CN1582195A - 排气净化方法、排气净化装置及其所使用的除尘装置 - Google Patents

排气净化方法、排气净化装置及其所使用的除尘装置 Download PDF

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Abstract

一种排气净化方法及排气净化装置及其所使用的除尘装置，在成膜装置等半导体或者液晶模组的制造装置中产生的排气的净化工序中，可以减少维护作业，或者使其维护作业的安全性提高。其包括：排气的燃烧处理工序；从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序；及，将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的洗涤工序。通过该方法，通过除尘工序除去含有Si的粉尘，因此，可以抑制洗涤工序中析出物的析出。因此，使工序稳定运转，并且减少维护作业。另外，不需要大量洗涤水就可以实施洗涤工序。

Description

排气净化方法、排气净化装置及其所使用的除尘装置
技术领域
本发明涉及一种排气净化方法及排气净化装置及其所使用的除尘装置，具体来讲，涉及一种有效地对在半导体或液晶显示器模组的制造工序或者成膜工序中使用的排气进行净化处理的方法及装置。
背景技术
以往，作为被使用在半导体或者液晶显示器模组的成膜工序中的气体，例如，有用于成膜的硅烷(SiH4)及氨气(NH3)、用于洗涤的氟系气体。硅烷或者氨气等用于成膜的气体(也成为可燃性气体)，例如，可以在腔内通过等离子放电在基板上形成Si或者SiN膜，用于洗涤的NF3等氟系气体(也称为助燃性气体)可以将腔内残留的Si作为SiF4向体系外排出。
含有这样的成膜气体或者用于清洗的气体的排气，以往，如图5所示，通过成膜装置的真空腔的后段所具备的燃烧式净化机构、洗涤集尘机构被按顺序进行处理。
燃烧式净化机构的前段，并在真空腔之后，多数具有从清洗排气中除去SiF4的机构。SiF4除去机构位于从成膜用腔排出气体的排出口附近，用于在排气中补充水分，从而将SiF4作为SiO2(二氧化硅)收集起来，并且通过过滤将SiF4从排气系中排除。
在排气的燃烧式净化机构中，将可燃性气体或者助燃性气体通过燃烧氧化从而产生分别如化学式[1]～[3]所示的化学反应。
......[1]
....  [2]
.......[3]
并且，在洗涤集尘机构中，该燃烧气体一般通过添加了碱的水进行中和洗涤，一边进行集尘，由此，将SiO2收集起来的同时，酸性成分(NO2或者F2)也作为废液分离。
但是，现有技术中，除所述SiO2收集机构或者其后的配管之外，在洗涤集尘机构或者其后段的配管中产生析出物，会引起配管的堵塞或者洗涤装置内的堵塞。因此，必须频繁进行洗涤集尘机构的洗涤或者配管的洗涤。另外，这些析出物因为是使用氟酸洗涤，必须留意其安全性。并且，还会因为这样的洗涤等维护作业而产生工序的运转率较低的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种在这样的成膜装置等半导体或者液晶模组的制造装置中产生的排气的净化工序中，减少维护作业或者使该作业的安全性提高的排气净化方法及排气净化装置及其所使用的除尘装置。
本发明的发明人在对上述的排气处理工序的析出物进行分析后发现，其在洗涤集尘机构以下主要是氟硅酸钙(CaSiF6)，从成膜装置到燃烧式净化机构的路径上析出的析出物主要是氟硅酸铵((NH4)SiF6)。
进一步分析这样的析出物的析出原因后发现，氟硅酸钙是由排气或者燃烧气体中含有的SiO2、燃烧时等产生的氟酸、以及洗涤水或者工序水中利用的水中含有的钙产生的。另外还发现，氟硅酸铵是由排气中的SiO2、氟酸(HF)以及氨气产生的。
另外发现，这些析出物，都是排气中含有的SiO2，因此，在洗涤集尘机构中，SiO2不能被有效收集而残留在内部，在燃烧时净化机构的前段，SiF4除去机构不能有效发挥功能，通过和水的化学反应产生的SiO2不能被完全收集而被遗漏在排气中。尤其还发现，在洗涤集尘机构中，容易残留粒子直径0.1～1μm程度的SiO2微粒，集尘率仅仅在50％程度。
出乎业者预想以外的是，虽然在排气处理工序中具有成膜装置之后的Si出去机构和燃烧式净化机构之后的洗涤集尘机构，仍旧不能有效地发挥收集Si成分(SiH4、SiF4、SiO2等)的功能。另外，本发明的发明人可以提高工程水中的Ca浓度促进析出物的生成，从而初步检测到Si成分的残留。
通过以上所述，本发明的发明人发现，所述的本发明的课题可以通过在洗涤集尘机构的前段设置除尘(装置)机构来解决。另外，还发现本发明的课题可以通过使从成膜装置到燃烧式净化机构的配管内部维持在使该部位可能析出的析出物不会析出的温度来解决，从而完成本发明。
即，本发明的主旨如下所述。
(1)一种排气净化方法，是含有Si成分的排气的净化方法，其具备：排气的燃烧处理工序；从经过燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序；及，将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的洗涤工序。
(2)如(1)所述的排气净化方法，其特征在于：在所述除尘工序中，作为所述除尘(装置)机构，使用袋式除尘器。
(3)如(2)所述的排气净化方法，其特征在于：所述除尘(装置)机构在其除尘路径上具有过滤器，在所述除尘(装置)机构的粉尘掸落工序中，对所述过滤器供给压缩气体的同时，对所述过滤器的外部，从所述过滤器表面附近指向粉尘排出侧给予气流。
(4)如(2)或(3)所述的排气净化方法，其特征在于：在所述除尘工序中，至少具有m台(m是3以上的整数)以上的除尘机构，各除尘(装置)机构可以转换为，至少由1台除尘(装置)机构实施粉尘掸落工序，并由最多(m-1)台的除尘(装置)机构实施集尘工序。
(5)如(1)～(4)中任意一项所述的排气净化方法，其特征在于：所述除尘工序中被除尘的气体，以对应该气体的排出压力的风量排出。
(6)如(1)～(5)中任意一项所述的排气净化方法，其特征在于：所述洗涤工序中导入用于洗涤的水使用纯水～硬度0的水。
(7)如(1)～(6)中任意一项所述的排气净化方法，其特征在于：被导入所述燃烧处理工序中的所述排气被维持在不会析出在所述燃烧处理工序之前的步骤中有可能析出的析出物的温度。
(8)一种排气净化方法，是含有Si成分的排气的净化方法，具备：排气的燃烧处理工序，及，从经过燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序，被导入所述燃烧处理工序中的所述排气被维持在不会析出在所述燃烧处理工序之前的步骤中有可能析出的析出物的温度。
(9)一种排气净化装置，是含有Si成分的排气的净化装置，其具备：排气的燃烧处理机构；从经过燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘机构；及，将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的洗涤机构。
(10)如(9)所述的排气净化装置，其特征在于：作为所述除尘机构，使用袋式除尘器。
(11)如(10)所述的排气净化装置，其特征在于：作为所述袋式除尘器的粉尘掸落机构，具有在所述袋式除尘器的路径上设置有过滤器的一部分，并对所述过滤器供给压缩气体的同时，对所述过滤器的外部，赋予从所述过滤器表面附近指向粉尘排出侧的气流的气体导入机构。
(12)如(10)或(11)所述的排气净化装置，其特征在于：所述除尘机构至少具有m台(m是3以上的整数)以上的除尘机构，各除尘机构被设置为，可以转换为至少由1台除尘机构实施粉尘掸落工序，并最多由(m-1)台的除尘(装置)机构实施集尘工序。
(13)如(9)～(12)中任意一项所述的排气净化装置，其特征在于：所述洗涤工序中导入的用于洗涤的水使用纯水到硬度为0的范围内的水。
(14)如(9)～(13)中任意一项所述的排气净化装置，其特征在于：其具有使被导入所述燃烧处理机构中的所述排气维持在不会析出在所述燃烧处理机构之前的步骤中有可能析出的析出物的温度的机构。
(15)如(9)～(14)中任意一项所述的排气净化装置，其特征在于：其具有可以对应从所述除尘机构排出的气体的压力而改变风量的排气机构。
(16)一种排气净化装置，是含有Si成分的排气的净化装置，其特征在于：具备排气的燃烧处理机构，及，从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘机构，其还具有使导入所述燃烧处理机构中的所述排气维持在不会析出在所述燃烧处理机构之前的步骤中有可能析出的析出物的温度的机构。
(17)一种除尘装置，是含有Si的粉尘的除尘装置，其特征在于：所述除尘机构由袋式除尘器构成，并且在所述袋式除尘器的一构成部分上具有过滤器，作为所述过滤器的粉尘掸落机构，具有对所述过滤器供给压缩气体的同时、对所述过滤器的外部赋予从所述过滤器表面附近指向粉尘排出侧的气流的气体导入机构。
(18)如(17)所述的除尘装置，其特征在于：所述除尘装置的粉尘排出口具有开关式气门，在向所述过滤器进行粉尘集尘时被关闭，并在给予所述压缩气体及气流进行掸落粉尘时打开。
根据所述(1)～(7)或者(9)～(15)的发明，为了通过除尘工序或者除尘机构除去含有Si的粉尘，抑制洗涤工序或者机构中的析出物的析出。因此，使工序或者装置稳定地运转，可以减少维护作业。另外，不需要大量的洗涤水就可以实施洗涤工序。
尤其是，通过在除尘工序或者除尘机构中使用袋式除尘器，可以有效地捕捉0.1～1μm程度的SiO2微粒。并且，通过在过滤器的粉尘掸落工序中压缩气体的供给加上所述气体流的给予，通过压缩气体可以有效地对粉尘机构内部的空气中浮游的细微的粉尘进行集尘、排出。另外，通过该气体流的给予，将除尘机构内置换成空气从而能够形成含有Si的粉末容易被捕捉的环境。并且，通过以对应该除尘后的气体的排出压力的风量排出，通常可以确保对应除尘工序或者机构中的压力损失的适当的排出量。
在洗涤工序或者机构中，通过使用用于洗涤的从纯水到硬度0的范围内的水，在洗涤工序或者机构或者其后的工序或者机构中可以抑制含有Si的析出物的产生，并且稳定地运转，维护作业被简化。
另外，根据所述(7)及(8)或者(15)及(16)的发明，通过将被导入燃烧处理工序或者机构中的排气维持在不会析出在燃烧处理工序或者机构之前的步骤中有可能析出的析出物的温度，直到燃烧处理工序或者机构的排气配管的含有Si的析出物的生成被避免，可以实施稳定的排气净化工序。
另外，通过本发明的袋式除尘器，可以有效地除去袋式除尘器的外壳内浮游的具有细微的粒子直径(尤其是0.1～1μm程度)的含有Si的粉尘。
附图说明
图1是用于说明本发明的排气净化装置及排气净化方法的图。
图2是表示本发明的袋式除尘器的图。
图3是表示本发明的第2实施例的排气净化装置的概略图。
图4是表示本发明第3实施例的排气净化装置的概略图。
图5是表示现有排气净化工序的图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施例进行详细的说明。
本发明的排气净化方法、排气净化装置及除尘装置，均适用于含有Si成分的排气。通常，这样的排气是在半导体或者液晶模组的制造工序或装置，尤其是在成膜工序或者成膜装置中产生的。从而，本发明的排气净化方法及排气净化装置及除尘装置最适于这样的工序或者装置中使用。尤其若应用于由成膜工序中的CVD、等离子CVD等气相镀膜工序或者装置中产生的排气上，则其效果非常显著。
(实施例1)
图1表示本发明实施例1的排气净化装置及排气净化工序的概略图。
净化装置2具有燃烧处理机构4、除尘(装置)机构14及洗涤机构44。而且，在图1中，安装或者设置有本净化装置的薄膜等的制造装置被附带记载，本发明中特别是指等离子CVD的成膜装置。
燃烧处理机构4可以利用现有公知的氧化燃烧装置。作为燃烧用气体从外部供给氧气，并且通过燃烧器等产生火焰从而在较高热量下使排气成分燃烧氧化。在燃烧处理机构4中，如前所述，各种可燃性气体(硅烷、氨气、磷化氢等)或者助燃性气体(三氟化氮)的排气分别产生SiO2(二氧化硅)或者NO2等对应元素的氧化物、水、或者氟气。从而，燃烧排气除了SiO2之外，还包含这些各种燃烧排气。
从燃烧处理机构4排出的燃烧排气被导入除尘(装置)机构14。除尘(装置)机构14可以使用现有公知的各种除尘装置。例如，可以使用离心分离、洗涤器、袋式除尘器等，最好使用袋式除尘器。这是因为袋式除尘器对0.1～1μm程度的微粒的除尘效果特别好。
袋式除尘器在现有技术中具有各种方式。通常，根据从过滤器的粉尘掸落机构，具有机械振动方式、逆流洗涤方式、超音波洗涤方式、逆喷方式，脉冲空气方式等各种形态，可以对应设计事项从其中采用所需的方式。最好是脉冲空气方式的袋式除尘器。
图2中，表示了本发明优选使用的袋式除尘器的一个例子。通常，脉冲空气方式的袋式除尘器具有，保持过滤器18的外壳16、在外壳的上部设置的顶部送气腔20及在外壳的下部具备的集尘部30。并且，本发明的除尘(装置)机构14具有气体导入机构40。
在外壳16内，保持有适当数量的过滤器18，过滤器18通常被形成为圆筒形等筒状。在过滤器16的内部，介由管座21与顶部送气腔20内部连通。
在外壳16的过滤器18的保持部位上，具有从外部将应处理的燃烧排气导入的导入部。导入部19在排气导入时打开，而在粉尘清扫时被关闭。
顶部送气腔20由外壳16和管座21构成，通过与过滤器16内部的连通，介由过滤器18导入洗净的气体，同时，可以在过滤器18内部导入压缩气体。即，具有将通过过滤器18除尘后的洗净的气体排出的排出部22和向过滤器18供给压缩气体的喷射装置24。
排出部22在排气被导入并实施除尘期间被打开，在掸落粉尘时被关闭。另外，压缩气体的喷射装置24从外部供给压缩气体(压缩空气)。在压缩气体的供给路径上具有脉冲阀，通过脉冲阀的开关可以瞬间对过滤器18内部供给压缩空气。并且，虽然未图示，过滤器18的内部可以与压缩空气供给相同地导入使过滤器18膨胀的导引气体。
并且，在外壳16的下部，形成口径向下逐渐缩小的圆锥形集尘部30。集尘部30的一部分，优选底部，具有粉尘排出部32，被连结到粉尘排出路径36上。
粉尘排出部32的开关可以手动或者自动控制。通常具有开关式气门34。
粉尘排出部32在燃烧排气被导入期间被关闭，在粉尘掸落时被打开。另外，在粉尘掸落时，在粉尘排出路径36中向排出方向导入传送用气体(空气)。
因此，粉尘掸落时粉尘排出部32被打开，外壳16内的空气一下子从该排出部32进入排出路径36侧。即，从外壳16内指向粉尘排出方向的气体流容易给予到过滤器18的表面附近。
并且，除尘(装置)机构14具有气体导入机构40。气体导入机构40是可以从外部向外壳16内部导入气体的气体导入装置。结构没有被特别限制。最好可以调整气体导入量及气体导入时间等。
气体导入机构40最好对应外壳16内的过滤器18设置部位设置。可以向该部位供给气体。即，可以从过滤器18的外侧供给气体。而且，对于过滤器18，无论从其侧方还是从其上方，只要可以从过滤器18的外部导入气体即可。从装置的结构而言，最好可以从过滤器18的侧方导入气体。
气体导入机构40在粉尘掸落时工作，粉尘排出部32处于开口状态，与通过压缩气体喷射装置24喷射的压缩气体大致同一时间内导入气体。气体的导入并没有特别限定，通过可以控制开关的开关式气门的工作进行控制。导入的气体并没有特别限定，不过最好是空气。
洗涤机构44可以使用现有公知的排气的液体洗涤装置。通常，可以利用能够溶解排气中的有害成分的洗涤介质(水性)使有害成分溶解在洗涤介质中从而实现净化，并排出洗净的气体。
作为这样的排气处理机构有多种。排气和洗涤介质的接触形式也可以采用各种方式。也可以采用在倒入了洗涤介质的洗涤介质槽中导入排气的方式、对排气以喷淋形式供给洗涤介质的方式。
本发明中，最好是使用还可以除去排气中的粉尘的机构。由此，可以确保在更后段的机构或者工序中的稳定的运转。作为这样的洗涤集尘机构，具体来说，有洗涤集尘装置(洗涤器)。排气和洗涤介质的接触形式可以采用各种方式。优选采用对排气通过喷淋形式供给洗涤介质的方式(喷射式洗涤器、喷雾塔、funnel-shaped filter、文丘里洗涤器)、在填充了规定的载体的柱管中导入气体和洗涤介质的形式(典型的是填充塔)等，最好是填充塔。
在洗涤机构44中，作为洗涤介质优选使用水。更优选是硬度10以下的软水，特别优选从纯水到硬度0的范围的水。如果是这样的水，即使洗涤机构44内含有Si成分，也可以避免生成含有Si的析出物。这是因为，当除Si成分(典型的是二氧化硅)和由燃烧排气生成的氟酸之外不存在以钙为代表的周期表1族～2族的金属元素离子时，不会生成该析出物。所述金属元素离子是钙、钠、钾等，典型为钙。其中所述的硬度是在100cm2水中作为氧化钙含有1mg时为1度。
另外，通常，燃烧气体中会生成氟酸等，因此，洗涤介质最好同时供给氢氧化钠等碱的水溶液。
然后，就通过这样的洗涤机构44实施的排气净化工序进行说明。首先，供给到成膜装置的可燃性气体或者助燃性气体直接、或者在供给水分生成SiO2并经过收集SiO2的过滤器后，通过排气用配管导入燃烧处理机构4，实施燃烧处理工序。
在燃烧处理机构4中，通过燃烧性气体或者火焰等供给高温，从而使排气中的可燃性气体或者助燃性气体被燃烧。
接着，燃烧排气被导入除尘(装置)机构14实行除尘工序。通过除尘(装置)机构14实施除尘后的气体以和现有相比粉尘量较低的状态导入洗涤机构44中，实施洗涤工序。
如果在除尘工序中有效除尘，在洗涤机构44中，可能有不需要实施除尘也可以的情况。在洗涤机构中同样进行除尘则更加有效。
在洗涤工序中，作为洗涤介质，通过使用从纯水到硬度0的范围内的水，即使洗涤工序中存在Si成分，也可以有效避免析出物的生成，并且可以避免维护作业并确保稳定的运转。
下面就使用图2所示的除尘(装置)机构的除尘工序进行说明。
首先，除尘工序包括集尘工序和粉尘掸落工序。
在燃烧排气导入时，排气导入部19被打开的同时，排出部22也处于打开状态。另一方面，在粉尘排出部32中，气门34被关闭从而处于关闭状态。
这样的状态下被导入的燃烧排气从过滤器18的外面通向其内部，并通过过滤器18内部及顶部送气腔20从而被洗净并从排出部22排出。
在外壳16内，集尘部30的粉尘排出部32处于开口状态，因此，细微的粒子形状的粉尘(典型的是0.1～1μm程度的SiO2粒子)多数被形成在外壳内浮游的状态。
在从排出部22排出的气体的排出压力为一定以下、或者压力损失为一定以上的情况下，停止集尘工序，开始除尘工序。在除尘工序之前，停止燃烧排气的导入，关闭导入部19及排出部22。
除尘工序，首先打开气门34，并打开集尘部30的粉尘排出部32。这时，在粉尘排出路径36中，向粉尘的排出方向供给气体。从而，在外壳16内形成朝下的气流、或者容易形成该气流。即，形成容易给予从过滤器18的表面附近向粉尘排出方向的气流的状态。
然后，通过调整压缩气体喷射装置的气门，在过滤器18中呈脉冲状供给压缩气体。在压缩气体向过滤器18供给的同时，或者在由此开始的短时间滞差内，使气体导入机构40工作，从过滤器18的外部对其表面供给外部气体。
原本外壳16内的结构是容易形成朝向粉尘排出方向的气流，并且通过该气体的供给，能够形成更加强劲的气流。尤其是，在过滤器18的表面附近能够形成具有那样的方向性的稳定气流。
通过这样的气流，外壳内浮游的微粒粉尘从集尘部30的排出部32被排出。通过所述气流，可以置换成外壳内的气氛气体，并且可以从气氛气体排出微粒粉尘。
在除尘(装置)机构14中，在燃烧排气导入时，排出部32处于关闭状态，排出外壳内浮游的微粒粉尘的能力较低，浮游粉尘蓄积在集尘工序中，而在粉尘掸落工序中，附着在过滤器18中的粉尘一同从外壳16中排出。通过这样的排出形式，可以更好地将粉尘从过滤器18及空气中排出。
通过这样的除尘(装置)机构，可以有效地从燃烧排气进行除尘。不仅是除尘(装置)机构14或者工序，还可以减少后段的处理机构或者工序中的维护作业，可以确保稳定的运转。尤其是，因为可以排除细微的氧化硅粒子，可以达成除尘(装置)机构14的过滤器的长寿命化，并且，可以有效地避免后段的洗涤机构或者工程中的析出物的生成。
而且，实施例1的除尘(装置)机构或者工序中被分离排出的粉尘，另外可以通过集尘机构或者工序被集尘。集尘可以通过现有公知的方法进行。
另外，最好检测从除尘(装置)机构或者工序排出的洗净气体的压力，并基于检测到的压力调整排出机构，典型的是调整排出用通风机的风量。通过供给对应过滤器的压力损失的风量而排出洗净气体，可以实现集尘工序的运转成本及设置成本中的至少一方的降低。另外，洗净气体的组成也稳定化。
(实施例2)
下面，就本发明的其他实施例进行说明。
实施例2的排气净化装置或者工序尤其是关于从成膜装置导入到燃烧处理机构的排气。
成膜装置内的残留硅(Si)在成膜后有供给NF3等清洗气体从而形成SiF4等的情况。这样的气体也有就这样作为排气或者从排气系除去的结构的情况。
在实施例2中，不论是否将所述气体和排气同时排出，或者被排出到体系外，都可以适用于具有清洗机构或工序的成膜装置或工序中。
基于图3对实施例2的一个例子进行说明。在具有清洗机构的成膜装置中，通过清洗工序产生的SiF4等清洗排气直接或者通过体系外排出机构被导入燃烧处理机构中。图3所示的成膜装置52中，虽然表示了具有体系外排出机构54的形式，但是，本实施例不一定具有该排出机构54。
体系外排出机构54向从成膜装置52的腔吸引的清洗排气供给冷却水，使SiF4等和水反应从而析出SiO2甚至硅氟化氢化合物，这些可以在过滤器中收集到。
但是，即使具备这样的机构54，也不能完全收集到这些析出物，另外，同时生成的氟酸或者SiF4本身也可能直接通过过滤器。
而且，即使不具有所述排出机构54，通过从成膜装置52排出一直到燃烧处理机构64期间，冷却排气而使水蒸气液化，也生成同样的析出物或氟酸。
实施例2中，如图3所示，从成膜装置52到燃烧处理机构64的配管55内，具有维持温度为不会析出有可能析出的析出物的温度的机构56。这里所谓可能析出的析出物，意思是指可以根据排气的种类在该成膜系统中预测出的析出物。
该机构56也可以对配管积极地进行加温的机构，另外也可以是通过保持排气的温度而维持一定温度的机构。或者也可以是其双方。
作为加温机构，可以列举向配管55内供给加温的气体的机构或者被设置在配管55的外部或者内部的加温机构。图3所示的形式，表示了向配管55内供给加温气体的机构56和配管55周围具有的加温机构57。
在向配管55内供给加温气体的机构56中，气体必须是惰性气体，典型的是使用氮气。另外，作为外部加温机构57，可以仅仅是加热源，另外，也可以兼有加热源和保温构件双方的机构。加热源或者保温构件的使用没有特别的限定。
另外，采用被排出的气体的温度的保温机构的情况下的保温构件也没有被特别限定，可以使用各种保温构件。
通过这些加温机构或者保温机构来维持的配管55内的温度是可以有效避免预测的析出物的析出的温度。
预测的析出物根据排气成分或者清洗气体也各不相同，在生成Si膜时产生的含有Si成分的排气的情况下，典型的是硅氟化化合物。尤其是，使用作为可燃性气体的硅烷、氨气，使用作为助燃性气体的NF3的氟系气体的情况下，预测有氟硅酸铵((NH4)2SiF6)。
氟硅酸铵的析出(升华)温度是137℃，因此，通过在配管55内保持超过该温度，可以避免该化合物的析出。最好是在150℃以上。
而且，从成膜装置54到燃烧处理机构64的配管55最好将其全体通过温度维持机构维持温度。尤其，从成膜装置排出的部位及其附近的配管部位是会迅速降低排气温度的部位，最好包含该部位进行温度维持。
根据实施例2的排气净化装置或者工序，从成膜装置54到燃烧处理机构64的配管具有温度维持机构，因此，在该配管部位可以抑制析出物的析出，减少了维护作业，另外，还可以避免危险的洗涤剂的使用，提高了安全性。
并且，可以减轻燃烧处理机构或者工序的后段所具备的除尘(装置)机构或者工序中的除尘负担。
而且，在实施例2中，特别对从成膜机构54到燃烧处理机构64之间的配管乃至燃烧处理工序中供给的排气进行说明，但是，本实施例当然也适用于实施例1中包含的各种形式的装置2或者工序。尤其，袋式除尘器的除尘机构或者除尘装置，其中尤以可以实施由气体导入机构40进行的粉尘掸落工序的袋式除尘器用作除尘装置或者除尘机构的情况下，即使成膜装置54不具有体系外排出机构，也可以有效防止直到燃烧处理机构的析出，并且通过除尘(装置)机构可以有效地除尘。
(实施例3)
下面，对本发明的实施例3进行说明。
在实施例3中，尤其在除尘机构或者工序中，具有至少m台(m是3以上的整数)的除尘机构，各除尘机构的结构是，可以转换使用至少通过1台除尘(装置)机构实施粉尘掸落工序，及通过最多(m-1)台的除尘机构实施集尘工序。而且，优选m是6台以下，更优选3台。
关于实施例3的一个例子，参照图4进行说明。
图4中表示了作为除尘机构72具有3台除尘机构74、76及78的结构。
在实施例3中，除尘机构74、76及78可以分别使用公知的除尘装置，优选全部的除尘机构都是袋式除尘器形式，更优选粉尘掸落机构是脉冲空气方式的袋式除尘器，最好是对过滤器供给压缩空气的同时、对所述过滤器的外部形成从过滤器表面附近指向粉尘排出侧的气流的袋式除尘器。本实施例中使用的最好形式是实施例1公开的形式。
至少3台的除尘机构74、76及78并排设置在燃烧排气的供给路径上。此外，被连结到燃烧处理机构上的燃烧排气的供给路径对应各除尘机构74、76及78进行分支，被分支的配管中具有调节燃烧排气的供给量或者供给的有无的气门84、86及88，并且，分别具有从除尘机构74、76及78洗净的气体的排出用配管，并具有调节排出的气门94、96及98。
各除尘机构74、76及78中，即使任意一台在实施粉尘掸落工序或者维护，剩余2台或者1台仍然可以确保必要的除尘能力。
所具备的m台各种除尘机构最好分别具有相同的除尘能力，即，具有相同的过滤面积。本实施例中，各除尘机构74、76及78被设计为分别具有相同的除尘能力，即，具有相同的过滤面积。
同时，最好被设置为通过最多(m-1)台(优选(m-1)台)确保必要的除尘能力，即，确保必要的整个过滤面积。从而，本实施例中，如果各除尘机构必需的除尘能力(过滤面积)是1，那么各自具有0.5的除尘能力(过滤面积)，全体具有1.5的除尘能力(过滤面积)。即，2台(m＝3时的m-1)就具有必要的除尘能力。
然后，就使用这样构成的除尘(装置)机构32实施的燃烧排气的除尘工序进行说明。
图3中，从燃烧处理机构导入的燃烧排气被导入除尘机构76、78实施除尘工序。因此，气门84、94处于关闭状态，气门86、88、96及98处于打开状态。
这种情况下，除尘机构76、78分别或者协同具有必要的除尘能力，因此，适当实施除尘工序。任意一方的除尘(装置)机构具备必要的除尘能力的情况下，也可以只运转1台。
另一方面，除尘(装置)机构74的使用超过必要的除尘能力，因此，必要时，可以在该除尘(装置)机构74中实施粉尘掸落工序或者维护。
并且，如果除尘(装置)机构76及78的任意一台产生超过规定的压力损失等需要停止运转的情况，停止向该除尘机构导入燃烧排气，实施粉尘掸落工序或者维护，开始向除尘(装置)手段74导入燃烧排气，实施除尘工序。
这样，具有多个除尘机构，其一部分具有必要的除尘能力时，剩余部分的除尘机构用于粉尘掸落工序等，由此，在现有除尘机构的压力损失的允许范围内可以继续运转，即使不尽量缩短粉尘掸落工序或者维护所花费的时间，必要时也可以很容易地实施粉尘掸落工序或者维护。因此，通常可以在压力损失较低的状态下稳定运转，并且，可以达成稳定的除尘，并可以排出稳定组成的洗净气体。
尤其，实施例3中，全部的除尘机构m台具有完全相同的除尘能力，(m-1)台即具备必要的除尘能力，因此，作为整体，可以通过最小限度的全部除尘能力实施有效的除尘工序。即，可以转换为通过至少1台除尘机构实施粉尘掸落工序，通过最多(m-1)台除尘机构实施集尘工序，由此，可以一面将压力损失维持较低，一面实施有效并且良好的除尘工序。
而且，当然，必要时，也可以超过除尘能力使用存在的除尘机构与其他除尘机构同时实施除尘工序。
实施例3中，特别对除尘机构或者工序进行了说明，实施例3的除尘机构或者工序可以适用于实施例1或者实施例2中包含的各种形态。
尤其，实施例2中说明的，通过具有对应从除尘机构排出的洗净气体的压力可以改变风量的排出用通风机，而可以在最佳的压力状态下实施除尘工序，尤其可以节约成本地实施除尘工序。
以上，对各种实施例进行了说明，但是本发明并不仅限于这些实施例，而是包含发明中所记载范围内的形态的所有实施例。另外，发明中包含的形态的各机构或者工序包含了所述实施例中具体说明的形态。
(发明效果)
根据本发明，半导体或者液晶模组等的制造装置中产生的排气的净化工序中，可以减少维护作业，或者使其维护作业的安全性提高，因此，其工业价值较大。

Claims (18)

1.一种排气净化方法，是含有Si成分的排气的净化方法，其特征在于：包括
排气的燃烧处理工序；
从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序；及
将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的洗涤工序。
2.如权利要求1所述的排气净化方法，其特征在于：作为所述除尘工序中的除尘机构，使用袋式除尘器。
3.如权利要求2所述的排气净化方法，其特征在于：所述除尘机构在其除尘路径上具有过滤器，在所述除尘机构的粉尘掸落工序中，对所述过滤器供给压缩气体的同时，对所述过滤器的外部，赋予从所述过滤器表面附近指向粉尘排出侧的气流。
4.如权利要求2或3所述的排气净化方法，其特征在于：在所述除尘工序中，至少具有m台的除尘机构，其m是3以上的整数，各除尘机构可以切换使用，以使由至少1台除尘机构实施粉尘掸落工序，并由最多(m-1)台的除尘机构实施集尘工序。
5.如权利要求1～4中任意一项所述的排气净化方法，其特征在于：将在所述除尘工序中进行除尘后的气体，以对应该气体的排出压力的风量排出。
6.如权利要求1～5中任意一项所述的排气净化方法，其特征在于：在所述洗涤工序中导入的用于洗涤的水使用从纯水到硬度为0的范围内的水。
7.如权利要求1～6中任意一项所述的排气净化方法，其特征在于：导入所述燃烧处理工序中的所述排气被维持在不会析出在所述燃烧处理工序之前的步骤中有可能析出的析出物的温度。
8.一种排气净化方法，是含有Si成分的排气的净化方法，其特征在于：
包括排气的燃烧处理工序、及从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序，
导入所述燃烧处理工序中的所述排气被维持在不会析出在所述燃烧处理工序之前的步骤中有可能析出的析出物的温度。
9.一种排气净化装置，是含有Si成分的排气的净化装置，其特征在于：包括
排气的燃烧处理机构、
从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘机构、及
将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的机构。
10.如权利要求9所述的排气净化装置，其特征在于：作为除尘机构，使用袋式除尘器。
11.如权利要求10所述的排气净化装置，其特征在于：所述除尘机构在其除尘路径上具有过滤器，作为所述除尘机构的粉尘掸落机构，具有对所述过滤器供给压缩气体，并且，对所述过滤器的外部，赋予从所述过滤器表面附近指向粉尘排出侧的气流的气体导入机构。
12.如权利要求10或11所述的排气净化装置，其特征在于：所述除尘机构至少具有m台的除尘机构，其m是3以上的整数，各除尘机构可以切换使用，以使由至少1台除尘机构实施粉尘掸落工序，并由最多(m-1)台的除尘机构实施集尘工序。
13.如权利要求9～12中任意一项所述的排气净化装置，其特征在于：在所述洗涤机构中导入的用于洗涤的水使用从纯水到硬度为0的范围内的水。
14.如权利要求9～13中任意一项所述的排气净化装置，其特征在于：具有，将导入所述燃烧处理机构中的所述排气维持在不会析出在所述燃烧处理机构之前的步骤中有可能析出的析出物的温度的机构。
15.如权利要求9～14中任意一项所述的排气净化装置，其特征在于：具有，对应从所述除尘机构排出的气体的压力而可以改变风量的排气机构。
16.一种排气净化装置，是含有Si成分的排气的净化装置，其特征在于：包括
排气的燃烧处理机构、
从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘机构、以及
将导入所述燃烧处理机构中的所述排气维持在不会析出在所述燃烧处理机构之前的步骤中有可能析出的析出物的温度的机构。
17.一种除尘装置，是含有Si的粉尘的除尘装置，其特征在于：
所述除尘机构由袋式除尘器构成，并且在所述袋式除尘器的一构成部具有过滤器，作为所述过滤器的粉尘掸落机构，具有对所述过滤器供给压缩气体的同时、对所述过滤器的外部赋予从所述过滤器表面附近指向粉尘排出侧的气流的气体导入机构。
18.如权利要求17所述的除尘装置，其特征在于：
所述除尘装置的粉尘排出口具有开关式气门，其在向所述过滤器进行粉尘集尘时被关闭，并在赋予所述压缩气体及气流进行粉尘掸落尘时被打开。
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