JPH029480A - 光硬化被膜を形成する方法 - Google Patents
光硬化被膜を形成する方法Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
- G03F7/0955—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer one of the photosensitive systems comprising a non-macromolecular photopolymerisable compound having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0082—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
Landscapes
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- Paints Or Removers (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、レジストのような光硬化被膜を形成する方法
に関する0本発明は、フォトリングラフィによる描画法
にも関する。
に関する0本発明は、フォトリングラフィによる描画法
にも関する。
[従来の技術]
熱硬化性被膜は硬化させるのに大量のエネルギーを必要
とする。光硬化性被膜は、代表的にはそれらが熱硬化性
被膜より速く硬化するので、処理しやすい、熱硬化を必
要とせずに耐溶剤性光硬化被膜を形成する方法が望まれ
ている。
とする。光硬化性被膜は、代表的にはそれらが熱硬化性
被膜より速く硬化するので、処理しやすい、熱硬化を必
要とせずに耐溶剤性光硬化被膜を形成する方法が望まれ
ている。
光硬化反応系を熱硬化反応系と共に使用する組成物及び
方法が米国特許筒4,479,983号、第3,776
.729号、第4,572,890号、及び4,377
.457号に開示されている。
方法が米国特許筒4,479,983号、第3,776
.729号、第4,572,890号、及び4,377
.457号に開示されている。
米国特許筒3,776.729号には、遊離基反応系の
紫外線硬化の後にエポキシ化合物の熱硬化が行われる画
像形成法が開示されている。熱硬化性遊M基含有物質を
熱硬化させた後、組成物を露光して、光硬化性エポキシ
基含有物質を硬化させ、画像を形成する画像形成法が米
国特許筒4,572.890号に開示されている。
紫外線硬化の後にエポキシ化合物の熱硬化が行われる画
像形成法が開示されている。熱硬化性遊M基含有物質を
熱硬化させた後、組成物を露光して、光硬化性エポキシ
基含有物質を硬化させ、画像を形成する画像形成法が米
国特許筒4,572.890号に開示されている。
遊離基重合性物質及び遊離基光反応開始剤と共にエポキ
シ樹脂及びエポキシ樹脂硬化用光反応開始剤を含有する
光硬化組成物が米国特許筒4.156.035号及びジ
エー・パーキンス(J、 Perkins)のジャーナ
ル・オプ・ラディエーション・’rzアリング(Jou
rnal of Radiation Curing)
、16〜23頁(1981年)に開示されている。これ
らの開示において、エポキシ樹脂及び遊離基重合性物質
とも一種の放射線で露光することによって同時に硬化さ
れる。
シ樹脂及びエポキシ樹脂硬化用光反応開始剤を含有する
光硬化組成物が米国特許筒4.156.035号及びジ
エー・パーキンス(J、 Perkins)のジャーナ
ル・オプ・ラディエーション・’rzアリング(Jou
rnal of Radiation Curing)
、16〜23頁(1981年)に開示されている。これ
らの開示において、エポキシ樹脂及び遊離基重合性物質
とも一種の放射線で露光することによって同時に硬化さ
れる。
ドイツ特許第DE3,516,661号は、光学ガラス
部材を脂環式エポキシド、ビスフェノールAエポキシド
及びアクリル化エポキシドの各モノマーを遊離基及びカ
チオン光反応開始剤と共に含む接着剤組成物を用いて接
着剤を同一光源の放射線で繰り返して露光することによ
って結合する方法を開示している。第一の放射線露光に
よって、ガラス部材を調節して整合できる部分的な硬化
を生じる。適切な整合が成されると、さらに同一の放射
線で露光して、硬化を完了させる。
部材を脂環式エポキシド、ビスフェノールAエポキシド
及びアクリル化エポキシドの各モノマーを遊離基及びカ
チオン光反応開始剤と共に含む接着剤組成物を用いて接
着剤を同一光源の放射線で繰り返して露光することによ
って結合する方法を開示している。第一の放射線露光に
よって、ガラス部材を調節して整合できる部分的な硬化
を生じる。適切な整合が成されると、さらに同一の放射
線で露光して、硬化を完了させる。
感光性反応系を2工程以上で露光する組成物及び方法が
開示されている0例えば、米国特許筒・・1291.1
18号は、ポリエン−ポリチオール系感光性ポリマーを
まず広範囲に露光してから、画像通りに露光して硬化す
る画像形成法を開示している。第二段階で露光されない
部分を溶剤によって除去する。
開示されている0例えば、米国特許筒・・1291.1
18号は、ポリエン−ポリチオール系感光性ポリマーを
まず広範囲に露光してから、画像通りに露光して硬化す
る画像形成法を開示している。第二段階で露光されない
部分を溶剤によって除去する。
米国特許筒4,416,975号は、光反応開始剤の作
用に異なる感受性を有する2種類の二重結合を有する化
合物を含有する組成物を18類の放射線を用いて2段階
で硬化する方法を開示している。第一の放射線露光時間
は、1種類の二重結合だけが反応するように調節される
。第二の露光はより長い時間を掛けるらのであり、他方
の二重結合の反応を開始させる。
用に異なる感受性を有する2種類の二重結合を有する化
合物を含有する組成物を18類の放射線を用いて2段階
で硬化する方法を開示している。第一の放射線露光時間
は、1種類の二重結合だけが反応するように調節される
。第二の露光はより長い時間を掛けるらのであり、他方
の二重結合の反応を開始させる。
米国特許第4,411.931号及び第4,313.9
69号は、異なる波長の放射線による多段露光を用い、
厚いフィルム又は充填剤入り被膜を硬化する際に表面め
組繊をMJJ lする方法を開示している。これらの方
法は、異なる波長の放射線を使用し、被膜の硬化深さを
継続露光で調節している。被膜の下部を一方の放射線で
の露光によって硬化し、被膜の表面を別の波長の放射線
での露光によって硬化する。
69号は、異なる波長の放射線による多段露光を用い、
厚いフィルム又は充填剤入り被膜を硬化する際に表面め
組繊をMJJ lする方法を開示している。これらの方
法は、異なる波長の放射線を使用し、被膜の硬化深さを
継続露光で調節している。被膜の下部を一方の放射線で
の露光によって硬化し、被膜の表面を別の波長の放射線
での露光によって硬化する。
[発明が解決しようとする課題]
本発明の目的は、熱硬化を必要とせずに基体上に硬化被
膜を形成する方法を提供することにある。
膜を形成する方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、強靭な耐忍刑性被膜を形成する方
法を提供することにある。
法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、第一の所望の程度の反応と
して修復可能な被膜を形成するような方法を提供するこ
とにある。
して修復可能な被膜を形成するような方法を提供するこ
とにある。
本発明のなおさらに他の目的は、硬化被膜の画f象を形
成する方法を提供することにある。
成する方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、第一の反応系及び第二の反応系を含む組成物
を基体上に被膜として付着させることがら成る2段階化
学線硬化でもって光硬化被膜を形成する方法を提供する
。
を基体上に被膜として付着させることがら成る2段階化
学線硬化でもって光硬化被膜を形成する方法を提供する
。
第一の反応系は遊離基重合性物質及び遊M基光反応開始
剤を含む、第二の反応系はカチオン重合性エポキシ樹脂
及びカチオン光反応開始剤を含んでいる。
剤を含む、第二の反応系はカチオン重合性エポキシ樹脂
及びカチオン光反応開始剤を含んでいる。
第一の露光段階において、被膜の全部又は一部を第一の
化学線で露光し、一方の反応系の反応を開始させる。こ
の第一の露光段階の後、被膜の全部又は一部を第一の化
学線とは別の第二の化学線で露光し、他方の反応系の反
応を開始させる第二の露光段階に入る6本発明は、画像
形成法ら提供する。
化学線で露光し、一方の反応系の反応を開始させる。こ
の第一の露光段階の後、被膜の全部又は一部を第一の化
学線とは別の第二の化学線で露光し、他方の反応系の反
応を開始させる第二の露光段階に入る6本発明は、画像
形成法ら提供する。
第一及び第二の化学線は別個のものであることに注意す
べきである。第二の化学線は第一の化学線に存在しない
波長を有している。第一の化学線は反応系の一方の光反
応開始剤を活性化する波長の光を有効量では含んでいな
い、第二の化学線はこれらの波長の光を有効量で含んで
いる。
べきである。第二の化学線は第一の化学線に存在しない
波長を有している。第一の化学線は反応系の一方の光反
応開始剤を活性化する波長の光を有効量では含んでいな
い、第二の化学線はこれらの波長の光を有効量で含んで
いる。
−実施!g機において、遊M基重合を第一の化学線露光
段階で開始し、遊離基重合性物質又はエボキン(支)脂
の実質的に架橋されることのない熱可塑ii?I!!、
膜を形成する。この熱可塑性液[(8段階)を引き続き
第二の紫外線露光段階で広域露光し、又はフォトリング
ラフィによって描画して、基体表面上に熱硬化性架橋画
像を形成する。
段階で開始し、遊離基重合性物質又はエボキン(支)脂
の実質的に架橋されることのない熱可塑ii?I!!、
膜を形成する。この熱可塑性液[(8段階)を引き続き
第二の紫外線露光段階で広域露光し、又はフォトリング
ラフィによって描画して、基体表面上に熱硬化性架橋画
像を形成する。
他の実施態様において、第一の化学線露光段1智でフィ
ルターを使用し、塗布液の硬化を制御しかつ架橋反応を
実質的に阻止する。フィルターは塗布液が一方の反応系
の反応を開始する波長の化学線で露光されるのを防ぐ。
ルターを使用し、塗布液の硬化を制御しかつ架橋反応を
実質的に阻止する。フィルターは塗布液が一方の反応系
の反応を開始する波長の化学線で露光されるのを防ぐ。
本明細書で使用する用語、「実質的なJ、「広範なJ及
び「かなりの」架橋とは、基体から重合体被膜の一部を
処理、除去するのを妨げることによって画像形成のよう
な重合体被膜の後続操作を妨害する架橋の範囲又は程度
に関して言う。
び「かなりの」架橋とは、基体から重合体被膜の一部を
処理、除去するのを妨げることによって画像形成のよう
な重合体被膜の後続操作を妨害する架橋の範囲又は程度
に関して言う。
[発明の構成及び作用]
に座反照通
第−の反応系は遊離基重合性物質及び遊M基光反応開始
剤から成っている。
剤から成っている。
m里皇丘上1
本発明で使用される遊離基重合性物質の例としては、多
官能性ビニルオリゴマー類、単官能性とニルモノマー類
及び多官能性とニルモノマー類がある。
官能性ビニルオリゴマー類、単官能性とニルモノマー類
及び多官能性とニルモノマー類がある。
−性ビニルオリゴマー
本明細8において「多官能性ビニルオリゴマーJとは、
光重合することができる2つ以上の二重結合を有する比
較的低分子量の物質のことを言う。
光重合することができる2つ以上の二重結合を有する比
較的低分子量の物質のことを言う。
オリゴマーとは、幾つかのモノマーから成る比較的低分
子量の物質と本明細書では定義する。オリゴマー類は一
般に室温で液体である。
子量の物質と本明細書では定義する。オリゴマー類は一
般に室温で液体である。
適切な多官能性ビニルオリゴマーとしては、(メタ)ア
クリレート官能基を付与したポリエーテル類、(メタ)
アクリレートを末端基とするポリエステル類、末端ビニ
ル不飽和結合を有するポリエステル類等がある。適切な
多官能性ビニルオリゴマーの具体例には、ポリ(エチレ
ンオキシド)ポリオールのジアクリル酸エステル類及び
アクリル化ビスフェノールAのようなアクリル化エポキ
シ化合物類がある。
クリレート官能基を付与したポリエーテル類、(メタ)
アクリレートを末端基とするポリエステル類、末端ビニ
ル不飽和結合を有するポリエステル類等がある。適切な
多官能性ビニルオリゴマーの具体例には、ポリ(エチレ
ンオキシド)ポリオールのジアクリル酸エステル類及び
アクリル化ビスフェノールAのようなアクリル化エポキ
シ化合物類がある。
多官能性ビニルオリゴマーは一般に多官能性とニルモノ
マーより低い官能性を示し、かつ第一の露光段階中に重
合体被膜に架橋を生じさせる傾向が少ない、被膜が第一
の露光中に実質的に又はかなり架橋されるならば、これ
によって、重合体被膜に画像を形成することが妨害され
る。100g当り約0.3当量以下の官能価を有する多
官能性ビニルオリゴマー類が好ましい。
マーより低い官能性を示し、かつ第一の露光段階中に重
合体被膜に架橋を生じさせる傾向が少ない、被膜が第一
の露光中に実質的に又はかなり架橋されるならば、これ
によって、重合体被膜に画像を形成することが妨害され
る。100g当り約0.3当量以下の官能価を有する多
官能性ビニルオリゴマー類が好ましい。
100g当り約0.3当量より高い官能価を有する多官
能性ビニルオリゴマー類も約25重量%未満の濃度で感
光性塗布組成物に使用することができる。
能性ビニルオリゴマー類も約25重量%未満の濃度で感
光性塗布組成物に使用することができる。
有用な多官能性オリゴマーの例としては、モートン・チ
オコール社(Horton Th1okol Inc、
)製のアクリル化つレタ:/ rUvithane 7
83J (商標)及びセラニーズ・スベシャリティ・レ
ジン社(Cclancse 5peciality l
1esin Co、)製のビスフェノールAエポキシ樹
脂のアクリル化エステルrcelrad3700、
(商標)がある、100g当り約0.17〜約0,21
当量の官能価を有するUvithane 783は最も
好ましい多官能性ビニルオリゴマーである。
オコール社(Horton Th1okol Inc、
)製のアクリル化つレタ:/ rUvithane 7
83J (商標)及びセラニーズ・スベシャリティ・レ
ジン社(Cclancse 5peciality l
1esin Co、)製のビスフェノールAエポキシ樹
脂のアクリル化エステルrcelrad3700、
(商標)がある、100g当り約0.17〜約0,21
当量の官能価を有するUvithane 783は最も
好ましい多官能性ビニルオリゴマーである。
ビニルモノマー
本明細書において[多官能性とニルモノマー」とは、例
えば、単一のベンゼン環、二価もしくは多価アルコール
又は酸等のような低分子量分子に結合した2つ以上の非
共役ビニル基を有するモノマーのことを言う、Wi切な
多官能性とニルモノマーの例としては、ジビニルベンゼ
ン、アジピン酸ジビニル、トリメチロールグロパントリ
アクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート等があ
る。
えば、単一のベンゼン環、二価もしくは多価アルコール
又は酸等のような低分子量分子に結合した2つ以上の非
共役ビニル基を有するモノマーのことを言う、Wi切な
多官能性とニルモノマーの例としては、ジビニルベンゼ
ン、アジピン酸ジビニル、トリメチロールグロパントリ
アクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート等があ
る。
多官能性ビニルモノマー類は典型的に100g当り0.
3当量より高い官能価を有している。多官能性とニルモ
ノマー類が高い割合で存在するならば、被膜は遊離基重
合中にかなり架橋させられる。従って、第一の化学線露
光段階で遊離基重合・1¥IA質の反応を開始するプロ
セスにおいて、多官能性とニルモノマーは塗布組成物の
約25重厘%未満に相当するのが好ましい、多官能性と
ニルモノマー及び100g当り0.3当量より高い官能
価を有する多官能性オリゴマーの両方が存在する場合、
それらの合計量は全組成物の約25重量%未満であるべ
きである。
3当量より高い官能価を有している。多官能性とニルモ
ノマー類が高い割合で存在するならば、被膜は遊離基重
合中にかなり架橋させられる。従って、第一の化学線露
光段階で遊離基重合・1¥IA質の反応を開始するプロ
セスにおいて、多官能性とニルモノマーは塗布組成物の
約25重厘%未満に相当するのが好ましい、多官能性と
ニルモノマー及び100g当り0.3当量より高い官能
価を有する多官能性オリゴマーの両方が存在する場合、
それらの合計量は全組成物の約25重量%未満であるべ
きである。
U″ゞ性とニルモノマー
本明i!lll書において「単官能性とニルモノマー」
とは、遊^を基開始反応に反応する唯一の炭素−炭素二
重結合を存するビニルモノマーのことを言う。
とは、遊^を基開始反応に反応する唯一の炭素−炭素二
重結合を存するビニルモノマーのことを言う。
単官能性ビニルモノマーの1例としては、スチレン、α
−メチルスチレン、核置換スチレン類、ビニルエステル
類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリルオキシプロピオン酸、アク
リル酸シクロヘキシル及びメタクリル酸シクロヘキシル
がある。アクリル酸、メタクリル酸及びアクリルオキシ
プロピオン酸のエステル票、アクリルアミド及びメタク
リルアミド並びにアクリル酸ボルニル、アクリル酸フェ
ンチル、アクリル酸ジシクロペンチルオキシエチル及び
メタクリル酸ジシクロペンチルオキシエチルのような環
式及び二環式エステルモノマー類も使用することができ
る。その様な単官能性とニルモノマーの官能性を付与し
た誘導体、例えば、アクリル酸ヒドロキシプロピル、ア
クリル酸アルコキシアルキル類等ら単官能性ビニルモノ
マーとして使用することができる。
−メチルスチレン、核置換スチレン類、ビニルエステル
類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリルオキシプロピオン酸、アク
リル酸シクロヘキシル及びメタクリル酸シクロヘキシル
がある。アクリル酸、メタクリル酸及びアクリルオキシ
プロピオン酸のエステル票、アクリルアミド及びメタク
リルアミド並びにアクリル酸ボルニル、アクリル酸フェ
ンチル、アクリル酸ジシクロペンチルオキシエチル及び
メタクリル酸ジシクロペンチルオキシエチルのような環
式及び二環式エステルモノマー類も使用することができ
る。その様な単官能性とニルモノマーの官能性を付与し
た誘導体、例えば、アクリル酸ヒドロキシプロピル、ア
クリル酸アルコキシアルキル類等ら単官能性ビニルモノ
マーとして使用することができる。
健康上及び気化による最終塗布組成物からの該物質の損
失を防止するので、硬化条件下に揮発し。
失を防止するので、硬化条件下に揮発し。
ない単官能性ビニルモノマー類が好ましい。化で、1線
で露光する際に急激に硬化するモノマー類も好ましい、
単官能性とニルモノマーの揮発限界はプロセスで使用す
る所望の硬化温度、硬化に際して放出される熱の量及び
被膜の厚さに直接関係する。
で露光する際に急激に硬化するモノマー類も好ましい、
単官能性とニルモノマーの揮発限界はプロセスで使用す
る所望の硬化温度、硬化に際して放出される熱の量及び
被膜の厚さに直接関係する。
少なくとも約150℃の沸点を有する単官能性ビニルモ
ノマー類をpJ!mするのが好ましいが、約150℃以
下の沸点を有する単官能性とニルモノマーを重大な悪影
響を及ぼすこと無く少量成分として使用することができ
る。
ノマー類をpJ!mするのが好ましいが、約150℃以
下の沸点を有する単官能性とニルモノマーを重大な悪影
響を及ぼすこと無く少量成分として使用することができ
る。
好ましい単官能性とニルモノマーにはアクリル酸及びメ
タクリル酸エステル間がある。得られる重合体が2段階
硬化を終了した後でさえも湿り雰囲気中で膨潤しうるの
で、酸系モノマーのような親水性単官能性とニルモノマ
ーは余り好ましくない。
タクリル酸エステル間がある。得られる重合体が2段階
硬化を終了した後でさえも湿り雰囲気中で膨潤しうるの
で、酸系モノマーのような親水性単官能性とニルモノマ
ーは余り好ましくない。
液状感光性組成物に有用な特に好ましい単官能性ビニル
コモノマーはr Tone H−100J (商標、
ユニオン・カーバイド社製)のようなカプロラクトンア
クリル酸である。このモノマーは1〜10単位のカプロ
ラクトンを有する(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル
付加物と米国特許第4.525258号に記載されてい
る。 Tone H−100は他のとニルモノマー類と
の共重合用の官能アクリレート基及びエポキシド類との
反応用の官能水酸基を有している。従って、Tone
H−100はビニル重合した多官能性ビニルオリゴマー
とエポキシ樹脂とを結合させる。さらに、Tone t
4−100は液状感光性組成物中で、例えば、アクリル
酸インボルニルのような他のとニルモノマー又はオリゴ
マーをエポキシ樹脂と相客化させることが判った。この
ような相溶化作用を有する単官能性とニルモノマーが存
在しない場合、液状感光性組成物成物は静置している間
に相分離するので、使用前に再度混合する必要がある。
コモノマーはr Tone H−100J (商標、
ユニオン・カーバイド社製)のようなカプロラクトンア
クリル酸である。このモノマーは1〜10単位のカプロ
ラクトンを有する(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル
付加物と米国特許第4.525258号に記載されてい
る。 Tone H−100は他のとニルモノマー類と
の共重合用の官能アクリレート基及びエポキシド類との
反応用の官能水酸基を有している。従って、Tone
H−100はビニル重合した多官能性ビニルオリゴマー
とエポキシ樹脂とを結合させる。さらに、Tone t
4−100は液状感光性組成物中で、例えば、アクリル
酸インボルニルのような他のとニルモノマー又はオリゴ
マーをエポキシ樹脂と相客化させることが判った。この
ような相溶化作用を有する単官能性とニルモノマーが存
在しない場合、液状感光性組成物成物は静置している間
に相分離するので、使用前に再度混合する必要がある。
Tone H−100は、感光性塗布組成物を半田マ
スクとして使用する場合に特に必要である基本(即ち、
#;J)への重合体被膜の接着を手助けすることも判っ
た。特定の最終用途に組成物を選択する際に、感光性被
膜の接着性を向上させるためにTone H−100の
量を増大することはI!に終架vi1重合体の耐引掻性
を低下するかもしれないことに留意すべきである。
スクとして使用する場合に特に必要である基本(即ち、
#;J)への重合体被膜の接着を手助けすることも判っ
た。特定の最終用途に組成物を選択する際に、感光性被
膜の接着性を向上させるためにTone H−100の
量を増大することはI!に終架vi1重合体の耐引掻性
を低下するかもしれないことに留意すべきである。
単官能性とニルモノマー反応物から生成された重合体は
紫外線で露光される際にある程度架橋するかもしれない
、この部分架橋はB段階硬化には望ましくないが、現像
剤を用いて表面から除去することができない過度の架橋
被膜を形成しない限り、許容することができる。この部
分架橋は連摂移動の結果であると一般に考えられ、側鎖
に付加部位を有する高沸点モノマーを用いた場合により
票著になる。紫外線で露光する場合に、予想外にも液状
組成物中で過度の架橋反応に巻き込まれないので、アク
リル酸インボルニル(IBOA)は好ましい単官能性と
ニルモノマーである。fk終披被膜硬度を変えるために
、アクリル酸インボルニルをメタクリル酸インボルニル
と共に使用することができる。
紫外線で露光される際にある程度架橋するかもしれない
、この部分架橋はB段階硬化には望ましくないが、現像
剤を用いて表面から除去することができない過度の架橋
被膜を形成しない限り、許容することができる。この部
分架橋は連摂移動の結果であると一般に考えられ、側鎖
に付加部位を有する高沸点モノマーを用いた場合により
票著になる。紫外線で露光する場合に、予想外にも液状
組成物中で過度の架橋反応に巻き込まれないので、アク
リル酸インボルニル(IBOA)は好ましい単官能性と
ニルモノマーである。fk終披被膜硬度を変えるために
、アクリル酸インボルニルをメタクリル酸インボルニル
と共に使用することができる。
遊 基型ム の′PA
遊離基重合性物質は一般に全組成物の約10〜約80重
量%含まれる6通常、遊離基重合性物質は全組成物の約
20〜約70重量%である。遊離基重合性物質は全組成
物の約30〜約60重量%であるのが好ましい。
量%含まれる6通常、遊離基重合性物質は全組成物の約
20〜約70重量%である。遊離基重合性物質は全組成
物の約30〜約60重量%であるのが好ましい。
遊離基重合性物質の中のそれぞれの成分の相対比は広範
に変えることができる。
に変えることができる。
単官能性ビニルモノマー又は多官能性ビニルオリゴマー
はそれぞれそれだけで遊離基重合性物質を構成すること
ができる。通常、遊離基重合性物質は多官能性ビニルオ
リゴマー及び単官能性とニルモノマーの両方を含む、こ
れらの2成分の混合物はこれら2成分の利点をうまく均
衡している。
はそれぞれそれだけで遊離基重合性物質を構成すること
ができる。通常、遊離基重合性物質は多官能性ビニルオ
リゴマー及び単官能性とニルモノマーの両方を含む、こ
れらの2成分の混合物はこれら2成分の利点をうまく均
衡している。
オリゴマー類は組成物の粘度を調整し、粘度がある種の
技術に使用するには薄くなり過ぎるのを防止する。単独
で使用する場合は、多官能性ビニルオリゴマー類は活量
になり過ぎがちである* IIL官能性ビニルモノマー
が存在することによって、粘度が低下され、加熱する必
要なく組成物を混すすることが可能となる。オリゴマー
はエポキシ樹脂との相客化にも助成し、かつ周知のゲル
効果[アール・ダブリュ・レンズ(R,賛、 tenz
)、「オーガニック・ゲミストリー・オブ・シンセティ
ック・バイポリマー」、インターサイエンス出版、ニュ
ーヨーク、356〜359頁(1967年)コによって
ビニル基の重合速度を上昇することもできる。オリゴマ
ーは重合体の基体表面への接着を助成することもできる
。
技術に使用するには薄くなり過ぎるのを防止する。単独
で使用する場合は、多官能性ビニルオリゴマー類は活量
になり過ぎがちである* IIL官能性ビニルモノマー
が存在することによって、粘度が低下され、加熱する必
要なく組成物を混すすることが可能となる。オリゴマー
はエポキシ樹脂との相客化にも助成し、かつ周知のゲル
効果[アール・ダブリュ・レンズ(R,賛、 tenz
)、「オーガニック・ゲミストリー・オブ・シンセティ
ック・バイポリマー」、インターサイエンス出版、ニュ
ーヨーク、356〜359頁(1967年)コによって
ビニル基の重合速度を上昇することもできる。オリゴマ
ーは重合体の基体表面への接着を助成することもできる
。
以下に述べる濃度はエポキシ樹脂及び光反応開始剤類を
含む全感光性塗布組成物100部当りのオリゴマー又は
モノマーの量に関するものである。
含む全感光性塗布組成物100部当りのオリゴマー又は
モノマーの量に関するものである。
100g当り約0.3当量未満の官能価を有する多官能
性ビニルオリゴマーの好ましい量は全組成物の約5〜約
35重量%である。単官能性とニルモノマーの好ましい
量は全組成物の約12〜約70重厘%である。
性ビニルオリゴマーの好ましい量は全組成物の約5〜約
35重量%である。単官能性とニルモノマーの好ましい
量は全組成物の約12〜約70重厘%である。
100g当り約0.3当址より高い官能価を有する多官
能性ビニルオリゴマーと多官能性とニルモノマーとの合
計量は一般に全組成物の約0〜約25重景%、好ましく
は約5重量%未満である。
能性ビニルオリゴマーと多官能性とニルモノマーとの合
計量は一般に全組成物の約0〜約25重景%、好ましく
は約5重量%未満である。
第二の 系:エポキシ
第二の反応系はエポキシ樹脂を含んでいる0本発明に有
用なエポキシ樹脂は2つの反応性エポキシ基を有する低
分子量分子からさらに反応に利用できる2、3.4又は
それ以上のエポキシ基を有する高分子量のオリゴマーに
まで及ぶ、所望によっては、2種以上のエポキシ樹脂を
使用することができる。約3〜約4の官能価(1分子当
りのエポキシ官能基の平均数)及び約160〜約230
のエポキシ当量を有する樹脂が好ましい。
用なエポキシ樹脂は2つの反応性エポキシ基を有する低
分子量分子からさらに反応に利用できる2、3.4又は
それ以上のエポキシ基を有する高分子量のオリゴマーに
まで及ぶ、所望によっては、2種以上のエポキシ樹脂を
使用することができる。約3〜約4の官能価(1分子当
りのエポキシ官能基の平均数)及び約160〜約230
のエポキシ当量を有する樹脂が好ましい。
最も好ましいエポキシ樹脂は176〜181のエポキシ
当量及び3.6の官能価を有するエポキシノボラック樹
脂である。このような物質はり、E、N、 43gとし
てダウ・ケミカル社によって供給されている。D、ε、
s、431のようなり、ε、N、 438より低い官能
価(3,6に対して2.2の官能価)のエポキシノボラ
ック樹脂(より低い分子量を有する)はり、ε、N、
438はど第二の露光段階後の耐溶剤性がよくない、官
能価がより高いエポキシノボラック樹脂はアクリル酸イ
ンボルニルのようなモノマー類との相容性が低く、従っ
て液状組成物は2相に分離する危険性がより大きい。
当量及び3.6の官能価を有するエポキシノボラック樹
脂である。このような物質はり、E、N、 43gとし
てダウ・ケミカル社によって供給されている。D、ε、
s、431のようなり、ε、N、 438より低い官能
価(3,6に対して2.2の官能価)のエポキシノボラ
ック樹脂(より低い分子量を有する)はり、ε、N、
438はど第二の露光段階後の耐溶剤性がよくない、官
能価がより高いエポキシノボラック樹脂はアクリル酸イ
ンボルニルのようなモノマー類との相容性が低く、従っ
て液状組成物は2相に分離する危険性がより大きい。
トリス(ヒドロキシフェニル)メタン異性体のトリグリ
シジルエーテル及びその高級オリゴマーから成るダウ社
から得られる2種のエポキシ樹脂、Tact+x 74
2 (zボキシ当量:162)及びXD 9053.0
1 (エポキシ当量: 220)も好ましい。
シジルエーテル及びその高級オリゴマーから成るダウ社
から得られる2種のエポキシ樹脂、Tact+x 74
2 (zボキシ当量:162)及びXD 9053.0
1 (エポキシ当量: 220)も好ましい。
3.4−エポキシシクロヘキシルメチル−3゜4−エポ
キシシクロヘキサンカルボン酸のような脂環式エポキシ
ド顕、Cyracure UVR−6100、Cyra
cure (IVR−6ttO及びERL−4221(
全てユニオン・カーバイド社製)は以下に説明するゼネ
ラル・エラグトリック社のUVE−1014のような反
応開始剤による硬化に際し最も反応するエポキシ樹脂で
あると−mに考えられいる。しかしながら、脂環式エポ
キシド類は、第一の化学線露光後に粘着が一層強くなる
ので、本発明の方法には余り好ましくない。
キシシクロヘキサンカルボン酸のような脂環式エポキシ
ド顕、Cyracure UVR−6100、Cyra
cure (IVR−6ttO及びERL−4221(
全てユニオン・カーバイド社製)は以下に説明するゼネ
ラル・エラグトリック社のUVE−1014のような反
応開始剤による硬化に際し最も反応するエポキシ樹脂で
あると−mに考えられいる。しかしながら、脂環式エポ
キシド類は、第一の化学線露光後に粘着が一層強くなる
ので、本発明の方法には余り好ましくない。
照射を強くすれば粘着を無くすことができるが、溶剤に
よる現像がより困難になる。
よる現像がより困難になる。
脂環式エポキシド及びエポキシノボラック樹脂と同様に
カチオン開始反応によって硬化しないので、ビスフェノ
ールAのジグリシジルエーテル類らなおさら好ましくな
い。
カチオン開始反応によって硬化しないので、ビスフェノ
ールAのジグリシジルエーテル類らなおさら好ましくな
い。
エポキシ樹脂成分は全組成物の約20〜約80重量%、
好ましくは約25〜約40重量%の呈で存在する。
好ましくは約25〜約40重量%の呈で存在する。
L叉夏皿監1
本発明の感光性組成物に使用される光反応開始剤は遊離
基光反応開始剤及びカチオン光反応開始剤であり、少な
くとも1種の遊離基光反応開始剤及び少なくとも1種の
カチオン光反応開始剤を使用する必要がある。
基光反応開始剤及びカチオン光反応開始剤であり、少な
くとも1種の遊離基光反応開始剤及び少なくとも1種の
カチオン光反応開始剤を使用する必要がある。
これらの光反応開始剤は、一方の反応系だけがある種の
限定された波長の化学線に効果的に反応するように選択
される。
限定された波長の化学線に効果的に反応するように選択
される。
これらの反応開始剤が反応する波長を示して広範な光反
応開始剤が文献に羅列されている。与えられた光反応開
始剤に関し、有効波長が文献から容易に得られない場合
、その開始剤の分光吸光度を調べることによってそれら
の波長を決定することができる。
応開始剤が文献に羅列されている。与えられた光反応開
始剤に関し、有効波長が文献から容易に得られない場合
、その開始剤の分光吸光度を調べることによってそれら
の波長を決定することができる。
種々の光源によって放射される化学線の波長も判ってい
る。従って、ある波長の化学線の放射源を選択しかつ一
方の反応系だけがその放射源によって効果的に反応を開
始させられるように光反応開始剤を選択することができ
る。
る。従って、ある波長の化学線の放射源を選択しかつ一
方の反応系だけがその放射源によって効果的に反応を開
始させられるように光反応開始剤を選択することができ
る。
遊離基光反応開始剤は紫外線を吸収すること及び遊離基
を発生ずることの両方ができねばならない、遊離基光反
応開始剤は紫外線を吸収する際に遊落基に分解するが又
は遊離基を組成物中の他の物質に生成させるかのいずれ
かによって伴用する。
を発生ずることの両方ができねばならない、遊離基光反
応開始剤は紫外線を吸収する際に遊落基に分解するが又
は遊離基を組成物中の他の物質に生成させるかのいずれ
かによって伴用する。
紫外線感受性遊離基光反応開始剤は周知でありかつ市販
されている。チバーガイギーCorp、によってr I
rgacure 184J (商標)の名で製造され
ている1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルゲトン及
びr Irgacureθ51J(商標)の名で製造さ
れている2、2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノンの同量混合物は本発明の液状感光性組成物の遊離基
光反応開始剤として特に効果的である。
されている。チバーガイギーCorp、によってr I
rgacure 184J (商標)の名で製造され
ている1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルゲトン及
びr Irgacureθ51J(商標)の名で製造さ
れている2、2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノンの同量混合物は本発明の液状感光性組成物の遊離基
光反応開始剤として特に効果的である。
遊離基光反応開始剤は全組成物100重量部当り約1〜
約10重量部、好ましくは約3〜約5重量部の量で組成
物中に存在すべきである。好ましい実施Raにおいて、
遊離基光反応開始剤はある波長、好ましくは340 n
m以上の紫外線を吸収する。
約10重量部、好ましくは約3〜約5重量部の量で組成
物中に存在すべきである。好ましい実施Raにおいて、
遊離基光反応開始剤はある波長、好ましくは340 n
m以上の紫外線を吸収する。
遊離基開始反応段階で使用した波長の紫外線をほとんど
吸収しないカチオン光反応開始剤を遊離基光反応開始剤
と併用し、エポキシ樹脂開始反応段階中に感光性被膜の
エポキシ架橋反応を開始させる。効果的なカチオン光反
応開始剤はゼネラル・エレクトリック社のUVE−10
14及びユニオン、カーバイド社のCyracure
IJVI−6974のようなトリアリールスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート;ゼイ・ラル・エレクト
リック社のυVE−1016及びユニオン・カーバイド
社のCyracura UVl−6990及び3Mカン
パニーのFC−512のようなトリアリールスルホニウ
ムへキサフlレンrロホスフェート:及び3Mカンパニ
ーのFC−509のようなジアリールヨードニウム塩が
ある。360nm以上の波長の紫外線を吸収しなイノで
、tlVE−10111及びUVl−6974が好まし
いことを見出だした。カチオン光反応開始剤又はカチオ
ン光反応開始剤混合物は感光性塗布組成物100重量部
当り約0.8〜約8重Jl、好ましくは約3〜約5重量
部の濃度で存在する。
吸収しないカチオン光反応開始剤を遊離基光反応開始剤
と併用し、エポキシ樹脂開始反応段階中に感光性被膜の
エポキシ架橋反応を開始させる。効果的なカチオン光反
応開始剤はゼネラル・エレクトリック社のUVE−10
14及びユニオン、カーバイド社のCyracure
IJVI−6974のようなトリアリールスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート;ゼイ・ラル・エレクト
リック社のυVE−1016及びユニオン・カーバイド
社のCyracura UVl−6990及び3Mカン
パニーのFC−512のようなトリアリールスルホニウ
ムへキサフlレンrロホスフェート:及び3Mカンパニ
ーのFC−509のようなジアリールヨードニウム塩が
ある。360nm以上の波長の紫外線を吸収しなイノで
、tlVE−10111及びUVl−6974が好まし
いことを見出だした。カチオン光反応開始剤又はカチオ
ン光反応開始剤混合物は感光性塗布組成物100重量部
当り約0.8〜約8重Jl、好ましくは約3〜約5重量
部の濃度で存在する。
置皿1
本発明の感光性塗布組成物は、例えばタクルのような充
填剤等の他の種々の添加剤を含有して、コストを下げか
つ被膜の収縮の程度を抑えることができる。これらの添
加剤は代表的には全組成物の約10〜約40重量%、好
ましくは約10〜約30重量%の量で使用される。顔料
又は染料を組成物に使用して、重合体被膜を基体上で視
覚的に見分けることらできる。これらの8JII料又は
染料は代表的には約0.2〜約2重量%の濃度で存在す
る。
填剤等の他の種々の添加剤を含有して、コストを下げか
つ被膜の収縮の程度を抑えることができる。これらの添
加剤は代表的には全組成物の約10〜約40重量%、好
ましくは約10〜約30重量%の量で使用される。顔料
又は染料を組成物に使用して、重合体被膜を基体上で視
覚的に見分けることらできる。これらの8JII料又は
染料は代表的には約0.2〜約2重量%の濃度で存在す
る。
監ヱ韮
本発明の方法は塗布組成物を硬化するのに化学線を利用
する。一般に、紫外線が好ましい、紫外線は電磁波スペ
クトルの約200〜約400nteの波長を有する部分
である。紫外線の適切な放射源はカーボンアーク灯、水
銀灯、紫外線放射螢光体を有する蛍光灯、アルゴン及び
キセノングローランプ、タングステンランプ、撮影用ラ
ングである。
する。一般に、紫外線が好ましい、紫外線は電磁波スペ
クトルの約200〜約400nteの波長を有する部分
である。紫外線の適切な放射源はカーボンアーク灯、水
銀灯、紫外線放射螢光体を有する蛍光灯、アルゴン及び
キセノングローランプ、タングステンランプ、撮影用ラ
ングである。
水銀灯が好ましい。
好ましい実施態様において、フィルターを第一の化学線
露光H附で使用して、一方の反応系の反応を開始させる
波長の有効量の光が透過するのを防止する。
露光H附で使用して、一方の反応系の反応を開始させる
波長の有効量の光が透過するのを防止する。
フィルターの特定の波長遮断点は一定のプロセス用に選
択された遊′M基及びカチオン光反応開始剤の反応開始
波長と一致させねばならない0本明IIfl書で説明す
る実施例に関しては、340 nmの波長遮断点を有す
るフィルターを使用した。これは好ましいと思われる。
択された遊′M基及びカチオン光反応開始剤の反応開始
波長と一致させねばならない0本明IIfl書で説明す
る実施例に関しては、340 nmの波長遮断点を有す
るフィルターを使用した。これは好ましいと思われる。
適切なフィルターは光学用具店から得られるものから選
択してもよいし、また所望の遮断点より短い波長の化学
線の透過を阻止するように選択された紫外線吸収剤を含
む光学的に透明な重合体のフィルム又は流延品を調製す
ることによって製造することもできる0例えば、適切な
紫外線吸収剤には、置換ベンゾフェノン類、ベンゾトリ
アゾール類、ジフェニルシアノアクリレート頚、ヒンダ
ードアミン類等がある。これらの物質はスペクトル特性
を知られており、有用なフィルターをそれらから容易に
製造することができる。
択してもよいし、また所望の遮断点より短い波長の化学
線の透過を阻止するように選択された紫外線吸収剤を含
む光学的に透明な重合体のフィルム又は流延品を調製す
ることによって製造することもできる0例えば、適切な
紫外線吸収剤には、置換ベンゾフェノン類、ベンゾトリ
アゾール類、ジフェニルシアノアクリレート頚、ヒンダ
ードアミン類等がある。これらの物質はスペクトル特性
を知られており、有用なフィルターをそれらから容易に
製造することができる。
あるいはまた、第−段階硬化を、356nmのピーク発
光波長を有する300〜420nmの狭い波長バンドの
化学線を放射する1つ又はそれ以上の5ylvania
F−20712−BLBラングのような狭イスベク
トル放射を示す光源に暴露することによって達成するこ
とができる。明らかなように、「狭いバンド」の光を放
射する紫外線ランプでさえかなり広いスペクトル放射を
有している。従って、フィルター法が好ましい、第一の
露光段階にフィルターを使用しない狭いバンドの光源を
使用する方法において、第一の段階で開始反応を行わな
い光反応開始剤が、そのrJA造業者によって表示され
たスペクトル放射範囲外の波長を含みうる光源によって
実際に放射される波長の光に実質的に確実に反応しない
ように注意する必要がある。
光波長を有する300〜420nmの狭い波長バンドの
化学線を放射する1つ又はそれ以上の5ylvania
F−20712−BLBラングのような狭イスベク
トル放射を示す光源に暴露することによって達成するこ
とができる。明らかなように、「狭いバンド」の光を放
射する紫外線ランプでさえかなり広いスペクトル放射を
有している。従って、フィルター法が好ましい、第一の
露光段階にフィルターを使用しない狭いバンドの光源を
使用する方法において、第一の段階で開始反応を行わな
い光反応開始剤が、そのrJA造業者によって表示され
たスペクトル放射範囲外の波長を含みうる光源によって
実際に放射される波長の光に実質的に確実に反応しない
ように注意する必要がある。
ある場合に、例えば粘着を抑えるために被膜を加熱して
、光硬化を促進するのが望ましい、露光時間は組成物中
の化合物の種類及び割合、光源の種類並びに光源からの
塗布組成物の距離によって決まる。
、光硬化を促進するのが望ましい、露光時間は組成物中
の化合物の種類及び割合、光源の種類並びに光源からの
塗布組成物の距離によって決まる。
フィルターを使用するのが好ましい第一段階の露光時間
は、できるだけ粘着を抑えるが、なお被膜の処理、例え
ば溶剤現像を可能にするように選択される。ランプ下に
長く置くほど粘着を抑える傾向にあるが、溶剤現像する
場合に被膜の除去をより困難にする。第二の露光段階の
時間は、例えば最終被膜を確実に耐溶剤性にするために
所望の最終硬化を達成するように選択される。
は、できるだけ粘着を抑えるが、なお被膜の処理、例え
ば溶剤現像を可能にするように選択される。ランプ下に
長く置くほど粘着を抑える傾向にあるが、溶剤現像する
場合に被膜の除去をより困難にする。第二の露光段階の
時間は、例えば最終被膜を確実に耐溶剤性にするために
所望の最終硬化を達成するように選択される。
最終硬化は実施例1で説明するフィルターを使用しない
PPG l#外線硬化装置のような通常の広いバンドの
紫外線源に暴露することによって完成される。さらに、
必要に応じて被膜を第二の露光段階後に加熱して、硬化
を完全にし[「暗(dark) J硬化]、接着性を向
上させることができる。室温での熟成は一般により長期
に互って同一の効果を与える。
PPG l#外線硬化装置のような通常の広いバンドの
紫外線源に暴露することによって完成される。さらに、
必要に応じて被膜を第二の露光段階後に加熱して、硬化
を完全にし[「暗(dark) J硬化]、接着性を向
上させることができる。室温での熟成は一般により長期
に互って同一の効果を与える。
ff1L!i:半田マスク、フォトレジスト、相似被覆
電子回路板を製造するに際し、例えば半田マスクを形成
するために、硬く、強靭な耐溶剤性被膜又はフィルムが
回路基板の選択した領域に形成される。レジストとも呼
ばれるこの被膜によって、後続処理工程の開回路基板の
被覆領域が保護される。
するために、硬く、強靭な耐溶剤性被膜又はフィルムが
回路基板の選択した領域に形成される。レジストとも呼
ばれるこの被膜によって、後続処理工程の開回路基板の
被覆領域が保護される。
本発明の方法は回路板の半田マスクを形成するのに利用
することができる。この場合、2段階硬化及び溶剤現像
を行うことによって半田を望まない領域が保護される。
することができる。この場合、2段階硬化及び溶剤現像
を行うことによって半田を望まない領域が保護される。
液状感光性組成物を、例えば、回路パターンを形成する
ために予めエツチングされた繊維板又はガラス/エポキ
シ樹脂複合体表面上の銅に被覆する。長い波長の紫外線
だけで露光することによって、溶剤によってまだ変更又
は修復することができる不粘着性のB段階重合体を回路
板上に生成させる0本発明の利点は、マスクを不粘着性
表面に直接設置することができるので、湿った又は粘着
性の被膜では避けがたいエアギャップを排除しかフより
正確に画像パターンを複製することができることである
。溶剤洗浄(現像)によってマスクで覆われていない部
分を除去し、マスクで被覆された樹脂部分を永久被膜と
して残す。
ために予めエツチングされた繊維板又はガラス/エポキ
シ樹脂複合体表面上の銅に被覆する。長い波長の紫外線
だけで露光することによって、溶剤によってまだ変更又
は修復することができる不粘着性のB段階重合体を回路
板上に生成させる0本発明の利点は、マスクを不粘着性
表面に直接設置することができるので、湿った又は粘着
性の被膜では避けがたいエアギャップを排除しかフより
正確に画像パターンを複製することができることである
。溶剤洗浄(現像)によってマスクで覆われていない部
分を除去し、マスクで被覆された樹脂部分を永久被膜と
して残す。
2段附二重光硬化法をフォトレジストを形成するために
利用することもできる。上記のように露出された鋼上に
B段li1重合体を形成することによって及び現像段階
で硬化樹脂を最終的に除去することによって、細線を有
する適切な銅接続部を形成することができる。
利用することもできる。上記のように露出された鋼上に
B段li1重合体を形成することによって及び現像段階
で硬化樹脂を最終的に除去することによって、細線を有
する適切な銅接続部を形成することができる。
スクリーン印刷又はフォトリングラフィ画像描画法のよ
うな多くの従来技術を使用して、レジストを塗布するこ
とができる。
うな多くの従来技術を使用して、レジストを塗布するこ
とができる。
フォトリングラフィ画像描画法において、パターンをフ
ォトマスクから被膜上に転写する。まず、塗液を基板表
面に塗布する。得られた被膜を、例えばフォトマスクを
通して照射される紫外線で光重合してパターンを形成す
る。フォトマスクは)k露光を透過しない部分と暴露光
を透過する他の部分とから成るパターンを有している。
ォトマスクから被膜上に転写する。まず、塗液を基板表
面に塗布する。得られた被膜を、例えばフォトマスクを
通して照射される紫外線で光重合してパターンを形成す
る。フォトマスクは)k露光を透過しない部分と暴露光
を透過する他の部分とから成るパターンを有している。
フォトマスクを被覆基板とiJI露光源の間に置く。
露光中に、ik露光はフォトマスクの透明部を透過し、
被膜に当たる、フォトマスクの不透明部分と整合してい
る被膜の部分は露光されない。
被膜に当たる、フォトマスクの不透明部分と整合してい
る被膜の部分は露光されない。
光化学的に誘発される反応によって、露光部の液(現1
象液)への溶解性が変化する。溶解性の良い部分を現像
液で除去し、基板表面にレジスト画像を被膜として残す
、レジスト画像はフォトマスクの画像と一致している0
次に、レジスト画像をマスク、即ちシールドとして利用
して、後続処理の間基板の被覆部を保護する。
象液)への溶解性が変化する。溶解性の良い部分を現像
液で除去し、基板表面にレジスト画像を被膜として残す
、レジスト画像はフォトマスクの画像と一致している0
次に、レジスト画像をマスク、即ちシールドとして利用
して、後続処理の間基板の被覆部を保護する。
フォトリングラフィ画像は基板上の不連続被膜からなり
、基板の被覆部が非被覆部によって中断されている。f
fi#1部を有する画像において、被覆画像は現@液の
作用に対する耐性が強いのが望ましい、与えられた被膜
の現像液に対する耐溶剤性は被膜を架橋することによっ
て増大することができる。架橋された被膜は現像液に容
易に溶解しないか、又は現像液によってほとんど膨潤し
ないので、現像液の強さ及び現像段階の時間は余り重要
ではない。
、基板の被覆部が非被覆部によって中断されている。f
fi#1部を有する画像において、被覆画像は現@液の
作用に対する耐性が強いのが望ましい、与えられた被膜
の現像液に対する耐溶剤性は被膜を架橋することによっ
て増大することができる。架橋された被膜は現像液に容
易に溶解しないか、又は現像液によってほとんど膨潤し
ないので、現像液の強さ及び現像段階の時間は余り重要
ではない。
本発明の方法は回路板及び他の不規則な形状の物体の相
似被覆を形成するのにも利用することができる。第一の
露光でマスキングした後の未硬化の重合体を溶剤によっ
て除去した後に完全に露光された重合体から適切な鮮明
画像を形成する、造形画像を形成するのにも利用するこ
とができる。
似被覆を形成するのにも利用することができる。第一の
露光でマスキングした後の未硬化の重合体を溶剤によっ
て除去した後に完全に露光された重合体から適切な鮮明
画像を形成する、造形画像を形成するのにも利用するこ
とができる。
本発明の2段1M法の利点は、第−段階の被膜を除去し
て、電気部品及び回路を再処理することができることで
ある。
て、電気部品及び回路を再処理することができることで
ある。
2段階硬化を行うための本発明の他の火8@態様におい
て、第一段階硬化によって被膜を固化するが、不完全な
被覆、不十分なレベリング、膨れ等の修丁のような補修
を可能とする最終硬化前にhli修することができる光
硬化性被膜が形成される。
て、第一段階硬化によって被膜を固化するが、不完全な
被覆、不十分なレベリング、膨れ等の修丁のような補修
を可能とする最終硬化前にhli修することができる光
硬化性被膜が形成される。
[実施例]
本発明をさらに説明するために以下に実施例を挙げる。
これらの実施例は特許請求の範囲によって限定している
本発明の範囲を制限するものと解釈されるものではない
。
本発明の範囲を制限するものと解釈されるものではない
。
尺11皿座盈里
A、基板:
基板として、銅被覆FP−4(ガラス繊維を埋込んだエ
ポキシ樹脂)回路板を使用した。fR衣表面5COtC
hbrite(商1tl))パッドに類似した未処理ナ
イロン製研磨用パッドで磨いた0次に、銅表面を水道水
で洗浄し、拭いて乾燥させ、アセトンを噴霧し、蒸留水
で洗浄し、50’Cで乾燥させることによって連続的に
処理した。
ポキシ樹脂)回路板を使用した。fR衣表面5COtC
hbrite(商1tl))パッドに類似した未処理ナ
イロン製研磨用パッドで磨いた0次に、銅表面を水道水
で洗浄し、拭いて乾燥させ、アセトンを噴霧し、蒸留水
で洗浄し、50’Cで乾燥させることによって連続的に
処理した。
B1組成物:
組成物は各実施例中で説明する。他に言及しない限り、
割合は全て重量%である。
割合は全て重量%である。
C1塗布:
8−バス湿式フィルム塗布器[ボール・エヌ・ガードナ
ー社(Paul N、 Ga、rclner Co、、
Inc、ローダ−ダル・バイーザーシー、フロリダ州
)製〕を用いて15211nx 102uの回路板に塗
布した。
ー社(Paul N、 Ga、rclner Co、、
Inc、ローダ−ダル・バイーザーシー、フロリダ州
)製〕を用いて15211nx 102uの回路板に塗
布した。
D、紫外線照射工程:
紫外線露光をrQC1202八N3叶」型UVプロセッ
サー(RPC装置、PPGインダストリーズ社(プレー
ンフィールド、イリノイ州)製]によって実施した。+
1作条件は各実施例に示す、フィルターを使用する場合
、フィルターをスペーサーとしての「ベルクロ(Vel
cro)」ストリップによって試料上5mnに保持した
。フィルターは耕耕参≠−≠280〜290nmまでの
短い波長の光を透過するアクリル樹脂シートに吸収剤を
添加することによって製造することができる。有用な吸
収剤は1゜1−ジフェニル−2−シアノ−2−カルボエ
トキシエチレン)であるUvinul N−35(GA
F Carp、製)である、−例として、0.05%の
Uvinul N−35を含む0.125インチ(約3
.2nm)の流延アクリルシートは340nmより短い
紫外線を実質的に通さない。
サー(RPC装置、PPGインダストリーズ社(プレー
ンフィールド、イリノイ州)製]によって実施した。+
1作条件は各実施例に示す、フィルターを使用する場合
、フィルターをスペーサーとしての「ベルクロ(Vel
cro)」ストリップによって試料上5mnに保持した
。フィルターは耕耕参≠−≠280〜290nmまでの
短い波長の光を透過するアクリル樹脂シートに吸収剤を
添加することによって製造することができる。有用な吸
収剤は1゜1−ジフェニル−2−シアノ−2−カルボエ
トキシエチレン)であるUvinul N−35(GA
F Carp、製)である、−例として、0.05%の
Uvinul N−35を含む0.125インチ(約3
.2nm)の流延アクリルシートは340nmより短い
紫外線を実質的に通さない。
級並土訓
l五ユ3:
試験試t1をメチルエチルケトン(MEK)に浸したチ
ーズクロスで軽く擦り、被膜を湿らした。
ーズクロスで軽く擦り、被膜を湿らした。
現像できる被膜の場合、MEKが被膜一基板界面まで浸
透しかっ濾過された光にだけ暴露された物質の領域中に
膨れが広まった。膨らまされた物質を初めより幾分強く
連続して擦って除去しな、物質は小片として除去された
。MEKに実際に溶けたのはたとえ溶けたとしても非常
に僅がである。
透しかっ濾過された光にだけ暴露された物質の領域中に
膨れが広まった。膨らまされた物質を初めより幾分強く
連続して擦って除去しな、物質は小片として除去された
。MEKに実際に溶けたのはたとえ溶けたとしても非常
に僅がである。
頻 −−一 1) ゛ :
エレクトロバート(E Iectrovert)半田ポ
ット75T型(650ワツト)に60/40回体半田を
使用した。この半田を288℃に保持し、試料を印刷し
た側を下にして20秒間その表面に浮かべた。
ット75T型(650ワツト)に60/40回体半田を
使用した。この半田を288℃に保持し、試料を印刷し
た側を下にして20秒間その表面に浮かべた。
クロスハツチ接着性試@:
ASTM D3359−78−B法[クロス力ットテ
ーグ試@ (Cross Cut Tape Te5t
)をスコッチ810テープを用いて行った。2 n1i
f! して6本の切れ目を入れた。
ーグ試@ (Cross Cut Tape Te5t
)をスコッチ810テープを用いて行った。2 n1i
f! して6本の切れ目を入れた。
尺臣且ユ
340nm以下31!断フイルター
により被膜の第一の露光
下記の物質をブレンドした。
%
アクリル酸インボルニル(ローム及40ハース!!り
Tone H−100(カプロラクトンアクリ
15ル酸、ユニオンカーバイドり Uvithane 783 (77リル化ウレタン、
5モートンチオコール製) D、E、8.438(エポキシノボラック樹脂 3
2ダウケミカル製) Irgacure 184 (光反応開始剤、
2チバーガイギー製) Jrgacure 651 (光反応開始剤、
2チバーガイギー製) UVE−1014(トリアリールスルホニウム
4塩、カチオン光反応開始剤、 ゼネラルエレクトリック製) 基板の被覆は上記通説に従って行った。
15ル酸、ユニオンカーバイドり Uvithane 783 (77リル化ウレタン、
5モートンチオコール製) D、E、8.438(エポキシノボラック樹脂 3
2ダウケミカル製) Irgacure 184 (光反応開始剤、
2チバーガイギー製) Jrgacure 651 (光反応開始剤、
2チバーガイギー製) UVE−1014(トリアリールスルホニウム
4塩、カチオン光反応開始剤、 ゼネラルエレクトリック製) 基板の被覆は上記通説に従って行った。
塗布試料をます2個のラングを窒素下「フル(full
) J出力(7,9キロワツト//7L)にセットした
PPG紫外線硬化装置によって紫外線露光した。フィル
ターを試料上に吊るし、340nr1末溝の波長の光を
遮断した。試料を254 +u/秒の速度で4回この装
置に通した。この露光の終了に際し、被膜は経時的に低
下するが、1かに粘着性を示した。粘着を早急に排除す
るために被膜を10分間50℃に加熱した。
) J出力(7,9キロワツト//7L)にセットした
PPG紫外線硬化装置によって紫外線露光した。フィル
ターを試料上に吊るし、340nr1末溝の波長の光を
遮断した。試料を254 +u/秒の速度で4回この装
置に通した。この露光の終了に際し、被膜は経時的に低
下するが、1かに粘着性を示した。粘着を早急に排除す
るために被膜を10分間50℃に加熱した。
フォトマスクを被膜の上に置いてから、PPG紫外線硬
化装置に通した。フォトマスクパターンは金属ブロック
を介してブランクに形成した9つの領域を有していた。
化装置に通した。フォトマスクパターンは金属ブロック
を介してブランクに形成した9つの領域を有していた。
PPG紫外線硬化装置は「ハイ(hioh) J出力(
11,8−Irロワット/m)にセットした2個のラン
グを有していた。試料を25411+1/秒の速度で6
回この装置に通した1次に、試料を10秒間170℃に
加熱した。
11,8−Irロワット/m)にセットした2個のラン
グを有していた。試料を25411+1/秒の速度で6
回この装置に通した1次に、試料を10秒間170℃に
加熱した。
被膜を室温でメチルエチルゲトンに浸したチーズクロス
で軽く擦ることによって現像した。約1分後、MEKが
基板/被膜界面まで浸透しかつ一過された光にだけ暴露
された被膜(第二の露光の間マスクされた領域)中に膨
れが広まった。膨らまされた物質を初めより幾分強く連
続して擦って除去した。フィルターを使用しない第二の
露光段階で露光された領域は除去されなかった。
で軽く擦ることによって現像した。約1分後、MEKが
基板/被膜界面まで浸透しかつ一過された光にだけ暴露
された被膜(第二の露光の間マスクされた領域)中に膨
れが広まった。膨らまされた物質を初めより幾分強く連
続して擦って除去した。フィルターを使用しない第二の
露光段階で露光された領域は除去されなかった。
クロスハツチ接着性試験において、テープには同等現像
被膜が付着されなかった。
被膜が付着されなかった。
現像被膜を288℃の半田浴に20秒間浮かせた。繰り
返して浮かべてみても膨れや剥離は生じなかった。
返して浮かべてみても膨れや剥離は生じなかった。
最終被膜を電子顕微鏡で検査することによって、2相構
造が容易に認められた。分散された粒子の粒径範囲は広
く、100r+nから約2ミクロン(直径)であった、
多くはおおよそ300 nmの粒子の凝集物であると思
われる。
造が容易に認められた。分散された粒子の粒径範囲は広
く、100r+nから約2ミクロン(直径)であった、
多くはおおよそ300 nmの粒子の凝集物であると思
われる。
血笠旦A
フィルターを使用しない第一の露光
第一の露光をフィルターなしで行った以外は全く同様に
実施例1を繰り返した。試料をMEKで・現像した場合
、被膜全てが除去された。被膜は界面まで溶剤が透過す
るのを妨げるのに十分には架橋されていなかった。溶剤
は基板表面に浸透し、被膜の実質的に全領域下に広がり
、被膜を剥離させた。
実施例1を繰り返した。試料をMEKで・現像した場合
、被膜全てが除去された。被膜は界面まで溶剤が透過す
るのを妨げるのに十分には架橋されていなかった。溶剤
は基板表面に浸透し、被膜の実質的に全領域下に広がり
、被膜を剥離させた。
別の実験において、被膜をrl)J段階で8回(合計1
2回)露光した。この時、被膜はMEKによって全く除
去されず、画像を形成することができなかった。被膜は
全て界面まで溶剤が透過するのを妨げるのに十分に架橋
された。
2回)露光した。この時、被膜はMEKによって全く除
去されず、画像を形成することができなかった。被膜は
全て界面まで溶剤が透過するのを妨げるのに十分に架橋
された。
本比教例は、第一にマスクなしで、次にマスクを使用し
て同一の波長の光を放出する光源で露光する際の時間を
調節しても画像形成法は提供されないことを実証してい
る。
て同一の波長の光を放出する光源で露光する際の時間を
調節しても画像形成法は提供されないことを実証してい
る。
尺立且l
フィルターを使用する第一露光段階の回数フィルターを
使用する第一の露光段階の回数を変えたこと以外は全く
同様に実施例1を繰り返しな、8回及び12回のどちら
でも良好、鮮明な画像が得られた。
使用する第一の露光段階の回数を変えたこと以外は全く
同様に実施例1を繰り返しな、8回及び12回のどちら
でも良好、鮮明な画像が得られた。
本実施例は、フィルターを使用する第一段階の露光(「
a」段階)を4.8及び12回と広範に変えても良好な
画像が得られることを実証している。
a」段階)を4.8及び12回と広範に変えても良好な
画像が得られることを実証している。
30回までの高い露光回数では、’aJPi階物質を除
去するのは困難であった。溶媒現像の時間及び程度を増
すことによって高度に硬化された「a」段階被膜を除去
することができたが、同様に「b」段階の一部も除去さ
れた。ある領域は完全に除去された。
去するのは困難であった。溶媒現像の時間及び程度を増
すことによって高度に硬化された「a」段階被膜を除去
することができたが、同様に「b」段階の一部も除去さ
れた。ある領域は完全に除去された。
溶剤現像に引き続き、上記の被膜を30分nJi160
℃に加熱した。被膜のクロスハツチ接着性試験の結果は
非常に良好であり、全く除去されなかった。
℃に加熱した。被膜のクロスハツチ接着性試験の結果は
非常に良好であり、全く除去されなかった。
友1皿ユ
オリゴマーによる接着性の改良
本実施例は銅への接着性を改良するのにtlvitt+
Jne 783のようなオリゴマーが有用であることを
実証する。
Jne 783のようなオリゴマーが有用であることを
実証する。
Uvithane 783を組成物から排除し、代わり
に同量のアクリル酸イソボルニルを追加した以外は実施
例1に従った。
に同量のアクリル酸イソボルニルを追加した以外は実施
例1に従った。
被膜を損傷すること無<MEKで現像することができな
かった。160℃で30分間の焼付は中に、被膜の大部
分は銅表面から自然に剥離した。
かった。160℃で30分間の焼付は中に、被膜の大部
分は銅表面から自然に剥離した。
このことは接着力が劣っていることを実証している。
Xj目i生
熱硬化の必要性
試料に160℃で30分間の焼付けを行わなかった以外
は実施例1を繰り返した。その代わりに、23℃で一晩
熟成した。クロスハツチ接着性試験で除去されたのは僅
か4%の被膜だけであった。
は実施例1を繰り返した。その代わりに、23℃で一晩
熟成した。クロスハツチ接着性試験で除去されたのは僅
か4%の被膜だけであった。
本実施例は焼付けが不必要であることを実証している。
火m旦
ポリオールの役割
本実施例は、Tone M−305のようなポリオール
が、特に接着性に関してTone H−100より望ま
しくないことを実証する。ポリオール類はエポキシ樹脂
の共反応物としてよく使用される。接着性が重要な組成
物において、ポリオール反応物を使用すると不利を招く
ことがありうる。
が、特に接着性に関してTone H−100より望ま
しくないことを実証する。ポリオール類はエポキシ樹脂
の共反応物としてよく使用される。接着性が重要な組成
物において、ポリオール反応物を使用すると不利を招く
ことがありうる。
Tone 14−100をTone H−305に代え
ることによって実施例1の組成を変化させた。 Ton
e H−305はユニオン・カーバイド社から入手する
。〕とができる約540の分子量を有するポリカプロラ
クトントリオールである。
ることによって実施例1の組成を変化させた。 Ton
e H−305はユニオン・カーバイド社から入手する
。〕とができる約540の分子量を有するポリカプロラ
クトントリオールである。
下記の組成物を調製しな。
%
アクリル酸インボルニル 40Ton
e H−30515 Uvithane 783
5D、E、N、 438 (エポキシノボラック樹
脂 32Irgacure 184 (光反応開始
剤) 2Irgacure 651 (光
反応開始剤) 2cyracure UV
l−6974(1’リアリルスルホ 4ニウム塩
、カチオン光反応開始剤) 硬化法の細目は実施例1におけると同様であった。
e H−30515 Uvithane 783
5D、E、N、 438 (エポキシノボラック樹
脂 32Irgacure 184 (光反応開始
剤) 2Irgacure 651 (光
反応開始剤) 2cyracure UV
l−6974(1’リアリルスルホ 4ニウム塩
、カチオン光反応開始剤) 硬化法の細目は実施例1におけると同様であった。
画像を現像するのが幾分困難でりす、被膜の全てがクロ
スハツチ接着性試験において除去された2X1且亙 エポキシノボラック(支)脂と 脂環式エポキシドとの比教 本実施例は、脂環式エポキシドがO,E、N、438と
同様には溶剤現像性と硬度とを良好にバランスさせない
ことを実証する。
スハツチ接着性試験において除去された2X1且亙 エポキシノボラック(支)脂と 脂環式エポキシドとの比教 本実施例は、脂環式エポキシドがO,E、N、438と
同様には溶剤現像性と硬度とを良好にバランスさせない
ことを実証する。
ユニオン・カーバイド社から入手した脂環式工ボキシド
であるCyracure 6110をり、E、N、43
8の代わりに使用した以外は実施例1を繰り返した。フ
ィルターを使用する第一段階露光後に、被膜は10分間
50℃で加熱した後も粘着性のt、まであった、D、E
、N 438を使用した実施例1においては、この加熱
によって粘着性は排除された。
であるCyracure 6110をり、E、N、43
8の代わりに使用した以外は実施例1を繰り返した。フ
ィルターを使用する第一段階露光後に、被膜は10分間
50℃で加熱した後も粘着性のt、まであった、D、E
、N 438を使用した実施例1においては、この加熱
によって粘着性は排除された。
被膜を第一段階で4回露光する代わりに10回露光して
、実験を繰り返した。10分間50℃で加熱することに
よって、粘着性は排除されが、マスキングした領域を溶
剤現像中に除去するのは困難であり、所望な画像の一部
が除去された。
、実験を繰り返した。10分間50℃で加熱することに
よって、粘着性は排除されが、マスキングした領域を溶
剤現像中に除去するのは困難であり、所望な画像の一部
が除去された。
尺臣亘l
単官能性とニルモノマーの全て又は
一部に代えて多官能性ビニルモノマーの使用1.6−ヘ
キサンジオールジアクリレートをアクリル酸インボルニ
ルの一部又は全てに代えた以外は実施例1と同様に組成
物を調製した。下記の各組成物を調製した。
キサンジオールジアクリレートをアクリル酸インボルニ
ルの一部又は全てに代えた以外は実施例1と同様に組成
物を調製した。下記の各組成物を調製した。
1.6−ヘキサンジオール 5 15 25 40
ジアクリレート アクリル酸インボルニル 35 25 15Tone
8100 15 15 15 15U
vithane783 5 5 5
5(アクリル化ウレタン) 口、E、8.438 (エポキシ 32 32 3
2 32ノボラツク樹脂) Trgacure 184 (光開始剤)2222Ir
gacure 651 (光開始剤)2222Cyra
cure UVl−6974(カチオ74 4 4
4光開始剤) 硬化法の細目は実施例1におけると同様であった。
ジアクリレート アクリル酸インボルニル 35 25 15Tone
8100 15 15 15 15U
vithane783 5 5 5
5(アクリル化ウレタン) 口、E、8.438 (エポキシ 32 32 3
2 32ノボラツク樹脂) Trgacure 184 (光開始剤)2222Ir
gacure 651 (光開始剤)2222Cyra
cure UVl−6974(カチオ74 4 4
4光開始剤) 硬化法の細目は実施例1におけると同様であった。
5部及び15部の1.6−ヘキサンジオールジアクリレ
ートを含む被J[GI[7(a)及び7(b)]はメナ
ルエチルゲトンで容易に現像され、画像は鮮明であった
。25部の1.6−ヘキサンジオールジアクリレートを
含む被g[7(c)]はMEKでの現像は比較的遅かっ
たが、画像は鮮明であった。
ートを含む被J[GI[7(a)及び7(b)]はメナ
ルエチルゲトンで容易に現像され、画像は鮮明であった
。25部の1.6−ヘキサンジオールジアクリレートを
含む被g[7(c)]はMEKでの現像は比較的遅かっ
たが、画像は鮮明であった。
40部の1,6−ヘキサンジオールジアクリレートを含
む被膜[7(d)]は実施例1のようにはメチルエチル
ケトンで現像できなかった(即ち、フィルターを通して
露光された披tVtは除去されなかった)、架橋が進行
し過ぎたのは明らかである。
む被膜[7(d)]は実施例1のようにはメチルエチル
ケトンで現像できなかった(即ち、フィルターを通して
露光された披tVtは除去されなかった)、架橋が進行
し過ぎたのは明らかである。
7(a)及び7(C)の被膜の全て及び7(b)の被膜
の72%がクロスハツチ接着性試験で除去された。16
−ヘキサンジオールジアクリレートを多量に使用すると
、銅への被膜の接着性は明らかに低下した。
の72%がクロスハツチ接着性試験で除去された。16
−ヘキサンジオールジアクリレートを多量に使用すると
、銅への被膜の接着性は明らかに低下した。
本実施例は、多官能性とニルモノマー 1,6−ヘキサ
ンジオールジアクリレート(rSR−283,、アルコ
・ケミカル社製)だけをとニルモノマーとして使用した
場合は、現像することができなかったことを実証してい
る。このモノマーが少量存在する場合は、現像すること
ができる。多産の多官能性とニルモノマーを使用すると
、別基板との接着性が損なわれるように思われる。
ンジオールジアクリレート(rSR−283,、アルコ
・ケミカル社製)だけをとニルモノマーとして使用した
場合は、現像することができなかったことを実証してい
る。このモノマーが少量存在する場合は、現像すること
ができる。多産の多官能性とニルモノマーを使用すると
、別基板との接着性が損なわれるように思われる。
栗l自I旦
エポキシ樹脂の使用限界
下記の成分を混合した。
アクリル酸インボルニル 62
17 9 6 −−ToneH−1
00151031−− Uvithane783 5
5 5 2 −−げクツル化ウレタ
ン) D、E、8.438 10
60 75 85 8G、G(エポキシノ
ボラック■) Irgacure 184(光1a帽 2 2
2 1 −1部gacuree51(ll姶1)
2 2 2 1
−−CyracureuVI−69744444/1
.3(トリアリールスルホニウム塩、 カチオン光I艙
網)メチルエチルケトン −
−−−−−59,1硬化法の細目は実施例1におけると
同様であった。
17 9 6 −−ToneH−1
00151031−− Uvithane783 5
5 5 2 −−げクツル化ウレタ
ン) D、E、8.438 10
60 75 85 8G、G(エポキシノ
ボラック■) Irgacure 184(光1a帽 2 2
2 1 −1部gacuree51(ll姶1)
2 2 2 1
−−CyracureuVI−69744444/1
.3(トリアリールスルホニウム塩、 カチオン光I艙
網)メチルエチルケトン −
−−−−−59,1硬化法の細目は実施例1におけると
同様であった。
10%のり、E、N、 438を含む比較組成物(8a
)はマスクを施さなかった領域に十分に架橋された被n
ぐを形成しなかった。9つの領域のうち3つが現像にお
いて完全に除去された。fl!1の領域は部分的に除去
された。60%及び75%のの0.E、N、 438を
含む組成物8(b)及び8(C)は容易に現像されかつ
鮮明な画像を生じる被膜を形成した。テープによる接着
性試験において、8(b)の被膜(口、E、N、 43
8を60%含む)の48%及び8(C)の被膜(0,E
、N。
)はマスクを施さなかった領域に十分に架橋された被n
ぐを形成しなかった。9つの領域のうち3つが現像にお
いて完全に除去された。fl!1の領域は部分的に除去
された。60%及び75%のの0.E、N、 438を
含む組成物8(b)及び8(C)は容易に現像されかつ
鮮明な画像を生じる被膜を形成した。テープによる接着
性試験において、8(b)の被膜(口、E、N、 43
8を60%含む)の48%及び8(C)の被膜(0,E
、N。
438を75%含む)の100%が除去された。
組成物8(d)及び8(e)において、被覆を容易にす
るためにメチルエチルゲトンを使用してそれらの粘度を
下げた。被覆後、被膜を50°Cで10分間加熱し、M
EK溶剤を除去してから、露光した。
るためにメチルエチルゲトンを使用してそれらの粘度を
下げた。被覆後、被膜を50°Cで10分間加熱し、M
EK溶剤を除去してから、露光した。
組成物8(d) (0,E、N、 438を85%含む
)において、被膜を現像することができなかったく即ち
、フィルターを通して露光した部分の被膜が除去できな
かった)0組成物8(e)は0.E、N、 438、U
Vl−6914及びメチルエチルゲトンだけから成るも
のであった。
)において、被膜を現像することができなかったく即ち
、フィルターを通して露光した部分の被膜が除去できな
かった)0組成物8(e)は0.E、N、 438、U
Vl−6914及びメチルエチルゲトンだけから成るも
のであった。
溶剤を含めないでこの組成物の95%は0.E、N。
438であった。 8(e)の被膜は現像することがで
きなかった。これらのデータは、D、E、N、 438
の割合が8(d)及び8(e)の被膜では高過ぎたこと
を示している。
きなかった。これらのデータは、D、E、N、 438
の割合が8(d)及び8(e)の被膜では高過ぎたこと
を示している。
エポキシノボラック樹脂の若干の重合がフィルターを通
しての第一の露光で生じたと思われる。
しての第一の露光で生じたと思われる。
フィルターがカチオン光反応開始剤を活性にする完全て
を排除しなかったのは明らかである。このことが、エポ
キシノボラック樹脂がフィルターを通しての第一の露光
で少しではあるがある程度重合したことを実証する。遊
離基重合性物質を比較的多く含む被膜において、フィル
ターを使用して露光された物質と使用しないで露光され
た物質との違いは良好に現像できるかどうかだけで判る
。
を排除しなかったのは明らかである。このことが、エポ
キシノボラック樹脂がフィルターを通しての第一の露光
で少しではあるがある程度重合したことを実証する。遊
離基重合性物質を比較的多く含む被膜において、フィル
ターを使用して露光された物質と使用しないで露光され
た物質との違いは良好に現像できるかどうかだけで判る
。
高濃度、即ち75%、85%及び95%のり、E、N、
438を含む被膜は接着性が劣っていた。クロスハツ
チ接着性試験において、被膜の100%がテープによっ
て除去された。
438を含む被膜は接着性が劣っていた。クロスハツ
チ接着性試験において、被膜の100%がテープによっ
て除去された。
本実施例は組成物中に使用されるり、E、N、 438
の下限及び上限を説明するものである。
の下限及び上限を説明するものである。
尺1血ユ
単官能性とニルモノマーとしてのアクリル酸2−(2−
エトキシエトキシ)エチルの有用・性アクリル酸2−(
2−エトキシエトキシ)エチルをアクリル酸インボルニ
ルの代わりに使用した以外は実施例工を繰り返した。鮮
明な画像がメチルエチルクトンでの現像で得られた。ク
ロスハツチ接着性試験において、被膜は全く除去されな
かった。
エトキシエトキシ)エチルの有用・性アクリル酸2−(
2−エトキシエトキシ)エチルをアクリル酸インボルニ
ルの代わりに使用した以外は実施例工を繰り返した。鮮
明な画像がメチルエチルクトンでの現像で得られた。ク
ロスハツチ接着性試験において、被膜は全く除去されな
かった。
本実施例は単官能性とニルモノマーとしてアクリル酸2
−(2−エトキシエトキシ)エチル(rSR−256、
、アルコ・ケミカル・カンパニー製)が有用であること
を実証する。
−(2−エトキシエトキシ)エチル(rSR−256、
、アルコ・ケミカル・カンパニー製)が有用であること
を実証する。
匿i伍亙
エポキシ樹脂を含有しない組成物
本実施例は耐溶剤性を得るためにエポキシ樹脂を必要と
することを実証する。
することを実証する。
下記の組成物を調製した。
lrgacure 184
2Iraacure 651
2硬化法の細目は実施例1におけると同
様であった。
2Iraacure 651
2硬化法の細目は実施例1におけると同
様であった。
フィルターを通しての露光に引き続き50Cで10分間
加熱した後ら、被膜は粘着性のままであった。クロスハ
ツチ接着性は良好であり、フィルターを使用しないでさ
らに露光した後の被膜はテープによって全く除去されな
かった。被膜は耐溶剤性がなかった。
加熱した後ら、被膜は粘着性のままであった。クロスハ
ツチ接着性は良好であり、フィルターを使用しないでさ
らに露光した後の被膜はテープによって全く除去されな
かった。被膜は耐溶剤性がなかった。
11皿1ユ
オリゴマーの割合
Ce1rad 3700及びUvithane 783
をアクリル酸インボルニルの一部又は全部の代わりに使
用しな以外は実施例1を繰り返した。
をアクリル酸インボルニルの一部又は全部の代わりに使
用しな以外は実施例1を繰り返した。
下記の組成物を調製した。
アクリル酸インボルニル
Tone H−100
Celrad 3700130 +5 ’:5
−Uvithane 783 アクリル酸インボルニル Tone H−10015−−−−15tlv+tha
ne7a3 5 5 5 25(
アクリル化ウレタン) D、E、N、438 32
32 32 32(エポキシノボラッ
ク■) Irgacure 184(光l!始剤1
22221rgacure 651(光IHI)
2 2 2 2Cy
racure tlVJ−69744444(カチオ
ン尤#!膀肩) Celrad 3700=ビスフエノールAエポキシ樹
脂のアクリル化エステル(セラニーズ製)Celrad
3700は室温では元来固体である(65℃で2.3
Pas)。D、E、N、 438も元来固体である(5
2°Cで35 Pa5)、Irgacure 651及
びIrgacure 184を溶解するために、組成物
to(b)及び10(c)を70℃に加熱して粘度を低
下させた。塗布するのに十分粘度を低下させるために、
他の組成物も70’Cに加熱した。
−Uvithane 783 アクリル酸インボルニル Tone H−10015−−−−15tlv+tha
ne7a3 5 5 5 25(
アクリル化ウレタン) D、E、N、438 32
32 32 32(エポキシノボラッ
ク■) Irgacure 184(光l!始剤1
22221rgacure 651(光IHI)
2 2 2 2Cy
racure tlVJ−69744444(カチオ
ン尤#!膀肩) Celrad 3700=ビスフエノールAエポキシ樹
脂のアクリル化エステル(セラニーズ製)Celrad
3700は室温では元来固体である(65℃で2.3
Pas)。D、E、N、 438も元来固体である(5
2°Cで35 Pa5)、Irgacure 651及
びIrgacure 184を溶解するために、組成物
to(b)及び10(c)を70℃に加熱して粘度を低
下させた。塗布するのに十分粘度を低下させるために、
他の組成物も70’Cに加熱した。
硬化法の細目は実施例1におけると同様であった。
フィルターを通して露光しかつ50℃で10分間加熱し
た後に、全ての被膜がほんの伍かしか粘着しなかった。
た後に、全ての被膜がほんの伍かしか粘着しなかった。
このことは使用したオリゴマーの割合が高い場合も、は
とんど不利がないことを示づ。
とんど不利がないことを示づ。
MEKでの溶剤現像は幾分ゆっくりであり、かつ被膜中
のCe1rad 3700の割合が高くなるに従います
まず強い摩擦を必要としな、鮮明な画像が得られた。
のCe1rad 3700の割合が高くなるに従います
まず強い摩擦を必要としな、鮮明な画像が得られた。
クロスハツチ接着性試験において、10(a)及び10
(DJの被膜はテープによって全く除去されなかったが
、10(b)及び10(c)の被膜は全て除去された。
(DJの被膜はテープによって全く除去されなかったが
、10(b)及び10(c)の被膜は全て除去された。
このように、高割合のアクリル酸インボルニルをCe1
rad 3700に置き換えた場合に銅への接着性は悪
くなった。
rad 3700に置き換えた場合に銅への接着性は悪
くなった。
高い組成物粘度及び余り望ましくない銅への接着性のた
めに、多官能性オリゴマーCe1rad 3700の割
合が大きい組成物10(b)及び10(c)は余り好ま
しくない。
めに、多官能性オリゴマーCe1rad 3700の割
合が大きい組成物10(b)及び10(c)は余り好ま
しくない。
本実施例は、多官能性オリゴマーが大きな割合、即ち組
成物の単一ビニル官能性成分としてさえ使用できること
を実証している。
成物の単一ビニル官能性成分としてさえ使用できること
を実証している。
ル帆豊玉
フィルターを390r+n未満の波長の光を遮断する紫
外線吸収系を用いて製造されたr Plexiglas
Dr−3,(商標、ローム&ハース社製)であること以
外は実施例1を繰り返した。このフィルターを通して露
光した場合、液状組成物は液体のままであった。使用し
た光反応開始剤1rgacure 184及びIrga
cure 184は390ni以上の光を吸収しない。
外線吸収系を用いて製造されたr Plexiglas
Dr−3,(商標、ローム&ハース社製)であること以
外は実施例1を繰り返した。このフィルターを通して露
光した場合、液状組成物は液体のままであった。使用し
た光反応開始剤1rgacure 184及びIrga
cure 184は390ni以上の光を吸収しない。
本比較例は、実施例1のカチオン光反応開始剤を使用す
る場合、3901111未満の波長を有する紫外線が必
要であること分実証している。また、重合がランプから
の熱によって実質的に開始されないことも実証している
。
る場合、3901111未満の波長を有する紫外線が必
要であること分実証している。また、重合がランプから
の熱によって実質的に開始されないことも実証している
。
J/i1m皿ユニ
Tone H−100の役割
下記の組成物を調製した。
アクリル酸インボルニル
Uv+thane 783
0、E、N、 438
39Irgacure 184
2Irgacur
e 651
2UVE−1014,1 硬化法の細目は実施例1におけると同様であった。
39Irgacure 184
2Irgacur
e 651
2UVE−1014,1 硬化法の細目は実施例1におけると同様であった。
組成物は放置したところ望ましくない2相に分離した。
均一な被膜を得るために、この組成物を被覆直前に混合
した。
した。
メチルエチルゲトンでの現像は容易であり、縁も鮮明で
あった。クロスハツチ接着性試験において、被1模は全
てテープによって除去された。
あった。クロスハツチ接着性試験において、被1模は全
てテープによって除去された。
Tone H−100を使用した場合、被膜は全く除去
されなかった(実施例1)。
されなかった(実施例1)。
本実施例は、組成物中にTone M−100が含まれ
ると、接着性が改善されることを実証している。
ると、接着性が改善されることを実証している。
及止血上1
高割合でのTone H−100Lf)使用アクリル酸
インボルニルの一部又は全部をTone H−100に
置き換えた以外は実施例1を繰り返した。
インボルニルの一部又は全部をTone H−100に
置き換えた以外は実施例1を繰り返した。
下記の組成物を調製しな。
部
12(a)+2(b)
アクリル酸インボルニル 30Tone H−
1002555 Uvithane 783 5
5(アクリル化ウレタン) D、E、N、438 32 3
2くエポキシノボラックl!1脂) Irgacure 184 (光反応開始剤)22Ir
gacure 651 (光反応開始剤)22Cyra
cure UVl−697444(カチオン光反応剤) 硬化法の細目は実施例1におけると同様であった。
1002555 Uvithane 783 5
5(アクリル化ウレタン) D、E、N、438 32 3
2くエポキシノボラックl!1脂) Irgacure 184 (光反応開始剤)22Ir
gacure 651 (光反応開始剤)22Cyra
cure UVl−697444(カチオン光反応剤) 硬化法の細目は実施例1におけると同様であった。
恐ら< 1)、E、N、 438が相分離したためと
思われるが、露光した時に12(a)の被膜は半透明に
なった。12(b)の被膜は露光中及び露光後も透明の
ままだった。メチルエチルゲトンで現像した際に、両波
膜とら鮮明な画像が得られた。
思われるが、露光した時に12(a)の被膜は半透明に
なった。12(b)の被膜は露光中及び露光後も透明の
ままだった。メチルエチルゲトンで現像した際に、両波
膜とら鮮明な画像が得られた。
クロスハツチ接着性試験において、12(a)の被膜は
全て除去され、+2(blの被膜は全く除去されなかっ
た。Tone H−100が中間濃度にある場合、接着
性が悪くなるのが明らかである。Tone H−100
を高濃度(55部)で含む場合、被膜の大きな柔軟性及
び水酸基の割合が大きいことが良好な接着性の一因であ
るかもしれない。
全て除去され、+2(blの被膜は全く除去されなかっ
た。Tone H−100が中間濃度にある場合、接着
性が悪くなるのが明らかである。Tone H−100
を高濃度(55部)で含む場合、被膜の大きな柔軟性及
び水酸基の割合が大きいことが良好な接着性の一因であ
るかもしれない。
本実施例は実施例1におけるよる高い割合でTone
Ml(to (カブロラクトンアクリル酸)を使用する
ことができることを実証している。
Ml(to (カブロラクトンアクリル酸)を使用する
ことができることを実証している。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、a)遊離基重合性物質及び遊離基重合用光反応開始
剤から成る第一の反応系及びカチオン重合性エポキシ樹
脂及びカチオン重合用光反応開始剤から成る第二の反応
系を含む組成物を基板上に被膜として付着させ; b)一方の反応系において所望の程度に反応を開始させ
るが、他方の反応系を実質的に反応させない有効量の第
一の化学線で前記組成物を露光し;次いで c)前記他方の反応系において所望の程度に反応を開始
するのに有効な量の、前記第一の化学線とは別の第二の
化学線で前記組成物を露光することを特徴とする2段階
露光で光硬化被膜を形成する方法。 2、前記化学線が紫外線である請求項1記載の方法。 3、前記第一の化学線が約340nm以下の波長の光を
含まず、かつ前記第二の化学線が前記他方の反応系にお
いて所望の程度に反応を開始させるのに有効な量の該波
長の光を含む請求項1記載の方法。 4、前記第一及び第二の化学線が同一光源によって放射
され、かつ前記第一の化学線が前記光源の全スペクトル
放射光の全ては含まない請求項1記載の方法。 5、露光工程(a)が波長遮断フィルターを通して化学
線を導入して、前記第一の化学線を発生させることから
成る請求項4記載の方法。 6、前記フィルターが340nm未満の波長の光の透過
を阻止する請求項5記載の方法。7、工程(b)と工程
(c)の間で被膜を修復することから成る工程(d)を
さらに実施する請求項1記載の方法。 8、a)遊離基重合性物質及び遊離基重合用光反応開始
剤から成る第一の反応系及びカチオン重合性エポキシ樹
脂及びカチオン重合用光反応開始剤から成る第二の反応
系を含む組成物を基板上に被膜として付着させ; b)一方の反応系において所望の程度に反応を開始させ
るが、他方の反応系を実質的に反応させない有効量の第
一の化学線で前記組成物を露光して、B段階被膜を形成
し; c)前記他方の反応系において所望の程度に反応を開始
するのに有効な量の、前記第一の化学線とは別の第二の
化学線で前記B段階被膜の一部を露光して、硬化被膜の
画像を形成し;及び d)前記第二の化学線で露光されない部分を除去するこ
とによって前記画像を現像することを特徴とするフォト
リソグラフィによつて描画する方法。 9、前記化学線が紫外線である請求項8記載の方法。 10、前記第一の化学線が約340nm以下の波長の光
を含まず、かつ前記第二の化学線が前記他方の反応系に
おいて所望の程度に反応を開始させるのに有効な量の該
波長の光を含む請求項8記載の方法。 11、前記第一及び第二の化学線が同一光源によって放
射され、かつ前記第一の化学線が前記光源の全スペクト
ル放射光の全ては含まない請求項8記載の方法。 12、露光工程(a)が波長遮断フィルターを通して化
学線を導入して、前記第一の化学線を発生させることか
ら成る請求項11記載の方法。 13、前記フィルターが340nm未満の波長の光の透
過を阻止する請求項12記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17457988A | 1988-03-29 | 1988-03-29 | |
US174,579 | 1988-03-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH029480A true JPH029480A (ja) | 1990-01-12 |
Family
ID=22636685
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1075241A Pending JPH029480A (ja) | 1988-03-29 | 1989-03-29 | 光硬化被膜を形成する方法 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0335629A3 (ja) |
JP (1) | JPH029480A (ja) |
KR (1) | KR890014180A (ja) |
CN (1) | CN1037041A (ja) |
AU (1) | AU607318B2 (ja) |
BR (1) | BR8901395A (ja) |
DK (1) | DK149489A (ja) |
FI (1) | FI891480A (ja) |
IL (1) | IL89775A0 (ja) |
MX (1) | MX169037B (ja) |
MY (1) | MY103987A (ja) |
NO (1) | NO891226L (ja) |
PH (1) | PH26033A (ja) |
ZA (1) | ZA892266B (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0275621A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-15 | Asahi Denka Kogyo Kk | 樹脂の光学的造形方法 |
JPH0280422A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-20 | Asahi Denka Kogyo Kk | 樹脂の光学的造形方法 |
JPH0732696U (ja) * | 1993-11-25 | 1995-06-16 | 防衛庁技術研究本部長 | 水中吸音材ユニット |
JP2003509211A (ja) * | 1999-09-22 | 2003-03-11 | サーモディックス,インコーポレイティド | 開始剤基を有する水溶性コーティング剤およびコーティング方法 |
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JP2019108541A (ja) * | 2017-12-19 | 2019-07-04 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 硬化性組成物 |
DE112012004496B4 (de) | 2011-10-27 | 2021-11-11 | Hitachi Astemo, Ltd. | Gleichspannungs/Gleichspannungs-Umsetzer und Leistungsumsetzungsvorrichtung |
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