WO2004028813A1 - 液体吐出装置 - Google Patents

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WO2004028813A1
WO2004028813A1 PCT/JP2003/012099 JP0312099W WO2004028813A1 WO 2004028813 A1 WO2004028813 A1 WO 2004028813A1 JP 0312099 W JP0312099 W JP 0312099W WO 2004028813 A1 WO2004028813 A1 WO 2004028813A1
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nozzle
voltage
solution
discharge
liquid
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PCT/JP2003/012099
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yasuo Nishi
Kaoru Higuchi
Kazuhiro Murata
Hiroshi Yokoyama
Original Assignee
Konica Minolta Holdings, Inc.
Sharp Kabushiki Kaisha
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology
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Priority to DE60331331T priority patent/DE60331331D1/de
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Definitions

  • the present invention relates to a liquid ejection device that ejects a liquid to a substrate.
  • the conventional ink jet recording method includes a piezo method in which ink droplets are ejected by deforming an ink flow path by vibrating a piezoelectric element.
  • a heat generating element is provided in the ink flow path, and the heat generating element generates heat to generate bubbles.
  • a thermal method in which ink droplets are ejected in response to pressure changes in the ink flow path caused by bubbles, and the ink in the ink flow path is charged to discharge ink droplets by electrostatic attraction of the ink. The electrosuction method is known.
  • Such an ink jet printer includes a plurality of convex ink guides for ejecting ink from the front end thereof, a counter electrode disposed opposite to the front end of each ink guide and grounded, and an ink guide for each ink guide. And an ejection electrode for applying an ejection voltage to the ink.
  • the convex ink guide is characterized in that two kinds of ink guides having different slit widths are prepared, and two types of droplets can be ejected by selectively using these two kinds. .
  • This conventional ink jet printer discharges an ink droplet by applying a pulse voltage to the discharge electrode, and the ink droplet is directed to the counter electrode side by an electric field formed between the discharge electrode and the counter electrode. Leading.
  • the nozzle diameter is large, the shape of the droplet ejected from the nozzle is not stable, and there is a limit to miniaturization of the droplet.
  • Patent Document 1 in order to perform ink ejection only by applying a pulse voltage to ink, it is necessary to apply a high voltage to an electrode to which the pulse voltage is applied. ) And (3) tend to promote the problem.
  • a first object to provide a liquid ejection device capable of ejecting fine droplets.
  • a second object is to provide a liquid ejection device capable of ejecting stable droplets.
  • a third object is to provide an inexpensive liquid ejecting apparatus that can reduce the applied voltage. Disclosure of the invention
  • the present invention relates to a liquid ejecting apparatus for ejecting a droplet of a charged solution to a base material, wherein the liquid ejecting head has a nozzle having an inner diameter of 30 [m] or less at a tip for discharging a droplet from the tip.
  • a solution supply means for supplying a solution into the nozzle; and a discharge voltage applying means for applying a discharge voltage to the solution in the nozzle, wherein the solution in the nozzle protrudes from the tip of the nozzle.
  • a convex meniscus forming means for forming a closed state is provided.
  • nozzle diameter refers to the internal diameter of the nozzle at the tip end for discharging the droplet (the internal diameter of the tip end of the nozzle).
  • the sectional shape of the liquid ejection hole in the nozzle is not limited to a circle.
  • the cross-sectional shape of the liquid ejection hole is a polygon, a star, or any other shape, it indicates that the circumcircle of the cross-sectional shape is 30 [ ⁇ ] or less.
  • nozzle radius refers to the length of 1/2 of this nozzle diameter (the inner diameter of the nozzle tip). Shall be indicated.
  • the term “substrate” refers to an object to which droplets of a discharged solution are landed, and the material is not particularly limited. Therefore, for example, when the above configuration is applied to an ink jet printer, a recording medium such as paper or a sheet corresponds to the base material, and when a circuit is formed using a conductive paste, the circuit is formed. The base to be done will correspond to the substrate.
  • the nozzle or the base material is arranged such that the night drop receiving surface faces the tip of the nozzle.
  • the arrangement work for realizing the mutual positional relationship may be performed by either moving the nozzle or moving the base material.
  • the solution is supplied into the liquid discharge head by the solution supply means.
  • the solution in the nozzle is required to be charged to discharge. Note that an electrode dedicated to charging for applying a voltage necessary for charging the solution may be provided.
  • the convex meniscus forming means forms a force (convex meniscus) in a state where the solution is raised at the nozzle tip.
  • a force convex meniscus
  • a method of increasing the internal pressure of the nozzle within a range in which droplets do not spill from the tip of the nozzle is adopted.
  • an ejection voltage at the convex meniscus position is applied to the solution in the liquid ejection head by the ejection voltage applying means.
  • the ejection voltage is set to a range in which the ejection is not performed by itself and the ejection is possible in cooperation with the meniscus formation by the convex meniscus forming means. Therefore, when a convex meniscus is formed at the tip of the nozzle by the driving voltage for forming the convex meniscus, the droplet of the solution flies in a direction perpendicular to the receiving surface of the substrate from the projecting tip of the convex meniscus. A dot of the solution is formed on the receiving surface of the substrate.
  • the present invention has the convex meniscus forming means, it is possible to concentrate the discharge point of the liquid droplet on the vertex of the convex meniscus, and discharge the liquid droplet with a smaller discharge force than in the case of a flat or concave shape. It is possible to further reduce the discharge voltage by positively utilizing the reduction of the discharge voltage due to the smooth discharge and the difference in the discharge voltage at the position of the meniscus force.
  • a voltage is applied to the solution for both the formation of a convex meniscus and the ejection of a droplet.
  • the formation of the convex meniscus is different from the discharge voltage applying means for applying a voltage to the solution. Since the ejection is performed by the convex meniscus forming means and the droplet is ejected by applying the voltage by the ejection voltage applying means, the value of the voltage applied to the solution at the time of ejection can be reduced.
  • the present invention increases the electric field strength by concentrating the electric field at the nozzle tip by making the nozzle an unprecedented ultra-fine diameter, and at the same time, up to the mirror image charge or the image charge on the substrate side induced at that time.
  • the droplet flies by the electrostatic force of the electric field generated during the period. Therefore, it is possible to discharge droplets at a lower voltage than previously thought, even though it is a fine nozzle, and it is possible to discharge liquid droplets easily even if the base material is a conductor or an insulator. Drops can be ejected.
  • the counter electrode may be used in combination.
  • the base material is arranged along the opposing surface of the opposing electrode, and that the opposing surface of the opposing electrode is arranged perpendicular to the direction in which droplets are ejected from the nozzle. This makes it possible to use the electrostatic force of the electric field between the nozzle and the opposing electrode together to guide the flying electrode, and if the opposing electrode is grounded, the electric charge of the charged droplets is transferred to the air. In addition to discharging, it can be released via the counter electrode, and the effect of reducing charge accumulation can be obtained.
  • the apparatus further comprises operation control means for controlling application of a driving voltage for driving the convex meniscus forming means and application of a discharge voltage by the discharge voltage applying means, respectively. It is also possible to have a configuration including a first ejection control unit for applying the driving voltage of the convex meniscus forming means at the time of ejecting the droplet while applying the ejection voltage by the means.
  • the liquid droplets are ejected from the nozzle tip by forming a convex meniscus according to the necessity of ejection while the ejection voltage is applied to the solution in advance by the first ejection control unit.
  • the required electrostatic force is reached, and the droplet is ejected.
  • operation control means for controlling the application of the driving voltage of the convex meniscus forming means and the application of the discharge voltage by the discharge voltage applying means, and the operation control means is provided by the convex meniscus forming means. It is also possible to adopt a configuration having a second ejection control unit that synchronizes the operation of raising the solution and the application of the ejection voltage.
  • synchronization refers to the case where the period during which the solution raising operation is performed and the period during which the discharge voltage is applied coincide in terms of timing, and the start and end of one period and the other period. This includes a case where at least the periods required for ejection of liquid droplets overlap while there is a shift in the end timing.
  • a configuration having a liquid level stabilization control unit that performs an operation control for causing the liquid level at the nozzle tip to be drawn inward after the solution raising operation and the application of the discharge voltage in addition to the above-described configurations. It is good.
  • the droplet at the nozzle tip is sucked inward due to, for example, a decrease in the nozzle internal pressure. This is because when the droplet flies from the convex meniscus, the convex meniscus may vibrate due to the flight. In that case, the next ejection is performed after waiting for calming down to prevent the effect of the vibration. Creates a need.
  • the liquid state of the solution at the tip of the nozzle is temporarily sucked into the nozzle to eliminate the convex state once and pass through the nozzle with low conductance. Rectification by Eliminate liquid level vibration. Therefore, the liquid surface can be aggressively and quickly calmed down, and the next formation and ejection of the convex meniscus can be performed immediately without waiting for a certain waiting time for calm down after suction as in the conventional case. it can.
  • the convex meniscus forming unit may have a configuration in which a piezoelectric element that changes the volume in the nozzle is provided.
  • the formation of the convex meniscus is performed by the piezoelectric element changing the internal volume of the nozzle due to its shape change and increasing the nozzle pressure.
  • the nozzle volume is changed by changing the shape of the piezoelectric element, and the nozzle pressure is reduced.
  • high-frequency driving can be performed without restriction on the solution.
  • the convex meniscus forming means may have a heater that generates bubbles in the solution in the nozzle.
  • the formation of the convex meniscus is performed by heating the heater to form bubbles by evaporating the solution and increasing the nozzle pressure.
  • the present invention is restricted in principle by the discharge solution, it is structurally simpler and has a higher density in multi-nozzle compared to the case of using a driving element such as a piezoelectric element or an electrostatic actuator. And the environment is adequate.
  • a configuration may be adopted in which the discharge voltage applying unit applies the discharge voltage ⁇ satisfying the range of the following expression (1).
  • ⁇ / ⁇ Dielectric constant of vacuum (F / m)
  • d Nozzle diameter (m)
  • h Distance between nozzle and base material (m)
  • k Nozzle shape Dependent proportional constant (1.5 x k x 8.5).
  • the ejection voltage V in the range of the above equation (1) is applied to the solution in the nozzle.
  • the term on the left which is a reference for the upper limit of the ejection voltage ⁇ /, is the limit of the conventional case where the droplet is ejected by the electric field between the nozzle and the counter electrode. It shows a low ejection voltage.
  • the discharge of the minute droplets is performed in a range lower than the conventional limit minimum discharge voltage, which was not realized by the conventional technology, due to the effect of the electric field collection by the ultra-miniaturized nozzle. Can be realized by setting.
  • the term on the right side which is the reference for the lower limit of the ejection voltage V in the above equation (1), is the minimum ejection voltage of the present invention for ejecting droplets by staking the surface tension due to the solution at the tip of the nozzle. Is shown. That is, even if a voltage lower than the limit minimum discharge voltage is applied, the droplet is not discharged. For example, a higher value with the limit minimum discharge voltage as a boundary is set as the discharge voltage, and a lower value is set as the lower limit.
  • By switching between the voltage and the ejection voltage on / off control of the ejection operation can be performed. That is, it is possible to control the on / off of the ejection operation only by switching the voltage level. In this case, it is desirable that the low voltage value at which the discharge is turned off is close to the minimum discharge voltage. Thereby, it is possible to narrow the voltage change width in switching on and off, and to improve the responsiveness.
  • the nozzle may be formed of an insulating material, or at least the tip of the nozzle may be formed of an insulating material.
  • the insulating property means a dielectric breakdown strength of 10 [kV / thigh] or more, preferably 21 [kV / image] or more, more preferably 30 [kY / nim] or more.
  • the dielectric strength refers to the “dielectric strength” described in ⁇ IS-C2110, and refers to the value measured by the measurement method described in the JIS.
  • the nozzle By forming the nozzle in this manner, the discharge from the nozzle tip is effectively suppressed, and the liquid can be discharged in a state where the charge of the solution is effectively charged, so that the liquid can be smoothly discharged. Good ejection can be performed.
  • the nozzle diameter may be less than 20 [/ mi].
  • the inner diameter of the nozzle may be 10 [im] or less.
  • the inner diameter of the nozzle may be set to 8 [m] or less.
  • the inner diameter of the nozzle may be set as follows. With this configuration, remarkable electric field concentration can be achieved, the maximum electric field intensity can be increased, the droplets can be made ultra-fine with a stable shape, and the initial droplet discharge speed can be increased. . As a result, the flight stability is improved, so that the landing accuracy can be further improved, and the ejection responsiveness can be improved.
  • the inner diameter of the nozzle is preferably larger than 0.2 ra]. By making the inner diameter of the nozzle larger than 0.2 [xiii], the charging efficiency of the droplets can be improved, so that the ejection stability of the droplets can be improved.
  • the nozzle is formed of an electrically insulating material, and an electrode for applying a discharge voltage is inserted into the nozzle or plating is performed to function as the electrode. Is preferred.
  • the nozzle is formed of an electrically insulating material, an electrode is inserted in the nozzle, or a plating as an electrode is formed, and a discharge electrode is provided outside the nozzle.
  • the discharge electrode outside the nozzle is provided on, for example, the entire periphery or a part of the end surface on the tip side of the nozzle or the side surface on the tip end side of the nozzle.
  • the ejection force can be improved, so that the droplet can be ejected at a low voltage even if the nozzle diameter is further reduced.
  • the substrate is formed of a conductive material or an insulating material.
  • the ejection voltage to be applied is 1000 V or less.
  • the ejection voltage to be applied is below.
  • the distance between the nozzle and the base material be 500 ra] or less, since high impact accuracy can be obtained even when the nozzle diameter is small. Further, it is preferable that the pressure is applied to the solution in the nozzle.
  • FIG. 1A is a distribution diagram of the electric field strength when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [/ u m] when the nozzle diameter is * 0.2 [m]
  • FIG. FIG. 4 is a distribution diagram of electric field intensity when a distance between a nozzle and a counter electrode is set to 100 [m].
  • FIG. 2A is a distribution diagram of the electric field intensity when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [xm] when the nozzle diameter is ⁇ 0.4 [rn], and
  • FIG. FIG. 9 is a distribution diagram of electric field strength when the distance from the opposing electrode is set to 100 m].
  • FIG. 3A is a distribution diagram of the electric field intensity when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [im] when the nozzle diameter is ⁇ 1 [/ m]
  • FIG. FIG. 4 is a distribution diagram of electric field intensity when the distance between the electrode and the counter electrode is set to 100 [m].
  • FIG. 4A is a distribution diagram of the electric field strength when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [ ⁇ ] when the nozzle diameter is ⁇ 8 [m].
  • FIG. 4 is a distribution diagram of electric field intensity when a distance from an electrode is set to 100 [m].
  • FIG. 5A is a distribution diagram of the electric field strength when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [ ⁇ ] when the nozzle diameter is ⁇ 20 ium], and FIG. 5 ⁇ is the nozzle and the counter electrode.
  • FIG. 4 is a distribution diagram of electric field strength when the distance between the two is set to 100 [/ xm].
  • FIG. 6A is a distribution diagram of the electric field strength when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [m] when the nozzle diameter is ⁇ 50 [; m]
  • FIG. FIG. 4 is a distribution diagram of electric field strength when a distance from a counter electrode is set to 100 [m].
  • FIG. 7 is a chart showing the maximum electric field strength under the conditions of FIGS. 1 to 6.
  • FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the maximum electric field intensity at the meniscus portion of the nozzle diameter of the nozzle and the strong electric field region.
  • FIG. 9 shows the nozzle diameter of the nozzle, the discharge start voltage at which the droplet discharged from the meniscus portion starts to fly, the voltage value of the initial discharge droplet at the Rayleigh limit, and the ratio of the discharge start voltage to the Rayleigh limit voltage value.
  • FIG. 4 is a diagram showing the relationship between
  • FIG. 10 is a graph showing the relationship between the nozzle diameter and the region of the strong electric field in the meniscus portion. . + ⁇
  • FIG. 11 is a cross section along the nozzle of the liquid ejection apparatus according to the first embodiment! ].
  • FIG. 12A is an explanatory diagram showing a state in which ejection is not performed because of a relationship between a solution ejection operation and a voltage applied to the solution
  • FIG. 12B is an explanatory diagram showing an ejection state.
  • 1 2 c is an explanatory diagram showing a state after ejection.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view along a nozzle of the liquid ejection apparatus according to the second embodiment.
  • FIG. 14A is an explanatory diagram showing the relationship between the discharge operation of the solution without discharging and the voltage applied to the solution
  • FIG. 14B is the operation of discharging the solution in the discharged state and the voltage applied to the solution
  • FIG. 14C is an explanatory diagram showing the relationship between the discharge operation of the solution after the discharge and the voltage applied to the solution.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view along a nozzle showing an example in which a heater is employed in a liquid ejection device. .
  • FIG. 16A is an explanatory diagram showing the relationship between the solution discharge operation in a state where no discharge is performed and the voltage applied to the heater.
  • FIG. 16B is a diagram illustrating the solution discharge operation in the discharge state and the mark on the heater.
  • FIG. 16C is an explanatory diagram showing the relationship between the voltage applied to the heater and the discharge operation of the solution after the discharge, and FIG.
  • Fig. 17A is an explanatory diagram showing the relationship between the solution discharge operation without discharge and the voltage applied to the solution
  • Fig. 17B is the solution discharge operation in the discharge state and the voltage applied to the solution
  • FIG. 4 is an explanatory diagram showing a relationship with applied voltage.
  • FIG. 18A is a partially cutaway perspective view showing an example of the shape of the flow path in the nozzle having a rounded solution chamber side
  • FIG. FIG. 18C is a partially cutaway perspective view showing an example of the shape of the flow path
  • FIG. 18C is a partially cutaway view showing an example of the shape of the flow path in the nozzle in which a tapered peripheral surface and a linear flow path are combined. It is the perspective view which lacked.
  • FIG. 19 is a chart showing the results of the comparative test.
  • FIG. 20 shows an embodiment of the present invention for explaining the calculation of the electric field intensity of the nozzle.
  • FIG. 21 is a side sectional view of a liquid ejection apparatus as an example of the present invention.
  • FIG. 22 is a diagram for explaining ejection conditions based on the relationship between distance and voltage in the liquid ejection device according to the embodiment of the present invention.
  • the nozzle diameter of the liquid ejection device described in each of the following embodiments is 30 [m] or less. It is more preferably 20 [n], more preferably 10 [ ⁇ ] or less, further preferably 8 [ ⁇ ] or less, further preferably 4 m or less. Further, the nozzle diameter is preferably larger than 0.2 [ ⁇ ].
  • the relationship between the nozzle diameter and the electric field strength will be described with reference to FIGS. Corresponding to Fig. 1A to Fig. 6B, the electric field intensity distribution when the nozzle diameter is ⁇ i 0.2, 0.4, l, 8, 20 m] and the nozzle diameter ⁇ 50 [m] used conventionally as a reference Is shown.
  • the nozzle center position C indicates the center position of the night body discharge surface of the night body discharge hole at the nozzle tip.
  • Fig. 1 ⁇ , Fig. 2 ⁇ , Fig. 3 ⁇ , Fig. 4 ⁇ ⁇ , Fig. 5 ⁇ , and Fig. 6 ⁇ show the electric field strength distribution when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [m].
  • Fig. 1B, Fig. 2B, Fig. 3B, Fig. 4B, Fig. 5B, Fig. 6B show the distribution of the electric field strength when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to lOO ⁇ m]. Show. The applied voltage was kept constant at 200 [V] under each condition.
  • the distribution lines in FIGS. 1A to 6B indicate the range of charge intensity from 1 ⁇ 10 G [V / m] to 1 ⁇ 10 7 [V / m].
  • Fig. 7 shows a chart showing the maximum electric field strength under each condition.
  • FIG. 8 shows the relationship between the maximum electric field intensity and the strong electric field region when the nozzle diameter of the nozzle and the liquid level are at the tip of the nozzle.
  • Equation (3) The amount of charge that can be applied to a droplet is as follows, taking into account the Rayleigh splitting (Rayleigh limit) of the droplet: Equation (3) is given. g 2 8 ⁇ ⁇ ⁇ . x (3) where Q is the amount of charge that gives the Rayleigh limit (C), ⁇ . Is the dielectric constant of the vacuum (F / m), r is the surface tension of the solution (N / m), and do is the diameter of the droplet (m).
  • FIG. 9 is a graph showing the relationship with the ratio of.
  • the graph represented by the relationship in the region of strong electric field at the tip portion of the nozzle diameter and nozzle shown in FIG. 1 0 (l X 10 6 [ V / m] or more), 0.2 a nozzle diameter [Phi [m] or less
  • the area of the electric field concentration becomes extremely narrow when the value becomes. This indicates that the ejected droplet cannot receive sufficient energy for acceleration and the flight stability is reduced. Therefore, it is preferable to set the nozzle diameter to be larger than ⁇ 0.2 [/ _ ⁇ ].
  • FIG. 11 is a cross-sectional view of the liquid ejection device 20 along a nozzle 21 described later
  • FIG. 12 is an explanatory diagram showing the relationship between the solution ejection operation and the voltage applied to the solution.
  • FIG. 12A shows a state in which no ejection is performed
  • FIG. 12B shows a state of ejection
  • FIG. 12C shows a state after ejection.
  • the liquid ejection device 20 has an ultra-fine nozzle 21 for ejecting a droplet of a chargeable solution from the tip thereof, and a facing surface facing the tip of the nozzle 21 and a pair thereof.
  • Counter electrode 23 supporting substrate K receiving droplets landing on the opposite side, solution supply means 29 for supplying solution to flow path 22 in nozzle 21, and discharging to solution in nozzle 21
  • Discharge voltage applying means 25 for applying a voltage
  • convex meniscus forming means 40 for forming a state in which the solution in the nozzle 21 rises convexly from the tip of the nozzle 21; and convex meniscus formation.
  • Operation control means 50 for controlling the application of the driving voltage of the means 40 and the application of the ejection voltage by the ejection voltage applying means 25.
  • the nozzle 21 and a part of the solution supply means and a part of the discharge voltage applying means 25 are integrally formed as a liquid discharge head.
  • the tip of the nozzle 21 faces upward, and the counter electrode 23 is disposed above the nozzle 21.
  • the nozzle 21 is used in a state where the nozzle 21 is directed horizontally or downward, more preferably vertically downward.
  • Organic liquids include methanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, 2-methyl-11-propanol, tert-butanol, 4-methyl-2-pentanol, benzyl alcohol, ⁇ -terbineol, ethylene glycol Alcohols such as glycerin, diethylene glycol, 1, and ethylene glycol; phenols such as phenol, ⁇ -cresol, m-cresol, and p-cresol; dioxane, furfural, ethylene glycol dimethyl ether, methyl sorb, Ethers such as ethyl sorbet, butyl sorb, ethyl carbitol, butyl carbyl 1, butyl, butyl carbitol monoacetate, and epichlorohydrin; acetone, methyl ethyl ketone, 2-methyl-4-phenylbenzene Ketones such as acetofenone; fatty acids such as for
  • the target substance to be dissolved or dispersed in the above-described liquid is a nozzle.
  • the fluorescent substance such as PDP, CRT, and FED, conventionally known fluorescent substances can be used without any particular limitation.
  • ethylcell Cellulose such as loin, methylcellulose, nitrocellulose, cellulose acetate, and hydroxyethylcellulose and derivatives thereof; alkyd resin; polymer methacrylic acid, polymethyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, lauryl methacrylate (Meth) acrylic resins such as 2-hydroxyethylmethyl acrylate copolymer and its metal salts; poly (methyl) acrylamide resins such as poly N-isopropylacrylamide and poly N, N-dimethylacrylamide; polystyrene, Styrene resins such as acrylonitrile-styrene copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-isoprene copolymer; styrene-acrylic resin such as styrene-n-butyl methacrylate cop
  • polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol
  • polyether polyols such as poly
  • the liquid ejection device 20 When the liquid ejection device 20 is used as a patterning method, it can be typically used for display purposes. Specifically, formation of plasma display phosphor, formation of plasma display rib, formation of plasma display electrode, formation of CRT phosphor, formation of FED (field emission display) phosphor, FED , Color filters for liquid crystal displays (RGB colored layer, black matrix layer), spacers for liquid crystal displays (patterns corresponding to the black matrix, dot patterns, etc.).
  • the rib as used herein generally means a barrier, and is used to separate plasma regions of each color in a plasma display, for example.
  • microlenses patterning coating of magnetic materials, ferroelectrics, and conductive pastes (wiring and antennas) for semiconductor applications.
  • Steel plate, etc. curved surface printing, printing plates of various printing plates, application using the present invention such as adhesives and encapsulants for processing applications, pharmaceuticals for biotechnology and medical applications (multiple trace components Mixing, etc.), and application of a sample for genetic diagnosis and the like.
  • the nozzle 21 is integrally formed with a nozzle plate 26c described later, and is vertically set up from a flat surface of the nozzle plate 26c. Further, at the time of discharging the droplet, the nozzle 21 is used so as to be perpendicular to the receiving surface of the substrate K (the surface on which the droplet force S lands). Further, the nozzle 21 has an in-nozzle flow path 22 penetrating from the tip end thereof along the center of the nozzle.
  • the nozzle 21 will be described in more detail.
  • the nozzle 21 has a uniform opening diameter at the distal end and a flow path 22 inside the nozzle, and as described above, these are formed with an ultrafine diameter.
  • the internal diameter of the nozzle flow path 22 is 30 [n or less, further less than 20 [m], further 10 [ ⁇ ] or less, further 8 [im] or less.
  • the diameter is preferably 4 [ ⁇ ] or less.
  • the internal diameter of the in-nozzle flow path 22 is set to 1 [ ⁇ m].
  • the outer diameter at the tip of the nozzle 21 is set at 2 [ ⁇ ]
  • the diameter at the root of the nozzle 21 is set at 5 [/ zm]
  • the height of the nozzle 21 is set at ⁇ ⁇ ]. It is formed as a truncated cone that is as close as possible to a cone. Also inside the nozzle The diameter is preferably larger than 0.2 [m]. The height of the nozzle 21 may be 0 [im].
  • the shape of the flow path 22 in the nozzle does not have to be a linear shape having a constant inner diameter as shown in FIG.
  • the cross-sectional shape at the end of the flow path 22 inside the nozzle on the side of the solution chamber 24 described later may be rounded.
  • the inner diameter at the end of the in-nozzle flow path 22 on the solution chamber 24 side described later is set to be larger than the inner diameter at the discharge-side end, and the inner surface of the in-nozzle flow path 22 is formed.
  • Fig. 18C only the end of the nozzle internal flow path 22 on the solution chamber 24 side, which will be described later, has a tapered peripheral shape. When formed, the discharge end side of the tapered peripheral surface may be formed in a linear shape with a constant inner diameter.
  • the solution supply means 29 is provided inside the liquid discharge head 26 at a position which is the root of the nozzle 21 and communicates with the flow path 22 inside the nozzle.
  • a supply path 27 for guiding the solution from the solution tank to the solution chamber 24 and a supply pump (not shown) for applying a supply pressure of the solution to the solution chamber 24 are provided.
  • the supply pump supplies the solution to the tip of the nozzle 21 and supplies the solution while maintaining the supply pressure within a range not to spill from the tip (see FIG. 12A).
  • the supply pump includes a case in which a pressure difference depending on the arrangement position of the liquid discharge head and the supply tank is used, and may be configured only with the solution supply path without separately providing a solution supply unit. Although it depends on the design of the pump system, it basically operates when the solution is supplied to the liquid discharge head at the start, discharges the liquid from the liquid discharge head, and supplies the solution accordingly with a capillary and a convex.
  • the solution is supplied by changing the volume in the liquid discharge head and optimizing each pressure of the supply pump by the shape meniscus forming means.
  • the discharge voltage applying means 25 includes a discharge voltage applying discharge electrode 28 provided inside the liquid discharge head 26 and at a boundary between the solution chamber 24 and the nozzle flow path 22. And a DC power supply 3 ° for constantly applying a DC discharge voltage to the discharge electrode 28.
  • the ejection electrode 28 directly contacts the solution inside the solution chamber 24, charges the solution and applies an ejection voltage.
  • the ejection voltage from the DC power supply 30 is only possible when a convex meniscus is already formed by the solution at the tip of the nozzle 21, and the droplet can be ejected when the meniscus is not formed.
  • the DC power supply 30 is controlled by the operation control means 50 so that the voltage value falls within a range in which the discharge is not performed.
  • the discharge voltage applied by the DC power supply 30 is theoretically obtained by the following equation (1).
  • surface tension of the solution (N / m)
  • ⁇ 0 dielectric constant of vacuum (F / m)
  • d nozzle diameter (m)
  • h a nozzle - substrate distance (m)
  • k nozzle
  • the proportionality constant (1.5 x k x 8.5) depends on the shape.
  • the ejection voltage is set to 400 [V] as an example.
  • the liquid discharge head 26 is located at the lowest layer in FIG. 11, and includes a flexible base layer 26 a made of a flexible material (eg, metal, silicon, resin, etc.) and a flexible base layer 26 a.
  • An insulating layer 26 d made of an insulating material formed on the entire upper surface of the gas layer 26 a, a flow path layer 26 b forming a solution supply path located thereon, and a flow path layer 26 A nozzle plate 26 c formed further above b is provided, and the discharge electrode 28 described above is interposed between the flow path layer 26 b and the nozzle plate 26 c.
  • the flexible base layer 26a may be any material having flexibility, and for example, a thin metal plate may be used.
  • the piezo element of the convex meniscus forming means 40 described later is required to have flexibility at a position corresponding to the solution chamber 24 on the outer surface of the flexible base layer 26a. This is for providing the flexible base layer 26a. That is, a predetermined voltage is applied to the piezo element 41, and the flexible base layer 26a is depressed either inside or outside at the above position to reduce or increase the internal volume of the solution chamber 24. To form a convex meniscus of the solution at the tip of the nozzle 21 due to the change in internal pressure or This is because the liquid surface can be drawn inward.
  • a resin having a high insulating property is formed in a film shape, and an insulating layer 26d- is formed.
  • a resin material that is more easily deformed than a force that is formed sufficiently thin so as not to prevent the flexible base layer 26 a from being depressed is used.
  • a dissolvable resin layer is formed, and at the same time, only a portion according to a predetermined pattern for forming the supply path 27 and the solution chamber 24 is removed and removed.
  • An insulating resin layer is formed on the removed portion except for the above.
  • This insulating resin layer becomes the channel layer 26b.
  • an ejection electrode 28 is formed on the upper surface of the insulating resin layer by spreading a conductive material (for example, NiP) in a planar manner, and an insulating resist resin layer or a parylene layer is further formed thereon. Since this resist resin layer becomes the nozzle plate 26c, this resin layer is formed with a thickness in consideration of the height of the nozzle 21.
  • the insulating resist resin layer is exposed by an electron beam method or a femtosecond laser to form a nozzle shape.
  • the nozzle passage 22 is also formed by laser processing.
  • the dissolvable resin layer according to the pattern of the supply path 27 and the solution chamber 24 is removed, and the supply path 27 and the solution chamber 24 are opened to complete the liquid discharge head 26.
  • the material of the nozzle plate 26 c and the nozzle 21 is, specifically, an insulating material such as epoxy, PMMA, phenol, soda glass, quartz glass, a semiconductor such as Si, Ni, SUS A conductor such as
  • an insulating material such as epoxy, PMMA, phenol, soda glass, quartz glass, a semiconductor such as Si, Ni, SUS A conductor
  • the nozzle plate 26c and the nozzle 21 are formed of a conductor, at least the tip end face at the tip end of the nozzle 21 and more preferably the peripheral face at the tip end is coated with an insulating material. It is desirable to provide.
  • By forming the nozzle 21 from an insulating material or by forming an insulating material film on the surface of the tip it is possible to effectively prevent the leakage of current from the tip of the nozzle to the counter electrode 23 when applying a discharge voltage to the solution. This is because it is possible to reduce the number of times.
  • the opposing electrode 23 has an opposing surface perpendicular to the direction in which the nozzle 21 projects, and supports the base material K along the opposing surface.
  • the distance from the tip of the nozzle 21 to the opposing surface of the counter electrode 23 is preferably 500 [m] or less, more preferably 100 [ ⁇ ] or less, and is set to 100 [m] as an example. . Further, since the counter electrode 23 is grounded, the ground potential is always maintained. Therefore, the discharged droplet is guided to the counter electrode 23 side by the electrostatic force due to the electric field generated between the tip of the nozzle 21 and the opposing surface.
  • the liquid discharge device 20 discharges droplets by increasing the electric field intensity by the electric field concentration at the tip of the nozzle 21 due to the ultra-miniaturization of the nozzle 21, the liquid discharge device 20 is guided by the counter electrode 23. Although it is possible to discharge droplets without the above, it is desirable that guidance by electrostatic force be performed between the nozzle 21 and the counter electrode 23. In addition, it is possible to release the charge of the charged droplet by grounding the counter electrode 23.
  • the convex meniscus forming means 40 is a piezoelectric element provided at a position corresponding to the solution chamber 24 on the outer side surface (the lower surface in FIG. 11) of the flexible base layer 26 a of the nozzle plate 26. And a drive voltage power supply 42 for applying a drive pulse voltage for causing the piezo element 41 to deform.
  • the piezo element 41 is attached to the flexible base layer 26a so as to be deformed in a direction in which the flexible base layer 26a is depressed either inside or outside when a driving pulse voltage is applied. Have been.
  • the drive voltage power supply 42 is controlled by the operation control means 50 so that the solution in the nozzle flow path 22 forms a concave meniscus at the tip of the nozzle 21 ′ (see FIG. 1).
  • a drive pulse voltage (for example, 10 [V]) is output according to the value.
  • the drive voltage power supply 42 is controlled by the operation control means 50 so that the solution in the nozzle flow path 22 forms a concave meniscus at the tip of the nozzle 21 (see FIG. 12).
  • the drawing distance of the liquid surface is not particularly limited.
  • the liquid surface may stop at a position in the middle of the nozzle flow path 22.
  • the first voltage value is already increased in a state where the solution in the nozzle flow path 22 forms a concave meniscus at the tip of the nozzle 21 (see FIG. 12A). It is always running and the solution 24 is in a reduced state.
  • an appropriate second liquid for causing the piezo element 41 to further reduce the solution in the appropriate solution chamber 24 is provided. Outputs the driving pulse voltage according to the voltage value.
  • the drive voltage power supply 42 is controlled by the operation control means 50 so that the solution in the nozzle flow path 22 forms a concave meniscus at the tip of the nozzle 21 (see FIG. 1).
  • the operation control means 50 actually has a configuration including an arithmetic unit including a CPU, a ROM, a RAM, and the like, and realizes the following functional configuration by inputting a predetermined program to them. Then, an operation control described later is executed. .
  • the operation control means 50 continuously applies the discharge voltage by the DC power supply 30 and drives the first voltage value by the drive voltage power supply 42 when receiving an external discharge command.
  • the first ejection control unit 51 for applying the pulse voltage, and the application of the drive pulse voltage of the second voltage value by the drive voltage power supply 42 after the application of the drive pulse voltage of the first voltage value
  • a liquid level stabilization control unit 52 for performing operation control.
  • the operation control means 50 has a receiving means (not shown) for receiving an external ejection command signal.
  • the first discharge control section 51 causes the DC power supply 30 to constantly apply a discharge voltage to the discharge electrode 28. Further, when the first ejection control unit 51 recognizes the reception of the ejection command signal via the receiving unit, the first ejection control unit 51 applies a drive pulse voltage of the first voltage value from the drive voltage power supply 42 to the piezo element 41. Let it. Thus, droplets are ejected from the tip of the nozzle 21.
  • the liquid level stabilization control section 52 A driving pulse voltage having the second voltage value is applied to the piezo element 41. (Discharge operation of minute droplets by liquid discharge device)
  • the solution is supplied to the flow path 22 in the nozzle by the supply pump of the solution supply means, and in this state, the discharge voltage is constantly applied to the discharge electrode 28 from the DC power supply 30 (FIG. 1). 2 A). In such a state, the solution is charged.
  • the drive pulse voltage of the first voltage value by the drive voltage power supply 42 is controlled by the piezo element under the control of the first discharge control unit 51. 4 Applied to 1.
  • the electric field intensity is higher than the electric field concentration state due to the charged solution and the convex meniscus force forming state at the tip of the nozzle 21, and a minute droplet is ejected at the vertex of the convex meniscus (FIG. 1). 2 B).
  • the convex meniscus After the droplet is ejected, the convex meniscus is in a vibrating state, but immediately, a driving pulse voltage of the second voltage value by the driving voltage power supply 42 is applied to the piezo element 41 by the liquid level stabilization control unit 52. As a result, the convex meniscus disappears, and the night surface of the solution recedes inside the nozzle 21 (Fig. 12C). Due to the disappearance of the convex meniscus and the movement of the solution in the nozzle 21 which has low conductance due to the fine diameter, the vibration state is reduced. Further, since the voltage is a pulse voltage, the state in which the liquid surface at the tip of the nozzle 21 recedes is temporary, and the state immediately returns to the state shown in FIG. 12A. '
  • the first discharge control unit 51 since the first discharge control unit 51 always applies a constant voltage to the solution regardless of the presence or absence of the discharge, the discharge is performed by changing the applied voltage to the solution. Compared with the case, it is possible to improve the responsiveness at the time of ejection and to stabilize the liquid amount.
  • the liquid level stabilization control unit suppresses the vibration immediately after the ejection to the convex meniscus forming means by suction, so that the vibration of the convex meniscus does not have to wait for the waiting time to calm down.
  • the next ejection can be performed, and it is possible to easily cope with a continuous ejection operation.
  • the liquid discharging device 20 discharges droplets by using a nozzle 21 having a fine diameter, which has not been achieved in the past, the electric field is concentrated by the solution in a charged state in the channel 22 inside the nozzle, and the electric field intensity is increased. Can be For this reason, the voltage required for ejection is too high for a nozzle (for example, an inner diameter of 100 m) with a structure in which the electric field is not concentrated as in the past, and the ejection is actually performed. This makes it possible to discharge the solution using a nozzle with a small diameter, which has been considered impossible, at a lower voltage than before.
  • the diameter is small, the flow of the solution in the nozzle flow path 22 is restricted by the low nozzle conductance, so that the control for reducing the discharge flow rate per unit time is easily performed.
  • the vapor pressure is reduced even for minute droplets, suppressing evaporation, reducing the loss of droplet mass, and stabilizing flight. This prevents a drop in droplet landing accuracy.
  • an electrode is provided on the outer periphery of the nozzle 21, or an electrode is provided on the inner surface of the nozzle passage 22, and an insulating film is coated on the electrode. You may. Then, by applying a voltage to this electrode, the wettability of the inner surface of the nozzle flow path 22 can be enhanced by an electrowetting effect on the solution to which the voltage is applied by the discharge electrode 28, The solution can be smoothly supplied to the flow path 22 in the nozzle, and the discharge can be performed satisfactorily, and the discharge responsiveness can be improved.
  • the discharge voltage applying means 25 constantly applies a bias voltage and discharges a droplet by using a pulse voltage as a trigger.
  • a pulse voltage as a trigger.
  • an AC or continuous rectangular wave is always applied with an amplitude required for the discharge, and the frequency is applied.
  • the discharge is performed by switching the height of the ink. In order to discharge droplets, it is necessary to charge the solution.Even if the discharge voltage is applied at a frequency higher than the speed at which the solution is charged, the discharge is not performed, and if the frequency is changed to a frequency that can sufficiently charge the solution Discharge is performed.
  • the discharge voltage is applied at a frequency higher than the dischargeable frequency, and control is performed to reduce the frequency to a dischargeable frequency band only when the discharge is performed, thereby controlling the discharge of the solution.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view of the liquid ejection device 20A
  • FIGS. 14A, 14B, and 14C are explanatory diagrams showing the relationship between the solution ejection operation and the voltage applied to the solution.
  • FIG. 14A shows a state in which ejection is not performed
  • FIG. 14B shows a state of ejection
  • FIG. 14C shows a state after ejection.
  • the tip of the nozzle 21 is shown facing upward, but in actuality, the nozzle 21 is in the horizontal direction or lower than it, more preferably vertically downward. Used in a state facing.
  • the liquid ejecting apparatus 20 A is characterized in that, compared to the liquid ejecting apparatus 20 described above, the ejection voltage applying means 25 A for applying an ejection voltage to the solution in the nozzle 21, and a convex Since the operation control means 50 A controls the application of the drive voltage of the varnish formation means 40 and the application of the discharge voltage by the discharge voltage application means 25 A, only these will be described.
  • the ejection voltage applying means 25 A includes an ejection electrode 28 for applying the ejection voltage described above, a bias power supply 3 OA that constantly applies a DC bias voltage to the ejection electrode 28, and a discharge electrode 28. And a discharge voltage power supply 31 A for applying a discharge pulse voltage which is superimposed on the bias voltage and which is a potential required for discharge.
  • the bias voltage from the negative power supply 30 A is controlled by applying a constant voltage within the range where the solution is not ejected, thereby reducing the width of the voltage to be applied at the time of ejection, and thereby increasing the reactivity at the time of ejection. Is being improved.
  • the ejection voltage power supply 31 A is a case in which it is superimposed with the bias voltage, and the ejection of liquid droplets becomes possible only when the convex meniscus mask S with the solution is already formed at the tip of the nozzle 21.
  • the operation control means 50 A controls the discharge voltage power supply 31 A so that the voltage value falls within a range in which the droplet is not discharged.
  • the discharge pulse voltage applied by this discharge voltage power supply 31 A is heavy with the bias voltage! : In this state, it can be obtained by the above equation (1).
  • the above conditions are theoretical values, and in practice, a test may be performed when forming and not forming a convex meniscus, and an appropriate voltage value may be obtained.
  • the noise voltage is applied at DC 300 [V]
  • the ejection pulse voltage is applied at 100 IV]. Therefore, the superimposed voltage at the time of ejection is 400 [V].
  • the operation control means 5 OA is actually a configuration having an arithmetic unit including a CPU, a ROM, a RAM, etc., and realizes the following functional configuration by inputting a predetermined program into these. At the same time, an operation control described later is executed.
  • the operation control means 50 A receives the discharge pulse voltage from the discharge voltage power supply 31 A when receiving an external discharge command in a state where the bias voltage is continuously applied by the noise power supply 30 A. And a second discharge control unit 51A that synchronizes the application of the drive pulse voltage and the application of the drive pulse voltage of the first voltage value by the drive voltage power supply 42 with the drive pulse voltage and the first voltage value. And a liquid level stabilization control unit 52 for performing operation control for applying a drive pulse voltage of a second voltage value by the drive voltage power supply 42 after the application of the drive pulse voltage.
  • the operation control means 5OA has a receiving means (not shown) for receiving a discharge command signal from the outside.
  • the second ejection control section 51A constantly applies a bias voltage to the ejection electrode 28 with respect to the noise power supply 3OA. Further, when the second ejection control unit 51A recognizes the reception of the ejection command signal via the receiving unit, the second ejection control unit 51A applies the ejection pulse voltage by the ejection voltage power supply 31A and the first by the drive voltage power supply 42. The application of the drive pulse voltage of the voltage value is performed in synchronization with the application. As a result, the droplet is discharged from the tip of the nozzle 21.
  • the synchronization here means that the voltage application is performed strictly at the same time, and that the responsiveness due to the charging speed of the solution and the responsiveness due to the pressure change due to the piezo element 41 are taken into account. And the case where voltage application is performed almost simultaneously after considering and adjusting the above.
  • the solution is supplied to the nozzle flow path 22 by the supply pump of the solution supply means. Yes, a bias voltage is constantly applied to the discharge electrode 28 from the bias power supply 30 A in a strong state (Fig. 14A).
  • the liquid ejection device 2 OA has almost the same effects as the liquid ejection device 20, and the second ejection control unit 51 A supplies the ejection electrode 28 with the ejection voltage power supply 31 A. Is applied in synchronization with the application of the drive pulse voltage of the first voltage value to the piezo element 41 by the drive voltage power supply 42. In comparison, it is possible to further improve the ejection reactivity.
  • the piezo element 41 is used to form a convex meniscus at the tip of the nozzle 21.
  • the convex meniscus forming means includes a solution nozzle. It is possible to use various means such as guidance to the tip side in the inner flow path 22, flow in the same direction, and increase in pressure. For example, although not shown, it is also possible to form a convex meniscus by causing a change in the volume inside the solution chamber by an electrostatic tactic that deforms a diaphragm provided in the solution chamber by electrostatic force.
  • the electrostatic actuating mechanism is a mechanism for changing the volume by bending the flow path wall by electrostatic force.
  • the formation of a convex meniscus is performed by changing the shape of the electrostatic chamber to change the volume of the solution chamber and increasing the nozzle pressure.
  • the volume of the solution chamber is changed by changing the shape of the electrostatic actuator, and the nozzle pressure is reduced. Perform by lowering.
  • the formation of such a convex meniscus by electrostatic volume changes during the evening makes the structure more complicated than when a piezo element is used, but also enables high-frequency driving without restrictions on the solution. In addition to this, it is possible to obtain the effects of increasing the density of the nozzles and improving the environmental friendliness when using other nozzles.
  • a heater 41 B may be provided as a means for heating the solution in or near the solution chamber of the nozzle plate 26.
  • Such an ink 41 B rapidly heats the solution to generate bubbles by evaporation, thereby increasing the pressure in the solution chamber 24 and forming a convex meniscus at the tip of the nozzle 21.
  • the lowermost layer of the nozzle plate 26 (the layer in which the heater 41B is buried in FIG. 15) needs to have an insulating property, but it does not need to have a flexible structure because no piezo element is used. Absent.
  • the heater 4IB is arranged to be exposed to the solution in the solution chamber 24, it is necessary to insulate the heater 41B and its wiring.
  • the heater 41B cannot control the liquid level stabilization control section 52 because the liquid level of the solution cannot be retreated at the tip of the nozzle 21 due to the principle of forming the convex mesh force. This cannot be done, for example, by lowering the meniscus standby position (the solution liquid level at the tip of the nozzle 21 when the heater 41B is not heated), as shown in Figure 16C. It is also possible to obtain a meniscus stabilizing effect immediately after ejection.
  • a heater 41 B having a high heating response is used, and a driving voltage power supply 42 B for applying a heating pulse voltage (for example, 10 [V]) to the heater 41 B is used for driving the heater 41 B.
  • a heating pulse voltage for example, 10 [V]
  • the solution is supplied to the flow path 22 in the nozzle, and the discharge electrode 28 is constantly supplied from the DC power supply 30. Is applied with an ejection voltage. In such a state, the solution is charged.
  • the liquid surface at the tip of the nozzle 21 is at the meniscus standby position because Fig. 4B is not heated (Fig. 17A).
  • the convex meniscus is in a vibrating state, but since the heater 41 is in a non-heated state, the liquid surface at the tip of the nozzle 21 returns to the meniscus standby position, and the convex meniscus disappears. The liquid level of the solution recedes inside the nozzle 21.
  • the convex meniscus forming means employs the heater 41 mm, since the voltage applied to the solution is not changed, the response during ejection is improved and the liquid amount is stabilized. Can be achieved. In addition, it becomes possible to discharge the solution with a response corresponding to the heating response of the heater 41, and it is possible to improve the responsiveness of the discharging operation.
  • the heater 41 may be employed in the liquid ejection device 2OA.
  • an external discharge command is input in a state where the bias voltage is continuously applied by the bias power supply 30 A by the second discharge control unit 51 A of the operation control means 5 OA.
  • the application of the discharge pulse voltage by the discharge voltage power supply 31 A and the application of the heating pulse voltage by the drive voltage power supply 42 B are performed in synchronization.
  • the application of the discharge pulse voltage to the discharge electrode 28 by the discharge voltage power supply 31 A and the application of the heating pulse voltage to the heater 41 B by the drive voltage power supply 42 B are performed synchronously. Therefore, it is possible to improve the ejection responsiveness as compared with the case where these are performed at different timings.
  • FIG. 19 is a chart showing the results of the comparative test. Comparison The test subjects are the following seven types.
  • Ejection voltage application means Bias voltage + Ejection pulse voltage Synchronous None
  • Discharge voltage applying means DC voltage
  • Ejection voltage application means Bias voltage + Ejection pulse voltage synchronization Synchronization of piezo element and ejection pulse voltage No liquid level suction
  • Convex meniscus forming means Piezo element
  • Ejection voltage application means Bias voltage + Ejection pulse voltage Synchronization Synchronization of piezo element and ejection pulse voltage Liquid level suction Yes
  • Discharge voltage application bias voltage + discharge pulse voltage
  • Synchronization Synchronizes heater and discharge pulse voltage
  • the configuration is the same as that of the liquid ejection device 20 shown in the first embodiment.
  • a nozzle having an internal diameter of 1 [II m] in the flow path inside the nozzle and the discharge opening is used.
  • the driving conditions include the frequency of the pulse voltage that triggers the ejection:
  • ejection voltage (1) DC voltage (400 [V]), (2) bias voltage (300 [V]) + ejection pulse voltage (100 [ ⁇ , piezo element driving voltage: 10 [V], The drive voltage is ⁇
  • the solution is water and its physical properties are viscosity: 8 [cP] (8 X 10-2 [Pa-S]) ; specific resistance: 108 [ ⁇ ], surface tension 30 ⁇ 10-3 [ ⁇ / ⁇ ].
  • ⁇ control pattern E use of piezo element, discharge voltage applying means applies superimposed voltage of bias voltage and discharge pulse voltage, synchronization of piezo element and discharge pulse voltage, liquid level suction
  • the device shows the highest responsiveness.
  • this control pattern E has the same configuration as the liquid ejection device 20A shown in the second embodiment.
  • a C is a growing wave of solvent liquid-liquid surface for enabling the ejection of droplets from the nozzle tip by electrostatic attraction (ni), AC - determined in S TC T IIV S GV 2.
  • the conductive solution is injected into a nozzle having an inner diameter d, and the nozzle is positioned vertically at a height h from an infinite plate conductor as a base material. This is shown in FIG. At this time, it is assumed that the charge induced at the nozzle tip concentrates on the hemisphere at the nozzle tip, and is approximately expressed by the following equation.
  • Q electric charge induced at the tip of the nozzle (0, ⁇ 0 : dielectric constant of vacuum (F / m), ⁇ : dielectric constant of substrate (F / m), h: distance between nozzle and substrate (M), d: diameter inside nozzle (m),: Total voltage (V) applied to the nozzle.
  • Proportional constant for the nozzle shape, etc., takes a value of about 1 to 1.5, and it is about 1 especially for d and li.
  • the substrate as the substrate is a conductive substrate, it is considered that mirror image charges Q 'having opposite signs are induced at symmetric positions in the substrate.
  • the substrate is an insulator, a video charge Q 'of the opposite sign is similarly induced at a symmetric position determined by the dielectric constant.
  • the electric field strength E 1 ( , c . [V / m] at the tip of the convex meniscus at the tip of the nozzle is 1 V , assuming that the radius of curvature of the tip of the convex meniscus is R [m].
  • k is a proportional constant, which varies depending on the nozzle shape, etc., and takes a value of about 1.5 to 8.5, and is considered to be about 5 in many cases.
  • the condition under which the fluid is ejected by the electrostatic force is the condition that the electrostatic force exceeds the surface tension. It becomes. By using a sufficiently small nozzle diameter d, the electrostatic pressure can exceed the surface tension.
  • FIG. 9 shows the dependence of the discharge limit voltage Vc on the nozzle having a certain inner diameter d. From this figure, it was clarified that the discharge start voltage decreases as the nozzle diameter decreases, considering the effect of concentrating the electric field by the fine nozzle.
  • the discharge voltage can be reduced by making the nozzle fine.
  • Discharge by electrostatic suction is basically based on charging of a liquid (solution) at a nozzle end. It is considered that the charging speed is about the time constant determined by dielectric relaxation. ⁇
  • the frequency is about 10 kHz.
  • the flow rate G in the nozzle can be estimated to be 10-13 m 3 / s, but in the case of the liquid in the above example, it is possible to discharge at 10 kHz, so 1
  • the minimum discharge rate in a cycle can be about lOfl (Femtoliter, lfl: 10-15 1).
  • Each of the above embodiments is characterized by the effect of concentrating the electric field at the tip of the nozzle and the effect of the image force induced on the opposing substrate, as shown in FIG. Therefore, it is not necessary to make the substrate or the substrate support conductive as in the prior art, or to apply a voltage to the substrate or the substrate support. That is, it is possible to use an insulating glass substrate, a plastic substrate such as polyimide, a ceramic substrate, a semiconductor substrate, or the like as the substrate.
  • the voltage applied to the electrode may be either positive or negative.
  • the distance between the nozzle and the substrate at 500 [in] or less, it is possible to easily discharge the solution.
  • FIG. 21 is a side sectional view of a nozzle portion of a night body discharge device as another example of the basic example of the present invention.
  • An electrode 15 is provided on the side surface of the nozzle 1, and a controlled voltage is applied between the electrode 15 and the solution 3 in the nozzle.
  • the purpose of this electrode 15 is to control the Electrowetting effect. If a sufficient electric field is applied to the insulator that composes the nozzle, the Electrowetting effect is expected to occur without this electrode. However, in this basic example, the role of the ejection control is also achieved by more positively controlling using this electrode.
  • the nozzle 1 is made of an insulator, the nozzle thickness at the tip is 1 ⁇ , the nozzle inner diameter is 2 / _m, and the applied voltage is 300V, the electrowetting effect will be about 30 atm. Although this pressure is insufficient for discharge, it is significant from the point of supply of the solution to the tip of the nozzle, and it is considered that discharge can be controlled by this control electrode.
  • FIG. 9 described above shows the dependence of the ejection start voltage on the nozzle diameter in the present invention.
  • the liquid ejection device shown in FIG. 11 was used. As the size of the nozzle became smaller, the discharge start voltage decreased, and it became clear that discharge could be performed at a lower voltage than before.
  • the condition of the solution discharge is a function of the distance between the nozzle and the substrate (h), the amplitude of the applied voltage (v), and the frequency of the applied voltage ⁇ . Must be satisfied as a discharge condition. Conversely, if any one of the conditions is not met, the other parameters need to be changed.
  • the present invention relates to ordinary printing for graphic use, printing on special media (film, cloth, steel plate, etc.), curved printing, etc., or wiring or antenna made of a liquid or paste conductive material.
  • patterning such as application of adhesives, encapsulants, etc. for processing applications, for pharmaceuticals (such as mixing multiple trace components) for biotechnology and medical applications, the application of samples for genetic diagnosis, etc. Suitable for liquid discharge according to each application.

Landscapes

  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
  • Electrostatic Spraying Apparatus (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Ink Jet (AREA)

Abstract

 帯電した溶液の液滴を基材に吐出する液体吐出装置(20)であって、液滴の吐出を受ける受け面を有する基材Kにその先端部を対向させて配置されると共に当該先端部から液滴を吐出する先端部の内部直径が30[μm]以下のノズル(21)と、このノズル(21)内に溶液を供給する溶液供給手段(29)と、ノズル(21)内の溶液に吐出電圧を印加する吐出電圧印加手段(25)と、を備え、ノズル(21)内の溶液が当該ノズル先端部から凸状に盛り上がった状態を形成する凸状メニスカス形成手段(40)を設けた。

Description

明 細 書 液体吐出装置 . 技術分野
本発明は、 基材に液体を吐出する液体吐出装置に関する。 背景技術
従来のインクジエツト記録方式としては、 圧電素子の振動によりインク流路を 変形させることによりインク液滴を吐出させるピエゾ方式、 インク流路ないに発 熱体を設け、 その発熱体を発熱させて気泡を発生させ、 気泡によるインク流路内 の圧力変化に応じてィンク液滴を吐出させるサーマル方式、 ィンク流路内のィン クを帯電させてインクの静電吸引力によりインク液滴を吐出させる静電吸引方式 が知られている。
従来の静電吸引方式のィンクジェットプリン夕として、 日本特開平 1 1— 2 7 7 7 4 7号に記載のものが挙げられる。 かかるインクジエツトプリンタは、 その先端 部からインクの吐出を行う複数の凸状インクガイドと、 各インクガイドの先端に対 向して配設されると共に接地された対向電極と、 各インクガイドごとにインクに吐 出電圧を印加する吐出電極とを備えている。 そして、 凸状インクガイドは、 インク を案内するスリット幅が異なる二種類のものを用意し、 これらのものを使い分ける ことで、 二種類の大きさの液滴を吐出可能とすることを特徵とする。
そして、 この従来のィンクジェットプリンタは、 吐出電極にパルス電圧を印加す ることでィンク液滴を吐出し、 吐出電極と対向電極間で形成された電界によりイン ク液滴を対向電極側に導いている。
しかしながら、 上記従来例には以下の問題ある。
( 1 ) 微小液滴形成の限界と安定性
ノズル径が大きいため、 ノズルから吐出される液滴の形状が安定しなく、 且つ 液滴の微小化に限界がある。
( 2 ) 高印加電圧 微小液滴の吐出のためには、 ノズルの吐出口の微細化を図ることが重要因子と なってくるが、 従来の静電吸引方式の原理では、 ノズル径が大きいことにより、 ノズル先端部の電界強度が弱く、 液滴を吐出するのに必要な電界強度を得るため に、 高い吐出電圧 (例えば 2000 [V]に近い非常に高い電圧) を印加する必要があ つた。 従って、 高い電圧を印加するために、 電圧の駆動制御が高価になるという 問題があった。
また、 従来例としての特許文献 1は、 インクに対するパルス電圧を印加するこ とのみによりインク吐出を行うために、 そのパルス電圧を印加する電極に高電圧 を印加する必要があり、 上述した (2 )、 ( 3 ) の問題を助長する傾向にある、 と いう不都合があった。
そこで、 微小液滴を吐出可能な液体吐出装置を提供することを第一の目的とす る。 また同時に、 安定した液滴を吐出することが可能な液体吐出装置を提供する ことを第二の目的とする。 さらに、 印加電圧を低減することを可能とし、 安価に 液体吐出装置を提供することを第三の目的とする。 発明の開示
本発明は、 帯電した溶液の液滴を基材に吐出する液体吐出装置であって、 先端部 から液滴を吐出する先端部の内部直径が 30[ m]以下のノズルを有する液体吐出へ ッドと、 ノズル内に溶液を供給する溶液供給手段と、 ノズル内の溶液に吐出電圧を 印加する吐出電圧印加手段と、 を備え、 ノズル内の溶液が当該ノズリレ先端部から凸 状に盛り上がつた状態を形成する凸状メニスカス形成手段を設ける、 という構成を 採っている。
以下、 ノズル径という場合には、 液滴を吐出する先端部におけるノズルの内部直 径 (ノズルの先端部の内部直径) を示すものとする。 なお、 ノズル内の液体吐出穴 の断面形状は円形に限定されるものではない。 例えば、 液体吐出穴の断面形状が多 角形、 星形その他の形状である場合にはその断面形状の外接円が 30[μ πι]以下とな ることを示すものとする。 以下、 ノズル径或いはノズルの先端部の内部直径とい う場合において、 他の数値限定を行っている場合にも同様とする。 また、 ノズル 半径という場合には、 このノズル径 (ノズルの先端部の内部直径) の 1 / 2の長 さを示すものとする。
本発明において、 「基材」 とは吐出された溶液の液滴の着弾を受ける対象物をいい 材質的には特に限定されない。 従って、 例えば、 上記構成をインクジェットプリン 夕に適応した場合には、 用紙やシート等の記録媒体が基材に相当し、 導電性ペース トを用いて回路の形成を行う場合には、 回路が形成されるべきベースが基材に相当 することとなる。
上記構成にあっては、 ノズルの先端部に夜滴の受け面が対向するように、 ノズリレ 又は基材が配置される。 これら相互の位置関係を実現するための配置作業は、 ノズ ルの移動又は基材の移動のいずれにより行っても良い。
そして、 溶液供給手段により液体吐出へッド内に溶液が供給される。 ノズル内の 溶液は吐出を行うために帯電した状態にあることが要求される。 なお、 溶液の帯電 に必要な電圧印加を行う帯電専用の電極を設けても良い。
そして、 凸状メニスカス形成手段によりノズル先端部において溶液が盛り上がつ た状態(凸状メニスカス)力形成される。かかる凸状メニスカスの形成のためには、 例えば、 ノズル内圧カをノズル先端部から液滴がこぼれ落ちない範囲で高める等の 方法が採られる。
そして、 ノズル先端部の凸状メニスカスの形成前又は同時に、 液体吐出ヘッド内 の溶液に対して吐出電圧印加手段により凸状メニスカス位置における吐出電圧が印 加されている。 この吐出電圧は、 単独では液滴吐出力行われず、 凸状メニスカス形 成手段によるメニスカス形成との協働により吐出が可能となる範囲に設定されてい る。 従って、 凸状メニスカスを形成する駆動電圧により凸状メニスカスがノズル先 端に形成されると、 凸状メニスカスの突出先端部から溶液の液滴が基材の受け面に 対して垂直方向に飛翔し、 基材の受け面上には溶液のドットが形成される。
本発明は、 凸状メニスカス形成手段を有するので、 凸状メニスカスの頂点に液滴 の吐出するポイントを集中することができ、 平坦或いは凹状である場合よりも小さ な吐出力で液滴を吐出させることが可能となり、 吐出の円滑化による吐出電圧の低 減及びメニス力スの位置で吐出電圧が異なることを積極的に利用することで、 さら なる吐出電圧の低減を図ることが可能となる。
また、 従来は、 凸状メニスカスの形成と液滴の吐出の両方について溶液に電圧を 印加することにより行っていたため、 これらを同時に実行するための高電圧の印加 を必要としたが、 本発明では、 凸状メニスカスの形成は溶液に電圧を印加する吐出 電圧印加手段とは異なる別個の凸状メニスカス形成手段により行い、 液滴の吐出は 吐出電圧印加手段による電圧の印加により行うため、 吐出時に溶液に印加される電 圧の値を低減することが可能となる。
また、本発明は、 ノズルを従来にない超微細径とすることでノズル先端部に電界 を集中させて電界強度を高めると共にその際に誘導される基材側の鏡像電荷或い は映像電荷までの間に生じる電界の静電力により液滴の飛翔を行っている。 従つて、 微細ノズルでありながら従来考えられていたよりも低電圧で液滴の吐 出を行うことが可能となると共に、 基材が導電体であっても絶縁体であっても良 好に液滴の吐出を行うことが可能となる。
かかる場合、 ノズルの先端部に対向する対向電極がなくとも液滴の吐出を行うこ とが可能である。 例えば、 対向電極が存在しない状態で、 ノズル先端部に対向させ て基材を配置した場合、 当該基材が導体である場合には、 基材の受け面を基準と してノズル先端部の面対称となる位置に逆極性の鏡像電荷が誘導され、 基材が絶 縁体である場合には、 基材の受け面を基準として基材の誘電率により定まる対称 位置に逆極性の映像電荷が誘導される。 そして、 ノズル先端部に誘起される電荷 と鏡像電荷又は映像電荷間での静電力により液滴の飛翔が行われる。
これにより、 装置構成における備品点数の低減を図ることが可能となる。 従つ て、 本発明を業務用インクジェットシステムに適用した場合、 システム全体の生 産性の向上に貢献し、 コスト低減をも図ることが可能となる。
但し、 本発明の構成は、 対向電極を不要とすることを可能とするが、 対向電極 を併用しても構わない。 対向電極を併用する場合には、 当該対向電極の対向面に 沿わせた状態で基材を配置すると共に対向電極の対向面がノズルからの液滴吐出 方向に垂直に配置されることが望ましく、 これによりノズル一対向電極間での電 界による静電力を飛翔電極の誘導のために併用することも可能となるし、 対向電 極を接地すれば、 帯電した液滴の電荷を空気中への放電に加え、 対向電極を介し て逃がすことができ、 電荷の蓄積を低減する効果も得られるので、 むしろ併用す ることが望ましい構成といえる。 また、 上記構成に加えて、 凸状メニスカス形成手段を駆動する駆動電圧の印加及 び吐出電圧印加手段による吐出電圧の印加をそれぞれ制御する動作制御手段を備え、 この動作制御手段が、 吐出電圧印加手段による吐出電圧の印加を行わせつつ液滴の 吐出に際して凸状メニスカス形成手段の駆動電圧の印加を行わせる第一の吐出制御 部を有する構成としても良い。
この構成では、 第一の吐出制御部により予め溶液に吐出電圧が印加されたままの 状態で、 吐出の必要性に応じて凸状メニスカスを形成することでノズル先端から液 滴が吐出されるために必要な静電力に達し、 液滴の吐出が行われる。
また、 前述の構成に加えて、 凸状メニスカス形成手段の駆動電圧の印加及び吐出 電圧印加手段による吐出電圧の印加を制御する動作制御手段を備え、 この動作制御 手段が、 凸状メニスカス形成手段による溶液の盛り上げ動作と吐出電圧の印加とを 同期させて行う第二の吐出制御部を有する構成としても良い。
この構成では、 第二の吐出制御部により凸状メニスカスの形成と液滴の吐出とを 同期を図つて行うので、 凸状メニスカスの形成共に吐出電圧の印加による液滴の吐 出を行うことが可能となり、 これら二つの動作の時間間隔の短縮化が図られる。 なお、 ここでいう 「同期を図る」 とは、 溶液の盛り上げ動作が行われる期間と吐 出電圧の印加期間とがタイミング的に一致する場合に加えて、 一方の期間と他方の 期間の開始及び終了タイミングにズレがありつつも少なくとも液滴に吐出に要する 期間が重複する場合を含むものとする。
また、 前述の各構成に加えて、 動作制御手段が、 溶液の盛り上げ動作及び吐出 電圧の印加の後にノズル先端部の液面を内側に引き込ませる動作制御を行う 液面安定化制御部を有する構成としても良い。
この構成では、 液滴吐出後において、 ノズル先端部の液滴を、 例えばノズ ル内部圧力の低下等により内側に吸引させる。 これは、 凸状メニスカスから 液滴が飛翔すると、 当該飛翔により凸状メニスカスが振動を生じる場合があ り、 その場合, 振動の影響を''防ぐために沈静化を待ってから次の吐出を行う 必要性を生じる。 上記構成では、 凸状メニスカスが振動を生じても、 ノズル 先端部における溶液の液面を一時的にノズル内に吸引することで凸状状態が 一旦解消され、且つ低コンダク夕ンスのノズル内通過による整流作用により、 液面振動状態を解消する。 従って、 積極的且つ迅速に液面の沈静化を図るこ とができ、 従来のような吸引後一定の沈静化の待ち時間を待つことなくすぐ に次回の凸状メニスカス形成及び吐出を行うことができる。
また、 前述の構成に加えて、 凸状メニスカス形成手段が、 ノズル内の容積を変化 させる圧電素子を有する構成としても良い。
この構成では、 凸状メニスカスの形成を、 圧電素子がその形状変化によりノズル 内容積を変化せしめ、 ノズル圧力を高めることにより実行する。
また、 ノズル先端部の液面の内側への引き込みを行う場合には、 圧電素子の 形状変化によりノズル内容積を変化せしめ、 ノズル圧力を低めることにより実行す る。 凸状メニスカス形成を圧電素子での容積変化で行うことにより溶液に対する制 約なく且つ高周波駆動が可能となる。
また、 前述の構成に加えて、 凸状メニスカス形成手段が、 ノズル内の溶液に気 泡を発生させるヒータを有する構成としても良い。
この構成では、 凸状メニスカスの形成は、 ヒータを加熱させることで溶液の蒸発 による気泡を形成し、 ノズル圧力を高めることにより実行する。 本発明は、 原理的 に、 吐出溶液の制約は受けるが、 構造的には、 圧電素子や静電ァクチユエ一夕よう な駆動素子を使用する場合と比較して、 単純且つ多ノズル化における高密度化に優 れ、 環境対応も十分である。
また、 前述した構成に加えて、 吐出電圧印加手段が次式 (1 ) の範囲を満足す る吐出電圧 λ を印加する構成としても良い。
Figure imgf000008_0001
ただし、 ?' :溶液の表面張力 (Ν/ηι)、 ε 0 :真空の誘電率 (F/m)、 d: ノズル 直径 (m)、 h: ノズル一基材間距離 (m)、 k : ノズル形状に依存する比例定数 (1.5く kく 8.5) とする。
この構成では、 ノズル内の溶液に対して上式 (1 ) の範囲の吐出電圧 Vの印加 が行われる。 上式 (1 ) において、 吐出電圧 λ/の上限の基準となる左側の項は、 従来におけるノズル一対向電極間での電界による液滴吐出を行う場合での限界最 低吐出電圧を示す。 本発明は、 前述したように、 ノズルの超微細化による電界集 中の効果により、 微小液滴の吐出を、 従来技術では実現されなかった従来の限界 最低吐出電圧よりも低い範囲に吐出電圧 Vを設定しても、実現することができる。 また、 上式 (1 ) における吐出電圧 Vの下限の基準となる右側の項は、 ノズル 先端部における溶液による表面張力に杭して液滴の吐出を行うための本発明の限 界最低吐出電圧を示す。 つまり、 この限界最低吐出電圧よりも低い電圧を印加し ても液滴の吐出は実行されないが、 例えば、 この限界最低吐出電圧を境界とする これより高い値を吐出電圧とし、 これより低い値の電圧と吐出電圧とを切り替え ることで、 吐出動作のオンオフの制御を行うことができる。 即ち、 電圧の高低の 切替のみにより吐出動作のオンオフの制御が可能となる。 なお、 この場合、 吐出 のオフ状態に切り替える低電圧値は、 限界最低吐出電圧に近いことが望ましい。 これにより、 オンオフの切替における電圧変化幅を狭小化し、 応答性の向上を図 ることが可能となるからである。
また、 前述した構成に加えて、 ノズルを絶縁性の材料で形成しても良いし、 ノ ズルの少なくとも先端部を絶縁性の材料で形成しても良い。
ここで、 絶縁性とは、 絶縁破壊強度が 10 [kV/腿]以上、 好ましくは 21 [kV/画] 以上、 さらに好ましくは 30 [kY/nim]以上をいう。絶縁破壊強度は、 〗I S- C21 10で記 載されている 「絶縁破壊の強さ」 をいい、 同 J ISに記載されている測定方法によ り測定される値をいう。
ノズルをこのように形成することにより、 ノズル先端部からの放電が効果的に 抑制され、 溶液の電荷のチヤ一ジが効果的に行われた状態で液体を吐出すること ができるので、 円滑に良好な吐出を行うことが可能となる。
また、 前述した構成に加えて、 ノズル径を 20 [ /mi]未満としても良い。
これにより、 電界強度分布が狭くなる。 このことにより、 電界を集中させるこ とができる。 その結果、 形成される液滴を微小で且つ形状の安定化したものとす ることができると共に、 総印加電圧を低減することができる。 また、 液滴は、 ノ ズルから吐出された直後、 電界と電荷の間に働く静電力により加速されるが、 ノ ズルから離れると電界は急激に低下するので、 その後は、 空気抵抗により減速す る。 しかしながら、 微小液滴でかつ電界が集中した液滴は、 対向電極に近づくに つれ、 鏡像力により加速される。 この空気抵抗による減速と鏡像力による加速と のバランスをとることにより、 微小液滴を安定に飛翔させ、 着弾精度を向上させ ることが可能となる。
また、 ノズルの内部直径が 10 [ im]以下としても良い。
これにより、 さらに電界を集中させることが可能となり、 さらなる液滴の微小 化と、 飛翔時に対向電極の距離の変動が電界強度分布に影響することを低減させ ることができるので、 対向電極の位置精度や基材の特性や厚さの液滴形状への影 響や着弾精度への影響を低減することができる。
また、 ノズルの内部直径を 8 [ m]以下としても良い。
これにより、 さらに電界を集中させることが可能となり、 さらなる液滴の微小 化と、 飛翔時に対向電極の距離の変動が電界強度分布に影響することを低減させ ることができるので、 対向電極の位置精度や基材の特性や厚さの液滴形状への影 響や着弾精度への影響を低減することができる。
さらに、 電界集中の度合いが高まることにより、 多ノズル化時のノズルの高密 度化で課題となる電界クロストークの影響が軽減し、 一層の高密度化が可能とな る。
また、 ノズルの内部直径を 以下としても良い。 この構成により、 顕著な 電界の集中を図ることができ、 最大電界強度を高くすることができ、 形状の安定 な液滴の超微小化と、 液滴の初期吐出速度を大きくすることができる。 これによ り、 飛翔安定性が向上することにより、 着弾精度をさらに向上させ、 吐出応答性 を向上することができる。
さらに、 電界集中の度合いが高まることにより、 多ノズル化時のノズルの高密 度化で課題となる電界クロストークの影響が受けにくくなり、 より一層の高密度 化が可能となる。
さらに、 ノズルの内部直径は 0. 2 ra]より大きい方が望ましい。 ノズルの内径 を 0. 2 [ xiii]より大きくすることで、液滴の帯電効率を向上させることができるの で、 液滴の吐出安定性を向上させることができる。 , さらに、 上記各構成において、 ノズルを電気絶縁材で形成し、 ノズル内に吐出 電圧印加用の電極を挿入あるいは当該電極として機能するメッキ形成を行うこと が好ましい。
またさらに、 ノズルを電気絶縁材で形成し、 ノズル内に電極を挿入或いは電 極としてのメツキを形成すると共にノズルの外側にも吐出用の電極を設ける ことが好ましい。
ノズルの外側の吐出用電極は、 例えば、 ノズルの先端側端面或いは、 ノズ ルの先端部側の側面の全周若しくは一部に設けられる。
またさらに、 上記各構成よる作用効果に加え、吐出力を向上させることがで きるので、 ノズル径をさらに微細化しても、 低電圧で液滴を吐出することが できる。
またさらに、 基材を導電性材料または絶縁性材料により形成することが好まし い。
またさらに、 印加する吐出電圧が 1000V以下であることが好ましい。
吐出電圧の上限値をこのように設定することにより、 吐出制御を容易とすると' 共に装置の耐久性の向上を容易に図ることが可能となる。
またさらに、 印加する吐出電圧が 以下であることが好ましい。
吐出電圧の上限値をこのように設定することにより、 吐出制御をより容易とす ると共に装置の耐久性のさらなる向上を容易に図ることが可能となる。
またさらに、 ノズルと基材との距離が 500 ra]以下とすることが、 ノズル 径を微細にした場合でも高い着弾精度を得ることができるので好ましい。 またさらに、ノズル内の溶液に圧力を印加するように構成することが好まし い。
またさらに、 単一パルスによって吐出する場合、 ε
τ -——
σ (2) により決まる時定数て以上のパルス幅 Atを印加する構成としても良い。 ただし、 s :溶液の誘電率 (F/m)、 σ :溶液の導電率 (S/m) とする。 図面の簡単な説明 図 1 Aは、 ノズル径を *0.2 [ m]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000[/ユ m]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 1 Bは、 ノズルと対向 電極との距離が 100 [ m]に設定されたときの電界強度の分布図である。
図 2 Aは、 ノズル径を φ 0.4 [ rn]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000[ xm]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 2 Bは、 ノズルと対向 電極との距離が 100 m]に設定されたときの電界強度の分布図である。
図 3 Aは、 ノズル径を φ 1 [ / m]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000[ im]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 3 Bは、 ノズルと対向 電極との距離が 100[ m]に設定されたときの電界強度の分布図である。
図 4 Aは、 ノズル径を φ 8 [ m]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000[ η]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 4Βは、 ノズルと対向 電極との距離が 100[ m]に設定されたときの電界強度の分布図であり。
図 5 Aは、 ノズル径を Φ20 ium]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000[μιη]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 5 Βは、 ノズルと対向 電極との距離が 100[/xm]に設定されたときの電界強度の分布図である。
図 6 Aは、 ノズル径を Φ50 [; m]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000 [ m]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 6 Bは、 ノズルと対向 電極との距離が 100[ m]に設定されたときの電界強度の分布図である。
図 7は、 図 1〜図 6の各条件下での最大電界強度を示す図表を示す。
図 8は、 ノズルのノズル径のメニスカス部の最大電界強度と強電界領域の関係を 示す線図である。
図 9は、 ノズルのノズル径とメニスカス部で吐出する液滴が飛翔を開始する吐出 開始電圧、 該初期吐出液滴のレイリ一限界での電圧値及び吐出開始電圧とレイリ― 限界電圧値の比との関係を示す線図である。
図 1 0は、 ノズル径とメニスカス部の強電界の領域の関係で表されるグラフであ る。 . +·
図 1 1は、 第一の実施形態たる液体吐出装置のノズルに沿った断面!]である。 図 1 2 Aは溶液の吐出動作と溶液に印加される電圧との関係であって吐出を行わ ない状態を示す説明図であり、 図 1 2 Bは、 吐出状態を示す説明図であり、 図 1 2 cは吐出後の状態を示す説明図である。
図 1 3は、 第二の実施形態たる液体吐出装置のノズルに沿った断面図である。 図 1 4 Aは吐出を行わない状態の溶液の吐出動作と溶液に印加される電圧との関 係を示す説明図であり、 図 1 4 Bは吐出状態の溶液の吐出動作と溶液に印加される 電圧との関係を示す説明図であり、 図 1 4 Cは吐出後の溶液の吐出動作と溶液に印 加される電圧との関係を示す説明図である。
図 1 5は、 ヒータを液体吐出装置に採用した例を示すノズルに沿った断面図であ る。 .
図 1 6 Aは吐出を行わない状態での溶液の吐出動作とヒータに印加される電圧と の関係を示す説明図であり、 図 1 6 Bは吐出状態での溶液の吐出動作とヒータに印 カ卩される電圧との関係を示す説明図であり、 図 1 6 Cは吐出後の溶液の吐出動作と ヒータに印加される電圧との関係を示す説明図である。
図 1 7 Aは吐出を行わない状態での溶液の吐出動作と溶液に印加される電圧との 関係を示す説明図であり、 図 1 7 Bは吐出状態での溶液の吐出動作と溶液に印加さ れる電圧との関係を示す説明図である。
図 1 8 Aは溶液室側に丸みを設けたノズル内流路の形状の例を示す一部切り欠 いた斜視図であり、 図 1 8 Bは流路内壁面をテーパ周面としたノズル内流路の形 状の例を示す一部切り欠いた斜視図であり、 図 1 8 Cはテーパ周面と直線状の流 路とを組み合わせたノズル内流路の形状の例を示す一部切り欠いた斜視図である。 図 1 9は、 比較試験結果を示す図表である。
図 2 0は、 本発明の実施の形態として、 ノズルの電界強度の計算を説明するた めに示したものである。
図 2 1は、 本発明の一例としての液体吐出装置の側面断面図を示したものであ る。
図 2 2は、 本発明の実施の形態の液体吐出装置における距離一電圧の関係によ る吐出条件を説明した図である。 発明を実施するための最良の形態
以下の各実施形態で説明する液体吐出装置のノズル径は、 30[ m]以下であること が好ましく、 さらに好ましくは 20[ n 未満、 さらに好ましくは 10[μιη]以下、 さ らに好ましくは 8[μηι]以下、 さらに好ましくは 4 m]以下とすることが好ましい。 また、 ノズル径は、 0.2[μηι]より大きいことが好ましい。 以下、 ノズル径と電界強 度との関係について、 図 1 Α〜図 6 Βを参照しながら以下に説明する。 図 1 A〜図 6 Bに対応して、ノズル径を <i 0.2,0.4,l,8,20 m]及び参考として従来にて使用され ているノズル径 Φ50[ m]の場合の電界強度分布を示す。
ここで、 図 1 A〜図 6 Bにおいて、 ノズル中心位置 Cは、 ノズル先端の夜体吐出 孔の夜体吐出面の中心位置を示す。 また、 図 1 Α、 図 2 Α、 図 3 Α、 図 4 Α、 図 5 Α、 図 6 Αは、 ノズルと対向電極との距離が 2000[ m]に設定されたときの電界強 度分布を示し、 図 1 B、 図 2 B、 図 3 B、 図 4 B、 図 5 B、 図 6 Bは、 ノズルと対 向電極との距離が lOO^m]に設定されたときの電界強度分布を示す。 なお、 印加電 圧は、 各条件とも 200[V]と一定にした。 図 1 A〜図 6 B中の分布線は、 電荷強度が 1 X 10G[V/m]から 1 X 107[V/m]までの範囲を示している。
図 7に、 各条件下での最大電界強度を示す図表を示す。
図 5 A, 図 5 Bから、 ノズル径が *20[/ in]以上だと電界強度分布は広い面積に広 がっていることが分かった。 また、 図 7の図表から、 ノズルと対向電極の距離が電 界強度に影響していることも分かった。
これらのことから、 ノズル径が (i 8[/_im] (図 4 A, 図 4 B) 以下であると電界強 度は集中すると共に、 対向電極の距離の変動が電界強度分布にほとんど影響するこ とがなくなる。 従って、 ノズル径が Φ8[μηι]以下であれば、 対向電極の位置精度及 び基材の材料特性のバラ付きや厚さのバラツキの影響を受けずに安定した吐出が可 能となる。 次に、 上記.ノズルのノズル径とノズルの先端位置に液面があるとした 時の最大電界強度と強電界領域の関係を図 8に示す。
図 8に示すグラフから、 ノズル径が φ4[ ηι]以下になると、 電界集中が極端に大 きくなり最大電界強度を高くすることができるのが分かった。 これによつて、 溶液 の初期吐出速度を大きくすることができるので、 液滴の飛翔安定性が増すと共に、 ノズルの先端部での電荷の移動速度が増すために吐出応答性が向上する。
続いて、吐出した液滴における帯電可能な最大電荷量について、以下に説明する。 液滴に帯電可能な電荷量は、 液滴のレイリー分裂 (レイリー限界) を考慮した以下 の (3 ) 式で示される。 g 二 8 χ π χ 。 x
Figure imgf000015_0001
(3) ここで、 Qはレイリー限界を与える電荷量 (C)、 ε。は真空の誘電率 (F/m)、 r は溶液の表面張力 (N/m)、 doは液滴の直径 (m) である。
上記 (3 ) 式で求められる電荷量 Qがレイリー限界値に近いほど、 同じ電界強度 でも静電力が強く、 吐出の安定性が向上するが、 レイリー限界値に近すぎると、 逆 にノズルの液体吐出孔で溶液の霧散が発生してしまい、吐出安定性に欠けてしまう。 ここで、 ノズルのノズル径とノズルの先端部で吐出する液滴が飛翔を開始する吐 出開始電圧、 該初期吐出液滴のレイリ一限界での電圧値及び吐出開始電圧とレイリ 一限界電圧値の比との関係を示すグラフを図 9に示す。
図 9に示すグラフから、 ノズル径が φ 0.2[ a m]から φ 4[ m]の範囲において、 吐 出開始電圧とレイリー P艮界電圧値の比が 0.6 を超え、 液滴の帯電効率が良い結果と なっており、 該範囲において安定した吐出が行えることが分かつた。
,例えば、 図 1 0に示すノズル径とノズルの先端部の強電界(l X 106[V/m]以上) の 領域の関係で表されるグラフでは、 ノズル径が Φ 0.2[ m]以下になると電界集中の 領域が極端に狭くなることが示されている。 このことから、 吐出する液滴は、 加速 するためのエネルギーを十分に受けることができず飛翔安定性が低下することを示 す。 よって、 ノズル径は φ 0.2[ /_ηιι]より大きく設定することが好ましい。
[第一の実施形態]
(液体吐出装置の全体構成)
以下、 本発明の第一の実施形態である液体吐出装置 2 0について図 1 1乃至図 1 2に基づいて説明する。 図 1 1は後述するノズル 2 1に沿った液体吐出装置 2 0の 断面図であり、 図 1 2は溶液の吐出動作と溶液に印加される電圧との関係を示す説 明図であって、図 1 2 Αは吐出を行わない状態であり、図 1 2 Bは吐出状態を示し、 図 1 2 Cは吐出後の状態を示す。 '―
この液体吐出装置 2 0は、 帯電可能な溶液の液滴をその先端部から吐出する超微 細径のノズル 2 1と、 ノズル 2 1の先端部に対向する対向面を有すると共にその対 向面で液滴の着弾を受ける基材 Kを支持する対向電極 2 3と、 ノズル 2 1内の流路 2 2に溶液を供給する溶液供給手段 2 9と、 ノズル 2 1内の溶液に吐出電圧を印加 する吐出電圧印加手段 2 5と、 ノズル 2 1内の溶液が当該ノズル 2 1の先端部から 凸状に盛り上がった状態を形成する凸状メニスカス形成手段 4 0と、 凸状メニスカ ス形成手段 4 0の駆動電圧の印加及び吐出電圧印加手段 2 5による吐出電圧の印加 を制御する動作制御手段 5 0とを備えている。 なお、 上記ノズル 2 1と溶液供給手 段の一部の構成と吐出電圧印加手段 2 5の一部の構成は液体吐出へッドとして一体 的に形成されている。
なお、 図 1 1では、 説明の便宜上、 ノズル 2 1の先端部が上方を向き、 ノズル 2 1の上方に対向電極 2 3が配設されてレ る状態で図示されているが、 実際上は、 ノ ズル 2 1が水平方向か或いはそれよりも下方、 より望ましくは垂直下方に向けた状 態で使用される。
(溶液) .
上記 ΐ夜体吐出装置 2 0による吐出を行う溶液の例としては、 無機液体としては、 水、 C〇C 1 2、 H B i-、 HN〇3、 H3 P〇4、 H2 S 04、 S O C 1 2、 S 02 C 1 2, F S〇3Hなどが挙げられる。有機液体としては、メタノール、 n一プロパノール、 イソプロパノール、 n—ブ夕ノール、 2—メチル— 1一プロパノール、 t e r t ーブタノール、 4一メチル _ 2—ペン夕ノール、 ベンジルアルコール、 α—テル ビネオール、 エチレングリコール、 グリセリン、 ジエチレングリコール、 1、リエ チレングリコールなどのアルコール類; フエノール、 ο—クレゾール、 m—クレ ゾ一ル、 p—クレゾール、 などのフエノール類;ジォキサン、 フルフラール、 ェ チレングリコールジメチルエーテル、 メチルセ口ソルブ、 ェチルセ口ソルブ、 ブ チルセ口ソルブ、 ェチルカルビトール、 プチルカルビ 1、一ル、 ブチルカルビト一 ルアセテート、 ェピクロロヒドリンなどのエーテル類; アセトン、 メチルェチル ケトン、 2—メチルー 4一ペン夕ノン、 ァセトフエノンなどのケ卜ン類;ギ酸、 酢酸、 ジクロロ酢酸、 トリクロ口酢酸などの脂肪酸類;ギ酸メチル、 ギ酸ェチル、 酢酸メチル、 酢酸ェチル、 酢酸— 11一プチル、 酢酸イソプチル、 酢酸一 3—メト キシブチル、 酢酸一 n—ペンチル、 プロピオン酸ェチル、 乳酸ェチル、 安息香酸 メチル、 マロン酸ジェチル、 フタル酸ジメチル、 フタル酸ジェチル、 炭酸ジェチ ル、 炭酸エチレン、 炭酸プロピレン、 セロソルブアセテート、 プチルカルビトー ルアセテート、 ァセト酢酸ェチル、 シァノ酢酸メチル、 シァノ酢酸ェチルなどの エステル類;ニトロメタン、 ニトロベンゼン、 ァセトニトリル、 プロピオ二トリ ル、 スクシノニトリル、 バレロ二トリル、 ベンゾニトリル、 ェチルァミン、 ジェ チルァミン、 エチレンジァミン、 ァニリン、 N—メチルァニリン、 N, N—ジメ チルァ二リン、 o—トルイジン、 p—トルイジン、 ピぺリジン、 ピリジン、 α— ピコリン、 2, 6ールチジン、 キノリン、 プロピレンジァミン、 ホルムアミド、 Ν—メチルホルムアミド、 Ν, Ν—ジメチルホルムアミド、 Ν, Ν一ジェチルホ ルムアミド、 ァセトアミド、 Ν—メチルァセトアミド、 Ν—メチルプロピオンァ ミド、 Ν, Ν, Ν', Ν'—テトラメチル尿素、 Ν—メチルピロリドンなどの含窒素 化合物類;ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含硫黄化合物類;ベンゼン、 ρ—シメン、 ナフタレン、 シクロへキシルベンゼン、 シクロへキセンなどの炭化 水素類; 1, 1ージクロロェタン、 1, 2—ジクロ口ェタン、 1, 1, 1一トリ クロ口ェタン、 1, 1, 1, 2—テトラクロ口ェタン、 1, 1, 2, 2—テトラ クロロェタン、 ペンタクロロェタン、 1, 2—ジクロロエチレン (c i s—)、 テ トラクロ口エチレン、 2一クロロブタン、 1一クロロー 2—メチルプロパン、 2 一クロ口一 2—メチルプロパン、 ブロモメタン、 トリブロモメタン、 1一ブロモ プロパンなどのハロゲン化炭化水素類、 などが挙げられる。 また、 上記各液体を 二種以上混合して溶液として用いても良い。
さらに、 高電気伝導率の物質 (銀粉等) が多く含まれるような導電性ペースト を溶液として使用し、 吐出を行う場合には、 上述した液体に溶解又は分散させる 目的物質としては、 ノズルで目詰まりを発生するような粗大粒子を除けば、 特に 制限されない。 PDP、 CRT, FEDなどの蛍光体としては、 従来より知られ ているものを特に制限なく用いることができる。例えば、赤色蛍光体として、( Y, Gd) B03 : Eu、 Y03 : Euなど、 緑色蛍光体として、 Zn2S i〇4 : Mn、 B aA 112〇i9: Mn、 (B a, S r , Mg) O · α_Α 12〇3 : Mnなど、 青色蛍 光体として、 B aMgA 11423: Eu、 B aMgA 11017: Euなどが挙げら れる。 上記の目的物質を記録媒体上に強固に接着させるために、 各種バインダー を添加するのが好ましい。 用いられるバインダーとしては、 例えば、 ェチルセル ロース、 メチルセルロース、 ニトロセルロース、 酢酸セルロース、 ヒドロキシェ チルセルロース等のセルロースおよびその誘導体;アルキッド樹脂;ポリメ夕ク リタクリル酸、ポリメチルメタクリレート、 2—ェチルへキシルメタクリレート · メタクリル酸共重合体、 ラウリルメタクリレート · 2—ヒドロキシェチルメ夕ク リレート共重合体などの (メタ) アクリル樹脂およびその金属塩;ポリ N—イソ プロピルアクリルアミド、 ポリ N, N—ジメチルアクリルアミドなどのポリ (メ 夕)アクリルアミド樹脂;ポリスチレン、 アクリロニトリル ·スチレン共重合体、 スチレン ·マレイン酸共重合体、 スチレン ·イソプレン共重合体などのスチレン 系樹脂;スチレン · n _ブチルメタクリレート共重合体などのスチレン ·ァクリ ル樹脂;飽和、 不飽和の各種ポリエステル樹脂;ポリプロピレン等のポリオレフ ィン系樹脂;ポリ塩化ビニル、 ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化ポリマー;ポ リ酢酸ビニル、 塩化ビニル ·酢酸ビニル共重合体等のピニル系樹脂;ポリカーボ ネート樹脂;エポキシ系樹脂;ポリウレタン系樹脂;ポリビニルホルマール、 ポ リビニルプチラール、ポリビニルァセタール等のポリアセ夕一ル樹脂;エチレン - 酢酸ビニル共重合体、 エチレン ·ェチルァクリレート共重合樹脂などのポリェチ レン系樹脂;ベンゾグァナミン等のアミド樹脂;尿素樹脂;メラミン樹脂;ポリ ビニルアルコール樹脂及びそのァニオンカチオン変性;ポリビニルピロリドンお よびその共重合体;ポリエチレンォキサイド、 カルボキシル化ポリエチレンォキ サイド等のアルキレンォキシド単独重合体、 共重合体及び架橋体;ポリエチレン グリコール、 ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコール;ポリ エーテルポリオ一ル; S B R、 N B Rラテックス;デキストリン;アルギン酸ナ トリウム;ゼラチン及びその誘導体、カゼイン、 ト Dロアオイ、 トラガントガム、 プルラン、 アラビアゴム、 ローカストビーンガム、 グァガム、 ぺクチン、 カラギ ニン、 にかわ、 アルブミン、 各種澱粉類、 コーンスターチ、 こんにゃく、 ふのり、 寒天、 大豆蛋白等の天然或いは半合成樹脂;テルペン樹脂;ケトン樹脂; ロジン 及びロジンエステル;ポリビニルメチルエーテル、 ポリエチレンィミン、 ポリス チレンスルフォン酸、 ポリビニルスルフォン酸などを用いることができる。 これ らの樹脂は、 ホモポリマーとしてだけでなく、 相溶する範囲でブレンドして用い ても良い。 液体吐出装置 2 0をパターンニング方法として使用する場合には、 代表的なも のとしてはディスプレイ用途に使用することができる。 具体的には、 プラズマデ イスプレイの蛍光体の形成、 プラズマディスプレイのリブの形成、 プラズマディ スプレイの電極の形成、 C R Tの蛍光体の形成、 F E D (フィールドエミッショ ン型ディスプレイ) の蛍光体の形成、 F E Dのリブの形成、 液晶ディスプレイ用 カラ一フィルター (R G B着色層、 ブラックマトリクス層)、 液晶ディスプレイ用 スぺーサー (ブラックマトリクスに対応したパターン、 ドットパターン等) など が挙げることができる。 ここでいうリブとは一般的に障壁を意味し、 プラズマデ イスプレイを例に取ると各色のプラズマ領域を分離するために用いられる。 その 他の用途としては、 マイクロレンズ、 半導体用途として磁性体、 強誘電体、 導電 性ペースト (配線、 アンテナ) などのパターンニング塗布、 グラフィック用途と しては、 通常印刷、 特殊媒体 (フィルム、 布、 鋼板など) への印刷、 曲面印刷、 各種印刷版の刷版、加工用途としては粘着材、封止材などの本発明を用いた塗布、 バイオ、 医療用途としては医薬品 (微量の成分を複数混合するような)、遺伝子診 断用試料等の塗布等に応用することができる。
(ノズル)
上記ノズル 2 1は、 後述するノズルプレート 2 6 cと共に一体的に形成されてお り、 当該ノズルプレート 2 6 cの平板面上から垂直に立設されている。 また、 液滴 の吐出時においては、 ノズル 2 1は、 基材 Kの受け面 (液滴力 S着弾する面) に対し て垂直に向けて使用される。 さらに、 ノズル 2 1にはその先端部からノズルの中心 に沿って貫通するノズル内流路 2 2が形成されている。
ノズル 2 1についてさらに詳説する。 ノズル 2 1は、 その先端部における開口径 とノズル内流路 2 2とが均一であって、 前述の通り、 これらが超微細径で形成され ている。 具体的な各部の寸法の一例を挙げると、 ノズル内流路 2 2の内部直径は、 30[ n 以下、 さらに 20[ m]未満、 さらに 10[ ηι]以下、 さらに 8[ im]以下、 さ らに 4[μηι]以下が好ましく、 本実施形態ではノズル内流路 2 2の内部直径が 1[μ m]に設定されている。そして、 ノズル 2 1の先端部における外部直径は 2[ ηι]、 ノ ズル 2 1の根元の直径は 5[/zm]、ノズル 2 1の高さは ΙΟθίμηι]に設定されており、 その形状は限りなく円錐形に近い円錐台形に形成されている。 また、 ノズルの内部 直径は 0.2[ m]より大きい方が好ましい。 なお、 ノズル 2 1の高さは、 0[ im]でも 構わない。
なお、 ノズル内流路 2 2の形状は、 図 1 1に示すような、 内径一定の直線状に形 成しなくとも良い。 例えば、 図 1 8 Aに示すよう ('こ、 ノズル内流路 2 2の後述する 溶液室 2 4側の端部における断面形状力 S丸みを帯びて形成されていても良い。また、 図 1 8 Bに示すように、 ノズル内流路 2 2の後述する溶液室 2 4側の端部における 内径が吐出側端部における内径と比して大きく設定され、 ノズル内流路 2 2の内面 がテーパ周面形状に形成されていても良い。 さらに、 図 1 8 Cに示すように、 ノズ ル内流路 2 2の後述する溶液室 2 4側の端部のみがテ一パ周面形状に形成されると 共に当該テーパ周面よりも吐出端部側は内径一定の直線状に形成されていても良い。
(溶液供給手段)
溶液供給手段 2 9は、 液体吐出へッド 2 6の内部であってノズル 2 1の根元とな る位置に設けられると共にノズル内流路 2 2に連通する溶液室 2 4と、 図示しない 外部の溶液タンクから溶液室 2 4に溶液を導く供給路 2 7と、 溶液室 2 4への溶液 の供給圧力を付与する図示しない供給ポンプとを備えている。
上記供給ポンプは、 ノズル 2 1の先端部まで溶液を供給し、 当該先端部からこぼ れ出さない範囲の供給圧力を維持して溶液の供給を行う (図 1 2 A参照)。
供給ポンプとは、 液体吐出へッドと供給タンクの配置位置による差圧を利用する 場合も含み、別途、溶液供給手段を設けなくとも溶液供給路のみで構成しても良い。 ポンプシステムの設計にもよるが、 基本的にはスタート時に液体吐出へッドに溶液 を供給するときに稼動し、 液体吐出ヘッドから液体を吐出し、 それに応じた溶液の 供給は、 キヤビラリ及び凸状メニスカス形成手段による液体吐出へッド内の容積変 化及び供給ポンプの各圧力の最適化を図って溶液の供給が実施される。
(吐出電圧印加手段)
吐出電圧印加手段 2 5は、 液体吐出へッド 2 6の内部であって溶液室 2 4とノズ ル内流路 2 2との境界位置に設けられた吐出電圧印加用の吐出電極 2 8と、 この吐 出電極 2 8に常時, 直流の吐出電圧を印加する直流電源 3◦と、 を備えている。 上記吐出電極 2 8は、 溶液室 2 4内部において溶液に直接接触し、 溶液を帯電さ せると共に吐出電圧を印加する。 直流電源 3 0による吐出電圧は、 ノズル 2 1の先端部に溶液による凸状のメニス カスが既に形成された状態において初めて液滴の吐出が可能となり、 上記メニスカ スが未形成の状態では液滴の吐出が行われない範囲の電圧値となるように動作制御 手段 5 0により直流電源 3 0の制御が行われる。
この直流電源 3 0により印加を行う吐出電圧は、 理論上は、 次式 (1 ) により求 められる。
Figure imgf000021_0001
ただし、 ァ :溶液の表面張力 (N/m)、 ε 0 :真空の誘電率 (F/m)、 d: ノズル 直径 (m)、 h : ノズル—基材間距離 (m)、 k : ノズル形状に依存する比例定数 (1.5く kく 8.5) とする。
なお、 上記条件は理論値であり、 実際上は、 凸状メニスカスの形成時と非形成 時における試験を行い、 適宜な電圧値を求めても良い。
本実施形態では、 一例として吐出電圧を 400[V]とする。
(液体吐出へッド)
液体吐出へッド 2 6は、 図 1 1において最も下層に位置し、 可撓性を有する素材 (例えば金属, シリコン、 樹脂等) からなる可撓ベース層 2 6 aと、 この可撓べ一 ス層 2 6 aの上面全体に形成される絶縁素材からなる絶縁層 2 6 dと、 その上に位 置する溶液の供給路を形成する流路層 2 6 bと、 この流路層 2 6 bのさらに上に形 成されるノズルプレート 2 6 cとを備え、 流路層 2 6 bとノズルプレート 2 6 cと の間には前述した吐出電極 2 8が介挿されている。
上記可撓ベース層 2 6 aは、 上述の如く、 可撓性を有する素材であれば良く、 例 えば金属薄板を使用しても良い。 このように、 可撓性が要求されるのは、 可撓べ一 ス層 2 6 aの外面であって溶液室 2 4に対応する位置に、 後述する凸状メニスカス 形成手段 4 0のピエゾ素子 4 1を設け、可撓ベース層 2 6 aを撓ませるためである。 即ち、 ピエゾ素子 4 1に所定電圧を印加して、 可撓ベース層 2 6 aを上記位置にお いて内側又は外側のいずれにも窪ませることで溶液室 2 4の内部容積を縮小又は増 加させ、 内圧変化によりノズル 2 1の先端部に溶液の凸状メニスカスを形成し又は 液面を内側に引き込むことを可能とするためである。
可撓べ一ス層 2 6 aの上面には絶縁性の高い樹脂を膜状に形成し、 絶縁層 2 6 d - が形成される。 かかる、 絶縁層 2 6 dは、 可撓ベース層 2 6 aが窪むことを妨げな いように十分に薄く形成される力 \ より変形が容易な樹 '脂素材が使用される。
そして、 絶縁層 2 6 dの上には、 溶解可能な樹脂層を形成すると共に供給路 2 7 及び溶液室 2 4を形成するための所定のパターンに従う部分のみを残して除去し、 当該残存部を除いて除去された部分に絶縁樹脂層を形成する。 この絶縁樹脂層が流 路層 2 6 bとなる。 そして、 この絶縁樹脂層の上面に面状に広がりをもって導電素 材 (例えば NiP) のメツキにより吐出電極 2 8を形成し、 さらにその上から絶縁性 のレジスト樹脂層或いはパリレン層を形成する。 このレジスト樹脂層がノズルプレ ート 2 6 cとなるので、 この樹脂層はノズル 2 1の高さを考慮した厚みで形成され る。 そして、 この絶縁性のレジスト樹脂層を電子ビーム法やフェムト秒レーザによ り露光し、 ノズル形状を形成する。 ノズル内流路 2 2もレーザ加工により形成され る。 そして、 供給路 2 7及び溶液室 2 4のパターンに従う溶解可能な樹脂層を除去 し、 これら供給路 2 7及び溶液室 2 4が開通して液体吐出へッド 2 6が完成する。 なお、 ノズルプレート 2 6 c及びノズル 2 1の素材は、 具体的には、 エポキシ、 P MMA、 フエノール、 ソーダガラス、 石英ガラス等の絶縁材の他、 S iのような 半導体、 N i、 S U S等のような導体であっても良い。 但し、 導体によりノズルプ レート 2 6 c及びノズル 2 1を形成した場合には、 少なくともノズル 2 1の先端部 における先端部端面、 より望ましくは先端部における周面については、 絶縁材によ る被膜を設けることが望ましい。 ノズル 2 1を絶縁才から形成し又はその先端部表 面に絶縁材被膜を形成することにより、 溶液に対する吐出電圧印加時において、 ノ ズル先端部から対向電極 2 3への電流のリークを効果的に抑制することが可能とな るからである。
(対向電極)
対向電極 2 3は、 ノズル 2 1の突出方向に垂直な対向面を備えており、 かかる対 向面に沿うように基材 Kの支持を行う。 ノズル 2 1の先端部から対向電極 2 3の対 向面までの距離は、 500[ m]以下が好ましく、 さらには 100[μηι]以下が好ましく、 —例としては 100[ m]に設定される。 また、 この対向電極 2 3は接地されているため、常時,接地電位を維持している。 従って、 ノズル 2 1の先端部と対向面との間に生じる電界による静電力により吐出 された液滴を対向電極 2 3側に誘導する。
なお、 液体吐出装置 2 0は、 ノズル 2 1の超微細化による当該ノズル 2 1の先端 部での電界集中により電界強度を高めることで液滴の吐出を行うことから、 対向 電極 2 3による誘導がなくとも液滴の吐出を行うことは可能ではあるが、 ノズル 2 1と対向電極 2 3との間での静電力による誘導が行われた方が望ましい。 また、 帯電した液滴の電荷を対向電極 2 3の接地により逃がすことも可能である。
(凸状メニスカス形成手段)
凸状メニスカス形成手段 4 0は、 ノズルプレート 2 6の可撓べ一ス層 2 6 aの外 側面 (図 1 1における下面) であって溶液室 2 4に対応する位置に設けられた圧電 素子としてのピエゾ素子 4 1と、 このピエゾ素子 4 1に変形を起こすための駆動パ ルス電圧を印加する駆動電圧電源 4 2とを備えている。
上記ピエゾ素子 4 1は、 駆動パルス電圧の印加を受けて可撓ベース層 2 6 aを内 側又は外側のいずれにも窪ませる方向に変形を生じるように当該可撓ベース層 2 6 aに装着されている。
駆動電圧電源 4 2は、 動作制御手段 5 0の制御により、 ノズル内流路 2 2内の溶 液がノズル 2 1':の先端部おいて凹状にメニスカスを形成している状態 (参照図 1 2 A) 力 ら凸状にメニスカスを形成する状態 (参照図 1 2 B ) となるために適当な溶 液室 2 4の容積の減少をピエゾ素子 4 1がもたらすための適当な第一の電圧値に応 じた駆動パルス電圧 (例えば 10[V]) を出力する。 また、 駆動電圧電源 4 2は、 動作 制御手段 5 0の制御により、 ノズル内流路 2 2内の溶液がノズル 2 1の先端部おい て凹状にメニスカスを形成している状態 (参照図 1 2 A) から液面を所定距離だけ 引き込んだ状態 (参照図 1 2 C) となるために適当な溶液室 2 4の容積の増加をピ ェゾ素子 4 1がもたらすための適当な第二の電圧値に応じた駆動パルス電圧を出力 する。 第二の電圧値の駆動パルス電圧は、 第一の電圧値の駆動パルス電圧の印加に よるピエゾ素子 4 1の変形方向とは逆方向の変形を生じさせる必要があるため、 第 一の電圧値とは逆極性となる。 なお、 上記液面の引き込み距離は、 特に限定はない 例えば、 液面がノズル内流路 2 2の途中の位置で止まる程度である。 また、 別の駆動パターンとして、 ノズル内流路 2 2内の溶液がノズル 2 1の先端 部において、 凹状にメニスカスを形成している状態 (参照図 1 2 A) で既に第一の 電圧値が常時かかり、 溶液 2 4が減少した状態となっている。 次に、 凸状にメニス カスを形成する状態 (参照図 1 2 B ) となるために、 さらに適当な溶液室 2 4の溶 液の減少をピエゾ素子 4 1がもたらすための適当な第二の電圧値に応じた駆動パル ス電圧を出力する。 また、 駆動電圧電源 4 2は、 動作制御手段 5 0の制御により、 ノズル内流路 2 2内の溶液がノズル 2 1の先端部において、 凹状にメニスカスを形 成している状態 (参照図 1 2 A) 力 液面を所定距離だけ引き込んだ状態 (参照図 1 2 C) となるために適当な溶液室 2 4の容積の増加をピエゾ素子 4 1がもたらす ために電圧を 0[V]とすることも可能となる。
(動作制御手段)
動作制御手段 5 0は、 実際的には C P U, R OM, R AM等を含む演算装置を 有する構成であり、 これらに所定のプログラムが入力されることにより、 下記に 示す機能的な構成を実現すると共に後述する動作制御を実行する。 .
上記動作制御手段 5 0は、 直流電源 3 0による吐出電圧の印加を連続的に行わせ ると共に、 外部からの吐出指令の入力を受けると駆動電圧電源 4 2による第一の電 圧値の駆動パルス電圧の印加を行わせる第一の吐出制御部 5 1と、 第一の電圧値の 駆動パルス電圧の印加の後に駆動電圧電源 4 2による第二の電圧値の駆動パルス 電圧の印加を行わせる動作制御を行う液面安定化制御部 5 2とを備えている。 動作制御手段 5 0は、 外部からの吐出指令信号を受け付ける図示しない受 信手段を有している。
第一の吐出制御部 5 1は、 直流電源 3 0に対し、 定常的に吐出電圧を吐出電極 2 8に印加させる。 さらに、 第一の吐出制御部 5 1は、 受信竽段を介して吐出指令信 号の受信を認識すると、 駆動電圧電源 4 2による第一の電圧値の駆動パルス電圧を ピエゾ素子 4 1に印加させる。 これにより、 ノズル 2 1の先端部から液滴の吐出が 行われる。
液面安定化制御部 5 2は、 第一の吐出制御部 5 1による駆動電圧電源 4 2の第 一の電圧値の駆動パルス電圧出力を認識すると、 その後すぐに、 駆動電圧電源 4 2 による第二の電圧値の駆動パルス電圧をピエゾ素子 4 1に印加させる。 (液体吐出装置による微小液滴の吐出動作)
図 1 1から図 1 2 Cにより液体吐出装置 2 0の動作説明を行う。
溶液供給手段の供給ポンプによりノズル内流路 2 2には溶液が供給された状態に あり、 かかる状態で定常的に直流電源 3 0から吐出電極 2 8に吐出電圧が印加され ている (図 1 2 A)。 かかる状態で、 溶液は帯電状態にある。
そして、 外部から動作制御手段 5 0に吐出指令信号が入力されると、 第一の吐出 制御部 5 1の制御に従って、 駆動電圧電源 4 2による第一の電圧値の駆動パルス電 圧がピエゾ素子 4 1に印加される。 これにより.、 帯電した溶液による電界集中状態 と、 ノズル 2 1の先端部における凸状メニス力ス形成状態とより電界強度が高まり、 凸状メニスカスの頂点において微小液滴が吐出される (図 1 2 B)。
液滴吐出後は、 凸状メニスカスが振動状態となるが、 すぐに、 液面安定化制御部 5 2により駆動電圧電源 4 2による第二の電圧値の駆動パルス電圧がピエゾ素子 4 1に印加されるので、 凸状メニスカスは消滅し、 溶液の夜面はノズル 2 1の内側 に後退する (図 1 2 C)。 この凸状メニスカスの消滅と微細径ゆえに低コンダクタン スであるノズル 2 1内の溶液の移動により振動状態は沈静ィヒされる。 また、 パルス 電圧であるため、 かかるノズル 2 1の先端部の液面の後退状態は一時的であり、 す ぐに図 1 2 Aの状態に戻される。 '
このように、 第一の吐出制御部 5 1により、 吐出の有無にかかわらず、 溶液に対 してはいつも一定の電圧を印加することとなるので、 溶液に対する印加電圧を変化 させて吐出を行う場合と比較して、 吐出の際の応答性の向上及び液量の安定化を図 ることが可能となる。
また、液面安定化制御部により、 凸状メニスカス形成手段に吐出直後の振動 に対して、 吸引による振動抑制化が図られ、 凸状メニスカスの振動の沈静化 の待ち時間の経過を待つことなく次回の吐出を行うことができ、 連続的な吐 出動作にも容易に対応することが可能となる。
さらに、 上記液体吐出装置 2 0は、 従来にない微細径のノズル 2 1により液滴の 吐出を行うので、 ノズル内流路 2 2内で帯電した状態の溶液により電界が集中され 電界強度が高められる。 このため、 従来のように電界の集中化が行われない構造の ノズル (例えば内径 100 m]) では吐出に要する電圧が高くなり過ぎて事実上吐出 不可能とされていた微細径でのノズルによる溶液の吐出を従来よりも低電圧で行う ことを可能としている。
そして、 微細径であるがために、 ノズルコンダク夕ンスの低さによりノズル内流 路 2 2における溶液の流動が制限されることから、 その単位時間あたりの吐出流量 を低減する制御を容易に行うことができると共に、 パルス幅を狭めることなく十分 に小さな液滴径 (上記各条件によれば 0.8[/ m])による溶液の吐出を実現している。 さらに、 吐出される夜滴は帯電されているので、 微小の液滴であっても蒸気圧が 低減され、 蒸発を抑制することから液滴の質量の損失を低減し、 飛翔の安定化を図 り、 液滴の着弾精度の低下を防止する。
なお、 ノズル 2 1にエレクトロウエッティング効果を得るために、 ノズル 2 1の 外周に電極を設けるか、 また或いは、 ノズル内流路 2 2の内面に電極を設け、 そ の上から絶縁膜で被覆しても良い。 そして、 この電極に電圧を印加することで、 吐出電極 2 8により電圧が印加されている溶液に対して、 エレクトロウエッティ ング効果によりノズル内流路 2 2の内面のぬれ性を高めることができ、 ノズル内 流路 2 2への溶液の供給を円滑に行うことができ、 良好に吐出を行うと共に、 吐 出の応答性の向上を図ることが可能となる。
また、 吐出電圧印加手段 2 5ではバイァス電圧を常時印加すると共にパルス電圧 をトリガーとして液滴の吐出を行っているが、 吐出に要する振幅で常時交流又は連 続する矩形波を印加すると共にその周波数の高低を切り替えることで吐出を行う構 成としても良い。 液滴の吐出を行うためには溶液の帯電が必須であり、 溶液の帯電 する速度を上回る周波数で吐出電圧を印加していても吐出が行われず、 溶液の帯電 が十分に図れる周波数に替えると吐出が行われる。 従って、 吐出を行わないときに は吐出可能な周波数より大きな周波数で吐出電圧を印加し、 吐出を行う場合にのみ 吐出可能な周波数帯域まで周波数を低減させる制御を行うことで、 溶液の吐出を制 御することが可能となる。 かかる場合、 溶液に印加される電位自体に変化はないの で、 より時間応答性を向上させると共に、 これにより液滴の着弾精度を向上さ せることが可能となる。
[第二の実施形態]
次に、 本発明の第二の実施形態である液体吐出装置 2 O Aについて図 1 3から図 1 4 Cに基づいて説明する。 図 1 3は液体吐出装置 2 0 Aの断面図であり、 図 1 4 A、 図 1 4 B、 図 1 4 Cは溶液の吐出動作と溶液に印加される電圧との関係を示す 説明図であって、 図 1 4 Aは吐出を行わない状態であり、 図 1 4 Bは吐出状態を示 し、 図 1 4 Cは吐出後の状態を示す。 なお、 図 1 3では、 説明の便宜上、 ノズル 2 1の先端部が上方を向きで図示されているが、 実際上は、 ノズル 2 1力 平方向か 或いはそれよりも下方、 より望ましくは垂直下方に向けた状態で使用される。
なお、 本実施形態の説明において、 第一の実施形態たる液体吐出装置 2 0と同一 の構成については同符号を付して重複する説明は省略するものとする。
(液体吐出装置の全体構成)
この液体吐出装置 2 0 Aは、 前述した液体吐出装置 2 0と比較して特徴となるの は、 ノズル 2 1内の溶液に吐出電圧を印加する吐出電圧印加手段 2 5 Aと、 凸状メ ニスカス形成手段 4 0の駆動電圧の印加及び吐出電圧印加手段 2 5 Aによる吐出電 圧の印加を制御する動作制御手段 5 0 Aであるため、 これらについてのみ説明を行 う。
(吐出電圧印加手段)
吐出電圧印加手段 2 5 Aは、 前述した吐出電圧印加用の吐出電極 2 8と、 この吐 出電極 2 8に常時, 直流のバイアス電圧を印加するバイアス電源 3 O Aと、 吐出電 極 2 8にパイァス電圧に重畳して吐出に要する電位とする吐出パルス電圧を印加す る吐出電圧電源 3 1 Aと、 を備えている。
ノ ィァス電源 3 0 Aによるバイァス電圧は、 溶液の吐出が行われない範囲で常時 電圧印加を行うことにより、 吐出時に印加すべき電圧の幅を予め低減し、 これによ る吐出時の反応性の向上を図っている。
' 吐出電圧電源 3 1 Aは、 バイアス電圧と重畳させた場合であって、 ノズル 2 1の 先端部に溶液による凸状のメニスカスカ S既に形成された状態において初めて液滴の 吐出が可能となり、 上記メニスカスが未形成の状態では液滴の吐出が行われない範 囲の電圧値となるように動作制御手段 5 0 Aにより吐出電圧電源 3 1 Aの制御が行 われる。
この吐出電圧電源 3 1 Aにより印加を行う吐出パルス電圧はバイアス電圧と重!: させた状態において、 前述した式 (1 ) により求められる。 なお、 上記条件は理論値であり、 実際上は、 凸状メニスカスの形成時と非形成 時における試験を行い、 適宜な電圧値を求めても良い。 一例を挙げると、 ノ ィァ ス電圧は DC300[V]で印加され、 吐出パルス電圧は 100IV]で印加される。 従って、 吐出の際の重畳電圧は 400[V]となる。
(動作制御手段)
動作制御手段 5 O Aは、 実際的には C P U, R O M, R AM等を含む演算装置 を有する構成であり、 これらに所定のプログラムが入力されることにより、 下記 に示す機能的な構成を実現すると共に後述する動作制御を実行する。
上記動作制御手段 5 0 Aは、 ノ ィァス電源 3 0 Aによるバイァス電圧の印加を連 続的に行わせた状態において外部からの吐出指令の入力を受けると吐出電圧電源 3 1 Aによる吐出パルス電圧の印加と駆動電圧電源 4 2による第一の電圧値の駆動パ ルス電圧の印加とを同期させて行わせる第二の吐出制御部 5 1 Aと、 吐出パルス電 圧及び第一の電圧値の駆動パルス電圧の印加の後に駆動電圧電源 4 2による第二 の電圧値の駆動パルス電圧の印加を行わせる動作制御を行う液面安定化制御部 5 2とを備えている。
動作制御手段 5 O Aは、 外部からの吐出指令信号を受け付ける図示しない 受信手段を有している。
第二の吐出制御部 5 1 Aは、 ノ ィァス電源 3 O Aに対し、 定常的にバイアス電圧 を吐出電極 2 8に印加させる。 さらに、 第二の吐出制御部 5 1 Aは、 受信手段を介 して吐出指令信号の受信を認識すると、 吐出電圧電源 3 1 Aによる吐出パルス電圧 の印加と駆動電圧電源 4 2による第一の電圧値の駆動パルス電圧の印加とを同期を 図って行わせる。 これにより、 ノズル 2 1の先端部から液滴の吐出が行われる。 なお、 ここでいう同期を図るとは、 電圧印加を厳密に同時に行わせる場合と、 溶 液の帯電速度による応答性とピエゾ素子 4 1による圧力変化による応答性とを考慮 した上でこれらによるズレを考慮調整した上でほぼ同時に電圧印加を行う場合との 双方を含むものとする。
(液体吐出装置による微小液滴の吐出動作)
図 1 3から図 1 4 Cにより液体吐出装置 2 0 Aの動作説明を行う。
溶液供給手段の供給ポンプによりノズル内流路 2 2には溶液が供給された状態に あり、 力かる状態で定常的にバイァス電源 3 0 Aから吐出電極 2 8にバイァス電圧 が印加されている (図 1 4 A)。
そして、 外部から動作制御手段 5 O Aに吐出指令信号が入力されると、 第二の吐 出制御部 5 1 Aの制御に従つて、 吐出電圧電源 3 1 Aによる吐出電極 2 8への吐出 パルス電圧の印加と駆動電圧電源 4 2によるピエゾ素子 4 1への第一の電圧値の駆 動パルス電圧の印加とが同期を図って行われる。 これにより、 帯電した溶液による 電界集中状態と、 ノズル 2 1の先端部における凸状メニスカス形成状態とより電界 強度が高まり、 凸状メニスカスの頂点において微小液滴が吐出される (図 1 4 B)。 液滴吐出後は、 凸状メニスカスが振動状態となるが、 すぐに、液面安定化制御部 5 2により駆動電圧電源 4 2による第二の電圧値の駆動パルス電圧がピエゾ素子 4 1に印加され、 溶液の液面はノズル 2 1の内側に後退する (図 1 4 C)。
以上のように、 液体吐出装置 2 O Aは液体吐出装置 2 0とほぼ同様の効果を有す ると共に、 第二の吐出制御部 5 1 Aにより、 吐出電圧電源 3 1 Aによる吐出電極 2 8への吐出パルス電圧の印加と駆動電圧電源 4 2によるピエゾ素子 4 1への第一の 電圧値の駆動パルス電圧の印加とが同期を図って行われるので、 これらを別夕イミ ングで行う場合と比較して吐出反応性のさらなる向上を図ることが可能である。
[その他]
上記液体吐出装置 2 0, 2 0 Aでは、 ノズル 2 1の先端部に凸状メニスカ フヽを形成するためにピェゾ素子 4 1を利用しているが、 凸状メニスカス形成 手段としては、 溶液のノズル内流路 2 2内での先端側への誘導, 同方向への 流動, 圧力の上昇等各手段を用いることが可能である。 例えば、 図示しない が、 溶液室に備えた振動板を静電力により変形させる静電ァクチユエ一夕方 式で溶液室内部の容積変化を生じさせることにより凸状メニスカスを形成さ せることも可能である。 ここで、 静電ァクチユエ一夕とは、 静電気力により 流路壁を撓ませ容積を変化させる機構である。 この静電ァクチユエ一夕を用 いる場合には、 凸状メニスカスの形成を、 静電ァクチユエ一夕が、 その形状 変化により溶液室内容積を変化せしめ、 ノズル圧力を高めることにより実行 する。 また、 ノズル先端部の液面の内側への引き込みを行う場合には、 静電 ァクチユエ一夕の形状変化により溶液室内容積を変化せしめ、 ノズル圧力を 低めることにより実行する。 かかる、 凸状メニスカス形成を静電ァクチユエ —夕での容積変化により行うことにより、 構造的にはピェゾ素子を用いる場 合よりも複雑になるが、 同様に溶液に対する制約無く且つ高周波駆動が可能 となり、 それに加え、 他ノズル化におけるノズルの高密度化及び環境対応に 優れるという効果を得ることが出来る。
さらにまた、 図 1 5に示すように、 ノズルプレート 2 6の溶液室内或いは 近傍に溶液を加熱する手段としてのヒータ 4 1 Bを設けても良い。 かかるヒ 一夕 4 1 Bは溶液を急速加熱して蒸発による気泡を生じさせることで溶液室 2 4内の圧力を上昇させてノズル 2 1の先端部に凸状メニスカスを形成する。 この場合、 ノズルプレート 2 6の最も下層 (図 1 5においてヒータ 4 1 B が埋め込まれている層) は絶縁性を有する必要はあるが、 ピエゾ素子を使用 しないので撓み可能な構造とする必要はない。 但し、 ヒータ 4 I Bを溶液室 2 4内の溶液に曝す配置とする場合にはヒータ 4 1 B及びその配線を絶縁す る必要がある。
また、 ヒータ 4 1 Bは、 その凸状メ二ス力ス形成の原理上、 ノズル 2 1の 先端部において溶液液面を後退させることはできないので、 液面安定化制御 部 5 2による制御を行うことはできないが、例えば、図 1 6 Cに示すように、 メニスカス待機位置 (ヒ一夕 4 1 Bの非加熱時のノズル 2 1の先端部におけ る溶液液面位置) を下げることによって吐出直後のメニスカスの安定効果を 同様に得ることも可能である。
また、 ヒータ 4 1 Bとしては加熱応答性の高いものを使用し、 その駆動に は加熱パルス電圧(例えば 10 [V] ) をヒー夕 4 1 Bに印加する駆動電圧電源 4 2 Bが使用される。
さらに、 液体吐出装置 2 0にヒー夕 4 1 Bを採用した場合の動作を説明す ると、 · ノズル内流路 2 2に溶液が供給され、 定常的に直流電源 3 0から吐出電極 2 8に吐出電圧が印加されている。 かかる状態で、 溶液は帯電状態にある。 また、 ヒ —夕 4 1 Bは非加熱状態なのでノズル 2 1先端部の液面はメニスカス待機位置に ある (図 1 7 A)。
そして、 外部から動作制御手段 5 0に吐出指令信号力入力されると、 第一の吐出 制御部 5 1の制御に従って、 駆動電圧電源 4 2 Bによる加熱パルス電圧がヒー夕 4 1 Bに印加される。 これにより、 溶 ί夜室 2 4内で気泡が発生し、 一時的にその内部 圧力が上昇するので、ノズル 2 1の先端部には凸状メニスカスが形成される。一方、 溶液は既に吐出電圧が印加され帯電状態にあるので、 凸状メニスカスの形成がトリ ガーとなり、 その頂点から微小液滴が吐出される (図 1 7 Β )。
液滴吐出後は、 凸状メニスカスが振動状態となるが、 ヒータ 4 1 Βは非加熱状態 となるのでノズル 2 1先端部の液面はメニスカス待機位置に戻ることにより凸 状メニスカスは消滅し、 溶液の液面はノズル 2 1の内側に後退する。
このように、 凸状メニスカス形成手段がヒータ 4 1 Βを採用する構成の場 合には、 溶液に対する印加電圧の変化を伴わないことから、 吐出の際の応答性 の向上及び液量の安定化を図ることが可能となる。 また、 当該ヒータ 4 1 Βの加 熱応答性に応じた応答性で溶液吐出を行うことが可能となり、 吐出動作の反 応性の向上を図り得る。
また、 ピエゾ素子を使用する場合のように溶液室 2 4が撓み可能な構造を 採らなくて良いため、 構造の簡易化による生産性の向上を図ることが可能と なる。
なお、 上記ヒータ 4 1 Βは、 液体吐出装置 2 O Aに採用しても良い。 その 場合には、 動作制御手段 5 O Aの第二の吐出制御部 5 1 Aにより、 バイアス電 源 3 0 Aによるバイァス電圧の印加を連続的に行わせた状態において外部からの吐 出指令の入力を受けると吐出電圧電源 3 1 Aによる吐出パルス電圧の印加と駆動電 圧電源 4 2 Bによる加熱パルス電圧の印加とが同期されて行われることとなる。 この場合も、 吐出電圧電源 3 1 Aによる吐出電極 2 8への吐出パルス電圧の印加 と駆動電圧電源 4 2 Bによるヒー夕 4 1 Bへの加熱パルス電圧の印加とが同期を図 つて行われるので、 これらを別タイミングで行う場合と比較して吐出反応性の向上 を図ることが可能である。
[比較試験]
上述した凸状メニスカス形成手段を備える各種の液体吐出装置と凸状メ二 スカス形成手段を備えない液体吐出装置とを所定の条件下で行った比較試験 の結果を以下に説明する。 図 1 9は、 比較試験結果を示す図表である。 比較 試験の対象は以下に示す七種のものである。
①制御パターン A
凸状メニスカス形成手段 無し
吐出電圧印加手段 バイァス電圧 +吐出パルス電圧 同期 無し
液面吸引 無し
②制御パターン B
凸状メニスカス形成手段 ピエゾ素子
吐出電圧印加手段 直流電圧
同期 無し
液面吸引 無し
③制御パターン C
凸状メニスカス形成手段 ピエゾ素子
吐出電圧印加手段 バイァス電圧 +吐出パルス電圧 同期 ピェゾ素子と吐出パルス電圧を同期 液面吸引 無し
④制御パターン D
凸状メニスカス形成手段: ピエゾ素子
吐出電圧印加手段
同期 無し
液面吸引 有り
⑤制御パターン E
凸状メニスカス形成手段 ピエゾ素子
吐出電圧印加手段 バイァス電圧 +吐出パルス電圧 同期 ピェゾ素子と吐出パルス電圧を同期 液面吸引 有り
⑥制御パターン F
凸状メニスカス形成手段: ヒー夕
吐出電圧印加手段 :直流電圧 同期 :無し
液面吸引 :無し
⑦制御パターン G
凸状メニスカス形成手段: ヒータ
吐出電圧印加手段 :バイアス電圧 +吐出パルス電圧
同期 : ヒータと吐出パルス電圧を同期
液面吸引 :無し
なお、 上記条件以外は第一の実施形態で示した液体吐出装置 2 0と同じ構 成である。 つまり、 ノズル内流路及び吐出開口部の内部直径が 1 [ II m]のノズルが 使用されている。
さらに、 駆動条件としては、 吐出のトリガ一となるパルス電圧の周波数:
1 [kHz] , 吐出電圧: (1)直流電圧 (400 [V] ), (2)バイアス電圧 (300[V]) +吐出 パルス電圧(100[λΦ、 ピエゾ素子駆動電圧: 10[V]、 ヒー夕駆動電圧 ΙΟΜとする。 溶液は水であり、 その物性は粘性: 8[cP] (8 X 10-2[Pa-S]) ; 比抵抗: 108[Ω ], 表面張力 30Χ 10-3[Ν/ηι]である。
評価方法は、 0.1[mm]のガラス基板に上記吐出周波数により連続して 20回の吐出 を行い、 応答性の評価を行った。 評価は最も結果が良好だったものを 5とする五段 階で行っている。
評価の結果によれば、 ⑤制御パターン E (ピエゾ素子使用、 吐出電圧印加手段 はバイァス電圧と吐出パルス電圧の重畳電圧印加、 ピエゾ素子と吐出パルス電圧 の同期あり、液面吸引あり)の液体吐出装置が最も高い応答性を示している。 ちなみにこの制御パターン Eは第二の実施形態で示した液体吐出装置 2 0 A と同一の構成である。
[液体吐出装置の理論説明]
以下に、 本発明による液体吐出の理論説明及びこれに基づく基本例の説明 を行う。 なお、 以下に説明する理論及び基本例におけるノズルの構造、 各部 の素材及び吐出液体の特性、 ノズル周蹈に付加する構成、 吐出動作に関する 制御条件等全ての内容は、 可能な限り上述した各実施形態中に適用しても良 いことはいうまでもない。 (印加電圧低下および微少液滴量の安定吐出実現の方策)
従前は以下の条件式により定まる範囲を超えて液滴の吐出は不可能と考えられ ていた。
Figure imgf000034_0001
A Cは静電吸引力によりノズル先端部からの液滴の吐出を可能とするための溶 液液面における成長波長 (ni) であり、 A C - S TC T IIV S GV2で求められる。
, ノ
ε0ν2 (5)
vく h II
V £Qd (6) 本発明では、 静電吸引型ィンクジェット方式において果たすノズルの役割を再 考察し、 従来吐出不可能として試みられていなかった領域において、 マクスゥェ ルカなどを利用することで、 微小液滴を形成することができる。
このような駆動電圧低下および微少量吐出実現の方策のための吐出条件等を近 似的に表す式を導出したので以下に述べる。
以下の説明は、 上記各本発明の実施形態で説明した液体吐出装置に適用可能で ある。
いま、 内径 dのノズルに導電性溶液を注入し、 基材としての無限平板導体から hの高さに垂直に位置させたと仮定する。 この様子を図 2 0に示す。 このとき、 ノズル先端部に誘起される電荷は、 ノズル先端の半球部に集中すると仮定し、 以 下の式で近似的に表される。
Q 二 2 sQaVd
1)
ここで、 Q:ノズル先端部に誘起される電荷 (0、 ε 0 :真空の誘電率 (F/m)、 ε :基材の誘電率 (F/m)、 h: ノズル一基材間距離 (m)、 d: ノズル内部の直径 (m)、 : ノズルに印加する総電圧 (V) である。 α : ノズル形状などに 手す る比例定数で、 1〜1.5程度の値を取り、 特に dくく liのときほぼ 1程度となる。 また、 基材としての基板が導体基板の場合、 基板内の対称位置に反対の符号を 持つ鏡像電荷 Q' が誘導されると考えられる。 基板が絶縁体の場合は、 誘電率に よって定まる対称位置に同様に反対符号の映像電荷 Q ' が誘導される。
ところで、ノズル先端部に於ける凸状メニスカスの先端部の電界強度 E1(,c. [V/m] は、 凸状メニスカス先端部の曲率半径を R[m]と仮定すると、 一 V
。。二!^ (8) で与えられる。 ここで k:比例定数で、 ノズル形状などにより異なるカ^ 1.5〜8.5 程度の値をとり、多くの場合 5程度と考えられる。(P. J. Birds eye and D. A. Smith, Surface Science, 23 (1970) 198-210)。
今簡単のため、 d/2=Rとする。 これは、 ノズル先端部に表面張力で導電性 溶液がノズルの半径と同じ半径を持つ半球形状に盛り上がっている状態に相当す る。
ノズル先端の液体に働く圧力のバランスを考える。 まず、 静電的な圧力は、 ノ ズル先端部の液面積を S [m2]とすると、
0 0
e loc 72 / ^oc
π I L (9)
(7)、 (8)、 (9) 式より Q!= lとおいて、 p 二 2 V
e一 d/2 k-d/2 k.d2
(10)
と表される。
一方、 ノズル先端部に於ける液体の表面張力を Psとすると、 (1 1 ) ここで、 Ύ :表面張力 (N/m)、 である。
静電的な力により流体の吐出が起こる条件は、 静電的な力が表面張力を上回る条 件なので、
Figure imgf000036_0001
となる。 十分に小さいノズル直径 dをもちいることで、 静電的な圧力が、 表面張 力を上回らせる事が可能である。
この関係式より、 λ と dの関係を求めると、
Figure imgf000036_0002
が吐出の最低電圧を与える。 すなわち、 式 (6 ) および式 (1 3 ) より、
Figure imgf000036_0003
が、 本発明の動作電圧となる。
ある内径 dのノズルに対し、吐出限界電圧 V cの依存性を前述した図 9に示す。 この図より、 微細ノズルによる電界の集中効果を考慮すると、 吐出開始電圧は、 ノズル径の減少に伴い低下する事が明らかになつた。
従来の電界に対する考え方、 すなわちノズルに印加する電圧と対向電極間の距 離によって定義される電界のみを考慮した場合では、 微細ノズルになるに従い、 吐出に必要な電圧は増加する。 一方、 局所電界強度に注目すれば、 微細ノズル化 により吐出電圧の低下が可能となる。
静電吸引による吐出は、ノズル端部における液体(溶液)の帯電が基本である。 帯電の速度は誘電緩和によつて決まる時定数程度と考えられる。 ε
τ 二——
σ (2) ここで、 ε :溶液の誘電率 (F/ni)、 σ :溶液の導電率 (S/m) である。 溶液の 比誘電率を 10、 導電率を 1CT6 S/m を仮定すると、 て = 1.854 X 10—5secとなる。 あ るいは、 臨界周波数を ic [Hz]とすると、 η _ σ
J c ~ (1 4)
^
となる。 この icよりも早い周波数の電界の変化に対しては、応答できず吐出は不 可能になると考えられる。 上記の例について見積もると、 周波数としては 10 kHz 程度となる。 このとき、 ノズル半径 2 x m、 電圧 500V弱の場合、 ノズル内流量 Gは 10-13m3/sと見積もることができるが、 上記の例の液体の場合、 10kHzでの 吐出が可能なので、 1周期での最小吐出量は lOfl (フエムトリットル、 lfl: 10-15 1) 程度を達成できる。
なお、 各上記本実施の形態においては、 図 2 0に示したようにノズル先端部に 於ける電界の集中効果と、 対向基板に誘起される鏡像力の作用を特徴とする。 こ のため、 先行技術のように基板または基板支持体を導電性にすることや、 これら 基板または基板支持体への電圧の印加は必ずしも必要はない。 すなわち、 基板と して絶縁性のガラス基板、 ポリイミドなどのプラスチック基板、 セラミックス基 板、 半導体基板などを用いることが可能である。
また、 上記各実施形態において電極への印加電圧はプラス、 マイナスのどちら でも良い。
さらに、 ノズルと基材との距離は、 500[ in]以下に保つことにより、 溶液の吐 出を容易にすることができる。 また、 図示しないが、 ノズル位置検出によるフィ 一ドバック制御を行い、 ノズルを基材に対し一定に保つようにすることが望まし い。
また、 基材を、 導電性または絶縁性の基材ホルダーに裁置して保持するように しても良い。 図 2 1は、 本発明の他の基本例の一例としての夜体吐出装置のノズル部分の側 面断面図を示したものである。ノズル 1の側面部には電極 1 5が設けられており、 ノズル内溶液 3との間に制御された電圧が印加される。 この電極 1 5の目的は、 Electrowetting効果を制御するための電極である。十分な電場がノズルを構成す る絶縁体にかかる場合この電極がなくとも Electrowetting効果は起こると期待 される。しかし、本基本例では、より積極的にこの電極を用いて制御することで、 吐出制御の役割も果たすようにしたものである。 ノズル 1を絶縁体で構成し、 先 端部におけるノズルの管厚が 1 μ ηι、 ノズル内径が 2 /_ m、 印加電圧が 300Vの場 合、 約 30気圧の Electrowetting効果になる。 この圧力は、 吐出のためには、 不 十分であるが溶液のノズル先端部への供給の点からは意味があり、 この制御電極 により吐出の制御が可能と考えられる。
前述した図 9は、 本発明における吐出開始電圧のノズル径依存性を示したもの である。 液体吐出装置として、 図 1 1に示すものを用いた。 微細ノズルになるに 従い吐出開始電圧が低下し、従来より低電圧で吐出可能なことが明らかになった。 上記各実施形態において、 溶液吐出の条件は、 ノズル一基材間距離(h )、 印加 電圧の'振幅 (v)、 印加電圧振動数 ω のそれぞれの関数になり、 それぞれにあ る一定の条件を満たすことが吐出条件として必要になる。 逆にどれか一つの条件 を満たさない場合他のパラメ一夕一を変更する必要がある。
この様子を図 2 2を用いて説明する。
まず吐出のためには、 それ以上の電界でないと吐出しないというある一定の臨 界電界 Ecが存在する。 この臨界電界は、 ノズル径、 溶液の表面張力、 粘性など によって変わってくる値で、 Ec以下での吐出は困難である。 臨界電界 Ec以上す なわち吐出可能電界強度において、 ノズル一基材間距離(h )と印加電圧の振幅 (V)の間には、 おおむね比例の関係が生じ、 ノズル一基材間距離を縮めた場合、 臨界印加電圧 Vを小さくする事が出来る。
逆に、 ノズル一基材間距離 hを極端に離し、 印加電圧 Vを大きくした場合、 仮 に同じ電界強度を保ったとしても、 コロナ放電による作用などによって、 流体液 滴の破裂すなわちパーストが生じてしまう。 産業上の利用可能性
以上のように、 本発明は、 グラフィック用途としての通常印刷、 特殊媒体 (フ イルム、 布、 鋼板など) への印刷、 曲面印刷等、 又は、 液体状又はペースト状の 導電性物質による配線、 アンテナ等のパターンニング塗布、 加工用途としての粘 着材、 封止材などの塗布、 バイオ、 医療用途としては医薬品 (微量の成分を複数 混合するような)、遺伝子診断用試料等の塗布等において、各用途に応じた液体の 吐出に適している。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 帯電した溶液の液滴を基材に吐出する液体吐出装置であって、 先端部から前 記液滴を吐出する先端部の内部直径が 30[ m]以下のノズルを有する液体吐出へッ ドと、 前記ノズル内に溶液を供給する溶液供給手段と、 前記ノズル内の溶液に吐出 電圧を印加する吐出電圧印加手段と、 を備え、 前記ノズル内の溶液が当該ノズル先 端部から凸状に盛り上がつた状態を形成する凸状メニスカス形成手段を設けたこと を特徴とする液体吐出装置。
2 . 前記凸状メニスカス形成手段を駆動する駆動電圧の印加及び吐出電圧印加手 段による吐出電圧の印加を制御する動作制御手段を備え、 この動作制御手段は、 前 記吐出電圧印加手段による吐出電圧の印加を行わせつつ液滴の吐出に際して前記凸 状メニスカス形成手段の駆動電圧の印加を行わせる第一の吐出制御部を有すること を特徴とする請求の範囲第 1項に記載の液体吐出装置。
3 . 前記凸状メニスカス形成手段の駆動及び吐出電圧印加手段による電圧印加を 制御する動作制御手段を備え、 この動作制御手段は、 前記凸状メニスカス形成手段 による溶液の盛り上げ動作と前記吐出電圧の印加とを同期させて行う第二の吐出制 御部を有することを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の液体吐出装置。
4. 前記動作制御手段は、 前記溶液の盛り上げ動作及び吐出電圧の印加の後 に前記ノズル先端部の液面を内側に引き込ませる動作制御を行う液面安定化 制御部を有することを特徴とする請求の範囲第 2又は 3項に記載の液体吐出 装置。
5 . 前記凸状メニスカス形成手段は、 前記ノズル内の容積を変動させる圧電素子 を有することを特徴とする請求の範囲第 1〜4項のいずれか 1項に記載の液体吐出 装置。
6 . 前記凸状メニスカス形成手段は、 前記ノズル内の溶液に気泡を発生させるヒ 一夕を有することを特徴とする請求の範囲第 1〜 3項のいずれか 1項に記載の液体 吐出装置。
7 . 前記吐出電圧印加手段による吐出電圧 Vは、 次式 (1 ) の範囲を満足する ことを特徴とする請求の範囲第 1〜 6項のいずれか 1項に記載の記載の液体吐出 装置。 h /¾> v> - ど。 d V 2 (i) ただし、 γ:溶液の表面張力 (N/m)、 ε0:真空の誘電率 (F/m)、 d:ノズル 直径 (m)、 h :ノズル—基材間距離 (m)、 k :ノズル形状に依存する比例定数 (1.5く kく 8.5) とする。
8. 前記ノズルは、 絶縁性の材料で形成されていることを特徴とする請求の範 囲第 1〜 7項のいずれか 1項に記載の液体吐出装置。
9. 前記ノズルの少なくとも先端部が絶縁性の材料で形成されていることを特 徵とする請求の範囲第 1〜 7項のいずれか 1項に記載の液体吐出装置。
10. 前記ノズルの前記内部直径が 20[xm]未満であることを特徵とする請求 の範囲第 1〜 9項のいずれか 1項に記載の液体吐出装置。
1 1. 前記ノズルの前記内部直径が 10[ xm]以下であることを特徴とする請求 の範囲第 10項に記載の液体吐出装置。
12. 前記ノズルの前記内部直径が 8[^m]以下であることを特徴とする請求の 範囲第 1 1項に記載の液体吐出装置。
13. 前記ノズルの前記内部直径が 4[xm]以下であることを特徴とする請求の 範囲第 12項に記載の液体吐出装置。
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