WO2004074942A1 - 凸版印刷用水現像性印刷版の製造方法 - Google Patents

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WO2004074942A1
WO2004074942A1 PCT/JP2004/001681 JP2004001681W WO2004074942A1 WO 2004074942 A1 WO2004074942 A1 WO 2004074942A1 JP 2004001681 W JP2004001681 W JP 2004001681W WO 2004074942 A1 WO2004074942 A1 WO 2004074942A1
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printing
water
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Keiichi Haraguchi
Masahiro Yoshida
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Asahi Kasei Chemicals Corporation
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    • G03F7/2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
    • G03F7/2024Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure of the already developed image

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a printing plate having high printing durability from a water-developable photosensitive resin solid plate for letterpress printing.
  • a conventional water-developable solid plate resin printing plate for letterpress printing is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-136502, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-313, U.S. Patent No. 5,348,844.
  • kneading a hydrophilic resin, a hydrophobic resin, a photopolymerizable unsaturated compound and a photosensitizer It is produced by making it into a plate with PET film.
  • a printing plate is generally manufactured by exposing this plate to an image through a negative film, washing out the unexposed portion with an aqueous developer, and performing post-processing (post-exposure).
  • the water-developable solid plate is often used in combination with a hydrophilic resin and a hydrophobic resin in order to achieve the opposite performances of water developability and ink resistance.
  • a hydrophilic resin that is easily compatible with the ink component is contained, and since the hydrophilic resin and the hydrophobic resin are not compatible at a molecular level, an interface exists between the rain resins, so that a general resin is used.
  • the durability (printing durability) in long-time printing and the ink stains on the halftone dots of the printing plate are a major problem compared to the so-called solvent-developed plate that contains only a hydrophobic resin and is developed with an organic solvent.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-290286 discloses that the post-exposure with an actinic ray using a hydrogen abstraction type photosensitizer removes the tackiness of the plate surface, and simultaneously develops the film with water.
  • a method developed by the present inventors for strengthening a photosensitive resin solid plate is disclosed. In this method, since the hydrogen abstracting agent added to the plate surface diffuses during the drying of the plate, it is necessary to control the short-wavelength UV exposure appropriately according to the drying time, drying temperature, and plate thickness. However, there is a problem that the durability is remarkably deteriorated. Also, The method described in the publication did not prevent the ink dots from being printed on the halftone dots of the printing plate.
  • the post-exposure step is carried out in water for the purpose of removing the adhesiveness of the plate surface after development, which is different from the purpose of this effort.
  • the plate is immersed in water following the development step and the drying step.
  • a method of irradiating the plate surface with light having a wavelength of 30 O nm or less has been proposed.
  • the above publication relates to a resin plate composed of only a hydrophobic resin or a hydrophilic resin, and there is no description about a mixed resin of a hydrophilic resin and a hydrophobic resin according to the present invention. There is no description of issues specific to mixed resins.
  • the above publications include under air (under oxygen) and under water.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-27070 also discloses that in a method for producing a liquid photosensitive resin comprising a hydrophilic resin, the plate is washed with water for the purpose of removing the tackiness of the plate surface after the developing step.
  • a method has been proposed in which the plate surface is irradiated with actinic rays while immersed in the plate.
  • the mixed resin of the hydrophilic resin and the hydrophobic resin according to the present invention nor is there any description of the specific problem of the resin.
  • the present invention provides a printing plate using a water-developable photosensitive resin solid plate in which a hydrophilic resin and a hydrophobic resin are used in combination, yet has high printing durability and a halftone dot portion of the plate surface. It is an object of the present invention to provide a plate making method capable of producing a printing plate with little ink contamination (a small net entanglement of ink).
  • the present inventors have focused on performing the post-exposure step in a low oxygen concentration atmosphere and completed the present invention. That is, the present invention is as follows.
  • a photosensitive resin composition containing (a) a hydrophilic resin, (b) a hydrophobic resin, (c) a photopolymerizable unsaturated compound, and (d) a photopolymerization initiator,
  • condition under the low oxygen concentration atmosphere is water.
  • condition under the low oxygen concentration atmosphere is a condition under reduced pressure or an inert gas atmosphere through a film having a transmittance of ultraviolet light of 250 nm of 5% or more.
  • condition under the low oxygen concentration atmosphere is a condition under reduced pressure or an inert gas atmosphere.
  • the hydrophilic resin contains a conjugated diene as a main component, at least one hydrophilic group selected from the group consisting of a carboxylic acid group, a hydroxyl group, a phosphoric acid group and a sulfonic acid group, and has a saturated water content of 1 %.
  • hydrophilic resin is a resin having a particle size of 5 ⁇ m or less and a gel insoluble content of 60% by mass or more and a saturated water content of 1% or more. ).
  • a printing plate for a photosensitive resin relief plate prepared by the method according to any one of the above (1) to (7).
  • this plate making method is applied to the production of the following water-developable printing plate.
  • the water-developable solid plate according to the present invention comprises (a) a hydrophilic resin, (b) a hydrophobic resin, (c) a photopolymerizable unsaturated compound, and (d) a photopolymerization initiator.
  • a hydrophilic resin e.g., a hydrophilic resin
  • a hydrophobic resin e.g., a hydrophobic resin
  • a photopolymerizable unsaturated compound e.g., a photopolymerizable unsaturated compound
  • a photopolymerization initiator e.g., a photopolymerization initiator.
  • the hydrophilic resin (a) in the present invention includes a polymer having a hydrophilic group such as a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, and a carboxylic acid group in its molecule, and is heated for 7 days at a temperature of 40 ° C and a humidity of 80%.
  • the resin having a water content of 1% or more in a held state such as a radical-based copolymer, a polyamide-based polymer, a polyvinyl alcohol-based polymer, a polyester-based polymer, or a polyurethane-based copolymer.
  • hydrophilic resins used in water-developed solid plates such as Toyobo's product name “Cosmolight”, Dupont's product name “AQS”, and Nihon Paint's product name “Flexid”, are also hydrophilic in the present invention. It can be used as a conductive resin.
  • hydrophilic radical copolymer examples include, for example, those obtained by copolymerization using not less than 1.0 part by mass of a hydrophilic unsaturated monomer in the total amount of unsaturated monomers.
  • the amount of the unsaturated monomer containing a hydrophilic acidic functional group as described above is preferably 1 to 30 parts by mass based on the total amount of the unsaturated monomer. When the amount is 1 part by mass or more, the aqueous development can be favorably performed, and when the amount is 30 parts by mass or less, the swelling amount of the moisture absorption amount of the photosensitive resin does not increase. Workability can be maintained.
  • a monomer having two or more groups capable of addition polymerization may be used.
  • the content of the hydrophilic resin is preferably in the range of 10 parts by mass to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photosensitive resin composition.
  • the type of the hydrophilic group is appropriately selected from the viewpoints of developability, water resistance, and thermal stability.
  • a resin containing a carboxylic acid group is preferable because it is industrially easily available, exhibits water developability with a small content, and has good water resistance.
  • a resin containing a conjugated gen resin as a main component is more preferable because the resin is flexible and tough. Further, fine particles having a particle size of 5 m or less and a gel insoluble content of 60% by mass or more are preferred because they exhibit water developability with a small content and are industrially easily available.
  • the hydrophobic resin (b) in the present invention is preferably a resin having a water content of 0.5% or less when kept at a temperature of 40 ° C and a humidity of 80% for 7 days, and is soft, elastic, and tough for printing. It is preferable that the resin is a suitable resin. Under light irradiation with double bond in the molecule In this case, a polymer containing butadiene or isoprene as a main component is preferable because a photopolymerization initiator causes a crosslinking reaction to increase printing durability as a printing plate.
  • the content of the hydrophobic resin (b) is preferably in the range of 5 parts by mass to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photosensitive resin composition.
  • styrene'butadiene polymer examples include styrene'butadiene polymer, ⁇ -methylstyrene'butadiene polymer, ⁇ -methylstyrene'butadiene polymer, ⁇ -methoxystyrene / butadiene polymer, and the like.
  • Block polymers random polymers Any of these polymerization states can be adopted.
  • a styrene / butadiene block copolymer or a styrene / isoprene block copolymer is used because of easy availability.
  • the photopolymerizable unsaturated compound (c) in the present invention means any compound that has an unsaturated double bond in the molecule and is liquid or solid at the operating temperature. it can.
  • the content of the photopolymerizable unsaturated monomer (c) is preferably in the range of 0.5 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition.
  • an acrylic acid compound or a methacrylic acid compound is used because it is highly reactive and has high compatibility with various compounds. Esters of the above compounds are used because they have low properties. Specifically, alkyl (meth) acrylate, cycloalkyl (meth) acrylate, alkyl halide (meth) atalylate, alkoxyalkyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, aminoaminolequinole ( (Meta) atarylate, tetrahydrofuronolefurinole (meta) atarilate, aryl (meta) atearliest ⁇ ", glycidyl (meta) acrylate, benzyl (meta) acrylate, phenoxy (meta) acrylate, alkylene Glycol (meth) acrylate, polyoxyalkylene glycol (meth) atalylate, alkyl polyol poly (
  • ethylene glycol (meth) atari Rate te Ethylene glycol (meta) acrylate, hexamethylene (meta) acrylate, nonamethylene (meta) acrylate, methylolpropane (meta) atalylate, glycerin (meta) acrylate, pentaerythrit (meta) acrylate , Hue Noxityl (meth) acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meta) acrylate, ethoxylated bisphenol A (meth) acrylate, and the like.
  • low molecular weight polybutadiene, modified polybutadiene, and the like can be used as a photopolymerizable unsaturated compound and a plasticizer.
  • Specific examples include liquid polyptadene having a molecular weight of 500 to 500, modified maleated polybutadiene, modified polybutadiene, and the like.
  • maleimide compounds can also be used as photopolymerizable unsaturated compounds.
  • Specific examples include lauryl maleimide and cyclohexyl maleimide.
  • polyfunctional unsaturated compounds are also used as photopolymerizable unsaturated compounds. This refers to unsaturated compounds with two or more unsaturated double bonds in the molecule. When these are included, the content is preferably from 0.05 to 10 parts by mass in 100 parts by mass of the composition.
  • alkyl di (meth) atalylate examples include alkyl di (meth) atalylate, cycloalkyl di (meth) atalylate, nodogenated alkyl di (meth) atalylate, alkoxyalkyl di (meth) atalylate, and hydroxyalkyl di (meth) Atharylate, aminoalkyldi (meth) atarylate, tetrahydrofurfuryldi (meth) atalylate, arylyl (meth) atalylate, dalicydildi (meta) atarylate, benzyldi (meth) atalylate, phenoxydi (meth) acrylate, alkylene Examples thereof include glycol di (meth) acrylate, polyalkylene glycol di (meth) acrylate, and alkyl polyol poly (meth) acrylate.
  • diethylene glycol di (meth) acrylate tetraethylene glycol di (meth) acrylate, hexamethylene di (meth) acrylate, nonamethylene di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate , Tricyclodecanedi (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) atelylate, phenoxetidine, (meth) atalylate, phenoxytetraethylene glycol di (meth) acrylate, ethoxylate Tedbispheno ⁇ ⁇ ⁇ di (meta) acrylate.
  • the functional unsaturated compound is usually used in combination with the unsaturated compound described above in order to adjust the hardness and resolution of the printing plate beforehand in the composition.
  • the photopolymerization initiator (d) in the present invention is a compound that absorbs light energy and generates a radical, and various known compounds can be used.
  • Various organic carbonyl compounds, particularly aromatic carbonyl compounds, are suitable. Specific examples thereof include benzophenone, 4,4-bis (getinoleamino) benzophenone, t-butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2,4-ethylethyloxanthone, isopropylthioxanthone, and 2,4-dichlorothioxanthone.
  • the content of the photopolymerization initiator (d) is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photosensitive resin composition.
  • the amount is preferably at least 0.1 part by mass from the viewpoints of fine points and character formability, and at most 10 parts by mass from the viewpoint of preventing a decrease in exposure sensitivity due to a decrease in the transmittance of active light such as ultraviolet rays.
  • the photosensitive resin composition according to the present invention is prepared by mixing the above-mentioned components by a known method and forming a sheet.
  • the thickness of the layer of the photosensitive resin composition in the water developable solid plate is 0.5 mii! 110 mm. If the layer is too thin, the elasticity of the rubber becomes small and the followability to a soft surface is deteriorated. Therefore, such a layer which is too thin is generally used for letterpress printing plates. I can't help. Further, when the thickness of the layer is 1 Omm or more, the printing performance does not change. Force has a disadvantage that it is difficult to handle due to its weight.
  • This photosensitive resin layer is generally manufactured and stored sandwiched between a support film, an adhesive layer if necessary, and a cover film.
  • the cover film is removed and subjected to an exposure step. used.
  • the photosensitive resin has high tackiness in the unexposed state.
  • water-soluble resin such as PVA and water-dispersible resin
  • An anti-adhesion layer is provided outside the photosensitive resin layer.
  • the photosensitive resin layer is subjected to plate making through at least an actinic ray exposure step, a development step, and a post-exposure step.
  • the exposure step referred to in the present invention is a method for selectively activating actinic rays through a negative film made so as to irradiate light to a place where a convex portion is to be formed. And the step of photo-curing the irradiated portion.
  • the portion not irradiated with the actinic ray is removed in a later development step.
  • the active light source used in the present invention is preferably a low-pressure mercury lamp, high-pressure mercury lamp, ultraviolet fluorescent lamp, carbon arc lamp, xenon lamp, zirconium lamp, sunlight, or the like.
  • the development step in the present invention refers to a step of selectively removing unirradiated portions in the exposure step by chemical means such as a developer or physical means such as brushing or washing with high-pressure water.
  • water or an aqueous developer containing water and a surfactant is used.
  • a surfactant a nonionic, anionic, cationic or amphoteric surfactant may be used alone or as a mixture of two or more.
  • preferred anionic surfactants include a linear alkylbenzene sulfonate having an alkyl group having an average carbon number of 8 to 16 and a monoolefin sulfonate having an average carbon number of 10 to 20.
  • preferred cationic surfactants include an alkylamine salt, an alkyldimethylbenzylammonium salt, a sapamine-type quaternary ammonium salt, and a pyridium salt.
  • nonionic surfactants include polyethylene glycol type higher alcohol alkylene oxide adducts, alkyl phenol alkylene oxide adducts, fatty acid alkylene oxide adducts, and polyhydric alcohol fatty acid esters.
  • Alkylene oxide adducts carohydrates with higher alkylamine alkylene oxides, fatty acid amide alkylene oxide adducts, alkylene oxide adducts of fats and oils, and polypropylene glycol alkylene oxide adducts, polyhydric alcohol glycerol Fatty acid esters of pentaerythritol, fatty acid esters of sorbitol and sorbitan, fatty acid esters of bran, and alkyl ethers of polyhydric alcohols and fatty acid amides of alkanolamines. It is.
  • amphoteric surfactants include sodium laurylaminopropionate lauryl dimethyl betaine and the like.
  • the concentration of the surfactant is not particularly limited, but is generally preferably in the range of 0.5 to 10 wt%.
  • a surfactant can be blended with a development aid such as a development accelerator or a pH adjuster.
  • Examples of the development accelerator include amines such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, glycol ethers, ammonium salts such as tetramethylammonium hydroxide, and paraffin hydrocarbons.
  • pH adjuster examples include sodium borate, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, sodium succinate, and sodium acetate.
  • the development aids are used alone or in combination of two or more.
  • the boiling point of the developing aid used is preferably at least 130 ° C. at normal pressure. Boiling point If it is lower than this, a considerable amount of the solvent tends to evaporate at the same time as the water when evaporating water from the developer and recovering it as a condensate, or when this is used for the purpose of adjusting the concentration of the developer. In addition, it takes time and effort to measure and adjust the amount of entrained solvent in order to stabilize the performance of the developer.
  • the post-exposure step of the present invention is a step of exposing the plate surface in a low oxygen concentration atmosphere after the development step. Thereby, the printing durability can be improved and the ink entanglement can be suppressed.
  • the post-exposure step of the conventional photosensitive solid plate irradiation treatment with actinic rays was performed in the air.
  • the plate After the development step, the plate is not completely polymerized, and unreacted monomers and oligomers are present, and the plate surface is sticky. Therefore, in order to prevent dust and dirt from adhering during storage and printing, generally, the adhesiveness is reduced by irradiating an appropriate amount of ultraviolet light in the air at around 254 ⁇ .
  • light having a wavelength of 200 nm to 300 nm is irradiated.
  • the wavelength is 200 nm or more, it is difficult to generate dangerous ozone, which has a strong odor and high reactivity, and when the wavelength is 300 nm or less, the adhesion of the plate surface is removed. It becomes possible.
  • irradiating light of this wavelength not only the printing durability is improved and the entanglement of the ink is suppressed, but also the adhesiveness of the plate surface can be removed.
  • Examples of the exposure lamp include TUV (manufactured by PHILIPS, trade name) and GL (manufactured by Sankyo Electric Co., Ltd.) of mercury lamps exhibiting the maximum energy intensity at 254 nm.
  • the developer adhering to the plate can be easily washed off with water, etc., and post-exposure treatment can be performed as it is.However, during opening, at about 60 ° C, for 5 to 120 minutes, It is preferable to perform post-exposure treatment after drying the plate, since the pack surface of the plate does not become cloudy.
  • the oxygen partial pressure in the atmosphere is usually 2 OkPa, but the low oxygen temperature atmosphere in the present invention is 7 kPa or less, preferably 5 kPa or less, and most preferably 1 kPa.
  • the atmosphere of the following oxygen partial pressure When described in terms of the oxygen molar concentration, the oxygen molar concentration in the atmosphere is from about 8.7 Moruno ⁇ is a "3 mol Zm 3 hereinafter the low oxygen concentration atmosphere, preferably 2 mol / m 3 or less, most Preferably, it refers to an atmosphere having an oxygen molar concentration of 0.5 mol Zm 3.
  • the oxygen molar concentration is higher than 3 mol Zm, the amount of ozone generated increases, and the amount of side reactions tends to increase.
  • Oxygen partial pressure in water is in equilibrium with atmospheric oxygen partial pressure, but due to the presence of water molecules, water has a low oxygen concentration and a low oxygen concentration atmosphere. Specifically, the equilibrium concentration at 20 ° C and one atmospheric pressure is about 9 ppm, and the molar concentration is 0.28 mol Zm 3 . It is preferable to use a low oxygen concentration atmosphere in water because treatment in water is industrially easy and handling is excellent in safety.
  • Drying is necessary when wet, but if it is necessary to shorten the processing time and make plate making quickly, instead of using an underwater atmosphere, attach a film with a short-wavelength UV transmittance of 5% or more to air. Or create a low oxygen concentration atmosphere or create a closed space by a general method, and use a force to reduce the pressure inside it ⁇ Inert gas (generally, economically advantageous nitrogen gas or carbon dioxide gas) It is preferable that the oxygen concentration be satisfied to make the oxygen concentration equal to or less than the above concentration.
  • Inert gas generally, economically advantageous nitrogen gas or carbon dioxide gas
  • a film having a short-wavelength ultraviolet transmittance of 5% or more does not matter if it is composed of any polymer as long as it is a film that transmits substantially 5% or more of a short-wavelength ultraviolet ray of 250 nm or more.
  • Specific examples include films made of olefin polymers such as polyethylene films and polypropylene films, films made of fluorine polymers, films made of silicone polymers, and films made of chlorine polymers. . Of these, polyethylene film is preferred because of its flexibility and easy availability. Further, the higher the transmittance of the short-wavelength ultraviolet light, the shorter the post-exposure processing time is, which is preferable.
  • the transmittance is preferably 5% or more, more preferably 30% or more.
  • the number average particle diameter of the hydrophilic copolymer was 40 nm, and the particle diameter was measured using a MI CROTRAC particle size analyzer (model: 9230UPA) manufactured by Nikkiso Co., Ltd. It was determined as a number average particle size.
  • the emulsion-polymerized solution was dried at 60 ° C. to obtain a hydrophilic copolymer.
  • the saturated water content of this hydrophilic copolymer in an atmosphere at a temperature of 40 ° C., a humidity of 100% and 7 days is 3%.
  • 30 parts by mass of liquid polybutadiene (Nippon Petrochemical: trade name: ⁇ 2000) as a plasticizer and 1.5 parts by mass of 2,6-di-t-butyl- ⁇ -cresol as an antioxidant were added for 15 minutes. Then, the mixture was added little by little, and after the addition was completed, the mixture was further kneaded for 10 minutes to obtain a photosensitive resin composition.
  • PET 100-sided polyester film
  • PVA polybutyl alcohol
  • the molded resin of the photosensitive resin composition obtained in (2) shows the maximum energy intensity at 370 nm from the side of the PET coated with the adhesive so that the thickness of the cured layer is about 2 ram. Exposure was performed using a lamp exposure machine (JE-A2-SS, manufactured by Yomoto Denki Seiki Co., Ltd., trade name).
  • the PET coated with PVA was peeled off so that the PVA remained on the resin surface, the negative film of the printed image was brought into close contact, and the molded plate of the composition was exposed for 10 minutes with the exposure machine. .
  • the negative film was peeled off, and the higher alcohol alkylenoxide adduct 4 wt%, diethylene glycol dibutyl ether 0.4 wt%, dimethylene glycol monohexyl ether 0.5 wt% and sodium carbonate 0.4 wt%
  • An aqueous solution (aqueous developer) was prepared and washed at 50 ° C using a brush cleaner (trade name: JOW-A3-P) manufactured by JEOL Ltd. to remove unexposed portions.
  • the plate developer was easily washed off with tap water, dried at 60 ° C for 30 minutes, and then under the conditions shown in Table 1, an ultraviolet germicidal lamp (GL 30, 30W, TOSHI Made by BA, trade name, hereafter UVC) and UV chemical lamp showing maximum energy intensity at 370 nm (FLR 20 S, 20 W,
  • a printing plate was prepared by simultaneously exposing to light using a light source in which TOSHIBA (trade name, hereinafter referred to as UVA) was alternately arranged.
  • UVA trade name, hereinafter referred to as UVA
  • UVA exposure intensity meter 1
  • ⁇ RC exposure intensity meter 1
  • UV-25 sensor for UVC
  • UV-37 sensor for UVA
  • Post-exposure is achieved by a method of achieving a low oxygen concentration atmosphere in water in the same manner as in Example 1, a method of achieving a short-wavelength ultraviolet ray transparent film by adhesion, a method of achieving a reduced pressure, and a method of achieving an inert gas purge.
  • the treated plate was evaluated. In each method, the intensity of light substantially irradiating the plate by exposure was measured, and the exposure time was adjusted. Furthermore, the oxygen concentration was determined by measuring the atmospheric pressure in the method using reduced pressure, and controlling the amount of mixed oxygen in the method purging air with an inert gas. As shown in Table 1, the obtained plate had good press life and good removal of ink entanglement.
  • UVG UVA (X10 4 removal '[i ⁇ e
  • the method of the present invention was carried out using a commercially available water-developable solid plate 10 OAQS (Cyrel, trade name) and Cosmo lightg NETO284F (T0Y ⁇ BO, trade name).
  • NEO 284 F development was performed at the same developing machine, developer and developing temperature as in Reference Example 3, the plate was dried at 60 ° C for 30 minutes, and post-exposure was performed according to the method described in Table 2. Was.
  • the water-developable printing plate of the present invention can be used under conditions where the conventional water-developable printing plate cannot be used due to severe abrasion or in a printing machine where ink is easily entangled. This makes it possible to spread water-developable printing plates that are less likely to be environmentally harmful.
  • the post-exposure amount is large, the printing latitude is not greatly reduced and the exposure latitude is widened, so that errors in plate making work are reduced, and the spread of water-developable printing plates is further expanded.

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Abstract

 少なくとも、(a)親水性樹脂、(b)疎水性樹脂、(c)光重合性不飽和化合物及び(d)光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物の固体版を用いて、少なくとも、活性光線による露光工程、現像工程、及び後露光工程により、凸版印刷用水現像性印刷版を製造する方法であって、該後露光工程を低酸素濃度雰囲気下の条件で行う、上記方法。

Description

明 細 書 凸版印刷用水現像性印刷版の製造方法 技術分野
本発明は、 凸版印刷用水現像性感光性榭脂固体版から耐刷性の高い印刷版を製 造する方法に関する。
背景技術
通常の凸版印刷用水現像性固体版樹脂印刷版は特開平 3— 1 3 6 0 5 2号公報 ゃ特開平 1 0— 3 1 3 0 3号公報、 米国特許第 5 3 4 8 8 4 4号明細書、 又は米 国特許第 4 8 0 6 5 0 6号明細書等に記載されているように、 親水性樹脂、 疎水 性樹脂、 光重合性不飽和化合物と光増感剤を混練し、 それを P E Tフィルムでは さんで板状にすることにより生産されている。 印刷版は、 この板をネガフィルム を介して画像露光し、 未露光部を水系の現像剤で洗い出し、 後処理 (後露光)する ことによって製造されるのが一般的である。
水現像性固体版は、 水現像性と耐インキ性の相反する性能を両立するため、 親 水性樹脂及び疎水性樹脂が併用されることが多い。 このように、 インキ成分に馴 染みやすい親水性樹脂を含有しているため、 また、 親水性樹脂と疎水性樹脂とは 分子レベルで相溶しないので雨樹脂間で界面が存在するため、 一般的に、 長時間 印刷における耐久性 (耐刷性) や印刷版の網点部分のインキ汚れが、 疎水性樹脂 のみを含有する、 有機溶媒により現像を行ういわゆる溶剤現像版に比べて大きな 問題となっていた。
このような問題を改善するため各種の製版方法が提案されている。
特開 2 0 0 1— 2 9 0 2 8 6号公報には、 水素引き抜き型光増感剤を用いて活 性光線で後露光することにより、 版表面の粘着性を除去すると同時に、 水現像性 感光性樹脂固体版を強化する、 本発明者らが開発した方法が開示されている。 こ の方法においては、 版表面に添加された水素引き抜き剤が版の乾燥中に拡散する ため、 乾燥時間 ·乾燥温度 ·版の厚みに応じて、 適切に短波長紫外線露光量をコ ントロールしないと、 耐久性が著しく悪くなるという問題点がある。 また、 上記 刊行物に記載の方法では、 印刷版の網点部分のィンキ汚れを防止することはでき なかった。
一方、 本努明の目的とは異なる、 現像後の版表面の粘着性を除去する目的では あるが、 後露光工程を水中で行うことが知られている。 例えば、 欧州特許第 1 7 9 2 7号明細書 (特開昭 5 5— 1 3 5 8 3 8号公報) には、 現像工程及ぴ乾燥ェ 程に引き続いて、 版を水中に浸漬した状態で、 版面に波長 3 0 O n m以下の光を 照射する方法が提案されている。 しかしながら、 上記刊行物には、 疎水性樹脂の み又は親水性樹脂からなる樹脂版に係るものであり、 本発明に係る親水性樹脂及 ぴ疎水性樹脂の混合系の樹脂についての記載はなく、 混合系樹脂特有の課題につ いての記載もない。 また、 上記刊行物には、 大気下 (酸素雰囲気下) や水中下
(低酸素雰囲気下) における後露光の効果の違いについても記載がない。
また、 特開昭 5 0 - 2 0 7 0号公報にも、 親水性樹脂からなる液状の感光性樹 脂の製造方法において、 現像工程後に、 版面の粘着性を除去する目的で、 版を水 中に浸漬した状態で、 版面に活性光線を照射する方法が提案されている。 しかし ながら、 ここにも本発明に係る親水性樹脂及び疎水性樹脂の混合系の樹脂につい ての記載はなく、 その樹脂の特有の課題についての記載もない。
発明の開示
本努明は、 このような従来技術の問題点に着目してなされたものである。 従つ て、 本発明は、 親水性樹脂と疎水性樹脂とが併用された水現像性感光性樹脂固体 版を用いた印刷版でありながら、 耐刷性が高く、 且つ版面の網点部分のインキ汚 れが少ない (網部のインキ絡み性が小さい) 印刷版を作成できる製版方法を提供 することを課題とする。
本努明者らは、 上記課題を解決するために、 後露光工程を低酸素濃度雰囲気下 で行うことに着眼し、 本発明を完成させた。 すなわち、 本発明は、 下記の通りで ある。
( 1 ) 少なくとも、 (a ) 親水性樹脂、 (b ) 疎水性樹脂、 (c ) 光重合性不 飽和化合物及び (d ) 光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物の固体版を用いて、 少なくとも、 活性光線による露光工程、 現像工程、 及び後露光工程により、 凸版 印刷用水現像性印刷版を製造する方法であって、 該後露光工程を低酸素濃度雰囲 気下の条件で行う、 上記方法。
(2) 前記後露光工程において、 少なくとも 200 nm〜300 nmの波長の 紫外線で露光を行う上記 (1) 記載の方法。
(3) 前記低酸素濃度雰囲気下の条件が水中である上記 (1) に記載の方法。 (4) 前記低酸素濃度雰囲気下の条件が、 250 n mの紫外線の透過率が 5 % 以上のフィルムを介して、 減圧下又は不活性ガス雰囲気下の条件である上記 (1) に記載の方法。
(5) 前記低酸素濃度雰囲気下の条件が、 減圧下又は不活性ガス雰囲気下の条 件である上記 (1) に記載の方法。
(6) 前記親水性樹脂が、 共役ジェンを主成分とし、 カルボン酸基、 水酸基、 リン酸基及ぴスルホン酸基からなる群から選ばれる少なくとも 1つの親水基を含 み、 飽和含水率が 1%以上である、 上記 (1) 〜 (5) のいずれかに記載の方法。
( 7 ) 前記親水性樹脂が、 粒径 5 μ以下のゲル不溶分率が 60質量%以上であ ' る微粒子からなり、 飽和含水率が 1%以上の樹脂である上記 (1) 〜 (5) のい ずれかに記載の方法。
(8) 上記 (1) 〜 (7) のいずれかに記載の方法で作成された感光性樹脂凸 版用印刷版。
発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明について、 特にその好ましい態様を中心に、 詳細に説明する。 先ず、 この製版方法は下記の水現像性印刷版の製造に適用される。
すなわち、 本発明に係る水現像性固体版は、 (a) 親水性樹脂、 (b) 疎水性 樹脂、 (c) 光重合性不飽和化合物、 (d) 光重合開始剤を含む、 好ましくは厚 みが 0. 5 mn!〜 10 mmの感光性樹脂組成物層を有するシート状の水現像性固 体版である。
本発明における親水性樹脂 (a) とは、 その分子中にスルホン酸基、 リン酸基、 カルボン酸基等の親水基を持った高分子を含み、 温度 40°C、 湿度 80%で 7日 保持した状態において含水率が 1%以上の樹脂であり、 ラジカル系共重合体、 ポ リアミド系重合体、 ポリビニルアルコール系重合体、 ポリエステル系重合体又は ゥレタン系共重合体等である上記樹脂が挙げられる。 例えば東洋紡の商品名 「コスモライト」 、 デュポン社の商品名 「A Q S」 、 日 本ペイント社の商品名 「フレキシード」 などの、 水現像固体版に使われている親 水性樹脂も、 本発明における親水性樹脂として使用できる。
親水性のラジカル系共重合体の例としては、 例えば、 不飽和単量体全量のうち 親水性の不飽和単量体を 1 . 0質量部以上用いる共重合により得られるものが挙 げられる。 上記のような親水性の酸性官能基を含有する不飽和単量体の使用量は、 不飽和単量体全量のうち 1〜 3 0質量部が好ましい。 1質量部以上では水系現像 が良好に行うことができ、 3 0質量部以下であれば感光性樹脂の吸湿量ゃィンキ の膨潤量が増加することがなく、 また、 感光性樹脂の混合時の加工性も保つこと ができる。
親水性のラジカル系共重合体に用いることができる疎水性の不飽和単量体とし ては、 共役ジェン、 芳香族ビニル化合物、 (メタ) アクリル酸エステル、 水酸基 を有するエチレン系モノカルボン酸アルキルエステル単量体、 不飽和二塩基酸ァ ルキルエステル、 無水マレイン酸、 シアン化ビエル化合物、 (メタ) アクリルァ ミド及ぴその誘導体、 ビニルエステル類、 ビニルエーテル類、 ハロゲン化ビニル 類、 アミノ基を有する塩基性単量体、 ビニルピリジン、 ォレフィン、 ケィ素含有 a , ;3—エチレン性不飽和単量体、 ァリル化合物等が挙げられる。 これらの単量 体は単独で用いてもよいし、 二種以上混合して用いてもよい。
2個以上の付加重合可能な基を有する単量体を使用してもよい。
親水性樹脂の含有量は、 感光性樹脂組成物 1 0 0質量部に対し 1 0質量部から 8 0質量部の範囲が好ましい。 親水基の種類は現像性と耐水性、 熱安定性の点か ら適宜選択される。 工業的に入手容易なこと、 少ない含有量で水現像性を発現し、 耐水性が良好であることからカルボン酸基を含有した樹脂が好ましい。 樹脂が柔 軟で強靱となることから、 共役ジェン樹脂を主成分とした樹脂は更に好ましい。 - また、 少ない含有量で水現像性を示し、 工業的に入手容易であることから、 粒径 5 m以下のゲル不溶分率が 6 0質量%以上の微粒子が好ましい。
本発明における疎水性樹脂 (b ) は、 温度 4 0 °C、 湿度 8 0 %で 7日保持した 状態において含水率が 0 . 5 %以下の樹脂が好ましく、 印刷用として柔らかく、 弾性があり強靱な樹脂であることが好ましい。 分子中に二重結合があり光照射下 で光重合開始剤により架橋反応を起こして、 印刷版として耐刷性が高くなること 力 ら、 ブタジエン又はイソプレンを主成分とする重合体が好ましい。 疎水性樹脂 ( b ) の含有量は、 感光性樹脂組成物 1 0 0質量部に対して 5質量部から 8 0質 量部の範囲が好ましい。 具体的には、 スチレン'ブタジエン重合体、 α—メチル スチレン 'ブタジエン重合体、 ρ—メチルスチレン 'ブタジエン重合体、 ρ—メ トキシスチレン ·ブタジエン重合体等が挙げられ、 ブロック重合体、 ランダム重 合体等の重合状態については、 いずれも採用できる。 好ましくは入手の容易さか らスチレン .ブタジエンプロック共重合体又はスチレン ·ィソプレンプロック共 重合体が用いられる。
本発明における光重合性不飽和化合物 (c ) とは、 分子内に不飽和二重結合を 持っており、 使用温度において液状又は固体状である化合物であれば、 どのよう な化合物でも用いることができる。
光重合性不飽和単量体 (c ) の含有量は、 組成物 1 0 0質量部に対して、 0 . 5質量部から 3 0質量部の範囲が好ましい。
光重合性不飽和単量体 ( c ) としては、 反応性が高く種々の化合物と相溶性が 高いという理由で、 アクリル酸化合物、 メタアクリル酸化合物が用いられ、 更に 好ましくは、 毒性、 金属腐食性が少なレ、という理由で、 上記化合物のエステル類 が用いられる。 具体的には、 アルキル (メタ) アタリ レート、 シクロアルキル (メタ) アタリ レート、 ハロゲン化アルキル (メタ) アタリレート、 アルコキシ アルキル (メタ) アタリレート、 ヒ ドロキシアルキル (メタ) アタリレート、 ァ ミノアノレキノレ (メタ) アタリレート、 テトラヒ ドロフノレフリノレ (メタ) アタリ レ ート、 ァリル (メタ) アタリレ^"ト、 グリシジル (メタ) アタリレート、 ベンジ ル (メタ) アタリレート、 フエノキシ (メタ) アタリ レート、 アルキレングリコ ール (メタ) アタリレート、 ポリオキシアルキレングリコール (メタ) アタリ レ' ート、 アルキルポリオールポリ (メタ) アタリレートなどが拳げられる。 より具 体的には、 例えばエチレングリコール (メタ) アタリレート、 テトラエチレング リコール (メタ) アタリレート、 へキサメチレン (メタ) アタリレート、 ノナメ チレン (メタ) アタリレート、 メチロールプロパン (メタ) アタリレ^ "ト、 グリ セリン (メタ) アタリレート、 ペンタエリ トリッ ト (メタ) アタリレート、 フエ ノキシェチル (メタ) アタリレート、 フエノキシテトラエチレングリコール (メ タ) アタリレート、 エトキシレーテッドビスフエノール A (メタ) アタリレート 等が挙げられる。
更に、 低分子量ポリブタジエン、 変成ポリブタジエン等を光重合性不飽和化合 物かつ可塑剤として用いることができる。 具体的には、 分子量 5 0 0〜5 0 0 0 の液状ポリプタジェン、 マレイン化変成ポリブタジェン、 アタリレ^ "ト変成ポリ ブタジェン等が挙げられる。
また更に、 マレイミ ド化合物も光重合性不飽和化合物として用いることもでき る。 具体的には、 ラウリルマレイミ ド、 シクロへキシルマレイミ ド等が挙げられ る。
更に多官能性不飽和化合物も光重合性不飽和化合物として用いられる。 これは 分子内の不飽和二重結合の数が 2個以上の不飽和化合物をいう。 これらを含ませ る場合は、 その含有量は組成物 1 0 0質量部中 0 . 0 5質量部から 1 0質量部で あることが好ましい。 これらの具体的例としては、 アルキルジ (メタ) アタリレ ート、 シクロアルキルジ (メタ) アタリレート、 ノヽロゲン化アルキルジ (メタ) アタリレート、 アルコキシアルキルジ (メタ) アタリレート、 ヒ ドロキシアルキ ルジ (メタ) アタリレート、 アミノアルキルジ (メタ) アタリレート、 テトラヒ ドロフルフリルジ (メタ) アタリレート、 ァリルジ (メタ) アタリレート、 ダリ シジルジ (メタ) アタリレート、 ベンジルジ (メタ) アタリレート、 フエノキシ ジ (メタ) ァクリレート、 アルキレングリコールジ (メタ) アタリレート、 ポリ ォキシアルキレングリコ一ルジ (メタ) アタリレート、 アルキルポリオールポリ (メタ) アタリレートなどが挙げられる。 より具体的には、 例えばジエチレング リコールジ (メタ) アタリレート、 テトラエチレングリコールジ (メタ) アタリ レート、 へキサメチレンジ (メタ) アタリレート、 ノナメチレンジ (メタ) ァク リレート、 トリメチロールプロパントリ (メタ) アタリレート、 トリシクロデカ ンジ (メタ) アタリレート、 グリセリントリ (メタ) アタリレート、 ペンタエリ トリットテトラ (メタ) アタリレート、 フエノキシェチ ジ , (メタ) アタリレー ト、 フエノキシテトラエチレングリコールジ (メタ) アタリレート、 エトキシレ 一テッドビスフエノー Λ^Αジ (メタ) アタリレートなどが挙げられる。 これら多 官能性不飽和化合物は、 通常印刷版の硬度、 解像度を調整するために先述した不 飽和化合物と併用してあら力 じめ組成物中に含有させて用いる。
本発明における光重合開始剤 ( d ) とは、 光のエネルギーを吸収し、 ラジカル を発生する化合物であり、 公知の各種のものを用いることができる。 各種の有機 カルボ二ルイヒ合物、 特に芳香族カルボニル化合物が好適である。 その具体例とし ては、 ベンゾフエノン、 4, 4一ビス (ジェチノレアミノ) ベンゾフエノン、 t一 プチルアントラキノン、 2—ェチルアントラキノン、 2, 4一ジェチルチオキサ ントン、 イソプロピルチォキサントン、 2, 4—ジクロロチォキサントン等のチ ォキサントン類; ジェトキシァセトフエノン、 2—ヒ ドロキシー 2—メチノレー 1 —フエ二ノレプロパン一 1一オン、 ペンジノレジメチノレケターノレ、 1—ヒ ドロキシシ クロへキシルフェニルケトン、 2—メチル一 2—モルホリノ (4ーチオメチルフ ェニル) プロパン一 1一オン、 2—べンジルー 2—ジメチルアミノー 1一 (4一 モルホリノフエニル) ブタノン等のァセトフエノン類;ベンゾインメチルエーテ ノレ、 ベンゾィンェチノレエーテノレ、 ベンゾインイソプロピノレエーテノレ、 ベンゾイン ィソプチルエーテル等のベンゾィンエーテル類; 2 , 4, 6—トリメチルベンゾ イノレジフエ二ノレホスフィンォキシド、 ビス (2, 6—ジメ トキシベンゾィノレ) - 2 , 4 , 4一トリメチルペンチルホスフィンォキシド、 ビス (2, 4 , 6—トリ メチルべンゾィル) 一フエニルホスフィンォキシド等のァシルホスフインォキシ ド類;メチルベンゾィルホルメート; 1, 7—ビスアタリジニルヘプタン ; 9一 フエ二ルァクリジン;等が挙げられる。 これらは単独で用いてもよいし、 2種類 以上を組み合わせて用いてもよい。
光重合開始剤 ( d ) の含有量は感光性樹脂組成物 1 0 0質量部に対して、 0 . 1〜 1 0質量部が好ましい。 細かい点や文字の形成性の観点から 0 . 1質量部以 上、 紫外線等の活性光の透過率低下による露光感度低下防止の観点から 1 0質量 · 部以下が好ましい。
本発明に係る感光性樹脂組成物は上述の各成分を公知の方法により混合し、 シ 一ト状に成形する。 水現像性固体版における感光性樹脂組成物の層の厚みは 0 . 5 mii!〜 1 0 mmである。 該層が薄すぎるとゴム弾力が小さくなり柔らかい面へ の追従性が悪くなるので、 そのような薄すぎる層は凸版印刷版には一般的には用 いられない。 更に、 該層の厚みが 1 O mm以上になると、 印刷性能は変わらない 力 その重量のために取り扱い難いという欠点を有する。 この感光性樹脂層は、 一般的には、 支持フィルム、 必要に応じて接着層と、 カバーフィルムとにはさま れて製造保管され、 製版作業のときに、 カバーフィルムを除去して露光工程に使 用される。 一般的には、 感光性樹脂は、 未露光状態では、 粘着性が高いため、 力 バーフィルム、 ネガフィルムとの粘着防止のために、 P V Aなどの水溶性樹脂、 水分散性樹脂が主成分の粘着防止層が感光性樹脂層の外側に設けられている。 感光性樹脂層は、 少なくとも、 活性光線による露光工程、 現像工程、 後露光ェ 程を経て、 製版に付される。
本発明にいう露光工程とは、 凸部を形成させる場所に光が照射されるように作 製されたネガフィルムゃ赤外レーザ一等でアブレーシヨンを施した層を介して、 活性光線を選択的に照射し、 被照射部分を光硬化させる工程をいう。
活性光線が照射されない部分は、 後の現像工程において除去される。
本発明に用いられる活性光線源としては、 低圧水銀灯、 高圧水銀灯、 紫外線蛍 光灯、 カーボンアーク灯、 キセノンランプ、 ジルコニウムランプ、 太陽光などが 好ましい。
本発明にいう現像工程は、 現像剤などの化学的手段又はブラシング、 高圧水で の洗浄などの物理的手段により、 露光工程での未照射部分を、 選択的に除去する 工程をいう。
現像液としては、 水又は水と界面活性剤を含有した水系現像液が用いられる。 界面活性剤としては、 ノニオン系、 ァニオン系、 カチオン系、 両性の界面活性剤 を単独又は二種類以上を混合して用いられる。
好ましいァニオン系界面活性剤の具体的な例としては、 平均炭素数 8〜 1 6の アルキル基を有する直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、 平均炭素数 1 0〜2 0 のひ一ォレフインスルホン酸塩、 アルキノレ基又はァルケ-ル基の炭素数が 4〜1 0のジアルキルスルホコハク酸塩、 脂肪酸低級アルキルエステルのスルホン酸塩、 平均炭素数 1 0〜 2 0のアルキル硫酸塩、 平均炭素数 1 0〜 2 0の直鎖又は分岐 鎖のアルキル基又はアルケニル基を有し、 平均 0 . 5〜8モルのエチレンォキシ ドを付加したアルキルエーテル硫酸塩、 及ぴ平均炭素数 1 0〜2 2の飽和又は不 飽和脂肪酸塩等が挙げられる。
好ましいカチオン系界面活性剤の具体例としては、 アルキルァミン塩、 アルキ ルジメチルベンジルアンモニゥム塩、 サパミン型第 4級アンモニゥム塩、 又はピ リジゥム塩等が挙げられる。
好ましいノニオン系界面活性剤の具体的な例としては、 ポリエチレングリコー ル型の高級アルコールアルキレンォキシド付加物、 アルキルクヱノールアルキレ ンォキシド付加物、 脂肪酸アルキレンォキシド付加物、 多価アルコール脂肪酸ェ ステルアルキレンォキシド付加物、 高級アルキルァミンアルキレンォキシド付カロ 物、 脂肪酸ァミ ドアルキレンォキシド付加物、 油脂のアルキレンォキシド付加物、 及びポリプロピレングリコールアルキレンォキシド付加物、 多価アルコール型の グリセロールの脂肪酸エステル、 ペンタエリスリ トールの脂肪酸エステル、 ソル ビトールとソルビタンの脂肪酸エステル、 ショ糠の脂肪酸エステル、 並びに多価 アルコールのアルキルエーテル及ぴアル力ノールァミン類の脂肪酸ァミ ド等が挙 げられる。
好ましい両性界面活性剤の具体的な例としては、 ラウリルァミノプロピオン酸 ナトリゥムゃラウリルジメチルベタイン等が挙げられる。
界面活性剤の濃度には特に制限はないが、 通常 0 . 5〜 1 0 w t %の範囲が好 ましい。
必要に応じて、 界面活性剤に、 現像促進剤や p H調整剤などの現像助剤を配合 することができる。
現像促進剤としては、 モノエタノールァミン、 ジエタノールァミン、 トリエタ ノールァミン等のアミン類、 グリコールエーテル類、 テトラメチルアンモニゥム ヒドロォキシド等のアンモニゥム塩類、 又はパラフィン系炭化水素等が挙げられ る。
p H調整剤としては、 ホウ酸ソーダ、 炭酸ソーダ、 ケィ酸ソ ダ、 メタケイ酸 ソーダ、 コハク酸ソーダ、 酢酸ソーダ等が挙げられる。
現像助剤は、 単独又は 2種類以上を混合して用いられる。
用いる現像助剤の沸点は、 常圧で 1 3 0 °C以上であることが好ましい。 沸点が これより低い場合、 現像液から水を蒸発させて凝縮液として回収する際に溶剤の 相当量が水と同時に留去される傾向があり、 あるいはこれを現像液の濃度調整の 目的で利用する際に、 現像液の性能を安定にするために同伴された溶剤の量を測 定して調整しなければならないなどの手間がかかる。
必要に応じて、 消泡剤、 分散剤、 腐食抑制剤、 腐敗防止剤を併用してもよい。 本発明の後露光工程は、 現像工程後に、 低酸素濃度雰囲気下で、 版表面を露光 する工程である。 これにより、 耐刷性の向上とインキ絡み性を抑制することがで きる。
従来の感光性固体版の後露光工程では、 大気中で活性光線の照射処理を行つて いた。 現像工程後の版は、 重合反応が十分完結したわけではなく、 未反応のモノ マーやオリゴマーが存在しており、 版表面に粘着性がある。 そのため、 保管中や 印刷中にゴミゃ屑などが付着しないように、 一般的には、 大気中で 2 5 4 η πι付 近の紫外線を適量照射することにより粘着性を低減させている。
好ましくは 2 0 0 n mから 3 0 0 n mの波長の光を照射する。 波長が 2 0 0 n m以上であれば、 臭気が強く反応性が高い危険なオゾンが発生し難く、 波長が 3 0 0 n m以下であれば、 版面の粘着性の除去ゃ耐刷性の向上が可能となる。 こ の波長の光を照射することにより耐刷性の向上及びィンキの絡み性の抑制に加え て、 版面の粘着性を除去することもできる。
露光ランプの例としては、 2 5 4 n mに最大のエネルギー強度を示す水銀ラン プの T U V ( P H I L I P S製、 商品名) や G L (三共電気株式会社製、 商品 名) などが挙げられる。
後露光工程では、 2 0 0 n mから 3 0 0 n mの波長の光を照射する以外に、 3 0 0 n mから 4 0 0 n mに最大エネルギー強度を示す光を、 同時に、 又は、 別々 に照射してもよい。
現像工程後に、 版に付着した現像液を水等で簡単に洗い落とし、 そのまま後露 光処理を行うことも可能であるが、 オープン中、 約 6 0 °Cで、 5分から 1 2 0分 間、 版を乾燥してから後露光処理を行うのが、 版面のパック面が白濁しないこと から好ましい。
本究明における低酸素濃度雰囲気について、 ガス中の雰囲気と、 液中の雰囲気 とに分けて説明する。
大気中の酸素分圧は通常 2 O k P aであるが、 本発明における低酸素温度雰囲 気とは、 7 k P a以下、 好ましくは 5 k P a以下、 最も好ましくは 1 k P a以下 • の酸素分圧の雰囲気を言う。 酸素モル濃度の観点から説明すると、 大気中の酸素 モル濃度は約 8 . 7モルノ πι "であるが、 低酸素濃度雰囲気とは 3モル Zm 3以 下、 好ましくは 2モル /m 3以下、 最も好ましくは 0 . 5モル Zm 3以下の酸素 モル濃度の雰囲気を言う。 酸素モル濃度が 3モル Zm より高いと、 オゾン生成 量が増えて、 副反応の量が多くなる傾向がある。
次に、 液中雰囲気について説明する。 水中の酸素分圧は大気中の酸素分圧と平 衡を保っているが、 水分子が存在するため、 水中は酸素の濃度が低く低酸素濃度 雰囲気になっている。 具体的には、 2 0 °C、 大気 1気圧の平衡濃度は、 約 9 p p mであり、 モル濃度は 0 . 2 8モル Zm 3になっている。 水中で処理するこ とは、 工業的に容易であり、 取り扱い上も安全性に優れることから、 低酸素濃度 雰囲気を水中とすることが好ましい。
水に濡れると乾燥処理が必要になるが、 処理時間を短縮して急いで製版を行う 必要がある場合、 水中雰囲気を用いる代わりに、 短波長紫外線透過率 5 %以上の フィルムを密着させて空気を抜き出し低酸素濃度雰囲気を作り出すか、 一般的な 方法で閉鎖空間を作り、 その中を減圧状態にする力 \ 不活性ガス (一般的には、 経済的に有利な窒素ガス又は炭酸ガス) で満たして酸素濃度を上述の濃度以下に することが好ましい。
短波長紫外 透過率 5 %以上のフィルムとは、 実質的に 2 5 0 n mの短波長紫 外線を 5 %以上透過させるフィルムであればどのような高分子で構成されていて も問題ない。 具体的にはポリエチレンフィルム、 ポリプロピレンフィルムなどの ォレフィン系ポリマーを素材としたフィルム、 フッ素系ポリマーを素材としたフ イルム、 シリコン系ポリマーを素材としたフィルム、 塩素系ポリマーを素材とし たフィルムが挙げられる。 これらのうち、 柔軟であること、 入手が容易であるこ と力 ら、 ポリエチレンフィルムが好ましい。 さらに、 短波長紫外線の透過率は髙 ければ高いほど後露光処理時間が短くて済むことから好ましく、 透過率は 5 %以 上が好ましく、 3 0 %以上がより好ましい。 以下、 参考例、 実施例、 及ぴ比較例により本発明についてより具体的に説明す るが、 本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
参考例
(1) 親水性樹脂 (a) 'の合成
撹拌装置と温度調節用ジャケットを取り付けた耐圧反応容器に、 水 1 25質量部 及ぴ乳化剤 (α—スルホー (1— (ノニルフエノキシ) メチルー 2— (2—プロ ぺニノレオキシ) エトキシーポリ (ォキシ一 1, 2—エタンジィノレ) のアンモニゥ ム塩、 商品名:アデ力リアソープ S Ε 1025 (旭電化工業製) ) 3質量部を初 期仕込みし、 内温を 80°Cに昇温し、 スチレン 10質量部、 ブタジエン 70質量 部、 2—ェチルへキシルァクリレート 1 3質量部、 メタクリル酸 5質量部、 ァク リル酸 2質量部、 t -ドデシノレメルカプタン 2質量部の油性混合液と水 28質量 部、 ペルォキソ二硫酸ナトリウム 1. 2質量部、 水酸化ナトリウム 0. 2質量部 及び乳化剤 (商品名:アデ力リアソープ S E 1025 (旭電化工業製) ) 1質量 部からなる水溶液を、 それぞれ 5時間及ぴ 6時間かけて一定の流速で添加した。 そして、 そのままの温度で 1時間保って、 重合反応を完了させた後、 反応液を冷 却した。 次いで、 生成した共重合体ラテックスを水酸化ナトリウムで pH7に調 整して力 ら、 スチームストリッビング法により未反応の単量体を除去し、 200 メッシュの金網で濾過し、 最終的には固形分濃度が 40 w t %になるように調整 して親水性共重合体溶液を得た。 親水性共重合体の数平均粒子径は、 40nmで あった。 粒子径は日機装株式会社製、 商品名、 MI CROTRAC粒度分析計 (型式: 9230UPA) を用いて数平均粒子径として求めた。
乳化重合した溶液を 60°Cで乾燥し親水性共重合体を得た。 この親水性共重合 体の温度 40°C、 湿度 1 00%、 7日の雰囲気における飽和含水率は、 3%であ つ 7こ。 ' · '
(2) 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂版の作成
(1) で得た親水性樹脂 (a) 30質量部と、 疎水性樹脂 (b) として、 スチ レンブタジエンプロック共重合体 (クレイ トン D— KX405 (商品名) : シェ ル化学製) (飽和含水率: 0. 1%) 25質量部とを、 加圧ニーダを用いて 14 0°Cで 10分混合した後に、 光重合性不飽和化合物 (c) として、 1, 6—へキ サンジォー ジメタクリレート 8質量咅 |と 1, 6—へキサンジォーノレジァクリレ ート 4質量部、 光重合開始剤 (e) として 2, 2—ジメ トキシフエ二 ァセトフ ヱノン 2. 5質量部、 更に、 可塑剤として液状ポリブタジエン (日本石油化学 製:商品名: Β 2000) を 30質量部、 及び酸化防止剤として 2 , 6—ジ一 t ーブチルー ρ—クレゾール 1. 5質量部を、 15分かけて少しずつ加えて、 加え 終えてから更に 10分間混練し、 感光性樹脂組成物を得た。
この組成物を取り出し、 片面に熱可塑性エラストマ一を用いた接着剤がコート されている厚さ 100 のポリエステルフィルム (以下 PETと略す) と、 片 面に厚さ 5 μπιのポリビュルアルコール (PVA) がコートされた厚さ 100 μπιの PETの間にはさんで、 プレス機を用い、 130 で厚み3111111の板状に 成形した。
(3) 印刷版の作成
(2) で得た感光性樹脂組成物の成形板を、 接着剤がコートされた PETの側 から、 硬化層の厚さが 2 ram程度となるように、 370 n mに最大エネルギー強 度を示すランプ露光機 ( J E-A2-S S, ョ本電子精機製、 商品名) を用いて 露光した。
次に、 P V Aがコートされた方の PETを PV Aが樹脂面に残るようにして剥 ぎ、 印刷画像のネガフィルムを密着させ、 上記組成物の成形板を前記露光機で 1 0分間露光した。 露光後に、 ネガフィルムを剥がして、 高級アルコールアルキレ ンォキシド付加物 4w t %、 ジエチレングリコールジプチルエーテル 0. 4wt %、 ジェチレングリコールモノへキシルエーテル 0. 5 w t %及ぴ炭酸ナトリウ ム 0. 4wt%の水溶液 (水系現像液) を調製し、 日本電子精機製のブラシ洗浄 機 (商品名、 JOW— A3— P) を用いて、 50°Cで洗浄し、 未露光部を除去し た。 次に、 水道水で簡単に版面の現像液を洗い落とし、 60°Cで 30分乾燥後に、 表 1に示す条件で、 254 nmに最大エネルギー強度を示す紫外殺菌線ランプ (GL 30、 30W、 TOSHI BA製、 商品名、 以下 UVC) と 370 nmに 最大エネルギー強度を示す紫外線ケミカルランプ (F L R 20 S、 20 W、
TOSHI BA製、 商品名、 以下 UVA) を交互に配した光源を用いて、 同時に 露光を行い、 印刷版を作製した。 11 露光強度計1;¥—1^〇2 (〇RC社製、 商品名) を使用し、 UVCには U V—25センサーを、 UV Aには UV— 37センサーをそれぞれ使用して、 露光 強度を測定した。
(4) 評価方法
(a) 印刷版表面の粘着除去性
P E Tを版表面に押し付け、 容易に剥がれるかどうかについて官能評価した。 (b) 耐刷性 (印刷部数) 評価
参考例、 実施例、 及び比較例で得られた版を用い、 ニューロング社製印屈機で 印刷を行った。 版をシリンダーに巻き付け、 水性インキを使って、 紙に何部印刷 できるかを評価した。 なお、 印刷部数が増えるに従って、 ベタの部分にスジ状の 摩耗痕が生じ、 これが周囲よりも深くなり、 その深さが約 20 /mに達すると、 印刷機のロール圧を操作しても、 白抜きがうまく印刷できなくなるので、 この時 点を印刷終了と判断した。
( c ) 印刷版の網部のィンキ絡み性
(b) の印刷時、 紙 1000部数終了後に、 印刷紙の 133線 3 %、 5%、 1 0%の網点部に、 目視で、 インキが全く絡んでいない版を 「良い」 と判断し、 "y e s" とした。 インキが少しでも絡んでいたら、 その版は 「問題がある」 と 判断し、 "n o" とした。
実施例 1
参考例の方法でブラシ現像処理し、 60 °Cで 30分乾燥した版の表面を触ると 粘着性が感じられ、 清浄な P E Tフィルムを表面に押し付け再び剥がそうとした ところなかなか剥がれず、 無理に引き剥がしたら、 表面に傷が残ってしまった。 次に、 この版を水の中に深さ 2 cmで沈めた状態にして、 UVAを 1000 m J分及ぴ U V Cを 2000 m J分で版を露光した。 露光処理後の版は粘着性が 取れており、 版表面に押し付けた PETフィルムは容易に剥がすことができ、 傷 も残らなかった。 なお、 この水中後露光に使った水の酸素濃度を測定したら、 8 p pmであり、 酸素濃度に換算すると 0. 25モル Zm。であった。
次いで、 この版の耐刷性及ぴィンキ絡み除去性を評価したところ、 表 1のよう に良好であった。 実施例 2〜 8
低酸素濃度雰囲気を、 実施例 1と同様に水中で達成する方法、 短波長紫外線透 過フィルムを密着させることにより達成する方法、 減圧により達成する方法、 不 活性ガスパージにより達成する方法により、 後露光処理を施した版を評価した。 なお、 各々の方法において、 露光により版に実質的に照射される光の強度を測定 し、 露光時間を調整した。 更に、 酸素濃度は、 減圧による方法では気圧の測定か ら、 不活性ガスで空気をパージする方法では酸素混入量を制御して濃度を求めた。 得られた版は、 表 1に示したように耐刷性及ぴィンキ絡み除去性が良好であつ た。
また、 後露光後のすべての版で、 べトツキが取れており、 P E Tフィルムに押 し付けた版は容易に剥がすことができて傷も残らなかった。
比較例 1〜 4
すべての版で、 版表面の粘着性が除去されていたが、 少ない印刷量で版表面が 磨耗し、 特に、 U V Cが 3 0 0 0 m J以上の比較例 3と 4では、 磨耗部近辺に多 数のクラックが発生していた。 また、 比較例 1から 4の版のインキ絡み除去性が悪 いことが判った。
これらの実験結果から、 酸素分圧が、 9 k P aを超える雰囲気で後露光処理す ると耐刷性及ぴインキ絡み除去性が著しく悪くなることが判る。 そして、 水中で の処理などにおける低酸素雰囲気では、 耐刷性及ぴィンキ絡み除去性が良いこと がわかる。
表 1
刀 酸素分圧 後露光量 ノソ; ^
UVG UVA (X104 除去' [ iφe
(kPa) (mol/m3) ΚΐΩ-S) 部数)
実施例 1 水中 0.25 2000 1000 yes
;¾0也 1タリ ム っレ rh 0.25 3000 1000 yes 3也 1夕 1) 水中 一 0.25 4000 1000 1 iU yes 実 ί也例 4フイノレム (UV透過率 80%) 2.9 1.20 2000 1000 170 yes 她 1タ U 4.0 1.70 2000 1000 n yes 実施例 6 減圧 (石英ガラス中) 1.2 0.50 2000 1000 200 yes 実施例 7 4.0 1.70 2000 1000 130 yes 実施例 8 1.2 0.50 2000 1000 200 yes 比較例 1 9.7 4.00 2000 1000 90 no 比較例 2 大気 21.0 8.70 2000 1000 80 no 比較例 3 大気 21.0 8.70 3000 1000 25 no 比較例 4 大気 21.0 8.70 4000 1000 10 no 実施例 9 10及び比較例 5 6
市販されている水現像固体版の 10 OAQS (Cy r e l社製、 商品名) と C o smo l i g h t N E O 284 F (T O Y〇 B O社製、 商品名) を用いて 本発明の方法を実施した。
100 AQSの現像液としては、 D— 330 (Cy r e l社製、 商品名) と補 助剤 (Cy r e l社製、 商品名) を、 水にそれぞれ 3 w t %及ぴ 0. 4 w t %添 加したものを用いた。 参考例 3と同様の現像機及び現像温度で現像を実施し、 版 を 60 で 30分乾燥し、 表 2に記載の方法で後露光を実施した。
NEO 284 Fについては、 参考例 3と同様の現像機、 現像液及ぴ現像温度で 現像を実施し、 版を 60°Cで 30分乾燥し、 表 2に記載の方法で後露光を実施し た。
実施例 9と 10、 比較例 5と 6のすベての露光処理後の版は粘着性が除去され ており、 版表面に押し付けた PETフィルムは容易に剥がすことができ、 傷も残 らなかった。
実施例 9と 10と、 比較例 5と 6との比較から、 低酸素雰囲気下で後露光を実 施することにより、 耐刷性が向上し、 版面のインキ絡み性を抑制することができ た。 表 2
Figure imgf000018_0001
産業上の利用可能性
以上説明したように、 水現像性固体版から印刷版を作成する際の後露光工程に おいて、 低酸素雰囲気下で露光処理を行うことにより、 得られる印刷版の耐刷性 やインキの絡み性を大きく向上させることができる。 そのため、 従来の水現像性 印刷版では摩耗が激しくて使えない条件下や、 インキが絡み易い印刷機でも、 本 発明の水現像性印刷版を使用することができる。 これにより環境を污しにくい水 現像性印刷版の普及を図ることができる。 また、 後露光量が多くても耐刷性が大 きく低下せず露光ラチチュードが広がること力 ら、 製版作業におけるミスが少な くなり、 水現像性印刷版の普及が更に広がることとなる。

Claims

請求の範囲
1 . 少なくとも、 (a ) 親水性樹脂、 (b ) 疎水性樹脂、 (c ) 光重合性不 飽和化合物及び (d ) 光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物の固体版を用いて、 少なくとも、 活' I"生光線による露光工程、 現像工程、 及び後露光工程により、 凸版 印刷用水現像性印刷版を製造する方法であって、 該後露光工程を低酸素濃度雰囲 気下の条件で行う、 上記方法。
2 . 前記後露光工程において、 少なくとも 2 0 0 n m〜 3 0 0 n mの波長の 紫外線で露光を行う請求項 1記載の方法。
3 . 前記低酸素濃度雰囲気下の条件が水中である請求項 1に記載の方法。
4 · 前記低酸素濃度雰囲気下の条件が、 2 5 0 n mの紫外線の透過率が 5 % 以上のフィルムを介して、 減圧下又は不活性ガス雰囲気下の条件である請求項 1 に記載の方法。
5 . 前記低酸素濃度雰囲気下の条件が、 減圧下又は不活性ガス雰囲気下の条 件である請求項 1に記載の方法。
6 . 前記親水性樹脂が、 共役ジェンを主成分とし、 カルボン酸基、 水酸基、 リン酸基及ぴスルホン酸基からなる群から選ばれる少なくとも 1つの親水基を含 み、 飽和含水率が 1 %以上である、 請求項 1〜 5のいずれか一項に記載の方法。
7 . 前記親水性樹脂が、 粒径 5 μ以下のゲル不溶分率が 6 0質量。/。以上であ る微粒子からなり、 飽和含水率が 1 %以上の樹脂である請求項 1〜 6のいずれか 一項に記載の方法。
8 . 請求項 1〜 7のいずれか一項に記載の方法で作成された感光性樹脂凸版 用印刷版。
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