WO2005021665A1 - スペーサー形成用インキ - Google Patents

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WO2005021665A1
WO2005021665A1 PCT/JP2004/012590 JP2004012590W WO2005021665A1 WO 2005021665 A1 WO2005021665 A1 WO 2005021665A1 JP 2004012590 W JP2004012590 W JP 2004012590W WO 2005021665 A1 WO2005021665 A1 WO 2005021665A1
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WO
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resin
group
ink
spacer
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PCT/JP2004/012590
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French (fr)
Inventor
Shigekazu Teranishi
Michio Doi
Yutaka Sakai
Original Assignee
Natoco Co., Ltd.
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Publication date
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    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
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    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
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    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells

Definitions

  • the present invention relates to a spacer forming ink.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-35582 discloses a spacer forming method by gravure offset printing. Claims 2 and 3 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-35582, use of an ink containing 20 to 60% by weight of a spherical spacer in a resin having a viscosity of 20000 to 2500 cps. In the examples, 5 / resin spacer beads and polyester resin are shown.
  • Japanese Unexamined Patent Application Publication Nos. Hei 11-32-23020, Hei 9-11111, and Hei 7-11404 disclose a color filter by intaglio offset printing. It is described that a polyester-melamine resin, an epoxymelamine resin, or the like is used as a heat-curable ink suitable for forming an evening layer or a black matrix.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-347191 discloses a spacer forming method by an ink jet printing method. Claim 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-347191 describes that the spacer contains formed solid fine particles and a binder resin. Disclosure of the invention
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-35582 specifies only the viscosity of the resin.
  • a polyester resin is shown, and only the particle size of the resin spacer is specified.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 11-31-232200, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-1111170, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-110404 discloses that as a binder resin for an ink used in an intaglio offset printing method for color filling, a polyester-melamine resin, a melamine-modified polyester resin, an epoxymelamine resin, and a melamine resin are used. A modified epoxy resin or the like is used. However, besides resins, high-boiling solvents such as higher alcohols, ketones such as ethylene glycol ether, propylene glycol ether, cyclohexanone, and isophorone are used from the viewpoint of printability. .
  • An object of the present invention is to improve the adhesion between spacer particles and a binder resin in a spacer forming method by a printing method.
  • the present invention relates to a spacer forming ink used in a printing method
  • A spacer particles, and
  • the spacer particles are dispersed in a thermosetting or active energy ray-curable resin composition C, and the resin composition C has a functional group capable of chemically reacting with the spacer particles. Since it has a component containing a group, a new chemical bond is formed between the spacer particle and the binder resin, and the adhesion can be improved. Further, in a preferred embodiment, a new chemical bond is generated between the binder resin and the alignment film, and as a result, the adhesion between the spacer and the alignment film can be improved.
  • FIGS. 1 (a) and 1 (b) are schematic diagrams showing the bonding mode of the spacer particles A, the resin B, and the alignment film, respectively.
  • FIGS. 2 (a) and 2 (b) are schematic diagrams showing a bonding mode of the spacer particles A, the resins B, F, G, the monomers, and the alignment films.
  • the printing method includes a plate printing method and a plateless printing method.
  • the plate type printing method means a printing method using a plate, and the following methods can be exemplified.
  • the plateless printing method is not limited as long as the printing method does not use a plate, and includes an ink jet printing method and a laser printing method.
  • Typical ink jet printing methods include the following.
  • the resin formulation C contains at least one component containing a functional group capable of chemically reacting with the particles A.
  • This component may be a thermosetting or active energy ray-curable resin B, or may be any component such as another resin, a monomer or diluent, an oligomer, a photoradical initiator, or a solvent. .
  • the component containing a functional group capable of chemically reacting with the particles A is one or more resins B.
  • the functional groups a, a ⁇ a "of the spacer particles A react with the functional groups b, b ', b" of the resin B. And combine.
  • the component containing a functional group capable of chemically reacting with the particles A is one or more resins B, and the resin B can react with the functional groups of the alignment film.
  • the resin B reacts with and binds to the functional group of the orientation film.
  • the resin composition C contains a plurality of types of resins B. Then, the resin B chemically reacts with the spacer particles A, the other resin F chemically reacts with the resin B, and also reacts with the functional group of the alignment film.
  • the functional group b of the resin B is The resin F reacts with the resin B, and the resin F reacts with the resin G. At the same time, the resin: F reacts with the functional group of the alignment film.
  • the spacer particles A and the alignment film are chemically bonded via the generated polymer compound.
  • components other than the resin in the resin composition react with the resin B and also react with the functional group of the alignment film.
  • the functional group b 'of the resin B reacts with the functional group a of the spacer particle A
  • the monomer or diluent reacts with the resin B and the particle A.
  • the monomer reacts with the functional group of the alignment film.
  • the spacer particles A and the alignment film are chemically bonded via the generated polymer compound.
  • the resin B has a functional group b capable of reacting by heating, and the particles A have a functional group a capable of reacting with the functional group b.
  • Examples of the functional group b of the resin B include a hydroxyl group, an epoxy group, a carboxyl group, a hydrolyzable silyl group, a silanol group, an isocyanate group, a methylol group, an alkylated methylol group, an imino group, an acid anhydride, and an unsaturated group. Can be illustrated. These functional groups are selected based on the reactivity of the particles A with the functional groups a.
  • the resin composition C may contain a plurality of types of resins B reactive with the particles A, or may contain a curing agent or a coupling agent.
  • examples thereof include a combination of a polyester resin and a melamine resin, a combination of an epoxy resin and a melamine resin, and a combination of an epoxy resin and an amine-based curing agent.
  • the functional groups of the particles A that can react with the components in the resin composition include silanol groups, carboxyl groups, epoxy groups, hydrolyzable silyl groups, isocyanate groups, unsaturated groups, methylol groups, and alkylated methylol groups. , Imino group, acid anhydride and amino group.
  • the functional group b of the resin B capable of reacting by heating is a functional group b1 capable of reacting with the functional group remaining in the alignment film.
  • the adhesion between the binder resin and the alignment film is improved by the reaction between the functional group b 1 of the binder resin and the functional group remaining in the alignment film.
  • the functional group remaining on the alignment film include a carboxyl group and an amide group, and a carboxyl group is particularly preferable from the viewpoint of reactivity.
  • Examples of the functional group b 1 capable of reacting with the functional group remaining in the alignment film include an epoxy group, a hydroxyl group, and an amino group, and an epoxy group is particularly preferable in terms of reactivity.
  • the functional group b1 of the resin B is an epoxy group
  • the functional group a of the particle A is a functional group a1 capable of reacting with an epoxy group.
  • the functional group a 1 include an epoxy group, a hydroxyl group, and a silanol group.
  • the resin B has a functional group b ′ capable of reacting with active energy rays
  • the particle A has a functional group a ′ capable of reacting with the functional group b ′.
  • the functional group b ′ include an unsaturated group such as an acryl group or a methyl group.
  • Examples of the functional group a ′ of the particle A include an unsaturated group such as an acryl group and a methyl acryl group.
  • the resin composition C contains a component having a functional group b 1 ′ capable of reacting with a functional group remaining on the alignment film.
  • This component may be resin B, may be resin B and another resin, and may be a monomer or an oligo.
  • Other components such as a diluent, a photoinitiator and the like may be used.
  • An epoxy group can be exemplified as the functional group bl.
  • the ink comprises a diluent D and Z or a photoradical initiator E having a functional group a ′ or a functional group b ′ capable of reacting with an active energy ray. ing.
  • the resin B has a functional group b which can be cationically polymerized by heating and / or energy
  • the particle A has a functional group a "which can react with the functional group b". I have.
  • Examples of the functional group b include an epoxy group and a hydroxyl group.
  • Examples of the functional group a" of the particle A include an epoxy group and a hydroxyl group.
  • the functional group of the resin B is a functional group b1, ′ capable of reacting with the functional group remaining on the alignment film.
  • the functional group bl ' include an epoxy group and a hydroxyl group.
  • the functional group b1 "of the resin B is an epoxy group
  • the functional group a" of the particle A is a functional group a1 "capable of reacting with the epoxy group.
  • the resin composition is a diluent having a functional group capable of reacting with the functional group a ′ or the functional group b ′ ′ With Agent H and / or Photodynamic Thion Initiator I.
  • the amount of solvent and the type of solvent in the resin composition C can be appropriately determined experimentally.
  • the solvent in the resin composition c may dissolve other components in the resin composition C, or may disperse other components.
  • the ink used in the plate printing method of the present invention preferably has a low solvent content, specifically, 30% by weight or less, more preferably 10% by weight or less.
  • the printing method of the present invention The ink used is substantially free of solvents. This means that solvent components are not actively added to the ink, and traces of solvent and unavoidable impurities are excluded.
  • the ink does not substantially contain a solvent, liquid crystal contamination due to a residual solvent after formation of the spacer is eliminated, and printing can be performed more stably.
  • a subsequent heating step can be omitted.
  • examples of the solvent include polar solvents such as alcohols, glycols, propylene glycols, and water.
  • the spacer particles used in the present invention are not limited.
  • the particles are obtained by a precipitation polymerization method or a seed polymerization method.
  • the precipitation polymerization method is a polymerization method in which a monomer is dissolved and a polymer based on the monomer is polymerized in a solvent in which the monomer is not dissolved to precipitate polymer particles.
  • polymer particles obtained by the above-mentioned precipitation polymerization method are swollen with a monomer, and the monomer is further polymerized by radicals contained in the polymer particle to form a secondary polymer. This is a method for obtaining coalesced particles.
  • crosslinked polymer particles using a polyvalent vinyl compound such as divinylbenzene, diarylolefate, or tetraxyloxetane as a part of the monomer are preferable.
  • the crosslinked polymer particles have good solvent resistance and heat resistance.
  • particles having a true spherical shape and a uniform particle size distribution suitable for a liquid crystal spacer are obtained, and particularly in the case of seed polymerization, true spherical particles having a large particle size are obtained.
  • the polymerization is carried out by another polymerization method. Body particles, glass particles, ceramic particles, metal particles and the like may be used, but as described above, the liquid crystal spacer is desirably a true spherical particle having a uniform particle size distribution.
  • Materials used for this adhesion layer include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, iso-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, and tetrahydro acrylate.
  • thermoplastic polymer or copolymer is softened by heating and shows good adhesion to the surface of the oriented substrate.
  • a homopolymer of an epoxy group-containing monomer such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl aryl ether, an acrylate or methacrylate containing an alicyclic epoxy group, or the above-mentioned epoxy group-containing monomer may be used.
  • An epoxy group-containing polymer such as a copolymer of two or more copolymers or an epoxy group-containing monomer and a monomer other than the above-mentioned epoxy group-containing monomer; Affinity with polyimide coated glass surface
  • a polymer having a functional group having a property is also used.
  • the polyvinyl alcohol is obtained by polymerizing vinyl acetate and then hydrolyzing it.
  • the particle surface and the polymer constituting the adhesion layer are bound by a covalent bond. Examples of the method include a graft polymerization method and a polymer reaction method.
  • a polymerizable vinyl group is introduced into the particle surface, and the monomer is polymerized starting from the vinyl group.
  • a polymerization initiator is introduced into the particle surface, and Two methods of polymerizing the monomer are considered.
  • Vinyl group introduction method In the vinyl group introduction method, a functional group such as a hydroxyl group, a hydroxyl group, an epoxy group, a silyl group, a silanol group, an isocyanate group, or the like is present on the particle surface, and reacts with the above functional group.
  • a vinyl group is introduced by reacting a monomer having a functional group that can be covalently bonded.
  • solvents such as methanol, ethanol, iso-propanol, sec-propanol, alcohols such as t-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, etc.
  • solvents such as methanol, ethanol, iso-propanol, sec-propanol, alcohols such as t-butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, etc.
  • Particles produced by such polymerization orient the functional groups on the surface.
  • the monomer having the above functional group include the following.
  • the carboxyl group-containing monomer include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, and citraconic acid.
  • hydroxyl group-containing monomer 2-hydroxyshetyl acrylate
  • 2-hydroxypropyl acrylate 2-hydroxypropyl methacrylate
  • aryl alcohol 2-hydroxypropyl methacrylate
  • Epoxy group-containing monomers include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and glycidyl acryl ether.
  • the monomer containing a methylol group include N-methylol acrylamide, N-methyl methacrylamide and the like.
  • amino group-containing monomer include dimethylaminoethyl acrylate and dimethylaminoethyl methacrylate.
  • Examples of the monomer containing an acid amide group include acryl amide and methacrylamide.
  • Examples of the silyl group-containing monomer include methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, p-trimethoxysilylstyrene, p-triethoxysilylstyrene, p-trimethoxysilinole-methylstyrene, and p-trimethylsilylstyrene.
  • a method of introducing a silyl group a method of reacting silane gas with a particle having a functional group having an active hydrogen such as a silanol group, a hydroxyl group or a carboxyl group on the surface is also applied.
  • Silyl groups can be introduced to the surface by treatment with a silane coupling agent such as -glycidoxytripropylmethoxysilane, 71-mercaptopropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, p-trimethoxysilylstyrene, or methyltrichlorosilane. I can do it.
  • the polymer particles or inorganic particles having the silyl groups introduced on the surface are Hydrolysis of the silyl group by treatment with acid or acid results in particles having silanol groups on the surface.
  • Examples of the active energy curable resin include acrylic resin 1 having a polyurethane structure, urethane acrylate oligomer having a group bonded thereto, and polyester acrylate oligomer having an acrylate group bonded to an oligomer having a polyester structure.
  • the photoradical initiator (photopolymerization initiator) E that can be mixed with the active energy ray-curable resin composition generates a radical by light. This is preferably one that initiates radical polymerization of unsaturated group-containing polymers, monofunctional and polyfunctional monomers, and any of the radical reaction type photopolymerization initiators conventionally known in the photosensitive resin field can be used. Not limited.
  • photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more in accordance with the type of curing agent (crosslinking agent) or diluent used.
  • the amount of the photopolymerization initiator used is not particularly limited, and is usually about 0.10 parts by weight per 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin crosslinked by ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams. Used in proportions.
  • a compound having at least one polymerizable carbon-carbon unsaturated bond can be used.
  • one or more of the following monomers can be used: aryl acrylate, benzyl acrylate, butoxyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentyl acrylate, 2- Ethyl hexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidyl acrylate, 2-hydroxyhexyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isobonyl acrylate, isodexyl acrylate, isococtyl Acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, phenoxyshetyl acrylate, stearyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, dimethacrylate
  • the diluent D preferably has an epoxy group.
  • examples include 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, and glycidyl (methyl) acrylate.
  • the amount of the diluent used is not particularly limited, and it is usually used in a proportion of 1 to 200 parts by weight per 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin.
  • heat-curable resin examples include epoxy resins (curing agents such as amines, polyamides, and acid anhydrides), polyester resins and melamine resins, and epoxy resins and melamine resins.
  • epoxy resins include the following: hydroquinone diglycidyl ether, potassium diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, phenyl diglycidyl ether, phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin , Tris-hydroxyphenyl epoxy resin, dicyclopentene dimethanol epoxy resin, bisphenol-A epoxy resin, bisphenol-F epoxy resin, bisphenol-S epoxy resin, 2,2-bis ( 4-Hydroxyphenyl) 1,1,1,1,3,3,3—Hexafluoropropane epoxy compound, hydrogenated bisphenol—A-type epoxy resin, hydrogenated bisphenol—F-type epoxy resin, bishydride hydride Phenol S-type epoxy resin, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hydride — 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane epoxy compound, brominated bisphenol—A-type epoxy Resin, brominated bisphenol-F epoxy resin, cyclohexanedimethanol-
  • an alicyclic epoxy resin and an oxetane resin are preferable.
  • Alicyclic epoxy resins are oxides having an oxysilane ring, which are obtained by reacting peracetic acid with a cyclic aliphatic unsaturated compound having two or more unsaturated groups.
  • a typical example is an epoxy resin of a type in which a bond is epoxidized, and a resin having two or more epoxy groups in one molecule is preferable.
  • An oxetane compound is a compound having one or more oxetane rings in the molecule. Specifically, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (trade name: OXT 101, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxenil) Methoxymethyl] benzene (same as OXT 121), 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane (same as OXT 211), Di (1-ethyl- 3- oxoxenyl) methyl ether (OXT221) etc., 3-ethyl-3- (2-ethylhexoxymethyl) oxene (OXT212) etc.
  • 3-ethyl-3-hydroxymethylxoxen, 3-ethyl-13- (phenoxymethyl) oxetane, and di (1-ethy-3-oxetanyl) methyl ether can be preferably used. These can be used alone or in combination of two or more.
  • polymer polyol there is no particular limitation on the polymer polyol.
  • at least one polyether polyol selected from polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol
  • at least one polyester polyol selected from esters of polyhydric alcohol and polybasic acid.
  • At least one kind of polycarbonate-based polyol selected from hexamethylene carbonate and pentamethylene carbonate
  • at least one kind of polylactone-based polyol selected from polycaprolactone polyol and polybutyrolactone boritol. Is preferred.
  • polyether-based polyols polyester-based polyols, polycarbonate-based polyols and polylactone-based polyols can be selected, or a plurality of them can be combined.
  • the melamine resin include amino resins such as methyl etherified melamine resin, butylated etherified melamine resin, isobutyl etherified melamine resin, and butylated etherified benzoguanamine resin.One or two of these resins can be used. Mixtures of the above can be used.
  • a curing agent or an acid catalyst can be added to the thermosetting resin.
  • a curing agent include an acid anhydride, an amine curing agent, and a cationic curing agent.
  • the acid anhydride-based curing agent examples include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromeric anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, and ethylene glycol anhydride.
  • Aromatic carboxylic acid anhydrides such as tonic anhydride, biphenyletracarboxylic acid anhydride, aliphatic carboxylic acid anhydrides such as azelaic acid, sebacic acid and dodecane diacid, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydric acid
  • alicyclic carboxylic anhydrides such as drofuric anhydride, nadic anhydride, wet anhydride, and highmic anhydride.
  • amine curing agent examples include diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenyl ether, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 1,5-diaminonaf Aromatic amines such as ethylene, m-xylylenediamine, ethylenediamine, diethylenediamine, isophoronediamine, aliphatic amines such as bis (4-amino-13-methyldicyclohexyl) methane, polyetherdiamine, dicyandiamide, 1 ⁇ (O-tolyl) guanidines such as biguanide.
  • Aromatic amines such as ethylene, m-xylylenediamine, ethylenediamine, diethylenediamine, isophoronediamine, aliphatic amines such as bis (4-amino-13-methyldicyclohexyl
  • catalysts include tertiary amines (tris (dimethylaminomethyl) phenol, dimethylbenzylamine, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) indene (DBU)), imidazoles, etc. It is a target.
  • the acid catalyst examples include para-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonate. Acids such as acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, dinonylnaphthalenedisulfonic acid, butylphosphoric acid, and octylphosphoric acid, and amine neutralized products of these acids are preferred.
  • Examples of the cationic polymerization resin include an epoxy compound, an oxetane compound, an oxolane compound, a cyclic acetal compound, a cyclic lactone compound, a thiirane compound, a chain compound, a vinyl ether compound, and a reaction product of an epoxy compound and a lactone.
  • a diluent H and / or a light-powered thione initiator I it is preferable to mix a diluent H and / or a light-powered thione initiator I with the cationic polymerization resin.
  • Examples of the light-powered thione polymerization initiator I include arylaryl dimethyl salt type compounds, triarylsulfonium salt type compounds, and diaryl dominodium salt type compounds.
  • Diluents H include alkylphenol monoglycidyl ether, alkyl monoglycidyl ether, dipropylene glycol, recall diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 1, 6-Hexanediol glycidyl ether.
  • the amount of the light-powered thione polymerization initiator to be used is not particularly limited, and is usually used in a proportion of 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the active energy linear curable resin.
  • the amount of the diluent used is not particularly limited, and it is usually used in a proportion of 1 to 40 parts by weight per 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin.
  • the ink was prepared by mixing spacer particles A, resin component; B, and an ultraviolet radical initiator.
  • the functional group of the particle A is a hydroxyl group
  • the resin component B is a urethane acrylate containing an isocyanate group
  • the initiator is 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-one-one.
  • This mixture was printed on a filter substrate by the gravure offset printing method described in JP-A-2000-35582, cured, and cured. Specifically, the sample was preheated at 80 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with ultraviolet light at 100 Omj / cm. The evaluation results of the obtained spacers are shown in Tables 1 and 2. See Figure 2.
  • the slide was cracked to create a cross section of the ink, and the presence or absence of peeling at the interface between the binder resin and the spacer was observed using a scanning electron microscope. “ ⁇ ” indicates no peeling, “ ⁇ ” indicates partial peeling, and “X” indicates complete peeling.
  • the cellophane tape was peeled off, and the presence or absence of peeling of the printed dots was observed with an optical microscope. “ ⁇ ” indicates no peeling, “ ⁇ ” indicates partial peeling, and “X” indicates complete peeling.
  • An ITO / polyimide alignment film was formed on the surface, and the rubbed substrate was printed with ink by a printing machine so that it would be on the BM, and subjected to a heat treatment under predetermined conditions. After that, print the sealant around the substrate and apply The STN liquid crystal panel was created by laminating the substrates and injecting liquid crystal (Merck ZLI-2293 (S078W)) into the cells.
  • liquid crystal Merck ZLI-2293 (S078W)
  • the alignment abnormality around the liquid crystal spacer at the time of lighting was observed and evaluated.
  • a DC voltage (DC) of 50 V, 1 second is applied to the liquid crystal panel prepared by the above method, and the change in the alignment abnormality (light leakage state) around the liquid crystal spacer before and after the application is evaluated. did.
  • a predetermined amount of the cured ink and a predetermined amount of LC are placed in a sample bottle, and heated in a dryer to accelerate the heat.
  • Resin-cured solids should be 5% of liquid crystal. Heating was promoted under the following conditions, and liquid crystal contamination was measured.
  • Heating promotion conditions 80 ° C—7 hr
  • Liquid electrode LE21, manufactured by Ando Electric
  • High-resistance measuring device Kesleichi SR-651
  • Example 1 liquid crystal contamination was suppressed.
  • the same spacer particles A as used in Example 1 were used.
  • the functional group of the particle A is a hydroxyl group.
  • Epoxy resin is used as the resin component B, methyltetrahydrofluoric anhydride “Epolite B-570” (manufactured by Dainippon Ink) as an acid anhydride curing agent, and an aromatic tertiary amine as a catalyst.
  • Epoxy resin is used as the resin component B
  • This mixture was printed and cured in the same manner as in Example 1, and the spacer was placed on the BM. Specifically, it was cured by heating at 200 ° C. for 60 minutes.
  • Example 3-1 The same spacer particles A as used in Example 1 were used.
  • the functional group of the particle A is a hydroxyl group.
  • resin component B "Braxel 410D” (Polycaprolactone 1, tetratetraol: manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), "Epico 1001” (epoxy resin, manufactured by Japan Epoxy Resin)
  • Synmel 303 Melamine resin, manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.
  • paratoluenesulfonic acid was mixed as an acid catalyst.
  • This mixture was printed and cured as in the example, and the spacer was placed on the BM. Specifically, it was cured by heating at 150 ° C. for 30 minutes. As a result, good characteristics were obtained.
  • Example 5 The same spacer particles A as in Example 1 were used.
  • the functional group of the particle A is a hydroxyl group.
  • "Eporide GT403" (a polyfunctional alicyclic epoxy resin, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) was used as the epoxy resin component B, and "San-Aid SI-100 L (aromatic sulfo) was used as a polymerization initiator.
  • This mixture was printed and cured in the same manner as in Example 1, and the spacer was placed on the BM.
  • the composition was cured by heating for 30 minutes at ° C. As a result, good characteristics were obtained. (Example 5)
  • the surface of the particles is treated with MOI (2-isocyanateethyl methacrylate, manufactured by Showa Denko KK) and KBM 5103 ( ⁇ -acryloxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) to obtain unsaturated groups.
  • MOI 2-isocyanateethyl methacrylate
  • KBM 5103 ⁇ -acryloxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • Nylpropane-1 ounce "Darocur 1 1 7 3" (manufactured by Ciba Geigy) was mixed, and the mixture was printed and cured in the same manner as in Example 1 and the spacer was placed on the BM. Specifically, it was cured by irradiating it with 1000 mj / cm of ultraviolet light, and as a result, good characteristics were obtained.
  • the same spacer particles A as in Example 5 were used.
  • resin B a phenol novolak resin “ENA” (manufactured by Kagawa Chemical Co., Ltd.) containing an epoxy group and an unsaturated group was used, and as a diluent D, an ultraviolet curable monomer “M210” was used.
  • photoradical polymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-11-phenylpropane-11-one "Darocure 117, Ciba-Geigy”
  • This mixture was printed, cured, and the spacer was placed on the BM in the same manner as in Example 1. Specifically, irradiation with ultraviolet light of lOOmj'Zcm was performed. And cured by heating for 30 minutes at 150 ° C. As a result, good characteristics were obtained.
  • the same spacer particles A as in Example 5 were used.
  • resin B acrylate “M7100” (polyester acrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
  • a diluent D a UV-curable monomer “4HBAGE” (4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) and a photoradical polymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1 _Phenylpropane-11-one "Darocure 1 173" (manufactured by Ciba-Geigy) was mixed in. This mixture was printed and cured in the same manner as in Example 1, and the powder was placed on the BM. Specifically, curing was performed by irradiating an ultraviolet ray of 100 Omj / cm, and as a result, good characteristics were obtained.
  • the same spacer particles A as in Example 3-2 were used.
  • the functional group of particle A is an epoxy group.
  • Resin B includes Evolite 828 (epoxy resin, manufactured by Japan Epoxy Resin) and OXT-101 (3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, manufactured by Toa Gosei) And a photoinitiated thione polymerization initiator “San-Aid SI-100L (aromatic sulfonium salt type compound)” was further mixed.
  • the mixture was printed in the same manner as in Example 1 and cured.
  • the spacer was placed on the surface.Specifically, it was cured by irradiating 1000 mj / cm of ultraviolet rays and then heat-treating it at 150 ° C. for 30 minutes. Adhesion with spacer particles was improved, and liquid crystal contamination was suppressed.
  • the same spacer particles A as in Example 3-2 were used.
  • the functional group of particle A is an epoxy group.
  • As the resin B an alicyclic epoxy resin “GT301” (Daicel Chemical Co., Ltd.) was used, and a photo-ionization polymerization initiator “Sun-Aid SI-100L” (aromatic sulfonium salt type compound) This mixture was printed, cured, and the spacer was placed on the BM in the same manner as in Example 1. Specifically, the mixture was irradiated with ultraviolet light of 100 Omj / cm. I At 150 ° C. for 15 minutes. As a result, good characteristics were obtained.
  • the same spacer particles A as in Example 2 were used.
  • the functional group of the particle A is a hydroxyl group.
  • resin B “Epicoat 806” (bisphenol: F-Eve epoxy resin: manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) was used, and further, a light-intensity thione polymerization initiator “Sun-Aid SI—100 L (aromatic)
  • the mixture was printed and cured in the same manner as in Example 1.
  • the spacer was placed on the BM. Specifically, l OOO mj Z cm And cured by heat treatment at 120 ° C. for 15 minutes, resulting in good characteristics.
  • the same spacer particles A as in Example 3-2 were used.
  • the functional group of particle A is an epoxy group.
  • As the resin B “Epico 806” (bisphenol F type epoxy resin, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) is used, and a diluent (bifunctional epoxy resin “Epiclon 720” (Neopentyl) Glycol diglycidyl ether, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) and a photoactive thione polymerization initiator “San-Aid SI-100 L (aromatic sulfonium salt type compound)” were mixed.
  • Printing and curing were performed in the same manner as in step 1, and the spacer was placed on the BM.Specifically, irradiation was performed with 1000 mj / cm of ultraviolet light, and then at 120 ° C. for 15 minutes. It was cured by heat treatment, and as a result, good characteristics were obtained.
  • the same spacer particles A as used in Example 3-2 were used.
  • the functional group of particle A is an epoxy group.
  • Polycarbonate lactone tetraol epoxy resin partially having COOH groups was used as resin B.
  • This resin is Cell 410D (Polycaprolactonetetraol, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) was reacted with methyltetrahydrostalic anhydride “Epolite B-570” (manufactured by Dainippon Ink).
  • “Polyde GT 403 (a polyfunctional alicyclic epoxy resin, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) was mixed. This mixture was printed and cured in the same manner as in Example 1 to obtain a mixture.
  • Example 1 was placed on the BM.
  • the composition was cured by heating at 180 ° C. for 60 minutes, and as a result, good characteristics were obtained.
  • the resin B was a UV-curable resin "M350" (trimethylolpropane E0-modified triacrylate: Toa Gosei Co., Ltd.) Was used.
  • M350 trimethylolpropane E0-modified triacrylate: Toa Gosei Co., Ltd.
  • the mixture was diluted with propylene glycol monomethyl ether to obtain a spacer particle dispersion.
  • the resulting dispersion is discharged onto a substrate using a known ink jet device, preliminarily dried at 120 ° C for 30 minutes, and then cured by irradiating ultraviolet light at 100 mj'Z cm. Then, after baking was performed at 150 ° C. for 30 minutes.
  • the same spacer particles A as in Example 1 were used.
  • the functional group of the particle A is a hydroxyl group.
  • polyester acrylate “M710” manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a high boiling point solvent propylene glycol diacetate
  • a photoradical initiator was mixed. This mixture was printed and cured as in Example 1 and the spacer was placed on the BM. Specifically, after heating at 80 ° C. for 10 minutes, curing was performed by irradiating 100 Omj / cm ultraviolet rays.
  • the same spacer particles A as used in Example 1 were used.
  • the functional group of the particle A is a hydroxyl group.
  • Melamine polyester resin was used as resin B, and a high boiling alcohol solvent was mixed. This mixture was printed and cured as in Example 1, and the spacer was placed on the BM. Specifically, it was cured by heating at 210 ° C. for 60 minutes.
  • Example 13 the used sensor particles were changed to the particles used in Example 1. Other than that, the experiment was performed in the same manner as in Example 13. As a result, the adhesion between the spacer particles and the binder resin was low, and the impact resistance was low. Adhesion between the ink and the alignment film was slightly low, and light leakage and slight liquid crystal contamination were observed.
  • the present invention it is possible to improve the adhesion between the spacer particles and the binder resin in the spacer forming method by the printing method.

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Abstract

 印刷方式によるスペーサー形成法において、スペーサー粒子とバインダー樹脂との密着性を向上させ得るようにする。印刷法において使用されるスペーサー形成用インキを提供する。このインキは、A:スペーサー粒子、およびC:スペーサー粒子を分散する熱硬化性又は活性エネルギー線硬化性樹脂を含む樹脂配合物を含む。

Description

明細書
スぺーサ一形成用ィンキ 発明の属する技術分野
本発明はスぺ一サ一形成用ィンキに関するものである。
背景技術
特開 2000-35582号公報には、 グラビアオフセヅ ト印刷によるスぺ一 サ一形成法が開示されている。 特開 2000-35582号公報の請求項 2及び 3に、 粘度 2 00 0〜2 5 0 0 0 c p sの樹脂中に球状スぺ一サーを 2 0〜 6 0重量%配合したインキを使用することが記載されており、 実施 例では、 5 /の樹脂スぺ一サービーズとポリエステル系樹脂が示されて レ、る。
特開平 1 1— 3 2 3 2 2 0号公報、 特開平 9— 1 1 1 1 7 0号公報、 特開平 7 - 1 1 0404号公報には、 凹版オフセヅ ト印刷にてカラ一フ ィル夕層やブラックマト リ ックスを形成するのに適する加熱硬化型ィン キとして、 ポリエステル-メラミン樹脂、 エポキシメラミン樹脂等が用い られていることが記載されている。
また、 特開 2 000— 3 47 1 9 1号公報には、 インクジェッ ト式印 刷法によるスぺーサ一形成法が開示されている。 特開 2 000— 3 47 1 9 1号公報の請求項 1には、 'スぺ一サ一が形成固体微粒子とバインダ —樹脂とを含むことが記載されている。 発明の開示
特開 2000-35582号公報では、 樹脂に関しては、 粘度のみが規定され ている。 実施例ではポリエステル樹脂が示されており、 樹脂スぺ一サー ビーズも粒径のみが規定されている。
特開平 1 1— 3 2 3 2 2 0号公報、 特開平 9— 1 1 1 1 70号公報、 特開平 7 - 1 1 0 4 0 4号公報では、 カラーフィル夕の凹版オフセヅ ト 印刷法で使用するィンクのバインダ一樹脂として、ポリエステル-メラミ ン樹脂、 メラミン変性ポリエステル樹脂、 エポキシメラミン樹脂、 メラ ミン変性エポキシ樹脂等が使用される。 しかし、 樹脂の他に、 印刷適性 の点から、 高級アルコール、 エチレン系グリコールエーテル、 プロピレ ン系グリコ一ルェ一テル、 シク口へキサノン、 ィソホロン等のケトン類 などの高沸点系溶剤が使用される。 そのため、 印刷後に、 高温での長時 間の乾燥が必要になり、 加熱が不十分な場合は、 溶剤が残存し、 液晶汚 染の原因になる。 また硬化後、 スぺーサ一、 インキ、 配向膜での密着が 悪い場合には、 配向膜ラビング時ゃ振動の際、 スぺーサ一とバインダ一 樹脂間の界面剥離、 配向膜との密着不良によりスぺーサ一が移動するた め、 光抜け、 ギャップむら、 配向膜へのキズなどの問題点があった。 特開 2000-35582号公報、特開 2 0 0 0— 3 4 7 1 9 1号公報ともに、 パィンダ一樹脂とスぺ一サ一粒子との界面での化学結合の形成について は記載されていない。, しかし、 バインダー樹脂とスぺ一サー粒子との界 面で化学結合の形成がないと、 振動などの外力が加わった場合、 スぺー サ一粒子がバインダ一樹脂から界面剥離を起こし、 剥離したスぺーサー 粒子が移動し、 配向膜を傷つけるため、 衝撃後に光抜けなどの問題点が あった。
本発明の課題は、 印刷方式によるスぺ一サ一形成法において、 スぺー サー粒子とバインダ一樹脂との密着性を向上させ得るようにすることで ある。
本発明は、 印刷法において使用されるスぺーサ一形成用ィンキであつ て、
A : スぺ一サー粒子、 および
C : 前記スぺーサ一粒子を分散する熱硬化性又は活性エネルギー線硬化 性樹脂配合物
を含むことを特徴とする。 本発明によれば、 スぺーサ一粒子は、 熱硬化性または活性エネルギー 線硬化性樹脂配合物 C中に分散されており、 樹脂配合物 Cにはスぺーサ 一粒子と化学反応可能な官能基を含む成分を有しているので、 スぺーサ 一粒子とバインダ一樹脂との間で新たな化学結合が生成し、 密着性を向 上させることができる。 更に、 好適な実施形態においては、 バイン.ダー 樹脂と配向膜との間でも新たな化学結合が生成し、 結果的にスぺーサー と配向膜との密着性を向上させることができる。 図面の簡単な説明
図 1 ( a )、 図 1 ( b ) は、 それぞれ、 スぺーサ一粒子 A、 樹脂 Bおよ び配向膜の結合様式を示す模式図である。
図 2 ( a )、 図 2 ( b ) は、 スぺ一サ一粒子 A、 樹脂 B、 F、 G、 モノ マ一および配向膜の結合様式を示す模式図である。 発明を実施するための最良の形態
本発明の各要件について以下更に詳細に説明する。
(印刷方式)
印刷方式には、 版式印刷方式と、 無版印刷方式とを含む。
版式印刷方式とは、 版を用いた印刷方式を意味しており、 以下の方法 を例示できる。
( 1 ) 凸版印刷 (直刷方式、 オフセット方式)
( 2 ) 凹版印刷又はグラビア印刷 (転写方式、 オフセッ ト方式、 パヅ ド方式) ( 3 ) 平版印刷又はオフセッ ト印刷
( 4 ) 孔版印刷又はスクリーン印刷
無版印刷方式は、 版を使用しない印刷方式であれば限定されないが、 インクジエツ ト印刷方式やレーザー印刷方式を含む。 代表的なィンクジ エツ ト印刷方式には以下のものがある。
( 1 ) バブルジェッ ト方式
( 2 ) ピヱゾ方式
好適な実施形態においては、 樹脂配合物 Cが、 粒子 Aと化学反応可能 な官能基を含む成分を少なくとも一種含有する。この成分は、熱硬化性、 活性エネルギー線硬化性の樹脂 Bであってよく、 また他の樹脂、 モノマ 一ないし希釈剤、 オリゴマー、 光ラジカル開始剤、 溶剤などの任意の成 分であってよい。
例えば、 好適な実施形態においては、 粒子 Aと化学反応可能な官能基 を含む成分が、 一種または二種以上の樹脂 Bである。 この場合には、 図 1 ( a )に模式的に示すように、スぺーサ一粒子 Aの官能基 a、 a \ a " と、 樹脂 Bの官能基 b、 b '、 b " とが反応し、 結合する。
更に好適な実施形態においては、 粒子 Aと化学反応可能な官能基を含 む成分が、 一種または二種以上の樹脂 Bであり、 かつ樹脂 Bが配向膜の 官能基と反応可能である。 この場合には、 図 1 ( b ) に模式的に示すよ うに、 スぺ一サ一粒子 Aの官能基 a、 a l、 a,,、 a 1 " と、 樹脂 Bの 官能基 b 1、 b 1 " とが反応し、 結合する。 これと共に、 樹脂 Bが、 配 向膜の官能基と反応し、 結合する。
また、 他の好適な実施形態においては、 樹脂配合物 Cが、 複数種類の 樹脂 Bを含有している。 そして、 樹脂 Bはスぺ一サ一粒子 Aと化学反応 し、他の樹脂 Fは樹脂 Bと化学反応し、 また配向膜の官能基と反応する。 例えば図 2 ( a ) に模式的に示す例では、 樹脂 Bの官能基 b, がスぺー サー粒子 Aの官能基 a, と反応し、 樹脂 Fが樹脂 Bと反応し、 樹脂 Fが 樹脂 Gと反応する。 これと共に、 樹脂: Fが配向膜の官能基と反応する。 この結果、 生成した高分子化合物を介して、 スぺ一サー粒子 Aと配向膜 とが化学的に結合されることになる。
他の好適な実施形態においては、 樹脂配合物中の樹脂以外の成分が、 樹脂 Bと反応すると共に、 配向膜の官能基と反応する。例えば図 2 ( b ) に模式的に示す例では、 樹脂 Bの官能基 b ' がスぺーサ一粒子 Aの官能 基 a, と反応し、モノマーないし希釈剤が樹脂 Bおよび粒子 Aと反応し、 モノマーが配向膜の官能基と反応する。 この結果、 生成した高分子化合 物を介して、 スぺ一サー粒子 Aと配向膜とが化学的に結合されることに なる。
好適な実施形態においては、 樹脂 Bが加熱により反応可能な官能基 b を有し、 粒子 Aが官能基 bと反応可能な官能基 aを有している。 これに よって、 スぺーサ一粒子とバインダ一樹脂の有する官能基間での反応に より、 スぺ一サー粒子とバインダー樹脂が一体化し、 スぺーサ一粒子の 脱離がなくなる。
この樹脂 Bの官能基 bとしては、 水酸基、 エポキシ基、 カルボキシル 基、 加水分解性シリル基、 シラノール基、 イソシァネート基、 メチロー ル基、 アルキル化メチロール基、 イミノ基、 酸無水物、 不飽和基を例示 できる。 これらの官能基は、 粒子 Aが有する官能基 aとの反応性に基づ いて選択する。
また、 樹脂配合物 C中には、 粒子 Aと反応性の樹脂 Bを複数種類含有 することができ、 あるいは硬化剤やカップリング剤を配合することがで きる。 この例としては、 ポリエステル樹脂とメラミン樹脂、 エポキシ樹 脂とメラミン樹脂、 エポキシ樹脂とアミン系硬化剤等の組み合わせが挙 げられる。 粒子 Aが有する、 樹脂配合物中の成分と反応可能な官能基としては、 シラノール基、 カルボキシル基、 エポキシ基、 加水分解性シリル基、 ィ ソシァネート基、 不飽和基、 メチロール基、 アルキル化メチロール基、 イミノ基、 酸無水物、 アミノ基を例示できる。
好適な実施形態においては、 樹脂 Bの有する加熱により反応可能な官 能基 bが、 配向膜に残存する官能基と反応可能な官能基 b 1である。
これによつて、 バインダ一樹脂の官能基 b 1 と配向膜に残存する官能 基との間の反応により、バインダ一樹脂と配向膜との密着性が向上する。 配向膜に残存する官能基としては、 カルボキシル基、 アミ ド基を例示 できるが、 反応性の点からはカルボキシル基が特に好ましい。
また、 配向膜に残存する官能基と反応可能な官能基 b 1 としては、 ェ ポキシ基、 水酸基、 アミノ基を例示でき、 反応性の点からはエポキシ基 が特に好ましい。
好適な実施形態においては、樹脂 Bの官能基 b 1がエポキシ基であり、 粒子 Aの前記官能基 aが、 エポキシ基と反応可能な官能基 a 1である。 この官能基 a 1 としては、 エポキシ基、 水酸基、 シラノール基等が挙げ られる。
また、 好適な実施形態においては、 樹脂 Bが、 活性エネルギー線によ り反応可能な官能基 b ' を有し、 粒子 Aが、 官能基 b ' と反応可能な官 能基 a ' を有している。 この官能基 b ' としては、 アクリル基、 メ夕ク リル基等の不飽和基を例示でる。
また、 粒子 Aの官能基 a ' としては、 アクリル基、 メ夕クリル基等の 不飽和基を例示できる。
好適な実施形態においては、 樹脂配合物 Cが、 配向膜に残存する官能 基と反応可能な官能基 b 1 ' を有する成分を含有する。 この成分は、 樹 脂 Bであってよく、 樹脂 Bと別の樹脂であってよく、 モノマー、 オリゴ マ一、 希釈剤、 光開始剤等の他の成分であってよい。 官能基 b l, とし てはエポキシ基を例示できる。
好適な実施形態においては、 インキが、 活性エネルギー線によって反 応可能な官能基 a '、 または官能基 b ' と反応可能な官能基を有する希釈 剤 Dおよび Z又は光ラジカル開始剤 Eを有している。
また、 好適な実施形態においては、 樹脂 Bが加熱および/またはェネル ギ一線によりカチオン重合可能な官能基 b を有し、 粒子 Aが官能基 b " と反応可能な官能基 a " を有している。
この官能基 b " としては、 エポキシ基、 水酸基を例示できる。 また、 粒子 Aの官能基 a " としては、 エポキシ基、 水酸基を例示できる。
好適な実施形態においては、 樹脂 Bの官能基 が、 配向膜に残存す る官能基と反応可能な官能基 b 1,' である。 この官能基 b l ' ' として は、 エポキシ基、 水酸基を例示できる。
更に好適な実施形態においては、樹脂 Bの官能基 b 1 "がエポキシ基 であり、 粒子 Aの官能基 a " が、 エポキシ基と反応可能な官能基 a 1 " である。 この官能基 a 1 " としては、 エポキシ基、 水酸基を例示できる c また、 樹脂をカチオン重合させる本実施形態においては、 樹脂組成物 が、 官能基 a ', または官能基 b ' ' と反応可能な官能基を有する希釈剤 Hおよび/又は光力チオン開始剤 Iを有している。
本発明のインキは、 その印刷方式に適したインキとするために、 樹脂 配合物 C中の溶剤の量や溶剤の種類は、 適宜実験的に決めることができ る。 樹脂配合物 c中の溶剤は、 樹脂配合物 C中の他の成分を溶解させる ものであってもよく、 他の成分を分散させるものであってもよい。
本発明の版式印刷法に使用されるィンキは、 溶剤の含有量が少なく方 が好ましく、 具体的には 3 0重量%以下が好ましく、 1 0重量%以下が 更に好ましい。 特に好適な実施形態においては、 本発明の版式印刷法に 使用されるインキが溶剤を実質的に含まない。 これは、 インキ中に溶剤 成分を積極的に添加しないことを意味しており、 痕跡量の溶剤や不可避 的不純物は除外される。
このように、 インキが実質的に溶剤を含まないことにより、 スぺーサ —形成後の残留溶剤による液晶汚染がなくなり、 更に一層安定な印刷が 可能となる。特に活性ェネルギ一線硬化性樹脂を使用することによって、 後の加熱工程を省略することができる。
また、 本発明のインクジェッ ト式印刷法に使用されるインキには、 溶 剤として、 アルコール系、 グリコール系、 プロピレングリコール系、 水 などの極性溶剤を例示できる。
以下、 本発明のインキの各成分について更に述べる。
(スぺ一サ一粒子)
本発明に用いられるスぺーサ一粒子は限定されない。 好適な実施形態 においては、 析出重合法またはシード重合法によって得られる粒子であ る。 析出重合法とは単量体は溶解し、 該単量体にもとづく重合体は溶解 しない溶剤中で該単量体を重合し、 重合体粒子を析出せしめる重合法で ある。 シ一ド重合法とは上記析出重合法によって得られた重合体粒子を 単量体によって膨潤せしめ、 該重合体粒子に内蔵されているラジカルに よって該単量体を更に重合せしめて二次重合体粒子を得る方法である。 上記析出重合およびシ一ド重合にあっては単量体の一部としてジビニ ルベンゼン、 ジァリノレフ夕レート、 テ トラァリ ロキシェタン等の多価ビ ニル化合物を用いた架橋重合体粒子が望ましい。 架橋重合体粒子は耐溶 剤性、 耐熱性が良好である。上記析出重合およびシード重合にあっては、 液晶スぺーサとして適当な真球状でかつ均一な粒度分布を有する粒子が 得られ、特にシード重合にあっては粒径の大きな真球状粒子が得られる。 上記粒子以外に本発明においては、 その他の重合法で重合される重合 体粒子、 ガラス粒子、 セラミ ック粒子、 金属粒子等が用いられてもよい が、 液晶スぺーサとしては上記したように該粒子は真球状でかつ粒度分 布が均一なものが望ましい。
この粒子に付着層を設けることによって、 粒子の表面に、 後述するよ うな官能基を導入することができる。
この付着層として用いられる材料としては、 メチルァクリレート、 ェ チルァクリレート、 n-ブチルァクリレート、 iso-ブチルァクリレート、 2- ェチルへキシルァクリレート、 シクロへキシルァクリレート、 テトラヒ ドロフルフリルァクリ レート、 メチルメ夕クリレート、 ェチルメタクリ レート、 n-ブチルメ夕クリレート、 iso-ブチルメタクリ レート、 2-ェチル へキシルメタクリレート、 ステアリルメタクリレート、 ラウリルメ夕ク リレート、 メチルビニルエーテル、 ェチルビニルエーテル、 n-プロピル ビニルェ一テル、 n-ブチルビ二ルェ一テル、 iso-ブチルビニルエーテル、 スチレン、 ひーメチルスチレン、 .アクリロニト リル、 メタクリロニトリ ル、 酢酸ビニル、 塩化ビニル、 塩化ビニリデン、 弗化ビニル、 弗化ビニ リデン、 エチレン、 プロピレン、 イソプレン、 クロ口プレン、 ブ夕ジェ ン等の重合可能な単量体の単独重合体または上記単量体の二種以上の共 重合体であって熱可塑性を有するものである。
この様な熱可塑性重合体または共重合体は加熱によつて軟化して配向 基板表面に良好な付着性を示す。 更に付着層の材料としてはグリシジル ァクリレート、 グリシジルメタクリレート、 グリシジルァリルエーテル、 脂環式エポキシ基を含むァクリレートまたはメタクリレート等のェポキ シ基含有単量体の単独重合体または上記エポキシ基含有単量体の二種以 上の共重合体、 またはエポキシ基含有単量体と上記エポキシ基含有単量 体以外の単量体との共重合体等のエポキシ基含有重合体や、 ポリビエル アルコール等、 ガラス面またはポリイ ミ ドコーティングガラス面に親和 性を有する官能基を有する重合体も用いられる。 なおポリビニルアルコ ールは酢酸ビニルを重合した後加水分解することによって得られる。 好適な実施形態においては、 スぺーサ一粒子において、 粒子表面と、 付着層を構成する重合体とを共有結合によって結合せしめる。 その方法 としてはグラフ ト重合法、 および高分子反応法を例示できる。 グラフ ト 重合法においては、 粒子表面に重合可能なビニル基を導入し、 該ビニル 基を出発点として上記単量体を重合する方法、 粒子表面に重合開始剤を 導入し、該開始剤により上記単量体を重合する方法の二つが考えられる。
(1)ビニル基導入法ビニル基導入法においては、 粒子表面に水酸基、 力 ルポキシル基、 エポキシ基、 シリル基、 シラノール基、 イソシアナ一ト 基等の官能基を存在せしめ、 上記官能基と反応して共有結合することの 出来る官能基を有する単量体を反応せしめることによりビニル基を導入 する。
(2) 開始剤導入法粒子表面に上記官能基を存在せしめ、 上記官能基と 共有結合することの出来る官能基を有する過酸化物、 過水酸化物、 ァゾ 化合物等の開始剤を反応せしめることにより開始剤を導入する。
(3) 官能基を表面に存在させる方法
粒子を上記析出重合あるいはシード重合によって製造する場合には、 溶剤としてメタノール、 エタノール、 iso-プロパノール、 sec-プロパノ一 ル、 t-ブタノ一ル等のアルコール、 アセトン、 メチルェチルケトン等の ケトン等の極性溶剤を使用し、 上記官能基を有する単量体を含む単量体 混合物を重合する。 このような重合によって製造される粒子は表面に官 能基を配向する。 上記官能基を有する単量体としては下記のようなもの がある。カルボキシル基含有単量体としてはァクリル酸、 メ夕クリル酸、 ィタコン酸、 クロ トン酸、 マレイン酸、 無水マレイン酸、 シトラコン酸 等がある。水酸基含有単量体としては 2-ヒ ドロキシェチルァクリレート、 2-ヒ ドロキシェチルメタクリレート、 2-ヒ ドロキシプロピルァクリ レ一 ト、 2-ヒ ドロキシプロピルメタクリレート、 ァリルアルコール等がある。 エポキシ基含有単量体としてはグリシジルァクリ レート、 グリシジルメ タクリレート、 グリシジルァリルエーテル等がある。 メチロール基含有 単量体としては N—メチロールアクリルアミ ド、 N—メチ口一ルメタク リルアミ ド等がある。 アミノ基含有単量体としてはジメチルアミノエチ ルァクリレート、 ジメチルァミノェチルメタクリ レ一ト等がある。 酸ァ ミ ド基含有単量体としては、 アクリル ミ ド、 メ夕クリルアミ ド等があ る。 シリル基含有単量体としてはァ一メタクリロキシプロピルト リメ ト キシシラン、 ビニルト リァセトキシシラン、 p— トリメ トキシシリルス チレン、 p — ト リエトキシシリルスチレン、 p — ト リメ トキシシリノレー 一メチルスチレン、 p — トリエトキシシリル一ひ一メチルスチレン、 ァーァクリロキシプロピルトリメ トキシシラン、 ビニルトリメ トキシシ ラン、 N— ^— ( N—ビニルベンジルアミノエチルーァ一ァミノプロピ ル) ト リメ トキシシラン ·塩酸塩等がある。
更にシリル基を導入する方法としては、 シラノール基、 水酸基、 カル ボキシル基等の活性水素を有する官能基を表面に有する粒子にシランガ スを反応させる方法も適用される。
上記重合体粒子以外、 ガラス、 セラミック、 金属等の無機質粒子であ る場合は、 例えばァ一 ( 2—アミノエチル) ァミノプロピルメチルジシ ラン、 ァ一 ( 2—アミノエチル) ァミノプロビルト リメ トキシシラン、 7ーグリシドキシトリプロピルメ トキシシラン、 7 一メルカプトプロピ ルトリメ トキシシラン、 メチルト リメ トキシシラン、 p —トリメ トキシ シリルスチレン、 メチルト リクロロシラン等のシランカヅプリング剤に よって処理することによってシリル基を表面に導入することが出来る。 上記シリル基を表面に導入した重合体粒子または無機質粒子はアル力 リまたは酸処理によってシリル基を加水分解することにより、 シラノー ル基を表面に有する粒子となる。
活性ェネルギー性硬化性樹脂としては、 ポリウレタン構造を有するォ リゴマーにァクリレー 1、基を結合させたウレタンァクリレートオリゴマ 一、 ポリエステル構造を有するオリゴマーにァクリレート基を結合させ たポリエステルァクリレートォリゴマ一、 エポキシ基を有するオリゴマ 一にァクリレート基を結合させたエポキシァクリレートォリゴマー、 ポ リウレタン構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたゥ レ夕ンメタクリレートオリゴマー、 ポリエステル構造を有するオリゴマ 一にメ夕クリレート基を結合させたポリエステルメ夕クリレートオリゴ マー、 エポキシ基を有するオリゴマーにメ夕クリレ一ト基を結合させた エポキシメタクリレートオリゴマー、 ァクリレート基を有するポリゥレ タンァクリレート、ァクリレート基を有するポリエステルァクリレート、 ァクリレート基を有するエポキシァクリレート樹脂、 メタクリレート基 を有するポリウレタンメタクリレート、 メタクリレ一ト基を有するポリ エステルメタクリレート、 メタクリレート基を有するエポキシメタクリ レート樹脂等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に混合できる光ラジカル開始剤 (光重合開始剤) Eは、 光によりラジカルを発生するものである。 これ は、 不飽和基含有ポリマー、 単官能性及び多官能性モノマーのラジカル 重合を開始させるものが好ましく、 感光性樹脂分野で従来公知のラジカ ル反応型光重合開始剤がいずれも使用でき、 特に限定されない。例えば、 ベンゾフエノン、 ァセトフエノン、 ベンゾイン、 ベンゾインイソプチル エーテル、 ベンゾインイソプロピルエーテル、 ベンゾインェチルエーテ ル、 2 , 4 —ジメチルチオキサントン、 2—クロ口チォキサントン、 ェ チルアントラキノン、 4 , 4 ' 一ビスジメチルァミノべンゾフエノン、 2—ヒ ドロキシ一 2—メチル一 1 一フエニルプロパン一 1—オン、 ベン ジルジメチルケ夕一ル等が挙げられる。 これらの光重合開始剤は、 使用 する硬化剤 (架橋剤) や希釈剤のタイプに合わせて、 単独又は 2種以上 を組み合わせて使用することができる。
光重合開始剤の使用量は特に限定されず、 通常、 紫外線や電子線等の 電離放射線で架橋させる活性エネルギー線硬化性樹脂 1 0 0重量部当た り 0 . 0 1 . 1 0重量部程度の割合で使用される。
活性エネルギ一線硬化性樹脂組成物に混合できる希釈剤 Dは、 少なく とも 1つの重合可能な炭素一炭素不飽和結合を有する化合物を用いるこ とができる。 具体的には、 以下のモノマーのうち一種または二種以上を 使用できる : ァリルァクリ レート、 ベンジルァクリレート、 ブトキシェ チルァクリレート、 ブトキシエチレングリコールァクリレート、 シクロ へキシルァクリレート、 ジシクロペン夕ニルァクリレート、 2—ェチル へキシルァクリレート、 グリセロールァクリレート、 グリシジルァクリ レート、 2—ヒ ドロキシェチルァクリレート、 2—ヒ ドロキシプロピル ァクリレート、 イソボニルァクリレート、 イソデキシルァクリレート、 ィソォクチルァクリレート、 ラウリルァクリレート、 2—メ トキシェチ ルァクリレート、 メ トキシエチレングリコールァクリレート、 フエノキ シェチルァクリレート、 ステアリルァクリレート、 ェチレングリコール ジァクリレート、 ジェチレングリコールジァクリレート、 1 , 4一ブ夕 ンジオールジァクリレート、 1 , 5—ペン夕ンジォ一ルジァクリ レート、 1 , 6—へキサンジォ一ルジァクリレート、 1, 3—プロパンジオール ァクリレート、 1 , 4—シクロへキサンジオールジァクリレート、 2, 2—ジメチロールプロパンジァクリレ一ト、 グリセロールジァクリレー ト、 ト リプロピレングリコールジァクリレート、 グリセロールトリァク リレート、 ト リメチロールプロパント リァクリレート、 ポリオキシェチ ルイ匕ト リメチロールプロパント リァクリ レート、 ペン夕エリスリ トール トリァクリレート、 ペン夕エリスリ 卜ールテ卜ラァクリ レート、 ト リヱ チレングリコールジァク リレート、 ポリオキシプロピルトリメチロール プロパントリァクリレート、 プチレングリコールジァクリレート、 1 , 2, 4 一ブタント リオールト リアタリレート、 2, 2 , 4 — ト リメチル — 1 , 3 —ペン夕ンジオールジァクリレ一ト、 ジァリルフマレート、 1, 1 0ーデカンジオールジメチルァクリレート、 ジペン夕エリスリ トール へキサァクリレート等のァクリレート類、 および上記のァクリレート基 をメタクリレート基に置換したメタクリレート類; ァーメタクリロキ シプロビルトリメ トキシシラン、 1 一ビニル一 2—ピロリ ドン、 2—ヒ ドロキシェチルァクリロイルホスフエート、 テトラヒ ドロフルフリール ァクリレート、 ジシクロペンテニルァクリレート、 ジシクロペンテニル ォキシェチルァクリレート、 3—ブ夕ンジオールジァクリレート、 ネオ ペンチルグリコールジァク リレート、 ポリエチレングリコールジァクリ レート、 ヒ ドロキシビバリン酸エステルネオペンチルグリコールジァク リレート、 フエノール一エチレンオキサイ ド変性ァクリレート、 フエノ ール一プロピレンォキサイ ド変性ァクリレート、 N—ビニル一 2—ピロ リ ドン、 ビスフエノ一ル A—エチレンォキサイ ド変性ジァクリレート、 ペン夕エリスリ トールジァクリレートモノステアレート、 テトラエチレ ングリコ一ルジァクリレート、 ポリプロピレングリコールジァクリレ一 ト、 ト リメチロールプロパンプロピレンォキサド変性ト リァクリレート、 イソシァヌール酸ェチレンォキサイ ド変性ト リァクリレート、 トリメチ ロールプロパンェチレンォキサイ ド変性ト リァクリレート、 ペン夕エリ スリ トールペン夕ァクリレート、 ペン夕エリスリ トールへキサァクリレ ート、 ペン夕エリスリ トールテ卜ラァクリレート等のァクリレートモノ マ一、 および、 これらのァクリレート基をメタクリレート基に置換した メタクリレート。
更に、 配向膜との密着性の観点から、 希釈剤 Dはエポキシ基を有す るものが好ましい。 例としては、 3 , 4—エポキシシクロへキシルメ チル (メタ) ァクリレート、 4ーヒ ドロキシプチルァクリ レートグリ シジルエーテル、 グリシジル (メ夕) ァクリレート等が挙げられる。 希釈剤の使用量は特に限定されず、 通常、 活性エネルギー線硬化性樹 脂 1 0 0重量部当たり、 1〜 2 0 0重量部の割合で使用される。
(加熱硬化性樹脂)
加熱硬化性樹脂としては、 エポキシ樹脂 (ァミン、 ポリアミ ド、 酸無 水物等の硬化剤)、 ポリエステル樹脂とメラミン樹脂、 エポキシ樹脂とメ ラミン樹脂等が挙げられる。
エポキシ樹脂の具体例としては、 以下を例示できる :ハイ ドロキノン ジグリシジルエーテル、 力テコ一ルジグリシジルエーテル、 レゾルシノ 一ルジグリシジルエーテル、 フエ二ルジグリシジルエーテル、 フエノー ルノボラヅク型エポキシ樹脂、 クレゾ一ルノボラック型エポキシ樹脂、 ト リスヒ ドロキシフヱ二ルメ夕ン型エポキシ樹脂、 ジシクロペン夕ジェ ンジメタノール型エポキシ樹脂、 ビスフエノールー A型エポキシ樹脂、 ビスフエノール一 F型エポキシ樹脂、 ビスフエノール— S型エポキシ樹 脂、 2 , 2—ビス ( 4ーヒ ドロキシフエニル) 一 1 , 1 , 1 , 3 , 3 , 3 —へキサフルォロプロパンのエポキシ化合物、 水素化ビスフエノール — A型エポキシ樹脂、 水素化ビスフヱノール— F型エポキシ樹脂、 水素 化ビスフエノール— S型エポキシ樹脂、 水素化 2 , 2—ビス ( 4ーヒ ド ロキシフエニル) — 1 , 1 , 1 , 3, 3, 3—へキサフルォロプロパン のエポキシ化合物、 臭素化ビスフエノール— A型エポキシ樹脂、 臭素化 ビスフェノール— F型エポキシ樹脂、 シクロへキサンジメタノ一ルジグ リシジルエーテル化合物、 1 , 6—へキサンジォ一ルジグリシジルェ一 テル、 1, 4—ブタンジオールジグリシジルエーテル、 ジエチレングリ コールジグリシジルエーテル、ポリサルフアイ ドジグリシジルエーテル、 ビフエノール型エポキシ樹脂、 ビスフエノール一 Aノボラヅク型ェポキ シ樹脂、 ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂、 複素環式エポキシ樹脂。 更に、 前記のエポキシ樹脂の他、 脂環式エポキシ樹脂、 ォキセタン樹 脂が好ましい。 脂環式エポキシ樹脂は、 不飽和基を 2個以上有する環状 脂肪族不飽和化合物に過酢酸を作用させて得られる、 ォキシラン環を有 するォキサイ ド類であって、 シクロへキセン環の二重結合をエポキシ化 したタイプのエポキシ 樹脂が代表的で'あり、 また、 1分子中にエポキシ 基を 2個以上有するものであることが好ましい。具体的には、 たとえば、 3 , 4—エポキシ シク口へキシルメチル; 3,, 4, 一エポキシ シクロ へキサンカルボキシレート (U C C社製商品名 UVR 6 1 1 0および U VR 6 1 0 5、 ダイセル化学 (株) 製商品名 CE L LOX I D E 2 0 2 1等)、 ビス ( 3, 4一エポキシシクロへキシルメチル) アジペート (U C C社製商品名 UVR 6 1 2 8等)、 £一力プロラク トン変性 3 , 4—ェ ポキシ シク口へキシルメチル; 3,, 4, —エポキシ シクロへキサン力 ルポキシレート (ダイセル化学 (株) 製商品名 C E L L OX I D E 2 0 8 1等)、 1ーメチルー 4 - ( 2ーメチルォキシラニル) 一 7一才キサビ シクロ [4. 4 · 0] ヘプ夕ン (ダイセル化学 (株) 製商品名 CE L L OX I D E 3 000等) を好ましく用いることができる。 これらは単独 で、 あるいは 2種以上を組み合わせて用いることができる。
ォキセタン化合物は、分子内に 1以上のォキセタン 環を有する化合物 である。具体的には、 3—ェチルー 3—ヒ ドロキシメチルォキセタン (東 亜合成 (株) 製商品名 OXT 1 0 1等)、 1 , 4—ビス [( 3—ェチルー 3—ォキセ夕ニル) メ トキシメチル] ベンゼン (同 OXT 1 2 1等)、 3 ーェチルー 3― (フエノキシメチル) ォキセタン (同 OXT 2 1 1等)、 ジ ( 1ーェチルー 3 一ォキセ夕ニル) メチルエーテル (同 OXT 2 2 1 等)、 3ーェチルー 3 -( 2一ェチルへキシ口キシメチル)ォキセ夕ン (同 OXT 2 1 2等) 等を好ましく用いることができ、 特に、 3—ェチルー 3—ヒ ド口キシメチルォキセ夕ン 、 3—ェチル一 3— (フエノキシメチ ル) ォキセタン 、 ジ ( 1—ェチルー 3—才キセタニル) メチルエーテル を好ましく用いることができる。 これらは単独で、 あるいは 2種以上を 組み合わせて用いることができる。
ポリマーポリオール には特に制限は無い。例えば、 ポリエチレングリ コール、 ポリプロピレングリコール、 およびポリテトラメチレングリコ —ルなどから選ばれる少なくとも 1種のポリエーテル系ポリオール 、多 価アルコールと多塩基酸のエステルから選ばれる少なく とも 1種類のポ リエステル系ポリオール 、へキサメチレンカーボネ一トおよびペンタメ チレンカーボネ一卜から選ばれる少なく とも 1種類のポリカーボネート 系ポリオ一ル 、 ポリ力プロラク トンポリオール およびポリプチロラク トンボリオール から選ばれる少なく とも 1種類のポリラク トン系ポリ ォ一ル が好ましい。 ' これらポリエーテル系ポリオール 、 ポリエステル系ポリオール 、 ポ リカーボネート系ポリオール およびボリラク トン系ポリオール の中か ら 1種類を選択するか、 または複数種類を組み合わせることができる。 メラミン樹脂としては、 例えば、 メチルエーテル化メラミン樹脂、 ブ チルエーテル化メラミン樹脂、 ィソブチルェ一テル化メラミン樹脂、 ブ チルエーテル化ベンゾグァナミン樹脂などのアミノ樹脂などを挙げるこ とができ、 これらの 1種又は 2種以上の混合物を使用できる。 本発明に おけるァミノ樹脂としては、 市販品として三和ケミカルの二力ラック M S— 2 1、 MS— 1 1、 MW- 24、 MS— 0 0 1、 MX— 0 0 2、 M X— 73 0、 MX— 7 5 0、 MX— 7 0 8、 MX— 7 0 6、 MX- 04 2ヽ MX- 4 1 0、 三井サイテックのサイメル 3 7 0、 7 7 1、 3 2 5、 3 2 7、 7 0 3、 7 1 2、 7 1 5、 7 0 1、 2 0 2、 2 0 7等が挙げら れる。
加熱硬化性樹脂には、 硬化剤や酸触媒を添加することができる。 この ような硬化剤としては、 酸無水物、 アミン系硬化剤、 カチオン系硬化剤 を例示できる。
酸無水物系硬化剤の具体例としては、 フタル酸無水物、 トリメ リッ ト 酸無水物、 ピロメ リ ッ ト酸無水物、 ベンゾフヱノンテトラカルボン酸無 水物、 エチレングリコール無水ト リメ リ ッ ト酸無水物、 ビフエ二ルテト ラカルボン酸無水物等の芳香族カルボン酸無水物、 ァゼライン酸、 セバ シン酸、 ドデカン二酸等の脂肪族カルボン酸の無水物、 テトラヒ ドロフ タル酸無水物、 へキサヒ ドロフ夕ル酸無水物、 ナジック酸無水物、 へッ ト酸無水物、 ハイ ミック酸無水物等の脂環式カルボン酸無水物が挙げら れる。
ァミン系硬化剤の具体例としては、 ジアミノジフェニルメ夕ン、 ジァ ミノジフエニルスルフォン、 ジアミノジフエ二ルエーテル、 p—フエ二 レンジァミン、 m—フエ二レンジァミン、 o—フエ二レンジァミン、 1, 5—ジァミノナフ夕レン、 m—キシリレンジアミン等の芳香族ァミン、 エチレンジアミン、 ジエチレンジアミン、 イソフォロンジァミン、 ビス ( 4ーァミノ一 3—メチルジシクロへキシル) メタン、 ポリエーテルジ アミン等の脂肪族アミン、 ジシアンジアミ ド、 1― (o—ト リル) ビグ ァニド等のグァニジン類が挙げられる。
触媒としては、 第 3級アミン類 (ト リス (ジメチルァミノメチル) フ ェノール、 ジメチルベンジルァミン、 1, 8—ジァザビシクロ ( 5 , 4 , 0 ) ゥンデカン (DBU))、 イ ミダゾール類などが代表的である。
酸触媒としては、 パラ トルエンスルホン酸、 ドデシルベンゼンスルホ ン酸、 ジノニルナフタレンスルホン酸、 ジノニルナフタレンジスルホン 酸、 ブチルリン酸、 ォクチルリン酸などの酸、 これらの酸のアミン中和 物などが好適である。
(カチオン重合性樹脂)
カチオン重合樹脂としては、 例えばエポキシ 化合物、 ォキセタン 化 合物、 ォキソラン化合物、 環状ァセタール化合物、 環状ラク トン化合物、 チイラン化合物、 チェ夕ン化合物、 ビニルエーテル化合物、 エポキシ 化 合部とラク トンとの反応生成物であるスピロオルソエステル化合物、 ェ チレン性不飽和化合物、環状エーテル化合物、環状チォエーテル化合物、 ビエル化合物などを挙げることができる。
カチオン重合樹脂には、 希釈剤 Hおよび/又は光力チオン開始剤 Iを 混合することが好ましい。
光力チオン重合開始剤 I としては、 例えば、 ァリールジァゾ二ゥム塩 型化合物、 トリァリ一ルスルホニゥム塩型化合物、 ジァリールョ一ドニ ゥム塩型化合物等が挙げられる。
希釈剤 Hとしては、 アルキルフエノールモノグリシジルエーテル、 ァ ルキルモノグリシジルエーテル、 ジプロピレンク、、リコールジグリシジル エーテル、 ポリプロピレングリコールジグリシジルェ一テル、 ネオペン チルグリコールジグリシジルエーテル、 トリメチロールプロパントリグ リシジルェ一テル、 1、 6 —へキサンジォ一ルグリシジルエーテルなど があげられる。
光力チオン重合開始剤の使用量は特に限定されず、 通常、 活性エネル ギ一線硬化性樹脂 1 0 0重量部当たり、 0 . 1〜 1 0重量部の割合で使 用される。
希釈剤の使用量は特に限定されず、 通常、 活性エネルギー線硬化性樹 脂 1 0 0重量部当たり、 1〜4 0重量部の割合で使用される。 実施例
(実施例 1 )
スぺーサ一粒子 A、 樹脂成分; B、 紫外線ラジカル開始剤を混合し、 ィ ンキを作成した。 粒子 Aの官能基は水酸基であり、 樹脂成分 Bはイソシ ァネート基含有ゥウレタンァクリレートであり、 開始剤は 2—ヒ ドロキ シー 2—メチルー 1—フエニルプロパン一 1一オン 「ダロキュア 1 1 7 3 (チバガイギ一社製) である。 この混合物を、 特開 2 0 00— 3 5 5 8 2記載のグラビアオフセッ ト印刷法にて、フィルター基板上に印刷し、 硬化させ、 スぺ一サーを BM上に配置した。 具体的には、 80°Cで 1 0 分間プレヒートし、 次いで 1 0 0 Omj /cmで紫外線を照射した。 得 られたスぺーサ一の評価結果を表 1、 表 2に示す。
(評価方法)
(バインダ一とスぺ一サ一間の密着)
プレパラート上でインキを硬化させた後、 プレパラートを割ることに より、 インク断面を作成し、 走査型電子顕微鏡によってバインダー樹脂 とスぺーサ一界面での剥離の有無を観察した。 「〇」 は剥離なし、 「△」 は一部剥離、 「X」 は完全剥離を示す。
(ィンキと配向基板との密着)
配向基板上にインキを印刷後、 セロテープ剥離を行ない、 印刷ドッ ト の剥離の有無を光学顕微鏡で観察した。 「〇」 は剥離なし、 「△」 は一部 剥離、 「X」 は完全剥離を示す。
(光抜け)
I T O/ポリイ ミ ド配向膜を表面に形成し、 ラビング処理を施した基 板に印刷機によりインキを BM上になるように印刷し、 所定の条件での 加熱処理を行なった。 その後シール剤を基板周辺部に印刷し定法により 基板を貼合せ、 液晶 (メルク社製 Z L I -2293 (S 078 W)) をセ ルに注入することにより S T N液晶パネルを作成した。
製造した液晶パネルについて、 点灯時の液晶スぺーサ一周りの配向異 常を観察 ·評価した。
即ち、 上記方法により作成された液晶パネルに対して、 50V, 1秒 の直流電圧 (D C) を印加し、 印加前後で液晶スぺーサ一周りの配向異 常 (光抜け状態) の変化を評価した。
「〇」は光抜け未発生であり、 「△」は一部で光抜けが確認できる状態 であり、 「X」 は光抜けありである。
また、 光抜け評価で作成したパネルで同様の条件で、 パネル外観より
「ギヤヅプむら」 を判定した。
この評価は、 「〇」 がギャップむらなしであり、 「X」 がギャップむら ありである。
(液晶汚染性)
サンプルビンに所定量のインキ硬化物と所定量の L C (メルク社製 Z L I - 4792 ) を入れ、 乾燥器内で加熱促進処理する。液晶に対して、 樹脂硬化固形物 (希釈剤は除く) を 5%にする。 以下の条件で加熱促進 し、 液晶汚染を測定した。
加熱促進条件: 80°C— 7 hr
比抵抗測定 D C 20V— 5 s e c 印加 抵抗値測定
装置:液体電極(安藤電気製 LE 2 1 ) 高抵抗測定装置(ケ スレ一 SR— 651 7)
評価: ブランクとの差が 〇 : ほとんどなし △:若干一桁以内、 :一桁以上
(耐衝撃性)
「光抜け評価」 で作製したパネルに衝撃を加え、 その後の光抜けを評 価した。
^
表 1 実施 2 3-1 3-2 4 5 6 7 8 例 1
バイン夕" 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 一樹脂と
スぺ一サ
一間の密 インキと △ △ 〇 〇 〇 △ 〇 〇 X 配向基板
との密着
光抜け 厶 △ 〇 〇 〇 △ 〇 〇 X
△ △ 〇 〇 〇 △ 〇 〇 △ 液晶汚染 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 △ 性
表 2
Figure imgf000024_0001
この結果、 実施例 1においては、 液晶汚染が抑制された。
(実施例 2 )
実施例 1と同じスぺーサ一粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基は水酸 基である。 樹脂成分 Bとしてはエポキシ樹脂を使用し、 酸無水物硬化剤 としてメチルテトラヒドロフ夕ル酸無水物「ェポライ ト B— 5 7 0」(大 日本ィンキ社製)、触媒として芳香族三級アミンを混合した。この混合物 を、 実施例 1と同様にして印刷を行ない、 硬化させ、 スぺ一サ一を B M 上に配置した。 具体的には、 2 0 0 °Cで 6 0分間加熱することによって 硬化させた。
この結果、 樹脂とスぺーサ一粒子と密着性、 インキと配向膜との密着 性も向上した。
(実施例 3— 1 ) 実施例 1 と同じスぺーサ一粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基は水酸 基である。、 樹脂成分 Bとして 「ブラクセル 4 1 0 D」 (ポリ力プロラク 1、ンテトラオール:ダイセル化学工業社製)、 「ェピコ一ト 1 0 0 1」 '(ェ ポキシ樹脂、 ジャパンエポキシレジン社製)、 「サイメル 3 0 3」(メラミ ン樹脂、 三井サイテック社製) を使用し、 酸触媒としてパラ トルエンス ルホン酸を混合した。 この混合物を、 実施例と同様にして印刷し、 硬化 させ、 スぺーサ一を B M上に配置した。 具体的には、 1 5 0 °Cで 3 0分 間加熱することによって硬化させた。 この結果、 良好な特性が得られた。
(実施例 3— 2 )
特許第 3 4 1 7 6 8 1号の実施例 7 (表面にエポキシ基を有する粒子 の合成) と同じスぺ一サー粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基はェポキ シ基である。樹脂成分 Bとして 「ェピコート 8 2 8」(ビスフエノール A タイプエポキシ樹脂、 ジャパンエポキシレジン社製) を使用し、 ァミン 系硬化剤として 「H 3 0 (ケチミンタイプのアミン系硬化剤、 ジャパン エポキシレジン社製) を混合した。 この混合物を、 実施例 1 と同様にし て印刷を行ない、 硬化させ、 スぺ一サーを B M上に配置した。 具体的に は、 1 5 0 °Cで 3 0分間加熱することによって硬化させた。 この結果、 良好な特性が得られた。
(実施例 4 )
実施例 1 と同じスぺ一サ一粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基は水酸 基である。 エポキシ樹脂成分 Bとして 「ェポリード G T 4 0 3」(多官能 脂環式エポキシ樹脂、 ダイセル化学工業社製) を使用し、 重合開始剤と して 「サンエイ ド S I— 1 0 0 L (芳香族スルホ二ゥム塩型化合物) を 混合した。 この混合物を、 実施例 1 と同様にして印刷を行ない、 硬化さ せ、 スぺ一サ一を B M上に配置した。 具体的には、 1 5 0 °Cで 3 0分間 加熱することによって硬化させた。 この結果、 良好な特性が得られた。 (実施例 5 )
粒子表面を MO I ( 2—イソシァネートェチルメタクリレート、 昭和 電工社製) および KBM 5 1 03 (ァーァクリロキシプロピルト リメ ト キシシラン、 信越化学社製) によって表面処理して不飽和基を導入した スぺーサ一粒子 Aを使用した。 樹脂 Bとしては紫外線硬化型樹脂 「M 3 0 5」 (ペン夕エリスリ トールトリァクリ レート :東亜合成社製) を使用 し、 光ラジカル重合開始剤 ( 2—ヒ ドロキシ— 2—メチル— 1一フエ二 ルプロパン— 1オン「ダロキュア 1 1 7 3」 (チバガイギ一社製) を混合 した。 この混合物を、 実施例 1と同様にして印刷を行ない、 硬化させ、 スぺ一サーを BM上に配置した。 具体的には、 1 0 00 mj /c mの紫 外線を照射することによって硬化させた。 この結果、 良好な特性が得ら れた。
(実施例 6 )
実施例 5と同じスぺーサ一粒子 Aを使用した。 樹脂 Bとしては、 ェポ キシ基および不飽和基含有フヱノールノボラヅク樹脂「 E N A」(香川ケ ミカル社製) を使用し、 更に希釈剤 Dとして紫外線硬化型モノマー 「M 2 1 0」 (ビスフヱノール A型 E 0変性ジァクリレート、 東亜合成社製) および光ラジ力ル重合開始剤 (2—ヒ ドロキシー 2—メチルー 1一フエ ニルプロパン一 1—オン 「ダロキュア 1 1 7 3、 チバガイギ一社製) を 混合した。 この混合物を、 実施例 1と同様にして印刷を行ない、 硬化さ せ、 スぺーサ一を BM上に配置した。 具体的には、 l O O Omj' Zcm の紫外線を照射することによって硬化させ、 更に 1 5 0°Cで 3 0分間加 熱して硬化させた。 この結果、 良好な特性が得られた。
(実施例 7 )
実施例 5と同じスぺーサ一粒子 Aを使用した。 樹脂 Bとしては、 ァク リレート 「M7 1 00」 (ポリエステルァクリレート、 東亜合成社製) を 使用し、 更に希釈剤 Dとして紫外線硬化型モノマー「4 HB AGE」( 4 一ヒ ドロキシプチルァクリレートグリシジルエーテル、 日本化成社製) および光ラジカル重合開始剤 (2—ヒ ドロキシー 2—メチルー 1 _フエ ニルプロパン— 1一オン「ダロキュア 1 1 73」 (チバガイギ一社製) を 混合した。 この混合物を、 実施例 1と同様にして印刷し、 硬化させ、 ス ぺ一サ一を BM上に配置した。 具体的には、 100 Omj/cmの紫外 線を照射することによって硬化させた。 この結果、 良好な特性が得られ た。
(実施例 8)
実施例 3— 2と同じスぺーサ一粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基は エポキシ基である。 樹脂 Bとしては、 「エボライ ト 828」 (エポキシ樹 脂、 ジャパンエポキシレジン社製)、 および 「OXT— 10 1」 (3—ェ チル— 3—ヒ ドロキシメチルォキセタン、 東亜合成社製) を使用し、 更 に光力チオン重合開始剤 「サンエイ ド S I— 100 L (芳香族スルホ二 ゥム塩型化合物) を混合した。 この混合物を、 実施例 1と同様にして印 刷し、 硬化させ、 スぺーサーを ΒΜ上に配置した。 具体的には、 1 00 0 m j /c mの紫外線を照射し、 次いで 1 50°Cで 30分間熱処理する ことによって硬化させた。 この結果、 樹脂とスぺ一サー粒子と密着性が 向上し、 液晶汚染も抑制された。
(実施例 9)
実施例 3— 2と同じスぺ一サー粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基は エポキシ基である。樹脂 Bとしては、 脂環式エポキシ樹脂「GT 30 1」 (ダイセル化学社) を使用し、 更に光力チオン重合開始剤 「サンエイ ド S I - 100 L (芳香族スルホ二ゥム塩型化合物) を混合した。 この混 合物を、 実施例 1と同様にして印刷し、 硬化させ、 スぺーサ一を BM上 に配置した。 具体的には、 100 Om j/cmの紫外線を照射し、 次い で 1 2 0 °Cで 1 5分間熱処理することによって硬化させた。 この結果、 良好な特性が得られた。
(実施例 1 0 )
実施例 2と同じスぺ一サー粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基は水酸 基である。 樹脂 Bとしては、 「ェピコート 8 0 6」 (ビスフエノール: F夕 イブエポキシ樹脂 : ジャパンエポキシレジン社製) を使用し、 更に光力 チオン重合開始剤 「サンエイ ド S I— 1 0 0 L (芳香族スルホ二ゥム塩 型化合物) を混合した。 この混合物を、 実施例 1 と同様にして印刷し、 硬化させ、 スぺ一サーを B M上に配置した。 具体的には、 l O O O m j Z c mの紫外線を照射し、 次いで 1 2 0 °Cで 1 5分間熱処理することに よって硬化させた。 この結果、 良好な特性が得られた。
(実施例 1 1 )
実施例 3— 2 と同じスぺーサ一粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基は エポキシ基である。 樹脂 Bとしては、 「ェピコ一ト 8 0 6」 (ビスフエノ —ル F型エポキシ樹脂、 ジャパンエポキシレジン社製) を使用し、 更に 希釈剤 ( 2官能性エポキシ樹脂「ェピクロン 7 2 0」(ネオペンチルグリ コールジグリシジルエーテル、 大日本ィンキ社製) および光力チオン重 合開始剤「サンエイ ド S I— 1 0 0 L (芳香族スルホ二ゥム塩型化合物) を混合した。 この混合物を、 実施例 1 と同様にして印刷し、 硬化させ、 スぺーサーを B M上に配置した。 具体的には、 1 0 0 0 m j / c mの紫 外線を照射し、 次いで 1 2 0 °Cで 1 5分間熱処理することによって硬化 させた。 この結果、 良好な特性が得られた。
(実施例 1 2 )
実施例 3 - 2 と同じスぺーサ一粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基は エポキシ基である。 樹脂 Bとしては、 一部 C O O H基を有するポリカブ ロラク トンテトラオールエポキシ樹脂を使用した。 この樹脂は、「ブラク セル 4 1 0 D」 (ポリ力プロラク トンテトラオール、ダイセル化学工業社 製) にメチルテトラヒ ドロスタル酸無水物「ェポライ ト B— 5 7 0」(大 日本ィンキ社製) を反応させたものである。 また、 「ポリード G T 4 0 3 (多官能脂環式エポキシ樹脂、 ダイセル化学工業社製) を混合した。 こ の混合物を、 実施例 1 と同様にして印刷し、 硬化させ、 スぺ一サ一を B M上に配置した。 具体的には、 1 8 0 °Cで 6 0分間加熱することによつ て硬化させた。 この結果、 良好な特性が得られた。
(実施例 1 3 )
実施例 5と同じスぺーサ一粒子 Aと光ラジカル重合開始剤を使用し、 樹脂 Bとしては、 紫外線硬化型樹脂「M 3 5 0」(トリメチロールプロパ ン E 0変性ト リァクリレート :東亜合成社製) を使用した。 インクジェ ヅ トに適した粘度にするために、 プロピレングリコールモノメチルェ一 テルで希釈し、 スぺーサ一粒子分散液を得た。
得られた分散液を公知のィンクジエツ ト装置を用いて基板に吐出させ、 1 2 0 °Cで 3 0分間予備乾燥した後に、 1 0 0 0 m j' Z c mで紫外線を 照射することによって硬化させ、 そのあと 1 5 0 °Cで 3 0分間アフター ベークを行った。
(比較例 1 )
実施例 1 と同じスぺ一サー粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基は水酸 基である。樹脂 Bとしては、ポリエステルァクリレート「M 7 1 0 0」(東 亜合成社製) を使用し、 高沸点溶媒 (プロピレングリコールジァセテー ト) および光ラジカル開始剤を混合した。 この混合物を、 実施例 1 と同 様にして印刷し、 硬化させ、 スぺ一サ一を B M上に配置した。 具体的に は、 8 0 °Cで 1 0分間加熱した後、 1 0 0 O m j / c mの紫外線を照射 することによって硬化させた。
この結果、 スぺ一サー粒子と樹脂との密着性、 インキと配向膜との密 着性が低く、 光抜け、 ギャップムラが見られ、 液晶汚染も確認された。 (実施例 1 4 )
実施例 1と同じスぺーサ一粒子 Aを使用した。 粒子 Aの官能基は水酸 基である。 樹脂 Bとしてはメラミンポリエステル樹脂を使用し、 高沸点 アルコール溶媒を混合した。 この混合物を、 実施例 1と同様にして印刷 し、 硬化させ、 スぺーサーを B M上に配置した。 具体的には、 2 1 0 °C で 6 0分間加熱することによって硬化させた。
この結果、 スぺーサ一粒子と樹脂との密着性が良好であり、 インキと 配向膜との密着性は若干低く、 光抜け、 ギャップムラ液晶汚染も若干見 られた。
(比較例 2 )
実施例 1 3において、 使用したスぺ一サ一粒子を、 実施例 1で使用し た粒子に変更した。 この他は実施例 1 3と同様にして実験を行った。 こ の結果、 スぺーサ一粒子とバインダー樹脂との密着性が低く、 また耐衝 撃性が低かった。 インキと配向膜との密着性は若干低く、 光抜け、 ギヤ ッ ムラ液晶汚染も若干見られた。
以上述べたように、 本発明によれば、 印刷方式によるスぺ一サー形成 法において、 スぺーサ一粒子とバインダ一樹脂との密着性を向上させる ことができる。

Claims

請求の範囲
1 . 印刷法において使用されるスぺーサ一形成用ィンキであって、 A : スぺーサ一粒子、 および
C :前記スぺーサ一粒子を分散する熱硬化性又は活性エネルギー線硬 化性樹脂配合物
を含むことを特徴とする、 スぺ一サー形成用インキ。
2 . 前記樹脂配合物 Cが、 前記粒子 Aと化学反応可能な官能基を含む 成分を少なくとも一種含有することを特徴とする、 請求項 1記載のイン キ。
3 . 前記成分が、 加熱により反応可能な官能基 bを有する一種または 二種以上の樹脂 Bであり、 前記粒子 Aが前記官能基 bと反応可能な官能 基 aを有していることを特徴とする、 請求項 2記載のインキ。
4 . 前記樹脂 Bの前記官能基 bが、 配向膜に残存する官能基と反応可 能な官能基 b 1であることを特徴とする、 請求項 3記載のィンキ。
5 . 前記官能基 b 1がエポキシ基であり、 前記粒子 Aの前記官能基 a が、 エポキシ基と反応可能な官能基 a 1であることを特徴とする、 請求 項 4記載のィンキ。
6 . 前記成分が、 活性エネルギー線により反応可能な官能基 b ' を有 する一種または二種以上の樹脂 Bであり、 前記粒子 Aが前記官能基 b ' と反応可能な官能基 a ' を有していることを特徴とする、 請求項 2記載 のィンキ。
7 . 前記樹脂配合物 Cが、 配向膜に残存する官能基と反応可能な官能 基 b l ' を有する成分を含有することを特徴とする、 請求項 6記載のィ ンキ。
8 . 前記樹脂配合物 Cが、 前記官能基 a '、 b ' または b l, と反応可 能な官能基を有する希釈剤 Dおよび Z又は光ラジカル開始剤 Eを含有し ている、 請求項 6または 7記載のインキ。
9. 前記成分が、 加熱および/またはエネルギー線によりカチオン重合 可能な官能基 b ', を有する一種または二種以上の樹脂 Bであり、前記粒 子 Aが前記官能基 b', と反応可能な官能基 a'' を有していることを特 徴とする、 請求項 2記載のインキ。
10. 前記樹脂 Bの前記官能基 b'' が、 配向膜に残存する官能基と反 応可能な官能基 b 1 "であることを特徴とする、請求項 9記載のィンキ c
1 1. 前記樹脂 Bの前記官能基 b 1 " がエポキシ基であり、 前記粒子 Aの前記官能基 a" が、 エポキシ基と反応可能な官能基 a 1 である ことを特徴とする、 請求項 10記載のィンキ。
12. 前記官能基 a'' または前記官能基 b'' と反応可能な官能基を 有する希釈剤 Dおよびノ又は光力チオン開始剤 Eを有していることを特 徴とする、 請求項 9〜 1 1のいずれか一つの請求項に記載のィンキ。
13. 溶剤を実質的に含まないことを特徴とする、 請求項 1〜 12の いずれか一つの請求項に記載のインキ。
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