WO2004028814A1 - 液体吐出装置 - Google Patents

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WO2004028814A1
WO2004028814A1 PCT/JP2003/012100 JP0312100W WO2004028814A1 WO 2004028814 A1 WO2004028814 A1 WO 2004028814A1 JP 0312100 W JP0312100 W JP 0312100W WO 2004028814 A1 WO2004028814 A1 WO 2004028814A1
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WO
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nozzle
tip
discharge
solution
liquid
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PCT/JP2003/012100
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yasuo Nishi
Kaoru Higuchi
Kazuhiro Murata
Hiroshi Yokoyama
Original Assignee
Konica Minolta Holdings, Inc.
Sharp Kabushiki Kaisha
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology
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Publication date
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Priority to EP03798449A priority patent/EP1550555B1/en
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Priority to DE60331332T priority patent/DE60331332D1/de
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    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/14Structure thereof only for on-demand ink jet heads
    • B41J2002/14395Electrowetting

Definitions

  • the present invention relates to a liquid ejection device that ejects a liquid to a substrate.
  • the conventional ink jet recording method includes a piezo method in which ink droplets are ejected by deforming an ink flow path by vibrating a piezoelectric element.
  • a heating element is provided in the ink flow path, and the heating element generates heat to generate bubbles.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 11-2777747 or Japanese Patent Application Publication 0 0 0—1 2 7 4 10 The electrostatic suction method that charges the ink in the ink flow path and discharges the ink droplets by the electrostatic suction force of the ink as described in the bulletin of No. Many are coming.
  • the above conventional example has the following problems.
  • the nozzle diameter is large, the shape of the droplet ejected from the nozzle is not stable, and there is a limit to miniaturization of the droplet.
  • a first object to provide a liquid ejection device capable of ejecting fine droplets.
  • a second object is to provide a liquid ejection device capable of ejecting stable droplets.
  • it can discharge fine droplets and achieve higher landing accuracy.
  • a third object is to provide a liquid ejection device. It is a fourth object of the present invention to provide an inexpensive liquid ejecting apparatus capable of reducing the applied voltage. Disclosure of the invention
  • the present invention relates to a liquid ejection device for ejecting liquid droplets of a charged solution, comprising: a liquid ejection head having a nozzle having an internal diameter of 30 [m] or less for ejecting a liquid droplet from a tip end; A solution supply means for supplying a solution; and a discharge voltage application means for applying a discharge voltage to the solution in the nozzle, wherein a discharge electrode of the discharge voltage application means is provided at a rear end side of the nozzle, and a flow inside the nozzle is provided.
  • the path length is set to be at least 10 times the internal diameter of the nozzle at the nozzle tip.
  • nozzle diameter refers to the internal diameter of the nozzle at the tip end for discharging the droplet (the internal diameter of the tip end of the nozzle).
  • the sectional shape of the liquid ejection hole in the nozzle is not limited to a circle.
  • the cross-sectional shape of the liquid ejection hole is a polygon, a star, or another shape
  • the circumscribed circle of the cross-sectional shape shall be 30 m or less.
  • nozzle radius indicates 1/2 of the nozzle diameter (the inner diameter of the nozzle tip).
  • the term “substrate” refers to an object to which droplets of a discharged solution are landed, and the material is not particularly limited. Therefore, for example, when the above configuration is applied to an ink jet printer, a recording medium such as paper or a sheet corresponds to the base material, and when a circuit is formed using a conductive paste, the circuit is formed. The base to be done will correspond to the substrate.
  • the nozzle or the base material is arranged such that the droplet receiving surface faces the tip of the nozzle.
  • the arrangement work for realizing the mutual positional relationship may be performed by either the movement of the nozzle or the movement of the base material.
  • the solution is supplied into the liquid discharge head by the solution supply means.
  • the solution in the nozzle is required to be charged to discharge.
  • an electrode dedicated to charging for applying a voltage necessary for charging the solution may be provided.
  • the solution When the solution is charged in the nozzle, the electric field concentrates, and the solution receives an electrostatic force toward the tip of the nozzle, so that a solution force bulges (convex meniscus) at the tip of the nozzle.
  • the electrostatic force of the solution exceeds the surface tension at the convex meniscus, the droplet of the solution flies in a direction perpendicular to the receiving surface of the base material from the protruding tip of the convex meniscus, and receives the base material.
  • a dot of solution is formed on the surface.
  • the nozzle diameter is made ultra-fine in order to obtain the effect of concentrating the electric field.
  • the droplet to be charged is elongated. It is desirable to become.
  • the length of the internal flow path of the nozzle may be set to be long.
  • the internal flow path length of the nozzle is at least 10 times the internal diameter of the nozzle, the ejection responsiveness of the fine nozzle can be improved.
  • it is desirable that the flow path length of the flow path in the nozzle is longer. It is desirable to select a value (magnification with respect to the inner diameter) in consideration of difficulties in its production and a decrease in discharge stability due to clogging. As an example, the upper limit is about 150 times.
  • the internal flow path length of the nozzle refers to the distance H from the nozzle plate surface to the tip of the nozzle in the case of a liquid discharge head in which the nozzle is provided on the nozzle plate (see FIG. 12). ).
  • the present invention increases the electric field intensity by concentrating the electric field at the nozzle tip by making the nozzle an unprecedented ultra-fine diameter, and at the same time, up to the mirror image charge or the image charge on the substrate side induced at that time.
  • the droplet flies by the electrostatic force of the electric field generated during the period.
  • the counter electrode may be used in combination.
  • the base material is arranged along the opposing surface of the opposing electrode, and that the opposing surface of the opposing electrode is arranged perpendicular to the direction in which droplets are ejected from the nozzle. This makes it possible to use the electrostatic force of the electric field between the nozzle and the opposing electrode together to guide the flying electrode, and if the opposing electrode is grounded, the electric charge of the charged droplets is transferred to the air. In addition to discharging, it can be released via the counter electrode, and the effect of reducing charge accumulation can be obtained.
  • the internal flow path length of the nozzle may be set to at least 50 times the internal diameter of the nozzle at the nozzle tip.
  • the internal flow path length of the nozzle may be set to at least 100 times or more the internal diameter of the nozzle at the nozzle tip.
  • the internal flow path length of the nozzle is at least 100 times the internal diameter, thereby improving the responsiveness and miniaturization of the ejected liquid droplets, and more effectively eliminating the electric field. Therefore, it is possible to stabilize the concentration of the discharge position.
  • the wall thickness of the nozzle at the tip of the nozzle may be equal to or less than the length equal to the internal diameter of the nozzle at the tip of the nozzle.
  • the outer diameter of the tip surface of the nozzle can be made three times or less of the inner diameter, and the area of the tip surface can be reduced, and the size of the tip surface can be defined based on the inner diameter of the nozzle.
  • the outer diameter of the nozzle tip can be defined according to the miniaturization of the inner diameter of the nozzle.
  • a convex mesh formed at the nozzle tip protrudes in the ejection direction.
  • the outer diameter of the varnish can be reduced in accordance with the inner diameter of the nozzle, and the discharge action by the concentrated electric field is more effectively concentrated on the tip of the meniscus, thereby improving the responsiveness and miniaturizing the droplet.
  • the thickness of the wall surface of the nozzle at the tip of the nozzle may be equal to or less than 1/4, which is equal to the internal diameter of the nozzle at the tip of the nozzle.
  • the outer diameter of the tip end surface of the nozzle can be made 1.5 times or less the inner diameter, and the area of the tip end surface is further miniaturized, and the size of the tip end surface is defined based on the inner diameter of the nozzle.
  • the outer diameter of the nozzle tip can be defined according to the miniaturization of the inner diameter of the nozzle.
  • the outer diameter of the convex meniscus protruding in the discharge direction formed at the nozzle tip can be further reduced according to the nozzle inner diameter, and the discharge action by the concentrated electric field can be more effectively applied to the meniscus tip. Concentration, which enables further improvement of responsiveness and miniaturization of droplets.
  • At least the tip of the surface of the nozzle may be subjected to a water-repellent treatment.
  • the tip surface of the nozzle may be an inclined surface with respect to the center line of the flow path in the nozzle.
  • the inclination angle of the tip surface of the nozzle may be set in a range of 30 to 45 degrees.
  • inclination angle refers to an angle based on a case where a state where the normal of the inclined surface coincides with the center line of the flow path in the nozzle is set to 90 degrees.
  • the tip of the tip is inclined in a direction in which the tip becomes sharp. If this angle is too small, Discharge from the part is easy to occur, and the effect of the electric field is reduced Can be lost. Therefore, by setting the inclination angle of the inclined surface in the range of 30 to 45 degrees to prevent such a situation, it is possible to improve the responsiveness and reduce the droplet size without impairing the electric field concentration term .
  • the nozzle diameter may be smaller than 20 [m].
  • the inner diameter of the nozzle may be 10 [m] or less.
  • the inner diameter of the nozzle may be set to 8 [m] or less.
  • the inner diameter of the nozzle may be set to 4 [ ⁇ ] or less.
  • the inner diameter of the nozzle is larger than 0.2 [m].
  • the discharge electrode of the discharge voltage applying means may be provided on the rear end side of the nozzle.
  • the discharge electrode is located near the upstream end of the flow path in the nozzle, and the discharge electrode can be kept away from the tip end for discharging the solution, and the influence of disturbance due to the discharge electrode where the potential changes constantly is maintained. And a stable discharge of the solution is performed.
  • the nozzle is formed of an electrically insulating material, and an electrode for applying a discharge voltage is inserted into the nozzle or a pattern that functions as the electrode is formed.
  • the nozzle is formed of an electrically insulating material, an electrode is inserted in the nozzle, or a plating as an electrode is formed, and a discharge electrode is provided outside the nozzle.
  • the discharge electrode outside the nozzle is provided on, for example, the entire periphery or a part of the end surface on the tip side of the nozzle or the side surface on the tip end side of the nozzle.
  • the ejection force can be improved, so that even if the nozzle diameter is further reduced, the droplet can be ejected at a low voltage.
  • the base material is formed of a conductive material or an insulating material.
  • the applied ejection voltage is driven in a region represented by the following equation (1).
  • Ryo surface tension of the solution (N / m)
  • ⁇ 0 dielectric constant of vacuum (F / m)
  • d nozzle diameter (m)
  • h a nozzle one substrate distance (m)
  • k nozzle
  • the proportionality constant (1.5 ⁇ k ⁇ 8.5) depends on the shape.
  • the ejection voltage to be applied is 1000 V or less.
  • the applied ejection voltage be 500 V or less.
  • the distance between the nozzle and the base material be 500 [; m] or less, since high impact accuracy can be obtained even when the force nozzle diameter is fine. Further, it is preferable that the pressure is applied to the solution in the nozzle.
  • a configuration in which a pulse width larger than the time constant determined by ⁇ (2) is applied may be employed.
  • dielectric constant of the solution (F / m)
  • conductivity of the solution (S / m).
  • FIG. 1A is a distribution diagram of the electric field intensity when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [ra] when the nozzle diameter is ⁇ 0.2 [; m]
  • FIG. FIG. 7 is a distribution diagram of electric field strength when the distance between the frost pole and the opposite frost pole is set to 100 [m].
  • FIG. 2A is a distribution diagram of the electric field intensity when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [m] when the nozzle diameter is ⁇ .4 [; m]
  • FIG. FIG. 6 is a distribution diagram of electric field strength when the distance between the electrode and the counter electrode is set to 100 m].
  • Fig. 3A is a distribution diagram of the electric field strength when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [m] when the nozzle diameter is ⁇ [m]
  • Fig. 3B is the nozzle and the counter electrode.
  • FIG. 7 is a distribution diagram of the electric field strength when the distance to is set to 100 [; m].
  • Fig. 4A is a distribution diagram of the electric field strength when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [zm] when the nozzle diameter is ⁇ 8 [m]
  • Fig. 4B is the nozzle and the counter electrode.
  • FIG. 4 is a distribution diagram of electric field strength when the distance from the object is set to 100 [m].
  • FIG. 5A is a distribution diagram of the electric field intensity when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [; um] when the nozzle diameter is ⁇ 20 [wm]
  • FIG. FIG. 4 is a distribution diagram of electric field intensity when a distance from an electrode is set to 100 [; m].
  • FIG. 6A is a distribution diagram of the electric field intensity when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [; ⁇ ] when the nozzle diameter is ⁇ 50 [m]
  • FIG. FIG. 4 is a distribution diagram of electric field intensity when a distance from an electrode is set to 100 [; m].
  • FIG. 7 is a chart showing the maximum electric field strength under the conditions of FIGS. 1 to 6.
  • FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the maximum electric field intensity at the meniscus portion of the nozzle diameter of the nozzle and the strong electric field region.
  • Fig. 9 shows the nozzle diameter of the nozzle, the discharge start voltage at which the droplet discharged from the meniscus portion starts to fly, the voltage value of the initial discharge droplet at the Rayleigh limit, and the ratio of the discharge start voltage to the Rayleigh limit voltage value.
  • FIG. 10 is a graph showing the relationship between the nozzle diameter and the region of the strong electric field in the meniscus portion.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view along a nozzle of the liquid ejection apparatus according to the first embodiment.
  • FIG. 12 is an explanatory diagram showing reference numerals indicating respective dimensions at the tip of the nozzle.
  • FIG. 13A is an explanatory diagram showing a state of a water-repellent treatment at the tip of the nozzle, and
  • FIG. 13B is an explanatory diagram showing another example of the water-repellent treatment.
  • FIG. 14A is an explanatory view showing the relationship between the discharging operation of the solution and the voltage applied to the solution and showing a state in which the discharging is not performed
  • FIG. 14B is an explanatory view showing the discharging state
  • FIG. 15 is an explanatory diagram showing an example of another nozzle provided with an inclined surface at the tip.
  • FIG. 16A is a partially cut-away perspective view showing an example of the shape of the flow path in the nozzle having a rounded solution chamber side
  • Fig. 16B is a view of the inside of the nozzle with the inner wall surface of the flow path tapered.
  • FIG. 16C is a partially cutaway perspective view showing an example of the shape of the flow path.
  • FIG. 16C is a partially cutaway view showing an example of the shape of the flow path in the nozzle in which a tapered peripheral surface and a linear flow path are combined. It is the perspective view which lacked.
  • FIG. 17 is a table showing the results of comparative tests performed under predetermined conditions while changing the dimensions of each part of the nozzle.
  • FIG. 18 is a chart showing the results of comparative tests performed under predetermined conditions while changing the dimensions of each part of the nozzle.
  • FIG. 19 is shown for explaining the calculation of the electric field strength of the nozzle as an embodiment of the present invention.
  • FIG. 20 is a side sectional view of a liquid ejection device as an example of the present invention.
  • FIG. 21 is a diagram for explaining ejection conditions based on the relationship between distance and voltage in the liquid ejection device according to the embodiment of the present invention.
  • the nozzle diameter of the liquid ejection device described in each of the following embodiments is preferably 30 [um] or less, more preferably less than 20 [m], more preferably less than 10 [ ⁇ ], and still more preferably. Is preferably 8 [im] or less, more preferably 4 [; am] or less.
  • the nozzle diameter is preferably larger than 0.2 [1].
  • the relationship between the nozzle diameter and the electric field strength will be described with reference to FIGS. 1A to 6B.
  • the electric field strength when the nozzle diameter is ⁇ 0.2, 0.4, 1, 8, 20 [; am] and the nozzle diameter ⁇ 50 m, which is conventionally used as a reference, Shows the distribution.
  • the nozzle center position C indicates the center position of the liquid discharge surface of the liquid discharge hole at the tip of the nozzle.
  • Fig. 1A, Fig. 2A, Fig. 3A, Fig. 4A, Fig. 5A, and Fig. 6A show the electric field strength distribution when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 2000 [A II].
  • Figure; 3 Fig. 2B, Fig. 3B, Fig. 4B, Fig. 5B, Fig. 6B show the electric field strength distribution when the distance between the nozzle and the counter electrode is set to 100 [m].
  • the applied voltage The pressure was kept constant at 200 [V] for each condition.
  • the distribution lines in FIGS. 1A to 6B indicate the range of charge intensity from 1 ⁇ 10 6 [V / m] to 1 ⁇ 10 7 [V / m].
  • Fig. 7 shows a chart showing the maximum electric field strength under each condition.
  • FIG. 8 shows the relationship between the maximum electric field intensity and the strong electric field region when there is a liquid level at the tip of the nozzle and the nozzle diameter of the nozzle.
  • the amount of charge that can be charged to a droplet is expressed by the following equation (3), taking into account the Rayleigh splitting (Rayleigh limit) of the droplet.
  • Q is the amount of charge giving the Rayleigh limit (C)
  • ⁇ 0 is the dielectric constant of vacuum (F / m)
  • r is the surface tension of the solution (N / ix, do is the diameter of the droplet (i)) .
  • FIG. 9 is a graph showing the relationship between the ratio of one limit voltage value and the ratio.
  • nozzle diameter For example, in the graph shown in Fig. 10 showing the relationship between the nozzle diameter and the region of the strong electric field (1 X 10G [V / m] or more) at the tip of the nozzle, when the nozzle diameter becomes ⁇ 0.2 [m] or less, It is shown that the area of electric field concentration becomes extremely narrow. This indicates that the ejected droplet cannot receive sufficient energy for acceleration and the flight stability is reduced. Therefore, it is preferable to set the nozzle diameter to be larger than ⁇ 0.2 [ ⁇ ].
  • FIG. 11 is a cross-sectional view of the liquid ejection device 50 along a nozzle 51 described later.
  • the liquid ejection device 50 is provided on a nozzle plate 56 d, and faces a nozzle 51 having an ultrafine diameter for discharging a droplet of a chargeable solution from the tip thereof, and a tip of the nozzle 51.
  • a counter electrode 23 having a facing surface and supporting a substrate K on which the droplets land on the facing surface; a solution supply means 53 for supplying a solution to a flow path 52 in the nozzle 51; and a nozzle 5
  • the nozzle 51 is provided with a discharge voltage applying means 35 for applying a discharge voltage to the solution in 1, and a solution suction means 40 for sucking the solution in the nozzle 51.
  • the nozzle 51 and a part of the solution supply means 53 and a part of the discharge voltage applying means 35 are integrally formed by a nozzle plate 56.
  • the force shown in FIG. 11 with the tip of the nozzle 51 facing upward is shown.
  • the nozzle 51 is horizontal or lower, more preferably Used in a vertically downward orientation.
  • Examples of the solution to be discharged by the liquid discharge device 50 include water, C ⁇ C] 2 , HB i-, HN ⁇ 3 , H 3 P ⁇ 4 , H 2 S ⁇ , and SOC 1 as the inorganic liquid. 2, S 0 2 C 1 2 , and the like FS_ ⁇ 3 H.
  • Organic liquids include methanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, 2-methyl-1-propanol, tert -Butanol, 4-methyl-2-pentanol, benzyl alcohol, ⁇ _terbineol, ethylene glycol, glycerin, diethylene glycol, triethylene glycol, and other alcohols; phenol, ⁇ -cresol, m-cresol, p_cresol, etc.
  • Phenols dioxane, furfural, ethylene glycol dimethyl ether, methyl sorb, ethyl sorb, butyl sorb, ethyl carbyl) ⁇ -yl, butyl carbyl] ⁇ -yl, butyl carbitol acetate, epichlorohydrin, etc.
  • Ethers acetone, methylethyl ketone, ketones such as 2-methyl-14-pentanone, acetofphenone; fatty acids such as formic acid, acetic acid, dichloroacetic acid, and trichloroacetic acid; methyl formate, ethyl formate, acetic acid Butyl, ethyl acetate, n-butyl acetate, isoptyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, n-pentyl acetate, ethyl ethyl propionate, ethyl ethyl lactate, methyl benzoate, getyl malonate, dimethyl phthalate, getyl phthalate, Esters such as ethyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, cellosolve acetate, butyl carbitol acetate, ethyl acetate, methyl cyanoacetate, ethy
  • the target substance to be dissolved or dispersed in the above-described liquid is a nozzle.
  • a phosphor such as PDP, CRT, and FED
  • a conventionally known phosphor can be used without any particular limitation.
  • binder examples include cellulose such as ethylcellulose, methylcellulose, nitrocellulose, cellulose acetate, and hydroxyethylcellulose, and derivatives thereof; alkyd resins; (Meth) acrylic resin such as acrylic acid copolymer, lauryl methacrylate ⁇ 2-hydroxyethyl methacrylate co-reactive coalescence and its metal salts; poly such as poly N-isopropylacrylamide and poly N, N-dimethylacrylamide (Men) Acrylamide resin; styrene resins such as polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-isoprene copolymer; styrene-n-butylmethyl Styrene / acrylic resins such as tactylate copolymers; various saturated and unsaturated polyester resins; polyolefin resins such as polypropylene; hal
  • the liquid ejection device 50 When the liquid ejection device 50 is used as a patterning method, it can be typically used for a display. Specifically, formation of plasma display phosphor, formation of plasma display rib, formation of plasma display electrode, formation of CRT phosphor, formation of FED (field emission display) phosphor, FED , Color filters for liquid crystal displays (RGB colored layer, black matrix layer), spacers for liquid crystal displays (patterns corresponding to the black matrix, dot patterns, etc.).
  • the rib as used herein generally means a barrier, and is used to separate a plasma region of each color when taking a plasma display as an example.
  • microlenses patterning applications such as magnetic materials, ferroelectrics, and conductive pastes (wiring and antennas) for semiconductor applications, and graphic applications such as ordinary printing and special media (films and fabrics). , Steel plate, etc.), curved surface printing, printing plates of various printing plates, application using the present invention such as adhesives and encapsulants for processing applications, pharmaceuticals for biotechnology and medical applications (multiple trace components It can be applied to the application of a sample for genetic diagnosis, etc.
  • the nozzle 51 is integrally formed with a nozzle plate 56c described later.
  • the nozzle plate 56c is vertically set up from the flat surface of the nozzle plate 56c.
  • the nozzle 51 is used so as to be perpendicular to the receiving surface of the substrate K (the surface on which the droplet lands). Further, the nozzle 51 has an in-nozzle flow path 52 penetrating from the tip end thereof along the center of the nozzle.
  • FIG. 12 is an explanatory diagram showing reference numerals indicating respective dimensions at the tip of the nozzle 51
  • FIG. 13A is an explanatory diagram showing a state of water-repellent treatment at the tip of the nozzle 51
  • FIG. FIG. 4 is an explanatory view showing another example of the water repellent treatment.
  • the nozzle 51 has a uniform opening diameter at the tip and a flow path 52 inside the nozzle, and as described above, these are formed with an ultra-fine diameter, and the nozzle diameter is preferably formed to be 30 [m] or less. Have been. In addition, it is preferably less than 20 [jm], more preferably 10 [m] or less, further preferably 8 [m] or less, and further preferably 4 [ni] or less. To give an example of the specific dimensions of each part, the internal diameter D] is set to 1 [; m] from the tip of the nozzle in the nozzle flow path 52 to the entire length of the nozzle. I am planning.
  • the outer diameter Do of the nozzle at the tip of the nozzle is set to 2 [m]
  • the wall thickness t of the pipe at the tip of the nozzle 51 is set to 0.5 [m] smaller than the length equal to the inner diameter Di.
  • the outer diameter of the convex meniscus force of the solution formed at the distal end is reduced by reducing the distal end surface of the nozzle 51.
  • the value of t may be set to 1/4 or less of the internal diameter (for example, 0.2 [m]) in order to further reduce the diameter of the tip surface of the nozzle 51.
  • the diameter D Anlagen lilx of the root of the nozzle 51 is 5 [ ⁇ ], and a taper is formed on the peripheral surface of the nozzle.
  • the nozzle diameter is larger than 0.2 [/ m].
  • the height of the nozzle 21 may be 0 [ ⁇ ].
  • the height of the nozzle 51 (the height of the upper surface layer 56c, which will be described later, protruding from the discharge side flat surface) is set to 100 m], and the shape is formed as a truncated cone that is almost infinitely conical. Have been. Since the flow path 52 in the nozzle is provided so as to penetrate the nozzle 51 and the plane portion of the nozzle plate 56c located therebelow, the height of the nozzle 51 is set to the above value. Accordingly, the flow path length of the flow path 52 in the nozzle becomes 100 [100m] or more. Thus, the flow path length of the flow path 52 in the nozzle is preferably at least 10 times the internal diameter of the nozzle at the nozzle tip. Preferably, the discharge force received from the concentrated electric field is more effectively concentrated at the tip of the nozzle 51 by setting it to 50 times or more, more preferably 100 times or more.
  • the nozzle 51 was made entirely of glass as an insulating material together with the nozzle plate 56c, and was formed into the shape and dimensions shown in the figure by a femtosecond laser.
  • a water-repellent treatment film 51a is formed on the tip end surface of the nozzle 51 except for the flow path 52.
  • the water-repellent film 5la is formed, for example, by vapor deposition of amorphous carbon.
  • the water-repellent treatment film 5 la may be formed not only on the tip end face of the nose tip 51 but also on the entire surface of the nozzle 51.
  • the shape of the flow path 52 in the nozzle does not have to be a linear shape having a constant inner diameter as shown in FIG.
  • the cross-sectional shape of the end portion of the in-nozzle flow path 52 on the solution chamber 54 side described later may be rounded.
  • the inner diameter at the solution chamber 54 side end of the nozzle flow path 52 described later is set to be larger than the inner diameter at the discharge side end, and the nozzle flow path 5
  • the inner surface of 2 may be formed in a tapered peripheral surface shape. Further, as shown in FIG.
  • the solution supply means 53 is provided at a position inside the liquid discharge head 56 and at the base of the nozzle 51 and communicates with the flow path 52 inside the nozzle, and a solution chamber 54 not shown in the drawing. And a supply path 57 for guiding the solution from the solution tank to the solution chamber 54.
  • the solution tank is arranged at a higher position than the nozzle plate 56 in order to supply the solution to the solution chamber 54 at a moderate pressure by its own weight.
  • the supply of the solution may use the pressure difference depending on the position of the liquid discharge head 56 and the supply tank, but the supply of the solution may use a supply pump.
  • the supply pump supplies the solution to the tip of the nozzle 51, and supplies the solution while maintaining the supply pressure within a range not spilling from the tip. Power depends on the design of the pump system ⁇ It basically operates when supplying the solution to the liquid discharge head 56 at the start, discharges the liquid from the liquid discharge head 56, and The supply is The solution is supplied by optimizing the volume change in the liquid discharge head 56 and the pressure of the supply pump by the convex meniscus forming means.
  • the discharge voltage applying means 35 is for applying a discharge voltage provided inside the nozzle plate 56 and at the rear end side of the nozzle 51, that is, at the boundary between the solution chamber 54 and the flow path 52 in the nozzle.
  • a discharge voltage power supply 31 for applying the voltage.
  • the discharge electrode 58 directly contacts the solution inside the solution chamber 54 to charge the solution and apply a discharge voltage.
  • the ejection electrode 58 is slightly moved away from the tip to apply the applied discharge pulse. The effect on the nozzle tip due to a sudden voltage change or the like is reduced.
  • the bias voltage by the bias power supply 30 is set so that the voltage range to be applied at the time of ejection is reduced in advance by applying a normal voltage within a range in which the solution is not ejected, and the reactivity at the time of ejection is thereby reduced. We are trying to improve.
  • the ejection voltage power supply 31 outputs a pulse voltage only when the solution is ejected, and applies the pulse voltage to the ejection electrode 58 while being superimposed on the constantly output bias voltage.
  • the value of the pulse voltage is set so that the superimposed voltage V at this time satisfies the condition of the following equation (1).
  • surface tension of solution (N / m)
  • ⁇ 0 dielectric constant of vacuum (F / m)
  • d nozzle diameter (m)
  • h distance between nozzle and substrate (ni)
  • k nozzle
  • the proportionality constant 1.5 x k x 8.5) depends on the shape.
  • the noise voltage is applied at DC 300 [V] and the pulse voltage is marked at 100 [V]. Therefore, the superimposed voltage at the time of ejection is 400 [V].
  • the liquid discharge head 56 includes a base layer 56 a located at the lowest layer in FIG. A flow path layer 56 b that forms a supply path for the solution located thereon, and a nozzle plate 56 c formed above the flow path layer 56 b The discharge electrode 58 described above is interposed between b and the nozzle plate 56c.
  • the base layer 56a is formed of a silicon substrate or a resin or ceramic having a high insulating property.
  • a photoresist layer is formed thereon, and the pattern of the supply path 57 and the solution chamber 54 is developed and exposed.
  • the insulating resin layer is removed by leaving only a part following the supply path 57 and the solution chamber 54, and an insulating resin layer is formed on the removed part.
  • This insulating resin layer becomes the flow channel layer 56b.
  • an ejection electrode 58 is formed on the upper surface of the insulating resin layer by using a conductive material (for example, NiP).
  • a nozzle plate 56c made of a glass material processed by the femtosecond laser as described above is provided thereon.
  • a water-repellent film 51a is formed by vapor-depositing amorphous carbon on the tip of the nozzle 51 to complete the nozzle plate 56c.
  • the materials of the nozzle plate 56 c and the nozzle 51 are, specifically, insulating materials such as epoxy, PMMA, phenol, soda glass, quartz glass, semiconductors such as Si, Ni, and SUS.
  • a conductor such as
  • the nozzle plate 56c and the nozzle 51 are formed of a conductor, at least the tip end face at the tip end of the nozzle 51, and more preferably, the peripheral surface at the tip end is coated with an insulating material.
  • Providing power S desirable.
  • the opposing electrode 23 has an opposing surface perpendicular to the direction in which the nozzle 51 projects, and supports the base material K along the opposing surface.
  • the distance from the tip of the nozzle 51 to the facing surface of the counter electrode 23 is set to, for example, 100 [/ ini].
  • the counter electrode 23 is grounded, the ground potential is always maintained. Therefore, when the pulse voltage is applied, the discharged droplet is guided to the counter electrode 23 side by electrostatic force due to an electric field generated between the tip of the nozzle 51 and the opposing surface.
  • the liquid discharge device 50 discharges droplets by increasing the electric field strength by the electric field concentration at the tip of the nozzle 51 due to the ultra-miniaturization of the nozzle 51, the liquid is discharged by the counter electrode 23. Although it is possible to discharge droplets without the above, it is desirable that guidance by electrostatic force be performed between the nozzle 51 and the counter electrode 23. In addition, it is possible to release the charge of the charged droplet by grounding the counter electrode 23.
  • FIGS. 14A and 14B The ejection operation of the night body ejection device 50 will be described with reference to FIGS. 14A and 14B.
  • Fig. 14 ⁇ and Fig. 14 ⁇ are explanatory diagrams showing the relationship with the voltage applied to the solution.
  • Fig. 14 ⁇ shows a state in which ejection is not performed, and
  • Fig. 14B shows an ejection state.
  • the solution has already been supplied to the nozzle flow path 52, and in such a state, a bias voltage is applied to the solution via the discharge electrode 58 by the bias power supply 30. In this state, the solution is charged and a solution (a concave meniscus is formed) at the tip of the nozzle 51 (FIG. 14A;).
  • the solution When a discharge pulse voltage is applied by the discharge voltage power supply 31, the solution is guided to the tip side of the nozzle 51 by the electrostatic force due to the electric field strength of the concentrated electric field at the tip of the nozzle 51, and protrudes to the outside.
  • the convex meniscus is formed, and the electric field is concentrated by the apex of the convex meniscus, and finally, a microdroplet is ejected to the counter electrode side by piled up on the surface tension of the solution (Fig. 14B). .
  • the night body discharge device 50 discharges droplets using a nozzle 51 having a fine diameter, which has not existed in the past, the electric field is concentrated by the charged solution in the nozzle flow path 52, and the electric field strength is increased. The degree is raised. For this reason, a nozzle with a small diameter, which was considered impossible to discharge because the voltage required for discharge was too high with a nozzle (for example, inner diameter 100 [m]) having a structure in which the electric field was not concentrated as in the past It is possible to discharge the solution by using a lower voltage than before.
  • the vapor pressure is reduced even for minute droplets, and by suppressing evaporation, loss of droplet mass is reduced and flight is stabilized. This prevents a drop in droplet landing accuracy.
  • the inner diameter of the nozzle is set to 100 times or more of the internal diameter, the effect of concentrating the electric field can be obtained more effectively, and the responsiveness of the droplet ejection and It is possible to miniaturize the discharged droplet and to stabilize the concentration of the discharged position.
  • the outer diameter of the tip of the nozzle 51 may be set to be three times or less the inner diameter. This makes it possible to effectively concentrate the ejection action by the concentrated electric field at the tip of the meniscus by miniaturizing the convex meniscus, thereby improving responsiveness and miniaturizing the droplet.
  • the water-repellent treatment film 51 a is provided on the front end surface of the nozzle 51, it is possible to form a convex meniscus according to the inner diameter of the nozzle 51, and more effectively the meniscus tip
  • the discharge action by the concentrated electric field is concentrated on the portion, and it is possible to improve the responsiveness and to make the droplet smaller.
  • the significance of miniaturization of the convex meniscus by reducing the wall thickness t of the nozzle 51 becomes less significant. In this case, it can be accommodated within the band of the tip surface, and has the effect of maintaining the miniaturization of the convex meniscus in two steps.
  • the tip surface of the nozzle 51 may be an inclined surface 51b with respect to the center line of the flow path 52 in the nozzle.
  • the inclination angle of the inclined surface 51b (90 degrees when the normal line of the inclined surface 51b coincides with the center line of the flow path in the nozzle) is preferably in the range of 30 to 45 [°]. Here, it is 40 [°].
  • an electrode may be provided on the outer periphery of the nozzle 51, or an electrode may be provided on the inner surface of the nozzle flow path 52, and the electrode may be covered with an insulating film. good. Then, by applying a voltage to this electrode, the wettability of the inner surface of the in-nozzle flow path 52 can be increased by an electro-rowing effect with respect to the solution to which the voltage is applied by the discharge electrode 58, The solution can be smoothly supplied to the inner channel 52, and the discharge can be performed well, and the response of the discharge can be improved.
  • FIG. 17 is a chart showing the results of the comparative test.
  • D, D on the top layer (including the nozzle) of the nozzle plate. , D raax , and H were compared for eight types of objects processed by femtosecond laser from a glass material so as to have the dimensions shown below.
  • the configuration is the same as that of the liquid ejection device 50 shown in the first embodiment.
  • a nozzle having an inner diameter of 1 [m] for the flow path in the nozzle and the discharge opening is used.
  • the driving conditions are as follows: (1) The frequency of the pulse voltage that triggers the ejection is 1 [kHz], and 100 ejection droplets are sampled. (2) The ejection voltage: the bias voltage is 300 [V]. The discharge pulse voltage is 100 [V], (3) the distance from the nozzle tip to the counter electrode is 100 [m], (4) the solution is water, and its physical property is viscosity: 8 [cP] (8X10-Pa). -S]), specific resistance: 108 [Qcm], surface tension 30 X 10 3 [ ⁇ / ⁇ ]], and (5) the substrate is a glass substrate.
  • the nozzle height H is set to 50 [m], which is 50 times the internal diameter
  • the droplet diameter of the discharged liquid is reduced to OS m, which is smaller than the internal diameter of the nozzle. A remarkable reduction in the variation of the cut diameter was observed.
  • the nozzle height H was set to 100 [wm], which is 100 times the internal diameter, the uniformity was improved to 5 and a remarkable reduction in variation in the dot diameter was observed.
  • FIG. 18 is a chart showing the results of the comparative test.
  • the value of ⁇ (see Fig. 12) in the upper layer (including the nozzle) of the nozzle plate was adjusted to the following dimensions, and the angle of inclination of the inclined surface at the tip of the nozzle was as shown below.
  • a glass material is processed by a femtosecond laser, and a water-repellent film is not formed. 9 are compared for nine types of objects. No. 1
  • Water-repellent film Tip surface + outer peripheral surface (Fig. 13B), inclination angle 90] (no inclination)
  • the structure is the same as that of the liquid ejection device 50 shown in the first embodiment. It is good. In other words, a nozzle with an internal diameter of 1 [; am] for the flow path inside the nozzle and the discharge opening is used.
  • the driving conditions are as follows: (1) The frequency of the pulse voltage that triggers the ejection is 1 [kHz], and 100 ejection droplets are sampled. (2) The ejection voltage: the bias voltage is 300 [V]. The discharge pulse voltage is 100 [V], (3) the distance from the nozzle tip to the counter electrode is 100 [/ m], (4) the solution is water, and its physical properties are viscosity: 8 [cP] (8 ⁇ 10 2). [Pa-S]), specific resistance: 10 8 [ ⁇ ], surface tension 30 ⁇ 10 ⁇ 3 [ ⁇ / ⁇ ], and (5) the substrate is a glass substrate.
  • the wall thickness t at the tip of the nozzle is 2 [/ ⁇ ], which is larger than the inner diameter, as compared to ⁇ .1. (No. 2), a remarkable improvement in response was observed, and when t was set to 0.2 [m] smaller than the inner diameter of 1 Z4 (No. 3), a further improvement was observed.
  • TO . [V / m] at the tip of the convex meniscus at the tip of the nozzle is f 1 V, assuming that the radius of curvature of the tip of the convex meniscus is R [m].
  • kR a proportional constant, which varies depending on the nozzle shape, etc., but takes a value of about 1.5 to 8.5, and is considered to be about 5 in most cases.
  • the condition under which the fluid is ejected by the electrostatic force is p> p s (12) because the electrostatic force exceeds the surface tension.
  • the electrostatic pressure can exceed the surface tension.
  • FIG. 9 shows the dependence of the discharge limit voltage Vc on the nozzle having a certain inner diameter d. From this figure, it was clarified that the discharge start voltage decreases as the nozzle diameter decreases, considering the effect of concentrating the electric field by the fine nozzle.
  • the voltage required for ejection increases as the size of the nozzle becomes smaller.
  • the discharge voltage can be reduced by making the nozzle fine.
  • Discharge by electrostatic suction is basically based on charging of a liquid (solution) at a nozzle end. It is considered that the charging speed is about a time constant determined by dielectric relaxation. ⁇
  • the frequency is about 10 kHz.
  • the flow rate G in the nozzle can be estimated as l0-i3 ⁇ 4i 3 / s.
  • the discharge at 10 kHz is possible, so 1
  • the minimum discharge rate in a cycle can be about lOfl (femtoliter, lfl: 10-) 5 1).
  • Each of the above embodiments is characterized by the effect of concentrating the electric field at the tip of the nozzle and the effect of the image force induced on the opposing substrate, as shown in FIG. Therefore, it is not necessary to make the substrate or the substrate support conductive as in the prior art, or to apply a voltage to the substrate or the substrate support. That is, it is possible to use an insulating glass substrate, a plastic substrate such as polyimide, a ceramic substrate, a semiconductor substrate, or the like as the substrate.
  • the voltage applied to the electrode may be either positive or negative.
  • the distance between the nozzle and the substrate at 500 [n] or less, it is possible to easily discharge the solution.
  • FIG. 20 is a side sectional view of a nozzle portion of a liquid ejection apparatus as another example of the basic example of the present invention.
  • An electrode 15 is provided on the side surface of the nozzle 1, and a controlled voltage is applied between the electrode 15 and the solution 3 in the nozzle.
  • the purpose of this electrode 15 is to control the Electrowetting effect. If a sufficient electric field is applied to the insulator that composes the nozzle, the Electrowetting effect is expected to occur without this electrode. However, in this basic example, the role of the ejection control is also achieved by more positively controlling using this electrode.
  • the nozzle 1 is made of an insulator, the nozzle thickness at the tip is lim, the inner diameter of the nozzle is 2 m, and the applied voltage is 300 ⁇ , the electrowetting effect will be about 30 atm. Although this pressure is insufficient for discharge, it is significant from the point of supply of the solution to the tip of the nozzle, and it is considered that discharge can be controlled by this control electrode.
  • FIG. 9 described above shows the dependence of the ejection start voltage on the nozzle diameter in the present invention.
  • the liquid ejection device shown in FIG. 11 was used. As the size of the nozzle became smaller, the discharge start voltage decreased, and it became clear that discharge could be performed at a lower voltage than before.
  • the condition of the solution discharge is a function of the distance between the nozzle and the substrate (h), the amplitude of the applied voltage (V), and the frequency of the applied voltage (f). It is necessary to satisfy the conditions as a discharge condition. Conversely, if any one of the conditions is not met, the other parameters need to be changed.
  • the present invention can be applied to normal printing for graphic use, printing on special media (film, cloth, steel plate, etc.), curved printing, etc., or wiring using a liquid or paste conductive material.

Landscapes

  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
  • Electrostatic Spraying Apparatus (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Ink Jet (AREA)

Abstract

 帯電した溶液の液滴を基材に吐出する液体吐出装置(50)であって、液滴の吐出を受ける受け面を有する基材Kにその先端部を対向させて配置されると共に当該先端部から液滴を吐出する先端部の内部直径が30[μm]以下のノズル(51)と、このノズル(51)内に溶液を供給する溶液供給手段(53)と、ノズル(51)内の溶液に吐出電圧を印加する吐出電圧印加手段(35)と、を備え、吐出電圧印加手段(35)の吐出電極(58)をノズルの後端部側に設け、ノズルの内部流路長を内部直径の少なくとも10倍以上に設定した。

Description

明 細 書 液体吐出装置 技術分野
本発明は、 基材に液体を吐出する液体吐出装置に関する。 背景技術
従来のインクジェット記録方式としては、 圧電素子の振動によりインク流路を 変形させることによりインク液滴を吐出させるピエゾ方式、 インク流路ないに発 熱体を設け、 その発熱体を発熱させて気泡を発生させ、 気泡によるインク流路内 の圧力変化に応じてインク液滴を吐出させるサーマル方式があるが、 最近は、 日 本特開平 1 1— 2 7 7 7 4 7号公報或いは日本特開 2 0 0 0— 1 2 7 4 1 0号公 報に記載されているようなィンク流路内のィンクを帯電させてインクの静電吸引 力によりインク液滴を吐出させる静電吸引方式のものが多くなつてきている。 しかしながら、 上記従来例には以下の問題ある。
( 1 ) 微小液滴形成の限界と安定性
ノズル径が大きいため、 ノズルから吐出される液滴の形状が安定しなく、 且つ 液滴の微小化に限界がある。
( 2 ) 高印加電圧
微小液滴の吐出のためには、 ノズルの吐出口の微細化を図ることが重要因子と なってくるが、 従来の静電吸引方式の原理では、 ノズル径が大きいことにより、 ノズル先端部の電界強度が弱く、 液滴を吐出するのに必要な電界強度を得るため に、 高い吐出電圧 (例えば 2000 [V]に近い非常に高い電圧) を印加する必要があ つた。 従って、 高い電圧を印加するために、 電圧の駆動制御が高価になるという 問題があった。
そこで、 微小液滴を吐出可能な液体吐出装置を提供することを第一の目的とす る。 また同時に、 安定した液滴を吐出することが可能な液体吐出装置を提供する ことを第二の目的とする。 さらに、 微小液滴を吐出可能で、 且つ着弾精度のより 液体吐出装置の提供を第三の目的とする。 さらに、 印加電圧を低減することを可 能とし、 安価な液体吐出装置を提供することを第四の目的とする。 発明の開示
本発明は、 帯電した溶液の液滴を吐出する液体吐出装置であって、 先端部から液 滴を吐出する内部直径が 30[ m]以下のノズルを有する液体吐出へッドと、 ノズル 内に溶液を供給する溶液供給手段と、 ノズル内の溶液に吐出電圧を印加する吐出電 圧印加手段と、 を備え、 吐出電圧印加手段の吐出電極をノズルの後端部側に設け、 ノズルの内部流路長をノズル先端部におけるノズルの内部直径の少なくとも 10倍 以上に設定する、 という構成を採っている。
以下、 ノズル径という場合には、 液滴を吐出する先端部におけるノズルの内部直 径 (ノズルの先端部の内部直径) を示すものとする。 なお、 ノズル内の液体吐出穴 の断面形状は円形に限定されるものではない。 例えば、 液体吐出穴の断面形状が多 角形、 星形その他の形状である場合にはその断面形状の外接円が 30 m]以下とな ることを示すものとする。 以下、 ノズル径或いはノズルの先端部の内部直径とい う場合において、 他の数値限定を行っている場合にも同様とする。 また、 ノズル 半径という場合には、 このノズル径 (ノズルの先端部の内部直径) の 1 / 2の長 さを示すものとする。
本発明において、 「基材」 とは吐出された溶液の液滴の着弾を受ける対象物をいい 材質的には特に限定されない。 従って、 例えば、 上記構成をインクジェットプリン 夕に適応した場合には、 用紙やシート等の記録媒体が基材に相当し、 導電性ペース トを用いて回路の形成を行う場合には、 回路が形成されるべきベースが基材に相当 することとなる。
上記構成にあっては、 ノズルの先端部に液滴の受け面が対向するように、 ノズル 又は基材が配置される。 これら相互の位置関係を実現するための配置作業は、 ノズ ルの移動又は基材の移動のいず lにより行っても良い。
そして、 溶液供給手段により液体吐出へッド内に溶液が供給される。 ノズル内の 溶液は吐出を行うために帯電した状態にあることが要求される。 なお、 溶液の帯電 に必要な電圧印加を行う帯電専用の電極を設けても良い。 · そして、 ノズル内において溶液が帯電することにより電界が集中し、 溶液はノズ ル先端部側への静電力を受け、 ノズル先端部において溶液力盛り上がった状態 (凸 状メニスカス) が形成される。 そして、 溶液の静電力が凸状メニスカスにおける表 面張力を上回ることにより、 凸状メニスカスの突出先端部から溶液の液滴が基材の 受け面に対して垂直方向に飛翔し、基材の受け面上には溶液のドッ卜が形成される。 上記構成では、電界の集中効果を得るためにノズル径の超微細化を図っているが、 さらにノズル先端部において溶液が強力な電界強度を得るためには、 帯電状態とな る液滴が細長くなること望ましい。 そのためにはノズルの内部流路長を長く設定す れば良い。 力かる観点からノズルの内部流路長と応答性の関係を比較試験により考 察した結果、ノズルの内部流路長をノズルの内部直径の 10倍としたところで応答性 を向上させる結果が得られた。 即ち、 ノズルの内部流路長をノズルの内部直径の 10 倍以上とすることで微細ノズルにおける吐出の応答性の向上を図ることができる。 なお、 ノズル内流路の流路長はより長いことが望ましい力 その製造の困難性や 目詰まりによる吐出の安定性の低下等を考慮した値 (内径に対する倍率) を選択す ることが望ましい。 一例として、 150倍程度を上限とする。
ここで、 ノズルの内部流路長は、 ノズルプレート上にノズルが設けられている液 体吐出へッドの場合には、ノズルプレー卜面からノズル先端までの距離 Hをいう(図 1 2参照)。
また、 本発明は、 ノズルを従来にない超微細径とすることでノズル先端部に電界 を集中させて電界強度を高めると共にその際に誘導される基材側の鏡像電荷或い は映像電荷までの間に生じる電界の静電力により液滴の飛翔を行っている。
従って、 微細ノズルでありながら従来考えられていたよりも低電圧で液滴の吐 出を行うことが可能となると共に、 基材が導電体であっても絶縁体であっても良 好に液滴の吐出を行うことが可能となる。
かかる場合、 ノズルの先端部に対向する対向電極がなくとも液滴の吐出を行うこ とが可能である。 例えば、 対向電極力存在しない状態で、 ノズル先端部に対向させ て基材を配置した場合、 当該基材が導体である場合には、 基材の受け面を基準と してノズル先端部の面対称となる位置に逆極性の鏡像電荷が誘導され、 基材が絶 縁体である場合には、 基材の受け面を基準として基材の誘電率により定まる対称 位置に逆極性の映像電荷が誘導される。 そして、 ノズル先端部に誘起される電荷' と鏡像電荷又は映像電荷間での静電力により液滴の飛翔が行われる。
これにより、 装置構成における備品点数の低減を図ることが可能となる。 従つ て、 本発明を業務用インクジェットシステムに適用した場合、 システム全体の生 産性の向上に貢献し、 コスト低減をも図ることが可能となる。
但し、 本発明の構成は、 対向電極を不要とすることを可能とするが、 対向電極 を併用しても構わない。 対向電極を併用する場合には、 当該対向電極の対向面に 沿わせた状態で基材を配置すると共に対向電極の対向面がノズルからの液滴吐出 方向に垂直に配置されることが望ましく、 これによりノズル一対向電極間での電 界による静電力を飛翔電極の誘導のために併用することも可能となるし、 対向電 極を接地すれば、 帯電した液滴の電荷を空気中への放電に加え、 対向電極を介し て逃がすことができ、 電荷の蓄積を低減する効果も得られるので、 むしろ併用す ることが望ましい構成といえる。
また、 上記構成に加えて、 ノズルの内部流路長をノズル先端部におけるノズルの 内部直径の少なくとも 50倍以上に設定しても良い。
この構成では、ノズルの内部流路長を内部直径の少なくとも 50倍以上とすること で、 応答性の向上を図ると共に、 より効果的に電界の集中を図ることでより微小な 液滴の吐出を可能とする。
また、 前述の構成に加えて、 ノズルの内部流路長をノズル先端部におけるノズル の内部直径の少なくとも 100倍以上に設定しても良い。
この構成では、 ノズルの内部流路長を内部直径の少なくとも 100倍以上とするこ とで応答性及び吐出液滴の微小化の向上を図ると共により効果的に電界の無中を図 ることで、 より吐出位置の集中安定化を図ることを可能とする。
また、前述の各構成に加えて、 ノズルの先端部でのノズルの壁面厚さをノズル先 端部におけるノズルの内部直径と等しい長さ以下としても良い。
これにより、 ノズルの先端面の外径を内径の 3倍以下とすることができ、 当該 先端面の面積の微小化を図ると共にノズルの内径を基準として先端面の大きさが 規定されるので、 ノズルの内径の微細化に応じてノズル先端の外径を定義するこ とができる。 その結果、 ノズル先端部に形成される吐出方向に突出する凸状のメ ニスカスの外径をノズル内径に応じて微小化することが可能となり、 より効果的 にメニスカス先端部に集中電界による吐出作用が集中し、 応答性の向上と液滴微 小化を可能とする。
また、 ノズルの先端部でのノズルの壁面厚さをノズル先端部におけるノズルの 内部直径と等しい長さの 1ノ4以下としても良い。
これにより、 ノズルの先端面の外径を内径の 1.5倍以下とすることができ、 当 該先端面の面積をより微小化すると共にノズルの内径を基準として先端面の大き さが規定されるので、 ノズルの内径の微細化に応じてノズル先端の外径を定義す ることができる。 その結果、 ノズル先端部に形成される吐出方向に突出する凸状 のメニスカスの外径をノズル内径に応じてさらに微小化することが可能となり、 より効果的にメニスカス先端部に集中電界による吐出作用が集中し、 さらなる応 答性の向上と液滴微小化を可能とする。
また、 ノズルの表面の少なくとも先端部を撥水処理しても良い。
これにより、 ノズルの内径に応じた凸状メニスカスを形成することが可能とな り、 ノズル先端の吐出穴の周囲の撥水性により、 吐出側へ凸状となるメニスカス をより安定して形成することが可能となるため、 より効果的にメニスカス先端部 に集中電界による吐出作用が集中し、 さらなる応答性の向上と液滴微小化を可能 とする。
また、 ノズルの先端面をノズル内流路の中心線に対する傾斜面としても良い。 これにより、 傾斜面とノズルの側面とにより形成される鋭利な形状の吐出先端 部側に溶液を集中させることができ、 より効果的にメニスカス先端部に集中電界 による吐出作用を集中させ、 応答性の向上と液滴微小化を可能とする。
また、 前述した構成に力 Iえて、 ノズルの先端面の傾斜角度を、 30〜45度の範囲 としても良い。
上記 「傾斜角度」 とは、 傾斜面の法線がノズル内流路の中心線と一致する状態 を 90度とした場合を基準とする角度をいう。
傾斜面の先端部に溶液を集中させることのみを考えれば、 先端面の先端部が鋭 利となる方向により傾斜している方が望ましいと考えられるが、 この角度が小さ すぎる場合には、 先端部からの放電が生じやすくなり、 電界の槃中効果をかえつ て損ねることとなり得る。 そこで、 そのようなことがないように傾斜面の傾斜角 度を 30〜45度の範囲とすることで、 電界集中の項を損なうことなく応答性の向 上と液滴微小化を可能とする。
また、 前述した構成に加えて、 ノズル径を 20 [ m]未満としても良い。
これにより、 電界強度分布が狭くなる。 このことにより、 電界を集中させるこ とができる。 その結果、 形成される液滴を微小で且つ形状の安定化したものとす ることができると共に、 総印加電圧を低減することができる。 また、 液滴は、 ノ ズルから吐出された直後、 電界と電荷の間に働く静電力により加速されるカ^ ノ ズルから離れると電界は急激に低下するので、 その後は、 空気抵抗により減速す る。 しかしながら、 微小液滴でかつ電界が集中した液滴は、 対向電極に近づくに つれ、 鏡像力により加速される。 この空気抵抗による減速と鏡像力による加速と のバランスをとることにより、 微小液滴を安定に飛翔させ、 着弾精度を向上させ ることが可能となる。
また、 ノズルの内部直径が 10 [ m]以下としても良い。
これにより、 さらに電界を集中させることが可能となり、 さらなる液滴の微小 化と、 飛翔時に対向電極の距離の変動が電界強度分布に影響することを低減させ ることができるので、 対向電極の位置精度や基材の特性や厚さの液滴形状への影 響や着弾精度への影響を低減することができる。
また、 ノズルの内部直径を 8 [ m]以下としても良い。
これにより、 さらに電界を集中させることが可能となり、 さらなる液滴の微小 化と、 飛翔時に対向電極の距離の変動が電界強度分布に影響することを低減させ ることができるので、 対向電極の位置精度や基材の特性や厚さの液滴形状への影 響や着弾精度への影響を低減することができる。
さらに、 電界集中の度合いが高まることにより、 多ノズル化時のノズルの高密 度化で課題となる電界クロストークの影響が軽減し、 一層の高密度化が可能とな る。
また、 ノズルの内部直径を 4 [μπι]以下としても良い。 この構成により、 顕著な 電界の集中を図ることができ、 最大電界強度を高くすることができ、 形状の安定 な液滴の超微小化と、 液滴の初期吐出速度を大きくすることができる。 これによ り、 飛翔安定性が向上することにより、 着弾精度をさらに向上させ、 吐出応答性 を向上することができる。
さらに、 電界集中の度合いが高まることにより、 多ノズル化時のノズルの高密 度化で課題となる電界クロストークの影響が受けにくくなり、 より一層の高密度 化が可能となる。
さらに、 ノズルの内部直径は 0. 2 [ m]より大きい方が望ましい。 ノズルの内径 を 0. 2 [/ m]より大きくすることで、液滴の帯電効率を向上させることができるの で、 液滴の吐出安定性を向上させることができる。
また、 吐出電圧印加手段の吐出電極をノズルの後端部側に設けても良い。
これにより、 吐出電極がノズル内流路の上流端部近傍に位置し、 溶液の吐出を行 う先端部から吐出電極を遠ざけることができ、 電位の変化が絶えず行われる吐出電 極による外乱の影響を低減し、 安定した溶液の吐出が行われる。
さらに、 上記各構成において、 ノズルを電気絶縁材で形成し、 ノズル内に吐出 電圧印加用の電極を挿入あるいは当該電極として機能するメツキ形成を行うこと が好ましい。
またさらに、 ノズルを電気絶縁材で形成し、 ノズル内に電極を挿入或いは電 極としてのメツキを形成すると共にノズルの外側にも吐出用の電極を設ける ことが好ましい。
ノズルの外側の吐出用電極は、 例えば、 ノズルの先端側端面或いは、 ノズ ルの先端部側の側面の全周若しくは一部に設けられる。
またさらに、 上記各構成による作用効果に加え、 吐出力を向上させることが できるので、 ノズル径をさらに微細化しても、 低電圧で液滴を吐出すること ができる。
またさらに、 基材を導電性材料または絶縁性材料により形成することが好まし レ^
また、 さらに、 印加する吐出電圧を次式 (1)で表される領域において駆動する ことが好ましい。
Figure imgf000010_0001
ただし、 了 :溶液の表面張力 (N/m)、 ε 0 :真空の誘電率 (F/m)、 d: ノズル 直径 (m)、 h: ノズル一基材間距離 (m)、 k : ノズル形状に依存する比例定数 (1.5<k<8.5) とする。
またさらに、 印加する吐出電圧が 1000V以下であることが好ましい。
吐出電圧の上限値をこのように設定することにより、 吐出制御を容易とすると 共に装置の耐久性の向上及び安全対策の実行により確実性の向上を容易に図るこ とが可能となる。
またさらに、 印加する吐出電圧が 500V以下であることが好ましい。
吐出電圧の上限値をこのように設定することにより、 吐出制御をより容易とす ると共に装置の耐久性のさらなる向上及び安全対策の実行により確実性のさらな る向上を容易に図ることが可能となる。
またさらに、 ノズルと基材との距離が 500 [; m]以下とすること力 ノズル 径を微細にした場合でも高い着弾精度を得ることができるので好ましい。 またさらに、ノズル内の溶液に圧力を印加するように構成することが好まし い。
またさらに、 単一パルスによって吐出する場合、 ε
τ =—
σ (2) により決まる時定数て以上のパルス幅 を印加する構成としても良い。 ただし、 ε :溶液の誘電率 (F/m)、 σ :溶液の導電率 (S/m) とする。 図面の簡単な説明
図 1 Aは、 ノズル径を Φ 0.2 [; m]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000[ ra]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 1 Bは、 ノズルと対向 霜極との距離が 100[ m]に設定されたときの電界強度の分布図である。 図 2 Aは、 ノズル径を φθ.4 [; m]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000[ m]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 2Bは、 ノズルと対向 電極との距離が 100 m]に設定されたときの電界強度の分布図である。
図 3 Aは、 ノズル径を φΐ [ m]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000[ m]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 3Bは、 ノズルと対向 電極との距離が 100 [; m]に設定されたときの電界強度の分布図である。
図 4 Aは、 ノズル径を Φ8 [ m]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000[ zm]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 4Bは、 ノズルと対向 電極との距離が 100[ m]に設定されたときの電界強度の分布図であり。
図 5 Aは、 ノズル径を Φ20 [wm]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000 [; um]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 5Bは、 ノズルと対向 電極との距離が 100 [; m]に設定されたときの電界強度の分布図である。
図 6Aは、 ノズル径を Φ50 [ m]とした場合のノズルと対向電極との距離が 2000 [; ηι]に設定されたときの電界強度の分布図であり、 図 6 Βは、 ノズルと対向 電極との距離が 100 [; m]に設定されたときの電界強度の分布図である。
図 7は、 図 1〜図 6の各条件下での最大電界強度を示す図表を示す。
図 8は、 ノズルのノズル径のメニスカス部の最大電界強度と強電界領域の関係を 示す線図である。
図 9は、 ノズルのノズル径とメニスカス部で吐出する液滴が飛翔を開始する吐出 開始電圧、 該初期吐出液滴のレイリ一限界での電圧値及び吐出開始電圧とレイリー 限界電圧値の比との関係を示す線図である。
図 10は、 ノズル径とメニスカス部の強電界の領域の関係で表されるグラフであ る。
図 1 1は、 第一の実施形態たる液体吐出装置のノズルに沿った断面図である。 図 12は、 ノズルの先端部における各寸法を示す符号を表す説明図である。 図 13 Aはノズルの先端部における撥水処理状態を示す説明図、 図 13Bは撥水 処理の他の例を示す説明図である。
図 14 Aは溶液の吐出動作と溶液に印加される電圧との関係であって吐出を行わ ない状態を示す説明図であり、 図 14Bは、 吐出状態を示す説明図である。 図 1 5は、 先端に傾斜面を設けた他のノズルの例を示す説明図である。
図 1 6 Aは溶液室側に丸みを設けたノズル内流路の形状の例を示す一部切り欠 いた斜視図であり、 図 1 6 Bは流路内壁面をテーパ周面としたノズル内流路の形 状の例を示す一部切り欠いた斜視図であり、 図 1 6 Cはテーパ周面と直線状の流 路とを組み合わせたノズル内流路の形状の例を示す一部切り欠いた斜視図である。 図 1 7は、 ノズルの各部の寸法を変えて所定の条件下で行った比較試験の結 果を示す図表である。
図 1 8は、 ノズルの各部の寸法を変えて所定の条件下で行った比較試験の結 果を示す図表である。
図 1 9は、 本発明の実施の形態として、 ノズルの電界強度の計算を説明するた めに示したものである。
図 2 0は、 本発明の一例としての液体吐出装置の側面断面図を示したものであ る。
図 2 1は、 本発明の実施の形態の液体吐出装置における距離一電圧の関係によ る吐出条件を説明した図である。 発明を実施するための最良の形態
以下の各実施形態で説明する液体吐出装置のノズル径は、 30 [ um]以下であること 力 S好ましく、 さらに好ましくは 20[ m]未満、 さらに好ましくは 10[ μηι]以下、 さ らに好ましくは 8[ im]以下、 さらに好ましくは 4 [; am]以下とすること力好ましい。 また、 ノズル径は、 0.2[ 1 ]より大きいことが好ましい。 以下、 ノズル径と電界強 度との関係について、 図 1 A〜図 6 Bを参照しながら以下に説明する。 図 1 A〜図 6 Bに対応して、ノズル径を Φ 0.2,0.4,1,8,20 [; am]及び参考として従来にて使用され ているノズル径 Φ 50 m]の場合の電界強度分布を示す。
ここで、 図 1 A〜図 6 Bにおいて、 ノズル中心位置 Cは、 ノズル先端の液体吐出 孔の液体吐出面の中心位置を示す。 また、 図 1 A、 図 2 A、 図 3 A、 図 4 A、 図 5 A、 図 6 Aは、 ノズルと対向電極との距離が 2000[A II]に設定されたときの電界強 度分布を示し、 図;! ] 3、 図 2 B、 図 3 B、 図 4 B、 図 5 B、 図 6 Bは、 ノズルと対 向電'極との距離が 100 [ m]に設定されたときの電界強度分布を示す。 なお、 印加電 圧は、 各条件とも 200[V]と一定にした。 図 1 A〜図 6 B中の分布線は、 電荷強度が 1 X 106[V/m]から 1 X 107 [V/m]までの範囲を示している。
図 7に、 各条件下での最大電界強度を示す図表を示す。
図 5 A, 図 5 Bから、 ノズル径が φ20[ ηι]以上だと電界強度分布は広い面積に広 がっていることが分かった。 また、 図 7の図表から、 ノズルと対向電極の距離が電 界強度に影響していることも分かった。
これらのことから、 ノズル径が
Figure imgf000013_0001
(図 4 Α, 図 4 B) 以下であると電界強 度は集中すると共に、 対向電極の距離の変動が電界強度分布にほとんど影響するこ とがなくなる。 従って、 ノズル径が
Figure imgf000013_0002
対向電極の位置精度及 び基材の材料特性のバラ付きや厚さのバラツキの影響を受けずに安定した吐出が可 能となる。 次に、 上記ノズルのノズル径とノズルの先端位置に液面があるとした 時の最大電界強度と強電界領域の関係を図 8に示す。
図 8に示すグラフから、 ノズル径が Φ4[ ΠΙ]以下になると、 電界集中が極端に大 きくなり最大電界強度を高くすることができるのが分かった。 これによつて、 溶液 の初期吐出速度を大きくすることができるので、 液滴の飛翔安定性が増すと共に、 ノズルの先端部での電荷の移動速度が増すために吐出応答性が向上する。
続いて、吐出した液滴における帯電可能な最大電荷量について、以下に説明する。 液滴に帯電可能な電荷量は、 液滴のレイリー分裂 (レイリー限界) を考慮した以下 の (3 ) 式で示される。
Figure imgf000013_0003
ここで、 Qはレイリー限界を与える電荷量 (C)、 ε 0は真空の誘電率 (F/m)、 r は溶液の表面張力 (N/ix 、 doは液滴の直径 (i ) である。
上記 (3 ) 式で求められる電荷量 Qがレイリー限界値に近いほど、 同じ電界強度 でも静電力が強く、 吐出の安定性が向上するが、 レイリー限界値に近すぎると、 逆 にノズルの液体吐出孔で溶液の霧散が発生してしまレ 吐出安定性に欠けてしまう。 ここで、 ノズルのノズル径とノズルの先端部で吐出する液滴が飛翔を開始する吐 出開始電圧、 該初期吐出液滴のレイリ一限界での電圧値及び吐出開始電圧とレイリ 一限界電圧値の比との関係を示すグラフを図 9に示す。
図 9に示すグラフから、 ノズル径が Φ 0.2[ ΠΙ]から Φ 4[ ΠΙ]の範囲において、 吐 出開始電圧とレイリー限界電圧値の比が 0.6 を超え、 液滴の帯電効率が良い結果と なっており、 該範囲において安定した吐出が行えることが分かった。
例えば、 図 1 0に示すノズル径とノズルの先端部の強電界(1 X 10G[V/m]以上) の 領域の関係で表されるグラフでは、 ノズル径が Φ 0.2[ m]以下になると電界集中の 領域が極端に狭くなることが示されている。 このことから、 吐出する液滴は、 加速 するためのエネルギーを十分に受けることができず飛翔安定性が低下することを示 す。 よって、 ノズル径は Φ 0.2[ ιη]より大きく設定することが好ましい。
[第一の実施形態]
(液体吐出装置の全体構成)
以下、 液体吐出装置について図 1 1乃至図 1 4に基づいて説明する。 図 1 1は後 述するノズル 5 1に沿った液体吐出装置 5 0の断面図である。
この液体吐出装置 5 0は、 ノズルプレート 5 6 d上に設けられ、 帯電可能な溶液 の液滴をその先端部から吐出する超微細径のノズル 5 1と、 ノズル 5 1の先端部に 対向する対向面を有すると共にその対向面で液滴の着弾を受ける基材 Kを支持する 対向電極 2 3と、 ノズル 5 1内の流路 5 2に溶液を供給する溶液供給手段 5 3と、 ノズル 5 1内の溶液に吐出電圧を印加する吐出電圧印加手段 3 5と、 ノズル 5 1内 に溶液の吸引を行う溶液吸引手段 4 0とを備えている。 なお、 上記ノズル 5 1と溶 液供給手段 5 3の一部の構成と吐出電圧印加手段 3 5の一部の構成はノズルプレー 卜 5 6により一体的に形成されている。
なお、 説明の便宜上、 図 1 1ではノズル 5 1の先端部が上方を向いた状態で図示 されている力 実際上は、 ノズル 5 1が水平方向か或いはそれよりも下方、 より望 ましくは垂直下方に向けた状態で使用される。
(溶液)
上記液体吐出装置 5 0による吐出を行う溶液の例としては、 無機液体としては、 水、 C〇C】 2、 H B i-、 H N〇3、 H3 P〇4、 H2 S〇 、 S O C 1 2、 S 02 C 1 2, F S〇3Hなどが挙げられる。有機液体としては、メタノール、 n —プロパノール、 イソプロパノール、 n —ブ夕ノール、 2—メチルー 1—プロパノール、 t e r t ーブタノール、 4—メチルー 2 _ペン夕ノール、 ベンジルアルコール、 α_テル ビネオール、 エチレングリコール、 グリセリン、 ジエチレングリコール、 トリエ チレングリコールなどのアルコール類; フエノール、 ο—クレゾール、 m—クレ ゾール、 p _クレゾール、 などのフエノール類;ジォキサン、 フルフラール、 ェ チレングリコールジメチルエーテル、 メチルセ口ソルブ、 ェチルセ口ソルブ、 ブ チルセ口ソルブ、 ェチルカルビ) ^一ル、 ブチルカルビ] ^一ル、 ブチルカルビトー ルアセテート、 ェピクロロヒドリンなどのエーテル類;アセトン、 メチルェチル ケトン、 2 _メチル一4—ペン夕ノン、 ァセトフエノンなどのケトン類;ギ酸、 酢酸、 ジクロロ酢酸、 トリクロ口酢酸などの脂肪酸類;ギ酸メチル、ギ酸ェチル、 酢酸メチル、 酢酸ェチル、 酢酸— n—ブチル、 酢酸イソプチル、 酢酸一 3 _メト キシブチル、 酢酸一 n -ペンチル、 プロピオン酸ェチル、 乳酸ェチル、 安息香酸 メチル、 マロン酸ジェチル、 フタル酸ジメチル、 フタル酸ジェチル、 炭酸ジェチ ル、 炭酸エチレン、 炭酸プロピレン、 セロソルブアセテート、 プチルカルビトー ルアセテート、 ァセト酢酸ェチル、 シァノ酢酸メチル、 シァノ酢酸ェチルなどの エステル類;ニトロメタン、 ニトロベンゼン、 ァセトニトリル、 プロピオ二トリ ル、 スクシノニトリル、 バレロ二トリル、 ベンゾニトリル、 ェチルァミン、 ジェ チルァミン、 エチレンジァミン、 ァニリン、 N—メチルァニリン、 N , N—ジメ チルァ二リン、 o—卜ルイジン、 p—トルイジン、 ピぺリジン、 ピリジン、 α_ ピコリン、 2 , 6—ルチジン、 キノリン、 プロピレンジァミン、 ホルムアミド、 Ν—メチルホルムアミド、 Ν, Ν—ジメチルホルムアミド、 Ν, Ν—ジェチルホ ルムアミド、 ァセトアミド、 Ν—メチルァセトアミド、 Ν—メチルプロピオンァ ミド、 Ν , Ν, N', N'—テトラメチル尿素、 Ν—メチルピロリ ドンなどの含窒素 化合物 ;ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含硫黄化合物類;ベンゼン、 ρ—シメン、 ナフ夕レン、 シクロへキシルベンゼン、 シクロへキセンなどの炭化 水素類; 1, 1—ジクロ口ェタン、 1 , 2—ジクロロェタン、 1 , 1 , 1—トリ クロロェタン、 1, 1, 1, 2—テトラクロロェタン、 1 , 1 , 2 , 2—テトラ クロロェタン、 ペンタクロロェタン、 1, 2—ジクロ口エチレン (c i s―)、 テ 卜ラクロ口エチレン、 2—クロロブタン、 1—クロロー 2—メチルプロパン、 · 2 一クロロー 2—メチルプロパン、 ブロモメタン、 卜リブロモメタン、 1—ブロモ プロパンなどのハロゲン化炭化水素類、 などが挙げられる。 また、 上記各液体を 二種以上混合して溶液として用いても良い。
さらに、 高電気伝導率の物質 (銀粉等) が多く含まれるような導電性ペースト を溶液として使用し、 吐出を行う場合には、 上述した液体に溶解又は分散させる 目的物質としては、 ノズルで目詰まりを発生するような粗大粒子を除けば、 特に 制限されない。 PDP、 CRT、 FEDなどの蛍光体としては、 従来より知られ ているものを特に制限なく用いることができる。例えば、赤色蛍光体として、( Y , Gd) B〇3 : Eu、 Y03 : Euなど、 緑色蛍光体として、 Zn2S i 04 : Mri、 B a A 112O19: Mn, (B a, S r, Mg) O · a— A】 203 : Mnなど、 青色蛍 光体として、 B aMg A】 14023: E u、 B a M g A 1 ]0O17: E uなどが挙げら れる。 上記の目的物質を記録媒体上に強固に接着させるために、 各種バインダー を添加するのが好ましい。 用いられるバインダーとしては、 例えば、 ェチルセル ロース、 メチルセルロース、 ニトロセルロース、 酢酸セルロース、 ヒドロキシェ チルセルロース等のセルロースおよびその誘導体;アルキッド樹脂;ポリメタク リタクリル酸、ポリメチルメ夕クリレート、 2—ェチルへキシルメ夕クリレート - メ夕クリル酸共重合体、 ラウリルメタクリレート · 2—ヒドロキシェチルメタク リレート共靈合体などの (メタ) アクリル樹脂およびその金属塩;ポリ N—イソ プロピルアクリルアミド、 ポリ N, N—ジメチルアクリルアミドなどのポリ (メ 夕)アクリルアミド樹脂;ポリスチレン、 アクリロニトリル ·スチレン共重合体、 スチレン ·マレイン酸共重合体、 スチレン ·イソプレン共重合体などのスチレン 系樹脂;スチレン · n—ブチルメタクリレー卜共重合体などのスチレン ·ァクリ ル樹脂;飽和、 不飽和の各種ポリエステル樹脂;ポリプロピレン等のポリオレフ ィン系樹脂;ポリ塩化ビニル、 ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化ポリマー;ポ リ酢酸ビニル、 塩化ビニル ·酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂;ポリカーボ ネート樹脂;エポキシ系樹脂;ポリウレタン系樹脂;ポリビニルホルマール、 ポ リビニルプチラール、ポリビニルァセタール等のポリアセタール樹脂;エチレン- 酢酸ビニル共重合体、 エチレン ·ェチルァクリレー卜共重合樹脂などのポリェチ レン系樹脂;ベンゾグアナミン等のアミド樹脂;尿素樹脂;メラミン樹脂;ポリ ビニルアルコール樹脂及びそのァニオンカチオン変性;ポリビニルピロり ドンお よびその共重合体;ポリエチレンォキサイド、 カルボキシル化ポリエチレンォキ サイド等のアルキレンォキシド単独重合体、 共重合体及び架橋体;ポリエチレン グリコール、 ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコール;ポリ エーテルポリオ一ル; S B R、 N B Rラテックス ;デキストリン;アルギン酸ナ トリウム;ゼラチン及びその誘導体、カゼイン、 トロロアオイ、 トラガントガム、 プルラン、 アラビアゴム、 口一カストビーンガム、 グァガム、 ぺクチン、 カラギ ニン、 にかわ、 アルブミン、 各種澱粉類、 コーンスターチ、 こんにゃく、 ふのり、 寒天、 大豆蛋白等の天然或いは半合成樹脂;テルペン樹脂;ケトン樹脂; ロジン 及びロジンエステル;ポリビニルメチルエーテル、 ポリエチレンィミン、 ポリス チレンスルフォン酸、 ポリビニルスルフォン酸などを用いることができる。 これ らの樹脂は、 ホモポリマーとしてだけでなく、 相溶する範囲でブレンドして用い ても良い。
液体吐出装置 5 0をパターンニング方法として使用する場合には、 代表的なも のとしてはディスプレイ用途に使用することができる。 具体的には、 プラズマデ イスプレイの蛍光体の形成、 プラズマディスプレイのリブの形成、 プラズマディ スプレイの電極の形成、 C R Tの蛍光体の形成、 F E D (フィールドエミッショ ン型ディスプレイ) の蛍光体の形成、 F E Dのリブの形成、 液晶ディスプレイ用 カラ一フィルタ一 (R G B着色層、 ブラックマトリクス層)、 液晶ディスプレイ用 スぺーサー (ブラックマトリクスに対応したパターン、 ドットパターン等) など が挙げることができる。 ここでいうリブとは一般的に障壁を意味し、 プラズマデ ィスプレイを例に取ると各色のプラズマ領域を分離するために用いられる。 その 他の用途としては、 マイクロレンズ、 半導体用途として磁性体、 強誘電体、 導電 性ペースト (配線、 アンテナ) などのパターンニング塗布、 グラフィック用途と しては、 通常印刷、 特殊媒体 (フィルム、 布、 鋼板など) への印刷、 曲面印刷、 各種印刷版の刷版、加工用途としては粘着材、封止材などの本発明を用いた塗布、 バイオ、 医療用途としては医薬品 (微量の成分を複数混合するような)、 遺伝子診 断用試料等の塗布等に応用することができる。
(ノズル)
上記ノズル 5 1は、 後述するノズルプレート 5 6 cと共に一体的に形成されてお り、 当該ノズルプレート 5 6 cの平板面上から垂直に立設されている。 また、 液滴 の吐出時においては、 ノズル 5 1は、 基材 Kの受け面 (液滴が着弾する面) に対し て垂直に向けて使用される。 さらに、 ノズル 5 1にはその先端部からノズルの中心 に沿つて貫通するノズル内流路 5 2が形成されている。
ノズル 5 1について図 1 2から図 1 3 Bによりさらに詳説する。 図 1 2は、 ノズ ル 5 1の先端部における各寸法を示す符号を表す説明図であり、 図 1 3 Aはノズル 5 1の先端部における撥水処理状態を示す説明図、 図 1 3 Bは撥水処理の他の例を 示す説明図である。
ノズル 5 1は、その先端部における開口径とノズル内流路 5 2とが均一であって、 前述の通り、 これらが超微細径で形成され、 好ましくはノズル径は 30[ m]以下に 形成されている。 なお、 20[ j m]未満が好ましく、 さらに 10[ m]以下、 さらに 8[ m]以下が好ましく、 さらに 4 [ ni]以下が好ましい。具体的な各部の寸法の一例を挙 げると、 ノズル内流路 5 2のノズルの先端部からその全長に渡って内部直径 D】は 1 [; m]とし、 超微細化による電界の集中を図っている。 また、 ノズル先端部におけ るノズルの外径 Doを 2[ m]とし、 ノズル 5 1の先端部での管の壁面厚さ tを内部 直径 Diと等しい長さより小さい 0.5[ m]に設定し、 ノズル 5 1の先端面の縮小 化を図り、 先端部に形成される溶液の凸状メニス力スの外径の縮小化を図ってい る。 なお、 ノズル 5 1の先端面のさらなる小径化を図るために tの値は内部直径 の 1 / 4以下 (例えば 0.2[ m]) としても良い。
また、 ノズル 5 1の根元の直径 D„lilxは 5[ χηι]とし、 ノズルの周面にテーパを形 成している。
また、 ノズル径は 0.2[/ m]より大きいことが望ましい。 なお、 ノズル 2 1の高さ は、 0[ μ ιη]でも構わない。
さらに、 ノズル 5 1の高さ (後述する上面層 5 6 cの吐出側平面からの突出高さ) は 100 m]に設定されており、その形状は限りなく円錐形に近い円錐台形に形成さ れている。 そして、 ノズル内流路 5 2はノズル 5 1とその下に位置するノズルプレ ート 5 6 cの平面部までを貫通して設けられているので、 ノズル 5 1の高さを上記 値とすることによりノズル内流路 5 2の流路長は 100[ ^m]以上となる。 このように、 ノズル内流路 5 2の流路長をノズル先端におけるノズルの内部直径の 10倍以上、好 ましくは 50倍以上、 より好ましくは 100倍以上とすることにより、 集中された電 界から受ける吐出力をノズル 5 1の先端部により効果的に集中させる。
また、 ノズル 5 1はその全体がノズルプレート 5 6 cと共に絶縁材料としてのガ ラスを材料とし、 フエムト秒レーザにより図示の形状及び寸法に形成した。
また、 図 1 3 Aに示すように、 ノズル 5 1の流路 5 2を除く先端面上には撥水処 理膜 5 1 aが形成されている。 この撥水処理膜 5 l aは、 一例として、 ァモルファ スカーボンの蒸着により形成される。 また、 この撥水処理膜 5 l aは、 図 1 3 Bに 示すように、 ノズリレ 5 1の先端面だけではなくノズル 5 1の表面全体に形成しても 良い。
なお、 ノズル内流路 5 2の形状は、 図 1 1に示すような、 内径一定の直線状に形 成しなくとも良い。 例えば、 図 1 6 Aに示すように、 ノズル内流路 5 2の後述する 溶液室 5 4側の端部における断面形状が丸みを帯びて形成されていても良い。また、 図 1 6 Bに示すように、 ノズル内流路 5 2の後述する溶液室 5 4側の端部における 内径が吐出側端部における内径と比して大きく設定され、 ノズル内流路 5 2の内面 がテーパ周面形状に形成されていても良い。 さらに、 図 1 6 Cに示すように、 ノズ ル内流路 5 2の後述する溶液室 5 4側の端部のみがテーパ周面形状に形成されると 共に当該テーパ周面よりも吐出端部側は内径一定の直線状に形成されていても良い。 • (溶液供給手段)
溶液供給手段 5 3は、 液体吐出へッド 5 6の内部であってノズル 5 1の根元とな る位置に設けられると共にノズル内流路 5 2に連通する溶液室 5 4と、 図示しない 外部の溶液タンクから溶液室 5 4に溶液を導く供給路 5 7とを有している。
上記溶液夕ンクは、 自重により緩やかな圧力で溶液室 5 4への溶液の供給を行う ために、 溶液タンクはノズルプレート 5 6よりも高位置に配置される。
上述のように、 溶液の供給には、 液体吐出へッド 5 6と供給タンクの配置位置に よる差圧を利用しても良いが、溶液の供給は供給ポンプを用いても良い。その場合、 供給ポンプは、 ノズル 5 1の先端部まで溶液を供給し、 当該先端部からこぼれ出さ ない範囲の供給圧力を維持して溶液の供給を行う。 ポンプシステムの設計にもよる 力^ 基本的にはスタート時に液体吐出へッド 5 6に溶液を供給するときに稼動し、 液体吐出へッド 5 6から液体を吐出し、 それに応じた溶液の供給は、 キヤビラリ及 び凸状メニスカス形成手段による液体吐出へッド 5 6内の容積変化及び供給ポンプ の各圧力の最適化を図つて溶液の供給が実施される。
(吐出電圧印加手段)
吐出電圧印加手段 3 5は、 ノズルプレート 5 6の内部であってノズル 5 1の後端 部側, 即ち溶液室 5 4とノズル内流路 5 2との境界位置に設けられた吐出電圧印加 用の吐出電極 5 8と、 この吐出電極 5 8に常時, 直流のバイアス電圧を印加するバ ィァス電源 3◦と、 吐出電極 5 8にバイアス電圧に重畳して吐出に要する電位とす る吐出パルス電圧を印加する吐出電圧電源 3 1と、 を備えている。
上記吐出電極 5 8は、 溶液室 5 4内部において溶液に直接接触し、 溶液を帯電さ せると共に吐出電圧を印加する。
また、 吐出電極 5 8は、 ノズルプレー卜面よりもノズル 5 1の後端部 (先端部と 反対側の端部) 側に配置することで少しでも先端部から遠ざけ、 印加される吐出パ ルス電圧の急な電圧変化等によるノズル先端部への影響を低減させている。
上記バイァス電源 3 0によるバイァス電圧は、 溶液の吐出が行われない範囲で常 時電圧印加を行うことにより、 吐出時に印加すべき電圧の幅を予め低減し、 これに よる吐出時の反応性の向上を図っている。
吐出電圧電源 3 1は、 溶液の吐出を行う際にのみパルス電圧を出力し、 定常的に 出力さ lているバイァス電圧に重畳させて吐出電極 5 8に印加する。 このときの重 畳電圧 Vは次式 (1 ) の条件を満たすようにパルス電圧の値が設定されている。
Figure imgf000020_0001
ただし、 Ύ :溶液の表面張力 (N/m)、 ε 0 :真空の誘電率 (F/m)、 d: ノズル 直径 (m)、 h: ノズル一基材間距離 (ni)、 k : ノズル形状に依存する比例定数 (1.5く kく 8.5) とする。
一例を挙げると、 ノ ィァス電圧は DC300[V]で印加され パルス電圧は 100[V]で 印される。 従って、 吐出の際の重畳電圧は 400[V]となる。
(液体吐出へッド)
液体吐出へッド 5 6は、 図 1 1において最も下層に位置するベース層 5 6 aと、 その上に位置する溶液の供給路を形成する流路層 5 6 bと、 この流路層 5 6 bのさ らに上に形成されるノズルプレート 5 6 cとを備え、 流路層 5 6 bとノズルプレー ト 5 6 cとの間には前述した吐出電極 5 8が介挿されている。
上記べ一ス層 5 6 aは、 シリコン基板或いは絶縁性の高い樹脂又はセラミックに より形成され、 その上にフォトレジスト層を形成すると共に供給路 5 7及び溶液室 5 4のパターンを現像 ·露光 ·溶解することにより絶縁樹脂層により供給路 5 7及 び溶液室 5 4に従う部分のみを残して除去し、 除去された部分に絶縁樹脂層を形成 する。 この絶縁樹脂層が流路層 5 6 bとなる。 そして、 この絶縁樹脂層の上面に導 電素材(例えば NiP)のメツキにより吐出電極 5 8を形成する。さらにその上には、 前述のようにフェムト秒レーザにより加工されたガラス材からなるノズルプレート 5 6 cが装備される。
そして、供給路 5 7及び溶液室 5 4のパターンに従う溶解可能な樹脂層を除去し、 これら供給路 5 7及び溶液室 5 4が開通する。 そして、 最後に、 ノズル 5 1の先端 部にアモルファスカーボンを蒸着により形成することで撥水処理膜 5 1 aが形成さ れてノズルプレート 5 6 cが完成する。
なお、 ノズルプレート 5 6 c及びノズル 5 1の素材は、 具体的には、 エポキシ、 P MMA、 フエノール、 ソーダガラス、 石英ガラス等の絶縁材の他、 S iのような 半導体、 N i 、 S U S等のような導体であっても良い。 但し、 導体によりノズルプ レート 5 6 c及びノズル 5 1を形成した場合には、 少なくともノズル 5 1の先端部 における先端部端面、 より望ましくは先端部における周面については、 絶縁材によ る被膜を設けること力 S望ましい。 ノズル 5 1を絶縁材から形成し又はその先端部表 面に絶縁材被膜を形成することにより、 溶液に対する吐出電圧印加時において、 ノ ズル先端部から対向電極 5 3への電流のリークを効果的に抑制することが可能とな るからである。
(対向電極)
対向電極 2 3は、 ノズル 5 1の突出方向に垂直な対向面を備えており、 かかる対 向面に沿うように基材 Kの支持を行う。 ノズル 5 1の先端部から対向電極 2 3の対 向面までの距離は、 一例としては 100[ /i ni]に設定される。
また、 この対向電極 2 3は接地されているため、常時, 接地電位を維持している。 従って、 パルス電圧の印加時にはノズル 5 1の先端部と対向面との間に生じる電界 による静電力により吐出された液滴を対向電極 2 3側に誘導する。
なお、 液体吐出装置 5 0は、 ノズル 5 1の超微細化による当該ノズル 5 1の先端 部での電界集中により電界強度を高めることで液滴の吐出を行うことから、 対向 電極 2 3による誘導がなくとも液滴の吐出を行うことは可能ではあるが、 ノズル 5 1と対向電極 2 3との間での静電力による誘導が行われた方が望ましい。 また、 帯電した液滴の電荷を対向電極 2 3の接地により逃がすことも可能である。
(液体吐出装置による微小液滴の吐出動作)
図 1 4 A,図 1 4 Bにより ί夜体吐出装置 5 0の吐出動作の説明を行う。図 1 4 Α, 図 1 4 Βは溶液に印加される電圧との関係を示す説明図であって、 図 1 4 Αは吐出 を行わない状態であり、 図 1 4 Bは吐出状態を示す
既に、 ノズル内流路 5 2には溶液が供給された状態にあり、 かかる状態でバイァ ス電源 3 0により吐出電極 5 8を介してバイアス電圧が溶液に印加されている。 か かる状態で、 溶液は帯電すると共に、 ノズル 5 1の先端部において溶液 (こよる凹状 に窪んだメニスカスが形成される (図 1 4 A;)。
そして、 吐出電圧電源 3 1により吐出パルス電圧が印加されると、 ノズル 5 1の 先端部では集中された電界の電界強度による静電力により溶液がノズル 5 1の先端 側に誘導され、 外部に突出した凸状メニスカスが形成されると共に、 かかる凸状メ ニスカスの頂点により電界が集中し、 ついには溶液の表面張力に杭して微小液滴が 対向電極側に吐出される (図 1 4 B)。
上記 ί夜体吐出装置 5 0は、 従来にない微細径のノズル 5 1により液滴の吐出を行 うので、 ノズル内流路 5 2内で帯電した状態の溶液により電界が集中され、 電界強 度が高められる。 このため、 従来のように電界の集中化が行われない構造のノズル (例えば内径 100[ m])では吐出に要する電圧が高くなり過ぎて事実上吐出不可能 とされていた微細径でのノズルによる溶液の吐出を従来よりも低電圧で行うことを 可能としている。
そして、 微細径であるがために、 ノズルコンダクタンスの低さによりその単位時 間あたりの吐出流量を低減する制御を容易に行うことができると共に、 パルス幅を 狭めることなく十分に小さな液滴径 (上記各条件によれば 0.8[ a m] ) による溶液の 吐出を実現している。
さらに、 吐出される液滴は帯電されているので、 微小の液滴であっても蒸気圧が 低減され、 蒸発を抑制することから液滴の質量の損失を低減し、 飛翔の安定化を図 り、 液滴の着弾精度の低下を防止する。
また、 液体吐出装置 5 0では、 ノズル内流路長の内部直径の 100倍以上に設定し ているので、 より効果的に電界を集中させる効果力得られ、 液滴の吐出の応答性及 び吐出液滴の微小化を図ると共により吐出位置の集中安定化を図ることを可能とす る。
また、ノズル 5 1の先端部での管の壁面厚さを内部直径 D】と等しい長さ以下と しているので、 ノズル 5 1の先端面の外径を内径の 3 倍以下とすることができ、 凸状メニスカスの微小化により効果的にメニスカス先端部に集中電界による吐出 作用の集中を図り、 応答性の向上と液滴微小化を図ることができる。
さらに、 ノズル 5 1の表面の先端面を撥水処理膜 5 1 aを設けているので、 ノ ズル 5 1の内径に応じた凸状メニスカスを形成することが可能となり、 より効果 的にメニスカス先端部に集中電界による吐出作用が集中し、 応答性の向上と液滴 微小化とを図ることが可能となる。 この場合、 ノズル 5 1の壁面厚さ tを薄くし たことによる凸状メニスカスの微小化という意義は薄れるが、 その場合であって も、 万が一、 溶液が撥水処理膜 5 1 a上まで広がった場合でも、 先端面の範匪内 に納めることができ、 二段構えで凸状メニスカスの微小化を維持するという効果 がある。
(他のノズル形状)
ノズル 5 1の先端形状については、 図 1 5に示すように、 ノズル 5 1の先端面を ノズル内流路 5 2の中心線に対する傾斜面 5 1 bとしても良い。 かかる傾斜面 5 1 bの傾斜角度 Θ (傾斜面 5 1 bの法線がノズル内流路の中心線と一致する場合 を 90度とする) は、 30〜45[° ]の範囲が望ましく、 ここでは 40[° ]とする。 ノ ズル 5 1の先端面をこのような角度範囲の傾斜面 5 1 bとすることにより、 放電 による電界; ¾中の効果を損ねることなく、 傾斜面 5 1 bによる吐出先端部側に溶 液を猿中させることができ、 より効果的にメニスカス先端部に集中電界による吐 出作用を築中させ、 応答性の向上と液滴微小化とを図ることが可能となる。 (その他)
なお、 ノスリレ 51にエレクトロウエツティング効果を得るために、 ノズル 51の 外周に電極を設けるか、 また或いは、 ノズル内流路 52の内面に電極を設け、 そ の上から絶縁膜で被覆しても良い。 そして、 この電極に電圧を印加することで、 吐出電極 58により電圧が印加されている溶液に対して、 エレク卜ロウエッティ ング効果によりノズル内流路 52の内面のぬれ性を高めることができ、 ノズル内 流路 52への溶液の供給を円滑に行うことができ、 良好に吐出を行うと共に、 吐 出の応答性の向上を図ることが可能となる。
[ノズルの比較試験 1]
上述した液体吐出装置 50とほぼ同一の液体吐出装置により、 ノズルの各 部の寸法を変えて所定の条件下で行った比較試験の結果を以下に説明する。 図 1 7は、 比較試験結果を示す図表である。 比較試験では、 ノズルプレート の上面層 (ノズルを含む) における D, D。, Draax, H (図 1 2参照) の値を以下に 示す各寸法となるように、 ガラス材料からフェムト秒レーザにより加工した 八種類の対象について比較を行つたものである。
N o. 1
D,= [ wt] , D0=2 [^ηι] , D 5 [ μ m] , Η = 1 [ u ηι]
Ν ο . 2
Figure imgf000024_0001
9 [ ni]
Ν ο . 3
D,= m] D0=2[ xm] Dm., = 5 [ x m] , H=10[/ ni]
Ν ο . 4
D,= m] Dnil) =5 [/im] , H = 49 [ m]
Ν ο .
D,= [ I上】11]
Figure imgf000024_0002
[ m] , H = 50 [Μ ΠΙ]
Ν ο . 6
D,= [/im] ϊ)ϋ— 2 [ L ] D =5 [ i in] H=51 m]
Ν ο .
[ I上 m]
Figure imgf000024_0003
[ m] ; H = 99 i m) No. 8
D,= l [ m] , D。=2[/丄 m], D =5 [/ m] , H=100 [ m]
なお、 上記条件以外は第一の実施形態で示した液体吐出装置 50と同じ構 成である。 つまり、 ノズル内流路及び吐出開口部の内部直径が 1 [ m]のノズルが 使用されている。
さらに、 駆動条件としては、 (1)吐出のトリガーとなるパルス電圧の周波数 を 1 [kHz]として 100回の吐出液滴をサンプリングし、 (2)吐出電圧:バイァ ス電圧を 300[V]、 吐出パルス電圧を 100[V]とし、 (3) ノズル先端から対向電極ま での距離 100 [ m]、(4)溶液は水であり、その物性は粘性: 8[cP] (8X lO-Pa-S]) , 比抵抗: 108[Qcm], 表面張力 30 X 10·3[Ν/η]]であり、 ( 5 )基板をガラス基板として いる。
上記条件の下で実体顕微鏡とデジタルカメラで撮影し、 微小化及び均一性を評価 した。 また、 最も均一性の良いものを 5とする段階的評価を行った。
その結果、 ノズル高さ Ηを内部直径の 10倍である 10[ ΠΙ]としたときに、 吐出 液滴径をノズル内部直径と等しい l m]まで微小化し、 均一性は 3の向上が観測さ れた。
さらに、 ノズル高さ Hを内部直径の 50倍である 50[ m]としたときに、 吐出液 滴径をノズル内部直径よりも微小な O.S m]まで微小化し、 均一性は 4と向上しド ット径のばらつきの顕著な低減が観測された。
さらに、 ノズル高さ Hを内部直径の 100倍である 100[wm]としたときに、 均一 性は 5と向上しドッ卜径のばらつきの顕著な低減が観測された。
[ノズルの比較試験 2]
上述した液体吐出装置 50とほぼ同一の液体吐出装置により、 ノズルの各 部の設計条件を変えて所定の駆動条件下で行った比較試験の結果を以下に説 明する。 図 1 8は、 比較試験結果を示す図表である。 比較試験では、 ノズル プレートの上面層 (ノズルを含む) における ί (図 1 2参照) の値を以下 に示す各寸法となるように且つノズル先端の傾斜面の傾斜角度が以下に示す 角度となるようにガラス材料からフェムト秒レーザにより加工し、 且つ撥水 処理'膜を形成しないものと図 1 3 Αのように形成するものと図 1 3 Bのよう に形成するものとにより九種類の対象について比較を行ったものである。 N o. 1
D,= l [ xm]; t = 2[um], H=10[MDI], 撥水処理膜:無し, 傾斜角度 90 ] (傾斜無し)
N o. 2
D,= l [^m], t = l [/ m], H=10 [ m]、 撥水処理膜:無し, 傾斜角度 90[ ] (傾斜無し)
N o. 3
D,= l [wm], t = 0.2[um], H=10[um],撥水処理膜:無し, 傾斜角度 90 [° ] (傾斜無し)
No. 4
D,= l [^m], t = ] [μιη], H=10[ m]、撥水処理膜:先端面のみ(図 1 3 A), 傾斜角度 90 [° ] (傾斜無し)
N o. 5
Figure imgf000026_0001
撥水処理膜:先端面 +外周面 (図 1 3 B), 傾斜角度 90 ] (傾斜無し)
No. 6
D, = l [wm], 【=2[ 111] , Η=10[ία]ΐ]] . 撥水処理膜:先端面 +外周面 (図 1 3 B), 傾斜角度 90 ] (傾斜無し)
No. 7
Figure imgf000026_0002
[ ] η]、 撥水処理膜:先端面 +外周面 (図 1 3 Β), 傾斜角度 40[° ]
N o. 8
D)=l in] , t = 0.2[/丄 m] , H=10[ m]、 撥水処理膜:先端面 +外周面 (図 1 3 B), 傾斜角度 40 ] (傾斜無し)
N o. 9
D,= l i m] , t = 0.2[/im].. H=10[ m]、 撥水処理膜:先端面 +外周面 (図 1 3 B), 傾斜角度 20[° ] (傾斜無し)
なお、 上記条件以外は第一の実施形態で示した液体吐出装置 5 0と同じ構 成である。 つまり、 ノズル内流路及び吐出開口部の内部直径が 1 [; am]のノズルが 使用されている。
さらに、 駆動条件としては、 (1)吐出のトリガーとなるパルス電圧の周波数 を 1 [kHz]として 100回の吐出液滴をサンプリングし、 (2)吐出電圧:バイァ ス電圧を 300[V]、 吐出パルス電圧を 100[V]とし、 (3) ノズル先端から対向電極ま での距離 100[/ m]、(4)溶液は水であり、その物性は粘性: 8[cP] (8X 102[Pa-S]) , 比抵抗: 108[Ωατα], 表面張力 30Χ 10·3[Ν/ιη]であり、 ( 5 ) 基板をガラス基板として いる。
上記条件の下で実体顕微鏡とデジタル力メラで撮影し、 応答性評価 1が標準で、 最も応答性の良いものを 5とする段階的評価を行った。
その結果、ノズル先端部の壁面厚さ tが内部直径よりも大きな 2[/ ηι]とした Ν ο . 1と比較して、ノズル先端部の壁面厚さ tを内部直径に等しい 1[μηι]としたとき(N ο. 2)に応答性の著しい向上が観測され、 tを内部直径の 1 Z4よりも小さい 0.2 [ m]としたとき (No. 3) にはさらなる向上力観測された。
また、 撥水処理膜を設けていない No. 2と比較して、 ノズル先端面にのみ撥水 処理膜を設けた場合 (No. 4) に応答性の向上が観測された。
さらに、 撥水処理膜を設けていない No. 3と比較して、 ノズル先端面及び外周 面に撥水処理膜を設けた場合 (No. 5) に著しい応答性の向上が観測された。 また、 ノズル先端面に傾斜面の傾斜角度を 90 ] (傾斜無し) とする No. 5と 比較して、 ノズル先端面に傾斜面の傾斜角度を 40 ]とする場合 (No. 8) に最 も良好且つ著しい応答性の向上が観測された。
一方、 傾斜面を有さない No. 5と比較して、 ノズル先端面に傾斜面の傾斜角度 を 20[° ]とする場合 (No. 9) には応答性の低下が観測された。 これは、 傾斜角 が小さくなる (先端がより鋭角となる) と放電しやすい傾向にあり、 その影響画発 生したことが原因と考えられる。
[液体吐出装置の理論説明 ]
以下に、 本発明による液体吐出の理論説明及びこれに基づく基本例の説明 を行う。 なお、 以下に説明する理論及び基本例におけるノズルの構造、 各部 の素材及び吐出液体の特性、 ノズル周囲に付加する構成、 吐出動作に関する 制御条件等全ての内容は、 可能な限り上述した各実施形態中に適用しても良 いことはいうまでもない。
(印加電圧低下および微少液滴量の安定吐出実現の方策)
従前は以下の条件式により定まる範囲を超えて液滴の吐出は不可能と考えられ ていた。 dく
2 (4) λ cは静電吸引力によりノズル先端部からの液滴の吐出を可能とするための溶 液液面における成長波長 (m) であり、 A c = 27tァ Ιι'ν ε ^ν2で求められる。 dく πγΐτ'
(5)
Figure imgf000028_0001
本発明では、 静電吸引型インクジエツ卜方式において果たすノズルの役割を再 考察し、 従来吐出不可能として試みられていなかった領域において、 マクスゥェ ルカなどを利用することで、 微小液滴を形成することができる。
このような駆動電圧低下および微少量吐出実現の方策のための吐出条件等を近 似的に表す式を導出したので以下に述べる。
以下の説明は、 上記各本発明の実施形態で説明した液体吐出装置に適用可能で ある。
いま、 内径 dのノズルに導電性溶液を注入し、 基材としての無限平板導体から hの高さに垂直に位置させたと仮定する。 この様子を図 1 9に示す。 このとき、 ノズル先端部に誘起される電荷は、 ノズル先端の半球部に集中すると仮定し、 以 下の式で近似的に表される。
Q 二 Ιπε,ανά
(7) ここで、 Q:ノズル先端部に誘起される電荷 (0、 £0:真空の誘電率 (F/m)、 s :基材の誘電率 (F/m)、 h: ノズル一基材間距離 (m)、 d: ノズル内部の直径 (m)、 V: ノズルに印加する総電圧 (V) である。 α : ノズル形状などに依存す る比例定数で、 1〜1.5程度の値を取り、 特に dくく liのときほぼ 1程度となる。 また、 基材としての基板が導体基板の場合、 基板内の対称位置に反対の符号を 持つ鏡像電荷 Q' が誘導されると考えられる。 基板が絶縁体の場合は、 誘電率に よって定まる対称位置に同様に反対符号の映像電荷 Q' が誘導される。
ところで、ノズル先端部に於ける凸状メニスカスの先端部の電界強度 E|TO. [V/m] は、 凸状メニスカス先端部の曲率半径を R[m]と仮定すると、 f 一 V
し e ―
kR (8) で与えられる。 ここで k:比例定数で、 ノズル形状などにより異なるが、 1.5〜8.5 程度の値をとり、多くの場合 5程度と考えられる。(P. J. Birds eye and D. A. Smith, Surface Science, 23 (1970) 198-210)。
今簡単のため、 dZ2=Rとする。 これは、 ノズル先端部に表面張力で導電性 溶液がノズルの半径と同じ半径を持つ半球形状に盛り上がつている状態に相当す る。
ノズル先端の液体に働く圧力のバランスを考える。 まず、 静電的な圧力は、 ノ ズル先端部の液面積を S [m2]とすると、
P e = QElloc « 22 l c
(7)、 (8)、 (9) 式よりひ = 1とおいて、
2
2 V
2
d/2 k-d/2 k-d
(10)
と表される。
一方、 ノズル先端部に於ける液体の表面張力を Psとすると、 4χ
P 二 (1 1 ) ここで、. r :表面張力 (N/m)、 である。
静電的な力により流体の吐出が起こる条件は、 静電的な力が表面張力を上回る条 件なので、 p>ps (1 2) となる。 十分に小さいノズル直径 dをもちいることで、 静電的な圧力が、 表面張 力を上回らせる事が可能である。
この関係式より、 λ と dの関係を求めると、
Figure imgf000030_0001
が吐出の最低電圧を与える。 すなわち、 式 (6 ) および式 (1 3 ) より、
Figure imgf000030_0002
が、 本発明の動作電圧となる。
ある内径 dのノズルに対し、吐出限界電圧 V cの依存性を前述した図 9に示す。 この図より、 微細ノズルによる電界の集中効果を考慮すると、 吐出開始電圧は、 ノズル径の減少に伴い低下する事が明らかになつた。
従来の電界に対する考え方、 すなわちノズルに印加する電圧と対向電極間の距 離によつて定義される電界のみを考慮した場合では、 微細ノズルになるに従い、 吐出に必要な電圧は増加する。 一方、 局所電界強度に注目すれば、 微細ノズル化 により吐出電圧の低下が可能となる。
静電吸引による吐出は、ノズル端部における液体(溶液)の帯電が基本である。 帯電の速度は誘電緩和によって決まる時定数程度と考えられる。 ε
て二—
σ (2) ここで、 ε :溶液の誘電率 (F/m)、 0 :溶液の導電率 (S/m) である。 溶液の 比誘電率を 10、 導電率を 10-6 S/m を仮定すると、 て = 1.854 X l(T5secとなる。 あ るいは、 臨界周波数を f c [Hz]とすると、 f J c r (14)
^
となる。 この icよりも早い周波数の電界の変化に対しては、応答できず吐出は不 可能になると考えられる。 上記の例について見積もると、 周波数としては 10 kHz 程度となる。 このとき、 ノズル半径 2 ]Ώ、 電圧 500V弱の場合、 ノズル内流量 Gは l0-i¾i3/sと見積もることができるが、 上記の例の液体の場合、 10kHzでの 吐出が可能なので、 1周期での最小吐出量は lOfl (フェムトリツトル、 lfl: 10-】5 1) 程度を達成できる。
なお、 各上記本実施の形態においては、 図 1 9に示したようにノズル先端部に 於ける電界の集中効果と、 対向基板に誘起される鏡像力の作用を特徴とする。 こ のため、 先行技術のように基板または基板支持体を導電性にすることや、 これら 基板または基板支持体への電圧の印加は必ずしも必要はない。 すなわち、 基板と して絶縁性のガラス基板、 ポリイミドなどのプラスチック基板、 セラミックス基 板、 半導体基板などを用いることが可能である。
また、 上記各実施形態において電極への印加電圧はプラス、 マイナスのどちら でも良い。
さらに、 ノズルと基材との距離は、 500[ n]以下に保つことにより、 溶液の吐 出を容易にすることができる。 また、 図示しないが、 ノズル位置検出によるフィ -ドバック制御を行い、 ノズルを基材に対し一定に保つようにすることが望まし い。
また、 基材を、 導電性または絶縁性の基材ホルダーに裁置して保持するように しても良い。 図 2 0は、 本発明の他の基本例の一例としての液体吐出装置のノズル部分の側 面断面図を示したものである。ノズル 1の側面部には電極 1 5が設けられており、 ノズル内溶液 3との間に制御された電圧が印加される。 この電極 1 5の目的は、 Electrowetting効果を制御するための電極である。十分な電場がノズルを構成す る絶縁体にかかる場合この電極がなくとも Electrowetting効果は起こると期待 される。しかし、本基本例では、より積極的にこの電極を用いて制御することで、 吐出制御の役割も果たすようにしたものである。 ノズル 1を絶縁体で構成し、 先 端部におけるノズルの管厚が l i m、 ノズル内径が 2 m、 印加電圧が 300 λ の場 合、 約 30気圧の Electrowetting効果になる。 この圧力は、 吐出のためには、 不 十分であるが溶液のノズル先端部への供給の点からは意味があり、 この制御電極 により吐出の制御が可能と考えられる。
前述した図 9は、 本発明における吐出開始電圧のノズル径依存性を示したもの である。 液体吐出装置として、 図 1 1に示すものを用いた。 微細ノズルになるに 従い吐出開始電圧が低下し、従来より低電圧で吐出可能なことが明らかになつた。 上記各実施形態において、 溶液吐出の条件は、 ノズル一基材間距離(h )、 印加 電圧の振幅 (V)、 印加電圧振動数 (f) のそれぞれの関数になり、 それぞれにあ る一定の条件を満たすことが吐出条件として必要になる。 逆にどれか一つの条件 を満たさない場合他のパラメ一夕一を変更する必要がある。
この様子を図 2 1を用いて説明する。
まず吐出のためには、 それ以上の電界でないと吐出しないというある一定の臨 界電界 Ecが存在する。 この臨界電界は、 ノズル径、 溶液の表面張力、 粘性など によって変わってくる値で、 Ec以下での吐出は困難である。 臨界電界 Ec以上す なわち吐出可能電界強度において、 ノズル一基材間距離(h )と印加電圧の振幅 (V)の間には、 おおむね比例の関係が生じ、 ノズル一基材間距離を縮めた場合、 臨界印加電圧 Vを小さくする事が出来る。
逆に、 ノズル一基材間距離 hを極端に離し、 印加電圧 Vを大きくした場合、 仮 に同じ電界強度を保ったとしても、 コロナ放電による作用などによって、 流体液 滴の破裂すなわちバース卜が生じてしまう。 産業上の利用可能性
以上のように、 本発明は、 グラフィック用途としての通常印刷、 特殊媒体 (フ イルム、 布、 鋼板など) への印刷、 曲面印刷等、 又は、 液体状又はべ一スト状の 導電性物質による配線、 アンテナ等のパターンニング塗布、 加工用途としての粘 着材、 封止材などの塗布、 バイオ、 医療用途としては医薬品 (微量の成分を複数 混合するような)、遺伝子診断用試料等の塗布等において、各用途に応じた液体の 吐出に適している。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 帯電した溶液の液滴を基材に吐出する ί夜体吐出装置であって、
先端部から前記液滴を吐出する先端部の内部直径が 30[ m]以下のノズルを有す る液体吐出ヘッドと、 前記ノズル内に溶液を供給する溶液供給手段と、 前記ノズル 内の溶液に吐出電圧を印加する吐出電圧印加手段と、 を備え、
前記ノズルの内部流路長をノズル先端部におけるノズルの内部直径の少なくとも 10倍以上に設定したことを特徴とする液体吐出装置。
2 . 前記ノズルの内部流路長をノズル先端部におけるノズルの内部直径の少なく とも 50倍以上に設定したことを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の液体吐出装 置。
3 . 前記ノズルの内部流路長をノズル先端部におけるノズルの内部直径の少なく とも 100倍以上に設定したことを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の液体吐出装 置。
4 . 前記ノズルの先端部でのノズルの壁面厚さをノズル先端部におけるノズル の内部直径と等しい長さ以下としたことを特徴とする請求の範囲第 1〜 3項のい ずれか 1項に記載の液体吐出装置。
5 . 前記ノズルの先端部でのノズルの壁面厚さをノズル先端部におけるノズル の内部直径と等しい長さの 1 / 4以下としたことを特徴とする請求の範囲第 4項 に記載の液体吐出装置。
6 . 前記ノズルの表面の少なくとも先端部を撥水処理したことを特徴とする請 求の範囲第 1〜 5項のいずれか 1項に記載の液体吐出装置。
7 . 前記ノズルの先端面をノズル内流路の中心線に対する傾斜面としたことを 特徴とする請求の範囲第 1〜 6項のいずれか 1項に記載の液体吐出装置。
8 . 前記ノズルの先端面の傾斜角度を、 (当該傾斜面の法線が前記ノズル内流路 の中心線と平行となる状態を 90度とした場合に) 30〜45度の範囲としたことを 特徴とする請求の範囲第 7項に記載の液体吐出装置。
9 . 前記ノズルの前記内部直径が 20 [; m]未満であることを特徴とする請求の 範囲第 1〜 8項のいずれか 1項に記載の液体吐出装置。
10. 前記ノズルの前記内部直径が 10[/ m]以下であることを特徴とする請求 の範囲第 9項に記載の液体吐出装置。
1 1. 前記ノズルの前記内部直径が 8[ ιη]以下であることを特徴とする請求の 範囲第 10項に記載の液体吐出装置。
12. 前記ノズルの前記内部直径が 4 [; m]以下であることを特徴とする請求の 範囲第 1 1項に記載の液体吐出装置。
1 3. 前記吐出電圧印加手段の吐出電極を前記ノズルの後端部側に設けたことを 特徴とする請求の範囲第 1〜 12項のいずれか 1項に記載の液体吐出装置。
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