WO2005025838A1 - 光学的立体造形および装置 - Google Patents

光学的立体造形および装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2005025838A1
WO2005025838A1 PCT/JP2004/013565 JP2004013565W WO2005025838A1 WO 2005025838 A1 WO2005025838 A1 WO 2005025838A1 JP 2004013565 W JP2004013565 W JP 2004013565W WO 2005025838 A1 WO2005025838 A1 WO 2005025838A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
mask
light
planar
drawing mask
planar drawing
Prior art date
Application number
PCT/JP2004/013565
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Takakuni Ueno
Original Assignee
Nabtesco Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nabtesco Corporation filed Critical Nabtesco Corporation
Priority to US10/570,232 priority Critical patent/US7931851B2/en
Priority to EP04773209A priority patent/EP1666235B1/en
Priority to CN200480026047XA priority patent/CN1849207B/zh
Priority to JP2005513966A priority patent/JP4417911B2/ja
Publication of WO2005025838A1 publication Critical patent/WO2005025838A1/ja

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y10/00Processes of additive manufacturing

Definitions

  • the traveling range of the liquid crystal shutter is divided into a plurality of sections, and each section is divided into traveling areas in order to cure the photocurable resin composition with the liquid crystal shutter stopped.
  • the hardened state is likely to be discontinuous or non-uniform at the boundary of the three-dimensional object, which tends to cause uneven strength, insufficient strength, poor appearance, and reduced dimensional accuracy.
  • the object of the present invention is not limited to small- and medium-sized three-dimensional objects, but also for large three-dimensional objects, with high molding accuracy and high quality three-dimensional molding while preventing curing and uneven strength.
  • An object of the present invention is to provide an optical three-dimensional modeling method and an optical three-dimensional modeling apparatus capable of manufacturing a product at a high modeling speed with high productivity.
  • an object of the present invention is that a boundary between adjacent drawing regions in a photocured resin layer does not appear as lines, streaks, ridges, etc. in a finally obtained three-dimensional structure, and the boundary is conspicuous.
  • an object of the present invention is to provide a high-speed optical system even when an inexpensive light source such as an ordinary ultraviolet lamp is used without using an expensive ultraviolet laser device.
  • / ⁇ Provides an optical three-dimensional molding method and an optical three-dimensional expansion device capable of smoothly producing a high-quality three-dimensional molded article having high molding accuracy and no curing unevenness or strength unevenness at a high molding speed. It is to be.
  • the present inventor has made intensive studies to achieve the above object. As a result, the surface of the photocurable resin composition is irradiated with light through a planar drawing mask, and a photocured resin layer having a predetermined cross-sectional pattern is sequentially formed to manufacture a three-dimensional structure.
  • the present inventor has found that, even when an inexpensive light source such as a normal ultraviolet lamp is used without using an expensive ultraviolet laser device, high molding accuracy and curing unevenness are obtained. It has been found that high-quality three-dimensional objects without defects can be produced smoothly at a high molding speed.
  • a light-cured resin layer having a predetermined cross-sectional shape pattern is formed by irradiating light to the surface of the photocurable resin composition through a planar drawing mask under control, and then the photocured resin layer is formed. Is applied with one layer of the photocurable resin composition, and the surface of the photocurable resin composition is irradiated with light under control through a planar drawing mask to form a photocurable resin having a predetermined cross-sectional shape pattern.
  • a three-dimensional structure by successively repeating a stereolithography process for further forming a formed resin layer until a predetermined three-dimensional structure is formed; and continuously changing a mask image as a planar drawing mask. Using the resulting drawing mask;
  • the above-described molding operation of the present invention includes, for example, disposing a molding table in a gas atmosphere, and forming one layer of a liquid, paste, powder, or thin-film photocurable resin on the surface of the molding tape.
  • the composition is irradiated with light under control through a planar drawing mask to form a photocured layer having a predetermined pattern and thickness
  • one layer of liquid or paste is formed on the photocured layer surface.
  • a powder-cured or thin-film photocurable resin composition is applied, and light is radiated under control through a surface drawing mask under control to integrally form a photocurable layer having a predetermined pattern and thickness. It is also possible to employ a method in which the process is repeated.
  • a predetermined sectional shape pattern larger than the area of the planar drawing mask is formed, and a cross-sectional pattern smaller than the area of the planar drawing mask is formed during the forming operation. May need to be formed with
  • the cross-sectional area (cross-sectional shape pattern) of the spherical body is larger than the area of the planar drawing mask.
  • the cross-sectional area (cross-sectional shape pattern) of the portion corresponding to the corner is smaller than the area of the planar drawing mask.
  • the present invention encompasses any of the above-described methods. Therefore, in the present invention, the mask image of the planar drawing mask does not always change continuously from the beginning to the end of the modeling process in a moving image. In some modeling processes, the mask image changes continuously in a moving image, and in another modeling process, the mask image may be a still image according to the cross-sectional shape pattern to be formed. .
  • the boundary parts [adjacent part between the first drawing area and the second drawing area (boundary part), adjacent part between the second drawing area and the third drawing area (boundary part), etc.]
  • Irradiation is preferred, but this results in overlapping hardening at the boundary (hereinafter sometimes referred to as “overlapping”). If such operations are repeated over multiple layers until the desired three-dimensional object is obtained, the final three-dimensional object will have lines, streaks, and protrusions at the part corresponding to the boundary between adjacent drawing areas. Stripes and the like appear, and the appearance of the three-dimensional object tends to be poor, and in some cases, dimensional accuracy may decrease and strength may become uneven.
  • a photo-cured cross-sectional pattern surrounded by A, B, C, and D is formed by continuously changing the mask image of the planar drawing mask 3 in a moving image.
  • the cross-sectional shape pattern cannot be formed.
  • the part corresponding to (1) is photo-cured
  • the part corresponding to the drawing area (2) is irradiated by the second continuous moving single light irradiation
  • the drawing area (3) is set by the third continuous moving single light irradiation.
  • the boundary and the degree of light irradiation (hardening degree) at the overlapping part a 2 (boundary part) are higher than those of the other parts (parts other than the overlapping parts a 1 and a 2), and accordingly, the overlapping part
  • the cured state of a1 and the overlapping part a2 is different from that of the other parts (the degree of curing becomes higher), and in the finally obtained three-dimensional structure, the overlapping part a1 and the overlapping part a2 Lines, streaks, ridges, etc. appear in the corresponding places, and the appearance of the three-dimensional structure is likely to be poor, and in some cases, dimensional accuracy is reduced and strength is uneven.
  • the light irradiation intensity on the overlapping portions c 1 and c 2 is set to the other portions during light curing of the drawing region (1), the drawing region (2), and the drawing region (3). Even if the intensity of light irradiation is not lower than the light irradiation intensity, lines, streaks, ridges, etc., at the locations corresponding to the overlapping portions c1 and c2 compared to the case where the overlapping portions c1 and c2 are linear Is suppressed, but this
  • the position of the boundary between the adjacent drawing areas in the photocured resin layer is vertically aligned between the vertically stacked photocured resin layers constituting the three-dimensional structure. It can be implemented by programming with a computer or the like so as to be shifted from each other.
  • FIG. 4A and Fig. 4B can be cited as examples when this method (i ii) is adopted.
  • Fig. 4A and Fig. 4B are both longitudinal sectional views.
  • Figure 4A shows This shows the partial structure of a three-dimensional object formed by irradiating the boundary between adjacent drawing areas overlapping with light, and the overlapping part e1, e2, e3, e corresponding to the boundary
  • FIG. 4 is a schematic view showing a case where 4, e5, are formed to be shifted from each other between light-cured resin layers vertically stacked to constitute a three-dimensional structure.
  • FIG. 4B shows a three-dimensional structure obtained by stereolithography by simply joining the edges of the drawing area without overlapping light irradiation at the boundary between the adjacent drawing areas.
  • the means or system for continuously moving the planar drawing mask with respect to the surface (molding surface) of the photocurable resin thread and the product there is no particular limitation on the means or system for continuously moving the planar drawing mask with respect to the surface (molding surface) of the photocurable resin thread and the product.
  • a linear guide, shaft, flat bar, etc. as a guide
  • drive is transmitted using a ball screw, trapezoidal screw, timing belt, rack & pinion, chain, etc.
  • the drive source is an AC servo motor, DC servo motor, A testing motor, a pulse motor, or the like can be used.
  • a linear motor system that serves both as a guide and a drive, and the end of an arm of an articulated robot.
  • any method and method can be used for moving the system.
  • a pulse motor is preferable as the driving source because the planar drawing mask can be precisely and continuously moved at a micro pitch and can be synchronized with the continuous change of the mask image of the planar drawing mask with high precision.
  • one pixel pitch (distance between adjacent pixels) on the surface of the photocurable resin composition becomes 0.1 mm (modeling accuracy required for stereolithography).
  • the exposure surface size is 32 mm X 24 mm for QVGA, 64 mm X 48 mm for VGA, 80 mm X 60 mm for SVGA, and UXGA 102.4 mm X 76.8 mm, QSXGA 256 mm X 264.8 mm, Exposure surface
  • the light source is disposed on the back side of the planar drawing mask, and light from the light source is applied to the surface of the photocurable resin composition via the planar drawing mask.
  • the shape, size, and number of light sources are not particularly limited, and can be appropriately selected according to the shape and size of the planar drawing mask, the shape and size of the light-cured sectional shape pattern to be formed, and the like.
  • the light source may be point-like, spherical, rod-like, or planar, or a point-like or spherical light source may be directly arranged on the back side of the planar drawing mask in one or more rows. Good.
  • a method of condensing light using a plurality of light sources and increasing light energy may be adopted.
  • an optical fiber or a light guide is used, there is an advantage that a plurality of light sources can be easily focused.
  • the photocurable resin composition used in the present invention may contain a filler such as solid fine particles if necessary.
  • a filler such as solid fine particles if necessary.
  • the use of a photocurable resin composition containing a filler can improve dimensional accuracy by reducing volumetric shrinkage during curing, improve mechanical properties and heat resistance, and the like.
  • the whiskers have a diameter of 0.3 to 1 ⁇ , especially 0.3 to 0.7 / xm, and a length of 10 to 7 O ⁇ m, especially 20 to 5 O ⁇ m. It is preferable to use those having a specific ratio of Si 0-: L 00, especially 20-70 ⁇ .
  • the whisker dimensions and the aspect ratio referred to here are those measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer.
  • the type of the whiskers is not particularly limited, and examples thereof include aluminum borate-based whiskers, aluminum oxide-based whiskers, aluminum nitride-based whiskers, magnesium oxide-based whiskers, and titanium oxide-based whiskers. One or more of these can be used.
  • FIGS. 5 to 8 show specific examples of the main parts of an optical stereolithography apparatus (stereolithography apparatus) used in the optical three-dimensional stereolithography method (stereolithography method) of the present invention, respectively.
  • FIG. 9 shows the steps (operating procedures) of performing the optical shaping according to the method of the present invention using the optical shaping apparatus as shown in FIGS. 5 to 8.
  • the dimensions of the planar drawing mask 3 (3a, 3b, etc.) should be appropriate according to the shape and dimensions (especially the cross-sectional shape and dimensions) of the stereolithographic object to be manufactured. be able to.
  • a planar drawing mask 3 (3a) whose width dimension is smaller than the entire width (the entire width of the molding surface) of a predetermined photocured cross-sectional shape pattern to be formed.
  • 3b) can be used to manufacture a predetermined photocured cross-sectional shape pattern having a larger dimension than the planar drawing mask 3.
  • the optical shaping by reducing the projection drawing surface, thereby increasing the drawing resolution.
  • the light intensity per unit area in the drawing unit increases, and the irradiation time in the irradiation unit can be shortened.
  • a photocurable resin or composition having a curing sensitivity of 5 mJ was used, and the photocurable resin composition was stopped (fixed) using a planar drawing mask of 250 mm ⁇ 250 mm. Assuming that there is an image of 1 mWZ cm 2 that was illuminated all at once in the size of mm, the required light irradiation time at this time is 5 sec.
  • the optical three-dimensional object forming method and apparatus of the present invention provide a high-quality three-dimensional object having no appearance of undesired lines, streaks, ridges, etc., excellent appearance and dimensional accuracy, and having no unevenness in strength or curing. Can be used effectively for high productivity with high molding accuracy and high molding speed.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Abstract

マスク画像を動画的に連続的に変化させ得る面状描画マスクを使用し、面状描画マスクを光硬化性樹脂組成物の表面に対して連続的に移動させると共に、面状描画マスクのマスク画像を、形成しようとする光硬化した樹脂層の断面形状パターンに対応させて面状描画マスクの移動と同期させて連続的に変えながら光硬化性樹脂組成物の表面に面状描画マスクを介して光を照射して所定の断面形状パターンを有する光硬化した樹脂層を形成すると共に、描画領域間の境界部分が、最終的に得られる立体造形物において目立たないようにして光造形を行う方法及びそのための光造形装置。

Description

明 細 書 光学的立体造形および装置. <技術分野 >
本発明は光硬化性樹脂組成物を用いる光学的立体造形方法おょぴ光学的立体造 形装置に関する。 より詳細には、 本発明は、 光硬化性樹脂組成物を用いて、 表面 に望ましくない線、 筋、 突条などが発現せず、 外観および寸法精度に優れ、 しか も強度ムラや硬化ムラのない、 高品質の立体造形物を、 高い造形精度で、 速い造 形速度で、 生産性良く製造するための光学的立体造形方法および光学的立体造形 装置に関するものであり、 本発明による場合は小型から大型に至る各種の立体造 形物を円滑に製造することができる。
ぐ背景技術〉
近年、 三次元 C A Dに入力されたデータに基づいて光硬化性樹脂を硬化させて 立体造形物を製造する光学造形方法および装置が実用化されている。 この光造形 技術は、 設計の途中で外観デザインを検証するためのモデル、 部品の機能性をチ エックするためのモデル、 铸型を製作するための樹脂型、 金型を製作するための ベースモデルなどのような複雑な三次元物体を容易に造形できることから注目を 集めている。
光学造形方法によって造形物を製造するに当たっては、 造形浴を用いる方法が 汎用されており、 その手順としては、 造形浴に液状の光硬化性樹脂を入れ、 液面 に所望のパターンが得られるようにコンピューターで制御されたスポット状の紫 外線レーザー光を選択的に照射して所定の厚みに光硬化させて硬化樹脂層を形成 し、 その硬化樹脂層を造形浴内で下方に移動させて造形浴内の光硬化性樹脂液を 該硬化樹脂層上に流動させて光硬化性樹脂液の層を形成させ、 その光硬化性樹脂 液層にスポット状の紫外線レーザー光を照射して硬化樹脂層を形成し、 前記のェ 程を所定の形状および寸法の立体造形物が得られるまで繰り返して行う方法が広 く採用されている。 しかしながら、 スポット状の紫外線レーザー光を用いる上記した従来法による 場合は、 1個のスポット状レーザー光を光硬化性樹脂の表面に照射しながら移動 させて面状の光硬化したパターンを开成するいわゆる点描方式であるため、 造形 に長い時間を要し、 生産性が低いという問題がある。 しかも、 光源として用いら れる紫外線レーザー装置は極めて高価であるため、 この種の光学的立体造形装置 を高価格なものにしている。
上記した従来技術の欠点の解消を目的として、 微小ドットエリアの遮光制御可 能な光シャッターを連続的に一列配置したライン形状の露光マスクを用い、 該露 光マスクを光シャッターの配列方向と直交方向に走查させながら、 所定の水平断 面形状データに応じて光シャッターを制御することによって 1層分の光硬化した 樹脂層を順次形成する光学的立体造形法が提案されている (特開平 4一 3 0 5 4 3 8号公報を参照)。 この方法による場合は、光源として高価な紫外線レーザー装 置を必ずしも使用する必要がなく、 通常の紫外線ランプのような安価な光源を用 いることができ、 またスポット状の紫外線レーザー光を用いる前記従来の方法に 比べて造形速度を速くすることができる。しかしながら、この方法による場合は、 線状の光硬化部を露光マスクの走查方向に 1列ずつ形成し、 それを多数回繰り返 すことによって 1層分の断面形状パターンを形成してゆく方式であることにより、 露光マスクの走査速度を速くすると、 十分に光硬化した 1列毎の光硬化部を形成 することができなくなるため、 露光マスクをゆっくり走査する必要がある。 しか も、 1列毎の光硬化部を次々と形成して面状の光硬化層を形成する方式のため造 形に時間がかかる。 そのため、 造形速度が十分に速いとは言えず、 生産性の点で 十分に満足のゆくものではない。
また、 上記とは別の方法として、 光源と光硬化性樹脂組成物の表面との間に、 微小ドットエリアでの遮光および透光が可能な液晶シャッターよりなる面状描画 マスクを固定配置し、 面状描画マスクの停止状態で、 形成しょうとする 1層分の 断面形状パターンに応じて面状描面マスクに所定のマスクパターンを形成させ、 そのマスクパターンを介して光硬ィ匕性樹脂組成物の表面に光を照射して光硬化性 樹脂組成物を硬化させて 1層分の断面形状パターンを形成させ、 次いで該光硬化 した断面形状パターンの上に次の 1層分の光硬化†生樹脂組成物を供給し、 面状描 画マスクの停止状態で、 形成しようとする 1層分の断面形状パターンに応じて面 状描画マスクに次の所定のマスクパターンを形成させ、 そのマスクパターンを介 して光硬化性樹脂組成物の表面に光を照射して光硬化性樹脂組成物を硬化させて 次の 1層分の断面形状パターンを形成させるという操作を操り返して立体造形物 を製造する方法が知られている。
この方法による場合は、 光硬化性樹脂組成物の表面への光照射および 1層分の 光硬化した断面形状パターンを、 面状で一度に形成するため、 スポット状の紫外 線レーザーを用いる上記した従来法おょぴ微小ドットエリアの遮光制御可能な光 シャツタ一を連続的に 1列配置したライン形状の露光マスクを用いる上記した特 開平 4一 3 0 5 4 3 8号公報に記載されている方法に比べて、 光造形速度を速く することができる。
この方法によって立体造形物を製造するに当たっては、 造形精度 (解像度) の 点から、 面状描画マスクから投影される光硬化性樹脂組成物表面での隣接する微 小ドットエリア間の距離は 0 . 1 mm以下であることが必要であるとされており、 そのため、 画素数は、 例えば、 造形エリアサイズが 2 5 O mm X 2 5 0 mmの小 型のもので少なくとも 2 5 0 0 X 2 5 0 0 ドット程度必要であり、 また造形ェリ ァサイズが 6 0 O mm X 6 0 0 mmの中型のものでは少なくとも 6 0 0 0 X 6 0 0 0ドット程度必要である。 しかしながら、 現存する液晶マスク (液晶シャツタ 一) や、 デジタルマイクロミラーシャッターではこれを実現する解像度のものは 存在しないか、 または存在しても極めて高価である。
また、 固定配置した面状描画マスクを停止した状態で光照射を行うこの方法に よる場合は、 露光形状パターンの精細度は、 面状描画マスクの精細度 (粗さ) と 面状描画マスクを介して光硬化性樹脂組成物表面に投影されるパターンとの拡 大 ·縮小率によって決定され、 拡大率が小さいほど (縮小率が大きいほど) 光硬 化性樹脂組成物の表面での光ドット間の距離が低減して形成される断面形状パタ ーンの精細度が向上し、 反対に拡大率が大きいほど光硬化性樹脂組成物の表面で の光ドット間の距離が大きくなり形成される断面形状パターンの精細度が低下す る。
そのため、 面状描画マスクを固定配置したこの方法による場合は、 精細度 (造 形精度) に優れる大型の立体造形物を製造することは困難であり、 精細度 (造形 精度) の点から小型の立体造形物の製造にしか適用できないというのが現状であ る。
固定配置した面状描画マスクを用いる上記した方法の欠点を解消して、 小型の 液晶シャッターを使用して大型の立体造开物の製造を可能にすることを目的とし て、 光を選択的に透過または遮光する液曰 シャッター (液晶マスク) を光硬化性 樹脂の液面に対して平行に走行し得るように配置すると共に、 液晶シャッターの 走行範囲を複数に分割し、 液晶シャッターをその分割された走行範囲の第 1の範 囲まで移動して停止させ、 液晶シャッターを停止させた状態で液晶シャッターの 背部に設けた光源を該液晶シャッターの範囲で移送しながら該液晶シャッターを 介して光硬化性樹脂表面に光を照射して該分割された第 1の範囲に相当する硬化 部分を形成させ、 次いで液晶シャッターを第 2の分割された走行範囲まで移動し て停止させ、 液晶シャッターを停止させた状態で液晶シャッターの背部に設けた 光源を該液晶シャッターの範囲で移送しながら該液晶シャッターを介して光硬化 性樹脂表面に光を照射して該分割された第 2の範囲に相当する硬化部分を形成さ せ、 それと同じ操作を 1層分の所定の断面形状パターンが光硬化性樹脂組成物の 表面に形成されるまで行い、 そして前記工程を所定の立体造形物が形成されるま で繰り返して立体造形物を製造する方法が提案されている (特開平 8— 1 1 2 8 6 3号公報)。
しかしながら、 上記特開平 8— 1 1 2 8 6 3号公報に記載されている方法によ る場合は、 液晶シャッターの分割された第 1の走行範囲への移動一液晶シャッタ 一の停止状態での光照射 (光硬化性樹脂表面での光硬化部の形成) 一液晶シャッ ターの分割された第 2走行範囲への移動一液晶シャッターの停止状態での光照射 (光硬化性樹脂表面での光硬化部の形成)■ · ·という操作の繰り返しによって 1 層分の硬化した断面形状パターンが形成され、 それを更に多層にわたって繰り返 すことによって立体造形物を製造しており、 液晶シャッターが複数に分割された それぞれの走行範囲位置まで移動しているときには光照射が行われない。 そのた め、 この方法による場合は、 露光が継続して行われず、 断続的になされるため、 造形速度が遅くなる。 しかも、 この方法による場合は、 液晶シャッターの走行範 囲を複数に分割し、 各々区分において液晶シャッターを停止させた状態で光硬化 性樹脂組成物の硬化を行うために、 互いに分割された走行区域の境界部分で硬化 状態が不連続になったり不均一になり易く、 それに って立体造形物全体の強度 ムラ、 強度不足、 外観不良、 寸法精度の低下などを生じ易い。
<発明の開示 >
本発明の目的は、 小型、 中型の立体造形物に限らず、 大型の立体造形物であつ ても、 高い造形精度で、 且つ硬化ムラや強度ムラの猪生を防ぎながら、 高品質の 立体造形物を、 速い造形速度で生産性良く製造することのできる光学的立体造形 方法および光学的立体造形装置を提供することである。 特に、 本発明の目的は、 光硬化した樹脂層における隣接した描画領域間の境界部分が、 最終的に得られる 立体造形物において線、 筋、 突条などとして発現せず、 該境界部分が目立たず、 外観おょぴ寸法精度に優れる前記した高品質の立体造形物を、 速い造形速度およ び高い造形精度で生産性良く製造するための光学的 体造形方法おょぴ光学的立 体造形装置を提供することである。
さらに、 本発明の目的は、 高価な紫外線レーザー装置を用いずに、 通常の紫外 線ランプのような安価な光源を用いた場合にも、 高!/ヽ造形精度を有し、 且つ硬化 ムラや強度ムラのない高品質の立体造形物を、 速い造形速度で円滑に製造するこ とのできる光学的立体造形方法および光学的立体造膨装置を提供することである。 上記の目的を達成すべく本発明者は鋭意検討を重ねてきた。 その結果、 面状描 画マスクを介して光硬化性樹脂組成物の表面に光を照射して、 所定の断面形状パ ターンを有する光硬化した樹脂層を順次形成して立体造形物を製造するに当たつ て、 面状描画マスクを固定または停止した状態で光,照射を行う上記した従来技術 に代えて、 光造形工程の少なくとも一部において、 光照射時に面状描画マスクを 連続的に移動させると共に、 面状描画マスクの該連続移動に同期させて、 面状描 画マスクによるマスク画像 (マスクパターン) を、 形成しょうとする所定の断面 形状パターンに応じて連続的に変えながら光を照射して造形を行う (面状描画マ スクのマスク画像を例えば映画やテレビ画面などの動画のように連続的に変えな がら光を照射して造形を行う) と、 小型、 中型の立体造形物に限らず、 大型の立 体造形物であっても、 高い造形精度で、 且つ硬化ムラの発生を防止しながら、 高 品質で、 上記した従来技術よりも速い造形速度で生産性良く製造することができ ることを見出した。
さらに、 本発明者は、 前記した光造形工程を、 光硬化した樹脂層における隣接 する描画領域間の境界部分が、 最終的に得られる立体造形物において目立つのを 回避するようにして行うと、 隣接する描画領域間の境界部分が、 最終的に得られ る立体造形物において線状、 筋状、 凸条などとして出現することを防止でき、 外 観および寸法精度に優れ、 しかも強度ムラのない立体造形物が得られること、 そ して境界部分が目立つのを回避するためには、 隣接する描画領域間の境界部分で の光照射強度の合計を境界部分以外の部分における光照射強度と同じかまたはそ れと近似した光照射強度にする方法、 隣接する描画領域間の境界形状を曲線形状 にする方法、 および隣接する描面領域間の境界部分の位置を上下に積層した光硬 化した樹脂層間で互いにずらせる方法のうちの少なくとも 1つが有効であること を見出した。 ·
また、 本発明者は、 上記した方法による場合は、 高価な紫外線レーザー装置を 用いずに通常の紫外線ランプのような安価な光源を用いた場合にも、 高い造形精 度を有し且つ硬化ムラのない高品質の立体造形物を、 速い造形速度で円滑に製造 できることを見出した。
さらに、 本発明者は、 面状描面マスクとしては、 微小ドットエリアでの遮光お よび透光が可能な複数の微小光シャッターを面状に配置した面状描画マスク、 特 に液晶シャッターまたはデジタノレマイクロミラーシャッターを面状に配置した面 状描画マスクが好ましく用いられること、 また光源と面状描画マスクとの間に面 状描画マスクと同期させて連続的に移動させることのできる光集レンズを配置し、 面状描画マスクと光硬化性樹脂糸且成物の表面との間に面状描画マスクと同期させ て連続的に移動させることのできる投影レンズを配置するのが好ましいことを見 出して、 それらの種々の矢 Π見に基づいて本発明を完成した。
すなわち、 本発明は、
( 1 ) 光硬化性樹脂組成物の表面に面状描画マスクを介して制御下に光を照射 して所定の断面形状パターンを有する光硬化した樹脂層を形成した後、 該光硬化 した樹脂層の上に 1層分の光硬化性樹脂組成物を施し、 該光硬化性樹脂組成物の 表面に面状描画マスクを介して制御下に光を照射して所定の断面形状パターンを 有する光硬化した樹脂層を更に形成する光造形工程を所定の立体造形物が形成さ れるまで順次操り返すことによって立体造形物を製造する方法であって; 面状描画マスクとしてマスク画像を連続的に変化させ得る面状描画マスクを使 用し;
光造形工程の少なくとも一部で、 面状描画マスクを光硬化性樹脂組成物の表面 に対して連続的に移動させると共に、 面状描画マスクのマスク画像を、 形成しよ うとする光硬化した樹脂層の断面形状パターンに対応させて面状描画マスクの移 動と同期させて連続的に変えながら光硬化性樹脂組成物の表面に面状描画マスク を介して光を照射して所定の断面形状パターンを有する光硬化した樹脂層を形成 する造形操作を行い;且つ、
光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分が、 最終的に得られ る立体造形物において目立たないようにして、 光造形を行う ;
ことを特徴とする光学的立体造形方法である。
そして、 本発明は、
( 2 ) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分が最終的に得 られる立体造形物において目立たないようにするために、下記の ( i ) 〜(ii i) ;
( i ) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分での光照射強度 の合計を、 境界部分以外の部分における光照射強度と同じかまたはそれと近似し た光照射強度にする ;
(ii) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界形状を、 曲線形状に する ;および (iii)光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分の位置を、上下 に積層した光硬化した樹脂層間で互いにずらせる ;
操作のうちの少なくとも 1つの行う、 前記 (1 ) の光学的立体造形方法である。
さらに、 本発明は、
( 3 ) 面状描画マスクと して、 微小ドットエリアでの遮光および透光が可能な 複数の微小光シャッターを面状に配置した面状描画マスクを用い、 面状描画マス クの連続移動時に、 形成しょうとする断面形状パターンに対応させて前記複数の 微小光シャッターによりマスク画像を連続的に変えながら光硬化性樹脂組成物の 表面への光照射を行う前記 (1 ) または(2 ) の光学的立体造形法方法;および、
( 4 ) 面状描画マスクが、 液晶シャッターまたはデジタルマイクロミラーシャ ッターを面状に配置した面状描画マスクである前記(3 )の光学的立体造形方法; である。
そして、 本発明は、
( 5 ) 載置台上または光硬化した樹脂層上に、 1層分の光硬化性樹脂組成物を 順次供給するための光硬化性樹脂組成物の供給手段;
光源;
マスク画像を連続的に变えることのできる面状描画マスク ;
面状描画マスクを光硬化性樹脂組成物の表面に対して連続的に移動させるため の移動手段;
面状描画マスクのマスク画像を、 面状描画マスクの移動と同期させて連続的に 変化させるための手段;および、
光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分が、 最終的に得られ る立体造形物において目 たないようにするための手段;
を備えていることを特徴とする光学的立体造形装置である。
また、 本発明は、
( 6 ) 光硬化した樹脂屬における隣接する描画領域間の境界部分が最終的に得 られる立体造形物において目立たないようにするための手段が、 下記の ( i ) 〜 (iii) のうちの少なくとも 1つを行う手段である、 前記 (5 ) の光学的立体造形 装置である。
( i ) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分での光照射強度 の合計を境界部分以外の部分における光照射強度と同じかまたはそれと近似した 光照射強度にする。
(ii) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界形状を、 曲線形状に する。
(iii)光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分の位置を、上下 に積層した光硬化した榭月旨眉間で、 上下で互いにずらせる。
さらに、 本発明は、
( 7 ) 面状描画マスク力 微小ドットエリアでの遮光および透光が可能な複数 の微小光シャッターを面伏に配置した面状描画マスクである前記( 5 )または( 6 ) の光学的立体造形装置;
( 8 ) 面状描画マスク力 液晶シャッターまたはデジタルマイクロミラーシャ ッターを面状に配置した面状描画マスクである前記 (5 ) 〜 (7 ) のいずれかの 光学的立体造形装置;および、
( 9 ) 光源と面状描面マスクとの間に面状描画マスクと同期させて連続的に移 動させることのできる光集レンズを有し、 面状描画マスクと光硬化性樹脂組成物 の表面との間に面状描画マスクと同期させて連続的に移動させることのできる投 影レンズを有する前記 (5 ) ~ ( 8 ) のいずれかの光学的立体造形装置; である。
本発明による場合は、 描画領域の境界に相当する部分に線、 筋、 突条などが出 現せず、 外観および寸法精度に優れ、 しかも強度ムラのない高品質の立体造形物 を、 形成しようとする所定の断面形状パターンよりもサイズが小さくて比較的安 価な面状描画マスクを用レ、て、 高い造形精度で、 且つ硬化ムラの発生を防止しな がら、 従来よりも速い造幵速度で生産性良く製造することができる。
そして、 本発明による場合は、 小型、 中型の立体造形物に限らず、 大型の立体 造形物であっても、 高い寸法精度および速い造形速度で円滑に製造することがで きる。 さらに、 本発明による場合は、 高価な紫外線レーザー装置を用いずに通常の紫 外線ランプのような安価な光源を用いた場合にも、 前記した高品質の立体造形物 を、 速い造形速度で円滑に製造することができる。
<図面の簡単な説明〉
第 1図は描画領域間に境界部分 (重なり部分) を有する断面形状パターンを 形成する際の一例を示す図である。
第 2図は描画領域間に境界部分 (重なり部分) を有する断面形状パターンを 形成する際の別の例を示す図である。
第 3 A図、 第 3 B図は描画領域間に境界部分 (重なり部分) を有する断面形 状パターンを形成する際の更に別の例を示す図である。
第 4 A図、 第 4 B図は本発明の光学的立体造形方法において、 描画領域間の 境界部分 (重なり部分) の位置が、 上下の光硬化した樹脂層間でずれるようにし て光造形を行う場合の一例を示す図である。
第 5図は本発明で用いる光学的立体造形装置の一例を示す図である。
第 6図は本発明で用いる光学的立体造形装置の別の例を示す図である。
第 7図は本発明で用いる光学的立体造形装置のさらに別の例を示す図である。 第 8図は本発明で用いる光学的立体造形装置のさらに別の例を示す図である。 第 9図は本発明の光学的立体造形方法の一例を示す図である。
第 1 0図は第 9図の光学的立体造形方法で形成される断面形状パターンを示 す図である。
図中の符号で、 1は光源、 2は集光レンズ、 3は面状描画マスク、 3 aは液晶 シャッターを面状に酉己置した面状描画マスク、 3 bはデジタルマイクロミラーシ ャッターを面状に配置した面状描画マスク、 4は投影レンズ、 5は造形面、 6は 露光像、 7は光伝達手段、 8はロッドレンズ、 9は結像レンズ、 1 0は反射鏡で ある。
<発明を実施するための最良の形態 >
以下に本発明について詳細に説明する。
本発明では、 光硬 匕性樹脂組成物の表面に面状描画マスクを介して制御下に光 を照射して所定の断面形状パターンを有する光硬化した樹脂層を形成した後、 該 光硬化した樹脂層の上に 1層分の光硬化性樹脂組成物を施し、 該光硬化性樹脂組 成物の表面に面状描画マスクを介して制御下に光を照射して所定の断面形状パタ ーンを有する光硬化した樹脂層を更に形成する操作を所定の立体造形物が形成さ れるまで順次操り返すことによつて立体造形物を製造する。
前記した本発明の造形操作は、 一般に、 液状の光硬化性樹脂組成物を充填した 造形浴中に造形テーブルを配置し、 造形テーブルを下降させることによって造形 テーブル面に 1層分の液^の光硬化性樹脂組成物層を形成させ、 それに面状描画 マスクを介して制御下に光を照射して所定のパターンぉよび厚みを有する光硬化 した樹脂層 (以下 「光硬ィ匕層」 ということがある) を形成した後、 造形テーブル を更に下降させて該光硬化層面に 1層分の液状の光硬化性樹脂組成物層を形成さ せて面状描画マスクを介して制御下に光を照射して所定のパターンおよび厚みを 有する光硬化層を一体に積層形成する工程を繰り返して行う、 造形浴法を採用し て行うことができる。
また、 前記した本発明の造形操作は、 例えば、 気体雰囲気中に造形テーブルを 配置し、 その造形テープ/レ面に 1層分の液状、 ペース ト状、 粉末状または薄膜状 の光硬化性樹脂組成物を沲して面状描画マスクを介して制御下に光を照射して所 定のパターンおよび厚みを有する光硬化層を形成した後、 該光硬化層面に 1層分 の液状、 ペースト状、 粉宋状または薄膜状の光硬化性樹脂組成物を施して面状描 画マスクを介して制御下に光を照射して所定のパターンおよび厚みを有する光硬 化層を一体に積層形成する工程を繰り返して行う方法を採用して行うこともでき る。 この方法による場合 ίま、 造形テーブルまたは光硬化層を上向きにしておき、 その上面に光硬化性樹脂糸且成物を施し、 面状描画マスクを介して光照射して光硬 化層を順次積層形成してゆく方式を採用してもよいし、 造形テーブルまたは光硬 化層を垂直または斜めに酉己置しておいて造形テーブル面または光硬化層面上に光 硬化性樹脂層を施し面状描画マスクを介して光照射して光硬化層を順次積層形成 してゆく方式を採用してもよいし、 或いは造形テーブルまたは光硬化層を下向き に配置しておいて造形テーブル面または光硬化層面に光硬化性樹脂層組成物を施 し面状描画マスクを介して光照射して順次下方に光硬化層を積層形成してゆく方 式を採用してもよレ、。 造形テーブル面または光硬化層面に光硬化性樹脂組成物を 施すに当たっては、 例えば、 ブレード塗装、流延塗装、 ローラー塗装、転写塗装、 ハケ塗り、 スプレー塗装などの適当な方法を採用することができる。
本発明では、 上記した造形操作を行うに当たって、 面状描画マスクとしてマス ク画像を連続的に変化させ得る面状描画マスクを使用して、 造形工程の少なくと も一部、 すなわち光硬化した所定の断面形状パターンを形成するための工程のす ベてまたは該工程の一部において、 面状描画マスクを光硬化性樹脂組成物の表面 に対して連続的に移動させると共に、 面状描画マスクのマスク画像を形成しよう とする光硬化した樹脂層の断面形状パターンに対応させて面状描画マスクの移動 と同期させて連続的に変えながら (すなわち動画的に変えながら)、光硬化性樹脂 組成物の表面に面状描画マスクを介して光を照射して所定の断面形状パターンを 有する光硬化した樹脂層を形成する。 面状描画マスクの移動は、 造形面に対して 平行状態で行うことが望ましいが、 必ずしもそれに限定されず、 必要に応じて造 形面に対して非平行状態で移動させてもよい。
例えば、 上記した造形操作を多段 (多層) にわたつて繰り返して立体造形物を 製造するに当たって、 各光硬化層のすべてにおいて、 形成しょうとする所定の断 面形状パターンが面状描画マスクの寸法 (面積) よりも大きな連続した描画領域 となるような形状および構造を有する立体造形物の製造においては、 面状描画マ スクを光硬化性樹月旨組成物の表面 (造形面) に対して連続的に移動させると共に 面状描画マスクのマスク画像を、 形成しようとする断面形状パターンに対応させ て面状描画マスクの移動と同期させて連続的に変えながら(動画的に変えながら)、 光硬化性樹脂組成物の表面に面状描画マスクを介して光を照射して所定の断面形 状パターンを有する光硬化した樹脂層を形成する操作を多層にわたって繰り返す ことによって、 目 ό勺とする立体造形物を製造することができる。
一方、 立体造形物の形状や構造によっては、 面状描画マスクの面積よりも大き な所定の断面形状ノ ターンの形成と共に、 面状描画マスクの面積よりも小さな断 面形状パターンを造形操作の途中で形成することが必要な場合がある [何ら限定 されるものではないが、 例えば、 球状をなす本体の頂部に尖った角 (つの) を有 する立体造形物において、 球状の本体部分の横断面積 (断面形状パターン) は面 状描画マスクの面積よりも大きく、 角に相当する部分の横断面積 (断面形状パタ ーン) が面状描画マスクの面積よりも小さい場合など]。そのような場合には、大 きな断面 状パターンを有する本体部分の形成は、 面状描画マスクのマスク画像 を動画的に連続的に変える上記した造形操作を多層にわたって繰り返すことによ つて行い、 一方小さな断面形状パターンを有する角の部分は、 面状描画マスクの マスク画像を動画的に変化させずに静止画の状態にし、 そのマスク画像を通して 光を造形面に照射する操作を角部分の形成が完了するまで多層にわたって繰り返 すことによって、 目的とする立体造形物を製造することができる。
本発明では、 上記したいずれの方法をも包含しており、 そのため本発明では、 面状描画マスクのマスク画像は、 かならずしも造形工程の最初から最後まで常に 動画的に連続して変化していなくてもよく、 一部の造形工程ではマスク画像が動 画的に連続して変化し、 別の造形工程ではマスク画像が形成しょうとする断面形 状パターンに応じた静止画の状態であってもよい。
形成しようとする所定の断面形状パターンに応じて面状描画マスクのマスク画 像を連続的に変化させて造形を行う本発明では、 面状描画マスクの 1回の連続移 動一光照射工程では該所定の断面形状パタ一ン全体をカバーできないために、 1 回目の連続移動一光照射を行った位置に隣接させて 2回目の面状描画マスクの連 続移動一光照射を行い、 場合によってはそのような連続移動一光照射を次々と 3 回以上にわたって行って、 所定の 1層分の断面形状パターンを形成する方法が多 く採用される。
その場合には、 最終的に得られる立体造形物では、 互いに隣接する描画領域間 ( 1回目の描画領域と 2回目の描画領域との隣接部分、 2回目の描画領域と 3回 目の描画領域との隣接部分など) に境界部分が生ずる。
その際に、 境界部分 [ 1回目の描画領域と 2回目の描画領域との隣接部分 (境 界部分)、 2回目の描画領域と 3回目の描画領域との隣接部分 (境界部分) など] では、 得られる立体造形物の強度向上などの点からは、 端部において重複して光 照射を行うことが好ましいが、 それによつて、 境界部分では硬化が重複して行わ れた部分 (以下これを 「重なり部分」 ということがある) が生ずる。 そのような 操作が、 目的とする立体造形物が得られるまで多層にわたって繰り返されると、 最終的に得られる立体造形物では、 隣接する描画領域間の境界部に相当する部分 に線、 筋、 突条などが出現し、 立体造形物の外観が不良になり易く、 それと共に 場合によっては寸法精度の低下や強度ムラなどを生じやすくなる。
何ら限定されるものではないが、 前記した点を、 図を参照して説明する。
例えば、 第 1図に示すように、 A、 B、 C、 Dで包囲される光硬化した断面形 状パターンを、 面状描画マスク 3のマスク画像を動画的に連続的に変化させて光 造形を行って形成するに当たっては、 1回の連続移動一光照射では、 その断面形 状パターンを形成できないため、 1回目の連続移動—光照射によって描画領域
(一) に相当する部分の光硬化を行い、 2回目の連続移動一光照射によって描画 領域 (二) に相当する部分の光硬化を行い、 3回目の連続移動一光照射によって 描画領域 (三) に相当する部分の光硬化を行って、 A、 B、 C、 Dで包囲される 光硬化した断面形状パターンを形成する。 その場合に、 互いに隣接する描画領域
(一) と描画領域 (二) との重なり部分 a 1 (境界部)、 描画領域 (二) と描画領 域 (三) の重なり部分 a 2 (境界部) では、 得られる立体造形物の強度維持など の点から、 光照射が重複して行なわれることが多い。 その結果、 重なり部分 a 1
(境界部) および重なり部分 a 2 (境界部) における光照射の程度 (硬化程度) が、 他の部分 (重なり部分 a 1と a 2以外の部分) に比べて高くなり、 それに伴 つて重なり部分 a 1および重なり部分 a 2における硬化状態が他の部分と異なつ たものになり (硬化の程度が高くなり)、 最終的に得られる立体造形物において、 重なり部分 a 1および重なり部分 a 2に相当する場所に、 線、 筋、 突条などが出 現し、 立体造形物の外観が不良になり易く、 それと共に場合によっては寸法精度 の低下や強度ムラなどが生じやすくなる。
さらに、 本発明では、 光造形に使用する面状描画マスクの数は 1個に限定され ず、 複数 (2個以上) の面状描画マスクを用いて光造形を行ってもよく、 本発明 の光造形を複数の面状描画マスクを用いて光造形を行う場合に、 例えば、 第 1図 における描画領域 (一)、 描画領域 (二)、 描画領域 (三) における光硬化を、 該 複数の面状描画マスクのそれぞれを用いて行うようにすると、 造形速度が一層向 上する。
しかしながら、 その場合にも、 得られる立体造形物の強度向上などのために、 描画領域間の境界を重複して光硬化した場合には、 重なり部分 a 1および重なり 部分 a 2が生じ、 それらの重なり部分 a 1 (境界部) および重なり部分 a 2 (境 界部) における光照射の程度 (硬化程度) は他の部分 (重なり部分 a 1と & 2以 外の部分) に比べて高くなり、 それに伴って最終的に得られる立体造形物におい て、 重なり部分 a 1および a 2に相当する場所に、 線、 筋、 突条などが出現し、 立体造形物の外観不良、 寸法精度の低下、 強度ムラなどが生じやすくなる。
また、 1個の面状描画マスクを用いて、 一筆書きの要領で面状描画マスクを連 続移動させながらそのマスク画像を動画的に変化させて所定の断面形状パターン を形成する場合に、 例えば第 2図に示すように、 始点と終点とが同じ位置になる ようにして光造形を行い、 該始点と終点の境界部分で強度維持などの目的でその 部分で光照射を重複して行った際には、始点と終点の境界で重なり部分 cが生じ、 重なり部分 cにおける光照射の程度 (硬化度合い) 力 他の部分に比べて高くな り、 そ^^に伴って最終的に得られる立体造形物において、 重なり部分 cに相当す る場所に、線、筋、突条などが出現し、立体造形物の外観不良、寸法精度の低下、 強度ムラなどが生じやすくなる。
さらに、描画領域の境界部分を重ねずに (重複して光照射せずに)、単に端部同 土が接合するようにして光造形を行った場合にも、 重ねた場合 (重複して光照射 を行った場合) に比べるとその程度は小さいが、 最終的に得られる立体造形物に おいて、 描画領域の端部同士が接合した境界部分に相当する位置に、 線、 筋など が生じて、 外観の不良などを招き易い。
本発明は、 光硬化した樹脂層における、 上記した隣接する描画領域間の境界部 分が立体造形物に線、 筋、 突条などとして出現を防止するために、 光硬化した樹 脂層における隣接する描画領域間の境界部分が、 最終的に得られる立体造形物に おいて目立たないようにして光造形を行う。 かかる点から、 本発明でいう 「光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間 の境界部分」 は、 光硬化した所定の断面形状パターンを面状描画マスクの連続移 動一光照射を複数歹 Uにわたつて行って形成する際の光硬化した樹脂層の境界部分
(例えば第 1図の場合) だけでなく、 光硬化した所定の断面形状パターンを一筆 書きのように面状描画マスクの一連続の連続移動一光照射で形成する際の光硬化 した樹脂層の境界部分(例えば第 2図の場合)、および前記以外の造形操作によつ て形成される光硬化した樹脂層における境界部分を意味する。 さらに、 本発明で いう前記 「境界部分」 は、 描画領域の端部が重複して光硬化されている境界部分 (光硬化が重なっている 「重なり部分」)、 および重複して光硬化されておらず光 硬化された描圃領域のそれぞれの端部同士が接合しているだけの境界部分の両方 を意味する。
本発明では、 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分が最終 的に得られる立体造形物において目立たないようにすることのできる方法であれ ば、 いずれの方法を採用してもよい。
そのうちでも、 本発明では、 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の 境界部分が目立たないようにする方法および手段として、
( i ) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分での光照射強度 の合計を、 境界部分以外の部分における光照射強度と同じかまたはそれと近似し た光照射強度にする方法および手段;
(i i) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界形状を、 曲線形状に する方法および手段;および
(i i i)光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分の位置を、上下 に積層した光硬ィ匕した樹脂層間で互いにずらせる方法および手段;
のうちの少なくとも 1つが好ましく採用される。
上記した ( i ) 〜 (i i i) の方法および手段は単独で採用してもよいし、 2っ以 上を併用してもよい。 特に、 ( i ) 〜 (i i i ) のうちの 2つまたは 3つを併用した 場合には、 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分が目立つの を一層効果的に抑制することができる。 上記 ( i ) の方法は、 特に隣接する描画領域の境界部分を重複して光照射して 立体造形物を製造する場合(すなわち境界部分に 「重なり部分」 が発生する場合) に有効であり、 面状描画マスクのマスク画像を連続的に変化させて光造形を行う 際に、 重なり部分に相当するエリアでは他のエリアに比べて光の造形面への透過 または反射が低減した状態となるマスク画像を面状描画マスクに発現させるよう に、 コンピューターにプログラミングしておくことによつて実施することができ る。
例えば、 第 1図において、 1回目の面状描画マスクの連続移動一光照射を行う 描画領域 (一) において、 重なり部分 a 1 (境界部) に相当する部分への光照射 強度を、 描画領域 (一) 内の他の部分への光照射強度よりも低くして重なり部分 a 1における硬化度合いを該他の部分における硬化度合いを低くして光硬化を行 い、 次に 2回目の面状描画マスクの連続移動一光照射を行う描画領域 (二) にお いて、 重なり部分 a 1と a 2に相当する部分への光照射強度を描画領域 (二) 内 の他の部分への光照射強度よりも低くして光硬化を行って、 描画領域 (二) の光 硬化を終了した時点において、 重なり部分 a 1における硬化度合いを、 描画領域 (一) および (二) 内の他の部分 (重なり部分 a 1と a 2以外の部分) の硬化度 合いと同じになるようにし、 描画領域 (三) の光硬化についても前記と同様に行 つて、 描画領域 (三) の光硬化を終了した時点において、 重なり部分 a 2におけ る硬化度合いを、 描画領域 (一)、 (二) および (三) 内の他の部分 (重なり部分 a lと a 2以外の部分) の硬化度合いと同じになるようにすることによって、 A B C Dで包囲される光硬化した断面形状パターン全体でその硬化度合いを均一に することができる。 そして、 目的とする立体造形物が得られるまで、 前記した造 形操作を多層にわたって繰り返すことによって、 描画領域の重なり部分に相当す る箇所に線、 筋、 突条などが発生せず、 外観および寸法精度に優れ、 しかも強度 ムラや硬ィ匕ムラのない立体造形物を得ることができる。
上記 (ii) の方法は、 面状描画マスクのマスク画像を連続的に変化させて光造 形を行う際に、 境界部分に相当するエリアが曲線状となるマスク画像を面状描画 マスクに発現させるようにコンピューターなどによってプロダラミングしておく ことによって実施することができる。
例えば、 第 3 A図に示すように、 描画領域 (一) と描画領域 (二) との間の重 なり部分 c 1 (境界部分) および描画領域 (二) と描画領域 (三) との間の重な り部分 c 2 (境界部分) が曲線状になるようにして光造形を行った場合にも、 重 なり部分 c 1と c 2が直線状である場合に比べて、 最終的に得られる立体造形物 では、 重なり部分 c 1と c 2に相当する箇所における線、 筋、 突条などの発生が 抑制されて、 外観および寸法精度に優れ、 しかも強度ムラや硬化ムラの低減した 立体造形物を得ることができる。 第 3 A図に示す方法において、 描画領域 (一)、 描画領域 (二) および描画領域 (三) の光硬化時に、 重なり部分 c 1および c 2 になる部分への光照射強度を他の部分への光照射強度よりも低減させない場合で あっても、 重なり部分 c 1および c 2を直線状にした場合に比べて重なり部分 c 1と c 2に相当する箇所における線、 筋、 突条などの発生は抑制されるが、 この
(i i) の方法と共に上記 (i ) の方法を組み合わせて行うと、 重なり部分 c lと c 2に相当する箇所における線、 筋、 突条などの発生を一層効果的に抑制するこ とができる。
また、 上記 (ii) の方法を、 描画領域 (一) と描画領域 (二) との間の境界部 分おょぴ描画領域 (二) と描画領域 (三) との間の境界部分で光照射を重複して 行わずに、 描画領域の端部同士を単に接合させて光造形する際に適用して、 その 接合端部 (境界部分) (1 1ぉょぴ(1 2を、 第 3 B図に示すように、 曲線状にした 場合にも、 最終的に得られる立体造形物において、 境界部分 (接合部分) に相当 する箇所に線、 筋などが発生するのを低減されて、 外観に優れる立体造形物を得 ることができる。
また、 上記 (ii i) の方法は、 光硬化した樹脂層における、 隣接する描画領域間 の境界部分の位置が、 立体造形物を構成する上下に積層した光硬化した樹脂層間 で、 上下方向で互いにずれるようにコンピューターなどによりプロダラミングし ておくことによって実施することができる。
この (i ii) の方法を採用した場合の例としては、第 4 A図および第 4 B図を挙 げることができる [第 4 A図おょぴ第 4 B図はいずれも縦断面図]。 第 4 A図は、 瞵接する描画領域間の境界部分を重複して光照射して形成された立体造形物の部 分構造を示したものであり、 境界部分に相当する重なり部分 e 1、 e 2、 e 3、 e 4、 e 5、 を、 立体造形物を構成する上下に積層した光硬化した樹脂 層間で互いにずらして形成した場合の模式図である。 また、 第 4 B図は、 隣接す る描画領域間の境界部分で光照射を重複して行わずに、 描画領域の端部同士を単 に接合させて光造形して得られる立体造形物の部分構造を示したものであり、 境 界部分 ί 1 、 ί 2、 f 3、 f 4、 f 5、 を、 立体造形物を構成する上下 に積層した光硬化した樹脂層間で互いにずらして形成した場合の模式図である。 第 4 A図および第 4 B図にみるように、 この (iii) の方法による場合は、描画 領域間の境界部分 (重なり部分または端部同士の接合部分) が上下層間でずれて いて同じ箇所に集中していないので、 最終的に得られる立体造形物に線、 筋、 突 条などが発生せず、 外観おょぴ寸法精度に優れ、 しかも強度ムラや硬化ムラの低 減した立体造形物が得られる。
本発明の光学的立体造形方法および装置において、 面状描画マスクを光硬化性 樹脂糸且成物の表面 (造形面) に対して連続的に移動させるための手段や方式は特 に制限されない。 例えば、 リニアガイド、 シャフ ト、 フラットバーなどをガイ ド にし、 駆動をボールネジ、 台形ネジ、 タイミングベルト、 ラック &ピニオン、 チ エーンなどを用いて伝達し、 駆動源は A Cサーポモータ、 D Cサーボモータ、 ス テツビングモータ、 パルスモーターなどを用いることができる。 また、 ガイドと 駆動を兼ねたリニアモーター方式、 さらに多関節型のロポットのアーム先端部を 利用することもできる。 このように本システムの移動は任意の手段や方式を採用 することができる。 そのうちでも、 面状描画マスクをミクロなピッチで精密に連 続移動させることができて、 面状描画マスクのマスク画像の連続変化と高精度で 同期させ得る点から、 駆動源としてパルスモーターが好ましく用いられる。
面状描画マスクの造形面に対する移動は、 一方向 (X軸方向おょぴ Y軸方向の —方) のみに行うようにしてもよいが、 X軸方向と Y軸方向の両方に移動可能に しておくことが好ましい。 面状描画マスクを X軸方向と Y軸方向の両方に移動可 能にしておくことによって、 面状描画マスクを直線状、 曲線状、 その他の任意の 軌跡で連続移動させて種々の形状の光硬化した断面形状パターンを良好な造形精 度で且つ速い造形速度で形成することができ、 例えば一筆書きで円を描いて中空 状の光硬化した断面形状パターンなども速い造形速度で且つ高い造形精度で形成 することができる。
光造形を行う際の面状描画マスクの連続移動の方向や速度は、 光源の種類、 光 硬化性樹脂組成物の表面に照射される光の照射強度、 面状描画マスクを通しての 光硬化性樹脂組成物表面での露光エリア(露光面積)、形成しようとする断面形状 パターンの形状、 光硬化性樹脂組成物の種類、 光硬化性樹脂組成物の光硬化特性 と光硬化層を形成するのに必要な露光時間などに応じて、 コンピューターなどを 使用して制御、 調整する。 一般的には、 光硬化性樹脂組成物の表面における露光 エリアの一方の端部からそれと対向するもう一方の端部側へと、 面状描画マスク を光硬化性樹脂組成物の表面に対して平行した状態で、 等速で直線状に連続移動 させると、 光硬化性樹脂組成物の表面への光照射量の均一制御を簡単に行うこと ができる。
面状描画マスクの連続移動と同期させて面状描画マスクのマスク画像を連続的 (動画的) に変化させるに当たっては、 形成しょうとする断面形状パターンの内 容ぉよび面状描画マスクの連続移動速度などに対応させて、 面状描画マスクによ つて形成されるべきマスク画像に関する情報を予めコンピューターなどに記憶さ せておき、 その情報に基づいて面状描画マスクのマスク画像を連続的に変化させ るようにするとよい。
本発明で用いる面状描画マスクとしては、 微小ドットエリアでの遮光および透 光が可能な複数の微小光シャッターを面状に配置した面状描画マスクを用いるこ とが好ましい。 そのような面状描画マスクの具体例としては、 液晶シャッターま たはデジタルマイクロミラーシャッターを挙げることができる。 本発明における 面状描画マスクとして好ましく用いられる液晶シャッターやデジタルマイクロミ ラーシャッターは、 連続的 (動画的) な画像形成が可能な手段として、 他の分野
(例えばテレビジョン、 パソコン、 プロジェクター、 カーナビ、 携帯電話など) において既に用いられている。 これらの面状描画マスクは、 微小ドットエリアでの遮光および透光が可能な複 教の微小光シャッターを面状 (X— Y方向) に並列配置した正方形状または長方 形状の面状描画マスクであることが好ましい。 面状描画マスクに配置する微小光 シャッター (画素子) の数は特に制限されず、 従来から知られているものなどを 使用することができる。 液晶シャッター (液晶表示素子) としては、 例えば、 Q VGA (画素数 = 3 20ドット X 240ドット)、 VGA (画素数 = 640 X 48 0 ドット)、 SVGA (画素数 = 800 X 600ドット)、 UXGA (画素数 = 1 024 X 768 ドット)、 Q S XGA (画素数 = 2560 X 2648 ドット) など を用いることができ、 これらの液晶シャッターは従来から広く販売されている。 また、 デジタ/レマイクロミラーシャッターとしては、 例えば、 テキサスインス ツルメンッ社製の 「D LPテクノロジー」 (登録商標) の DMD (登録商標) デバ イスなどを使用することができる。
本発明で好ましく用いられる上記した液晶シャッターおよびデジタルマイク口 ミラーシャッターよりなる面状描画マスクは、 面状描画マスクの連続移動時に、 形成しょうとする断面形状パターンに対応させて前記複数の微小光シャッターに より遮光および Zまたは透光を行うことによって、 マスク画像を、 例えばテレビ ジョンや映画などの動画のように連続的に変えることができる。 そのため、 連続 的に移動しながら連続的に変わるそのようなマスク画像 (動画的マスク画像) に 対応した光が、 その照射位置を連続的に移動させながら光硬化性樹脂組成物の表 面に連続的に照射され、 光照射された部分の光硬化性樹脂組成物の表面が連続的 に硬化して、 所定の 1層分の断面形状パターンが形成される。
前記で例示した液晶シャッターを用いて、 光硬化性樹脂組成物の表面での 1画 素ピッチ (隣り合う画素間の距離) が 0. 1mm (光造形に必要とされる造形精 度) になるようにして、 液晶シャッターを停止させた状態で光照射を行う従来技 術による場合には、 その露光面サイズは QVGAで 32mmX 24mm、 VGA で 64mmX 4 8mm、 S V G Aで 80 mm X 60 mm、 UXGAで 1 02. 4 mmX 76. 8 mm、 QSXGAで 256 mmX 264. 8 mmであり、 露光面
(断面形状パターン) の一辺のサイズが 30 Ommを超えるような大型の立体造 形物の製造は困難であった。 それに対して本発明による場合は、 前記した従来巿 販の液晶シャッターなどを面状描画マスクとして用い、 それを光硬化性樹脂組成 物の表面に対して連続的に移動させると同時に液晶シャッターによるマスク画像 を液晶シャッターの移動と同期させて連続的に動画状に変化させながら光照射を 行うので、 露光面 (断面形状パターン) のサイズは制限されず、 任意の大きさの 光硬化した断面形状パターンを形成することができる。 そのため、 本発明による 場合は、 一辺のサイズが 3 0 O mmを超えるような大型の立体造形物をも、 高い 造形精度で、 しかも速い造形速度で、簡単に、生産性良く製造することができる。 光源は面状描画マスクの背部側に配置され、 光源からの光は面状描画マスクを 介して光硬化性樹脂組成物の表面に照射される。 光源の種類は特に制限されず、 光学的立体造形で使用され得る光源であればいずれでもよく、 例えば、 キセノン ランプ、 メタルハラィドランプ、水銀灯、蛍光灯、ハロゲンランプ、 白熱ランプ、 A r レーザー、 H e— C d レーザー、 L Dレーザー (半導体励起固体レーザー)、 L E Dなどを挙げることができる。 特に、 本発明による場合は、 光学的立体造形 法で従来用いられてきたレーザー光装置のような高価な光源を使用せずに、 キセ ノンランプ、 メタルハライ ドランプ、 水銀灯、 蛍光灯、 ハロゲンランプ、 白熱ラ ンプなどのような安価な汎用の光源を使用することができ、 そのために、 光学的 立体造形装置を安価で使用し易いものとすることができる。.
光源の形状、 大きさ、 数も特に制限されず、 面状描画マスクの形状や寸法、 形 成しようとする光硬化断面形状パターンの形状やサイズなどに応じて適宜選択す ることができ、 光源は、 例えば、 点状、 球状、 棒状、 面状であってもよいし、 ま た点状や球状の光源を面状描画マスクの背部側に直接状に一列または複数列で配 置してもよい。
また、 光源は、 面状描画マスクの背部側に面状描画マスクと共に連続移動可能 に設けてもよいし、 または造形精度の向上、 造形速度の向上、 装置の軽量化、 保 守性の向上などの目的で、 光源を固定位置に動かないように設ける共に光源から の光を光ファイバ一、 ライ トガイドやその他の光伝達手段を通して面状描画マス クの背部に導き、 光ファイバ一やライトガイドやその他の光伝達手段を面状描画 マスクと共に連続移動可能に設けてもよい。
また、 造形速度の向上のために複数の光源を用いて集光し光エネルギーを高く させる方式を採ってもよい。 特に光ファイバ一やライトガイドなどを使用する場 合は複数光源を集光させ易いというメリットがある。
本発明では、造形精度の向上、造形速度の向上、装置の軽量化、保守性の向上、 装置コストのダウンなどの目的で、 面状描画マスクの背部側に配置する光源の種 類、 形状、 数、 面状描画マスクの形状やサイズなどに応じて、 光源からの光を面 状描画マスクに良好に導くための手段(例えば集光レンズ、フレネルレンズなど)、 また面状描画マスクによつて形成されたマスク画像 (面状描画マスクを通った光 画像) を光硬化性樹脂組成物の表面の所定位置に高造形精度で照射させるための 手段(例えば投影レンズ、プロジェクタレンズなど)を配置することが好ましい。 それらの手段は、 面状描画マスクの連続的な移動と同期して連続移動するように しておくことが好ましい。
本発明で用いる光硬化性樹脂組成物の種類は特に制限されず、 光造形に用い得 る液状、 ペースト、 粉末状、 薄膜状などの光硬化性樹脂組成物のいずれもが使用 できる。
本発明では、 光硬化性樹脂組成物として、 光造形において従来から用いられて いる、 例えば、 ウレタンアタリ レートオリ ゴマー、 エポキシアタリ レートオリ ゴ マー、 エステルァクリレートオリゴマー、 多官能エポキシ樹脂などの各種オリゴ マー ; イソボルニルアタリ レート、 イソポルニルメタク リ レート、 ジシクロペン テニノレアタリ レート、 ジシク口ペンテニノレメタクリ レート、 ジシクロペンテ二口 キシェチノレアタ リ レート、 ジシク口ペンテニロキシェチ メタクリ レート、 ジシ クロぺタニノレアクリ レート、 ジシクロぺタニノレメタク リ レート、 ボルニルアタ リ レート、 ポノレニノレメタタリレート、 2—ヒ ドロキシェチ^/アタリレート、 シクロ へキシ /レアタリ レート、 2—ヒ ドロキシプロピ^/アタリ レート、 フエノキシェチ ルァク リ レート、 モルホリンァク リルアミ ド、 モルホリンメタクリルアミ ド、 了 クリルアミ ドなどのアクリル系化合物や Ν—ビニルピロリ ドン、 Ν—ビュルカブ 口ラタタム、 酢酸ビニル、 スチレンなどの各種の単官能性ビニル化合物; トリメ チロールプロパントリアタリレート、 エチレンォキサイ ド変性トリメチロールプ ロノヽ0ントリアクリレート、 エチレングリコーノレジアタリレート、 テトラエチレン グリコー ジアタリレート、 ポリエチレングリコー ジアタリレート、 1, 4一 ブタンジォーノレジアタリレート、 1 , 6—へキサンジォ^ "ノレジァクリ レート、 ネ ォペンチノレグリコー Λ/ジアタリ レー ト、 ジシクロペンタニノレジアタリレー ト、 ポ リエステルジァクリレート、 エチレンォキサイ ド変性ビスフエノール Αジァクリ レート、 ペンタエリスリ トールトリアタリレート、 ペンタエリスリ トールテトラ ァクリレート、 プロピレンォキサイ ド変性トリメチロールプロパントリアタリ レ ート、 プロピレンオキサイ ド変性ビスフエノール Aジアタリレート、 トリス (ァ クリロキシェチル) ィソシァヌレートなど多官能性ビュル化合物;水素添加ビス フエノーノレ Aジグリシジノレエ一テノレ、 3, 4—エポキシシクロへキシノレメチノレー 3, 4一エポキシシクロへキサンカノレポキシレート、 2— ( 3 , 4—エポキシシ クロへキシノレ一 5, 5—スピロ一 3, 4—エポキシ) シクロへキサン一メタ一ジ 才キサン、 ビス ( 3, 4一エポキシシクロへキシルメチノレ) アジペートなどの各 種エポキシ系化合物などの 1種または 2種以上と、 光重合開始剤おょぴ必要に応 じて增感剤などを含有する光硬化性樹脂組成物を用 、ることができる。
また、 本発明で用いる光硬化性樹脂組成物は、 上記した成分以外にも、 必要に 応じて、 レべリング剤、 リン酸エステル塩系界面活性剤以外の界面活性剤、 有機 高分子改質剤、 有機可塑剤などを含有していてもよい。
本発明で用いる光硬化性樹脂組成物は、 必要に応じて、 固体微粒子ゃゥイス力 一などの充填材を含有していてもよい。 充填材を含有する光硬化性樹脂組成物を 用いると、 硬化時の体積収縮の低減による寸法精度の向上、 機械的物性や耐熱性 の向上などを図ることができる。
充填材として用いる固体微粒子としては、 例えば、 カーボンブラック微粒子な どの無機微粒子、 ポリスチレン微粒子、 ポリエチレン微粒子、 ポリプロピレン微 粒子、 アクリル樹脂微粒子、 合成ゴム微粒子などの有機重合体微粒子などを挙げ ることができ、 これらの 1種または 2種以上を用いることができる。 固体微粒子 の粒径は特に制限されないが、 一般的には平均粒径が 2 0 0 /x m以下、 特に 1 0 0 // m以下のものが好ましく用いられる。
また、 ゥイスカーとしては、 径が 0 . 3〜1 μ ιη、 特に 0 . 3〜0 . 7 /x m、 長さが 1 0〜7 O ^ m、特に 2 0〜5 O ^ mおよぴァスぺク ト比カ S i 0〜: L 0 0、 特に 2 0〜7 0 μ πιのものが好ましく用いられる。 なお、 ここで言うウイスカー の寸法およびァスぺクト比は、 レーザー回析 Ζ散乱式粒度分布測定装置を用いて 測定した寸法およびァスぺクト比である。 ゥイスカーの種類は特に制限されず、 例えば、 ホウ酸アルミニウム系ゥイスカー、 酸化アルミニウム系ゥイスカー、 窒 化アルミニウム系ゥイスカー水、 酸化硫酸マグネシウム系ゥイスカー、 酸化チタ ン系ゥイスカーなどを挙げることができ、 前記したゥイスカーの 1種または 2種 以上を用いることができる。
固体微粒子および/またはウイスカ一を含有する光硬化性樹脂組成物を用 、る 場合は、 固体微粒子を光硬化性樹脂組成物の全容量に基づいて 5〜 7 0容量%の 割合で含有することが好ましく、 またウイスカーの含有量を 5〜 3 0容量%とす ることが好ましい。 固体微粒子とゥイスカーの両方を含有する場合は、 両者の合 計含有量が光硬化層の全容量に基づいて 1 0〜7 5容量%であることが好ましい。 固体微粒子および/またはウイスカ一は、 シランカップリング剤で表面処理さ れていても表面処理されていなくてもよいが、 表面処理されていることが好まし レ、。 固体微粒子および Ζまたはウイスカーがシランカップリング剤で表面処理さ れている場合には、 熱変形温度、 曲げ弾性率、 機械的強度の一層高い光硬化物を 得ることができる。 その場合のシランカップリング剤としては、 充填剤の表面処 理などに従来から用いられているシランカップリング剤のいずれもが使用でき、 好ましいシランカップリング剤としては、 アミノシラン、 エポキシシラン、 ビニ ルシランおょぴ (メタ) ァクリルシランを挙げることができる。
ぐ実施例 >
以下に図を参照して本発明について具体的に説明するが、 本発明は図に示され たものに何ら限定されるものではない。
第 5図〜第 8図は、 本発明の光学的立体造形法 (光造形法) で用いる光学的立 体造形装置 (光造形装置) の要部の具体例をそれぞれ示したものである。 また、 第 9図は、 第 5図〜第 8図に示したような光造形装置を用いて本発明の方法にし たがって光造形を行う際の工程 (操作手順) を^したものである。
第 5図〜第 9図において、 1は光源、 2は集光レンズ、 3は面状描画マスクで あって、 そのうち 3 aは液晶シャッターを面状に配置した面状描画マスク (以下 「液晶式面状描画マスク」 ということがある)、 3 bはデジタノレマイクロミラーシ ャッターを面状に配置した面状描画マスク (以下 「D MD式面状描画マスク」 と いうことがある) を示し、 また 4は投影レンズ、 5は光硬化性樹脂組成物表面よ りなる造形面( 1層分の造形面)、 5 aは造形面の一方の端部、 5 bは造形面のも う一方の端部、 6は前記造形面に形成される露光像(光硬化した樹脂層)、 7は光 フアイバーやライ トガイドなどの光伝達手段、 8はロッドレンズ、 9は結像レン ズ、 1 0は反射鏡を示す。
第 5図〜第 9図に示すように、 光源 1からの光は、 集光レンズ 2を用いて、 面 状描画マスク 3 ( 3 a、 3 bなど) にその全面を力パーするようにして照射され る。
その際に、 第 5図に示すように、 光源 1からの光をロッドレンズ 8、 結像レン ズ 9を通してから反射鏡 1 0で反射させて集光レンズ 2に導くようにしてもよい し、 第 6図および第 7図に示すように、 光源 1を集光レンズ 2の背面側に直接配 置して光源 1からの光を集光レンズ 2に直接導いてもよいし、 または第 8図に示 すように、 光源 1を集光レンズ 2とは離れた場所に配置しておいて、 光源 1から の光を光ファイバ一やライ トガイドなどの光伝達手段 7を介して集光レンズ 2に 導くようにしてもよい。
光源 1を集光レンズ 2の背面側に配置する第 5図〜第 7図に示すような方式の 場合には、 光源 1は、 集光レンズ 2、 面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど)、 投影 レンズ 4、 ロッ ドレンズ 8、 結像レンズ 9、 反射鏡 1 0と共に光造形時にその走 查方向に連続移動する。
また、 第 8図に示すように、 光源 1からの光を光ファイバ一やライトガイドな どの光伝達手段 Ίを介して集光レンズ 2の背面に導くようにした場合は、 光源 1 を所定の位置に固定配置し、 光ファイバ一やライトガイドなどの可撓性の光伝達 手段 7を集光レンズ 2、 面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど) および投影レンズ 4と共に光造形時にその走査方向に連続移動させるようにすることができる。 光源 1の種類や形状は特に制限されず、 例えば、 第 5図〜第 9図示すような、 光放出部が丸形の光源であってもよいし、 または図示されていない他の形状の光 源であってもよい。 光源 1は、 第 5図おょぴ第 7図に示すように、 横向きに配置 することが好ましい。
光造形操作時に、 面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど) には、 形成しようとす る光硬化した樹脂層の断面形状パターンに対応させて面状描画マスクの移動と同 期して連続的に変化する所定のマスク画像が動画的に形成される。 そのため、 集 光レンズ 2を経て面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど)の全面に照射された光は、 面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど) によって連続的に且つ刻々変化しつつ形成 されている所定のマスク画像を介して通過または遮蔽ざれ (反射され; D MD式 面状描画マスクの場合)、 マスク (遮蔽) されていない部分の光のみが投影レンズ 4を経て光硬化性樹脂組成物よりなる造形面 5に照射され、 該造形面 5に所定の 形状パターンの露光像 (光硬化部) 6を形成する。
面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど) の形状は特に制限されず、 製造しようと する光造形物の形状や寸法 (特に断面形状やその寸法) などに応じて適当な形状 のものを採用することができる。 面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど) は、 例え ば、 第 5図〜第 9図に示すような正方形またはほぼ正方形の形状であってもよい しまたはその他の形状であってもよい。
さらに、 面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど) の寸法も、 製造しょうとする光 造形物の形状や寸法 (特に断面形状やその寸法) などに応じて適当な寸法のもの を採用することができる。 例えば、 第 5図〜第 9図に示すように、 形成しようと する所定の光硬化した断面形状パターンの全幅 (造形面の全幅) よりもその幅寸 法が小さい面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど) を使用して、 該面状描画マスク 3よりも大きな寸法を有する所定の光硬化した断面形状パターンを製造すること ができる。
面状描画マスク 3として、 液晶式面状描画マスク 3 aを用いた場合は、 形成し ようとする所定の断面形状と液晶面状描画マスク 3 aの連続移動に対応させてコ ンピューターなどに予め記憶させた情報に応じて、 液晶面状描画マスク 3 aに配 置された複数の微小な液晶シャッターのうち、 光を通過させるべき箇所に位置す る液晶シャッターは光を通過させるように開き、 一方光を遮蔽させるべき箇所に 位置する液晶シャッターは閉じて光の通過を阻止し、 そのような操作を、 所定の 断面形状を有する光硬化した樹脂層が形成されるまで連続的 (動画的) に繰り返 すように設計されている。
また、面状描画マスク 3として、 DMD式面状描画マスク 3 bを用いた場合は、 形成しょうとする所定の断面形状と D MD式面状描画マスク 3 bの連続移動に対 応させてコンピューターなどに予め記憶させた情報に応じて、 面状に配置された 複数の微小なミラーシャッターのうち特定のミラーシャッタ一は光が投影レンズ 4および透光面 5の方向に反射される (導かれる) 方向に向き、 一方光を遮蔽さ せるべき箇所に位置するミラーシャッターは光が投影レンズ 4および造形面 5の 方向に反射されない (導かれない) 方向に向き、 そのような操作を、 所定の断面 形状を有する光硬化した樹脂層が形成されるまで連続的 (動画的) に繰り返すよ うに設計されている。
上記した液晶式面状描画マスク 3 aまたは DMD式面状描画マスク 3 bを用い て光造形を行う際に、 描画領域間の境界部分 (重なり部分) に相当するマスクェ リァでは他のマスクエリアに比べて造形面への光の透過または反射が低減した状 態となるマスク画像を面状描画マスクに発現させるようにコンピューターなどに よってプログラミングしておくことによって、 描画領域間の境界部分への光照射 強度を他の部分への光照射強度と同じかまたは近似させて、 描画領域間の境界部 分 (重なり部分) が過度に光硬化することが防止される。 あるいは、 描画領域間 の境界部分に相当するマスクエリアで曲線状のマスク画像が形成されるようにコ ンピューターなどによってプロダラミングしておくことによって、 境界部分が曲 線状に形成される。 いずれの場合も、 最終的に得られる立体造形物において、 境 界部分に相当する箇所に線、 筋、 突条が発現するのを防止または抑制することが でき、 外観および寸法精度に優れ、 しかも強度ムラのない立体造形物を得ること ができる。
第 5図〜第 9図に示した光造形装置では、 光源 1または光伝達手段 7、 ロッド レンズ 8、 結像レンズ 9、 反射鏡 1 0、 集光レンズ 2、 面状描画マスク 3 aまた は 3 b、 投影レンズ 4は、 光硬化性樹脂組成物の表面に光を照射して光硬化した 樹脂層を形成させる光造形操作時に、 移動手段 (図示せず) によって、 一体をな して造形面 5 (光硬化性樹脂組成物の表面) に対して連続的に移動する (第 5図 〜第 9図では矢印の方向に連続移動する) ように設計されている。
そして、 面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど) におけるマスク画像 (マスクパ ターン) 1 上記したように、 予めコンピューターなどに記憶されているマスク 画像に関する情報に基づいて、 例えば、 第 9図に例示するように、 形成しようと する光硬化した樹脂層の所定の断面形状パターンに.対応して、 面状描画マスク 3 ( 3 a , 3 bなど) の連続移動と同期して、 動画的に連続的に変化しながら、 造 形面 5 (光硬化性樹脂組成物の表面) に光照射が行われて、 所定の断面形状を有 する光硬化した樹脂層 (露光像 6 ) が連続的に形成される。
第 9図は、 形成しょうとする所定の光硬化した断面形状パターン (露光像 6 ) の全幅 (または造形面 5の全幅) よりも幅寸法の小さい面状描画マスク 3 (第 9 図の場合は造形面 5の幅の約半分の幅を有する面状描画マスク 3 ) を用いて、 本 発明の光造形を行う場合の一連の操作を例示したものである。
まず、 光造形の開始時に、 第 9図の (1 ) に示すように、 面状描画マスク 3お よび投影レンズ 4を経た光の移動先端が造形面 5の端部 5 aにくるように位置さ せ、次いで第 9図の(2 ) 〜(5 ) に示すように、光源 1 (または光伝達手段 7 )、 集光レンズ 2、 面状描画マスク 3および投影レンズ 4を造形面 5のもう一方の端 部 5 aの方向へと、 造形面 5に対して平行状態で連続移動させる。 その際に、 面 状描画マスク 3によるマスク画像は、 形成しょうとする所定の断面形状パターン に対応して動画的に連続的に変化しながら、 該マスク画像に対応した光が造形面 5に照射されて露光像 6が形成される。 前記の光造形操作が、 第 9図の (5 ) の 段階まで進行したときに、 形成しょうとする所定の断面形状パターンのうちの半 幅分の露光像 6が形成されるので、 その段階で、 光源 1 (または光伝達手段 7 )、 集光レンズ 2、 面状描画マスク 3および投影レンズ 4を造形面 5の残りの半幅分 の位置に移動し [第 9図の (6 ) ]、 その位置から第 9図の (6 ) 〜 (1 0 ) に示 すように、 造形面 5の端部 5 bから造形面 5の端部 5 a側へと、 前記と同様の光 造形操作を操り返す。 それによつて、 形成しょうとする所定の断面形状パターン を有する 1層分の光硬化した樹脂層 (露光像 6 ) が形成される。
第 9図に示した光造形方法による場合には、 そこで得られる立体造形物は、 第 1 0図に示す横断面形状を有し、 第 9図における (1 ) 〜 (5 ) の一連の面状描 画マスク 3の連続移動一光照射によって形成される、 向かって右半分の光硬化し た造形パターン部分と、 第 9図における (6 ) ~ ( 1 0 ) の一連の面状描画マス ク 3の連続移動—光照射によって形成される、 向かって左半分の光硬化した造形 パターン部分との境界部に、 第 1 0図に示すように、 境界部分 (重なり部分) g が形成される。 そのため、 境界部分 (重なり部分) gでの光照射強度の合計を、 境界部分 (重なり部分) 以外の部分における光照射強度と同じかまたはそれと近 似した光照射強度にするか [前記した ( i ) の方法]、 境界部分 gの形状を曲線状 にするか [上記 (ii) の方法]、 および Zまたは境界部分 (重なり部分) gの位置 を上下に積層した光硬化した樹脂層間で互いにずらせる [上記 (iii) の方法] こ とによって、 最終的に得られる立体造形物において、 重なり部分 eに相当する箇 所における線、 筋、 突条などが発現することが防止または低減されて、 外観、 寸 法精度に優れ、しかも強度ムラや硬化ムラのない立体造形物を得ることができる。 第 9図に例示した一連の光造形操作を行うに当たっては、 1層分の光硬化した 樹脂層 (露光像 6 ) の形成時 (連続造形操作時) には、 光源 1 (または光伝達手 段 7 )、集光レンズ 2、面状描画マスク 3および投影レンズ 4の連続移動時の速度 を等速とし且つ面状描画マスク 3および投影レンズ 4を経て造形面 5に到達する 光の強度が、 境界部分 (重なり部分) 以外の部分で光造形操作中に変化しないよ うにすることが好ましい。
面状描画マスク 3のマスク画像を、 形成しょうとする光硬化した樹脂層 (露光 像 6 ) の断面形状パターンに対応させて面状描画マスク 3の連続移動と同期させ て動画的に連続的に変えながら光造形を行う本発明の光造形方法による場合は、 例えば第 9図にみるように、 所定の断面形状パターン (露光像 6 ) よりも小さな 面状描画マスク 3を使用して、 面状描画マスク 3から投影される光硬化性樹脂組 成物表面での隣接する微小ドットエリア間の距離を小さく保ちながら、 小型から 大型に至る各種のサイズの光造形物を簡単に且つ高い造形精度で円滑に製造する ことができる。 その上、 光照射によって形成される露光像 6 (光硬化した樹脂層) の各部 (例えば第 9図の 6 aで例示する) は、 単に 1回の光照射のみによって硬 化されるのではなく、 投影レンズ 4を経て造形面 5に照射される連続的に変化す る動画的な所定パターンの光が、 該各部 (例えば 6 a部分) を完全に通過し終え るまでの間中、 連続的に照射されて光硬化した樹脂層が形成される。 そのため、 本発明による場合は、 光造形時の照射光の移動速度を速く しても十分な光硬化を 行うことができ、 目的とする光造形物を短時間で生産性良く製造することができ る。 しかも、 本発明による場合は、 形成される露光像 6 (所定の断面开状パター ンを有する光硬化した樹脂) の各部における光照射量が前記した連続的な光照射 によつて均一化されるので、 面状描画マスク 3を停止した状態で光を fi¾射する上 記した従来技術におけるような隣接する照射部間の不連続性や光照射の不均一が 生じず、 断面形状パターン全体に均一なムラのない光照射が行われて、 光造形物 の寸法精度おょぴ造形精度が向上し、 さらに強度ムラがなくなり、 外襯により優 れたものとなる。
さらに、本発明による場合は、投影描画面を縮小して光造形を行うことができ、 それによつて描画分解能を上昇させることができる。 また、 投影描画面を縮小す ることで、 描画部での単位面積当たりの光強度が上昇し、 照射部での照射時間を 短縮できる効果がある。 例えば、 硬化感度が 5 m Jの光硬化性樹脂,袓成物を使用 し、 この光硬化性樹脂組成物を停止した (固定した) 面状描画マスクを用いて 2 5 0 mm X 2 5 0 mmのサイズに一括照射していた画像 1 mWZ c m 2 があると すると、 この時の必要光照射時間は 5 s e cである。 この画像 (光照射面積) を 1 Z 4サイズ (1 2 5 mm X 1 2 5 mm) に縮小して本発明の方法 (面状描画マ スクを連続移動させると共にマスク画像を該連続移動に同期させて動画的に連続 的に変化させながら光硬化を行う方法) によって最終的に前記 2 5 0 mm X 2 5 0 mmと同じエリアサイズの露光層を形成する場合は、 面状描画マスクを停止し た状態 (固定状態) で一括照射する場合と比較して、 その描画分解能は 4倍にな る。また、単位面積当たりの光強度も一括照射時の 4倍の 4 mWZ c πι2になる。 このとき、 25 OmmX 25 Ommのエリァを連続的に移動して露光するのに要 する時間は、 一括露光時と同じ 5秒となる。 つまり、 本発明の方法を縮小光学系 を用いて実施することにより、 停止した面状描画マスクを用いて一括露光する場 合と同じ造形時間でありながら、 造形精度を格段に向上させることができる。 《実施例 1》
光源 1として 1 2 OW超高圧水銀ランプを備え、 面状描画マスク 3としてカシ ォ社製の T FT方式 VGA (640 X480画素) の液晶を備える第 5図に示す 光造形装置を使用し、 光硬化性樹脂組成物としてシーメット株式会社製 「 C P X 一 1 000」 (硬化感度 2. 5m J) を用いて、造形面 5 (光硬化性樹脂 1成物表 面) への投影サイズ =28. 8mm (装置の進行方向) X 3 8. 4mm (進行方 向と直角の方向) (方形)、造形面 5での光エネルギー強度 2. 5mWZcm2の条 件下に、 第 9図に示したのと同様の工程で、 光源 1、 ロッドレンズ 8、 結像レン ズ 9、 反射鏡 10、 集光レンズ 2、 面状描画マスク 3、 投影レンズ 4を一体にし て 28. 8 mm/ s e cの速度で造形面 5に対して平行に進行方向に連銃移動さ せ、 その際に液晶よりなる面状描画マスク 3のマスク画像を形成しようとする断 面形状パターンに応じて動画的に連続的に変えながら光照射を行って、 第 1 0図 の断面形状パターンを有する立体造形物 (縦 X横 X厚さ = 7 OmmX 70 mmX 1 5mm) を製造した。 この光造形操作において、 光硬化層各部での照 It時間は 7 s e c 境界部分 (重なり部分) g以外の部分での光照射量は 2. 5m Jであ つた。 また、 この光造形操作において、 第 10図の向かって右側の描画鎮域と向 かって左側の描画領域との間の境界部分 (重なり部分) gの幅は 6. 8 mmであ り、 境界部分 (重なり部分) gでの各々の連続移動一照射工程での液晶の表示に 階調を付けることにより光照射量は 1. 2 5mJであり、 最終的に形成される光 硬化した断面形状パターンにおける境界部分 (重なり部分) gでの合計の光照射 は、 他の部分と同じように、 2. 5mJであった。 これによつて、 境界部分 (重 なり部分) gに相当する箇所に線、 筋、 突条が発現していない、 外観および寸法 精度に優れ、 しかも硬化ムラのない、 強度に優れる光造形物を、 速い造形速度で 円滑に製造することができた。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、 本発明の精神と範 囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にと つて明らかである。
本出願は、 2003年 9月 11日出願の日本特許出願(特願 2003— 319572)、 に基づ くものであり、 その内容はここに参照として取り込まれる。
ぐ産業上の利用可能性 >
本発明の光学的立体造形方法および装置は、 表面に望ましくない線、 筋、 突条 などの発現のない、 外観および寸法精度に優れ、 しかも強度ムラや硬化ムラのな い高品質の立体造形物を、 高い造形精度および速い造形速度で、 生産性良く製造 するのに有効に使用することができる。
そして、 本発明の光学的立体造形方法および装置は、 小型から大型に至る各種 の立体造形物の製造に有効に使用することができる。
本発明の方法および装置による場合は、 精密部品、 電気 ·電子部品、 家具、 建 築構造物、 自動車用部品、 各種容器類、 铸物、 金型、 母型などのためのモデルや 加工用モデル、 複雑な熱媒回路の設計用の部品、 複雑な構造の熱媒挙動の解析企 画用の部品、 その他の複雑な形状や構造を有する各種の立体造形物を、 高い造形 速度および寸法精度で円滑に製造することができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 光硬化性樹脂組成物の表面に面状描画マスクを介して制御下に光を照 射して所定の断面形状パターンを有する光硬化した榭月旨層を形成した後、 該光硬 化した樹脂層の上に 1層分の光硬化性樹脂組成物を施し、 該光硬化性樹脂組成物 の表面に面状描画マスクを介して制御下に光を照射して所定の断面形状パターン を有する光硬化した樹脂層を更に形成する光造形工程を所定の立体造形物が形成 されるまで順次繰り返すことによつて立体造形物を製造する方法であって; 面状描画マスクとしてマスク画像を連続的に変化させ得る面状描画マスクを使 用し;
光造形工程の少なくとも一部で、 面状描画マスクを光硬化性樹脂組成物の表面 に対して連続的に移動させると共に、 面状描画マスク のマスク画像を、 形成しよ うとする光硬化した樹脂層の断面形状パターンに対応させて面状描画マスクの移 動と同期させて連続的に変えながら光硬化性樹脂組成物の表面に面状描画マスク を介して光を照射して所定の断面形状パターンを有する光硬化した樹脂層を形成 する造形操作を行い;且つ、
光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分が、 最終的に得られ る立体造形物において目立たないようにして、 光造形を行う ;
ことを特徴とする光学的立体造形方法。
2 . 光硬化した樹脂層における隣接する描画颌域間の境界部分が最終的に 得られる立体造形物において目立たないようにするために、下記の( i )〜(i i i); ( i ) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分での光照射強度 の合計を、 境界部分以外の部分における光照射強度と同じかまたはそれと近似し た光照射強度にする ;
( i i) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界形状を、 曲線形状に する ;および
(i i i)光硬化した樹脂層における隣接する描画領域閎の境界部分の位置を、上下 に積層した光硬化した樹脂層間で互いにずらせる ; 操作のうちの少なくとも 1つの行う、 請求項 1に記載の光学的立体造形方法。
3 . 面状描画マスクとして、 微 /J、ドットエリアでの遮光おょぴ透光が可能 な複数の微小光シャッターを面状に配置した面状描画マスクを用い、 面状描画マ スクの連続移動時に、 形成しょうとする断面形状パターンに対応させて前記複数 の微小光シャッターによりマスク画像を連続的に変えながら光硬化性樹脂組成物 の表面への光照射を行う請求項 1に記載の光学的立体造形法方法。
4 . 面状描画マスクが、 液晶シャッターまたはデジタルマイクロミラーシ ャッターを面状に配置した面状描画マスクである請求項 3に記載の光学的立体造 形方法。
5 . 載置台上または光硬化した樹脂層上に、 1層分の光硬化性樹脂組成物 を順次供給するための光硬化性樹脂組成物の供給手段;
光源;
マスク画像を連続的に変えることのできる面状描画マスク ;
面状描画マスクを光硬化性樹脂組成 の表面に対して連続的に移動させるため の移動手段;
面状描画マスクのマスク画像を、 面伏描画マスクの移動と同期させて連続的に 変化させるための手段;および、
光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分が、 最終的に得られ る立体造形物において目立たないようにするための手段;
を備えていることを特徴とする光学的立体造形装置。
6 . 光硬化した樹脂層における瞵接する描画領域間の境界部分が最終的に 得られる立体造形物において目立たなレヽようにするための手段が、 下記の ( i ) 〜 (iii) のうちの少なくとも 1つを行う手段である、請求項 5に記載の光学的立 体造形装置。 ( i ) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分での光照射強度 の合計を境界部分以外の部分における光照射強度と同じかまたはそれと近似した 光照射強度にする。
(ii) 光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界形状を、 曲線形状に する。
(iii)光硬化した樹脂層における隣接する描画領域間の境界部分の位置を、上下 に積層した光硬化した樹脂層間で、 上下で互いにずらせる。
7 . 面状描画マスクが、 微小ドットエリアでの遮光おょぴ透光が可能な複 数の微小光シャッターを面伏に配置した面状描画マスクである請求項 5に記載の 光学的立体造形装置。
8 . 面状描画マスクが液晶シャッターまたはデジタルマイクロミラーシャ ッターを面状に配置した面伏描画マスクである請求項 5に記載の光学的立体造形 装置。
9 . 光源と面状描画マスクとの間に面状描画マスクと同期させて連続的に 移動させることのできる光集レンズを有し、 面状描画マスクと光硬化性樹脂組成 物の表面との間に面状描画マスクと同期させて連続的に移動させることのできる 投影レンズを有する請求項 5に記載の光学的立体造形装置。
PCT/JP2004/013565 2003-09-11 2004-09-10 光学的立体造形および装置 WO2005025838A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/570,232 US7931851B2 (en) 2003-09-11 2004-09-10 Stereolithographic method and apparatus
EP04773209A EP1666235B1 (en) 2003-09-11 2004-09-10 Devices for forming optical 3-dimensional object and methods using them
CN200480026047XA CN1849207B (zh) 2003-09-11 2004-09-10 光学三维造型方法及装置
JP2005513966A JP4417911B2 (ja) 2003-09-11 2004-09-10 光学的立体造形方法および装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003319572 2003-09-11
JP2003/319572 2003-09-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2005025838A1 true WO2005025838A1 (ja) 2005-03-24

Family

ID=34308571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2004/013565 WO2005025838A1 (ja) 2003-09-11 2004-09-10 光学的立体造形および装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7931851B2 (ja)
EP (1) EP1666235B1 (ja)
JP (1) JP4417911B2 (ja)
CN (1) CN1849207B (ja)
WO (1) WO2005025838A1 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006272916A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Jsr Corp 光造形方法
JP2007111989A (ja) * 2005-10-20 2007-05-10 Cmet Inc 光学的立体造形方法および装置
US8703037B2 (en) 2005-04-01 2014-04-22 3D Systems, Inc. Edge smoothness with low resolution projected images for use in solid imaging
US8985989B2 (en) * 2012-05-03 2015-03-24 Young Optics Inc. Three-dimensional printing apparatus
US9415544B2 (en) * 2006-08-29 2016-08-16 3D Systems, Inc. Wall smoothness, feature accuracy and resolution in projected images via exposure levels in solid imaging
JP2017007148A (ja) * 2015-06-18 2017-01-12 ローランドディー.ジー.株式会社 三次元造形装置
JP2018144236A (ja) * 2017-03-01 2018-09-20 株式会社ミマキエンジニアリング 造形装置及び造形方法
JP2020508903A (ja) * 2017-02-28 2020-03-26 スリーディー システムズ インコーポレーテッド オーバーラップする光エンジンを有する三次元プリントシステム

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8784723B2 (en) 2007-04-01 2014-07-22 Stratasys Ltd. Method and system for three-dimensional fabrication
US8540922B2 (en) * 2007-08-27 2013-09-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Laser patterning of a carbon nanotube layer
US20090061161A1 (en) * 2007-08-27 2009-03-05 Lynn Sheehan Laser patterning of a cross-linked polymer
JP4900349B2 (ja) * 2008-09-08 2012-03-21 ソニー株式会社 金型製造方法、機能性フィルムの製造方法及び機能性フィルム
US8678805B2 (en) 2008-12-22 2014-03-25 Dsm Ip Assets Bv System and method for layerwise production of a tangible object
US8777602B2 (en) 2008-12-22 2014-07-15 Nederlandse Organisatie Voor Tobgepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO Method and apparatus for layerwise production of a 3D object
CN102325644B (zh) 2008-12-22 2014-12-10 荷兰应用科学研究会(Tno) 用于3d物体的分层生产的方法及设备
JP2010201501A (ja) * 2009-03-06 2010-09-16 Sony Corp 光加工方法およびマスク
WO2013048415A1 (en) * 2011-09-29 2013-04-04 Intel Corporation Low temperature thin wafer backside vacuum process with backgrinding tape
CN104259463A (zh) * 2014-08-27 2015-01-07 无锡市华牧机械有限公司 一种合金铸造的快速形成方法
TWI568601B (zh) * 2014-10-02 2017-02-01 三緯國際立體列印科技股份有限公司 立體列印裝置及其列印方法
AT516769B1 (de) * 2015-01-22 2017-12-15 Way To Production Gmbh Verfahren zur Belichtung eines dreidimensionalen Bereichs
AT518101B1 (de) 2015-12-17 2018-05-15 Stadlmann Klaus Verfahren zum Erzeugen eines dreidimensionalen Gegenstands
US11161201B2 (en) 2017-05-31 2021-11-02 General Electric Company System and methods for fabricating a component with a laser device
US20190022941A1 (en) * 2017-07-21 2019-01-24 Ackuretta Technologies Pvt. Ltd. Digital light processing three-dimensional printing system and method
US11565465B2 (en) 2017-12-07 2023-01-31 Canon Kabushiki Kaisha Method for manufacturing three-dimensional shaped object, additive manufacturing apparatus, and article
WO2019113949A1 (zh) * 2017-12-15 2019-06-20 吴江中瑞机电科技有限公司 光固化激光扫描系统和方法
CN108274745B (zh) * 2017-12-29 2021-02-12 深圳摩方新材科技有限公司 一种步进拼接3d打印系统及打印方法
EP3702132B1 (de) * 2019-02-26 2023-01-11 UpNano GmbH Verfahren zur lithographiebasierten generativen fertigung eines dreidimensionalen bauteils
CN111619108A (zh) * 2019-02-28 2020-09-04 宁波市石生科技有限公司 一种新型光固化3d打印设备
NO20190617A1 (en) * 2019-05-16 2020-11-17 Visitech As System and method for exposing a material with images

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03281329A (ja) 1990-03-30 1991-12-12 Sanyo Electric Co Ltd 光学的立体造形方法
JPH04301431A (ja) * 1991-03-29 1992-10-26 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 光学的造形物成形装置
JPH04305438A (ja) * 1991-04-02 1992-10-28 Sanyo Electric Co Ltd 光学的立体造形方法
EP0590956A1 (en) 1992-10-01 1994-04-06 CMET, Inc. Photo-solidification modelling method with improved ability to restrain distortion
JPH07290578A (ja) * 1994-04-26 1995-11-07 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 光造形装置
EP1344633A1 (en) 2002-03-12 2003-09-17 Teijin Seiki Co., Ltd. Three-dimensional stereolithographic method and apparatus

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3718396A (en) * 1971-12-28 1973-02-27 Licentia Gmbh System for photographic production of semiconductor micro structures
US5965079A (en) * 1995-04-25 1999-10-12 3D Systems, Inc. Method and apparatus for making a three-dimensional object by stereolithography
US5182055A (en) * 1988-04-18 1993-01-26 3D Systems, Inc. Method of making a three-dimensional object by stereolithography
WO1994023936A1 (en) * 1993-04-15 1994-10-27 Cmet, Inc. Flat laminated plate molding method in photohardening molding method
US5738817A (en) * 1996-02-08 1998-04-14 Rutgers, The State University Solid freeform fabrication methods
US6085122A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Dtm Corporation End-of-vector laser power control in a selective laser sintering system
US6627376B1 (en) * 1999-04-27 2003-09-30 Teijin Seiki Co., Ltd. Stereolithographic apparatus and method for manufacturing three-dimensional object with photohardenable resin
DE19929199A1 (de) * 1999-06-25 2001-01-18 Hap Handhabungs Automatisierun Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes
EP1077125A1 (en) * 1999-08-19 2001-02-21 British Aerospace Public Limited Company Article with regions of different densities, and stereolithographic method of manufacturing
US6461797B1 (en) * 1999-11-19 2002-10-08 International Business Machines Corporation Method and apparatus for selectively programming a semiconductor device
US6500378B1 (en) * 2000-07-13 2002-12-31 Eom Technologies, L.L.C. Method and apparatus for creating three-dimensional objects by cross-sectional lithography
US20020149137A1 (en) * 2001-04-12 2002-10-17 Bor Zeng Jang Layer manufacturing method and apparatus using full-area curing

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03281329A (ja) 1990-03-30 1991-12-12 Sanyo Electric Co Ltd 光学的立体造形方法
JPH04301431A (ja) * 1991-03-29 1992-10-26 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 光学的造形物成形装置
JPH04305438A (ja) * 1991-04-02 1992-10-28 Sanyo Electric Co Ltd 光学的立体造形方法
EP0590956A1 (en) 1992-10-01 1994-04-06 CMET, Inc. Photo-solidification modelling method with improved ability to restrain distortion
JPH07290578A (ja) * 1994-04-26 1995-11-07 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 光造形装置
EP1344633A1 (en) 2002-03-12 2003-09-17 Teijin Seiki Co., Ltd. Three-dimensional stereolithographic method and apparatus

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1666235A4 *

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1864785A1 (en) * 2005-03-30 2007-12-12 JSR Corporation Seterolithography method
JP4525424B2 (ja) * 2005-03-30 2010-08-18 Jsr株式会社 光造形方法
EP1864785A4 (en) * 2005-03-30 2012-11-07 Jsr Corp SETEROLITHOGRAPHIEVERFAHREN
JP2006272916A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Jsr Corp 光造形方法
US8703037B2 (en) 2005-04-01 2014-04-22 3D Systems, Inc. Edge smoothness with low resolution projected images for use in solid imaging
JP2007111989A (ja) * 2005-10-20 2007-05-10 Cmet Inc 光学的立体造形方法および装置
US9415544B2 (en) * 2006-08-29 2016-08-16 3D Systems, Inc. Wall smoothness, feature accuracy and resolution in projected images via exposure levels in solid imaging
US8985989B2 (en) * 2012-05-03 2015-03-24 Young Optics Inc. Three-dimensional printing apparatus
USRE48609E1 (en) * 2012-05-03 2021-06-29 Young Optics Inc. Three-dimensional printing apparatus
JP2017007148A (ja) * 2015-06-18 2017-01-12 ローランドディー.ジー.株式会社 三次元造形装置
JP2020508903A (ja) * 2017-02-28 2020-03-26 スリーディー システムズ インコーポレーテッド オーバーラップする光エンジンを有する三次元プリントシステム
JP2018144236A (ja) * 2017-03-01 2018-09-20 株式会社ミマキエンジニアリング 造形装置及び造形方法
US11040488B2 (en) 2017-03-01 2021-06-22 Mimaki Engineering Co., Ltd. Building apparatus and building method

Also Published As

Publication number Publication date
JP4417911B2 (ja) 2010-02-17
JPWO2005025838A1 (ja) 2006-11-16
CN1849207B (zh) 2010-05-26
EP1666235B1 (en) 2012-11-07
US7931851B2 (en) 2011-04-26
CN1849207A (zh) 2006-10-18
EP1666235A1 (en) 2006-06-07
US20070029706A1 (en) 2007-02-08
EP1666235A4 (en) 2009-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2005025838A1 (ja) 光学的立体造形および装置
JP3792168B2 (ja) 光学的立体造形方法および装置
JP4824382B2 (ja) 光学的立体造形方法および装置
JP2006285262A (ja) 低解像度投影画像を用いたソリッド・イメージングにおける不均一エッジの改善
EP1852243A2 (en) Material delivery tension and tracking system for use in solid imaging
JP4669843B2 (ja) 光造形装置及び光造形方法
WO2012164824A1 (ja) 微細構造体の製造方法および微細構造金型
JP4828028B2 (ja) 立体造形装置および立体造形方法
JP4459742B2 (ja) 光学的立体造形装置
JP4433456B2 (ja) 光学的立体造形および装置
JPH04301431A (ja) 光学的造形物成形装置
JP4404299B2 (ja) 光学的立体造形および装置
JP4459741B2 (ja) 光学的立体造形方法
JP4515853B2 (ja) 光学的立体造形装置
JP4129928B2 (ja) 光学的立体造形装置
JP2005081807A (ja) 光学的立体造形および装置
JP2001205708A (ja) 光学的立体造形方法および装置
JP4503404B2 (ja) 光造形装置及び光造形方法
WO2018203867A1 (en) Scanning vat-photopolymerization
JPH07232383A (ja) 三次元光造形方法及びその装置
JPH06246837A (ja) 光造形方法および光造形装置
JP2006095806A (ja) 光造形装置及び光造形方法
JP2003236942A (ja) 光造形装置および光造形方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200480026047.X

Country of ref document: CN

AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MK MN MW MX MZ NA NI NO NZ PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VN YU ZA ZM

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG MD RU TJ TM AT BE BG CH CY DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2005513966

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2007029706

Country of ref document: US

Ref document number: 10570232

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2004773209

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2004773209

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 10570232

Country of ref document: US