JPH1024207A - 半導体用ガス除害装置 - Google Patents
半導体用ガス除害装置Info
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- JPH1024207A JPH1024207A JP18251996A JP18251996A JPH1024207A JP H1024207 A JPH1024207 A JP H1024207A JP 18251996 A JP18251996 A JP 18251996A JP 18251996 A JP18251996 A JP 18251996A JP H1024207 A JPH1024207 A JP H1024207A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】逆洗浄機構によりバグフィルターの逆洗浄を行
う半導体用ガス除害装置に関し、逆洗浄時にバグフィル
ターから離脱した粉塵等が前記フィルターに再付着し、
逆洗浄効率を低下させること。 【解決手段】バグフィルター４の逆洗浄時に排気手段を
停止させる機能１７ｂ、または、排気手段の前に大気取
り込み手段１５、１６を設けることによりバグフィルタ
ー１次側と２次側の圧力差を軽減する機能の付加し再付
着を低減した。また、バグフィルターの１次側に前記バ
グフィルターの１次側の粉塵等を払い落とす機能１２、
１３を付加した。さらに、これらの付加機能を併合し
た。 【効果】バグフィルターの１次側表面から離脱した粉塵
等の再付着を低減でき、粉塵等の回収効率の向上が図
れ、逆洗浄効率の高い安定した排ガスの除害が可能にな
る。
う半導体用ガス除害装置に関し、逆洗浄時にバグフィル
ターから離脱した粉塵等が前記フィルターに再付着し、
逆洗浄効率を低下させること。 【解決手段】バグフィルター４の逆洗浄時に排気手段を
停止させる機能１７ｂ、または、排気手段の前に大気取
り込み手段１５、１６を設けることによりバグフィルタ
ー１次側と２次側の圧力差を軽減する機能の付加し再付
着を低減した。また、バグフィルターの１次側に前記バ
グフィルターの１次側の粉塵等を払い落とす機能１２、
１３を付加した。さらに、これらの付加機能を併合し
た。 【効果】バグフィルターの１次側表面から離脱した粉塵
等の再付着を低減でき、粉塵等の回収効率の向上が図
れ、逆洗浄効率の高い安定した排ガスの除害が可能にな
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、バグフィルター
と、除害手段と、排気手段と、で構成され、前記バグフ
ィルターの２次側から１次側に空気を吹き付けて該フィ
ルターの逆洗浄を行う逆洗浄機構を有する半導体用ガス
除害装置に関する。
と、除害手段と、排気手段と、で構成され、前記バグフ
ィルターの２次側から１次側に空気を吹き付けて該フィ
ルターの逆洗浄を行う逆洗浄機構を有する半導体用ガス
除害装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置の排ガスを、該排ガスに
含有される特定の有害物を除去した後大気還元する半導
体用ガス除害装置において、排出ガスの排気手段と除害
手段の前段に、逆洗浄機構を有するバグフィルターを配
設した半導体用ガス除害装置が知られている。
含有される特定の有害物を除去した後大気還元する半導
体用ガス除害装置において、排出ガスの排気手段と除害
手段の前段に、逆洗浄機構を有するバグフィルターを配
設した半導体用ガス除害装置が知られている。
【０００３】図６は、従来の半導体用ガス除害装置の構
成を示す概要図である。
成を示す概要図である。
【０００４】容器３の内部には、袋状のバグフィルター
４が複数設けられ、仕切板５によりバグフィルター４の
１次側（上流）と２次側（下流）が仕切られている。６
は半導体製造装置からの排ガス流入口で、バグフィルタ
ー４の１次側で容器３に連結される。７は容器３から除
害手段１０を介して排気手段１１（例えばブロワファ
ン）に連結する排ガス排出口である。８は粉塵排出口９
を具備する粉塵回収ＢＯＸである。吹出ノズル１は、そ
の噴出空気がバグフィルター４の２次側より１次側に流
れる様に位置され、該吹出ノズル１より噴出する空気の
流路を任意に開閉する吹出用電磁弁２とともに、バグフ
ィルター４に堆積した付着物を除去するための逆洗浄機
構を形成している。
４が複数設けられ、仕切板５によりバグフィルター４の
１次側（上流）と２次側（下流）が仕切られている。６
は半導体製造装置からの排ガス流入口で、バグフィルタ
ー４の１次側で容器３に連結される。７は容器３から除
害手段１０を介して排気手段１１（例えばブロワファ
ン）に連結する排ガス排出口である。８は粉塵排出口９
を具備する粉塵回収ＢＯＸである。吹出ノズル１は、そ
の噴出空気がバグフィルター４の２次側より１次側に流
れる様に位置され、該吹出ノズル１より噴出する空気の
流路を任意に開閉する吹出用電磁弁２とともに、バグフ
ィルター４に堆積した付着物を除去するための逆洗浄機
構を形成している。
【０００５】除害時、半導体製造装置からの排ガスは排
ガス流入口６を通って、容器３内部のバグフィルター４
の１次側から２次側へと通過する。このとき、排ガス中
に含まれる粉塵等は、バグフィルター４の１次側表面に
付着、堆積する。バグフィルター４を通過した排ガス
は、排気手段１１によって引かれながら、除害手段１０
を通過することによって対象となる有害物を除去された
状態で、排気手段１１を通って、大気中に放出される。
ガス流入口６を通って、容器３内部のバグフィルター４
の１次側から２次側へと通過する。このとき、排ガス中
に含まれる粉塵等は、バグフィルター４の１次側表面に
付着、堆積する。バグフィルター４を通過した排ガス
は、排気手段１１によって引かれながら、除害手段１０
を通過することによって対象となる有害物を除去された
状態で、排気手段１１を通って、大気中に放出される。
【０００６】前記逆洗浄機構は、バグフィルター４に、
吹出用電磁弁２を任意に開閉し、吹出ノズル１で噴出空
気をバグフィルター４の２次側から１次側に吹き付ける
ことにより、バグフィルター４の１次側表面に付着した
粉塵等を離脱させ、粉塵回収ＢＯＸ８に自然落下させよ
うというものである。
吹出用電磁弁２を任意に開閉し、吹出ノズル１で噴出空
気をバグフィルター４の２次側から１次側に吹き付ける
ことにより、バグフィルター４の１次側表面に付着した
粉塵等を離脱させ、粉塵回収ＢＯＸ８に自然落下させよ
うというものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の半導体用ガス除害装置に於いては、バグフィルター
の１次側表面から離脱した粉塵等が、吹出ノズルより噴
出される空気とバグフィルタ−との摩擦によってバグフ
ィルター１次側表面に帯電する静電気、あるいは、排気
手段によって発生する１次側と２次側の圧力差（１次側
＞２次側）により、再びバグフィルター１次側表面に付
着する。この非効率的な逆洗浄は、逆洗浄の回数とそれ
に費やす時間を増長するものであり、効率的な排ガス処
理の持続を妨げ、半導体用ガス除害装置ひいては同半導
体用ガス除害装置に接続された半導体製造装置の安定稼
動を妨げると言う問題点を有していた。
来の半導体用ガス除害装置に於いては、バグフィルター
の１次側表面から離脱した粉塵等が、吹出ノズルより噴
出される空気とバグフィルタ−との摩擦によってバグフ
ィルター１次側表面に帯電する静電気、あるいは、排気
手段によって発生する１次側と２次側の圧力差（１次側
＞２次側）により、再びバグフィルター１次側表面に付
着する。この非効率的な逆洗浄は、逆洗浄の回数とそれ
に費やす時間を増長するものであり、効率的な排ガス処
理の持続を妨げ、半導体用ガス除害装置ひいては同半導
体用ガス除害装置に接続された半導体製造装置の安定稼
動を妨げると言う問題点を有していた。
【０００８】そこで本発明は、このような問題に鑑み、
逆洗浄機構の効率向上を図った半導体用ガス除害装置を
提供することを目的とする。
逆洗浄機構の効率向上を図った半導体用ガス除害装置を
提供することを目的とする。
【０００９】また、効果的な逆洗浄機構を有する半導体
用ガス除害装置を提供することを目的とする。
用ガス除害装置を提供することを目的とする。
【００１０】
（手段１）バグフィルターの逆洗浄時に排気手段を制御
するための制御機能を有することを特徴とする。
するための制御機能を有することを特徴とする。
【００１１】（手段２）除害手段と排気手段間の大気取
り込み手段と、大気の取り込み制御機能とを有すること
を特徴とする。
り込み手段と、大気の取り込み制御機能とを有すること
を特徴とする。
【００１２】（手段３）バグフィルターの１次側に、前
記バグフィルターの１次側の粉塵等を払い落とす機能を
有することを特徴とする。
記バグフィルターの１次側の粉塵等を払い落とす機能を
有することを特徴とする。
【００１３】（手段４）手段３記載のバグフィルターの
１次側に前記バグフィルターの１次側の粉塵等を払い落
とす機能と、手段１記載の逆洗浄時に排気手段を停止す
るための制御機能とを有することを特徴とする。
１次側に前記バグフィルターの１次側の粉塵等を払い落
とす機能と、手段１記載の逆洗浄時に排気手段を停止す
るための制御機能とを有することを特徴とする。
【００１４】（手段５）手段３記載のバグフィルターの
１次側に、前記バグフィルターの１次側の粉塵等を払い
落とす機能と、手段２記載の除害手段と排気手段間に、
大気取り込み手段と、大気の取り込み制御機能と、を有
することを特徴とする。
１次側に、前記バグフィルターの１次側の粉塵等を払い
落とす機能と、手段２記載の除害手段と排気手段間に、
大気取り込み手段と、大気の取り込み制御機能と、を有
することを特徴とする。
【００１５】
【作用】手段１記載の発明では、バグフィルターの逆洗
浄時に排気手段を制御する制御機能を有することによ
り、逆洗浄時に排気手段を停止させ、該排気手段によっ
て発生する１次側と２次側の圧力差（１次側＞２次側）
軽減でき、前記バグフィルターの１次側表面から離脱し
た粉塵等をバグフィルターの１次側に再付着すること無
く回収することができる。
浄時に排気手段を制御する制御機能を有することによ
り、逆洗浄時に排気手段を停止させ、該排気手段によっ
て発生する１次側と２次側の圧力差（１次側＞２次側）
軽減でき、前記バグフィルターの１次側表面から離脱し
た粉塵等をバグフィルターの１次側に再付着すること無
く回収することができる。
【００１６】手段２記載の発明では、除害手段と排気手
段間の大気取り込み手段と、大気の取り込み制御機能を
有することにより、大気取り込み手段から大気を取り込
み該排気手段によって発生する１次側と２次側の圧力差
（１次側＞２次側）軽減でき、前記バグフィルターの１
次側表面から離脱した粉塵等をバグフィルターの１次側
に再付着すること無く回収することができる。
段間の大気取り込み手段と、大気の取り込み制御機能を
有することにより、大気取り込み手段から大気を取り込
み該排気手段によって発生する１次側と２次側の圧力差
（１次側＞２次側）軽減でき、前記バグフィルターの１
次側表面から離脱した粉塵等をバグフィルターの１次側
に再付着すること無く回収することができる。
【００１７】手段３記載の発明では、バグフィルターの
１次側に、前記バグフィルターの１次側の粉塵等を払い
落とす機能を有することにより、前記バグフィルターの
２次側から１次側に空気を吹き付けて該フィルターの逆
洗浄を行う際、バグフィルターの２次側より１次側に吹
き付けると同時に、前記バグフィルターの１次側の粉塵
等を払い落とすことにより、前記バグフィルターの１次
側表面から離脱した粉塵等をバグフィルターの１次側に
再付着すること無く回収することができる。
１次側に、前記バグフィルターの１次側の粉塵等を払い
落とす機能を有することにより、前記バグフィルターの
２次側から１次側に空気を吹き付けて該フィルターの逆
洗浄を行う際、バグフィルターの２次側より１次側に吹
き付けると同時に、前記バグフィルターの１次側の粉塵
等を払い落とすことにより、前記バグフィルターの１次
側表面から離脱した粉塵等をバグフィルターの１次側に
再付着すること無く回収することができる。
【００１８】手段４、手段５記載の発明では、逆洗浄時
に排気手段によって発生する１次側と２次側の圧力差
（１次側＞２次側）軽減させ、かつ、バグフィルターの
２次側より１次側に噴出空気を吹き付けるながら前記バ
グフィルターの１次側の粉塵等を払い落とすことによ
り、前記バグフィルターの１次側表面から離脱した粉塵
等をバグフィルターの１次側に再付着すること無く回収
することができる。
に排気手段によって発生する１次側と２次側の圧力差
（１次側＞２次側）軽減させ、かつ、バグフィルターの
２次側より１次側に噴出空気を吹き付けるながら前記バ
グフィルターの１次側の粉塵等を払い落とすことによ
り、前記バグフィルターの１次側表面から離脱した粉塵
等をバグフィルターの１次側に再付着すること無く回収
することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【００２０】図１は、手段１記載の発明に係る半導体用
ガス除害装置の構成を示す概要図である。
ガス除害装置の構成を示す概要図である。
【００２１】容器３の内部には、袋状のバグフィルター
４が複数設けられ、仕切板５によりバグフィルター４の
１次側（上流）と２次側（下流）が仕切られている。２
は吹出ノズル１より噴出する空気の流路を開閉する為の
吹出用電磁弁であり、任意に開閉可能なものである。こ
こで吹出ノズル１はその噴出空気がバグフィルター４の
２次側より１次側に流れる様に位置されている。６は半
導体製造装置からの排ガス流入口で、バグフィルター４
の１次側で容器３に連結される。７は容器３から除害手
段１０を介して排気手段１１（例えばブロワファン）に
連結する排ガス排出口である。８は粉塵排出口９を具備
する粉塵回収ＢＯＸである。１７ａは吹出電磁弁２と同
期して排気手段１１の動作を制御する制御器である。
４が複数設けられ、仕切板５によりバグフィルター４の
１次側（上流）と２次側（下流）が仕切られている。２
は吹出ノズル１より噴出する空気の流路を開閉する為の
吹出用電磁弁であり、任意に開閉可能なものである。こ
こで吹出ノズル１はその噴出空気がバグフィルター４の
２次側より１次側に流れる様に位置されている。６は半
導体製造装置からの排ガス流入口で、バグフィルター４
の１次側で容器３に連結される。７は容器３から除害手
段１０を介して排気手段１１（例えばブロワファン）に
連結する排ガス排出口である。８は粉塵排出口９を具備
する粉塵回収ＢＯＸである。１７ａは吹出電磁弁２と同
期して排気手段１１の動作を制御する制御器である。
【００２２】図１に於いて排ガスの除害時の作用は図６
に示す従来のものと同様のためその説明を省略し、バグ
フィルター４の１次側に付着、堆積した粉塵等の逆洗浄
時の作用について説明する。
に示す従来のものと同様のためその説明を省略し、バグ
フィルター４の１次側に付着、堆積した粉塵等の逆洗浄
時の作用について説明する。
【００２３】逆洗浄時、図６に示す従来の技術では、吹
出用電磁弁２を開き、吹出ノズル１より、噴出空気をバ
グフィルター４の１次側より２次側に吹き付けることに
より、該バグフィルター４の１次側表面に付着した粉塵
等を離脱させ、粉塵回収ＢＯＸ８に自然落下させるもの
であった。
出用電磁弁２を開き、吹出ノズル１より、噴出空気をバ
グフィルター４の１次側より２次側に吹き付けることに
より、該バグフィルター４の１次側表面に付着した粉塵
等を離脱させ、粉塵回収ＢＯＸ８に自然落下させるもの
であった。
【００２４】しかしながら、上記従来の技術では、バグ
フィルター４の１次側表面から離脱した粉塵等が、吹出
ノズル１より噴出される空気とバグフィルタ−４との摩
擦によって、バグフィルター４の１次側表面に帯電する
静電気、あるいは、排気手段１１によって発生する１次
側と２次側の圧力差（１次側＞２次側）により、再びバ
グフィルター４の１次側表面に付着してしまった。この
非効率的な逆洗浄は、逆洗浄の回数とそれに費やす時間
を増長するものであり、効率的な排ガス処理の持続を妨
げ、半導体用ガス除害装置ひいては同半導体用ガス除害
装置に接続された半導体製造装置の安定稼動を妨げる結
果となった。
フィルター４の１次側表面から離脱した粉塵等が、吹出
ノズル１より噴出される空気とバグフィルタ−４との摩
擦によって、バグフィルター４の１次側表面に帯電する
静電気、あるいは、排気手段１１によって発生する１次
側と２次側の圧力差（１次側＞２次側）により、再びバ
グフィルター４の１次側表面に付着してしまった。この
非効率的な逆洗浄は、逆洗浄の回数とそれに費やす時間
を増長するものであり、効率的な排ガス処理の持続を妨
げ、半導体用ガス除害装置ひいては同半導体用ガス除害
装置に接続された半導体製造装置の安定稼動を妨げる結
果となった。
【００２５】そこで、本実施例の半導体用ガス除害装置
によれば、逆洗浄時、図１において吹出用電磁弁２を開
き、吹出ノズル１より噴出空気をバグフィルター４の２
次側より１次側に吹き付ける。このとき、制御器１７ａ
にて、吹出用電磁弁２を開くのと同期して排気手段１１
を停止する。該排気手段１１の停止により、該排気手段
１１によって発生する１次側と２次側の圧力差（１次側
＞２次側）は軽減され、バグフィルター４の１次側表面
から離脱した粉塵等はバグフィルター４の１次側表面に
再付着すること無く粉塵回収ＢＯＸ８に自然落下し、高
効率の逆洗浄を実現できる。逆洗浄終了後は、制御器１
７ａにて、吹出用電磁弁２を閉じるのと同期して排気手
段１１を起動する。
によれば、逆洗浄時、図１において吹出用電磁弁２を開
き、吹出ノズル１より噴出空気をバグフィルター４の２
次側より１次側に吹き付ける。このとき、制御器１７ａ
にて、吹出用電磁弁２を開くのと同期して排気手段１１
を停止する。該排気手段１１の停止により、該排気手段
１１によって発生する１次側と２次側の圧力差（１次側
＞２次側）は軽減され、バグフィルター４の１次側表面
から離脱した粉塵等はバグフィルター４の１次側表面に
再付着すること無く粉塵回収ＢＯＸ８に自然落下し、高
効率の逆洗浄を実現できる。逆洗浄終了後は、制御器１
７ａにて、吹出用電磁弁２を閉じるのと同期して排気手
段１１を起動する。
【００２６】図２は、手段２記載の発明に係る半導体用
ガス除害装置の構成を示す概要図である。排気手段１１
によって発生する１次側と２次側の圧力差（１次側＞２
次側）を軽減する機構として、図１に示す吹出電磁弁２
と同期して排気手段１１の動作を制御する制御器１７ａ
に替わり、除害手段１０と排気手段１１間の大気取込口
１５と、該大気取込口１５を開閉する大気取込電磁弁１
６と、吹出電磁弁２と同期して大気取込電磁弁１６の動
作を制御する制御器１７ｂとを付加したものである。
ガス除害装置の構成を示す概要図である。排気手段１１
によって発生する１次側と２次側の圧力差（１次側＞２
次側）を軽減する機構として、図１に示す吹出電磁弁２
と同期して排気手段１１の動作を制御する制御器１７ａ
に替わり、除害手段１０と排気手段１１間の大気取込口
１５と、該大気取込口１５を開閉する大気取込電磁弁１
６と、吹出電磁弁２と同期して大気取込電磁弁１６の動
作を制御する制御器１７ｂとを付加したものである。
【００２７】図２において排ガスの除害時の作用は図６
に示す従来のものと同様のためその説明を省略し、バグ
フィルター４の１次側に付着、堆積した粉塵等の逆洗浄
時の作用について説明する。
に示す従来のものと同様のためその説明を省略し、バグ
フィルター４の１次側に付着、堆積した粉塵等の逆洗浄
時の作用について説明する。
【００２８】本実施例の半導体用ガス除害装置によれ
ば、逆洗浄時、図２において吹出用電磁弁２を開き、吹
出ノズル１より噴出空気をバグフィルター４の２次側よ
り１次側に吹き付けると同時に、吹出用電磁弁２が開く
のと同期して、制御器１７ｂにて、大気取込電磁弁１６
を開く。大気取込電磁弁１６を開くことにより、排気手
段１１には大気取込電磁弁１６を介して、大気取込口１
５より大気が取り込まれる。その結果、排気手段１１に
よって発生する１次側と２次側の圧力差（１次側＞２次
側）は軽減され、バグフィルター４の１次側表面から離
脱した粉塵等はバグフィルター４の１次側表面に再付着
すること無く粉塵回収ＢＯＸ８に自然落下し、高効率の
逆洗浄を実現できる。また上記手段１記載の発明に係る
半導体用ガス除害装置に比し、排気手段１１の停止・起
動を無くしたことにより、該排気手段１１の負担を軽減
しながらも同様の効果を得られるといった利点がある。
ば、逆洗浄時、図２において吹出用電磁弁２を開き、吹
出ノズル１より噴出空気をバグフィルター４の２次側よ
り１次側に吹き付けると同時に、吹出用電磁弁２が開く
のと同期して、制御器１７ｂにて、大気取込電磁弁１６
を開く。大気取込電磁弁１６を開くことにより、排気手
段１１には大気取込電磁弁１６を介して、大気取込口１
５より大気が取り込まれる。その結果、排気手段１１に
よって発生する１次側と２次側の圧力差（１次側＞２次
側）は軽減され、バグフィルター４の１次側表面から離
脱した粉塵等はバグフィルター４の１次側表面に再付着
すること無く粉塵回収ＢＯＸ８に自然落下し、高効率の
逆洗浄を実現できる。また上記手段１記載の発明に係る
半導体用ガス除害装置に比し、排気手段１１の停止・起
動を無くしたことにより、該排気手段１１の負担を軽減
しながらも同様の効果を得られるといった利点がある。
【００２９】図３は、図６に示す従来の半導体用ガス除
害装置の構成に、吹出用電磁弁２と同期して開閉する払
落用電磁弁１３と、払落ノズル１２とを付加し、バグフ
ィルター４の１次側の粉塵等を払い落とす機能を有する
手段３記載の発明に係る半導体用ガス除害装置の構成を
示す概要図である。
害装置の構成に、吹出用電磁弁２と同期して開閉する払
落用電磁弁１３と、払落ノズル１２とを付加し、バグフ
ィルター４の１次側の粉塵等を払い落とす機能を有する
手段３記載の発明に係る半導体用ガス除害装置の構成を
示す概要図である。
【００３０】図３において排ガスの除害時の作用は図６
に示す従来のものと同様のためその説明を省略し、バグ
フィルター４の１次側に付着、堆積した粉塵等の逆洗浄
時の作用について説明する。
に示す従来のものと同様のためその説明を省略し、バグ
フィルター４の１次側に付着、堆積した粉塵等の逆洗浄
時の作用について説明する。
【００３１】本実施例の半導体用ガス除害装置によれ
ば、逆洗浄時、図３において吹出用電磁弁２を開き、吹
出ノズル１より噴出空気をバグフィルター４の２次側よ
り１次側に吹き付けると同時に、吹出用電磁弁２が開く
のと同期して払落用電磁弁１３を開き、払落ノズル１２
からの噴出空気をバグフィルター４の１次側表面に沿っ
て粉塵回収ＢＯＸ８方向に流すことにより、バグフィル
ター４の１次側表面から離脱した粉塵等を粉塵回収ＢＯ
Ｘ８に落下させて回収する。逆洗浄終了後は、吹出電磁
弁２と払落電磁弁１３を閉じる。
ば、逆洗浄時、図３において吹出用電磁弁２を開き、吹
出ノズル１より噴出空気をバグフィルター４の２次側よ
り１次側に吹き付けると同時に、吹出用電磁弁２が開く
のと同期して払落用電磁弁１３を開き、払落ノズル１２
からの噴出空気をバグフィルター４の１次側表面に沿っ
て粉塵回収ＢＯＸ８方向に流すことにより、バグフィル
ター４の１次側表面から離脱した粉塵等を粉塵回収ＢＯ
Ｘ８に落下させて回収する。逆洗浄終了後は、吹出電磁
弁２と払落電磁弁１３を閉じる。
【００３２】この機構を付加したことにより、バグフィ
ルター４の１次側表面から離脱した粉塵等はバグフィル
ター４の１次側に再付着すること無く、粉塵回収ＢＯＸ
８に回収され、高効率の逆洗浄が可能な半導体用ガス除
害装置を実現できる。
ルター４の１次側表面から離脱した粉塵等はバグフィル
ター４の１次側に再付着すること無く、粉塵回収ＢＯＸ
８に回収され、高効率の逆洗浄が可能な半導体用ガス除
害装置を実現できる。
【００３３】さらに高効率の逆洗浄を可能にするため
に、発生する１次側と２次側の圧力差（１次側＞２次
側）の軽減と、バグフィルターの１次側の粉塵等を払い
落とす機能を併合しても良い。以下に、その実施例を挙
げる。
に、発生する１次側と２次側の圧力差（１次側＞２次
側）の軽減と、バグフィルターの１次側の粉塵等を払い
落とす機能を併合しても良い。以下に、その実施例を挙
げる。
【００３４】図４は、手段４記載の発明に係る半導体用
ガス除害装置の構成を示す概要図であり、図３で示した
手段３記載の発明に係る半導体用ガス除害装置に、図１
で示した手段１記載の逆洗浄時に排気手段を停止するた
めの制御機能であるところの、吹出電磁弁２と払落電磁
弁１３と排気手段１１の動作を制御する制御器１７ａを
付加したものである。
ガス除害装置の構成を示す概要図であり、図３で示した
手段３記載の発明に係る半導体用ガス除害装置に、図１
で示した手段１記載の逆洗浄時に排気手段を停止するた
めの制御機能であるところの、吹出電磁弁２と払落電磁
弁１３と排気手段１１の動作を制御する制御器１７ａを
付加したものである。
【００３５】本実施例の半導体用ガス除害装置によれ
ば、逆洗浄時、図４において吹出用電磁弁２を開き、吹
出ノズル１より噴出空気をバグフィルター４の２次側よ
り１次側に吹き付けると同時に、上記吹出用電磁弁２が
開くのと同期して払落用電磁弁１３を開き、払落ノズル
１２から噴出空気をバグフィルター４の１次側表面に沿
って粉塵回収ＢＯＸ８方向に流し、バグフィルター４の
１次側表面から離脱した粉塵等を粉塵回収ＢＯＸ８に落
下させる。同時に制御器１７ａにて、吹出用電磁弁２及
び払落用電磁弁１３が開くのと同期して排気手段１１を
停止させる。このとき、排気手段１１によって発生する
１次側と２次側の圧力差（１次側＞２次側）は軽減さ
れ、かつ、払落ノズル１２からバグフィルター４の１次
側表面に沿って粉塵回収ＢＯＸ８方向に流れる噴出空気
により、バグフィルター４の１次側表面から離脱した粉
塵等のバグフィルター４の１次側表面への再付着が発生
しない高効率の逆洗浄を実現できる。逆洗浄終了後は、
制御器１７ａにて、吹出用電磁弁２及び払落用電磁弁１
３が閉じるのと同期して排気手段１１を起動させる。
ば、逆洗浄時、図４において吹出用電磁弁２を開き、吹
出ノズル１より噴出空気をバグフィルター４の２次側よ
り１次側に吹き付けると同時に、上記吹出用電磁弁２が
開くのと同期して払落用電磁弁１３を開き、払落ノズル
１２から噴出空気をバグフィルター４の１次側表面に沿
って粉塵回収ＢＯＸ８方向に流し、バグフィルター４の
１次側表面から離脱した粉塵等を粉塵回収ＢＯＸ８に落
下させる。同時に制御器１７ａにて、吹出用電磁弁２及
び払落用電磁弁１３が開くのと同期して排気手段１１を
停止させる。このとき、排気手段１１によって発生する
１次側と２次側の圧力差（１次側＞２次側）は軽減さ
れ、かつ、払落ノズル１２からバグフィルター４の１次
側表面に沿って粉塵回収ＢＯＸ８方向に流れる噴出空気
により、バグフィルター４の１次側表面から離脱した粉
塵等のバグフィルター４の１次側表面への再付着が発生
しない高効率の逆洗浄を実現できる。逆洗浄終了後は、
制御器１７ａにて、吹出用電磁弁２及び払落用電磁弁１
３が閉じるのと同期して排気手段１１を起動させる。
【００３６】図５は、手段５記載の発明に係る半導体用
ガス除害装置の構成を示す概要図であり、図３で示した
手段３記載の発明に係る半導体用ガス除害装置に、図２
で示した手段２記載の除害手段１０と排気手段１１間の
大気取り込み手段および大気の取り込み制御機能である
ところの、大気取込口１５と、該大気取込口１５を開閉
する大気取込電磁弁１６と、吹出電磁弁２と払落電磁弁
１３と同期して大気取込電磁弁１６の動作を制御する制
御器１７ｂとを付加したものである。
ガス除害装置の構成を示す概要図であり、図３で示した
手段３記載の発明に係る半導体用ガス除害装置に、図２
で示した手段２記載の除害手段１０と排気手段１１間の
大気取り込み手段および大気の取り込み制御機能である
ところの、大気取込口１５と、該大気取込口１５を開閉
する大気取込電磁弁１６と、吹出電磁弁２と払落電磁弁
１３と同期して大気取込電磁弁１６の動作を制御する制
御器１７ｂとを付加したものである。
【００３７】本実施例の排ガス除害装置によれば、逆洗
浄時、図５において吹出用電磁弁２を開き、吹出ノズル
１より噴出空気をバグフィルター４の２次側より１次側
に吹き付けると同時に、吹出用電磁弁２を開くのと同期
して払落用電磁弁１３を開き、払落ノズル１２から噴出
空気をバグフィルター４の１次側表面に沿って粉塵回収
ＢＯＸ８方向に流し、バグフィルター４の１次側表面か
ら離脱した粉塵等を粉塵回収ＢＯＸ８に落下させる。こ
のとき、制御器１７ｂにて、吹出用電磁弁２及び払落用
電磁弁１３が開くのと同期して大気取込電磁弁１６を開
く。大気取込電磁弁１６を開くことにより、排気手段１
１には大気取込電磁弁１６を介して、大気取込口１５よ
り大気が取り込まれ、その結果、排気手段１１によって
発生する１次側と２次側の圧力差（１次側＞２次側）
は、排気手段１１に負担をかけること無く軽減でき、か
つ、払落ノズル１２からバグフィルター４の１次側表面
に沿って粉塵回収ＢＯＸ８方向に流れる噴出空気によ
り、バグフィルター４の１次側表面から離脱した粉塵等
のバグフィルター４の１次側表面への再付着が発生しな
い高効率の逆洗浄を実現できる。逆洗浄終了後は、制御
器１７ｂにて、吹出用電磁弁２及び払落用電磁弁１３が
閉じるのと同期して大気取込電磁弁１６排気手段１１を
閉じる。
浄時、図５において吹出用電磁弁２を開き、吹出ノズル
１より噴出空気をバグフィルター４の２次側より１次側
に吹き付けると同時に、吹出用電磁弁２を開くのと同期
して払落用電磁弁１３を開き、払落ノズル１２から噴出
空気をバグフィルター４の１次側表面に沿って粉塵回収
ＢＯＸ８方向に流し、バグフィルター４の１次側表面か
ら離脱した粉塵等を粉塵回収ＢＯＸ８に落下させる。こ
のとき、制御器１７ｂにて、吹出用電磁弁２及び払落用
電磁弁１３が開くのと同期して大気取込電磁弁１６を開
く。大気取込電磁弁１６を開くことにより、排気手段１
１には大気取込電磁弁１６を介して、大気取込口１５よ
り大気が取り込まれ、その結果、排気手段１１によって
発生する１次側と２次側の圧力差（１次側＞２次側）
は、排気手段１１に負担をかけること無く軽減でき、か
つ、払落ノズル１２からバグフィルター４の１次側表面
に沿って粉塵回収ＢＯＸ８方向に流れる噴出空気によ
り、バグフィルター４の１次側表面から離脱した粉塵等
のバグフィルター４の１次側表面への再付着が発生しな
い高効率の逆洗浄を実現できる。逆洗浄終了後は、制御
器１７ｂにて、吹出用電磁弁２及び払落用電磁弁１３が
閉じるのと同期して大気取込電磁弁１６排気手段１１を
閉じる。
【００３８】
【発明の効果】手段１、手段２、手段３記載の発明で
は、バグフィルターの１次側表面から離脱した粉塵等を
バグフィルターの１次側に再付着すること無く回収する
ことができることから、逆洗浄効率の高い安定した排ガ
スの除害が可能になる。
は、バグフィルターの１次側表面から離脱した粉塵等を
バグフィルターの１次側に再付着すること無く回収する
ことができることから、逆洗浄効率の高い安定した排ガ
スの除害が可能になる。
【００３９】手段４、手段５記載の発明では、異なる複
数の手段の相互効果により、バグフィルターの１次側表
面から離脱した粉塵等のバグフィルターの１次側への再
付着をより低減でき、粉塵等の回収効率の向上が図れ、
さらに逆洗浄効率の高い安定した排ガスの除害が可能に
なる。
数の手段の相互効果により、バグフィルターの１次側表
面から離脱した粉塵等のバグフィルターの１次側への再
付着をより低減でき、粉塵等の回収効率の向上が図れ、
さらに逆洗浄効率の高い安定した排ガスの除害が可能に
なる。
【図１】手段１記載の発明に係る半導体用ガス除害装置
の構成を示す概要図。
の構成を示す概要図。
【図２】手段２記載の発明に係る半導体用ガス除害装置
の構成を示す概要図。
の構成を示す概要図。
【図３】手段３記載の発明に係る半導体用ガス除害装置
の構成を示す概要図。
の構成を示す概要図。
【図４】手段４記載の発明に係る半導体用ガス除害装置
の構成を示す概要図。
の構成を示す概要図。
【図５】手段５記載の発明に係る半導体用ガス除害装置
の構成を示す概要図。
の構成を示す概要図。
【図６】従来の半導体用ガス除害装置の構成を示す概要
図。
図。
１ 吹出ノズル ２ 吹出用電磁弁 ３ 容器 ４ バグフィルター ５ 仕切板 ６ 排ガス流入口 ７ 排ガス排出口 ８ 粉塵回収ＢＯＸ ９ 粉塵排出口 １０ 除害手段 １１ 排気手段 １２ 払落ノズル １３ 払落用電磁弁 １５ 大気取込口 １６ 大気取込電磁弁 １７ａ、１７ｂ 制御器
Claims (5)
- 【請求項１】バグフィルターと、除害手段と、排気手段
とで構成され、前記バグフィルターの２次側から１次側
に空気を吹き付けて該フィルターの逆洗浄を行う逆洗浄
機構を有する半導体用ガス除害装置において、逆洗浄時
に排気手段を制御するための制御機能を有することを特
徴とする半導体用ガス除害装置。 - 【請求項２】バグフィルターと、除害手段と、排気手段
とで構成され、前記バグフィルターの２次側から１次側
に空気を吹き付けて該フィルターの逆洗浄を行う逆洗浄
機構を有する半導体用ガス除害装置において、除害手段
と排気手段間の大気取り込み手段と、大気の取り込み制
御機能とを有することを特徴とする半導体用ガス除害装
置。 - 【請求項３】バグフィルターと、除害手段と、排気手段
とで構成され、前記バグフィルターの２次側から１次側
に空気を吹き付けて該フィルターの逆洗浄を行う逆洗浄
機構を有する半導体用ガス除害装置において、バグフィ
ルターの１次側に、前記バグフィルターの１次側の粉塵
等を払い落とす機能を有することを特徴とする半導体用
ガス除害装置。 - 【請求項４】請求項３記載の半導体用ガス除害装置にお
いて、請求項３記載のバグフィルターの１次側に前記バ
グフィルターの１次側の粉塵等を払い落とす機能と、請
求項１記載の逆洗浄時に排気手段を制御するための制御
機能とを有することを特徴とする半導体用ガス除害装
置。 - 【請求項５】請求項３記載の半導体用ガス除害装置にお
いて、請求項３記載のバグフィルターの１次側に、前記
バグフィルターの１次側の粉塵等を払い落とす機能と、
請求項２記載の除害手段と排気手段間に、大気取り込み
手段と、大気の取り込み制御機能と、を有することを特
徴とする半導体用ガス除害装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18251996A JPH1024207A (ja) | 1996-07-11 | 1996-07-11 | 半導体用ガス除害装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18251996A JPH1024207A (ja) | 1996-07-11 | 1996-07-11 | 半導体用ガス除害装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1024207A true JPH1024207A (ja) | 1998-01-27 |
Family
ID=16119727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18251996A Withdrawn JPH1024207A (ja) | 1996-07-11 | 1996-07-11 | 半導体用ガス除害装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1024207A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100320744B1 (ko) * | 1999-11-03 | 2002-01-19 | 김경균 | 폐가스 처리 시스템 |
| JP2003021315A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-24 | Matsushita Environment Airconditioning Eng Co Ltd | 排ガス除害装置及び方法 |
| KR102152984B1 (ko) * | 2019-11-20 | 2020-09-07 | (주)바두 | 도장 작업시 발생되는 오염물질 집진장치 |
-
1996
- 1996-07-11 JP JP18251996A patent/JPH1024207A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100320744B1 (ko) * | 1999-11-03 | 2002-01-19 | 김경균 | 폐가스 처리 시스템 |
| JP2003021315A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-24 | Matsushita Environment Airconditioning Eng Co Ltd | 排ガス除害装置及び方法 |
| KR102152984B1 (ko) * | 2019-11-20 | 2020-09-07 | (주)바두 | 도장 작업시 발생되는 오염물질 집진장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031007 |