JPH07212012A - 光重合性混合物およびソルダレジストマスクの製造方法 - Google Patents
光重合性混合物およびソルダレジストマスクの製造方法Info
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- JPH07212012A JPH07212012A JP6265859A JP26585994A JPH07212012A JP H07212012 A JPH07212012 A JP H07212012A JP 6265859 A JP6265859 A JP 6265859A JP 26585994 A JP26585994 A JP 26585994A JP H07212012 A JPH07212012 A JP H07212012A
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- silica gel
- photopolymerizable
- solder resist
- resist mask
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- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/004—Photosensitive materials
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 良好な膜形成を可能とし、かつ安定な半田工
程を可能とする光重合性混合物および該混合物を用いた
ソルダレジストマスクの製造方法を提供することを目的
とする。 【構成】 光重合性混合物は、バインダ、光重合性モノ
マー、光重合開始剤、熱反応性基を２つ持つ化合物、フ
ィラー、塗膜補助剤、および艶消剤を含むもので、さら
に該艶消剤として、所定の給油度、粒子径、孔隙量、お
よび表面ｐＨ値を持つシリカゲルを含む。またソルダレ
ジストマスクの製造方法は、そのような光重合性混合物
を用いる。
程を可能とする光重合性混合物および該混合物を用いた
ソルダレジストマスクの製造方法を提供することを目的
とする。 【構成】 光重合性混合物は、バインダ、光重合性モノ
マー、光重合開始剤、熱反応性基を２つ持つ化合物、フ
ィラー、塗膜補助剤、および艶消剤を含むもので、さら
に該艶消剤として、所定の給油度、粒子径、孔隙量、お
よび表面ｐＨ値を持つシリカゲルを含む。またソルダレ
ジストマスクの製造方法は、そのような光重合性混合物
を用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光重合性混合物および
該光重合性混合物を用いたソルダレジストマスクの製造
方法に関する。特に本発明は、バインダ、光重合性モノ
マー、光重合開始剤、熱反応性基を２つ持つ化合物、フ
ィラー、塗膜補助剤、および艶消剤として所定の給油
度、粒子径、孔隙量、および表面ｐＨ値を持つシリカゲ
ルを含む光重合性混合物および該混合物を用いたソルダ
レジストマスクの製造方法に関する。
該光重合性混合物を用いたソルダレジストマスクの製造
方法に関する。特に本発明は、バインダ、光重合性モノ
マー、光重合開始剤、熱反応性基を２つ持つ化合物、フ
ィラー、塗膜補助剤、および艶消剤として所定の給油
度、粒子径、孔隙量、および表面ｐＨ値を持つシリカゲ
ルを含む光重合性混合物および該混合物を用いたソルダ
レジストマスクの製造方法に関する。
【０００２】なお、本明細書の記述は本件出願の優先権
の基礎たるドイツ国特許出願第４３３６ ９０１．４号
の明細書の記載に基づくものであって、当該ドイツ国特
許出願の番号を参照することによって当該ドイツ国特許
出願の明細書の記載内容が本明細書の一部分を構成する
ものとする。
の基礎たるドイツ国特許出願第４３３６ ９０１．４号
の明細書の記載に基づくものであって、当該ドイツ国特
許出願の番号を参照することによって当該ドイツ国特許
出願の明細書の記載内容が本明細書の一部分を構成する
ものとする。
【０００３】
【従来の技術】一般に知られているように、一端または
両端に純銅回路部品、あるいはまた、せん孔が形成され
た回路板を半田工程へ送る前に、回路板にソルダレジス
トマスクを塗布する。このソルダレジストマスクは、半
田工程の間、プリント回路を保護し、かつ完成した回路
板の半永久的保護層となる。したがって、このようなソ
ルダレジストの需要はたいへん高い。また、ソルダレジ
ストは、高温に強く、また製造工程での薬品による浸食
に対しても高い抵抗性を持つのみならず、湿気に対して
も強くなければならない。一方で、機械的な圧力による
破損を生ずることなく、かつ基板から分離しない程度の
柔軟性を持つものでなければならない。
両端に純銅回路部品、あるいはまた、せん孔が形成され
た回路板を半田工程へ送る前に、回路板にソルダレジス
トマスクを塗布する。このソルダレジストマスクは、半
田工程の間、プリント回路を保護し、かつ完成した回路
板の半永久的保護層となる。したがって、このようなソ
ルダレジストの需要はたいへん高い。また、ソルダレジ
ストは、高温に強く、また製造工程での薬品による浸食
に対しても高い抵抗性を持つのみならず、湿気に対して
も強くなければならない。一方で、機械的な圧力による
破損を生ずることなく、かつ基板から分離しない程度の
柔軟性を持つものでなければならない。
【０００４】ソルダレジストマスクを回路板上に乾燥膜
として積層することができる。また、ソルダレジストマ
スクをスクリーン印刷工程あるいはカーテンコーティン
グで耐水膜（liquid resit）として塗布することができ
る。この耐水膜はたいへん有益である。なぜなら、耐水
膜は、減圧下で積層する必要がなく、またプリント回路
のエバーファイナーライン（ever finer lines）をより
一層正確に覆うからである。欧州特許ＥＰ−Ｂ０ ００
２ ０４０号に開示されているように、耐水膜の塗布
は、特にカーテンコーティング工程のために行われる。
適当な光重合性混合物がEP B 0 075 537, DE-A 39 3146
7, EP-A 0 549 946, EP-A 0 424 866 および EP-A 0 23
3 623 に開示されている。上記フィラーとして、通常、
タルク、または熱分解法シリカおよび沈降シリカが用い
られる。 EP-A 0 384 226 の特定の方法によって作られ
たシリカも紫外線硬化する層で用いることができる。
として積層することができる。また、ソルダレジストマ
スクをスクリーン印刷工程あるいはカーテンコーティン
グで耐水膜（liquid resit）として塗布することができ
る。この耐水膜はたいへん有益である。なぜなら、耐水
膜は、減圧下で積層する必要がなく、またプリント回路
のエバーファイナーライン（ever finer lines）をより
一層正確に覆うからである。欧州特許ＥＰ−Ｂ０ ００
２ ０４０号に開示されているように、耐水膜の塗布
は、特にカーテンコーティング工程のために行われる。
適当な光重合性混合物がEP B 0 075 537, DE-A 39 3146
7, EP-A 0 549 946, EP-A 0 424 866 および EP-A 0 23
3 623 に開示されている。上記フィラーとして、通常、
タルク、または熱分解法シリカおよび沈降シリカが用い
られる。 EP-A 0 384 226 の特定の方法によって作られ
たシリカも紫外線硬化する層で用いることができる。
【０００５】EP-B 0 073 444 および EP-B 0 063 304
は、現像後ソルダレジストマスクが硬化するように、バ
インダのカルボキシ基に架橋結合する２つのエポキシ基
または他の熱反応基を含む光重合性混合物を開示してい
る。
は、現像後ソルダレジストマスクが硬化するように、バ
インダのカルボキシ基に架橋結合する２つのエポキシ基
または他の熱反応基を含む光重合性混合物を開示してい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のソ
ルダレジストマスク用光重合性混合物は、塗膜中にウエ
ッティングフロー（wetting flaws ）が生ずることであ
る。その結果、レジスト層が不均一に被覆されてしまう
という問題が生ずる。このような問題は、特別な塗膜補
助剤を用いることによってのみ回避できる。しかし、こ
のような補助剤は新たな問題を引き起こす。例えば、高
温時での添加物の浸出またはガス放出である。したがっ
て、仕上がったソルダレジスト層は気泡が認められ、か
つ「オレンジスキン（orange skin ）」と呼ばれる状態
となる。
ルダレジストマスク用光重合性混合物は、塗膜中にウエ
ッティングフロー（wetting flaws ）が生ずることであ
る。その結果、レジスト層が不均一に被覆されてしまう
という問題が生ずる。このような問題は、特別な塗膜補
助剤を用いることによってのみ回避できる。しかし、こ
のような補助剤は新たな問題を引き起こす。例えば、高
温時での添加物の浸出またはガス放出である。したがっ
て、仕上がったソルダレジスト層は気泡が認められ、か
つ「オレンジスキン（orange skin ）」と呼ばれる状態
となる。
【０００７】したがって、本発明は上記問題点を解決
し、良好な膜形成を可能とし、かつ安定な半田工程を可
能とする光重合性混合物および該混合物を用いたソルダ
レジストの製造方法を提供することを目的とする。
し、良好な膜形成を可能とし、かつ安定な半田工程を可
能とする光重合性混合物および該混合物を用いたソルダ
レジストの製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明にもとづく光重合性混合物（photopolymeriz
abe mixture ）は、（ａ）少なくとも一つの高分子バイ
ンダ（polymeric binder）と、（ｂ）少なくとも一つの
エチレン的に不飽和な基（ethylenicall unsaturated g
roup）を持つ少なくとも一つの光重合性モノマー（phot
opolymerizablemonomer）と、（ｃ）少なくとも一つの
フォトイニシエータ（photoinitiator）と、（ｄ）少な
くとも２つの熱反応性基（thermally reactive group）
を持つ少なくとも一つの化合物と、（ｅ）少なくとも一
つのフィラー（filler）と、（ｆ）少なくとも一つの塗
膜補助剤（coating aid ）と（ｇ）酸化シリコンを含む
少なくとも一つの艶消剤（matte agent ）とを含有する
光重合性混合物において、上記艶消剤は、少なくとも一
種類のシリカゲルを含むもので、該少なくとも一種類の
シリカゲルは、給油価（oil absorption number ）が２
００ｇ／１００ｇないし３６０ｇ／１００ｇ、平均粒子
径（average particle size ）が１μｍないし１０μ
ｍ、孔隙量（pore volume ）が１．２ｍｌ／ｇないし
２．０ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨ（surface pH）の値が
２ないし８であることを特徴とする。
に、本発明にもとづく光重合性混合物（photopolymeriz
abe mixture ）は、（ａ）少なくとも一つの高分子バイ
ンダ（polymeric binder）と、（ｂ）少なくとも一つの
エチレン的に不飽和な基（ethylenicall unsaturated g
roup）を持つ少なくとも一つの光重合性モノマー（phot
opolymerizablemonomer）と、（ｃ）少なくとも一つの
フォトイニシエータ（photoinitiator）と、（ｄ）少な
くとも２つの熱反応性基（thermally reactive group）
を持つ少なくとも一つの化合物と、（ｅ）少なくとも一
つのフィラー（filler）と、（ｆ）少なくとも一つの塗
膜補助剤（coating aid ）と（ｇ）酸化シリコンを含む
少なくとも一つの艶消剤（matte agent ）とを含有する
光重合性混合物において、上記艶消剤は、少なくとも一
種類のシリカゲルを含むもので、該少なくとも一種類の
シリカゲルは、給油価（oil absorption number ）が２
００ｇ／１００ｇないし３６０ｇ／１００ｇ、平均粒子
径（average particle size ）が１μｍないし１０μ
ｍ、孔隙量（pore volume ）が１．２ｍｌ／ｇないし
２．０ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨ（surface pH）の値が
２ないし８であることを特徴とする。
【０００９】好ましくは、上記シリカゲルの使用量は、
上記光重合性混合物に含まれる非揮発性成分中、０．１
重量％ないし５重量％である。
上記光重合性混合物に含まれる非揮発性成分中、０．１
重量％ないし５重量％である。
【００１０】好ましくは、上記シリカゲルの給油価は、
３００ｇ／１００ｇないし３４０ｇ／１００ｇである。
３００ｇ／１００ｇないし３４０ｇ／１００ｇである。
【００１１】好ましくは、上記シリカゲルの平均粒子径
は、２μｍないし８μｍである。
は、２μｍないし８μｍである。
【００１２】好ましくは、上記シリカゲルの孔隙量は、
１．８ｍｌ／ｇである。
１．８ｍｌ／ｇである。
【００１３】好ましくは、上記シリカゲルの表面ｐＨの
値は３ないし７である。
値は３ないし７である。
【００１４】好ましくは、上記高分子バインダは、アク
リレートまたはメタクリレート共重合体である。
リレートまたはメタクリレート共重合体である。
【００１５】好ましくは、上記モノマーは、酸およびア
ルコールからなる少なくとも一つのエステルを含むもの
で、上記酸はアクリル酸およびメタクリル酸からなる群
から選択され、また上記アルコールはビスフェノール−
Ａ−ビスヒドロキシエチルエーテル、ジペンタエリスリ
トール、トリメチロールプロパン、直鎖状Ｃ4 〜Ｃ12ア
ルカノールおよび分岐状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノールからな
る群から選択され、さらに上記直鎖状Ｃ4 〜Ｃ12アルカ
ノールおよび分岐状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノールのエステル
は、Ｈ2 Ｓによりオリゴマー化（origomerize ）されて
いる。
ルコールからなる少なくとも一つのエステルを含むもの
で、上記酸はアクリル酸およびメタクリル酸からなる群
から選択され、また上記アルコールはビスフェノール−
Ａ−ビスヒドロキシエチルエーテル、ジペンタエリスリ
トール、トリメチロールプロパン、直鎖状Ｃ4 〜Ｃ12ア
ルカノールおよび分岐状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノールからな
る群から選択され、さらに上記直鎖状Ｃ4 〜Ｃ12アルカ
ノールおよび分岐状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノールのエステル
は、Ｈ2 Ｓによりオリゴマー化（origomerize ）されて
いる。
【００１６】好ましくは、上記フィラーはタルクであ
る。
る。
【００１７】好ましくは、一つ以上のポリシロキサンが
上記塗膜剤として用いれる。
上記塗膜剤として用いれる。
【００１８】好ましくは、上記フォトイニシエータは、
ビスグリシジルエーテルであり、ビスフェノールＡの少
なくとも２つの熱反応性基、ビスフェノールＡのポリプ
ロピレングリコールエーテルまたはポリエチレングリコ
ールエーテルを持つ。
ビスグリシジルエーテルであり、ビスフェノールＡの少
なくとも２つの熱反応性基、ビスフェノールＡのポリプ
ロピレングリコールエーテルまたはポリエチレングリコ
ールエーテルを持つ。
【００１９】つぎに、本発明にもとづくソルダレジスト
マスクの製造方法は、（ａ）少なくとも一つの高分子バ
インダと、（ｂ）少なくとも一つのエチレン的に不飽和
な基を持つ少なくとも一つの光重合性モノマーと、
（ｃ）少なくとも一つのフォトイニシエータと、（ｅ）
少なくとも一つのフィラーと、（ｆ）少なくとも一つの
塗膜補助剤とをまず始めに混合し、つぎに（ｄ）少なく
とも２つの熱反応性基を持つ少なくとも一つの化合物を
加え、さらに（ｇ）二酸化シリコンを含む少なくとも一
つの艶消剤を加えることによって光重合性混合物からな
る溶液を調製する工程と、上記溶液を印刷回路板の表面
に塗布して乾燥し、上記光重合性混合物からなる層を設
ける工程と、上記層に、像を形成するようにして化学線
を照射することによりソルダのバリを取り除き、上記化
学線による照射を受けなかった領域を現像液で洗い流
し、かつ上記層を乾燥させてソルダレジストマスクを得
る工程と、上記ソルダレジストマスクを必要に応じた順
序で熱的に後処理し、化学線を照射する工程とを有し、
さらに上記艶消剤は、少なくとも一種類のシリカゲルを
含むもので、該少なくとも一種類のシリカゲルは、給油
価が２００ｇ／１００ｇないし３６０ｇ／１００ｇ、平
均粒子径が１μｍないし１０μｍ、孔隙量が１．２ｍｌ
／ｇないし２．０ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨの値が２な
いし８であることを特徴とする。
マスクの製造方法は、（ａ）少なくとも一つの高分子バ
インダと、（ｂ）少なくとも一つのエチレン的に不飽和
な基を持つ少なくとも一つの光重合性モノマーと、
（ｃ）少なくとも一つのフォトイニシエータと、（ｅ）
少なくとも一つのフィラーと、（ｆ）少なくとも一つの
塗膜補助剤とをまず始めに混合し、つぎに（ｄ）少なく
とも２つの熱反応性基を持つ少なくとも一つの化合物を
加え、さらに（ｇ）二酸化シリコンを含む少なくとも一
つの艶消剤を加えることによって光重合性混合物からな
る溶液を調製する工程と、上記溶液を印刷回路板の表面
に塗布して乾燥し、上記光重合性混合物からなる層を設
ける工程と、上記層に、像を形成するようにして化学線
を照射することによりソルダのバリを取り除き、上記化
学線による照射を受けなかった領域を現像液で洗い流
し、かつ上記層を乾燥させてソルダレジストマスクを得
る工程と、上記ソルダレジストマスクを必要に応じた順
序で熱的に後処理し、化学線を照射する工程とを有し、
さらに上記艶消剤は、少なくとも一種類のシリカゲルを
含むもので、該少なくとも一種類のシリカゲルは、給油
価が２００ｇ／１００ｇないし３６０ｇ／１００ｇ、平
均粒子径が１μｍないし１０μｍ、孔隙量が１．２ｍｌ
／ｇないし２．０ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨの値が２な
いし８であることを特徴とする。
【００２０】
【作用】光重合性混合物は、艶消剤として所定の給油
度、粒子径、孔隙量、および表面ｐＨ値を持つシリカゲ
ルを含むので、良好な膜形成が達成可能となり、かつ安
定な半田工程が可能となる。
度、粒子径、孔隙量、および表面ｐＨ値を持つシリカゲ
ルを含むので、良好な膜形成が達成可能となり、かつ安
定な半田工程が可能となる。
【００２１】
【実施例】本発明で有用な高分子バインダの好適な例
は、ペンダントカルボキシまたはカルボン酸無水物基で
ある。特に、より好ましい例は、アクリルまたはメタク
リル酸エステル、スチレン、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ま
たはビニルヘテロ環をコモノマー（comonomer ）として
含むアクリルおよびメタクリル酸共重合体である。アル
キル基の炭素数が好ましくは１〜１０、より好ましくは
１〜７のアルキルエステルを、メタクリル酸エステルと
して用いる。高分子バインダが混合物中で占める割合
は、混合物中の非揮発性成分に対して、一般に１５〜５
０、好ましくは２０〜４０重量％である。
は、ペンダントカルボキシまたはカルボン酸無水物基で
ある。特に、より好ましい例は、アクリルまたはメタク
リル酸エステル、スチレン、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ま
たはビニルヘテロ環をコモノマー（comonomer ）として
含むアクリルおよびメタクリル酸共重合体である。アル
キル基の炭素数が好ましくは１〜１０、より好ましくは
１〜７のアルキルエステルを、メタクリル酸エステルと
して用いる。高分子バインダが混合物中で占める割合
は、混合物中の非揮発性成分に対して、一般に１５〜５
０、好ましくは２０〜４０重量％である。
【００２２】光重合性モノマーは、少なくとも一つのエ
チレン的に不飽和の基を含むもので、一般にアクリルま
たはメタクリル酸のエステルからなる。モノマーの好ま
しい等級は、酸とアルコールとからなる少なくとも一つ
のエステルから形成される。好ましい酸は、アクリル酸
およびメタクリル酸から選択されるもので、一方好まし
いアルコールは、ビスフェノール−Ａ−ビスヒドロキシ
ルエチルエーテル、ジペンタエリスリトール、トリメチ
ロールプロパン、直鎖状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノール、およ
び分岐状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノールから選択されるもの
で、上記直鎖状および分岐状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノールの
エーテルは、Ｈ2 Ｓによってオリゴマー化されている。
Ｑｕｉｚらの米国特許４，３４０，７０７に開示された
方法は、Ｈ2 Ｓによるオリゴマー化によってオリゴマー
化エステルを合成するのに好適である。
チレン的に不飽和の基を含むもので、一般にアクリルま
たはメタクリル酸のエステルからなる。モノマーの好ま
しい等級は、酸とアルコールとからなる少なくとも一つ
のエステルから形成される。好ましい酸は、アクリル酸
およびメタクリル酸から選択されるもので、一方好まし
いアルコールは、ビスフェノール−Ａ−ビスヒドロキシ
ルエチルエーテル、ジペンタエリスリトール、トリメチ
ロールプロパン、直鎖状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノール、およ
び分岐状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノールから選択されるもの
で、上記直鎖状および分岐状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノールの
エーテルは、Ｈ2 Ｓによってオリゴマー化されている。
Ｑｕｉｚらの米国特許４，３４０，７０７に開示された
方法は、Ｈ2 Ｓによるオリゴマー化によってオリゴマー
化エステルを合成するのに好適である。
【００２３】好ましいモノマーは、ヒドロキシル基を２
つ含まなければならない。なぜなら、必要とする架橋効
果が多数の不飽和結合によって達成されるからである。
また、上記混合物に少量の一価アルコールを含ませるこ
とができる。例えば、好ましいアルコールは、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジ
オール、ジエチレングリコール、オリゴプロピレングリ
コール、トリメチルプロパン、ジペンタエリスリトー
ル、ジペンタエスリトールおよびビスフェノールＡビス
ヒドロキシエチルエーテルである。特に有益なものは、
ジペンタエリストリトール、ビスフェノールＡ、ビスヒ
ドロキシエチルエーテル、トリメチロールプロパンおよ
びエステルを有するメタクリレートとアクリレートで、
硫化水素によりオリゴマー化された直鎖状または分岐状
の脂肪族、多価アルコール、特にトリメチロールプロパ
ンである。モノマーは、上記混合物の非揮発性成分に対
して一般に１０〜３５、特に１５〜３０重量％の量で用
いられる。
つ含まなければならない。なぜなら、必要とする架橋効
果が多数の不飽和結合によって達成されるからである。
また、上記混合物に少量の一価アルコールを含ませるこ
とができる。例えば、好ましいアルコールは、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジ
オール、ジエチレングリコール、オリゴプロピレングリ
コール、トリメチルプロパン、ジペンタエリスリトー
ル、ジペンタエスリトールおよびビスフェノールＡビス
ヒドロキシエチルエーテルである。特に有益なものは、
ジペンタエリストリトール、ビスフェノールＡ、ビスヒ
ドロキシエチルエーテル、トリメチロールプロパンおよ
びエステルを有するメタクリレートとアクリレートで、
硫化水素によりオリゴマー化された直鎖状または分岐状
の脂肪族、多価アルコール、特にトリメチロールプロパ
ンである。モノマーは、上記混合物の非揮発性成分に対
して一般に１０〜３５、特に１５〜３０重量％の量で用
いられる。
【００２４】上記混合物はフォトイニシエータを含むも
ので、例えば該イニシエータはアルファ・ハロアセトフ
ェノン、ベンジル、ベンゾインまたはそれらのエステ
ル、ベンゾフェノン、ベンジルアセタール、アンスラキ
ノン、チオケトン、チオキサントン、アクリジン等であ
る。また、ブロモフォルム、２，４−ジニトロトルエン
およびトリフェニルメタン染料等のセパレートセンシタ
イザ（separate sensitezrs ）も用いることができる。
このフォトイニシエータの添加量は、上記混合物の非揮
発性成分に対して通常０．１〜１５、好ましくは０．５
〜１０重量％である。
ので、例えば該イニシエータはアルファ・ハロアセトフ
ェノン、ベンジル、ベンゾインまたはそれらのエステ
ル、ベンゾフェノン、ベンジルアセタール、アンスラキ
ノン、チオケトン、チオキサントン、アクリジン等であ
る。また、ブロモフォルム、２，４−ジニトロトルエン
およびトリフェニルメタン染料等のセパレートセンシタ
イザ（separate sensitezrs ）も用いることができる。
このフォトイニシエータの添加量は、上記混合物の非揮
発性成分に対して通常０．１〜１５、好ましくは０．５
〜１０重量％である。
【００２５】上記混合物は、熱反応性基を少なくとも２
つ有する１つ以上の化合物も含む。この熱反応性基は、
例えばエポキシ基、イソシアネート基または、直鎖また
は環状酸性アミドの窒素原子または芳香族炭素原子と結
合する基であり、そのような基は、例えば一般式
つ有する１つ以上の化合物も含む。この熱反応性基は、
例えばエポキシ基、イソシアネート基または、直鎖また
は環状酸性アミドの窒素原子または芳香族炭素原子と結
合する基であり、そのような基は、例えば一般式
【００２６】
【化１】ＣＨ2 −Ｏ−Ｒ （式中、Ｒは水素原子、または低級アルキル、アシル、
またヒドロキシアルキル基）で表される。二価または多
価エポキシ化合物が好ましい。好ましい例として、特
に、二価アルコールまたはフェノールのビスグリシジル
エーテルであり、例えばビスフェノールＡ、およびビス
フェノールＡのポリエチレングリコールエーテルまたは
ポリプロピレングリコールエーテルである。三価のアル
コールからなるビスグリシジルエーテル、例えばグリセ
リンも用いることができよう。ここで熱硬化剤とも呼ば
れるこれらの化合物の混合物中に占める量は、上記混合
物の非揮発性成分に対して、約５〜３０、好ましくは１
０〜２０重量％である。
またヒドロキシアルキル基）で表される。二価または多
価エポキシ化合物が好ましい。好ましい例として、特
に、二価アルコールまたはフェノールのビスグリシジル
エーテルであり、例えばビスフェノールＡ、およびビス
フェノールＡのポリエチレングリコールエーテルまたは
ポリプロピレングリコールエーテルである。三価のアル
コールからなるビスグリシジルエーテル、例えばグリセ
リンも用いることができよう。ここで熱硬化剤とも呼ば
れるこれらの化合物の混合物中に占める量は、上記混合
物の非揮発性成分に対して、約５〜３０、好ましくは１
０〜２０重量％である。
【００２７】光重合性混合物の他の成分は、フィラーで
ある。このフィラーは、例えばマイカ、炭酸カルシウ
ム、ケイ酸アルミニウム、酸化アルミニウム、タルク、
二酸化チタニウム、硫酸バリウム、または三酸化アンチ
モンである。タルクが好ましい。フィラーの量は、上記
混合物の非揮発性成分に対して、通常は５〜４０、好ま
しくは１５〜３０重量％である。
ある。このフィラーは、例えばマイカ、炭酸カルシウ
ム、ケイ酸アルミニウム、酸化アルミニウム、タルク、
二酸化チタニウム、硫酸バリウム、または三酸化アンチ
モンである。タルクが好ましい。フィラーの量は、上記
混合物の非揮発性成分に対して、通常は５〜４０、好ま
しくは１５〜３０重量％である。
【００２８】上記光重合性混合物は、塗膜補助剤も含
む。この塗膜補助剤は、例えばポリカルボン酸、ポリア
ミド、ポリシロキサン、またはポリウレタンを含む。ポ
リシロキサンが好ましい。塗膜補助剤の含有量は、上記
混合物の非揮発性成分に対して、通常０．０１〜１重量
％、好ましくは０．０１〜０．１重量％である。
む。この塗膜補助剤は、例えばポリカルボン酸、ポリア
ミド、ポリシロキサン、またはポリウレタンを含む。ポ
リシロキサンが好ましい。塗膜補助剤の含有量は、上記
混合物の非揮発性成分に対して、通常０．０１〜１重量
％、好ましくは０．０１〜０．１重量％である。
【００２９】艶消剤の重要な判定基準は、シリカゲルの
みを使用することである。沈降シリカおよび熱分解法シ
リカでは満足できない。なぜなら、それらは本発明のシ
リカゲルと同様の仕様を有するものであったとしても、
塗膜および湿潤に関した欠陥が生ずる。
みを使用することである。沈降シリカおよび熱分解法シ
リカでは満足できない。なぜなら、それらは本発明のシ
リカゲルと同様の仕様を有するものであったとしても、
塗膜および湿潤に関した欠陥が生ずる。
【００３０】艶消剤として用いられるシリカゲルは、給
油価が２００〜３６０／１００ｇ、好ましくは３００〜
３４０ｇ／１００ｇである。給油価は、１００ｇのピグ
メント（この場合シリカゲル）を、まさにガラスを汚さ
ない程度の、粘着性のあるパテ状の塊に変換するのに必
要とされる油の量を意味する。給油価の測定は、ＤＩＮ
標準ＩＳＯ７８７に基づいて行う。
油価が２００〜３６０／１００ｇ、好ましくは３００〜
３４０ｇ／１００ｇである。給油価は、１００ｇのピグ
メント（この場合シリカゲル）を、まさにガラスを汚さ
ない程度の、粘着性のあるパテ状の塊に変換するのに必
要とされる油の量を意味する。給油価の測定は、ＤＩＮ
標準ＩＳＯ７８７に基づいて行う。
【００３１】シリカゲルに関する他のパラメータは平均
粒子径であり、これは１〜１０μｍ、好ましくは２〜８
μｍである。
粒子径であり、これは１〜１０μｍ、好ましくは２〜８
μｍである。
【００３２】孔隙量も重要であり、これは１．２〜２．
０ｍｌ／ｇ、好ましくは１．８ｍｌ／ｇである。
０ｍｌ／ｇ、好ましくは１．８ｍｌ／ｇである。
【００３３】シリカゲルに関して他の重要な点は、表面
ｐＨの値であり、これは２〜８、好ましくは３〜７であ
る。
ｐＨの値であり、これは２〜８、好ましくは３〜７であ
る。
【００３４】また、シリカゲルは有機化合物で処理する
ことができる。シリカゲルの使用量は、上記混合物の非
揮発性成分に対して、０．１〜５、好ましくは０．５〜
２重量％である。
ことができる。シリカゲルの使用量は、上記混合物の非
揮発性成分に対して、０．１〜５、好ましくは０．５〜
２重量％である。
【００３５】上記混合物は、任意に他の慣用添加剤を加
えることができる。例えば、染料、安定剤、ピグメン
ト、可塑剤、センシタイザ、難燃剤、および硬化剤であ
る。
えることができる。例えば、染料、安定剤、ピグメン
ト、可塑剤、センシタイザ、難燃剤、および硬化剤であ
る。
【００３６】塗膜溶液を調製するのに好ましい溶剤は、
例えばジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン、グリコールおよびプロピレングリコールエー
テル、エステルおよびエーテルエステル、そしてそれぞ
れに対応するポリエチレングリコールまたはポリプロピ
レングリコール化合物であり、例えばメチルグリコー
ル、トリエチレングリコールモノエチルまたはモノブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
エチレングリコールモノアセテートまたはプロピレング
リコールメチルエーテルアセテートである。溶剤の使用
量は、塗膜混合物の粘度に関係している。該粘度は、好
ましくは２００〜１，２００、特に５００〜８００、そ
してもっとも好ましくは４００〜６００ｍＰａである。
例えばジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン、グリコールおよびプロピレングリコールエー
テル、エステルおよびエーテルエステル、そしてそれぞ
れに対応するポリエチレングリコールまたはポリプロピ
レングリコール化合物であり、例えばメチルグリコー
ル、トリエチレングリコールモノエチルまたはモノブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
エチレングリコールモノアセテートまたはプロピレング
リコールメチルエーテルアセテートである。溶剤の使用
量は、塗膜混合物の粘度に関係している。該粘度は、好
ましくは２００〜１，２００、特に５００〜８００、そ
してもっとも好ましくは４００〜６００ｍＰａである。
【００３７】上記混合物は、使用可能な形状で限定され
た安定性のみを有するため、限定された安定性の場合、
通常３つの部分に保存される。好ましい方法では、熱反
応性化合物および艶消剤を除くすべての成分からなる主
混合物を持つ。プロセスを実行する直前に、第一および
熱硬化剤を加え、つづいて艶消剤を加える。混合物を回
路板に塗布する。塗布するための手段としては、カーテ
ンコーテイング、スプレイ静電スプレイ、またはスクリ
ーン印刷が用いられる。
た安定性のみを有するため、限定された安定性の場合、
通常３つの部分に保存される。好ましい方法では、熱反
応性化合物および艶消剤を除くすべての成分からなる主
混合物を持つ。プロセスを実行する直前に、第一および
熱硬化剤を加え、つづいて艶消剤を加える。混合物を回
路板に塗布する。塗布するための手段としては、カーテ
ンコーテイング、スプレイ静電スプレイ、またはスクリ
ーン印刷が用いられる。
【００３８】光重合性混合物は、好ましくは市販のカー
テンコータにより塗布されるもので、欧州特許ＥＰ−Ｂ
００ ０２ ０４０に記載されているように、連続
し、縦断し、かつ液状の膜を、この膜の下をベルトを進
めることによって搬送される回路板上に塗布する。これ
によって得られる塗膜は、乾燥することによって溶媒か
ら取り除かれる。つぎに、塗膜回路板を、半田工程の影
響を受けてはならないプレートのパーツを保護する透明
部材を介して露光する。
テンコータにより塗布されるもので、欧州特許ＥＰ−Ｂ
００ ０２ ０４０に記載されているように、連続
し、縦断し、かつ液状の膜を、この膜の下をベルトを進
めることによって搬送される回路板上に塗布する。これ
によって得られる塗膜は、乾燥することによって溶媒か
ら取り除かれる。つぎに、塗膜回路板を、半田工程の影
響を受けてはならないプレートのパーツを保護する透明
部材を介して露光する。
【００３９】適当な重合開始剤を刺激するのに十分なエ
ネルギーを有するいっさいの電磁放射線を化学線として
使用した。特に、可視および紫外光、Ｘ線、および電子
ビームが適当である。短波長、可視、かつ近紫外光が好
ましい。像が露光された層は、水溶液、好ましはアルカ
リ水溶液によって現像される。つづいて、現像されたソ
ルダレジストマスクを熱処理にかける。この熱処理は、
８０〜１８０℃で１０〜１２０分間実施する。その後、
当業者に既知の方法によいってソルダを伝導性を有し、
かつ磨かれていない領域に塗布する。
ネルギーを有するいっさいの電磁放射線を化学線として
使用した。特に、可視および紫外光、Ｘ線、および電子
ビームが適当である。短波長、可視、かつ近紫外光が好
ましい。像が露光された層は、水溶液、好ましはアルカ
リ水溶液によって現像される。つづいて、現像されたソ
ルダレジストマスクを熱処理にかける。この熱処理は、
８０〜１８０℃で１０〜１２０分間実施する。その後、
当業者に既知の方法によいってソルダを伝導性を有し、
かつ磨かれていない領域に塗布する。
【００４０】このようにして得られた印刷回路は、要求
を満たす保護塗膜を有する。また、この層は塗膜の欠陥
がないマット面を有する。電気的特性の劣化は認められ
ず、また半田槽のなかでも高い安定性を示す。
を満たす保護塗膜を有する。また、この層は塗膜の欠陥
がないマット面を有する。電気的特性の劣化は認められ
ず、また半田槽のなかでも高い安定性を示す。
【００４１】以下、具体的な実施例にもとづいて本発明
を詳細に説明する。なお、パーセントおよび部は重量％
および重量部である。
を詳細に説明する。なお、パーセントおよび部は重量％
および重量部である。
【００４２】実施例１ 光重合性混合物を、酸価が１１０のポリメチルメタクリ
レートからなる共重合体３０．２ｇ、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、硫化水素によりオリゴマー
化されたトリメチロールトリアクリレート、およびビス
フェノールＡジグリシジルエーテルのジアクリレートか
らなるモノマー混合物３３．２ｇ、フォトイニシエータ
混合物６．７ｇ、タルク２０ｇ、グリーンピグメント
０．４ｇ、ポリシロキサン０．３ｇ、およびビスフェノ
ールＡジグリシジルエーテル９．２ｇを含むプロピレン
グリコールメチルエーテルアセテートから調製した。ジ
グリシルエーテルは最後に加えた。塗膜溶液の粘度は、
６００ｍＰａであった。
レートからなる共重合体３０．２ｇ、ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、硫化水素によりオリゴマー
化されたトリメチロールトリアクリレート、およびビス
フェノールＡジグリシジルエーテルのジアクリレートか
らなるモノマー混合物３３．２ｇ、フォトイニシエータ
混合物６．７ｇ、タルク２０ｇ、グリーンピグメント
０．４ｇ、ポリシロキサン０．３ｇ、およびビスフェノ
ールＡジグリシジルエーテル９．２ｇを含むプロピレン
グリコールメチルエーテルアセテートから調製した。ジ
グリシルエーテルは最後に加えた。塗膜溶液の粘度は、
６００ｍＰａであった。
【００４３】この溶液を市販のカーテンコータを用い、
かつ標準的な状態で回路板に塗装し、さらに８０℃で２
０分間乾燥した。膜形成は満足いくものでなく、膜表面
に光沢が得られた（９０％）。
かつ標準的な状態で回路板に塗装し、さらに８０℃で２
０分間乾燥した。膜形成は満足いくものでなく、膜表面
に光沢が得られた（９０％）。
【００４４】このようにして得られた光重合性層を透過
膜を介して露光し、水溶性アルカリ現像液で洗った。
膜を介して露光し、水溶性アルカリ現像液で洗った。
【００４５】そして、このソルダレジストマスクを有す
る回路板を従来の半田工程に供した。このソルダレジス
トマスクは、半田槽内で安定であり、要求される絶縁特
性を達成した。
る回路板を従来の半田工程に供した。このソルダレジス
トマスクは、半田槽内で安定であり、要求される絶縁特
性を達成した。
【００４６】実施例２ 有機的処理がなされたシリカゲル（給油価３００ｇ／１
００ｇ、平均粒子径４μｍ、孔隙量１．８ｍｌ／ｇ、お
よび表面ｐＨ３）１．５ｇを、実施例１にもとづいて調
製された塗膜溶液に加えた。そして、実施例１と同様に
して、この光重合性混合物を回路板に塗装した。膜形成
は良好で、ベナードのセルや気泡は発生しなかった。ま
た、マット面（４５％反射）を有するソルダレジストマ
スクが得られた。これは、必要とされる絶縁特性を示
し、また半田工程で安定であった。
００ｇ、平均粒子径４μｍ、孔隙量１．８ｍｌ／ｇ、お
よび表面ｐＨ３）１．５ｇを、実施例１にもとづいて調
製された塗膜溶液に加えた。そして、実施例１と同様に
して、この光重合性混合物を回路板に塗装した。膜形成
は良好で、ベナードのセルや気泡は発生しなかった。ま
た、マット面（４５％反射）を有するソルダレジストマ
スクが得られた。これは、必要とされる絶縁特性を示
し、また半田工程で安定であった。
【００４７】実施例３ シリカゲル（給油価３２０ｇ／１００ｇ、平均粒子径５
μｍ、孔隙量１．８ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨ７）２ｇ
を、実施例１にもとづいて調製された塗膜溶液に加え
た。そして、実施例１と同様にして、この光重合性混合
物を回路板に塗装した。膜形成は良好で、ベナードのセ
ルや気泡は発生しなかった。また、マット面（５５％反
射）を有するソルダレジストマスクが得られた。これ
は、必要とされる絶縁特性を示し、また半田工程で安定
であった。
μｍ、孔隙量１．８ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨ７）２ｇ
を、実施例１にもとづいて調製された塗膜溶液に加え
た。そして、実施例１と同様にして、この光重合性混合
物を回路板に塗装した。膜形成は良好で、ベナードのセ
ルや気泡は発生しなかった。また、マット面（５５％反
射）を有するソルダレジストマスクが得られた。これ
は、必要とされる絶縁特性を示し、また半田工程で安定
であった。
【００４８】実施例４ シリカゲル（給油価３２０ｇ／１００ｇ、平均粒子径３
μｍ、孔隙量１．８ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨ７）１ｇ
を、実施例１にもとづいて調製された塗膜溶液に加え
た。そして、実施例１と同様にして、この光重合性混合
物を回路板に塗装した。膜形成はたいへん良好で、ベナ
ードのセルや気泡は発生しなかった。また、マット面
（６０％反射）を有するソルダレジストマスクが得られ
た。これは、必要とされる絶縁特性を示し、また半田工
程で安定であった。
μｍ、孔隙量１．８ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨ７）１ｇ
を、実施例１にもとづいて調製された塗膜溶液に加え
た。そして、実施例１と同様にして、この光重合性混合
物を回路板に塗装した。膜形成はたいへん良好で、ベナ
ードのセルや気泡は発生しなかった。また、マット面
（６０％反射）を有するソルダレジストマスクが得られ
た。これは、必要とされる絶縁特性を示し、また半田工
程で安定であった。
【００４９】実施例５ シリカゲル（給油価３００ｇ／１００ｇ、平均粒子径４
μｍ、孔隙量１．８ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨ３）１．
５ｇを、実施例１にもとづいて調製された塗膜溶液に加
えた。そして、実施例１と同様にして、この光重合性混
合物を回路板に塗装した。膜形成は良好で、ベナードの
セルや気泡は発生しなかった。また、マット面（５０％
反射）を有するソルダレジストマスクが得られた。これ
は、必要とされる絶縁特性を示し、また半田工程で安定
であった。
μｍ、孔隙量１．８ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨ３）１．
５ｇを、実施例１にもとづいて調製された塗膜溶液に加
えた。そして、実施例１と同様にして、この光重合性混
合物を回路板に塗装した。膜形成は良好で、ベナードの
セルや気泡は発生しなかった。また、マット面（５０％
反射）を有するソルダレジストマスクが得られた。これ
は、必要とされる絶縁特性を示し、また半田工程で安定
であった。
【００５０】実施例６ 熱分解法シリカ（給油価３６０ｇ／１００ｇ、平均粒子
径４μｍ、および表面ｐＨ６〜７）１．５ｇを、実施例
１にもとづいて調製された塗膜溶液に加えた。そして、
実施例１と同様にして、この光重合性混合物を回路板に
塗装した。マット面（５５％反射）を有するソルダレジ
ストマスクが得られた。しかし、膜形成は不完全であっ
た。
径４μｍ、および表面ｐＨ６〜７）１．５ｇを、実施例
１にもとづいて調製された塗膜溶液に加えた。そして、
実施例１と同様にして、この光重合性混合物を回路板に
塗装した。マット面（５５％反射）を有するソルダレジ
ストマスクが得られた。しかし、膜形成は不完全であっ
た。
【００５１】実施例７ 沈降シリカ（給油価２３０ｇ／１００ｇ、平均粒子径３
μｍ、および表面ｐＨ５〜７）１．５ｇを、実施例１に
もとづいて調製された塗膜溶液に加えた。そして、実施
例１と同様にして、この光重合性混合物を回路板に塗装
した。マット面（６０％反射）を有するソルダレジスト
マスクが得られた。しかし、膜形成は満足できるもので
はなかった。
μｍ、および表面ｐＨ５〜７）１．５ｇを、実施例１に
もとづいて調製された塗膜溶液に加えた。そして、実施
例１と同様にして、この光重合性混合物を回路板に塗装
した。マット面（６０％反射）を有するソルダレジスト
マスクが得られた。しかし、膜形成は満足できるもので
はなかった。
【００５２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にもとづく
光重合性混合物は、バインダ、光重合性モノマー、光重
合開始剤、熱反応性基を２つ持つ化合物、フィラー、塗
膜補助剤、および艶消剤として所定の給油度、粒子径、
孔隙量、および表面ｐＨ値を持つシリカゲルを含むもの
であり、また本発明にもとづくソルダレジストマスクの
製造方法は、そのような光重合性混合物を用いるので、
良好な膜形成を可能とし、かつ安定な半田工程を可能と
する。
光重合性混合物は、バインダ、光重合性モノマー、光重
合開始剤、熱反応性基を２つ持つ化合物、フィラー、塗
膜補助剤、および艶消剤として所定の給油度、粒子径、
孔隙量、および表面ｐＨ値を持つシリカゲルを含むもの
であり、また本発明にもとづくソルダレジストマスクの
製造方法は、そのような光重合性混合物を用いるので、
良好な膜形成を可能とし、かつ安定な半田工程を可能と
する。
フロントページの続き (72)発明者 ディーター バートマン ドイツ 63065 オッフェンバッハ カイ ザーシュトラーセ 23 (72)発明者 トーマス フェイ ドイツ 55128 マインツ ドライザーシ ュトラーセ 131 (72)発明者 ガブリエレ マン ドイツ 63263 ノイ−アイゼンブルグ タウナスシュトラーセ 56 (72)発明者 ルシナ ヒンツ ドイツ 63303 ドライエイヒ ロイター ファド 41
Claims (12)
- 【請求項１】 （ａ）少なくとも一つの高分子バインダ
と、 （ｂ）少なくとも一つのエチレン的に不飽和な基を持つ
少なくとも一つの光重合性モノマーと、 （ｃ）少なくとも一つのフォトイニシエータと、 （ｄ）少なくとも２つの熱反応性基を持つ少なくとも一
つの化合物と、 （ｅ）少なくとも一つのフィラーと、 （ｆ）少なくとも一つの塗膜補助剤と、 （ｇ）酸化シリコンを含む少なくとも一つの艶消剤とを
含有する光重合性混合物において、 前記艶消剤は、少なくとも一種類のシリカゲルを含むも
ので、該少なくとも一種類のシリカゲルは、給油価が２
００ｇ／１００ｇないし３６０ｇ／１００ｇ、平均粒子
径が１μｍないし１０μｍ、孔隙量が１．２ｍｌ／ｇな
いし２．０ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨの値が２ないし８
であることを特徴とする光重合性混合物。 - 【請求項２】 請求項１記載の光重合性混合物におい
て、 前記シリカゲルの使用量は、前記光重合性混合物に含ま
れる非揮発性成分中、０．１重量％ないし５重量％であ
ることを特徴とすることを特徴とする光重合性混合物。 - 【請求項３】 請求項１または２記載の光重合性混合物
において、 前記シリカゲルの給油価は、３００ｇ／１００ｇないし
３４０ｇ／１００ｇであることを特徴とする光重合性混
合物。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１項記載の
光重合性混合物において、 前記シリカゲルの平均粒子径は、２μｍないし８μｍで
あることを特徴とする光重合性混合物。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか１項記載の
光重合性混合物において、 前記シリカゲルの孔隙量は、１．８ｍｌ／ｇであること
を特徴とする光重合性混合物。 - 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれか１項記載の
光重合性混合物において、 前記シリカゲルの表面ｐＨの値は３ないし７であること
を特徴とする光重合性混合物。 - 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれか１項記載の
光重合性混合物において、 前記高分子バインダは、アクリレートまたはメタクリレ
ート共重合体であることを特徴とする光重合性混合物。 - 【請求項８】 請求項１ないし７のいずれか１項記載の
光重合性混合物において、 前記モノマーは、酸およびアルコールからなる少なくと
も一つのエステルを含むもので、前記酸はアクリル酸お
よびメタクリル酸からなる群から選択され、また前記ア
ルコールはビスフェノール−Ａ−ビスヒドロキシエチル
エーテル、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプ
ロパン、直鎖状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノールおよび分岐状Ｃ
4 〜Ｃ12アルカノールからなる群から選択され、さらに
前記直鎖状Ｃ4 〜Ｃ12アルカノールおよび分岐状Ｃ4 〜
Ｃ12アルカノールのエステルは、Ｈ2 Ｓによりオリゴマ
ー化されていることを特徴とする光重合性混合物。 - 【請求項９】 請求項１ないし８のいずれか一項記載の
光重合性混合物において、前記フィラーはタルクである
ことを特徴とする光重合性混合物。 - 【請求項１０】 請求項１ないし９のいずれか一項記載
の光重合性混合物において、一つ以上のポリシロキサン
が前記塗膜剤として用いれることを特徴とする光重合性
混合物。 - 【請求項１１】 請求項１ないし１０のいずれか一項記
載の光重合性混合物において、前記フォトイニシエータ
は、ビスグリシジルエーテルであり、ビスフェノールＡ
の少なくとも２つの熱反応性基、ビスフェノールＡのポ
リプロピレングリコールエーテルまたはポリエチレング
リコールエーテルを持つことを特徴とする光重合性混合
物。 - 【請求項１２】 ソルダレジストマスクの製造方法にお
いて、 （ａ）少なくとも一つの高分子バインダと、（ｂ）少な
くとも一つのエチレン的に不飽和な基を持つ少なくとも
一つの光重合性モノマーと、（ｃ）少なくとも一つのフ
ォトイニシエータと、（ｅ）少なくとも一つのフィラー
と、（ｆ）少なくとも一つの塗膜補助剤とをまず始めに
混合し、つぎに（ｄ）少なくとも２つの熱反応性基を持
つ少なくとも一つの化合物を加え、さらに（ｇ）二酸化
シリコンを含む少なくとも一つの艶消剤を加えることに
よって光重合性混合物からなる溶液を調製する工程と、 前記溶液を印刷回路板の表面に塗布して乾燥し、前記光
重合性混合物からなる層を設ける工程と、 前記層に、像を形成するようにして化学線を照射するこ
とによりソルダのバリを取り除き、前記化学線による照
射を受けなかった領域を現像液で洗い流し、かつ前記層
を乾燥させてソルダレジストマスクを得る工程と、 前記ソルダレジストマスクを必要に応じた順序で熱的に
後処理し、化学線を照射する工程とを有し、さらに前記
艶消剤は、少なくとも一種類のシリカゲルを含むもの
で、該少なくとも一種類のシリカゲルは、給油価が２０
０ｇ／１００ｇないし３６０ｇ／１００ｇ、平均粒子径
が１μｍないし１０μｍ、孔隙量が１．２ｍｌ／ｇない
し２．０ｍｌ／ｇ、および表面ｐＨの値が２ないし８で
あることを特徴とするソルダレジストマスクの製造方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4336901A DE4336901A1 (de) | 1993-10-28 | 1993-10-28 | Photopolymerisierbares Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Lötstopmasken |
| DE4336901.4 | 1993-10-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07212012A true JPH07212012A (ja) | 1995-08-11 |
Family
ID=6501298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6265859A Pending JPH07212012A (ja) | 1993-10-28 | 1994-10-28 | 光重合性混合物およびソルダレジストマスクの製造方法 |
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- 1994-10-28 JP JP6265859A patent/JPH07212012A/ja active Pending
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