JP4525424B2 - 光造形方法 - Google Patents
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Description
図4(a)に示されるような造形領域A中に矢印形状91の造形を行なう場合について説明する。この場合、図4(b)に示されるように、造形領域Aを光線照射領域に相当する投影領域A1、A2、A3に分けて、それぞれの投影領域毎に露光データを作成する。
同様に、前記硬化樹脂層の1層の厚さは10μm以下の場合に、本発明にかかる光造形方法を用いれば、より精度良く立体モデルを形成することができる。
また、前記重なり領域における露光量を当該重なり領域以外の露光量と同等に調整することが好ましい。
さらに、第1の投影領域と第2の投影領域における重なり領域に関して、当該第1の投影領域における重なり領域の露光量は、前記第2の投影領域に近づくにつれて減少し、前記第2の投影領域における重なり領域の露光量は、前記第1の投影領域に近づくにつれて減少していることが望ましい。
また、隣接する硬化樹脂層間で、前記重なり領域の位置をずらしたり、前記重なり領域の形状を変えるとよい。
本発明にかかる光造形方法は、前記光硬化性樹脂液を、ディジタルミラーデバイスによって反射された光によって硬化させる場合に好適に用いられる。
図1を用いて、本発明にかかる光造形方法に使用される光硬化造形装置(以下、「光造形装置」という)の一例について説明する。光造形装置100は、光源1、ディジタルミラーデバイス(DMD)2、レンズ3、造形テーブル4、ディスペンサ5、リコータ6、制御部7、記憶部8を備えている。
ディジタルミラーデバイス(DMD)2は、テキサス・インスツルメンツ社によって開発されたデバイスであり、CMOS半導体上に独立して動くマイクロミラーが数十万〜数百万個、例えば、48万〜131万個敷き詰められている。かかるマイクロミラーは、静電界作用によって対角線を軸に約±10度、例えば、±12度程度傾けることが可能である。マイクロミラーは、各マイクロミラーのピッチの1辺の長さが約10μm、例えば、13.68μmの四角形の形状を有している。隣接するマイクロミラーの間隔は、例えば1μmである。本実施の形態1で用いたDMD2の全体は、40.8×31.8mmの四角形状を有し(うち、ミラー部は、14.0×10.5mmの四角形状を有する。)、1辺の長さが13.68μmのマイクロミラー786,432個により構成されている。当該DMD2は、光源1から出射されたレーザ光線を個々のマイクロミラーによって反射させ、制御部7によって所定の角度に制御されたマイクロミラーによって反射されたレーザ光のみ集光レンズ3を介して造形テーブル4上の光硬化性樹脂9に照射する。
レンズ3は、DMD2によって反射されたレーザ光線を光硬化性樹脂9上に導き、投影領域を形成する。レンズ3は、凸レンズを用いた集光レンズであってもよいし、凹レンズを用いてもよい。凹レンズを用いると、DSMの実サイズよりも大きな投影領域を得ることができる。本実施の形態1にかかるレンズ3は、集光レンズであって、入射光を約15倍縮小し、光硬化性樹脂9上に集光している。
造形テーブル4は、硬化させた樹脂を順次堆積させ、載置する平板状の台である。この造形テーブル4は、図示しない駆動機構、即ち移動機構によって、水平移動及び垂直移動が可能である。この駆動機構により、所望の範囲に亘って光造形を行なうことができる。
ディスペンサ5は、光硬化性樹脂10を収容し、予め定められた量の光硬化性樹脂10を所定位置に供給する。
リコータ6は、例えば、ブレード機構と移動機構を備え、光硬化性樹脂10を均一に塗布する。
記憶部8には、造形しようとする立体モデルを複数の層にスライスして得られる断面群の露光データを含む制御データが格納されている。制御部7は、記憶部8に格納された露光データに基づいて、主としてDMD2における各マイクロミラーの角度制御、造形テーブル4の移動(即ち、立体モデルに対するレーザ光の照射範囲の位置)を制御し、立体モデルの造形を実行する。
光硬化性樹脂10には、可視光及び可視光領域外の光によって硬化する樹脂を使用することができる。例えば、15μm以上(500mJ/cm2)の硬化深度を有し、粘度が1500〜2500Pa・s(25℃)の405nm対応のアクリル系樹脂を用いることができる。
光源1から出射したレーザ光線は、DMD2に入射する。DMD2は記憶部8に格納された露光データに応じて制御部7により制御され、レーザ光線を光硬化性樹脂10に照射する部分に対応したマイクロミラーの角度を調整する。これにより、そのマイクロミラーを反射したレーザ光線が集光レンズ3を介して光硬化性樹脂10に照射され、その他のマイクロミラーを反射したレーザ光線は光硬化性樹脂10に照射されない。光硬化性樹脂10へのレーザ光線の照射は例えば0.4秒間行なわれる。このとき、光硬化性樹脂10への投影領域は例えば、1.3×1.8mm程度であり、0.6×0.9mm程度まで縮小することもできる。投影領域の面積は、通常、100mm2以下であることが望ましい。
レンズ3に、凹レンズを用いることにより、投影領域を6×9cm程度まで拡大することもできる。投影領域をこのサイズを超えて拡大すると、投影領域に照射されるレーザー光線のエネルギー密度が低くなるため、光硬化性樹脂10の硬化が不十分となることがある。 レーザ光線の投影領域のサイズよりも大きい立体モデルを形成する場合には、例えば造形テーブル4を移動機構によって水平移動させることにより、レーザ光線の照射位置を移動させて全造形領域を照射する必要がある。投影領域毎に1ショットずつレーザ光線の照射を実行していく。各投影領域に対するレーザ光線の照射の制御については後に詳述する。
このようにして、投影領域を移動させて、各投影領域を単位としてレーザ光線の照射、即ち露光を実行することによって、光硬化性樹脂10が硬化し、第1層目の硬化樹脂層が形成される。1層分の積層ピッチ、すなわち、硬化樹脂層1層の厚み、は、例えば、1〜50μm、好ましくは、2〜10μm、さらに好ましくは、5〜10μmである。
図2(a)に示されるように、本例では、上面視で矢印形状の立体モデルを造形する場合について説明する。図中Aは、当該立体モデルを含む造形領域である。従来は、かかる造形領域Aを単純にレーザ光線の照射可能範囲に相当する投影領域に分割した。この例では、投影領域は、造形領域Aの1/3のサイズであり、従来の光造形方法では、各投影領域が重複することの無いように3分割していたが、本実施の形態では、4つの投影領域により露光することとした。
重なり部分B1、B2、B3の幅は、例えば数μm〜数100μmである。
図2(b)の如く、光硬化性樹脂に対してレーザ光線を照射した場合、露光量は、同図(c)のように、重なり領域B1、B2、B3において、それら以外の領域よりも高い露光量となる。この例では、重なり領域B1、B2、B3の露光量は、それら以外の領域の約2倍である。
発明の実施の形態1では、各投影領域における1回の露光量を投影領域内で略均一としたため、投影領域の境界部分における重なり領域における露光量は、それ以外の領域よりも高い露光量となっていた。このため、重なり領域において、樹脂硬化範囲が広がり、余分な樹脂硬化部分を発生させる可能性がある。かかる余分な樹脂硬化部分は、経時的にみると反り変形の要因の一つなる。特に、一括で照射する露光面積が250mm2以下のマイクロ光造形においては、露光量が不均一であることによる悪影響が大きい。
そこで、本実施の形態2では、重なり部分の露光量(重複して露光される合計の露光量)を調整し、重なり部分以外の領域の露光量、即ち露光エネルギー量密度と同等になるようにした。具体的には、画面表示上に濃淡をつける制御と同様の制御、すなわち、露光領域への1回の露光時間内で、DMD2のマイクロミラーの角度を一定振動数で繰り返し変動させることにより各マイクロミラーからのレーザ光の照射時間を調整することによって露光量を制御することができる。このように、本発明の実施の形態では、DMD2において画面表示上に濃淡をつける制御と同様の制御により露光量を制御できるため、これと同じデータフォーマットを共有でき、例えば、一般的な画面表示用のフォーマットであるビットマップ形式等を用いることができる。
従って、本実施の形態2にかかる光造形方法によれば、余分な樹脂硬化部分の発生を抑制することができ、所望形状の立体モデルを精度良く形成することができる。
特に、図3(b)に示されるように露光量を調整すると、露光量の変化が緩やかであるため、露光量の極端な変化がなく、仮に投影領域にずれが生じたとしても、硬化度合いのムラが生じにくいという利点がある。
尚、重なり領域における露光量の減少或いは増加の変化は、1次式で表わされるものであってよく、2次以降の高次の式で表わされるものであってもよい。
上述の例では隣接する投影領域の境界部分に重なり領域を設けるようにしたが、重なり領域を設けるモードと、重なり領域を設けないモードを切り換える機能を光造形装置に備えるようにしてもよい。
上述の例では、横一列に投影領域が並んだ例について説明したが、縦横の二次元方向に配列している場合も同様に隣接する投影領域間で重なり領域を設けるようにするとよい。この場合、上下左右の4方向に投影領域が隣接しているから、周囲の4箇所に重なり領域が生じる。
尚、上述の例では、光源から出射する光の変調を加える装置としてDMDを採用したが、これに限らず、光の透過量を微小領域毎、即ち画素毎に調整可能な液晶装置を用いてもよい。但し、コントラストの面では、液晶装置よりもDMDの方が好ましい。
また、上述の例では、1層分のみ説明したが、立体モデルを造形するための行なわれる複数層のそれぞれにおいて、重なり領域を設けることが望ましい。このとき、重なり領域の位置は、隣接する層間でずらすようにしてもよい。さらに、重なり領域の形状自体を隣接する層間で異ならせるようにしてもよい。
2 DMD
3 集光レンズ
4 造形テーブル
5 ディスペンサ
6 リコータ
7 制御部
8 記憶部
9 光硬化性樹脂
10 光硬化性樹脂
100 光造形装置
Claims (9)
- 光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して立体モデルを形成する光造形方法であって、
前記光の照射は、投影領域を単位として、一括露光を繰り返すことにより実行し、
当該投影領域は、隣接する投影領域の境界部分に重なり領域を設けた光造形方法。 - 前記投影領域の面積は、100mm2以下であることを特徴とする請求項1記載の光造形方法。
- 前記硬化樹脂層の1層の厚さは10μm以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の光造形方法。
- 前記重なり領域における露光量を当該重なり領域以外の露光量と同等に調整したことを特徴とする請求項1〜3いずれかに記載の光造形方法。
- 第1の投影領域と第2の投影領域における重なり領域に関して、当該第1の投影領域における重なり領域の露光量は、前記第2の投影領域の中央部に近づくにつれて減少し、前記第2の投影領域における重なり領域の露光量は、前記第1の投影領域の中央部に近づくにつれて減少していることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載の光造形方法。
- 第1の投影領域と第2の投影領域における重なり領域に関して、当該第1の投影領域における重なり領域の露光量は、当該重なり領域以外の露光量の略半分であり、前記第2の投影領域における重なり領域の露光量は、当該重なり領域以外の露光量の略半分であることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載の光造形方法。
- 隣接する硬化樹脂層間で、前記重なり領域の位置をずらしたことを特徴とする請求項1〜6いずれかに記載の光造形方法。
- 隣接する硬化樹脂層間で、前記重なり領域の形状を変えたことを特徴とする請求項1〜6いずれかに記載の光造形方法。
- 前記光硬化性樹脂液は、ディジタルミラーデバイスによって反射された光によって硬化することを特徴とする請求項1〜8いずれかに記載の光造形方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005099800A JP4525424B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 光造形方法 |
PCT/JP2006/305411 WO2006109425A1 (ja) | 2005-03-30 | 2006-03-17 | 光造形方法 |
EP06729400A EP1864785A4 (en) | 2005-03-30 | 2006-03-17 | SETEROLITHOGRAPHIEVERFAHREN |
CNA2006800105933A CN101151141A (zh) | 2005-03-30 | 2006-03-17 | 光成型方法 |
KR1020077024922A KR100895566B1 (ko) | 2005-03-30 | 2006-03-17 | 광 조형 방법 |
US11/909,816 US20090133800A1 (en) | 2005-03-30 | 2006-03-17 | Stereolithography method |
TW095110391A TW200642830A (en) | 2005-03-30 | 2006-03-24 | Seterolithography method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005099800A JP4525424B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 光造形方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006272916A JP2006272916A (ja) | 2006-10-12 |
JP4525424B2 true JP4525424B2 (ja) | 2010-08-18 |
Family
ID=37086716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005099800A Active JP4525424B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 光造形方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090133800A1 (ja) |
EP (1) | EP1864785A4 (ja) |
JP (1) | JP4525424B2 (ja) |
KR (1) | KR100895566B1 (ja) |
CN (1) | CN101151141A (ja) |
TW (1) | TW200642830A (ja) |
WO (1) | WO2006109425A1 (ja) |
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- 2006-03-17 CN CNA2006800105933A patent/CN101151141A/zh active Pending
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