conductive sheet.
  • the cavity is formed so as to penetrate a position not overlapping with the cavity formed in the first electrically insulating sheet
  • the second wiring board arranged to face the first wiring board further includes an electronic component mounted on the second wiring pattern, wherein the first wiring board, the third electrically insulating sheet, When laminating the second wiring board, the first wiring is formed such that the electronic component mounted on the second wiring pattern is built in the cavity formed on the second electrically insulating sheet.
  • a method of manufacturing a component built-in module in which a substrate, the third electrically insulating sheet, and the second wiring substrate are stacked may be employed.
  • the third electrically insulating sheet a plurality of electronic components can be arranged three-dimensionally, and an electrical insulating sheet for preventing interference between the electronic components is not required. This is because it is possible to make the sheet thinner.
  • the first wiring board includes a support material, and the first wiring pattern is formed on the support material.
  • the method may be a method of manufacturing a module with a built-in component in which the support is heated and pressed by the hot press, and then the support material is removed by, for example, peeling jetting.
  • This makes it possible to manufacture a component built-in module without disposing an electrical insulating base material on the main surface of the third electrical insulating sheet in which the first wiring pattern is buried. it can.
  • a copper foil, an aluminum plate, a plastic film, or the like can be used as the support material.
  • the thickness of the support member may be, for example, 30 to 200 m.
  • the cavities formed on the first electrically insulating sheet include a first cavity and a second capability; Second Cavity and Ren A third cavity passing therethrough, wherein the electronic component mounted on the first wiring pattern of the first wiring board comprises a first electronic component and a second electronic component having a height higher than the first electronic component.
  • the first wiring board, the third electrically insulating sheet, and the second wiring board are laminated, the first electronic component is embedded in the first cavity, and the second cavity is stacked.
  • the method for manufacturing a component built-in module in which the first wiring board, the third electrically insulating sheet, and the second wiring board are laminated so that the second electronic component is built in the third cavity is also provided. Good. This makes it possible to form cavities corresponding to the height of each electronic component when a plurality of electronic components having different heights and forces are built in. For example, in a hot pressing process, excessive Resin flow can be suppressed.
  • a protective film when forming the via hole, may be attached to a main surface of the third electrically insulating sheet; A method of manufacturing a component built-in module that forms the via hole by penetrating a conductive sheet may be used. This is because the conductive resin base can be prevented from adhering to the main surface of the third electrically insulating sheet.
  • the protective film for example, a film made of polyethylene terephthalate, polypropylene, polyphenylene sulfide, polyethylene naphthalate, or the like and having a thickness of about 10 to 100 m can be used. In the above-mentioned manufacturing method, for example, when a via hole is formed by punching, if a protective film having a breaking elongation of 110% or less is used, the via hole can be easily formed. it can.
  • the conductive resin paste when the conductive resin paste is filled in the via hole, (i) the conductive resin paste is formed on a main surface of the third electrically insulating sheet. (Ii) on the main surface The conductive resin paste is applied on the main surface such that a paste layer made of the conductive resin paste having a predetermined thickness is formed around the opening of the via hole. (Iii) filling the via layer with the conductive resin paste, and filling the via layer with the conductive resin paste (hereinafter referred to as (0 to (iii) )) Is also referred to as the first filling method.) The method of manufacturing the component built-in module may be used.
  • the filling operation is divided into multiple operations, for example, the conductive resin paste filled in the first filling operation and the conductive resin paste filled in the second filling operation Bubbles may be mixed with the resin paste to increase the electrical resistance of the via conductor to be formed.
  • the first filling method described above a plurality of filling operations of the conductive resin paste are performed. Even if it is carried out separately, filling can be performed while preventing air bubbles from entering the via hole.
  • a protective film when forming the via hole, a protective film may be attached to a main surface of the third electrically insulating sheet, and then the protective film and the third electrically insulating sheet may be formed.
  • the via hole is formed through a conductive sheet, when filling the via hole with the conductive resin paste, (i) disposing the conductive resin paste on the main surface of the protective film;
  • the protective film is formed on the main surface of the protective film such that a paste layer made of the conductive resin paste having a predetermined thickness is formed around the opening of the via hole on the main surface of the protective film.
  • a conductive resin paste filling the via hole with the conductive resin paste, and (iii) applying the paste from above the main surface of the protective film.
  • a take-out ⁇ filling method of filling the conductive resin paste on the via hole (hereinafter, also referred to as a second filling method) May be adopted.
  • the conductive resin paste can be prevented from adhering to the main surface of the third electrically insulating sheet, and even if the filling operation of the conductive resin paste is performed a plurality of times, bubbles in the via holes are not removed. This is because filling can be performed while preventing contamination.
  • the paste layer is formed on the opening of the via hole and on an area at least within 300 m from the edge of the opening. It is preferred that this be done. This is because air bubbles can be reliably prevented from entering the via hole.
  • the predetermined thickness of the paste layer is 10 to 100 m. If the predetermined thickness is less than 10 zm, it may be difficult to prevent air bubbles from entering the via hole depending on filling conditions. On the other hand, when the predetermined thickness exceeds 100 m, for example, when performing the operations (ii) and (iii) using a squeegee, the pressing pressure on the paste layer by the squeegee is small. This may make it difficult to fill the conductive resin base.
  • the predetermined thickness refers to the average thickness of the paste layer.
  • the opening of the via hole is reduced.
  • a part of the resin component of the conductive resin paste filled in the via hole may be sucked from the opening facing the substrate. This is because the density of the conductive powder in the conductive resin paste filled in the via hole increases, and the electric resistance of the via conductor to be formed can be further reduced.
  • the suction may be performed, for example, using a vacuum pump or the like at an ultimate vacuum of about 1 to 1 ⁇ 10 4 Pa.
  • the first and second filling methods are particularly useful when the via hole has an aspect ratio of 1 or more and the via hole has a diameter of 200 m or less.
  • the operation (iii) may be performed after the operation (ii) is repeated a plurality of times.
  • the component built-in module according to the present invention includes a first wiring pattern, an electronic component mounted on the first wiring pattern, a second wiring pattern, and a first wiring pattern between the first wiring pattern and the second wiring pattern.
  • the components in the module with a built-in component of the present invention may be the same as those in the method of manufacturing a module with a built-in component of the present invention described above. Further, the module with a built-in component of the present invention can be manufactured by the above-described method for manufacturing a module with a built-in component of the present invention.
  • FIG. 1 to be referred to is a cross-sectional view of the module with a built-in component according to the first embodiment.
  • the component built-in module 1 includes a first wiring board 10, a second wiring board 20, and a wiring board 10 between the first wiring board 10 and the second wiring board 20. And an electrically insulating sheet 30 placed thereon.
  • the first wiring board 10 includes an electric insulating base 11, a first wiring pattern 12 formed on the electric insulating base 11 facing the electric insulating sheet 30, and an electric insulating base 1 A surface wiring pattern 13 formed on the base material 11 so as to face the first wiring pattern 1 2 across the first wiring pattern 1; an electric insulating sheet 3 mounted on the first wiring pattern 12; 0 and electronic components 14 incorporated therein.
  • the second wiring board 20 includes an electric insulating substrate 21, a second wiring pattern 22 formed on the electric insulating substrate 21 facing the electric insulating sheet 30, and an electric insulating substrate 2. And a surface wiring pattern 23 formed on the electrically insulating substrate 21 so as to face the second wiring pattern 22 with 1 interposed therebetween.
  • the component built-in module 1 is formed in a via hole 31 penetrating the electrically insulating sheet 30, and a via conductor 3 2 electrically connecting the first wiring pattern 12 to the second wiring pattern 22. including. Then, the side surface 32 a of the via conductor 32 is continuously connected in the axial direction of the via conductor 32. This makes it possible to provide a highly reliable component built-in module for electrical connection.
  • the component built-in module according to the first embodiment of the present invention has been described above, but the component built-in module of the present invention is not limited to the above embodiment.
  • another electronic component may be mounted on the surface wiring patterns 13 and 23 of the component built-in module 1.
  • FIGS. 2A to 2D and FIGS. 3A to 3D are cross-sectional views showing steps of a method of manufacturing the component built-in module 1.
  • FIG. 1 The same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • Fig. 2A adjust the thickness of the built-in electronic components 14
  • One or more electric insulating sheets 41 having a thickness of 100 m are laminated from one sheet, and the laminated electric insulating sheets 41 are sandwiched between two protective films 40 a and 40 for lamination. I do.
  • FIG. 2B the first electric insulating sheet 42 composed of one or more electric insulating sheets 41 and the two main surfaces of the first electric insulating sheet 42 are bonded together.
  • a laminated sheet 43 composed of the protective films 40a and 40b is obtained. Note that either one of the protective films 40a and 40b may not be provided.
  • the lamination can be performed, for example, by a vacuum laminator at a temperature of 100 ° C. and a pressure of 0.8 MPa.
  • a cavity 44 penetrating the laminated sheet 43 is formed by, for example, punching, laser processing, or the like.
  • FIG. 2D only one of the protective films (the protective film 40a in FIG. 2D) was peeled off from the first electrically insulating sheet 42, and then the protective film 40a was bonded.
  • the second electrically insulating sheet 45 is laminated on the main surface 42a of the first electrically insulating sheet 42, covering the cavity 44, and further a protective film is newly formed on the second electrically insulating sheet 45. After laminating 40c, they are laminated and integrated. As a result, as shown in FIG.
  • the third electric insulating sheet 46 including the first electric insulating sheet 42 and the second electric insulating sheet 45, and the third electric insulating sheet 4
  • a laminated sheet 47 consisting of the protective films 40b and 40c bonded to both main surfaces of 6 is obtained.
  • the laminating conditions for forming the laminated sheet 47 are desirably such that the adhesion between the layers can be obtained and the dimensions of the cavity 44 do not change.
  • the first electrically insulating sheet 4 2 and the second electrically insulating sheet one DOO 4 5 3 1 0 2 and the FILLER one 8 0 wt%, the thermosetting resin composition 1 9 mainly composed of epoxy resin. 5% by weight and 0.5% by weight of residual solvent When a composite sheet of the following type was used, the optimal conditions for lamination were a temperature of 50 ° C. and a pressure of 0.4 MPa.
  • a via hole 31 penetrating through the laminated sheet 47 is formed by punching, laser processing, or the like.
  • the via holes 31 are filled with a conductive resin paste 50 by a printing method or the like.
  • the protective films 4Ob and 40c are peeled off from the third electrically insulating sheet 46, and the cavities 44 of the third electrically insulating sheet 46 are removed.
  • the first wiring board 10 is disposed on the formed main surface 46 a, and the second wiring board 20 is arranged so as to face the first wiring board 10 with the third electrically insulating sheet 46 interposed therebetween. Distribute.
  • the first wiring board 10 and the second wiring board 10 are arranged so that the electronic components 14 are built in the cavity 44 and the via holes 31 are arranged between the first wiring pattern 12 and the second wiring pattern 22.
  • the electric insulating sheet 46 and the second wiring board 20 are aligned and laminated, and they are heated and pressed by a hot press.
  • the first wiring pattern 12 and the second wiring pattern 22 are electrically connected by the via conductor 32 (see FIG. 1) made of the conductive resin paste 50, and the component built-in module 1 (see FIG. 1) is obtained.
  • the hot pressing at this time can be performed, for example, at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MPa.
  • the electronic component 14 and the second wiring board 2 embedded in the first electrical insulating sheet 42 formed with the cavity 44 After laminating the second electrically insulating sheets 45 to prevent interference with the via conductors 0, the via conductors 31 are formed as described in the background art to form the via holes 31 that penetrate them. Does not occur. This makes it possible to provide a highly reliable component built-in module for electrical connection.
  • FIGS. 4A to C and FIGS. 5A to (: are cross-sectional views showing each step of the filling method.
  • FIGS. 4A to (: and FIGS. 5A to 5C for the sake of clarity,
  • the width of the region where the conductive resin paste 50 is applied is drawn relatively large with respect to the depth of the via hole 31.
  • conductive resin paste 50 is arranged on main surface 401 c of protective film 40 c bonded to third electrically insulating sheet 46.
  • a predetermined area is formed around the opening 31 a of the via hole 31 on the main surface 401 c of the protective film 40 c.
  • a conductive resin paste 50 is applied on the main surface 40 1 c of the protective film 40 c so that a paste layer 61 of a conductive resin paste 50 having a thickness of The conductive resin paste 50 is filled.
  • a paste layer 61 is formed on the main surface 401c of the protective film 40c, Further, a part of the via hole 31 is filled with a conductive resin base 50. At this time, the paste layer 61 does not need to be formed on the entire surface of the main surface 401c of the protective film 40c, but it is necessary to form the paste layer 61 on the opening 31a of the via hole 31 and on the edge 31 of the opening 31a. at least 3 0 0 from b Preferably, it is formed on a region within m.
  • a conductive resin may be used by using a screen plate having a hole corresponding to the size of the region. Paste 50 may be applied.
  • a conductive resin paste 50 is applied again on the main surface 410 c of the protective film 40 c so that the paste layer 61 of a predetermined thickness is formed, and the conductive resin paste is applied to the via holes 31.
  • the paste 50 is filled again (hereinafter, referred to as a second application operation).
  • the paste layer 61 is formed on the main surface 401c of the protective film 40c, and further, all of the via holes 31 are formed. Are filled with the conductive resin paste 50.
  • the conductive resin paste 50a filled into the via hole 31 during the first coating operation and the conductive resin paste 50a filled into the via hole 31 during the second coating operation No air bubbles are mixed between b and b (the reason will be described later).
  • the paste layer 61 is removed from the main surface 401c of the protective film 40c, and the conductive resin paste is applied to the via hole 31.
  • Fill 50 (hereinafter referred to as “pick-up operation”).
  • air-permeable thin paper (not shown) is pasted on the main surface 401b of the protective film 40b, the opening 31 facing the opening 31a of the via hole 31 is formed. Accordingly, it is possible to prevent the conductive resin paste 50 from being extruded.
  • the paste 50 may be filled.
  • the application conditions may be adjusted so that the entire via hole 31 is filled with the conductive resin paste 50 during the stripping operation.
  • the coating operation is divided into two times.
  • the number of coating operations may be appropriately set according to the diameter and depth of the via hole 31.For example, the number of coating operations may be one.
  • a portion of the resin component of the conductive resin paste 50 filled in the via hole 31 from the opening 31 c of the via hole 31 May be sucked. This is because the density of the conductive powder in the conductive resin paste 50 filled in the via hole 31 increases, and the electrical resistance of the via conductor 32 formed (see FIG. 1) can be further reduced. is there.
  • the via hole 31 is filled with the conductive resin paste 50, as shown in FIG. 6A, if the conventional method of filling without forming the paste layer 61 (see FIG. 4B) is adopted, There may be a depression 50c near the opening 31 of 31. This is considered to be due to the fact that a small amount of the conductive resin base 50 is pulled out from the via hole 31 when the squeegee 60 passes through the opening 31a of the via hole 31. .
  • the depression 50 c occurs, the conductive resin paste 50 to be filled entrains the depression 50 c during the second filling operation, as shown in FIG. However, even after the completion of the filling operation shown in FIG. 6C, the bubbles 50d may remain in the via holes 31.
  • FIG. 8 to be referred to is a cross-sectional view of the module with a built-in component according to the second embodiment.
  • the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • the second wiring board 102 further includes an electronic component 101 mounted on the second wiring pattern 22.
  • This electronic component 101 is It is built in the electrically insulating sheet 100 so as to face the electronic component 14.
  • the rest of the configuration is the same as that of the component built-in module 1 described above (see Fig. 1). Therefore, also in the component built-in module 2, the side surface 32 a of the via conductor 32 is continuously connected in the axial direction of the via conductor 32. As a result, it is possible to provide a component built-in module having high reliability regarding electrical connection.
  • FIGS. 9A to 9D and FIGS. 10A to 10C are cross-sectional views showing each step of the method of manufacturing the component built-in module 2.
  • the same components as those in FIGS. 2, 3, and 8 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • the second electrically insulating sheet 45 is made up of the first electrically insulating sheet 42 on which the cavities 44 are formed and the fourth electrically insulating sheet 42 on which the cavities 111 are formed.
  • the sheet is sandwiched between the electrically insulating sheets 110, and these sheets are further sandwiched between the protective films 40d and 40e for lamination.
  • Figure 9B As shown in the figure, the third electrically insulating sheet 112 including the first electrically insulating sheet 42, the second electrically insulating sheet 45, and the fourth electrically insulating sheet 110, and the third electrically insulating sheet A laminated sheet 113 composed of protective films 40d and 40e bonded to both principal surfaces of the functional sheet 112 is obtained.
  • the second electrically insulating sheet 45 plays a role in preventing interference between the electronic components 14 and 101 contained therein.
  • an electrically insulating sheet obtained by peeling the protective films 40a and 40b from the state shown in FIG. 2C in the method for manufacturing the component built-in module 1 described above. Can be used.
  • the fourth electrically insulating sheet 110 the same electrically insulating sheet as the first electrically insulating sheet 42 can be used.
  • a via hole 31 penetrating the laminated sheet 113 is formed by punching, laser processing, or the like.
  • the via holes 31 are filled with a conductive resin paste 50 by a printing method or the like.
  • the protective films 40d and 40e are peeled from the third electrically insulating sheet 112 to form cavities 44 of the third electrically insulating sheet 112.
  • the first wiring board 10 is disposed on the main surface 1 12a thus formed, and the second wiring board is opposed to the first wiring board 10 with the third electrically insulating sheet 112 interposed therebetween.
  • Distribute 102 the first wiring board 10 is disposed on the main surface 1 12a thus formed, and the second wiring board is opposed to the first wiring board 10 with the third electrically insulating sheet 112 interposed therebetween.
  • the electronic components 14 and 101 are built in the cavities 44 and 111, respectively, and the via holes 31 are arranged between the first wiring pattern 12 and the second wiring pattern 22. Then, the first wiring board 10, the third electrically insulating sheet 112, and the second wiring board 102 are aligned and laminated, and these are heated and pressed by a hot press. As a result, the first wiring pattern 12 and the second wiring pattern 22 are electrically connected by the via conductor 32 (see FIG. 8) made of the conductive resin paste 50, and the component built-in module 2 (FIG. 8) See). According to the above manufacturing method, a plurality of electronic components can be three-dimensionally arranged in the third electrically insulating sheet 112.
  • FIG. 11 to be referred to is a cross-sectional view of the module with a built-in component according to the third embodiment. Note that the same components as those in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • the electronic component 101 and the electronic component 14 are built in the electrically insulating sheet 150 at positions not opposed to each other.
  • the component built-in module 3 has the end face 101 a of the electronic component 101 and the end face 14 a of the electronic component 14. No electrical insulation layer to prevent interference with Other configurations are the same as those of the component built-in module 2 described above (see Fig. 8). Therefore, also in the component built-in module 3, the side surface 32 a of the peer conductor 32 is continuously connected in the axial direction of the via conductor 32. 'This provides a highly reliable module with built-in electrical connections.
  • FIGS. 12A to 12C and FIGS. 13A and 13B are cross-sectional views showing steps of a method of manufacturing the component built-in module 3.
  • FIG. The same components as those in FIGS. 9 to 11 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • the third electric insulating sheet 15 3 including the first electric insulating sheet 42 and the second electric insulating sheet 15 1, and the third electric insulating sheet As a result, a laminated sheet 154 consisting of the protective films 40d and 40e bonded to both main surfaces of the 153 is obtained.
  • the second electrically insulating sheet 151 the same electrically insulating sheet as the first electrically insulating sheet 42 can be used.
  • a via hole 31 penetrating the laminated sheet 154 is formed by punching, laser processing, or the like.
  • the via hole 31 is filled with a conductive resin paste 50 by a method such as a printing method.
  • the protective films 40d and 40e are peeled from the third electrically insulating sheet 1553, and the cavities 44 of the third electrically insulating sheet 1553 are removed.
  • the first wiring board 10 is disposed on the main surface 15 3 a on which is formed, and the first wiring board 10 is opposed to the first wiring board 10 with the third electrically insulating sheet 15 3 interposed therebetween. 2 Arrange the wiring board 102.
  • the electronic components 14 and 101 are built in the cavities 44 and 152, respectively, and the via holes 31 are arranged between the first wiring pattern 12 and the second wiring pattern 22. Then, the first wiring board 10, the third electrically insulating sheet 15 3 and the second wiring board 102 are aligned and laminated, and these are heated and pressed by a hot press. As a result, the first wiring pattern 12 and the second wiring pattern 22 are electrically connected by the via conductor 32 (see FIG. 11) made of the conductive resin paste 50, and the component built-in module 3 (see FIG. 11 See 1). In the above manufacturing method, an electrical insulating sheet for preventing interference between the electronic components 14 and 101 described in the second embodiment is not required, so that the third electrical insulating sheet 15 3 It is possible to reduce the thickness.
  • FIG. 14 to be referred to is a cross-sectional view of the module with a built-in component according to the fourth embodiment. Note that the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • the component built-in module 4 is composed of the electric insulating base materials 11 and 21 and the surface wiring patterns 13 and 23 in the configuration of the component built-in module 1 described above (see FIG. 1). Do not have. Other configurations are the same as those of the component built-in module 1. Therefore, also in component built-in module 4, side surface 32 a of via conductor 32 is continuously connected in the axial direction of via conductor 32. As a result, a highly reliable component built-in module for electrical connection can be provided.
  • FIGS. 15A to 15C and FIGS. 16A and 16B are cross-sectional views showing steps of a method of manufacturing the component built-in module 4.
  • FIG. The same components as those in FIGS. 2, 3, and 14 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • a laminated sheet 202 in which a support material 200 and a copper foil 201 are laminated is prepared. Then, as shown in FIG. 15B, the copper foil 201 is patterned using a photolithography technique to form a first wiring pattern 12.
  • an electronic component 14 is mounted on the first wiring pattern 12 to form a first wiring board 203.
  • the second wiring board 204 shown in FIG. 16A is formed by the same method as that for the first wiring board 203 except that no electronic component is mounted.
  • the second wiring board 204 includes a support 205 and a second wiring pattern 22 formed on the support 205.
  • a cavity 44 is formed by the same method as in the first embodiment, and the third electrically insulating sheet 46 in which the via hole 31 is filled with the conductive resin paste 50 is used.
  • the first wiring substrate 203 is disposed on the main surface 46 a of the third electrically insulating sheet 46 on which the cavity 44 is formed, and the third electrically insulating sheet 46 is disposed.
  • the second wiring board 204 is arranged so as to face the first wiring board 203 with the sandwiched therebetween.
  • first wiring pattern 12 and second wiring pattern 22 are electrically connected by via conductor 32 made of conductive resin paste 50. Then, by removing the support members 200 and 205 by peeling or etching, a component built-in module 4 (see FIG. 14) can be obtained.
  • the whole module with a built-in component can be made thin.
  • the obtained component built-in module 4 is replaced with, for example, the second wiring board 20 shown in FIG. It can also be manufactured.
  • FIG. 17 to be referred to is a cross-sectional view of the module with a built-in component according to the fifth embodiment. Note that the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • the component built-in module 5 has the first wiring pattern 1
  • the first electronic component 25 2 and the second electronic component 25 3 are mounted on 2.
  • the first and second electronic components 25 2, 25 3 are embedded in the electrically insulating sheet 25 1.
  • the second electronic component 25 3 is higher than the first electronic component 25 2.
  • Other configurations are the same as those of the component built-in module 1 described above (see Fig. 1). Therefore, also in component built-in module 5, side surface 32 a of via conductor 32 is continuously connected in the axial direction of via conductor 32. As a result, a highly reliable component built-in module for electrical connection can be provided.
  • FIGS. 18A to 18C and FIGS. 19A and B are cross-sectional views showing each step of the method of manufacturing the component built-in module 5.
  • the same components as those in FIGS. 2, 3, 9, and 17 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • a protective film 40d, a first electric insulating sheet 300 composed of two electric insulating sheets 300a, The second electric insulating sheet 301 composed of the insulating sheet 301a and the electric insulating sheet 301b and the protective film 40e are laminated and laminated.
  • cavities 302 and 304 are formed to penetrate the two electrically insulating sheets 300a, respectively.
  • the two cavities 300 and 302 communicate with each other, and the two cavities 304 and 304 communicate with each other to form a first cavity 303 and a second cavity 300.
  • a third cavity 306 communicating with the second cavity 300 is formed through the electrically insulating sheet 301a.
  • Figure 18B shows the state after lamination.
  • both of the third electrically insulating sheet 310 and the third electrically insulating sheet 310 including the first electrically insulating sheet 300 and the second electrically insulating sheet 301 are formed.
  • surface A laminated sheet 311 composed of the protective films 40d and 40e bonded to each other is obtained.
  • a first cavity 303 and a fourth cavity 300 composed of a second cavity 300 and a third cavity 360 are formed. ing.
  • a via hole 31 penetrating the laminated sheet 311 is formed by punching, laser processing, or the like.
  • the via holes 31 are filled with a conductive resin paste 50 by a printing method or the like.
  • the protective films 40 d and 40 e are peeled off from the third electrically insulating sheet 310 and the first cavity 3 of the third electrically insulating sheet 310 is removed.
  • the first wiring board 250 is arranged on the main surface 310 a on which the third and fourth cavities 3 0 7 are formed, and the first wiring board 2 is sandwiched by the third electrically insulating sheet 310.
  • the second wiring board 20 is arranged so as to face 50.
  • the first and second electronic components 25 2, 25 3 are respectively built in the first and fourth capacities 303, 307, and the first wiring pattern 12 and the second wiring pattern 2 are provided.
  • the first wiring board 250 and the third electrically insulating sheet 310 and the second wiring board 20 are aligned and laminated so that the via hole 31 is disposed between the first wiring board 250 and the second wiring board 20. Is heated and pressed by a hot press.
  • the first wiring pattern 12 and the second wiring pattern 22 are electrically connected by the peer conductor 32 (see FIG. 17) made of the conductive resin paste 50, and the components are built in. Module 5 (see Figure 17) is obtained.
  • the first electric insulating sheet is formed of two electric insulating sheets.
  • the first electric insulating sheet may be formed using only one thick electric insulating sheet.
  • the component built-in module of the present invention has high noise resistance, heat dissipation, and productivity, and can be miniaturized. Therefore, it is useful for an RF (Radio Frequency) module of a communication device, a semiconductor package, and the like.
  • RF Radio Frequency

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Abstract

本発明の部品内蔵モジュールは、第１配線パターン(12)と、第１配線パターン(12)上に実装された電子部品(14)と、第２配線パターン(22)と、第１配線パターン(12)と第２配線パターン(22)との間に配置され、電子部品(14)を内蔵する電気絶縁性シート(30)と、電気絶縁性シート(30)を貫通するビアホール(31)内に形成され、第１配線パターン(12)と第２配線パターン(22)とを電気的に接続するビア導体(32)とを含み、ビア導体(32)の側面(32a)は、ビア導体(32)の軸方向に連続して繋がっている部品内蔵モジュール(1)である。これにより、電気的接続に関する信頼性が高い部品内蔵モジュールを提供することができる。

Description

部品内蔵モジュールの製造方法及び部品内蔵モジュール
技術分野
本発明は、 電子部品を内蔵した部品内蔵モジュールの製造方法及び部 品内蔵モジュールに関する。
明 背景技術 田
近年、 電子機器の高性能化、 小型化の要求に伴い、 電子機器に用いら れる配線基板には、 電子部品を高密度に実装出来る上、 小型化されたも のが望まれている。 これらの要求に対し、 高密度実装を実現する手段と して配線基板内に薄膜化した電子部品を作り込む、 又は既存の電子部品 である半導体やコンデンサを内蔵した 3次元実装技術の開発が行われて いる （例えば、 特公平 6— 3 2 3 7 8号公報参照） 。
その一例として、 無機質フィラーと熱硬化樹脂とを含むコンポジット シート内に、 半導体等の能動部品やコンデンサ等の受動部品を埋め込ん だ部品内蔵モジュールが提案されている。
この部品内蔵モジュールは、 微粒子状の無機質フィラーを多量に含む ため、 高放熱性を有する上、 誘電率が低く、 かつ電子部品を容易に埋設 することができる。 これにより、 前記部品内蔵モジュールは、 配線を短 く形成できる上、 シールド効果を持たすこともできるため、 耐ノイズ性 が高く、 高密度に 3次元実装された高周波動作対応配線基板として有用 である。
前記部品内蔵モジュールにおける上下の配線パターン間の導通を得る 手段として、 コンポジットシートにビアホールを形成し、 このビアホー ルに導電性樹脂ペーストを充填する方法を採用した部品内蔵モジュール の製造方法が、 例えば特開平 1 1 一 2 2 0 2 6 2号公報等に提案されて いる。
具体的な部品内蔵モジュールの製造方法の一例について、 図 2 0〜図 2 2を参照して以下に説明する。 まず、 図 2 O Aに示すように、 未硬化 のコンポジットシート 1 0 0 1の両面に保護フィ レム 1 0 0 2 a， 1 0 0 2 bを貼り付けて厚み 1 0 0 程度のシート材 1 0 0 3を形成する そして図 2 0 Bに示すように、 レーザ加工又はパンチ加工によって、 内蔵される電子部品 1 3 0 1 (図 2 2 A参照） の形状に即したキヤゼテ ィ 1 0 0 4をシート材 1 0 0 3に形成する。 次に図 2 0 Cに示すように 、 片面の保護フィルム 1 0 0 2 bを剥離した後、 新たに保護フィルム 1 0 0 2 cに貼り替えてキヤビティ 1 0 0 4の開口を塞ぐ。
そして、 図 2 0 Dに示すように、 レーザ加工又はパンチ加工によって シート材 1 0 0 3を貫通するビアホール 1 0 0 5を形成する。 続いて、 図 2 0 Eに示すように、 印刷法等の手段を用いて導電性樹脂ペースト 1 0 0 6をビアホール 1 0 0 5に充填する。 そして、 図 2 0 Fに示すよう に、 保護フィルム 1 0 0 2 a , 1 0 0 2 cを剥離してシート材 1 1 0 0 を形成する。
また、 図 2 1 A〜Dに示すように、 キヤビティを形成しないこと以外 は上述したシート材 1 1 0 0と同様のプロセスによってシ一ト材 1 2 0 0を準備する。 シ一ト材 1 2 0 0は、 内蔵される電子部品 1 3 0 1 (図 2 2 A参照） と第 2配線基板 1 4 0 0 (図 2 2 A参照） との干渉を防止 する役割を果たす。
そして図 2 2 Aに示すように、 2枚のシート材 1 1 0 0と； シート材 1 2 0 0と、 第 1配線パターン 1 3 0 2と第 1配線パターン 1 3 0 2上 に実装された電子部品 1 3 0 1とを含む第 1配線基板 1 3 0 0と、 第 2 配線パターン 1 4 0 1を含む第 2配線基板 1 4 0 0とを位 ft合わせして 積層した後、 熱プレスを行うことで、 第 1配線パターン 1 3 0 2と第 2 配線パターン 1 4 0 1とが、 導電性樹脂ペースト 1 0 0 6力、らなるビア 導体 1 5 0 1 , 1 5 0 2 , 1 5 0 3 (いずれも図 2 2 B参胺） で電気的 に接続される。 このようにして、 図 2 2 Bに示す部品内蔵モジュール 1 5 0 0を製造することができる。
しかしながら前述した従来の製造方法では、 少なくとも 2 枚以上のシ 一ト材を積層するため、 各シート材間において積層ずれが発生するおそ れがある。 各シート材間において積層ずれが発生すると、 図 2 2 Bに示 すように、 ビア導体 1 5 0 1の側面 1 5 0 1 aとビア導体 1 5 0 2の側 面 1 5 0 2 aとの間や、 ビア導体 1 5 0 2の側面 1 5 0 2 a とビア導体 1 5 0 3の側面 1 5 0 3 aとの間でずれが生じる可能性があるため、 電 気的接続に関する信頼性が低下するおそれがある。 発明の開示
このような状況に鑑み、 本発明は、 電気的接続に関する信瀬性が高い 部品内蔵モジュールの製造方法及び部品内蔵モジュールを提ィ共する。 本発明の部品内蔵モジュールの製造方法は、
キヤビティが貫通して形成された第 1電気絶縁性シートの一主面に、 前記キヤビティを覆って第 2電気絶縁性シートをラミネ一トして、 前記 第 1電気絶縁性シートと前記第 2電気絶縁性シートとを含む第 3電気絶 縁性シートを形成し、
前記第 3電気絶縁性シートを貫通するビアホールを形成し、
前記ビアホールに導電性樹脂ペーストを充填し、
前記第 3電気絶縁性シートの前記キヤビティが形成された主面に、 第 1配線パターンと前記第 1配線パターン上に実装された電子部品とを含 む第 1配線基板を配し、 かつ前記第 3電気絶縁性シー卜を挟んで前記第
1配線基板と対向するように、 第 2配線パターンを含む第 2配線基板を 配し、
前記キヤビティに前記電子部品が内蔵され、 かつ前記第 1配線パター ンと前記第 2配線パターンとの間に前記ビァホールが酉己置されるように 前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板とを 積層し、
積層された前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シ一トと前記第 2 配線基板とを熱プレスにより加熱、 加圧して、 前記第 1配線パターンと 前記第 2配線パターンとを前記導電性樹脂ペーストからなるビア導体で 電気的に接続する。
本発明の部品内蔵モジュールは、
第 1配線パターンと、
前記第 1配線パターン上に実装された電子部品と、
第 2配線パターンと、
前記第 1配線パターンと前記第 2配線パターンとの間に配置され、 前 記電子部品を内蔵する電気絶縁性シートと、
前記電気絶縁性シートを貫通するビアホール内に形成され、 前記第 1 配線パターンと前記第 2配線パターンとを電気的に接続するビア導体と を含む部品内蔵モジュールであって、
前記ビア導体の側面は、 前記ビア導体の軸方向に連続して繋がってい ることを特徴とする。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明の第 1実施形態に係る部品内蔵モジュールの断面図で ある。
図 2 A〜Dは、 本発明の第 1実施形態に係る部品内蔵モジュールの製 造方法の各工程を示す断面図である。
図 3 A〜Dは、 本発明の第 1実施形態に係る部品内蔵モジュールの製 造方法の各工程を示す断面図である。
図 4 A〜Cは、 ビアホ一ルに導電性樹脂べ一ストを充填する際、 ベー スト層を形成しながら充填する方法の各工程を示す断面図である。 図 5 A〜Cは、 ビアホールに導電性樹脂ペーストを充填する際、 ぺ一 スト層を形成しながら充填する方法の各工程を示す断面図である。 図 6 A〜Cは、 ビアホールに導電性樹脂べ一ストを充填する際、 ぺー スト層を形成しないで充填する方法の各工程を示す断面図である。 図 7は、 ピアホールの開口の周囲に、 所定の厚みのペースト層が形成 された状態を示す断面図である。
図 8は、 本発明の第 2実施形態に係る部品内蔵モジュールの断面図で ある。
図 9 A〜Dは、 本発明の第 2実施形態に係る部品内蔵モジュールの製 造方法の各工程を示す断面図である。
図 1 0は、 本発明の第 2実施形態に係る部品内蔵モジュールの製造方 法を説明するための断面図である。
図 1 1は、 本発明の第 3実施形態に係る部品内蔵モジュールの断面図 である。
図 1 2 A〜Cは、 本発明の第 3実施形態に係る部品内蔵モジュールの 製造方法の各工程を示す断面図である。
図 1 3 A， Bは、 本発明の第 3実施形態に係る部品内蔵モジュールの 製造方法の各工程を示す断面図である。
図 1 4は、 本発明の第 4実施形態に係る部品内蔵モジュールの断面図 である。
図 1 5 A〜Cは、 本発明の第 4実施形態に係る部品内蔵モジュールの 製造方法の各工程を示す断面図である。
図 1 6 A， Bは、 本発明の第 4実施形態に係る部品内蔵モジュールの 製造方法の各工程を示す断面図である。
図 1 7は、 本発明の第 5実施形態に係る部品内蔵モジュールの断面図 である。
図 1 8 A〜Cは、 本発明の第 5実施形態に係る部品内蔵モジュールの 製造方法の各工程を示す断面図である。
図 1 9 A , Bは、 本発明の第 5実施形態に係る部品内蔵モジュールの 製造方法の各工程を示す断面図である。
図 2 0 A〜Fは、 従来の部品内蔵モジュールの製造方法の各工程を示 す断面図である。
図 2 1 A〜Dは、 従来の部品内蔵モジュールの製造方法の各:！:程を示 す断面図である。
図 2 2 A， Bは、 従来の部品内蔵モジュールの製造方法の各 ΙΠ程を示 す断面図である。 発明を実施するための最良の形態
本発明の部品内蔵モジュールの製造方法は、 まず、 キヤビティが貫通 して形成された第 1電気絶縁性シートの一主面に、 前記キヤピティを覆 つて第 2電気絶緣性シ一トをラミネートして、 第 1電気絶縁性シートと 第 2電気絶縁性シートとを含む第 3電気絶縁性シートを形成する。 第 2 電気絶縁性シートは、 内蔵される電子部品と後述する第 2配線基板との 干渉を防止する役割を果たす。 前記キヤビティは、 内蔵する電子部品の 大きさに応じて形成すればよく、 例えば前記キヤビティの容積 内蔵す る電子部品の体積の 8 0〜 1 2 0 %程度となるように形成すればよい。 前記キヤビティの形成方法としては、 例えばパンチ加工やレーザ加工等 の手段を用いることができる。
第 1及び第 2電気絶縁性シートとしては、 無機質フィラー 7 0〜 9 5 重量％と未硬化状態の熱硬化樹脂組成物 5〜3 0重量％とを含み、 その 1 2 0 °Cにおけるフ口一粘度が、 1 0 0 0〜2 0 0 0 0 P a - sのもの が好適に使用できる。 無機質フィラーが 7 0重量％未満の場合やフロー 粘度が 1 0 0 0 P a · s未満の場合は、 後述する熱プレス工程において 、 第 1及び第 2電気絶縁性シートの粘度が急速に低下し流動'性が増加す る場合がある。 その場合、 第 1及び第 2電気絶縁性シートに形成された ビアホール内の導電性樹脂ペーストが流動し、 形成されるビア導体が変 形するおそれがある。 一方、 無機質フィラーが 9 5重量％を超える場合 やフロー粘度が 2 0 0 0 0 P a · sを超える場合は、 第 1及び第 2電気 絶縁性シートの粘度が高過ぎるため、 成型性が劣化する。 なお、 前記無 機質フィラ一としては、 A l 2〇3、 Mg〇、 BN、 A 1 N、 S i 〇2等 を使用することができ、 前記熱硬化樹脂組成物としては、 エポキシ樹脂 、 フエノール樹脂、 シァネート樹脂等を主成分とする組成物を使用する ことができる。 また第 1及び第 2電気絶縁性シートの厚みは、 例えばそ れぞれ 5 0〜 6 0 0 m及び 5 0〜 1 0 0 mとすればよい。
第 1電気絶縁性シートに第 2電気絶縁性シートをラミネ一トする際は 、 例えば真空ラミネート機等によりラミネートすればよい。 その際のラ ミネート条件は、 1 0 0°C以下の温度で、 1 MP a以下の圧力にてラミ ネートするのが好ましい。 1 0 0 を超える温度でラミネ一トすると、 第 1及び第 2電気絶縁性シートの硬化が進みすぎて、 後述する熱プレス 工程において、 配線基板との密着性が低下するおそれがある。 また、 1 MP aを超える圧力にてラミネートすると、 第 1電気絶縁性シートに形 成されたキヤビティが変形するおそれがある。 なお、 第 1電気絶緣' i'feシ —トと第 2電気絶縁性シートとの密着性を良好に維持するためには、 3 0 °C以上の温度で、 0 . 0 5 M P a以上の圧力にてラミネートするのが 好ましい。
次に、 第 3電気絶縁性シートを貫通するビアホールを、 例えばパンチ 加工やレーザ加工等の手段により形成する。 ビアホールの径は、 例えば 5 0〜 2 0 0 mとすればよい。
続いて、 ビアホールに導電性樹脂ペーストを、 例えば印刷法等の手段 により充填する。 導電性樹脂ペーストとしては、 例えば、 銀、 銅、 金、 ニッケル等の金属を含む導電性粉体と、 エポキシ樹脂等の熱硬化樹脂と を含むものが使用できる。
次に、 第 3電気絶縁性シートの前記キヤビティが形成された主面に、 第 1配線パターンと前記第 1配線パターン上に実装された電子部品と を 含む第 1配線基板を配し、 かつ第 3電気絶縁性シートを挟んで第 1配線 基板と対向するように、 第 2配線パターンを含む第 2配線基板を配する 。 そして、 前記キヤビティに前記電子部品が内蔵され、 かつ第 1配線パ ターンと第 2配線パターンとの間にビアホールが配置されるように、 第 1配線基板と第 3電気絶縁性シー卜と第 2配線基板とを位置合わせして 積層する。
第 1及び第 2配線基板の基材としては、 例えばガラス ·エポキシ基材 等の電気絶縁基材が使用できる。 また、 第 1及び第 2配線パターンは公 知の方法で形成することができ、 例えば、 電気絶緣基材上に熱プレスに より接着された銅箔等の金属箔を、 フォトリソグラフィ一技術を用いて パターニングして得られる。 この際、 配線の高さ及びピッチは、 例えば それぞれ 5〜3 0 m及び 2 0 ~ 2 0 0 mとすればよい。 また、 前言己 電子部品としては、 例えば、 半導体等の能動部品やコンデンサ等の受動 部品が使用できる。
続いて、 積層された第 1配線基板と第 3電気絶縁性シートと第 2配線 基板とを熱プレスにより加熱、 加圧する。 これにより、 第 1配線パター ンと第 2配線パターンとが導電性樹脂ペーストからなるビア導体で電気 的に接続され、 部品内蔵モジュールが得られる。
このように、 本発明の部品内蔵モジュールの製造方法によれば、 キヤ ビティが貫通して形成された第 1電気絶縁性シートに、 内蔵される電子 部品と第 2配線基板との干渉を防止するための第 2電気絶縁性シートを ラミネートした後、 これらを貫通するビアホールを形成するため、 背景 技術で説明したようなビア導体の位置ずれは生じない。 これにより、 電 気的接続に関する信頼性が高い部品内蔵モジュールを提供することがで さる。
また、 本発明の部品内蔵モジュールの製造方法は、 前記第 3電気絶縁 性シートを形成する際、 前記第 2電気絶縁性シートを挟んで前記第 1電 気絶縁性シートと対向するように、 キヤビティが貫通して形成された第 4電気絶縁性シ一トを更にラミネートして前記第 3電気絶縁性シートを 形成し、 前記第 1配線基板と対向するように配される前記第 2配線基板 が、 前記第 2配線パターン上に実装された電子部品を更に含み、 前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シ一トと前記第 2配線基板とを積層す る際、 前記第 4電気絶縁性シートに形成された前記キヤビティに前記第 2配線パターン上に実装された前記電子部品が内蔵されるように、 前記 第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板とを積層 する部品内蔵モジュールの製造方法としてもよい。 第 3電気絶緣性シ一 ト内において、 複数の電子部品を 3次元的に配置することができるから である。 なお、 第 4電気絶縁性シートの材料は、 第 1及び第 2電気絶縁 性シ一トと同様のものが使用できる。 また、 本発明の部品内蔵モジュールの製造方法は、 前記第 2電気絶縁 性シートにおいて、 前記第 1電気絶縁性シートに形成されたキヤビティ とは重ならない位置にキヤビティが貫通して形成されており、 前記第 1 配線基板と対向するように配される前記第 2配線基板が、 前記第 2配線 パターン上に実装された電子部品を更に含み、 前記第 1配線基板と前記 第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板とを積層する際、 前記第 2電 気絶縁性シートに形成された前記キヤビティに前記第 2配線パターン上 に実装された前記電子部品が内蔵されるように、 前記第 1配線基板と前 記第 3電気絶縁性シ一トと前記第 2配線基板とを積層する部品内蔵モジ ユールの製造方法としてもよい。 第 3電気絶縁性シート内において、 複 数の電子部品を 3次元的に配置することができる上、 電子部品同士の干 渉を防止するための電気絶縁性シートが不要となるので第 3電気絶縁性 シートの薄層化が可能となるからである。
また、 本発明の部品内蔵モジュールの製造方法は、 前記第 1配線基板 が支持材を含み、 前記支持材に前記第 1配線パターンが形成されており
、 前記熱プレスにより加熱、 加圧した後、 前記支持材を例えば剥離ゃェ ツチング等によって除去する部品内蔵モジュールの製造方法としてもよ い。 これにより、 第 3電気絶縁性シートの第 1配線パターンが埋設され る主面に、 電気絶縁基材を配置せずに部品内蔵モジュールを製造するこ とができるため、 部品内蔵モジュール全体を薄く構成できる。 なお、 前 記支持材としては、 銅箔、 アルミニウム板、 プラスチックフィルム等を 使用することができる。 また、 前記支持材の厚みは、 例えば 3 0〜2 0 0 mとすればよい。
また、 本発明の部品内蔵モジュールの製造方法は、 前記第 1電気絶縁 性シートに形成された前記キヤビティが、 第 1キヤビティと第 2キヤピ ティとを含み、 前記第 2電気絶縁性シートに、 前記第 2キヤビティと連 通する第 3キヤビティが形成されており、 前記第 1配線基板の前記第 1 配線パターン上に実装された前記電子部品が、 第 1電子部品と、 前記第 1電子部品より高さが高い第 2電子部品とを含み、 前記第 1配線基板と 前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板とを積層する際、 前記第 1キヤビティに前記第 1電子部品が内蔵され、 かつ前記第 2キヤビティ 及び前記第 3キヤビティに前記第 2電子部品が内蔵されるように前言己第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板とを積層す る部品内蔵モジュールの製造方法としてもよい。 これにより、 高さ力相 違する複数の電子部品を内蔵する場合に、 各々の電子部品の高さにヌ寸応 するキヤビティを形成できるため、 例えば熱プレス工程において、 キヤ ビティ内への過剰な樹脂流動を抑制することができる。
また、 本発明の部品内蔵モジュールの製造方法は、 前記ビアホー レを 形成する際、 前記第 3電気絶縁性シートの主面に保護フィルムを貼り合 わせた後、 前記保護フィルム及び前記第 3電気絶縁性シートを貫通して 前記ビアホールを形成する部品内蔵モジュールの製造方法としてもよい 。 第 3電気絶縁性シートの主面に導電性樹脂べ一ス卜が付着するのを防 止することができるからである。 なお、 保護フィルムとしては、 例えば ポリエチレンテレフタレート、 ポリプロピレン、 ポリフエ二レンサ レフ アイド、 ポリエチレンナフタレート等からなり、 厚みが 1 0〜 1 0 0 m程度のフィルムを使用することができる。 また、 前記製造方法におい て、 例えばビアホールをパンチ加工により形成する場合は、 保護フィル ムとして、 その破断伸度が 1 1 0 %以下のものを使用すると、 ビアホー ルの形成を容易に行うことができる。
また、 本発明の部品内蔵モジュールの製造方法は、 前記ビアホ一 レに 前記導電性樹脂ペーストを充填する際、 （i ) 前記第 3電気絶緣性シ一 トの主面上に前記導電性樹脂ペーストを配置し、 （i i ) 前記主面上にお ける前記ビアホールの開口の周囲に所定の厚みの前記導電性樹脂ペース トからなるペースト層が形成されるように、 前記主面上に前記導電 '性樹 脂ペーストを塗布するとともに、 前記ビアホールに前記導電性樹脂ぺー ストを充填し、 （i i i ) 前記主面上から前記ペースト層を接き取るとと もに、 前記ビアホールに前記導電性樹脂ペーストを充填する （以下、 前 記 （0 〜 （i i i ) の操作を第 1充填方法ともいう） 部品内蔵モジュール の製造方法としてもよい。 ビアホールのアスペクト比、 即ちビアホール の深さをビアホールの径で除した値が大きい場合は、 導電性樹脂ペース トの充填操作を複数回に分けて行うことがある。 その場合、 例えば 1回 目の充填操作で充填された導電性樹脂ペーストと、 2回目の充填操作で 充填された導電性樹脂ペーストとの間に気泡が混入して、 形成されるビ ァ導体の電気抵抗が高くなるおそれがある。 一方、 上述した第 1充填方 法によれば、 導電性樹脂ペーストの充填操作を複数回に分けて行っても 、 ビアホール内への気泡の混入を防止しながら充填できる。
また、 本発明の部品内蔵モジュールの製造方法において、 前記ビアホ —ルを形成する際、 前記第 3電気絶縁性シートの主面に保護フィルムを 貼り合わせた後、 前記保護フィルム及び前記第 3電気絶縁性シートを貫 通して前記ビアホールを形成した場合は、 前記ビアホールに前記導電性 樹脂ペーストを充填する際、 （i ) 前記保護フィルムの主面上に前記導 電性樹脂ペーストを配置し、 （i i) 前記保護フィルムの前記主面上にお ける前記ビアホールの開口の周囲に所定の厚みの前記導電性樹脂ペース トからなるペースト層が形成されるように、 前記保護フィルムの前記主 面上に前記導電性樹脂ペーストを塗布するとともに、 前記ビアホー レに 前記導電性樹脂ペーストを充填し、 （i i i ) 前記保護フィルムの前記主 面上から前記ペースト層を搔き取るとともに、 前記ビアホールに前記導 電性樹脂ペーストを充填する充填方法 （以下、 第 2充填方法ともいう） を採用してもよい。 第 3電気絶縁性シートの主面に導電性樹脂ペースト が付着するのを防止することができる上、 導電性樹脂ペーストの充填操 作を複数回に分けて行っても、 ビアホール内への気泡の混入を防止しな がら充填できるからである。
また、 第 1又は第 2充填方法によってビアホールに導電性樹脂ペース トを充填する際、 前記ペースト層は、 前記ビアホールの前記開口上及び 前記開口のエッジから少なくとも 3 0 0 m以内の領域上に形成される ことが好ましい。 ビアホール内への気泡の混入を確実に防止できるから である。
また、 第 1又は第 2充填方法によってビアホールに導電性樹脂ペース 卜を充填する際、 前記ペースト層の前記所定の厚みは、 1 0〜1 0 0 mであることが好ましい。 前記所定の厚みが 1 0 z m未満では、 充填条 件によってはビアホール内への気泡の混入を防止することが困難となる 場合がある。 一方、 前記所定の厚みが 1 0 0 mを超える場合は、 例え ばスキージを用いて前記 （i i ) 及び前記 （i i i) の操作を行う際、 スキ ージによる前記ペースト層への押し込み圧が小さくなり、 導電性樹脂べ 一ストの充填が困難となる場合がある。 なお前記所定の厚みとは、 前記 ペースト層の平均厚みのことを指す。
また、 第 1又は第 2充填方法によってビアホールに導電性樹脂ペース トを充填する場合において、 前記 （i i i) の操作を行う前又は前記'（i i i ) の操作を行う際に、 前記ビアホールの前記開口と対向する開口から、 前記ビアホールに充填された前記導電性樹脂ペース卜の樹脂成分の一部 を吸引してもよい。 ビアホールに充填された導電性樹脂ペースト内にお ける導電性粉体の密度が増大し、 形成されるビア導体の電気抵抗をより 小さくすることができるからである。 なお、 前記吸引は、 例えば真空ポ ンプ等を用いて、 1〜 1 X 1 0 4 P a程度の到達真空度にて行えばよい なお、 前記第 1及び第 2充填方法は、 前記ビアホールのァスぺク卜比 が 1以上であり、 かつ前記ビアホールの径が 2 0 0 m以下である場合 に、 特に有用である。 また、 前記第 1及び第 2充填方法において、 前記 ( i i ) の操作を複数回繰り返した後、 前記 （i i i ) の操作を行って よ い。
本発明の部品内蔵モジュールは、 第 1配線パターンと、 前記第 1配線 パターン上に実装された電子部品と、 第 2配線パターンと、 前記第 1配 線パターンと前記第 2配線パターンとの間に配置され、 前記電子部品を 内蔵する電気絶縁性シートと、 前記電気絶縁性シートを貫通するビアホ ール内に形成され、 前記第 1配線パターンと前記第 2配線パターンとを 電気的に接続するビア導体とを含む部品内蔵モジュールであって、 前記 ピア導体の側面は、 前記ビア導体の軸方向に連続して繋がっていること を特徴とする。 これにより、 電気的接続に関する信頼性が高い部品内蔵 モジュールを提供することができる。 なお、 本発明の部品内蔵モジユー ルにおける前記構成要素は、 前述した本発明の部品内蔵モジュールの製 造方法の場合と同様のものが使用できる。 また、 本発明の部品内蔵モジ ユールは、 前述した本発明の部品内蔵モジュールの製造方法により製造 できる。
以下、 図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。
(第 1実施形態）
まず、 本発明の第 1実施形態に係る部品内蔵モジュールについて説明 する。 参照する図 1は、 第 1実施形態に係る部品内蔵モジュールの断面 図である。
図 1に示すように、 部品内蔵モジュール 1は、 第 1配線基板 1 0と、 第 2配線基板 2 0と、 第 1配線基板 1 0と第 2配線基板 2 0との間に配 置された電気絶縁性シ一ト 3 0とを含む。
第 1配線基板 1 0は、 電気絶縁基材 1 1と、 電気絶縁性シート 3 0に 面して電気絶縁基材 1 1上に形成された第 1配線パターン 1 2と、 電気 絶縁基材 1 1を挟んで第 1配線パターン 1 2と対向するように電気絶縁 基材 1 1上に形成された表層配線パターン 1 3と、 第 1配線パターン 1 2上に実装され、 かつ電気絶縁性シート 3 0に内蔵された電子部品 1 4 とを含む。
第 2配線基板 2 0は、 電気絶緣基材 2 1と、 電気絶縁性シート 3 0に 面して電気絶縁基材 2 1上に形成された第 2配線パターン 2 2と、 電気 絶縁基材 2 1を挟んで第 2配線パターン 2 2と対向するように電気絶縁 基材 2 1上に形成された表層配線パターン 2 3とを含む。
また、 部品内蔵モジュール 1は、 電気絶縁性シート 3 0を貫通するビ ァホール 3 1内に形成され、 第 1配線パターン 1 2と第 2配線パターン 2 2とを電気的に接続するビア導体 3 2を含む。 そして、 ビア導体 3 2 の側面 3 2 aは、 ビア導体 3 2の軸方向に連続して繋がっている。 これ により、 電気的接続に関する信頼性が高い部品内蔵モジュールを提供す ることができる。
以上、 本発明の第 1実施形態に係る部品内蔵モジュールについて説明 したが、 本発明の部品内蔵モジュールは、 前記実施形態には限定されな い。 例えば、 部品内蔵モジュール 1の表層配線パターン 1 3， 2 3上に 、 別の電子部品を実装してもよい。
次に、 第 1実施形態に係る部品内蔵モジュール 1の製造方法について 図面を参照して説明する。 参照する図 2 A〜D及び図 3 A〜Dは、 部品 内蔵モジュール 1の製造方法の各工程を示す断面図である。 なお、 図 1 と同一の構成要素には同一の符号を付し、 その説明は省略する。
まず、 図 2 Aに示すように、 内蔵される電子部品 1 4の厚みに合わせ て、 厚み 1 0 0 mの電気絶縁性シート 4 1を 1枚から複数枚積層し、 積層した電気絶縁性シート 4 1を 2枚の保護フィルム 4 0 a , 4 0わに より挟持してラミネートを行う。 これにより、 図 2 Bに示すように、 1 枚又は複数枚の電気絶縁性シート 4 1からなる第 1電気絶縁性シート 4 2と、 第 1電気絶縁性シート 4 2の両主面に貼り合わされた保護フィル ム 4 0 a， 4 0 bとからなる積層シート 4 3が得られる。 なお、 保護フ イルム 4 0 a , 4 0 bのいずれか一方は無くてもよい。 また、 前記ラミ ネートは、 例えば真空ラミネート機により 1 0 0 °Cの温度で、 0 . 8 M P aの圧力にて行うことができる。
次に、 図 2 Cに示すように、 積層シート 4 3を貫通するキヤビティ 4 4を、 例えばパンチ加工やレーザ加工等の手段により形成する。
続いて、 図 2 Dに示すように、 第 1電気絶縁性シート 4 2から保護フ イルムを片方のみ （図 2 Dでは保護フィルム 4 0 a ) 剥離した後、 保護 フィルム 4 0 aが貼り合わされていた第 1電気絶縁性シート 4 2の主面 4 2 aに、 キヤビティ 4 4を覆って第 2電気絶緣性シート 4 5を積層し 、 更に、 第 2電気絶縁性シート 4 5に新たに保護フィルム 4 0 cを積層 した後、 これらをラミネートして一体化させる。 これにより、 図 3 Aに 示すように、 第 1電気絶縁性シ一ト 4 2と第 2電気絶縁性シート 4 5と を含む第 3電気絶縁性シート 4 6と、 第 3電気絶縁性シート 4 6の両主 面に貼り合わされた保護フィルム 4 0 b， 4 0 cとからなる積層シート 4 7が得られる。
なお、 積層シート 4 7を形成する際のラミネート条件は、 各層間の密 着性を得ることができ、 かつキヤビティ 4 4の寸法が変化しないことが 望まれる。 例えば、 第 1電気絶縁性シート 4 2及び第 2電気絶縁性シ一 ト 4 5として、 3 1 0 2フイラ一 8 0重量％と、 エポキシ樹脂を主成分 とする熱硬化樹脂組成物 1 9 . 5重量％と、 残溶剤 0 . 5重量％とから なるコンポジットシートを使用した場合においては、 ラミネート条件と して、 温度： 5 0 °C、 圧力 ： 0 . 4 M P aの条件が最適であった。 この 条件でラミネートすると、 例えば、 ラミネート前のキヤビティ 4 4が 1 O mm X 1 0 mm X深さ 0 . 4 mmの大きさに加工されていた場合、 ラ ミネート後において、 キヤビティ 4 4の深さ方向と直交する方向の寸法 の変化量を 0 . 3 mm以内に抑えることができた。
続いて、 図 3 Bに示すように、 積層シ一ト 4 7を貫通するビアホール 3 1を、 パンチ加工やレーザ加工等により形成する。
次に、 図 3 Cに示すように、 ビアホール 3 1に導電性樹脂ペースト 5 0を印刷法等の手段により充填する。
続いて、 図 3 Dに示すように、 第 3電気絶縁性シ一ト 4 6から保護フ イルム 4 O b , 4 0 cを剥離し、 第 3電気絶縁性シート 4 6のキヤビテ ィ 4 4が形成された主面 4 6 aに、 第 1配線基板 1 0を配し、 かつ第 3 電気絶縁性シート 4 6を挟んで第 1配線基板 1 0と対向するように、 第 2配線基板 2 0を配する。
そして、 キヤビティ 4 4に電子部品 1 4が内蔵され、 かつ第 1配線パ ターン 1 2と第 2配線パターン 2 2との間にビアホール 3 1が配置され るように第 1配線基板 1 0と第 3電気絶縁性シート 4 6と第 2配線基板 2 0とを位置合わせして積層し、 これらを熱プレスにより加熱、 加圧す る。 これにより、 第 1配線パターン 1 2と第 2配線パターン 2 2とが導 電性樹脂ペースト 5 0からなるビア導体 3 2 (図 1参照） で電気的に接 続され、 部品内蔵モジュール 1 (図 1参照） が得られる。 なお、 この際 の熱プレスは、 例えば 2 0 0 °Cの温度で、 3 M P aの圧力にて行うこと ができる。
上述した製造方法によれば、 キヤビティ 4 4が貫通して形成された第 1電気絶縁性シート 4 2に、 内蔵される電子部品 1 4と第 2配線基板 2 0との干渉を防止するための第 2電気絶縁性シート 4 5をラミネートし た後、 これらを貫通するビアホール 3 1を形成するため、 背景技術で説 明したようなビア導体 3 2の位置ずれは生じない。 これにより、 電気的 接続に関する信頼性が高い部品内蔵モジュールを提供することができる 。
次に、 前述した部品内蔵モジュール 1の製造方法において、 ビアホー ル 3 1に導電性樹脂ペースト 5 0を充填する際の好適な充填方法につい て説明する。 参照する図 4 A〜C及び図 5 A〜（：は、 前記充填方法の各 工程を示す断面図である。 なお、 図 4 A〜（：及び図 5 A〜Cにおいては 、 分かりやすくするために、 導電性樹脂ペースト 5 0が塗布される領域 の幅をビアホール 3 1の深さに対し比較的大きく描いている。
まず、 図 4 Aに示すように、 第 3電気絶縁性シート 4 6に貼り合わさ れた保護フィルム 4 0 cの主面 4 0 1 c上に、 導電性樹脂ペースト 5 0 を配置する。
次に、 図 4 Bに示すように、 例えばウレタンゴム製のスキージ 6 0を 用いて、 保護フィルム 4 0 cの主面 4 0 1 c上におけるビアホール 3 1 の開口 3 1 aの周囲に、 所定の厚みの導電性樹脂ペースト 5 0からなる ペースト層 6 1が形成されるように保護フィルム 4 0 cの主面 4 0 1 c 上に導電性樹脂ペースト 5 0を塗布するとともに、 ビアホール 3 1に導 電性樹脂ペースト 5 0を充填する。
前記塗布操作 （以下、 第 1塗布操作という） が終了した段階では、 図 4 Cに示すように、 保護フィルム 4 0 cの主面 4 0 1 c上にペースト層 6 1が形成されており、 更に、 ビアホール 3 1の一部に導電性樹脂べ一 スト 5 0が充填されている。 この際、 ペースト層 6 1は、 保護フィルム 4 0 cの主面 4 0 1 c上の全面に形成する必要はないが、 ビアホール 3 1の開口 3 1 a上及び開口 3 1 aのエッジ 3 1 bから少なくとも 3 0 0 m以内の領域上に形成されることが好ましい。 また、 ビアホール 3 1 の開口 3 1 aから所定の領域内のみにペースト層 6 1を形成する場合は 、 例えば、 前記領域の大きさに対応する孔が開いたスクリーン版を用い て、 導電性樹脂ペースト 5 0を塗布すればよい。
次に、 図 5 Aに示すように、 保護フィルム 4 0 cの主面 4 0 1 c上に 残存する導電性樹脂ペースト 5 0 (図 4 C参照） を用いて、 第 1塗布操 作と同様に、 所定の厚みのペースト層 6 1が形成されるように保護フィ ルム 4 0 cの主面 4 0 1 c上に導電性樹脂ペースト 5 0を再度塗布する とともに、 ビアホール 3 1に導電性樹脂ペースト 5 0を再度充填する （ 以下、 第 2塗布操作という） 。
第 2塗布操作が終了した段階では、 図 5 Bに示すように、 保護フィル ム 4 0 cの主面 4 0 1 c上にペースト層 6 1が形成されており、 更に、 ビアホール 3 1の全てが導電性樹脂ペースト 5 0で充填されている。 ま た、 第 1塗布操作の際にビアホール 3 1内へ充填された導電性樹脂べ一 スト 5 0 aと、 第 2塗布操作の際にビアホール 3 1内へ充填された導電 性樹脂ペースト 5 0 bとの間には、 気泡が混入していない （理由は後述 する） 。
そして、 図 5 Cに示すように、 スキージ 6 0を用いて、 保護フィルム 4 0 cの主面 4 0 1 cからペースト層 6 1を搔き取るとともに、 ビアホ ール 3 1に導電性樹脂ペースト 5 0を充填する （以下、 搔き取り操作と いう） 。 この際、 保護フィルム 4 0 bの主面 4 0 1 bに、 通気性のある 薄葉紙 （図示せず） を張り付けておくと、 ビアホ一ル 3 1の開口 3 1 a と対向する開口 3 1 じから、 導電性樹脂ペースト 5 0が押し出されるの を防ぐことができる。
以上、 ビアホール 3 1に導電性樹脂ペースト 5 0を充填する際の好適 な充填方法について説明したが、 前記充填方法以外の方法で導電性樹脂 ペースト 5 0を充填してもよい。 例えば、 搔き取り操作の際に、 ビアホ ール 3 1の全てが導電性樹脂ペースト 5 0で充填されるように塗布条件 を調整してもよい。 また、 前記充填方法では、 塗布操作を 2回に分けた が、 塗布操作の回数はビアホール 3 1の径ゃ深さにより適宜設定すれば よく、 例えば塗布操作を 1回にしてもよいし、 3回以上に分けてもよい また、 搔き取り操作を行う前又は行う際に、 ビアホール 3 1の開口 3 1 cから、 ビアホール 3 1に充填された導電性樹脂ペースト 5 0の樹脂 成分の一部を吸引してもよい。 ビアホール 3 1に充填された導電性樹脂 ペースト 5 0内における導電性粉体の密度が増大し、 形成されるビア導 体 3 2 (図 1参照） の電気抵抗をより小さくすることができるからであ る。
ところで、 ビアホール 3 1に導電性樹脂ペースト 5 0を充填する際、 図 6 Aに示すように、 ペースト層 6 1 (図 4 B参照） を形成しないで充 填する従来の方法を採用すると、 ビアホール 3 1の開口 3 1 a近傍に窪 み 5 0 cが生じる場合がある。 これは、 スキージ 6 0がビアホール 3 1 の開口 3 1 aを通過する際に、 ビアホール 3 1から微量の導電性樹脂べ 一スト 5 0が外部へ引きずり出されてしまうことに起因すると考えられ る。 窪み 5 0 cが生じると、 2回目の充填操作の際、 図 6 Bに示すよう に、 充填される導電性樹脂ペース卜 5 0が窪み 5 0 cを巻き込むことに よって気泡 5 0 dが発生し、 図 6 Cに示す充填操作の終了後においても 、 この気泡 5 0 dがビアホール 3 1内に残存する場合がある。
これに対し、 前述した塗布操作を含む充填方法では、 スキージ 6 0が ビアホール 3 1の開口 3 1 aを通過する際に、 ビアホール 3 1から微量 の導電性樹脂ペースト 5 0が外部へ引きずり出されたとしても、 図 7に 示すように、 ビアホール 3 1の開口 3 1 aの周囲にはペースト層 6 1が 形成されているため、 ペースト層 6 1を構成する導電性樹脂ペースト 5 0が図中矢印 I方向からビアホール 3 1内へ流入することにより、 図 6 Aに示す窪み 5 0 cを発生させることなく導電性樹脂ペースト 5 0を充 填できる。
(第 2実施形態）
次に、 本発明の第 2実施形態に係る部品内蔵モジュールについて説明 する。 参照する図 8は、 第 2実施形態に係る部品内蔵モジュールの断面 図である。 なお、 図 1と同一の構成要素には同一の符号を付し、 その説 明は省略する。
図 8に示すように、 部品内蔵モジュール 2は、 第 2配線基板 1 0 2が 、 第 2配線パターン 2 2上に実装された電子部品 1 0 1を更に含み、 こ の電子部品 1 0 1が、 電子部品 1 4に対向するように電気絶縁性シート 1 0 0に内蔵されている。 その他の構成は、 前述した部品内蔵モジユー ル 1 (図 1参照） と同様である。 よって、 部品内蔵モジュール 2につい ても、 ビア導体 3 2の側面 3 2 aが、 ビア導体 3 2の軸方向に連続して 繋がっている。 これにより、 電気的接続に関する信頼性が高い部品内蔵 モジュールを提供することができる。
次に、 第 2実施形態に係る部品内蔵モジュール 2の製造方法について 図面を参照して説明する。 参照する図 9 A〜D及ぴ図 1 0は、 部品内蔵 モジュール 2の製造方法の各工程を示す断面図である。 なお、 図 2、 図 3及び図 8と同一の構成要素には同一の符号を付し、 その説明は省略す る。
まず、 図 9 Aに示すように、 第 2電気絶縁性シート 4 5を、 キヤビテ ィ 4 4が形成された第 1電気絶縁性シ一ト 4 2とキヤビティ 1 1 1が形 成された第 4電気絶縁性シート 1 1 0とで挟持し、 更にこれらを保護フ イルム 4 0 d , 4 0 eで挟持してラミネートする。 これにより、 図 9 B に示すように、 第 1電気絶縁性シート 4 2と第 2電気絶縁性シート 4 5 と第 4電気絶縁性シート 1 1 0とを含む第 3電気絶縁性シート 1 1 2と 、 第 3電気絶縁性シート 1 1 2の両主面に貼り合わされた保護フィルム 4 0 d， 4 0 eとからなる積層シート 1 1 3が得られる。 なお、 第 2電 気絶縁性シート 4 5は、 内蔵する電子部品 1 4 , 1 0 1同士の干渉を防 止する役割を果たす。 また、 第 1電気絶縁性シート 4 2としては、 前述 した部品内蔵モジュール 1の製造方法における図 2 Cに示す状態から保 護フィルム 4 0 a , 4 0 bを剥離した電気絶緣性シ一トを用いることが できる。 また、 第 4電気絶縁性シート 1 1 0としては、 第 1電気絶縁性 シート 4 2と同様の電気絶縁性シートが使用できる。
続いて、 図 9 Cに示すように、 積層シート 1 1 3を貫通するビアホー ル 3 1を、 パンチ加工やレーザ加工等により形成する。
次に、 図 9 Dに示すように、 ビアホール 3 1に導電性樹脂ペースト 5 0を印刷法等の手段により充填する。
続いて、 図 1 0に示すように、 第 3電気絶縁性シート 1 1 2から保護 フィルム 4 0 d , 4 0 eを剥離し、 第 3電気絶縁性シート 1 1 2のキヤ ビティ 4 4が形成された主面 1 1 2 aに、 第 1配線基板 1 0を配し、 か つ第 3電気絶縁性シート 1 1 2を挟んで第 1配線基板 1 0と対向するよ うに、 第 2配線基板 1 0 2を配する。
そして、 キヤビティ 4 4、 1 1 1に、 それぞれ電子部品 1 4 , 1 0 1 が内蔵され、 かつ第 1配線パターン 1 2と第 2配線パターン 2 2との間 にビアホール 3 1が配置されるように第 1配線基板 1 0と第 3電気絶縁 性シート 1 1 2と第 2配線基板 1 0 2とを位置合わせして積層し、 これ らを熱プレスにより加熱、 加圧する。 これにより、 第 1配線パターン 1 2と第 2配線パターン 2 2とが導電性樹脂ペースト 5 0からなるビア導 体 3 2 (図 8参照） で電気的に接続され、 部品内蔵モジュール 2 (図 8 参照） が得られる。 上記製造方法によれば、 第 3電気絶縁性シート 1 1 2内に、 複数の電子部品を 3次元的に配置することができる。
(第 3実施形態）
次に、 本発明の第 3実施形態に係る部品内蔵モジュールについて説明 する。 参照する図 1 1は、 第 3実施形態に係る部品内蔵モジュールの断 面図である。 なお、 図 8と同一の構成要素には同一の符号を付し、 その 説明は省略する。
図 1 1に示すように、 部品内蔵モジュール 3は、 電子部品 1 0 1と電 子部品 1 4とが、 電気絶縁性シート 1 5 0内において互いに対向しない 位置に内蔵されている。 また、 電子部品 1 0 1と電子部品 1 4とが互い に対向していないため、 部品内蔵モジュール 3は、 電子部品 1 0 1の端 面 1 0 1 aと電子部品 1 4の端面 1 4 aとの干渉を防ぐための電気絶縁 層を有していない。 その他の構成は、 前述した部品内蔵モジュール 2 ( 図 8参照） と同様である。 よって、 部品内蔵モジュール 3についても、 ピア導体 3 2の側面 3 2 aが、 ビア導体 3 2の軸方向に連続して繋がつ ている。' これにより、 電気的接続に関する信頼性が高い部品内蔵モジュ —ルを提供することができる。
次に、 第 3実施形態に係る部品内蔵モジュール 3の製造方法について 図面を参照して説明する。 参照する図 1 2 A〜C及び図 1 3 A， Bは、 部品内蔵モジュール 3の製造方法の各工程を示す断面図である。 なお、 図 9〜1 1と同一の構成要素には同一の符号を付し、 その説明は省略す る。
まず、 図 1 2 Aに示すように、 キヤビティ 4 4が形成された第 1電気 絶縁性シート 4 2と、 キヤビティ 1 5 2が形成された第 2電気絶縁性シ ート 1 5 1とを、 キヤビティ 4 とキヤビティ 1 5 2とが重ならないよ うに積層する。 そして、 更にこれらを保護フィルム 4 0 d， 4 0 eで挟 持してラミネートする。 これにより、 図 1 2 Bに示すように、 第 1電気 絶縁性シート 4 2と第 2電気絶縁性シート 1 5 1とを含む第 3電気絶縁 性シート 1 5 3と、 第 3電気絶縁性シート 1 5 3の両主面に貼り合わさ れた保護フィルム 4 0 d , 4 0 eとからなる積層シ一ト 1 5 4が得られ る。 なお、 第 2電気絶縁性シ一ト 1 5 1としては、 第 1電気絶縁性シ一 ト 4 2と同様の電気絶縁性シートが使用できる。
続いて、 図 1 2 Cに示すように、 積層シート 1 5 4を貫通するビアホ —ル 3 1を、 パンチ加工やレーザ加工等により形成する。
次に、 図 1 3 Aに示すように、 ビアホール 3 1に導電性樹脂ペースト 5 0を印刷法等の手段により充填する。
続いて、 図 1 3 Bに示すように、 第 3電気絶縁性シート 1 5 3から保 護フィルム 4 0 d , 4 0 eを剥離し、 第 3電気絶縁性シート 1 5 3のキ ャビティ 4 4が形成された主面 1 5 3 aに、 第 1配線基板 1 0を配し、 かつ第 3電気絶縁性シ一ト 1 5 3を挟んで第 1配線基板 1 0と対向する ように、 第 2配線基板 1 0 2を配する。
そして、 キヤビティ 4 4、 1 5 2に、 それぞれ電子部品 1 4 , 1 0 1 が内蔵され、 かつ第 1配線パターン 1 2と第 2配線パターン 2 2との間 にビアホール 3 1が配置されるように第 1配線基板 1 0と第 3電気絶縁 性シート 1 5 3と第 2配線基板 1 0 2とを位置合わせして積層し、 これ らを熱プレスにより加熱、 加圧する。 これにより、 第 1配線パターン 1 2と第 2配線パターン 2 2とが導電性樹脂ペースト 5 0からなるビア導 体 3 2 (図 1 1参照） で電気的に接続され、 部品内蔵モジュール 3 (図 1 1参照） が得られる。 上記製造方法では、 第 2実施形態で説明した電 子部品 1 4， 1 0 1同士の干渉を防止するための電気絶縁性シートが不 要となるので、 第 3電気絶縁性シート 1 5 3の薄層化が可能となる。
(第 4実施形態） 次に、 本発明の第 4実施形態に係る部品内蔵モジュールについて説明 する。 参照する図 1 4は、 第 4実施形態に係る部品内蔵モジュールの断 面図である。 なお、 図 1と同一の構成要素には同一の符号を付し、 その 説明は省略する。
図 1 4に示すように、 部品内蔵モジュール 4は、 前述した部品内蔵モ ジュール 1 (図 1参照） の構成における電気絶縁基材 1 1， 2 1と、 表 層配線パターン 1 3 , 2 3とを有していない。 その他の構成は、 部品内 蔵モジュール 1と同様である。 よって、 部品内蔵モジュール 4について も、 ビア導体 3 2の側面 3 2 aが、 ビア導体 3 2の軸方向に連続して繋 がっている。 これにより、 電気的接続に関する信頼性が高い部品内蔵モ ジュールを提供することができる。
次に、 第 4実施形態に係る部品内蔵モジュール 4の製造方法について 図面を参照して説明する。 参照する図 1 5 A〜C及び図 1 6 A , Bは、 部品内蔵モジュール 4の製造方法の各工程を示す断面図である。 なお、 図 2、 図 3及び図 1 4と同一の構成要素には同一の符号を付し、 その説 明は省略する。
まず、 図 1 5 Aに示すように、 支持材 2 0 0と銅箔 2 0 1とが積層さ れた積層シ一ト 2 0 2を用意する。 そして、 図 1 5 Bに示すように、 銅 箔 2 0 1を、 フォトリソグラフィ一技術を用いてパ夕一ニングして第 1 配線パターン 1 2を形成する。
次に、 図 1 5 Cに示すように、 第 1配線パターン 1 2上に電子部品 1 4を実装して、 第 1配線基板 2 0 3を形成する。 また、 電子部品を実装 しないこと以外は第 1配線基板 2 0 3と同様の方法により、 図 1 6 Aに 示す第 2配線基板 2 0 4を形成する。 なお、 第 2配線基板 2 0 4は、 支 持材 2 0 5と支持材 2 0 5上に形成された第 2配線パターン 2 2とを含 む。 そして、 図 1 6 Aに示すように、 第 1実施形態と同様の方法によって キヤビティ 4 4が形成され、 ビアホール 3 1に導電性樹脂ペースト 5 0 が充填された第 3電気絶縁性シート 4 6を準備する。 続いて、 第 3電気 絶縁性シ一ト 4 6のキヤビティ 4 4が形成された主面 4 6 aに、 第 1配 線基板 2 0 3を配し、 かつ第 3電気絶緣性シート 4 6を挟んで第 1配線 基板 2 0 3と対向するように、 第 2配線基板 2 0 4を配する。
そして、 キヤビティ 4 4に電子部品 1 4が内蔵され、 かつ第 1配線パ ターン 1 2と第 2配線パターン 2 2との間にビアホール 3 1が配置され るように第 1配線基板 2 0 3と第 3電気絶縁性シート 4 6と第 2配線基 板 2 0 4とを位置合わせして積層し、 これらを熱プレスにより加熱、 加 圧する。 これにより、 図 1 6 Bに示すように、 第 1配線パターン 1 2と 第 2配線パターン 2 2とが導電性樹脂ペースト 5 0からなるビア導体 3 2で電気的に接続される。 そして、 支持材 2 0 0， 2 0 5を剥離又はェ ツチングによって除去することで部品内蔵モジュ一ル 4 (図 1 4参照） が得られる。 上記製造方法では、 第 3電気絶縁性シート 4 6の両主面に 電気絶縁基材を配置しないため、 部品内蔵モジュール全体を薄く構成で きる。 なお、 得られた部品内蔵モジュール 4を、 例えば図 3 Dに示す第 2配線基板 2 0と置き換えて熱プレスを行うことにより、 複数の電子部 品が 3次元的に配置された部品内蔵モジュールを製造することもできる 。
(第 5実施形態）
次に、 本発明の第 5実施形態に係る部品内蔵モジュールについて説明 する。 参照する図 1 7は、 第 5実施形態に係る部品内蔵モジュールの断 面図である。 なお、 図 1と同一の構成要素には同一の符号を付し、 その 説明は省略する。
図 1 7に示すように、 部品内蔵モジュール 5は、 第 1配線パターン 1 2上に第 1電子部品 2 5 2と第 2電子部品 2 5 3とが実装されている。 そして、 第 1及び第 2電子部品 2 5 2 , 2 5 3は、 電気絶縁性シート 2 5 1に内蔵されている。 また、 第 2電子部品 2 5 3は、 第 1電子部品 2 5 2より高さが高い。 その他の構成は、 前述した部品内蔵モジュール 1 (図 1参照） と同様である。 よって、 部品内蔵モジュール 5についても 、 ビア導体 3 2の側面 3 2 aが、 ビア導体 3 2の軸方向に連続して繋が つている。 これにより、 電気的接続に関する信頼性が高い部品内蔵モジ ユールを提供することができる。
次に、 第 5実施形態に係る部品内蔵モジュール 5の製造方法について 図面を参照して説明する。 参照する図 1 8 A〜C及び図 1 9 A， Bは、 部品内蔵モジュール 5の製造方法の各工程を示す断面図である。 なお、 図 2、 図 3、 図 9及び図 1 7と同一の構成要素には同一の符号を付し、 その説明は省略する。
まず、 図 1 8 Aに示すように、 図中下側から順に、 保護フィルム 4 0 d、 2枚の電気絶縁性シ一卜 3 0 0 aからなる第 1電気絶縁性シート 3 0 0、 電気絶縁性シート 3 0 1 aと電気絶縁性シ一ト 3 0 1 bとからな る第 2電気絶縁性シート 3 0 1及び保護フィルム 4 0 eを積層し、 ラミ ネートする。 なお、 2枚の電気絶縁性シート 3 0 0 aには、 それぞれキ ャビティ 3 0 2 , 3 0 4が貫通して形成されている。 そして、 2つのキ ャビティ 3 0 2 , 3 0 2が連通し、 更に 2つのキヤビティ 3 0 4， 3 0 4が連通して、 第 1キヤビティ 3 0 3及び第 2キヤビティ 3 0 5が形成 されている。 また、 電気絶縁性シート 3 0 1 aには、 第 2キヤビティ 3 0 5と連通する第 3キヤビティ 3 0 6が貫通して形成されている。 図 1 8 Bに、 ラミネート後の状態を示す。 ラミネートすることにより 、 第 1電気絶縁性シート 3 0 0と第 2電気絶縁性シート 3 0 1とを含む 第 3電気絶縁性シート 3 1 0と、 第 3電気絶縁性シート 3 1 0の両主面 に貼り合わされた保護フィルム 4 0 d , 4 0 eとからなる積層シート 3 1 1が得られる。 なお、 第 3電気絶縁性シート 3 1 0内には、 第 1キヤ ビティ 3 0 3と、 第 2キヤビティ 3 0 5と第 3キヤビティ 3 0 6とから なる第 4キヤビティ 3 0 7とが形成されている。
続いて、 図 1 8 Cに示すように、 積層シート 3 1 1を貫通するビアホ ール 3 1を、 パンチ加工やレーザ加工等により形成する。
次に、 図 1 9 Aに示すように、 ビアホール 3 1に導電性樹脂ペースト 5 0を印刷法等の手段により充填する。
続いて、 図 1 9 Bに示すように、 第 3電気絶縁性シート 3 1 0から保 護フィルム 4 0 d， 4 0 eを剥離し、 第 3電気絶縁性シート 3 1 0の第 1キヤビティ 3 0 3及び第 4キヤビティ 3 0 7が形成された主面 3 1 0 aに、 第 1配線基板 2 5 0を配し、 かつ第 3電気絶縁性シート 3 1 0を 挟んで第 1配線基板 2 5 0と対向するように、 第 2配線基板 2 0を配す る。
そして、 第 1及び第 4キヤピティ 3 0 3、 3 0 7に、 それぞれ第 1及 び第 2電子部品 2 5 2 , 2 5 3が内蔵され、 かつ第 1配線パターン 1 2 と第 2配線パターン 2 2との間にビアホ一ル 3 1が配置されるように第 1配線基板 2 5 0と第 3電気絶縁性シート 3 1 0と第 2配線基板 2 0と を位置合わせして積層し、 これらを熱プレスにより加熱、 加圧する。 こ れにより、 第 1配線パターン 1 2と第 2配線パタ一ン 2 2とが導電性榭 脂ペースト 5 0からなるピア導体 3 2 (図 1 7参照） で電気的に接続さ れ、 部品内蔵モジュール 5 (図 1 7参照） が得られる。 上記製造方法に よれば、 高さが相違する複数の電子部品を内蔵する場合に、 各々の電子 部品の高さに対応するキヤビティを形成できるため、 例えば熱プレスェ 程において、 キヤビティ内への過剰な樹脂流動を抑制することができる なお、 前記製造方法では、 第 1電気絶縁性シートとして、 2枚の電気 絶縁性シートからなるものを用いたが、 厚手の電気絶縁性シートを 1枚 のみ使用したものを用いてもよい。 産業上の利用可能性
本発明の部品内蔵モジュールは、 耐ノイズ性、 放熱性及び生産性が高 く、 小型化が可能であることから、 通信機器の R F (Rad i o Frequency ) モジュール、 半導体パッケージ等に有用である。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . キヤビティが貫通して形成された第 1電気絶縁性シートの一主面 に、 前記キヤビティを覆って第 2電気絶縁性シ一トをラミネートして、 前記第 1電気絶縁性シートと前記第 2電気絶縁性シートとを含む第 3電 気絶縁性シートを形成し、
前記第 3電気絶縁性シートを貫通するビアホールを形成し、 前記ビアホールに導電性樹脂べ一ストを充填し、
前記第 3電気絶縁性シートの前記キヤビティが形成された主面に、 第 1配線パターンと前記第 1配線パターン上に実装された電子部品とを含 む第 1配線基板を配し、 かつ前記第 3電気絶縁性シートを挟んで前記第 1配線基板と対向するように、 第 2配線パターンを含む第 2配線基板を 配し、
前記キヤビティに前記電子部品が内蔵され、 かつ前記第 1配線パター ンと前記第 2配線パターンとの間に前記ビアホールが配置されるように 前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板とを 積層し、
積層された前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2 配線基板とを熱プレスにより加熱、 加圧して、 前記第 1配線パターンと 前記第 2配線パターンとを前記導電性樹脂ペーストからなるビア導体で 電気的に接続する部品内蔵モジュールの製造方法。
2 . 前記第 3電気絶縁性シートを形成する際、 前記第 2電気絶縁性シ 一トを挟んで前記第 1電気絶緣性シ一トと対向するように、 キヤビティ が貫通して形成された第 4電気絶縁性シートを更にラミネートして前記 第 3電気絶縁性シートを形成し、 前記第 1配線基板と対向するように配される前記第 2配線基板は、 前 記第 2配線パターン上に実装された電子部品を更に含み、
前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板と を積層する際、 前記第 4電気絶縁性シートに形成された前記キヤビティ に前記第 2配線パターン上に実装された前記電子部品が内蔵されるよう に、 前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板 とを積層する請求項 1に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
3 . 前記第 2電気絶縁性シートには、 前記第 1電気絶縁性シートに形 成されたキヤビティとは重ならない位置にキヤビティが貫通して形成さ れており、
前記第 1配線基板と対向するように配される前記第 2配線基板は、 前 記第 2配線パターン上に実装された電子部品を更に含み、
前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板と を積層する際、 前記第 2電気絶縁性シートに形成された前記キヤビティ に前記第 2配線パターン上に実装された前記電子部品が内蔵されるよう に、 前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板 とを積層する請求項 1に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
4 . 前記第 1配線基板は、 前記第 1配線パターンが形成された支持材 を更に含み、
前記熱プレスにより加熱、 加圧した後、 前記支持材を除去する請求項 1に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
5 . 前記第 1電気絶縁性シートに形成された前記キヤビティは、 第 1 キヤビティと第 2キヤビティとを含み、 前記第 2電気絶縁性シートには、 前記第 2キヤビティと連通する第 3 キヤビティが形成されており、
前記第 1配線基板の前記第 1配線パターン上に実装された前記電子部 品は、 第 1電子部品と、 前記第 1電子部品より高さが高い第 2電子部品 とを含み、
前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シートと前記第 2配線基板と を積層する際、 前記第 1キヤビティに前記第 1電子部品が内蔵され、 か つ前記第 2キヤビティ及び前記第 3キヤビティに前記第 2電子部品が内 蔵されるように前記第 1配線基板と前記第 3電気絶縁性シー卜と前記第 2配線基板とを積層する請求項 1に記載の部品内蔵モジュールの製造方 法。
6 . 前記第 1電気絶縁性シート及び前記第 2電気絶縁性シートは、 無 機質フィラー 7 0〜9 5重量％と未硬化状態の熱硬化樹脂組成物 5〜 3 0重量％とを含む請求項 1に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
7 . 前記第 1電気絶縁性シート及び前記第 2電気絶縁性シートの 1 2 0 におけるフロ一粘度は、 1 0 0 0〜 2 0 0 0 0 P a ' sである請求 項 1に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
8 . 前記第 1電気絶縁性シートに前記第 2電気絶縁性シートをラミネ ートする際、 1 0 0 °C以下の温度で、 1 M P a以下の圧力にてラミネ一 トする請求項 1に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
9 . 前記ピアホールを形成する際、 前記第 3電気絶縁性シートの主面 に保護フィルムを貼り合わせた後、 前記保護フィルム及び前記第 3電気 絶縁性シートを貫通して前記ビアホールを形成する請求項 1に記載の部 品内蔵モジュールの製造方法。
1 0. 前記ビアホールに前記導電性樹脂ペーストを充填する際、
(i) 前記第 3電気絶縁性シートの主面上に前記導電性樹脂ペースト を配置し、
(ii) 前記主面上における前記ビアホールの開口の周囲に所定の厚み の前記導電性樹脂ペーストからなるペースト層が形成きれるように、 前 記主面上に前記導電性樹脂ペーストを塗布するとともに、 前記ビアホー ルに前記導電性樹脂ペーストを充填し、
(iii) 前記主面上から前記ペースト層を搔き取るとともに、 前記ビ ァホールに前記導電性樹脂ペーストを充填する請求項 1に記載の部品内 蔵モジュールの製造方法。
1 1. 前記べ一スト層は、 前記ビアホールの前記開口上及び前記開口 のエッジから少なくとも 300 m以内の領域上に形成される請求項 1 0に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
1 2. 前記ペースト層の前記所定の厚みは、 1 0 m以上である請求 項 1 0に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
1 3. 前記ペースト層の前記所定の厚みは、 1 0 0 m以下である請 求項 1 0に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
1 4. 前記 （iii) の操作を行う前に、 前記ビアホールの前記開口と 対向する開口から、 前記ビアホールに充填された前記導電性樹脂ペース トの樹脂成分の一部を吸引する請求項 1 0に記載の部品内蔵モジュール の製造方法。
1 5. 前記 （iii) の操作を行う際、 前記ビアホールの前記開口と対 向する開口から、 前記ビアホールに充填された前記導電性樹脂ペースト の樹脂成分の一部を吸引しながら行う請求項 1 0に記載の部品内蔵モジ ユールの製造方法。
1 6. 前記 （ii) の操作を複数回行った後、 前記 （iii) の操作を行 う請求項 1 0に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
1 7. 前記ビアホールを形成する際、 前記第 3電気絶縁性シートの主 面に保護フィルムを貼り合わせた後、 前記保護フィルム及び前記第 3電 気絶縁性シートを貫通して前記ピアホールを形成し、
前記ビアホールに前記導電性樹脂ペーストを充填する際、 （0 前記 保護フィルムの主面上に前記導電性樹脂ペーストを配置し、 （ii) 前記 保護フィルムの前記主面上における前記ビアホールの開口の周囲に所定 の厚みの前記導電性樹脂ペーストからなるペースト層が形成されるよう に、 前記保護フィルムの前記主面上に前記導電性樹脂ペーストを塗布す るとともに、 前記ビアホールに前記導電性樹脂ペーストを充填し、 （ii i) 前記保護フィルムの前記主面上から前記ペースト層を搔き取るとと もに、 前記ビアホールに前記導電性樹脂ペーストを充填する請求項 1に 記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
1 8. 前記ペースト層は、 前記ビアホールの前記開口上及び前記開口 のエッジから少なくとも 300 /zm以内の領域上に形成される請求項 1 7に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
1 9. 前記ペースト層の前記所定の厚みは、 1 0 m以上である請求 項 1 7に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
20. 前記ペースト層の前記所定の厚みは、 1 0 0 m以下である請 求項 1 7に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
2 1. 前記 （iii) の操作を行う前に、 前記ビアホールの前記開口と 対向する開口から、 前記ビアホールに充填された前記導電性樹脂ペース トの樹脂成分の一部を吸引する請求項 1 7に記載の部品内蔵モジュール の製造方法。
22. 前記 （iii) の操作を行う際、 前記ビアホールの前記開口と対 向する開口から、 前記ピアホールに充填された前記導電性樹脂ペースト の樹脂成分の一部を吸引しながら行う請求項 1 7に記載の部品内蔵モジ ユールの製造方法。
2 3. 前記 （ii) の操作を複数回行った後、 前記 （iii) の操作を行 う請求項 1 7に記載の部品内蔵モジュールの製造方法。
24. 第 1配線パターンと、
前記第 1配線パターン上に実装された電子部品と、
第 2配線パターンと、
前記第 1配線パターンと前記第 2配線パターンとの間に配置され、 前 記電子部品を内蔵する電気絶縁性シートと、 前記電気絶縁性シートを貫通するビアホール内に形成され、 前記第 1 配線パターンと前記第 2配線パターンとを電気的に接続するビア導体と を含む部品内蔵モジュールであって、
前記ビア導体の側面は、 前記ビア導体の軸方向に連続して繋がってい ることを特徴とする部品内蔵モジュール。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005032489B3 (de) * 2005-07-04 2006-11-16 Schweizer Electronic Ag Leiterplatten-Mehrschichtaufbau mit integriertem elektrischem Bauteil und Herstellungsverfahren
JP2007073849A (ja) * 2005-09-08 2007-03-22 Sharp Corp 電子回路モジュールとその製造方法
US7658988B2 (en) * 2006-04-03 2010-02-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Printed circuits prepared from filled epoxy compositions
JP5034453B2 (ja) * 2006-11-16 2012-09-26 株式会社デンソー 電子部品内蔵型多層基板
JP5012896B2 (ja) * 2007-06-26 2012-08-29 株式会社村田製作所 部品内蔵基板の製造方法
JP2009170753A (ja) * 2008-01-18 2009-07-30 Panasonic Corp 多層プリント配線板とこれを用いた実装体
KR101003585B1 (ko) * 2008-06-25 2010-12-22 삼성전기주식회사 전자부품 내장형 인쇄회로기판 및 그 제조방법
US8334590B1 (en) * 2008-09-04 2012-12-18 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device having insulating and interconnection layers
US8432022B1 (en) 2009-09-29 2013-04-30 Amkor Technology, Inc. Shielded embedded electronic component substrate fabrication method and structure
US8537559B2 (en) * 2011-01-26 2013-09-17 Raytheon Company Compliant insert for electronics assemblies
TWM411098U (en) * 2011-01-28 2011-09-01 Chunghwa Picture Tubes Ltd Circuit board assembly
US10748867B2 (en) * 2012-01-04 2020-08-18 Board Of Regents, The University Of Texas System Extrusion-based additive manufacturing system for 3D structural electronic, electromagnetic and electromechanical components/devices
KR101788738B1 (ko) * 2012-08-30 2017-10-20 삼성전기주식회사 절연필름 및 절연필름 제조방법
KR101477426B1 (ko) * 2013-11-04 2014-12-29 삼성전기주식회사 기판 내장용 적층 세라믹 전자부품 및 적층 세라믹 전자부품 내장형 인쇄회로기판
US9401590B2 (en) * 2014-01-06 2016-07-26 Hamilton Sundstrand Corporation Heat sink for contactor in power distribution assembly
TWI569409B (zh) * 2014-12-15 2017-02-01 財團法人工業技術研究院 功率模組
US9704819B1 (en) * 2016-03-29 2017-07-11 Hong Kong Applied Science And Technology Research Institute Co. Ltd. Three dimensional fully molded power electronics module having a plurality of spacers for high power applications
WO2019026835A1 (ja) * 2017-08-04 2019-02-07 株式会社フジクラ 多層プリント配線板の製造方法及び多層プリント配線板

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61288498A (ja) * 1985-06-14 1986-12-18 株式会社村田製作所 電子部品内蔵多層セラミツク基板
JPH11220262A (ja) * 1997-11-25 1999-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路部品内蔵モジュールおよびその製造方法
JP2003133743A (ja) * 2001-10-23 2003-05-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路基板およびその製造方法
JP2003243835A (ja) * 2002-02-14 2003-08-29 Hitachi Chem Co Ltd 熱硬化性接着フィルム及び多層化プリント配線板とその製造方法
EP1351301A2 (en) * 2002-04-03 2003-10-08 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor built-in millimeter-wave band module

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5231268A (en) 1992-03-04 1993-07-27 Westvaco Corporation Printed microwave susceptor
US6038133A (en) * 1997-11-25 2000-03-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Circuit component built-in module and method for producing the same
JP3441945B2 (ja) 1997-12-05 2003-09-02 松下電器産業株式会社 プリント配線板およびその製造方法
TW498707B (en) * 1999-11-26 2002-08-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Wiring substrate and production method thereof
US6538210B2 (en) * 1999-12-20 2003-03-25 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Circuit component built-in module, radio device having the same, and method for producing the same
US6459593B1 (en) * 2000-08-10 2002-10-01 Nortel Networks Limited Electronic circuit board
JP4663864B2 (ja) 2000-09-28 2011-04-06 パナソニック株式会社 プリント回路基板の印刷方法
US6692818B2 (en) * 2001-06-07 2004-02-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for manufacturing circuit board and circuit board and power conversion module using the same
JP2003101222A (ja) * 2001-09-21 2003-04-04 Sony Corp 薄膜回路基板装置及びその製造方法
JP2003188308A (ja) 2001-12-21 2003-07-04 Sanyu Rec Co Ltd 樹脂封止基板の製造方法
US6898850B2 (en) * 2002-08-06 2005-05-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of manufacturing circuit board and communication appliance
CN100468706C (zh) * 2003-12-04 2009-03-11 松下电器产业株式会社 电路基板及其制造方法、半导体封装及部件内置模块

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61288498A (ja) * 1985-06-14 1986-12-18 株式会社村田製作所 電子部品内蔵多層セラミツク基板
JPH11220262A (ja) * 1997-11-25 1999-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路部品内蔵モジュールおよびその製造方法
JP2003133743A (ja) * 2001-10-23 2003-05-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路基板およびその製造方法
JP2003243835A (ja) * 2002-02-14 2003-08-29 Hitachi Chem Co Ltd 熱硬化性接着フィルム及び多層化プリント配線板とその製造方法
EP1351301A2 (en) * 2002-04-03 2003-10-08 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor built-in millimeter-wave band module

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Publication number Publication date
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