JPS5897043A - 液中後露光法 - Google Patents
液中後露光法Info
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- JPS5897043A JPS5897043A JP19446481A JP19446481A JPS5897043A JP S5897043 A JPS5897043 A JP S5897043A JP 19446481 A JP19446481 A JP 19446481A JP 19446481 A JP19446481 A JP 19446481A JP S5897043 A JPS5897043 A JP S5897043A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
- G03F7/405—Treatment with inorganic or organometallic reagents after imagewise removal
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明はラジカル重合反応性樹脂硬化物の表面の非粘着
化方法に関するものである。 活性光線によってラジカル重合硬化する光硬化性樹脂組
成物や、熱によりラジカル重合硬化する熱硬化性樹脂組
成物は、空気硬化性でない限り、硬化操作時空気に触れ
ていた表面は、粘着性を有し
化方法に関するものである。 活性光線によってラジカル重合硬化する光硬化性樹脂組
成物や、熱によりラジカル重合硬化する熱硬化性樹脂組
成物は、空気硬化性でない限り、硬化操作時空気に触れ
ていた表面は、粘着性を有し
【いる。この粘着性のため
に硬化物は実用上便用に堪えない事になる。*に光硬化
性樹脂を用い1印刷用版材を作る場合、顕著である。 一般に光硬化性樹脂層の製造方法は、一定の犀さに成形
した光硬化性樹脂層またはこれを支持体に支持させたも
のに、ネガフィル人なとりパターンを通して活性光線を
照射する事により像形成露光を行ったのち、未露光部を
溶剤またはアルカリ水溶液等で処理し℃溶出除去し、必
要ならば更に版画の洗浄J6理を行って、次いで乾燥又
は乾燥と同時に後露光を行う1鴨からなっている。 轡に紙型母型用原版を作成する場合や、耐刷力の高めら
れた版を作成する場合には、レリーフ画費の硬度および
強度を増大させるために1従来上記の後露光処理は、充
分に乾燥又は乾燥しながら、1iiis部と非画像部の
光硬化反応を更に進めて、しu−7ij惨部分を完全硬
化さぜる事が行なわれている。しかしこのように光硬化
性樹脂層を乾燥、又は同時Kil露光する方法では、光
硬化反応が空気中の酸素により釦害される事が◆いため
に、単Kj[に活性光線を照射す々」σ1みではレリー
フ面会の側面、即ち曾形成露九により光硬化された部分
と未露光部である非硬化部分との界面を完全に硬化させ
−るのに長時間を費し1、しかも硬化は必ずしも完全で
はなか夕だ。この残った粘着性のために、紙型取りのF
JtC版と紙製用紙とが粘着したり、印刷を行な5!!
N[iYK紙粉が耐着し、目詰りを起したりするな:ど
種々の問題が生じた。特に小さい独立点、細罫線などの
レリーフ面会の体積にくらべて儒藺積の大きい画会は上
述の如き後露光方法では側面を完全硬化させる事が出来
ないために、一層問題が生起していた。更に米国特許第
1L21a1117号1、特公昭45−2316!i号
に示されたような両面露光法により製版を行う場合には
裏面露光によって支持体表面に形成された光硬化性樹脂
の硬化層表面も同様に粘着性が残るため、同様のトラブ
ルが生じる事が多かった。 このため、これを解消するべ〈従来いくつかの方法が試
みられている0例えば、米国特許第&?2L120号、
11i’j:昭52−48845号、特開昭50−42
070号、41開昭53−14&669号等にその方法
が提案されている。特に前3者は液中後露光法に関する
ものである。 例えば、光硬化性樹脂の像形成処理と未露光部の除去処
N(含洗浄処理)後、光硬化性樹脂板のレリーフ面を液
体に浸漬した状態で版面に活性光線を照射する方法であ
る。しかしこの方法では確かに粘着性の程度は低下する
が、未だ粘着性が残っており、必ずしも充分な非粘着化
方法ではない。 又ポリブタジェンやポリイソプレンの様な共役ジエン系
毫ツマ−の重合体を主鎖中に有する可溶性ポリマーを用
いる感光性エラス)w−組成物の場合は、その反応性が
低(゛ため液体中又は不活性ガス中で活性光線を照射し
ても表両の粘着性を除去する事ができない。従ってこの
場合、粘着性除去のだめに亜塩素駿ナトリニウムの塩酸
酸性水溶液を用いる塩素化処理などが行われていた。し
かしこの方法は刺激性の強い薬品を用いるものであり、
且つ有毒な塩素ガスの発生を伴う尋衛生管理上好ましく
ない問題がある。 一方、後者(#開開53−14366号)は水素引き抜
き剤を版画に含浸させ、s o o nm 以下の波長
の光を照射して表面の粘着性を除去する方法であるが、
安全衛生上好ましくない有機溶剤を使用し、さらにこの
有機溶剤によりレリーフがIIIIしたり、水素引き抜
き剤により架橋化されたりするため印刷版の特性が劣化
する等、好ましくない結果を招く。 本発明者は、かかる従来方法の欠点を解消すべく水中で
の後露光方法について鋭意検討した結果、安全衛生上問
題なく、著しく向上した効果をもたらす表面非粘着化法
を見出し本発明に到達した。 即ち本発明はラジカル重合反応性樹脂の硬化物を浸漬液
被覆下露光する事により、その表面粘着性を除去する液
中後露光法にお(・て、轟該浸漬液が、還元11化物及
び/また番1硫黄酸化物の塩を含む水溶液である事を%
黴とする液中後露光法である。 本発明にいうラジカル重合反応性樹脂としては次の如き
組成物をあげることができる。 重合性2型締合を分子中に少なくとも1個以上有するプ
レポリi−及び/又は可溶性ポリミー1必要に応じて熱
又は光重合開始剤、ラジカル重合性不飽和上ツマ−を含
むラジカル重合反応性樹脂組成物で、例えばプレポリマ
ー、可溶性ポリマーとして不飽和ポリエステル、不飽和
ポリウレタン、不飽和エポキシアクリレート、ボリア2
ド、ポリブタジェン、スチレン−ゲタジエン熱可塑性エ
ラストff −、スチレン−イソプレー熱可塑性エラス
ト1−(例えば、特公昭4m−19125号、養分@4
g−8188号、特lll昭41−37521号、特開
昭5l−101is01号等、又熱重合性樹脂組成物と
して特公昭311−14110!1号等)勢をあげる事
ができる。 次に、本実W14に用いる還元性の硫化物、硫黄酸化物
の塩としてはアルカリ金属又はアルカリ土類金属の硫化
物及び亜硫酸、酸性亜硫酸、!!ニチオン酸、チオ引L
メタ重亜硫酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩
が挙げられ、具体的には硫化ソーダ、亜硫酸ソーダ、酸
性亜iI!蒙ソー〆、亜二チオン酸ンーダ、チオ硫酸ソ
ーダ、メタ重亜硫酸ソーダ及びこれらのソーダ塩の代り
のカリ塩、7ンモニエクム塩等があげられる。 本発明に使用する還元性の硫化物、硫黄酸化物の湊度は
高い方が好ましく、aOS重景−より低くなると実質的
効果が少い。一方飽和濃度以上に高くした懸濁状態でも
効果があり、使用上側等さしつかえないが実際上は経済
性及び硫黄化合物特有の臭気性の点より上限の制約を受
けることになる。 本発151IKおける表面の非粘着化方法は前記した如
き特定の水溶液に1熱硬化性樹脂硬化物の空気に触れて
いた粘着性のある表面を浸漬しながら、又光硬化性樹脂
硬化機の場合は、印刷用版材を例にとれば、曹形赦処理
と未露光部の除去処理を行ったレリーフ面(レリーフ側
面及び両面露光法で債形成処理を行った場合は更に非画
曽部表面も粘着性を有している)を浸漬しながら、この
状態で活性光線で露光処理を行う。 この際、レリーフが湿潤状態、一旦乾燥された状態、更
に又乾燥後露光した状態であろうとも、本発明方法の特
定水溶液中で露光処理を行えば、そのレリーフの非粘着
化は同等に可能である。 本発!jIKff用する水には、これ以外に水K11j
鱗する各種液体を加える事ができる。これらの液体とし
てはメタノール、エタノール、エチレングリコール、テ
トラヒドロフラン、アセトン、ジメチルホルム7iド勢
をあげろ事が出来る。 水にこれらの液体を加えた水溶液では、その結果は水単
独の場合と同じであつズ、本発9と同等の目的を達成す
ることはできない。また該水溶液のpH調整等必l!に
応じて苛性ソーダ、:為エタノール71ン等無機物、有
機7ξンを加えてもよい。 本発明方法で、光硬化性樹脂の印刷用版材についていえ
ば、惨形成処理と未露光部の除去処理した光硬化性樹脂
板を後露光する方法は、そのレリーフ面を上述の特定の
水溶液で被覆した状態で版面に活性光線を照射すればよ
−・。この場合に水溶液で被覆した状態とは、光硬化性
樹脂硬化機を水溶液中に埋没した状態だけでなくレリー
フ面だけを水溶液中KJI没した状態、およびレリーフ
面に水溶液を散布湿潤して〜・る状態も含まれる。又版
面に対する活性光線の照射は樹脂層のレリーフ面倒から
行われるか、上述活性光線に対して実質的に透明性を有
する支持体を使用し1製版する場合は、樹脂層の支持体
―から行ってもよい。 本発明に用いられる活性光線源とし曵は、低圧水銀灯、
高圧水銀灯、紫外線螢光灯、カーボン7−り灯、キセノ
ンランプ /N Rグンランプ、太陽党勢をあげる事が
できる。 本発明方法は印刷版材用レリーフの形成K特に有効であ
るが6種のレリーフ両袋(装飾用ディスプレー、ネーム
プレートη)、塗料、コーティング材料分野にも用いる
事かできる。 次に本発明を実施例によりさらに詳細に駅、明する。 合成例1 平均分子量200Gのポリエチレン7ジペート(日本ボ
リクレタン製“ニクボラン5019”)575 F、キ
シリレンレインシアネートIfF。 およびジブチルスズジラクンートα1tを三つロフラス
コに入れ、脅素を囲気下70CK加熱して2時間反応さ
せた。ついで2−ヒドロキシエチル7クリレート4!f
、およびp−メトキシフェノールa03fを加えて更に
2時間反応させた。ついでラウリルメタ7クリレー)l
oOf、!−7セトキシエチルメタアクリレート100
f、テトラデカエチレングリフールジメ7クリレート
100fとベンシイ/エチルエーテル10tを加えよく
攪拌混合し光硬化性樹脂組lL暢を得た。 合成例3 ポリエチレンアジペートの代りに末端基に水酸基を有す
る平均分子量2600のポリブタジェングリコール(日
本W達製Nl5SO−PBG x o o o )5γ
5fを用いる他は合成例1と同様にして光硬化性樹脂組
成物を得た。 合成例3 7マール酸4xsoy、無水トリメリット酸320F、
7ジピン酸730fおよびジエチレングリコールxs*
Qfを窒素雰囲気中100〜200℃で30分間反応し
、更1c210’cK昇温し5時間反応させて、114
2の不飽和ポリエステルを製造した。この不飽和ポリエ
ステル 65p、) リ 7 リ ル ト リ メ
リ ラド − )15f。 テトラエチレングリブールレフクリレート10t1アク
リルアミド10 f、ベンゾインメチルエーテルを!f
及び保存安定剤としてp−メトキシフエ/−ル6011
Pを加えよく混合攪拌して光硬化性樹脂組成物を得た。 合成例4 合成例1で得られた光硬化性樹脂組成物中、ベンゾイン
エチルエーテルの代りにベンゾイルパーオキサイドlO
fを用いた他は同じ組成の熱硬化性樹脂組成物を得た。 実施例1 合成例1〜3で得られた光硬化性樹脂組成物を100J
I+のポリエステルフィルム上K 1 w厚さで塗布し
、ここにt s icw高圧水銀灯士−分間露光した。 得られた光硬化物の表面は着るしい粘着性を有していた
。次に該硬化物を11%硫化ソーダ水溶液、1チメタ重
亜硫酸ソーダ水溶液、1%亜硫酸カリ水溶液に夫々浸漬
し、直ちに同じ(L 5 KW高圧水銀灯で5分間露光
し次いで風乾した。得られた硬化物の表面はいづれの場
合も全く粘着性がなかった。 !i!施例雪 合成例4で得られた熱硬化性樹脂組成物を、3・・μの
鋼板にニーの厚さに塗布し、100C# is分間加
熱して、表面に著るしい粘着性を有する硬化物を得た。 次いで実施例1と同様に1%硫化ソーダ水溶液、1−メ
タ重亜硫酸ソーダ水溶液、!−!硫酸カリ水溶液に夫々
浸漬し、露光した。得られた硬化物の表面は全く粘着性
がなかった。 実施例3 合成例1.3で得られた光硬化性樹脂組成物を用い、次
の方法に工、光重合による露光処理、未露光部の洗浄除
去(合成例1ではりpaセン、合成例3ではx%炭酸ソ
ーダ水溶液を使用)仁0、乾燥を行って凸版印刷用の樹
脂板を得た。 即ち、水平に設置したガラス板上にネガフィルムを置き
、その上に厚さ12#のポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを密着して重ね、更にその上に前記組成物を17
箇の厚さKfi布した。次いでこの組成物の上にリレー
シー17防止層及び接着層を有するals箇のポリエチ
レンテレフタレートフィルムを重ね密着させ、ネガフィ
ルム方向より60W紫外#螢光灯8本を組合わせた光揮
を用いて1o分間露光した。 次いで得られた樹脂板を】−酸性亜硫酸ソーダ水溶液忙
浸漬し、ンリーフ側よりL S KW高圧氷餐灯で5分
間露光した。この結果、しV −7@面の粘着性は除去
され、粘着性に起因する紙粉よごれ岬の印刷上のトラブ
ルは起きず良好な印刷物を与えた。 実施例4 市販の7ンキン用同体版エラスρン■(M−300B。 版厚3m、]!京応化製)を用いて水xFK設置したガ
ラス板上のネガフィルムの上に密着して重ね、ネガフィ
ルムと反対方向より15W紫外線螢光灯8本を組合せた
光gIシ用いて5秒間露光し、次いでネガフィルム方向
より1sw紫外線螢光灯8本を組合せた光源を用いてS
O分間露光した0次いでりHOセ/で未露光部をIkき
風乾した9次に該樹##版を1−1!、il酸ソーダ水
溶液に浸漬し、15W紫外線螢光灯8本を組合せた光源
で、S分間露光した。得られた樹脂板は何勢粘着性のな
いものだった。 実施例5 合成例!で得られた光硬化性樹脂組成物な用いて、実施
例1と同様に処理して、表面に著るしい粘着性のある光
硬化樹脂を得た。次いでこれを各種亜硫酸ソーダの濃度
下で露光を行い次表に示す結果を得た。 表 1 表1より粘着性は亜硫酸ソーダの濃度、後露光時間に依
存し、濃度としてαo5%以上が好ましい。
に硬化物は実用上便用に堪えない事になる。*に光硬化
性樹脂を用い1印刷用版材を作る場合、顕著である。 一般に光硬化性樹脂層の製造方法は、一定の犀さに成形
した光硬化性樹脂層またはこれを支持体に支持させたも
のに、ネガフィル人なとりパターンを通して活性光線を
照射する事により像形成露光を行ったのち、未露光部を
溶剤またはアルカリ水溶液等で処理し℃溶出除去し、必
要ならば更に版画の洗浄J6理を行って、次いで乾燥又
は乾燥と同時に後露光を行う1鴨からなっている。 轡に紙型母型用原版を作成する場合や、耐刷力の高めら
れた版を作成する場合には、レリーフ画費の硬度および
強度を増大させるために1従来上記の後露光処理は、充
分に乾燥又は乾燥しながら、1iiis部と非画像部の
光硬化反応を更に進めて、しu−7ij惨部分を完全硬
化さぜる事が行なわれている。しかしこのように光硬化
性樹脂層を乾燥、又は同時Kil露光する方法では、光
硬化反応が空気中の酸素により釦害される事が◆いため
に、単Kj[に活性光線を照射す々」σ1みではレリー
フ面会の側面、即ち曾形成露九により光硬化された部分
と未露光部である非硬化部分との界面を完全に硬化させ
−るのに長時間を費し1、しかも硬化は必ずしも完全で
はなか夕だ。この残った粘着性のために、紙型取りのF
JtC版と紙製用紙とが粘着したり、印刷を行な5!!
N[iYK紙粉が耐着し、目詰りを起したりするな:ど
種々の問題が生じた。特に小さい独立点、細罫線などの
レリーフ面会の体積にくらべて儒藺積の大きい画会は上
述の如き後露光方法では側面を完全硬化させる事が出来
ないために、一層問題が生起していた。更に米国特許第
1L21a1117号1、特公昭45−2316!i号
に示されたような両面露光法により製版を行う場合には
裏面露光によって支持体表面に形成された光硬化性樹脂
の硬化層表面も同様に粘着性が残るため、同様のトラブ
ルが生じる事が多かった。 このため、これを解消するべ〈従来いくつかの方法が試
みられている0例えば、米国特許第&?2L120号、
11i’j:昭52−48845号、特開昭50−42
070号、41開昭53−14&669号等にその方法
が提案されている。特に前3者は液中後露光法に関する
ものである。 例えば、光硬化性樹脂の像形成処理と未露光部の除去処
N(含洗浄処理)後、光硬化性樹脂板のレリーフ面を液
体に浸漬した状態で版面に活性光線を照射する方法であ
る。しかしこの方法では確かに粘着性の程度は低下する
が、未だ粘着性が残っており、必ずしも充分な非粘着化
方法ではない。 又ポリブタジェンやポリイソプレンの様な共役ジエン系
毫ツマ−の重合体を主鎖中に有する可溶性ポリマーを用
いる感光性エラス)w−組成物の場合は、その反応性が
低(゛ため液体中又は不活性ガス中で活性光線を照射し
ても表両の粘着性を除去する事ができない。従ってこの
場合、粘着性除去のだめに亜塩素駿ナトリニウムの塩酸
酸性水溶液を用いる塩素化処理などが行われていた。し
かしこの方法は刺激性の強い薬品を用いるものであり、
且つ有毒な塩素ガスの発生を伴う尋衛生管理上好ましく
ない問題がある。 一方、後者(#開開53−14366号)は水素引き抜
き剤を版画に含浸させ、s o o nm 以下の波長
の光を照射して表面の粘着性を除去する方法であるが、
安全衛生上好ましくない有機溶剤を使用し、さらにこの
有機溶剤によりレリーフがIIIIしたり、水素引き抜
き剤により架橋化されたりするため印刷版の特性が劣化
する等、好ましくない結果を招く。 本発明者は、かかる従来方法の欠点を解消すべく水中で
の後露光方法について鋭意検討した結果、安全衛生上問
題なく、著しく向上した効果をもたらす表面非粘着化法
を見出し本発明に到達した。 即ち本発明はラジカル重合反応性樹脂の硬化物を浸漬液
被覆下露光する事により、その表面粘着性を除去する液
中後露光法にお(・て、轟該浸漬液が、還元11化物及
び/また番1硫黄酸化物の塩を含む水溶液である事を%
黴とする液中後露光法である。 本発明にいうラジカル重合反応性樹脂としては次の如き
組成物をあげることができる。 重合性2型締合を分子中に少なくとも1個以上有するプ
レポリi−及び/又は可溶性ポリミー1必要に応じて熱
又は光重合開始剤、ラジカル重合性不飽和上ツマ−を含
むラジカル重合反応性樹脂組成物で、例えばプレポリマ
ー、可溶性ポリマーとして不飽和ポリエステル、不飽和
ポリウレタン、不飽和エポキシアクリレート、ボリア2
ド、ポリブタジェン、スチレン−ゲタジエン熱可塑性エ
ラストff −、スチレン−イソプレー熱可塑性エラス
ト1−(例えば、特公昭4m−19125号、養分@4
g−8188号、特lll昭41−37521号、特開
昭5l−101is01号等、又熱重合性樹脂組成物と
して特公昭311−14110!1号等)勢をあげる事
ができる。 次に、本実W14に用いる還元性の硫化物、硫黄酸化物
の塩としてはアルカリ金属又はアルカリ土類金属の硫化
物及び亜硫酸、酸性亜硫酸、!!ニチオン酸、チオ引L
メタ重亜硫酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩
が挙げられ、具体的には硫化ソーダ、亜硫酸ソーダ、酸
性亜iI!蒙ソー〆、亜二チオン酸ンーダ、チオ硫酸ソ
ーダ、メタ重亜硫酸ソーダ及びこれらのソーダ塩の代り
のカリ塩、7ンモニエクム塩等があげられる。 本発明に使用する還元性の硫化物、硫黄酸化物の湊度は
高い方が好ましく、aOS重景−より低くなると実質的
効果が少い。一方飽和濃度以上に高くした懸濁状態でも
効果があり、使用上側等さしつかえないが実際上は経済
性及び硫黄化合物特有の臭気性の点より上限の制約を受
けることになる。 本発151IKおける表面の非粘着化方法は前記した如
き特定の水溶液に1熱硬化性樹脂硬化物の空気に触れて
いた粘着性のある表面を浸漬しながら、又光硬化性樹脂
硬化機の場合は、印刷用版材を例にとれば、曹形赦処理
と未露光部の除去処理を行ったレリーフ面(レリーフ側
面及び両面露光法で債形成処理を行った場合は更に非画
曽部表面も粘着性を有している)を浸漬しながら、この
状態で活性光線で露光処理を行う。 この際、レリーフが湿潤状態、一旦乾燥された状態、更
に又乾燥後露光した状態であろうとも、本発明方法の特
定水溶液中で露光処理を行えば、そのレリーフの非粘着
化は同等に可能である。 本発!jIKff用する水には、これ以外に水K11j
鱗する各種液体を加える事ができる。これらの液体とし
てはメタノール、エタノール、エチレングリコール、テ
トラヒドロフラン、アセトン、ジメチルホルム7iド勢
をあげろ事が出来る。 水にこれらの液体を加えた水溶液では、その結果は水単
独の場合と同じであつズ、本発9と同等の目的を達成す
ることはできない。また該水溶液のpH調整等必l!に
応じて苛性ソーダ、:為エタノール71ン等無機物、有
機7ξンを加えてもよい。 本発明方法で、光硬化性樹脂の印刷用版材についていえ
ば、惨形成処理と未露光部の除去処理した光硬化性樹脂
板を後露光する方法は、そのレリーフ面を上述の特定の
水溶液で被覆した状態で版面に活性光線を照射すればよ
−・。この場合に水溶液で被覆した状態とは、光硬化性
樹脂硬化機を水溶液中に埋没した状態だけでなくレリー
フ面だけを水溶液中KJI没した状態、およびレリーフ
面に水溶液を散布湿潤して〜・る状態も含まれる。又版
面に対する活性光線の照射は樹脂層のレリーフ面倒から
行われるか、上述活性光線に対して実質的に透明性を有
する支持体を使用し1製版する場合は、樹脂層の支持体
―から行ってもよい。 本発明に用いられる活性光線源とし曵は、低圧水銀灯、
高圧水銀灯、紫外線螢光灯、カーボン7−り灯、キセノ
ンランプ /N Rグンランプ、太陽党勢をあげる事が
できる。 本発明方法は印刷版材用レリーフの形成K特に有効であ
るが6種のレリーフ両袋(装飾用ディスプレー、ネーム
プレートη)、塗料、コーティング材料分野にも用いる
事かできる。 次に本発明を実施例によりさらに詳細に駅、明する。 合成例1 平均分子量200Gのポリエチレン7ジペート(日本ボ
リクレタン製“ニクボラン5019”)575 F、キ
シリレンレインシアネートIfF。 およびジブチルスズジラクンートα1tを三つロフラス
コに入れ、脅素を囲気下70CK加熱して2時間反応さ
せた。ついで2−ヒドロキシエチル7クリレート4!f
、およびp−メトキシフェノールa03fを加えて更に
2時間反応させた。ついでラウリルメタ7クリレー)l
oOf、!−7セトキシエチルメタアクリレート100
f、テトラデカエチレングリフールジメ7クリレート
100fとベンシイ/エチルエーテル10tを加えよく
攪拌混合し光硬化性樹脂組lL暢を得た。 合成例3 ポリエチレンアジペートの代りに末端基に水酸基を有す
る平均分子量2600のポリブタジェングリコール(日
本W達製Nl5SO−PBG x o o o )5γ
5fを用いる他は合成例1と同様にして光硬化性樹脂組
成物を得た。 合成例3 7マール酸4xsoy、無水トリメリット酸320F、
7ジピン酸730fおよびジエチレングリコールxs*
Qfを窒素雰囲気中100〜200℃で30分間反応し
、更1c210’cK昇温し5時間反応させて、114
2の不飽和ポリエステルを製造した。この不飽和ポリエ
ステル 65p、) リ 7 リ ル ト リ メ
リ ラド − )15f。 テトラエチレングリブールレフクリレート10t1アク
リルアミド10 f、ベンゾインメチルエーテルを!f
及び保存安定剤としてp−メトキシフエ/−ル6011
Pを加えよく混合攪拌して光硬化性樹脂組成物を得た。 合成例4 合成例1で得られた光硬化性樹脂組成物中、ベンゾイン
エチルエーテルの代りにベンゾイルパーオキサイドlO
fを用いた他は同じ組成の熱硬化性樹脂組成物を得た。 実施例1 合成例1〜3で得られた光硬化性樹脂組成物を100J
I+のポリエステルフィルム上K 1 w厚さで塗布し
、ここにt s icw高圧水銀灯士−分間露光した。 得られた光硬化物の表面は着るしい粘着性を有していた
。次に該硬化物を11%硫化ソーダ水溶液、1チメタ重
亜硫酸ソーダ水溶液、1%亜硫酸カリ水溶液に夫々浸漬
し、直ちに同じ(L 5 KW高圧水銀灯で5分間露光
し次いで風乾した。得られた硬化物の表面はいづれの場
合も全く粘着性がなかった。 !i!施例雪 合成例4で得られた熱硬化性樹脂組成物を、3・・μの
鋼板にニーの厚さに塗布し、100C# is分間加
熱して、表面に著るしい粘着性を有する硬化物を得た。 次いで実施例1と同様に1%硫化ソーダ水溶液、1−メ
タ重亜硫酸ソーダ水溶液、!−!硫酸カリ水溶液に夫々
浸漬し、露光した。得られた硬化物の表面は全く粘着性
がなかった。 実施例3 合成例1.3で得られた光硬化性樹脂組成物を用い、次
の方法に工、光重合による露光処理、未露光部の洗浄除
去(合成例1ではりpaセン、合成例3ではx%炭酸ソ
ーダ水溶液を使用)仁0、乾燥を行って凸版印刷用の樹
脂板を得た。 即ち、水平に設置したガラス板上にネガフィルムを置き
、その上に厚さ12#のポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを密着して重ね、更にその上に前記組成物を17
箇の厚さKfi布した。次いでこの組成物の上にリレー
シー17防止層及び接着層を有するals箇のポリエチ
レンテレフタレートフィルムを重ね密着させ、ネガフィ
ルム方向より60W紫外#螢光灯8本を組合わせた光揮
を用いて1o分間露光した。 次いで得られた樹脂板を】−酸性亜硫酸ソーダ水溶液忙
浸漬し、ンリーフ側よりL S KW高圧氷餐灯で5分
間露光した。この結果、しV −7@面の粘着性は除去
され、粘着性に起因する紙粉よごれ岬の印刷上のトラブ
ルは起きず良好な印刷物を与えた。 実施例4 市販の7ンキン用同体版エラスρン■(M−300B。 版厚3m、]!京応化製)を用いて水xFK設置したガ
ラス板上のネガフィルムの上に密着して重ね、ネガフィ
ルムと反対方向より15W紫外線螢光灯8本を組合せた
光gIシ用いて5秒間露光し、次いでネガフィルム方向
より1sw紫外線螢光灯8本を組合せた光源を用いてS
O分間露光した0次いでりHOセ/で未露光部をIkき
風乾した9次に該樹##版を1−1!、il酸ソーダ水
溶液に浸漬し、15W紫外線螢光灯8本を組合せた光源
で、S分間露光した。得られた樹脂板は何勢粘着性のな
いものだった。 実施例5 合成例!で得られた光硬化性樹脂組成物な用いて、実施
例1と同様に処理して、表面に著るしい粘着性のある光
硬化樹脂を得た。次いでこれを各種亜硫酸ソーダの濃度
下で露光を行い次表に示す結果を得た。 表 1 表1より粘着性は亜硫酸ソーダの濃度、後露光時間に依
存し、濃度としてαo5%以上が好ましい。
Claims (1)
- ラジカル重台反応性樹脂の硬化物を浸漬液被覆工露光す
る事により、その表面粘着性を除去水溶液である事を特
徴とする液中後露光法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19446481A JPS5897043A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 液中後露光法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19446481A JPS5897043A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 液中後露光法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5897043A true JPS5897043A (ja) | 1983-06-09 |
Family
ID=16324990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19446481A Pending JPS5897043A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 液中後露光法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5897043A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0154994A2 (en) * | 1984-03-13 | 1985-09-18 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Improved surface tack-free photosensitive resin composition and a method using same |
JPS61120142A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性樹脂版の作成方法 |
US4927741A (en) * | 1986-03-13 | 1990-05-22 | Horsell Graphic Industries Limited | Processing of exposed lithographic printing plates by conducting second exposure under water |
KR100725570B1 (ko) | 2003-02-19 | 2007-06-08 | 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 | 볼록판 인쇄용 수현상성 인쇄판의 제조 방법 |
-
1981
- 1981-12-04 JP JP19446481A patent/JPS5897043A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0154994A2 (en) * | 1984-03-13 | 1985-09-18 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Improved surface tack-free photosensitive resin composition and a method using same |
US4716094A (en) * | 1984-03-13 | 1987-12-29 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition which is improved with respect to surface tack-free characteristic after curing, and a method |
JPS61120142A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性樹脂版の作成方法 |
US4927741A (en) * | 1986-03-13 | 1990-05-22 | Horsell Graphic Industries Limited | Processing of exposed lithographic printing plates by conducting second exposure under water |
KR100725570B1 (ko) | 2003-02-19 | 2007-06-08 | 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 | 볼록판 인쇄용 수현상성 인쇄판의 제조 방법 |
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