WO2003004133A1 - Procede et dispositif de pretraitement de gaz d'echappement et dispositif de depoussierage associe - Google Patents
Procede et dispositif de pretraitement de gaz d'echappement et dispositif de depoussierage associe Download PDFInfo
- Publication number
- WO2003004133A1 WO2003004133A1 PCT/JP2002/006726 JP0206726W WO03004133A1 WO 2003004133 A1 WO2003004133 A1 WO 2003004133A1 JP 0206726 W JP0206726 W JP 0206726W WO 03004133 A1 WO03004133 A1 WO 03004133A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- dust
- exhaust gas
- gas
- filter
- combustion
- Prior art date
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
- F23G7/061—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating
- F23G7/065—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating using gaseous or liquid fuel
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES
- F23J2217/00—Intercepting solids
- F23J2217/10—Intercepting solids by filters
- F23J2217/101—Baghouse type
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES
- F23J2217/00—Intercepting solids
- F23J2217/50—Intercepting solids by cleaning fluids (washers or scrubbers)
Description
明 細 排ガス除害方法及び排ガス除害装置及びそれに用いる除塵装置 技術分野
本発明は、 排ガス除害方法及び排ガス除害装置及びそれに用いる 除塵装置に関し、 詳し く は、 半導体や液晶ディ スプレイ のモジユ ー ルの製造工程ない しは成膜工程で使用 さ れる排ガス を除害化する のに有効な方法及び装置に関する。 背景技術
従来、 半導体や液晶ディ スプレイ のモジュールの成膜工程で使用 されるガス と しては、 例えば、 成膜用のシラ ン ( S i H 4 ) 及びァ ンモニァ ( N H 3 ) 、 ク リ ーニング用のフ ッ素系ガスがある。 シラ ンゃア ンモニア等の成膜用ガス (可燃系ガス と もい う) は、 例えば チャ ンバ一内においてプラズマ放電される こ と によっ て、 基板上に S i 膜や S i N膜を形成し、 ク リ ーニング用の N F 3等のフ ッ 素系 ガス (支燃系ガス と もい う) は、 チャ ンバ一内に残留する S i を S i F 4 と して系外へ放出する こ とができる。
このよ う な成膜ガスゃク リ ーニング用ガスを含む排ガスは、 従来 第 5 図に示すよ う に、 成膜装置の真空チヤ ンバーの後段に備え られ る、 燃焼式除害手段、 洗浄式集塵手段によって順に処理されている 燃焼式除害手段の前段であっ て真空チ ヤ ンバーの直後には、 ク リ 一 二ング排ガスか ら S i F 4 を除去する手段が備え られる こ と も多 い。 S i F 4除去手段は、 成膜用のチャ ンバ一か ら のガス排出 口付
近に備え られ、 排ガス に水分を補給して、 3 1 4 を 3 1 〇 2 (シ リ カ) と して捕集し、 さ ら に、 ろ過する こ とによ り 、 S i F 4を排 ガス系から排除する ものである。
排ガスの燃焼式除害手段では、 可燃系ガスや支燃系ガス を燃焼に よ り酸化してそれぞれ式 [ 1 ] ~ [ 3 ] に示すよ う な化学反応を生 じさせるよ う にする。
S i H 4 + 2 02→ S i 02 + 2 H 2 0 - - - - [ 1 ]
4 N H 3 + 7 02→ 4 N 02 + 6 H 20 - · · · [ 2 ]
2 N F 3 + 2 02→ 2 N 02 + 3 F 2 [ 3 ]
さ ら に、 洗浄式集塵手段では、 この燃焼ガス をアルカ リ を添加し た水によ り 中和洗浄しつつ集塵する こ と によ り 、 S i 〇 2 を捕集す る と と もに、 酸性成分 ( 1^ 〇 2ゃ ? 2 ) を廃液と して分離するよ う になっている。
しか しながら、 従来、 前記 S i 〇 2捕集手段やそれ以降の配管の 他、 洗浄式集塵手段やその後段の配管において析出物が生成し、 配 管の閉塞や洗浄装置内での 目詰ま り を起こ していた。 このため、 頻 繁に洗浄式集塵手段の洗浄や配管洗浄な どを要していた。 また、 こ れらの析出物は、 フ ッ酸を用いて洗浄する ので安全性に留意する必 要があった。 さ ら に、 かかる洗浄などのメイ ンテナンス作業のため に工程の稼働率が低下する とい う 問題も生 じていた。
本発明は、 このよ う な成膜装置等の半導体あるいは液晶モジユ ー ルの製造装置において発生する排ガスの除害工程において、 メイ ン テナンス作業を抑制 し、 あるいはその作業の安全性を向上させる こ と を 目的してなされたものである。
発明の開示
本発明者らが、 上記した排ガス処理工程における析出物を分析し たと こ ろ、 それは、 洗浄式集塵手段以降では、 主と してケィ フ ッ化 カルシウム ( C a S i F 6 ) であ り 、 成膜装置か ら燃焼式除害手段 までの経路において析出される、 析出物は、 主と してケィ フ ッ化ァ ンモニゥム ( ( N H 4 ) 2 S i F 6 ) である こ とがわかった。
さ ら にかかる析出物の析出原因を探索したと こ ろ、 ゲイ フ ッ化力 ルシゥムは、 排ガスや燃焼ガス中に含まれる S i 〇 2 と、 燃焼時等 に発生する フ ッ酸と、 洗浄水や工程水に利用する水に含まれるカル シゥムに起因する こ と もわかっ た。 また、 ケィ フ ッ化アンモニゥム は、 排ガス 中の S i 0 2 と フ ッ酸 ( H F ) とア ンモニアガス に起因 する こ と もわかった。
これらの析出物は、 いずれも、 排ガス 中 に含まれる S i 0 2であ る こ とか ら 、 洗浄式集塵手段では、 S i 〇 2が効率よ く 捕集されず に内部に残留している こ と、 燃焼式除害手段の前段においては、 S i F 4除去手段が有効に機能してお らず、 水との化学反応によ り 生 成した S i O 2が捕集されきれずに排ガス 中に もれている こ とがわ かっ た。 特に、 洗浄式集塵手段では、 粒径が 0 . 1 ~ 1 m程度の 微粒子の S i O 2が残留しやすく 、 集塵率が 5 0 %程度しかない こ と もわかっ た。
排ガス処理工程において、 成膜装置直後の S i 除去手段と燃焼式 除害手段直後の洗浄式集塵手段を備えながら、 S i 成分 ( S i H 4 、 S i F 4 、 S i 〇 2な ど) の捕集が有効に機能 していない こ と は当 業者においては予想外の こ とであっ た。 また、 本発明者ら は、 工程 水中の C a 濃度が高 く 析出物の生成が促進された こ と によ って、 S
i 成分の残留をはじめて検知する こ とができた。
以上の こ とか ら、 本発明者 ら は、 上記した本発明の課題は、 洗浄 式集塵手段の前段に除塵 (装置) 手段を設ける こ とによ り解決され る こ と を見出 した。 また、 本発明の課題は、 成膜装置か ら燃焼式除 害手段に至る配管内部を 当該部位で析出 し う る析出物が析出 しな い温度に維持する こ と によ っ て解決さ れる こ と を見出 して本発明 に至っ た。
すなわち、 本発明の要旨は次ぎのとお り である。
( 1 ) S i 成分を含有する排ガス除害方法であって、
排ガスの燃焼処理工程と、
燃焼処理によ っ て生成 した燃焼排ガスか ら S i 含有粉塵を除塵 する除塵工程と、
除塵した燃焼排ガスを水性洗浄する洗浄工程、
と を備える排ガス除害方法。
( 2 ) 前記除塵工程では、 除塵 (装置) 手段と してバグフ ィ ル夕 一を用いる こ とを特徴とする ( 1 ) 記載の排ガス除害方法。
( 3 ) 前記除塵 (装置) 手段はその除塵経路にフィ ルターを有 し 前記除塵 (装置) 手段の粉塵の粉塵払い落と し工程において、 前記 フ ィ ルタ一に対して圧縮ガス を供給する と同時に、 前記フ ィ ルター の外部に対して、 前記フ ィ ルタ一表面近傍か ら粉塵排出側を指向す るガス流を付与する こ と を特徴とする ( 2 ) 記載の排ガス除害方法
( 4 ) 前記除塵工程には、 少な く と も m台 ( mは 3 以上の整数で ある) の除塵手段を備えるよ う に し、 それぞれの除塵 (装置) 手段 は、 少な く と も 1 台の除塵 (装置) 手段で粉塵払い落と し工程を実 施し、 最大で (m— 1 ) 台の除塵 (装置) 手段で集塵工程を実施す
る よ う に切替使用する こ と を特徴とする ( 2 ) 又は ( 3 ) に記載の 排ガス除害方法。
( 5 ) 前記除塵工程で除塵されたガス を、 当該ガスの排出圧力に 応じた風量で排出する こ と を特徴とする ( 1 ) 〜 ( 5 ) のいずれか に記載の排ガス除害方法。
( 6 ) 前記洗浄工程で洗浄用に導入される水は、 純水〜硬度 0 の 水を用いる こ と を特徴とする ( 1 ) 〜 ( 5 ) のいずれかに記載の排 ガス除害方法。
( 7 ) 前記燃焼処理工程に導入される前記排ガスは、 前記燃焼処 理工程よ り も前の段階で析出する可能性のあ る析出物が析出 しな い温度に維持されている ( 1 ) 〜 ( 6 ) のいずれかに記載の排ガス 除害方法。
( 8 ) S i 成分を含有する排ガス除害方法であっ て、
排ガスの燃焼処理工程と、
燃焼処理によ っ て生成 し た燃焼排ガスか ら S i 含有粉塵を除塵 する工程とを備え、
前記燃焼処理工程に導入される前記排ガスは、 前記燃焼処理工程 よ り も前の段階で析出する可能性のあ る析出物が析出 しない温度 に維持されている排ガス除害方法。
( 9 ) S i 成分を含有する排ガス除害装置であっ て、
排ガスの燃焼処理手段と、
燃焼処理によ っ て生成 し た燃焼排ガスか ら S i 含有粉塵を除塵 する除塵手段と、
除塵した燃焼排ガス を水性洗浄する洗浄手段、
と を備える排ガス除害装置。
( 1 0 ) 前記除塵工程では、 除塵手段と してバグフ ィ ルターを用 いる こ と を特徴とする ( 9 ) 記載の排ガス除害装置。
( 1 1 ) 前記バグフ ィ ルタ一の粉塵払い落と し手段と して、 前記 バグフ ィ ルターの経路に フ ィ ルター部を設け前記フ ィ ルター に対 して圧縮ガスを供給する と同時に、 前記フ ィ ルタ一の外部に対して 前記フ ィ ルター表面近傍か ら粉塵排出側を指向する ガス流を付与 するガス導入手段を備える こ と を特徴とする ( 1 0 ) 記載の排ガス 除害装置。
( 1 2 ) 前記除塵手段は、 少なく と も m台 (mは 3 以上の整数で ある) の除塵手段が備え られてお り 、 それぞれの除塵手段は、 少な く と も 1 台の除塵手段で粉塵払い落と し工程を実施し、 最大で (m - 1 ) 台の除塵 (装置) 手段で集塵工程を実施するよ う に切替可能 に設けられている こ と を特徴とする ( 1 0 ) 又は ( 1 1 ) 記載の排 ガス除害装置。
( 1 3 ) 前記洗浄手段で洗浄用 に導入される水は、 純水か ら硬度
0 の範囲までの水を用 いる こ と を特徴とする ( 9 ) 〜 ( 1 2 ) のい ずれかに記載の排ガス除害装置。
( 1 4 ) 前記燃焼処理手段に導入される前記排ガス を、 前記燃焼 処理手段よ り も前の段階で析出する可能性のあ る析出物が析出 し ない温度に維持する手段を備える こ と を特徴とする ( 9 ) 〜 ( 1 3 ) のいずれかに記載の排ガス除害装置。
( 1 5 ) 前記除塵手段か ら排出されるガスの圧力に応じて風量を 変量可能な排気手段を備える こ と を特徴とする ( 9 ) 〜 ( 1 4 ) の いずれかに記載の排ガス除害装置。
( 1 6 ) S i 成分を含有する排ガス除害装置であっ て、
排ガスの燃焼処理手段と、
燃焼処理によ っ て生成 した燃焼排ガスか ら S i 含有粉塵を除塵 する手段とを備え、
前記燃焼処理手段に導入される前記排ガス を、 前記燃焼処理手段 よ り も前の段階で析出する可能性のあ る析出物が析出 しない温度 に維持する手段を備える こ とを特徴とする排ガス除害装置。
( 1 7 ) S i 含有粉塵用の除塵装置であっ て、 前記除塵装置はバ グフ ィ ルターか ら成り 、 さ ら に前記バグフ ィ ルターの一構成部にフ ィ ルターを備え、 前記フ ィ ルタ一の粉塵払い落と し手段と して、 前 記フ ィ ルターに対して圧縮ガス を供給する と同時に、 前記フ ィ ルタ 一の外部に対して、 前記フ ィ ルタ一表面近傍か ら粉塵排出側を指向 する ガス流を付与する ガス導入手段を備え る こ と を特徴 とする除
( 1 8 ) 前記除塵装置の粉塵排出口は、 開閉式バルブを備えてお り 、 前記フィ ルタ一への粉塵集塵時においては閉 口 されてお り 、 前記圧縮ガス及びガス流が付与されて粉塵払い落 と し時におい ては開 口 されるよ う になっ ている こ と を特徴とする ( 1 7 ) 記載の 除塵装置。
前記 ( 1 ) ~ ( 7 ) ない し ( 9 ) 〜 ( 1 5 ) に係る発明によれば 除塵工程ない し除塵手段によ り S i 含有粉塵が除去されるため、 洗 浄工程ない し手段で析出物の析出が抑制される。 このため、 安定的 に工程ない し装置が稼働され、 メイ ンテナンス作業は軽減される。 また、 大量の洗浄水を要する こ とな く 洗浄工程を実施できる。 特に、 除塵工程ない し除塵手段でバグフ ィ ルターを用いる こ と に よ り 0 . 1 〜 1 m程度の微細な S 1 〇 2 粒子を効率的に捕捉でき
る。 さ ら に、 フ ィ ルターの粉塵払い落と し工程を、 圧縮ガスの供給 に加えて、 前記ガス流を付与する こ とによ り 、 圧縮ガスによ り粉塵 手段内部の雰囲気に浮遊する微細な粉塵を効果的に集塵 · 排出する こ とができる。 また、 当該ガス流の付与によ り 、 除塵手段内を雰囲 気ガス に置換 して S i 含有粉塵が捕捉さ れやすい環境が形成さ れ る。 さ ら に、 当除塵後のガスの排出圧力に応じた風量で排出する こ と によ り 、 常に除塵工程ない し手段での圧力損失に応じた適切な排 出量が確保される。
洗浄工程ない し手段では、 洗浄用 と して純水か ら硬度 0 までの範 囲の水を用いる こ と によ り 、 洗浄工程ない し手段ある いはそれ以後 の工程ない し手段において S i 含有析出物の生成を抑制し、 安定的 に稼動可能とな り 、 メイ ンテナンス作業が簡略化される。
また、 前記 ( 7 ) 及び ( 8 ) ないし ( 1 5 ) 及び ( 1 6 ) に係る 発明によれば、 燃焼処理工程ない し手段に導入される排ガスが、 燃 焼処理工程ない し手段よ り も前の段階で析出する可能性のある析 出物が析出 しない温度に維持される こ とによ り 、 燃焼処理工程ない し手段までの排ガス配管における S i 含有析出物の生成が回避さ れ、 安定した排ガス除害工程を実施できる。
また、 本発明のバグフ ィ ルタ一によれば、 ノ グフ ィ ルタ一のハウ ジング内に浮遊する微細な粒径 (特に、 0 . 1 〜 : L m程度) の S i 含有粉塵を効果的に除塵できる。 図面の簡単な説明
第 1 図は本発明に係る排ガス除害装置及び排ガス除害方法を説 明するための図、 第 2 図は本発明に係るバグフ イ リレターを示す図、
第 3 図は本発明の第 2 の実施形態に係る排ガス除害装置の概略を 示す図、 第 4 図は本発明の第 3 の実施形態に係る排ガス除害装置の 概略を示す図、 第 5 図は従来の排ガス除害工程を示す図である。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明の排ガス除害方法、 排ガス除害装置及び除塵装置は、 いず れも S i 成分含有排ガスに適用する こ とができる。 通常このよ う な 排ガスは、 半導体あるいは液晶モジュールの製造工程ない し装置、 特に成膜工程ない し成膜装置において発生する。 したがっ て、 本発 明の排ガス除害方法及び排ガス除害装置並びに除塵装置は こ のよ う な工程又は装置に適用 される こ とが好ま しい。 特に、 成膜工程に おいて、 C V D、 プラズマ C V D等の気相蒸着工程ないし装置で発 生する排ガスに適用する とその効果は顕著に現れる。
(実施形態 1 )
第 1 図は、 本発明の一実施の形態に係る排ガス除害装置及び排ガ ス除害工程の概略図を示す。
除害装置 2 は、 燃焼処理手段 4 と、 除塵 (装置) 手段 1 4 と、 洗 浄手段 4 4 と を備えている。 なお、 第 1 図には、 本除害装置が装着 ある いは配設さ れる薄膜等の製造装置が付随 して記載さ れている が、 本形態においては特にプラズマ C V D の成膜装置である。 燃焼処理手段 4 は、 従来公知の酸化燃焼装置を利用できる。 燃焼 用ガス と して酸素を外部か ら供給し、 かつバーナー等で火焰を供給 して高熱で排ガス成分を燃焼し酸化するよ う にする。 燃焼処理手段 4 においては、 前述のよ う に、 各種可燃系ガス (シラ ン、 ア ンモニ
ァ、 ホス フ ィ ン等) や支燃系ガス (三 フ ッ 化窒素等) の排ガス は、 それぞれ、 S i 〇 2 ( シ リ カ ) や、 N 0 2等の対応する元素の酸化物 や、 水あ る いは フ ッ 素等を 生 じ る。 し たがっ て、 燃焼排ガス は、 S 1 〇 2粒子の他、 こ れ ら の各種燃焼排ガス を含んでい る。
燃焼処理手段 4 か ら 排出 さ れる燃焼排ガス は、 除塵 (装置) 手段
1 4 に導入さ れる よ う にな っ て いる。 除塵 (装置) 手段 1 4 は、 従 来公知の各種の除塵装置を使用する こ とができ る 。 例えば、 遠心分 離、 ス ク ラ ノ — 、 ノ 'グフ ィ ルタ 一等を用 い る こ とができ る が、 好 ま し く は、 ノ ダフ イ リレタ ーであ る 。 バグフ ィ ルタ 一 は、 特に、 0 . 1 〜 1 m程度の微粒子の除塵効果が高 いか ら であ る。
ノ グフ ィ ル夕 一 に は、 従来各種方式の も のがあ る。 通常は、 フ ィ ルタ ーか ら の粉塵の払い落 と し機構に よ り 、 機械的振動方式、 逆流 洗浄方式、 超音波洗浄方式、 リ バース ジェ ッ ト 方式、 パルス エアー 方式な どの各種形態があ り 、 こ れ ら の う ち か ら 設計事項に応 じて所 要の も の を採用する こ とができ る。 好 ま し く は、 パルスエアー方式 のノヽ'グフ ィ ルタ ーであ る。
第 2 図に 、 本発明 において使用する の に好ま し いバグフ イ リレタ ー の一例 を示す。 通常、 パルス エア一方式のバグフ ィ ルタ一 は、 フ ィ ルタ ー 1 8 を保持するハ ウ ジ ン グ 1 6 と 、 ノヽ ウ ジ ング上部にお いて 区画さ れて備え られる ト ッ ププレナム 2 0 と 、 ノヽ ウ ジ ング下部に備 え ら れる集塵部 3 0 と を備えて いる。 さ ら に、 本発明の除塵 (装置) 手段 1 4 は、 ガス導入手段 4 0 を備えてい る。
ノ、 ウ ジ ン グ 1 6 内 には、 フ ィ ルター 1 8 が適数本保持さ れてお り フ ィ ルタ一 1 8 は、 通常、 円筒形等の筒状に形成さ れて い る。 フ ィ ルタ ー 1 6 内部は、 チュー ブシー ト 2 1 を介 して ト ッ ププ レナム 2
0 内部に連通されている。
ハウジング 1 6 のフ ィ ルター 1 8 の保持部位には、 外部か ら処理 すべき燃焼排ガスが導入される導入部を供えている。 導入部 1 9 は 排ガス導入時には開 口 されているが、 粉塵払い落と し時には、 閉 口 されるよ う になつている。
ト ッ ププレナム 2 0 は、 ノヽウジング 1 6 とチューブシー ト 2 1 を 介して備え られてお り 、 フ ィ ルター 1 6 内部と連通される こ とによ り 、 フ ィ ルター 1 8 を介して清浄化ガスが導入されるよ う になっ て いる と と も に、 フィ ルタ一 1 8 内部に圧縮ガス を導入できるよ う に なっている。 すなわち、 フ ィ ルター 1 8 で除塵された清浄化ガス を 排出する排出部 2 2 と、 フ ィ ルター 1 8 への圧縮ガスの噴射装置 2 4 とを備えている。
排出部 2 2 は、 排ガスが導入されて除塵が実施されている間は開 口 されているが、 粉塵払い落と し時には閉口 されるよ う になってい る。 また、 圧縮ガスの噴射装置 2 4 には、 外部か ら圧縮ガス (圧縮 空気) が供給されるよ う になっている。 圧縮ガスの供給経路にはパ ルス弁が備え られてお り 、 パルス弁の開閉によ り 瞬間的に圧縮ガス をフィ ルタ一 1 8 内部に対して供給できるよ う になつている。 さ ら に、 図示はしないが、 フ イ リレター 1 8 内部には、 圧縮ガス供給と同 じ に フ ィ ルター 1 8 を膨張さ せる誘引ガス を導入でき る よ う にな つ ている。
さ ら に、 ノヽウジング 1 6 の下部には、 下方に向かって徐々 に 口径 が小さ く なるテーパー状の集塵部 3 0 が形成されている。 集塵部 3 0 の一部、 好ま し く は底部には、 粉塵排出部 3 2 を備え、 粉塵排出 経路 3 6 に連絡されている。
粉塵排出部 3 2 は、 その開閉を手動あるいは自動に制御できるよ う になつ ている。 通常は、 開閉式バルブ 3 4 が備え られている。 粉塵排出部 3 2 は、 燃焼排ガスが導入されている間は閉 口 されて お り 、 粉塵払い落と し時には、 開 口 されるよ う になっ ている。 また 粉塵払い落と し時には、 粉塵排出経路 3 6 には、 搬送用のガス (空 気) が排出方向に向けて導入されるよ う になっている。
このため、 粉塵払い落と し時に粉塵排出部 3 2 が開 口 される と、 ハウ ジン グ 1 6 内の雰囲気ガスが一気に当該排出部 3 2 か ら排出 経路 3 6 側に抜けるよ う になつている。 すなわち、 ノ、ウジング 1 6 内か ら粉塵排出方向を指向する ガス流がフ ィ ルタ一 1 8 の表面近 傍に付与されやすく なつている。
さ ら に、 除塵 (装置) 手段 1 4 は、 ガス導入手段 4 0 を備えてい る。 ガス導入手段 4 0 は、 ノヽウジング 1 6 内部に外部か らガス を導 入できるガス導入装置である。 構成は特に限定しない。 ガス導入量 及びガス導入時間等を調整できる こ とが好ま しい。
ガス導入手段 4 0 は、 ハウジング 1 6 内の、 好ま し く は、 フ ィ ル 夕一 1 8 設置部位に対応して設けられてお り 、 当該部位にガス を供 給できるよ う になつている。 すなわち、 フ ィ ルター 1 8 の外側か ら ガス を供給できるよ う になつている。 なお、 フィ ルタ一 1 8 に対し ては、 その側方か らでも上方か らでも、 フ ィ ルタ一 1 8 の外方か ら ガス を導入できるよ う になっていればよい。 装置の構成上か ら は、 フ ィ ルタ一 1 8 の側方か ら ガス を導入でき る よ う になつ ている こ とが好ま しい。
ガス導入手段 4 0 は、 粉塵払い落と し時に作動するよ う になって お り 、 粉塵排出部 3 2 が開 口状態であっ て、 圧縮ガス噴射装置 2 4
によ る圧縮ガス の噴射と ほぼ同時期にガス を導入するよ う になつ ている。 ガスの導入は、 特に限定しないが、 開閉制御可能な開閉式 バルブの作動によってコ ン ト ロールされるよ う になっ ている。 導入 するガスは、 特に限定しないが、 好ま し く は空気である。
洗浄手段 4 4 は、 従来公知の排ガスの液洗浄装置を使用できる。 通常は、 排ガス中の有害成分を溶解可能な洗浄媒体 (水性) を利用 して有害成分を洗浄媒体に溶解させて除害し、 清浄化したガス を排 出できるよ う になつている。
かかる排ガス処理手段と しては各種利用できる。 排ガス と洗浄媒 体との接触形態は各種採用する こ とができる。 洗浄媒体の入っ た洗 浄槽に排ガスを導入する方式、 排ガスに対してシ ャ ヮー形式で洗浄 媒体を供給する方式を採用する こ と もできる。
本発明においては、 好ま し く は、 排ガス中の粉塵も除去できる手 段を用いる こ とが好ま しい。 これによ り 、 よ り 一層後段の手段ある いは工程において安定的な稼動が確保されるか らである。 かかる洗 浄集塵手段と しては、 具体的には、 洗浄集塵装置 (ス ク ラバー) が ある。 排ガス と洗浄媒体との接触形態か ら各種採用する こ とができ る。 好ま し く は、 排ガスに対してシ ャ ワー形式で洗浄媒体を供給す る方式 (ジェ ッ トスク ラバー、 スプレー塔、 口一 ト ク ロ ン、 ベンチ ユ リ スク ラバー) 、 所定の担体が充てんされたカ ラムにガス と洗浄 媒体と を導入する形式 (典型的には充てん塔) 等を採用できるが、 好ま し く は、 充てん塔である。
洗浄手段 4 4 には、 洗浄媒体と して水が使用 される こ とが好ま し い。 よ り 好ま し く は硬度 1 0 以下の軟水であ り 、 特に好ま し く は、 純水か ら硬度 0 までの範囲の水である。 かかる水であれば、 洗浄手
段 4 4 内において S i 成分を含有していても、 S i 含有析出物の生 成が回避される。 当該析出物は、 S i 成分 (典型的にはシ リ カ) と 燃焼排ガスで生成する フ ッ酸の他、 カルシウムを初め とする周期表 1 族〜 2 族の金属元素イ オンが存在しない と生成 しないか ら であ る。 かかる金属元素イ オンは、 カルシウム、 ナ ト リ ウム、 カ リ ウム 等であ り 、 典型的にはカルシウムである。 なお、 硬度は、 水 1 0 0 c m 2 中に酸化カルシウム と して l m g を含むとき 1 度とする。 また、 通常、 フ ッ酸等が燃焼排ガスに生成しているために、 洗浄 媒体は、 水酸化ナ ト リ ゥム等のアル力 リ の水溶液と と もに供給され るよ う になっている こ とが好ま しい。
次に、 このよ う な洗浄手段 4 4 によ り実施する排ガスの除害工程 について説明する。 まず、 成膜装置に供給された可燃系ガスや支燃 系ガスは、 そのまま、 ある いは、 水分が供給されて S i 〇 2 を生成 させ、 S i 0 2 を捕集する フ ィ ルターを介した後、 排ガス用配管を 通じて燃焼処理手段 4 に導入されて、 燃焼処理工程が実施される。
燃焼処理手段 4 では、 燃焼性ガスゃ火焰等による高温が供給され て、 排ガス中の可燃性ガスや支燃系ガスは燃焼される。
次に、 燃焼排ガスは、 除塵 (装置) 手段 1 4 に導入されて除塵ェ 程が実施される。 除塵 (装置) 手段 1 4 によって除塵が実施された ガスは、 従来に比して粉塵量の低い状態で洗浄手段 4 4 に導入され 洗浄工程が実施される。
除塵工程で効果的に除塵されていれば、 洗浄手段 4 4では、 除塵 を実施しな く てよい場合も あ り う る。 洗浄手段において同 じに除塵 も実施すればよ り効果的である。
洗浄工程において、 洗浄媒体と して、 純水か ら硬度 0 までの範囲
の水を用いる こ とによ り 、 洗浄工程において S i 成分が存在してい ても、 析出物の生成が有効に回避され、 メイ ンテナンス作業は回避 され安定的運転が確保される。
以下、 第 2 図に示す除塵 (装置) 手段を用いた除塵工程について 特に説明する。
まず、 除塵工程は、 集塵工程と粉塵払い落と し工程とか らなる。 燃焼排ガス導入時には、 排ガス導入部 1 9 が開 口 される と と もに 排出部 2 2 も開 口状態とされる。 一方、 粉塵排出部 3 2 においては バルブ 3 4 が閉 じ られて、 閉口状態となっ ている。
このよ う な状態で導入された燃焼排ガスは、 フ ィ ルター 1 8 の外 面か ら 内方へと通過し、 フ ィ ルター 1 8 内部、 及び ト ッ ププレナム 2 0 内部を介して、 排出部 2 2 か ら清浄化されて排出される。
ハウジング 1 6 内においては、 集塵部 3 0 の粉塵排出部 3 2 が閉 口状態なので、 微細な粒子状の粉塵 (典型的には、 0 . l 〜 l ^ m 程度のシ リ カ粒子) の多く はハウジング内で浮遊した状態が形成さ れている。
排出部 2 2 か らの排出ガスの排出圧力が一定以下、 あるいは圧力 損失が一定以上となっ た場合、 集塵工程を停止し、 除塵工程を開始 する。 除塵工程に先立って、 燃焼排ガスの導入を停止し、 導入部 1 9 及び排出部 2 2 を閉 口する。
除塵工程は、 まず、 排出バルブ 3 4 を開いて、 集塵部 3 0 の粉塵 排出部 3 2 を開 口 させる。 この とき、 粉塵排出経路 3 6 では、 粉塵 の排出方向へとガスが供給されている。 したがっ て、 ハウジング 1 6 内を下方へ向かう ガス流が形成され、 あるいはされやすく なっ て いる。 すなわち、 フ ィ ルター 1 8 の表面近傍か ら粉塵排出方向へ向
かう ガス流が付与されやすい状態が形成されている。
次いで、 圧縮ガス噴射装置のバルブ調整によ り 、 フ ィ ルター 1 8 に圧縮ガス をパルス状に供給する。 圧縮ガスのフ ィ ルタ一 1 8 への 供給と同時に、 ある いはこれよ り 少しタイ ム ラグをおいて、 ガス導 入手段 4 0 を作動させて、 フ ィ ルター 1 8 の表面に対して、 その外 方か ら外部ガス を供給する。
本来ハウ ジング 1 6 内は粉塵排出方向へ向か う ガス流が形成さ れやすく なるよ う に構成しているが、 さ ら に このガスの供給によ つ て、 よ り強力にそのよ う なガス流が形成される こ とになる。 特に、 フ ィ ルター 1 8 の表面近傍においてはそのよ う な方向性を有する 安定したガス流が形成される こ とになる。
このよ う なガス流によ り 、 ハウジング内に浮遊する微粒粉塵が集 塵部 3 0 の排出部 3 2 か ら排出されるよ う になる。 かかるガス流に よ り 、 ハウジング内の雰囲気ガスに置換され、 かつ雰囲気ガスか ら 微粒粉塵が排出される。
除塵 (装置) 手段 1 4では、 燃焼排ガス導入時には、 排出部 3 2 が閉 口状態であ り 、 ハウジング内に浮遊する微粒粉塵を排出する能 力は低く 、 浮遊粉塵は集塵工程中蓄積するが、 粉塵払い落と し工程 において、 フ ィ ル夕一 1 8 に付着した粉塵も ろ と もハウジング 1 6 内か ら排出される。 このよ う な排出形態と した こ とによ り 、 相乗的 に フ ィ ルタ 一 1 8 及び雰囲気か ら 良好に粉塵が排出 される よ う に なる。
このよ う な除塵 (装置) 手段 1 4 によれば、 効果的に燃焼排ガス か ら除塵する こ とができ。 除塵 (装置) 手段 1 4 や工程のみな らず 後段の処理手段や工程におけるメイ ンテナンス作業を軽減し、 安定
稼動を確保できるよ う になる。 特に、 微細シ リ カ粒子を排除できる ため、 除塵 (装置) 手段 1 4 における フ ィ ルターの長寿命化も達成 される と と もに、 後段の洗浄手段や工程における析出物生成を効果 的に回避させる こ とができる。
なお、 実施形態 1 の除塵 (装置) 手段又は工程において分離排出 された粉塵は、 別途、 集塵手段ない し工程によ り 、 集塵される。 集 塵は、 従来公知の方法によ って実施する こ とができる。
また、 除塵 (装置) 手段又は工程か らの清浄化ガス の圧力を検知 して、 この検知 した圧力に基づいて、 排出手段、 典型的には排出用 ブロ アの風量を調整する こ とが好ま しい。 フ ィ ル夕一の圧力損失に 応じた風量を供給 して清浄化ガス を排出する よ う にする こ と によ り 、 集塵工程の運転コス トおよび設置コス 卜 の少なく とも一方の省 力化を図る こ とができる。 また、 清浄化ガスの組成も安定化する。
(実施形態 2 )
次に、 本発明の別の実施形態について説明する。
実施形態 2 の排ガス除害装置又は工程は、 特に、 成膜装置か ら燃 焼処理手段に導入する排ガスに関連する ものである。
成膜装置内の残留ケィ 素 ( S i ) は、 成膜後に、 N F 3 等のク リ 一二ングガスが供給されて S i F 4等と される場合がある。 かかる ガスは、 そのまま排ガス と して、 あるいは排ガス系か ら除去される よ う に構成される場合もある。
実施形態 2 では、 かかるガスが排ガス と と もに排出されるか、 あ るいは系外に排出されるか否かにかかわ らず、 ク リ ーニング手段な い し は工程を備える成膜装置ない し は工程に適用できる ものであ る。
実施形態 2 の一例を第 3 図に基づいて説明する。 ク リ ーニング手 段を備える成膜装置では、 ク リ ーニング工程によって生じた S i F 4等のク リ ーニング排ガスが、 そのま まある いは系外排出手段を介 して燃焼処理手段に導入されるよ う になっている。 第 3 図に示す成 膜装置 5 2 においては、 系外排出手段 5 4 を備える形態が示されて ているが、 本形態は必ずし も当該排出手段 5 4 を備えている こ と を 要しない。
系外排出手段 5 4 は、 成膜装置 5 2 のチャ ンバ一か ら吸引 したク リ ーニング排ガスに冷却水を供給して、 S i F 4等と水と を反応さ せて S i 〇 2 さ ら にはケィ フ ッ化水素化合物を析出させて、 これら をフ ィ ルターで捕捉しょ う とする ものである。
しかしながら、 このよ う な手段 5 4 を備えていても、 完全にはこ れらの析出物は捕捉しえず、 また、 同時に生成する フ ッ酸や S i F 4 自体がそのま ま フ ィ ルターを通過する こ と もある。
なお、 かかる排出手段 5 4 を備えていなく ても、 成膜装置 5 2 か ら排出されて燃焼処理手段 6 4 に至る間に、 排ガスが冷却されて水 蒸気が液化する こ とによ り 、 同様の析出物がフ ッ酸が生成する こ と あある。
実施形態 2 では、 第 3 図に示すよ う に、 成膜装置 5 2 か ら燃焼処 理手段 6 4 に至る配管 5 5 内を、 析出する可能性のある析出物が析 出 しない温度に維持する手段 5 6 を備えている。 こ こ で析出する可 能性のある析出物とは、 排ガスの種類等か ら 当該成膜系において予 測される析出物を意味する。
当該手段 5 6 は、 配管を積極的に加温する手段であってもよい し また排ガス の温度を保温する こ と によ り 一定温度を維持する手段
であってもよい。 ある いはこれ らの双方であっ てもよい。
加温手段と しては、 配管 5 5 内に加温したガス を供給する手段や 配管 5 5 の外部あるいは内部に設けられる加温手段を例示できる。 第 3 図に示す形態においては、 配管 5 5 内に加温したガス を供給す る手段 5 6 と配管 5 5 の周囲に備え られた加温手段 5 7 と を示す。 配管 5 5 内に加温ガス を供給する手段 5 6 には、 ガスは不活性ガ スである必要があ り 、 典型的には窒素ガス を用 いる。 また、 外部加 温手段 5 7 と しては、 加熱源のみでもよ く 、 また、 加熱源と保温部 材との双方を兼ね備えていてもよい。 加熱源や保温部材は特に限定 しないで使用できる。
また、 排出されたガスの温度の保温手段を採用する場合における 保温部材も特に限定しないで各種使用できる。
これ ら の加温手段な い し は保温手段によ っ て配管 5 5 内を維持 する温度は、 予測される析出物の析出を回避するのに有効な温度で ある。
予測される析出物は、 排ガス成分や、 ク リ ーニングガス によって も異なるが、 S i 膜生成において発生する S i 成分含有排ガスの場 合には、 典型的にはゲイ フ ッ化化合物である。 特に、 可燃系ガス と してシラ ン、 ア ンモニアが使用 され、 支燃系ガス と して N F 3 のフ ッ素系ガスが使用される場合には、 ケィ フ ッ化ア ンモニゥム ( ( N H 4 ) 2 S i F 6 ) が予測される。
ゲイ フ ッ化アンモニゥムの析出 (昇華) 温度は、 1 3 7 T:である ため、 これを超える温度に配管 5 5 内を維持する こ と によ り 、 本化 合物の析出を回避できる。 好ま し く は、 1 5 0 で以上とする。
なお、 成膜装置 5 4 か ら燃焼処理手段 6 4 に至る配管 5 5 は、 好
ま し く は、 その全体が温度維持手段に よ り 温度維持さ れて い る こ と が好 ま し い。 特 に、 成膜装置か ら排出 さ れる部位及びその近傍の配 管部位は、 急激に排ガス温度が低下する 部位であ る ので、 当該部位 を含めて温度維持する こ と が好 ま し い。
実施形態 2 の排ガス 除害装置又は工程 に よれば、 成膜装置 5 4 か ら 燃焼処理手段 6 4 に至 る 配管 に温度維持手段 を備 えて い る た め に、 当該配管部位で析出物の析出が抑制 さ れてお り 、 メ イ ンテナ ン ス作業が軽減さ れ、 ま た、 危険が洗浄剤の使用 も 回避され安全性が 向上さ れて い る 。
さ ら に、 燃焼処理手段な い し工程の後段に備え ら れる除塵 (装置) 手段ない し は工程にお ける 、 除塵除去の負担を軽減できる。
なお、 実施形態 2 では、 特に、 成膜手段 5 4 か ら燃焼処理手段 6 4 と の間の配管、 な い し は燃焼処理工程に供給さ れる排ガス につ い て説明 したが、 本形態は、 第 1 の実施形態で包含 さ れる各種形態の 装置 2 や工程 に も 当然に適用する こ とができ る も のである 。 特に、 バグフ ィ ルタ ーの除塵手段や除塵装置、 なかで も 、 ガス導入手段 4 0 に よ る粉塵払 い落 と し 工程 を 実施で き る バ グ フ ィ ル夕 一 を 除塵 装置や除塵手段 と して用 い る場合には、 成膜装置 5 4 に系外排出手 段を備えて いな く て も 、 燃焼処理手段に至る までに析出が有効に防 止さ れ、 さ ら に除塵 (装置) 手段によ り 効果的 に除塵 される よ う に なる 。
(実施形態 3 )
次 に、 本発明の実施形態 3 につ いて説明する 。
実施形態 3 では、 特に、 除塵手段な い し は工程にお いて、 少な く と も m台 ( m は 3 以上の整数であ る) の除塵手段 を備える よ う に し
それぞれの除塵手段は、 少なく と も 1 台の除塵手段で粉塵払い落と し工程を実施し、 最大で ( m— 1 ) 台の除塵手段で集塵工程を実施 するよ う に切替使用するよ う に構成されている。 なお、 mは、 好ま し く は 6 台以下であ り よ り好ま し く は 3 台である。
実施形態 3 の一例について、 第 4 図を参照して説明する。
第 4 図には、 除塵手段 7 2 と して 3 台の除塵手段 7 4 、 7 6 及び 7 8 を備える構成が示されている。
実施形態 3 においては、 除塵手段 7 4 、 7 6 及び 7 8 は、 公知の 除塵装置をそれぞれ使用する こ とができるが、 好ま し く は、 全ての 除塵手段は、 バグフ ィ ルター形式であ り 、 よ り好ま し く は、 粉塵払 い落と し手段がパルスエアー方式のバグフィ ルタ一である、 さ ら に 好ま し く は、 フィ ルタ一に対して圧縮ガスを供給する と同時に、 フ ィ ルターの外部に対して、 フ ィ ル夕一表面近傍か ら粉塵排出側を指 向するガス流を形成可能なバグフ ィ ルターである。 本形態において 適用する最も好ま しい形態は、 実施形態 1 において明示される形態 である。
少な く と も 3 台の除塵手段 7 4 、 7 6 及び 7 8 は、 燃焼排ガスの 供給経路に対して並列に配列されている。 そ して、 燃焼処理手段に 連結される燃焼排ガスの供給経路は各除塵手段 7 4 、 7 6 及び 7 8 に対応して分岐され、 分岐された配管には、 燃焼排ガスの供給量な い しは供給の有無を調節するバルブ 8 4 、 8 6 及び 8 8 が備え られ ている。 さ ら に、 除塵手段 7 4 、 7 6 及び 7 8 か ら清浄化されたガ スの排出用配管がそれぞれ備え られてお り 、 排出を調節するバルブ 9 4 、 9 6 及び 9 8 が備え られてレゝる。
各除塵手段 7 4 、 7 6 及び 7 8 は、 いずれか 1 台が粉塵払い落と
し工程ない しはメイ ンテナンス を実施していても、 残 り の 2 台ある いは 1 台で必要除塵能力が確保できるよ う になっている。
備え られる m台の各除塵手段は、 それぞれが同 じ除塵能力、 すな わち、 同 じろ過面積を有している こ とが好ま しい。 本形態において は、 各除塵手段 7 4 、 7 6 及び 7 8 は、 それぞれが同 じ除塵能力、 すなわち、 同 じろ過面積を有するよ う に設計されている。
同時に、 最大で (m— 1 ) 台で (好ま し く は (m— 1 ) 台で) 必 要な除塵能力、 すなわち、 必要な全ろ過面積を確保できるよう に設 計されている こ とが好ま しい。 したがっ て、 本形態においては、 各 除塵手段は、 必要な除塵能力 (ろ過面積) を 1 とする と、 それぞれ 0 . 5 の除塵能力 (ろ過面積) を備え、 全体と して 1 . 5 の除塵能 力 (ろ過面積) を備えるよ う になつている。 すなわち、 2 台 (m = 3 の ときの (m— l ) である) で必要な除塵能力を備えている。 次に、 このよ う に構成した除塵 (装置) 手段 3 2 を使用 して実施 する燃焼排ガスの除塵工程について説明する。
第 3 図では、 燃焼処理手段か ら導入される燃焼排ガスは、 除塵手 段 7 6 、 7 8 に導入されて除塵工程が実施される。 このためバルブ 8 4 、 9 4 は閉状態であ り 、 バルブ 8 6 、 8 8 、 9 6 及び 9 8 が開 状態となっ ている。
この場合、 除塵手段 7 6 、 7 8 は、 それぞれあるいは協働して所 要の除塵能力が備え られるため、 適切な除塵工程が実施される。 い ずれか一方の除塵 (装置) 手段で必要な除塵能力を備えている場合 には、 1 台の稼動でもよい。
一方、 除塵 (装置) 手段 7 4 の使用は、 必要な除塵能力を超えて いるため、 必要に応じて、 当該除塵 (装置) 手段 7 4 においては粉
塵払い落と し工程やメイ ンテナンスを実施できる。
さ ら に、 除塵 (装置) 手段 7 6 及び 7 8 のいずれかが所定の圧力 損失を超えるなどの稼働の停止を要する事態が発生した ら、 その除 塵手段への燃焼排ガスの導入を停止し、 粉塵払い落と し工程ない し はメイ ンテナンスを実施し、 除塵 (装置) 手段 7 4 への燃焼排ガス の導入を開始 して、 除塵工程を実施するよ う にする。
このよ う に、 除塵手段を複数備え、 その一部において必要な除塵 能力を備えるよ う にする と、 残部の除塵手段を、 粉塵払い落と しェ 程等に使用する こ とによ り 、 従来、 除塵手段の圧力損失の許容範囲 まで運転を継続し、 粉塵払い落と し工程やメイ ンテナンス にかかる 時間をできるだけ少な く するよ う に しな く ても、 必要に応じて容易 に粉塵払い落と し工程やメイ ンテナンス を実施できる。 このため、 常に圧力損失が低い状態で安定運転が可能とな り 、 さ らには、 安定 した除塵が達成され、 安定した組成の清浄化ガス を排出できるよ う になっ ている。
特に、 実施形態 3 においては、 全除塵手段 m台を全て同 じ除塵能 力 と し、 ( m — 1 ) 台で必要除塵能力を備えるよ う にしたために、 全体 と して最小限の全除塵能力で効率的な除塵工程の実施が可能 となっ ている。 すなわち、 少な く と も 1 台の除塵手段で粉塵払い落 と し工程を実施し、 最大で ( m — 1 ) 台の除塵手段で集塵工程を実 施するよ う に切 り替え使用する こ とによ り 、 圧力損失を低く 維持し つつ、 効率的かつ良好な除塵工程を実施する こ とができる。
なお、 当然のこ とではあるが、 必要に応じて、 除塵能力 を超えて 存在する除塵手段を用 いて他の除塵手段 と 同時に除塵工程を実施 する こ と もできる。
実施形態 3 では、 特に、 除塵手段ない しは工程について説明 した が、 実施形態 3 の除塵手段ない しは工程は、 実施形態 1 又は実施形 態 2 に包含される各種態様に適用する こ とができる。
特に、 実施形態 2 で説明 した、 除塵手段か ら排出される清浄化ガ スの圧力 に対応 して風量を変化可能な排出用 ブロ ア を備え る こ と によ り 、 最適な圧力状態での除塵工程、 特に、 集塵工程を省コス ト で実施する こ とができる。
以上、 各種実施形態について説明 したが、 本発明はこれらの実施 形態に限定される こ となく 、 請求の範囲に記載した範囲内の態様を 包含する ものである。 また、 請求の範囲内において包含される態様 における各手段や工程は、 上記実施形態において具体的に説明され る態様を包含する ものである。 産業上の利用可能性
本発明によれば、 半導体あるいは液晶モジュール等の製造装置に おいて発生する排ガスの除害工程において、 メイ ンテナンス作業を 軽減し、 あるいはその作業の安全性を向上させる こ とができるので その工業的価値は大きい。
Claims
1 . S i 成分を含有する排ガスの除害方法であって、
排ガスの燃焼処理工程と、
燃焼処理によ っ て生成 した燃焼排ガスか ら S i 含有粉塵を除塵 する除塵工程と、
除塵した燃焼排ガス を水性洗浄する洗浄工程、
とを備える こ と を特徴とする排ガス除害方法。
2 . 請求の範囲第 1 項において、 前記除塵工程での除塵手段と し てバグフ ィ ルタ一を用 いる こ と を特徴とする排ガス除害方法。
3 . 請求の範囲第 2 項において、 前記除塵手段はその除塵経路に フ ィ ルターを有し、 前記除塵手段の粉塵払い落と し工程において、 前記フ ィ ルターに対して圧縮ガスを供給する と同時に、 前記フ ィ ル ターの外部に対して、 前記フ ィ ルター表面近傍か ら粉塵排出側を指 向するガス流を付与する こ と を特徴とする排ガス除害方法。
4 . 請求の範囲第 2 項又は第 3 項において、 前記除塵工程には、 少な く と も m台 (mは 3 以上の整数である) の除塵手段を備えるよ う に し、 それぞれの除塵手段は、 少な く と も 1 台の除塵 (装置) 手 段で粉塵払い落と し工程を実施し、 最大で (m— 1 ) 台の除塵手段 で集塵工程を実施する よ う に切替使用する こ と を特徴とする排ガ ス除害方法。
5 . 請求の範囲第 1 項か ら第 4項までのいずれかにおいて、 前記 除塵工程で除塵されたガス を、 当該ガスの排出圧力に応じた風量で 排出する こ と を特徴とする排ガス除害方法。
6 . 請求の範囲第 1 項か ら第 5 項までのいずれかにおいて、 前記
洗浄工程で洗浄用に導入される水は、 純水か ら硬度 0 までの範囲の 水を用いる こ と を特徴とする排ガス除害方法。
7 . 請求の範囲第 1 項か ら第 6 項までのいずれかにおいて、 前記 燃焼処理工程に導入される前記排ガスは、 前記燃焼処理工程よ り も 前の段階で析出する可能性のあ る析出物が析出 しな い温度に維持 されている こ と を特徴とする排ガス除害方法。
8 . S i 成分を含有する排ガスの除害方法であって、
排ガスの燃焼処理工程と、
燃焼処理によ っ て生成 した燃焼排ガスか ら S i 含有粉塵を除塵 する除塵工程と を備え、
前記燃焼処理工程に導入される前記排ガスは、 前記燃焼処理工程 よ り も前の段階で析出する可能性のあ る析出物が析出 し ない温度 に維持されている こ とを特徴とする排ガス除害方法。
9 . S i 成分を含有する排ガス除害装置であって、
排ガスの燃焼処理手段と、
燃焼処理によ っ て生成 した燃焼排ガスか ら S 1 含有粉塵を除塵 する除塵手段と、
除塵した燃焼排ガスを水性洗浄する手段、
とを備える排ガス除害装置。
1 0 . 請求の範囲第 9 項において、 除塵手段と してバグフ ィ ル夕 一を用いる こ と を特徴とする排ガス除害装置。
1 1 . 請求の範囲第 1 0 項において、 前記除塵手段はその除塵経 路にフ ィ ルターを備え、 前記除塵手段の粉塵払い落と し手段と して 前記フ ィ ル夕一に対して圧縮ガス を供給する と同時に、 前記フ ィ ル ターの外部に対 して、 前記フ ィ ルター表面近傍か ら粉塵排出側を指
向する ガス流を付与する ガス導入手段を備える こ と を特徴とする 排ガス除害装置。
1 2 . 請求の範囲第 1 0 項又は第 1 1 項において、 前記除塵手段 は、 少なく と も m台 (mは 3 以上の整数である。 ) の除塵手段を備 え られてお り 、 それぞれの除塵手段は、 少なく と も 1 台の除塵手段 で粉塵払い落と し工程を実施し、 最大で (m— 1 ) 台の除塵手段で 集塵工程を実施する よ う に切替可能に設け ら れている こ と を特徴 とする排ガス除害装置。
1 3 . 請求の範囲第 9 項か ら第 1 2 項までのいずれかにおいて、 前記洗浄手段で洗浄用に導入される水は、 純水か ら硬度 0 までの範 囲の水を用 いる こ と を特徴とする排ガス除害装置。
1 4 . 請求の範囲第 9 項か ら第 1 3 項までのいずれかにおいて、 前記燃焼処理手段に導入される前記排ガスを、 前記燃焼処理手段よ り も前の段階で析出する可能性のあ る析出物が析出 しない温度に 維持する手段を備える こ と を特徴とする排ガス除害装置。
1 5 . 請求の範囲第 9 項か ら第 1 4 項までのいずれかにおいて、 前記除塵手段か ら排出さ れる ガス の圧力 に応 じて風量を変量可能 な排気手段を備える こ と を特徴とする排ガス除害装置。
1 6 . S i 成分を含有する排ガス除害装置であっ て、
排ガスの燃焼処理手段と、
燃焼処理によ っ て生成 した燃焼排ガスか ら S i 含有粉塵を除塵 する除塵手段と を備え、
前記燃焼処理手段に導入される前記排ガスを、 前記燃焼処理手段 よ り も前の段階で析出する可能性のあ る析出物が析出 しない温度 に維持する手段を備える こ とを特徴とする排ガス除害装置。
1 7 . S i 含有粉塵用の除塵装置であっ て、 前記除塵装置はバグ フ ィ ル夕一か ら成 り 、 さ ら に前記バグフ ィ ルターの一構成部にフ ィ ル夕一を備え、 前記フ ィ ルターの粉塵払い落と し手段と して、 前記 フ ィ ル夕一に対して圧縮ガスを供給する と同時に、 前記フ ィ ルター の外部に対して、 前記フィ ルタ一表面近傍か ら粉塵排出側を指向す るガス流を付与する ガス導入手段を備える こ と を特徴とする除塵 装置。
1 8 . 請求の範囲第 1 7 項において、 前記除塵装置の粉塵排出口 は、 開閉式バルブを備えてお り 、 前記フ ィ ル夕一への粉塵集塵時に おいては閉口 されてお り 、
前記圧縮ガス及びガス流が付与さ れて粉塵払い落と し時におい ては開 口 されるよ う になっている こ と を特徴とする除塵装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020047000046A KR100821414B1 (ko) | 2001-07-03 | 2002-07-03 | 배기 가스 전처리 방법 및 배기 가스 전처리 장치와그것에 사용되는 제진 장치 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001202478A JP4772223B2 (ja) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 排ガス除害装置及び方法 |
JP2001-202478 | 2001-07-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2003004133A1 true WO2003004133A1 (fr) | 2003-01-16 |
Family
ID=19039277
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2002/006726 WO2003004133A1 (fr) | 2001-07-03 | 2002-07-03 | Procede et dispositif de pretraitement de gaz d'echappement et dispositif de depoussierage associe |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4772223B2 (ja) |
KR (1) | KR100821414B1 (ja) |
CN (1) | CN1283343C (ja) |
TW (1) | TW531436B (ja) |
WO (1) | WO2003004133A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103386234A (zh) * | 2013-07-11 | 2013-11-13 | 江西稀有稀土金属钨业集团有限公司 | 一种除尘清洁小车定位装置及其定位方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4583880B2 (ja) * | 2004-11-01 | 2010-11-17 | パナソニック株式会社 | 排ガスの処理方法および処理装置 |
JPWO2009125457A1 (ja) * | 2008-04-11 | 2011-07-28 | カンケンテクノ株式会社 | シラン系ガス及びフッ素系ガス含有排ガスの処理方法及び該方法を用いた排ガス処理装置 |
JP5554482B2 (ja) * | 2008-09-08 | 2014-07-23 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理方法 |
CN103727548B (zh) * | 2013-12-14 | 2016-06-08 | 蚌埠玻璃工业设计研究院 | 一种apcvd在线低辐射镀膜废气处理装置 |
JP6552206B2 (ja) * | 2015-02-02 | 2019-07-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 排気管無害化方法及び成膜装置 |
KR200484882Y1 (ko) | 2016-02-03 | 2017-11-02 | 한봉숙 | 합성수지 시트 부착형 전등커버 |
CN105910118A (zh) * | 2016-06-12 | 2016-08-31 | 福建南方路面机械有限公司 | 沥青热再生烟气处理系统及处理方法 |
CN108816044A (zh) * | 2018-07-12 | 2018-11-16 | 庄五 | 一种尾气治理环保设备 |
CN108837633A (zh) * | 2018-08-31 | 2018-11-20 | 江苏久朗高科技股份有限公司 | 一种在线玻璃镀膜尾气膜法高温处理系统及工艺 |
JP7156605B2 (ja) * | 2019-01-25 | 2022-10-19 | 株式会社東芝 | 処理装置及び処理方法 |
CN113446609A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-09-28 | 北京京仪自动化装备技术股份有限公司 | 用于处理半导体制程中产生的清洁气体的系统及方法、装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08323138A (ja) * | 1995-05-30 | 1996-12-10 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置 |
US5891404A (en) * | 1995-10-16 | 1999-04-06 | Teisan Kabushiki Kaisha | Exhaust gas treatment unit |
US5895521A (en) * | 1996-06-21 | 1999-04-20 | Japan Pionics Co., Ltd. | Dust removing apparatus and dust removing method |
JP2000160344A (ja) * | 1998-11-29 | 2000-06-13 | Hoya Corp | Cvd装置、cvd装置内の有害物質除去装置及び除去方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1066816A (ja) * | 1996-06-21 | 1998-03-10 | Japan Pionics Co Ltd | ダストの除去装置及び除去方法 |
JPH1024207A (ja) * | 1996-07-11 | 1998-01-27 | Seiko Epson Corp | 半導体用ガス除害装置 |
JPH1163368A (ja) * | 1997-08-14 | 1999-03-05 | Nippon Sanso Kk | 配管内の粉体付着防止構造及び粉体処理装置 |
-
2001
- 2001-07-03 JP JP2001202478A patent/JP4772223B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-07-03 TW TW091114749A patent/TW531436B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-07-03 CN CNB028134168A patent/CN1283343C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-07-03 KR KR1020047000046A patent/KR100821414B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-07-03 WO PCT/JP2002/006726 patent/WO2003004133A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08323138A (ja) * | 1995-05-30 | 1996-12-10 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置 |
US5891404A (en) * | 1995-10-16 | 1999-04-06 | Teisan Kabushiki Kaisha | Exhaust gas treatment unit |
US5895521A (en) * | 1996-06-21 | 1999-04-20 | Japan Pionics Co., Ltd. | Dust removing apparatus and dust removing method |
JP2000160344A (ja) * | 1998-11-29 | 2000-06-13 | Hoya Corp | Cvd装置、cvd装置内の有害物質除去装置及び除去方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103386234A (zh) * | 2013-07-11 | 2013-11-13 | 江西稀有稀土金属钨业集团有限公司 | 一种除尘清洁小车定位装置及其定位方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1582195A (zh) | 2005-02-16 |
KR100821414B1 (ko) | 2008-04-10 |
JP4772223B2 (ja) | 2011-09-14 |
TW531436B (en) | 2003-05-11 |
CN1283343C (zh) | 2006-11-08 |
KR20040013096A (ko) | 2004-02-11 |
JP2003021315A (ja) | 2003-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3280173B2 (ja) | 排ガス処理装置 | |
WO2003004133A1 (fr) | Procede et dispositif de pretraitement de gaz d'echappement et dispositif de depoussierage associe | |
JP4038149B2 (ja) | 処理排ガス中の燃焼可能なダストの自然発火を回避する方法および装置、および前記方法により得られるシリコンウェーハ | |
WO2010026708A1 (ja) | 排ガス処理方法および処理装置 | |
JP5940482B2 (ja) | 水スクラバ及び排ガスの処理装置 | |
KR102023950B1 (ko) | 폐가스 처리 장치 | |
US6174349B1 (en) | Continuous effluent gas scrubber system and method | |
JP3020948B1 (ja) | 半導体製造中に生じるガスを処理するための吸着型ガススクラバ― | |
KR20040076950A (ko) | 플라즈마방전집진기 | |
EP1441043A2 (en) | Supply of gas to semiconductor process chamber | |
JP4491696B2 (ja) | 排気ガス処理装置 | |
JP4583880B2 (ja) | 排ガスの処理方法および処理装置 | |
CN1709556B (zh) | 蓄热式移动颗粒床气体增温净化装置 | |
JP2004349442A (ja) | 排ガスの除害方法及び排ガスの除害装置 | |
JP4228870B2 (ja) | 触媒式pfc分解処理方法及び装置 | |
JP4694650B1 (ja) | 脱臭処理装置及び脱臭処理方法 | |
JP2000068212A (ja) | ガス循環機構を有する半導体製造方法及び装置 | |
KR101642866B1 (ko) | 이중관으로 된 흡착 스크러버용 카트리지 | |
JP5940885B2 (ja) | 排ガス処理装置 | |
KR20070105615A (ko) | 반도체 제조설비의 스크러버장치 | |
KR100303149B1 (ko) | 반도체 제조용 건식 가스 스크러버 | |
JPH06126114A (ja) | プレコート式バグフィルタ装置における薬剤供給装置 | |
JP2007268465A (ja) | ろ過式集塵器の制御装置および制御方法 | |
KR20000051830A (ko) | 반도체 장비의 파우더 포집장치 | |
KR100267170B1 (ko) | 파우더 캐처 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
AK | Designated states |
Kind code of ref document: A1 Designated state(s): CN KR SG |
|
DFPE | Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101) | ||
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 20028134168 Country of ref document: CN Ref document number: 1020047000046 Country of ref document: KR |