JP5554482B2 - 排ガス処理方法 - Google Patents
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Description
半導体製造装置1からは、半導体製造装置1が製膜工程にあるときには、残余の原料ガスであるSiH4を主に含む排ガスが排出され、半導体製造装置1がクリーニング工程にあるときには、残余のクリーニングガスであるNF3とクリーニングによって生成したSiF4を主に含む排ガスが排出される。
半導体製造装置1からの排ガスはブロア2により燃焼式除害装置3に送られ、複数の半導体製造装置1からの排ガスはまとめてブロア2により燃焼式除害装置3に送られる。
そして、この燃焼式除害装置3では、半導体製造装置1が製膜工程であるときの排ガス中に含まれるSiH4はSiO2とH2Oとになり、半導体製造装置1がクリーニング工程であるときの排ガス中に含まれるNF3はHFとN2になり、SiF4はSiO2とHFとになる。
集塵装置4でのSiO2の捕集の際に、固体粒子のSiO2はフィルター表面に捕集されて排ガスの流入に伴って堆積してゆく。排ガスにはHFが含まれているので、このHFの一部がSiO2と反応して、少量のSiF4が再度生成されることになる。
ガス洗浄装置6から排出される排ガスは、有害成分が規制値以下となっていることが確認されて、ブロア7を経て大気中に放散される。
このため、従来装置では、ガス洗浄装置6本体や循環ポンプを頻繁に分解清掃する必要があった。
請求項1にかかる発明は、半導体製造装置からの排ガスを燃焼式除害装置に導入し、ついでSiO 2 及びHFを含む排ガスを集塵装置に送り、さらにHF及びSiF 4 を含む排ガスを2段構成のガス洗浄装置に送り込んで処理する方法であって、
前記2段構成のガス洗浄装置のうちの第1段ガス洗浄装置で、水を洗浄液としてガス洗浄を行うことにより、SiF 4 を加水分解するとともに加水分解物であるSiO 2 をフッ酸を含有しpHが1以下となった強酸性の洗浄液に溶解して除去し、
ついで、前記2段構成のガス洗浄装置のうちの第2段ガス洗浄装置でアルカリ水溶液を洗浄液としてガス洗浄を行うことにより、HFを除去する排ガス処理方法である。
したがって、第1段目あるいは第2段目のガス洗浄装置内部や循環ポンプ内部に固形物が付着、堆積して、これらが閉塞することが少なくなり、分解清掃の回数を減らすことができる。
この例のガス処理装置にあっては、ガス洗浄装置が第1段ガス洗浄装置6Aとこれに直列に接続された第2段ガス洗浄装置6Bとの2段直列構成となっており、第1段ガス洗浄装置6Aの洗浄液が水であり、第2段ガス洗浄装置6Bの洗浄液がアルカリ水溶液である点が従来装置と異なるところである。
第2段ガス洗浄装置6Bの洗浄液には、濃度20〜30wt%の水酸化ナトリウム水溶液などの常温のアルカリ水溶液が用いられる。
洗浄液の循環流量は、導入される排ガス流量、排ガス中のHF濃度、SiF4濃度に応じて適宜決められる。
したがって、第1段あるいは第2段ガス洗浄装置6A、6b内部や循環ポンプ内部に固形物が付着、堆積して、これらが閉塞することが少なくなり、分解清掃の回数を減らすことができる。
図1に示した排ガス処理装置を用いて、半導体製造装置1からの排ガスを処理した。
半導体製造装置1が製膜工程にある場合、半導体製造装置1にSiH4を流量10リットル/分で導入して製膜操作を実施し、半導体製造装置1がクリーニング工程にある場合、半導体製造装置1にNF3を流量15リットル/分で導入してクリーニング操作を実施した。
半導体製造装置1からの排ガスを順次燃焼式除害装置3、集塵装置4に導入して処理を行い、さらに第1段ガス洗浄装置6Aから第2段ガス洗浄装置6Bに導入した。
第1段ガス洗浄装置6AではpH管理によるバッチ処理を行い、第2段ガス洗浄装置6Bでは洗浄液の使用量によるバッチ処理を行った。
その結果、第1段ガス洗浄装置6Aの分解清掃の頻度は12ヶ月に1回であった。
これに対して、図2に示した従来のガス処理装置では、ガス洗浄装置6の洗浄液として濃度 wt%の水酸化ナトリウム水溶液を使用して、同様の操作条件にてガス処理を行った。その結果、ガス洗浄装置6の分解清掃の頻度は1ヶ月に1回であった。
Claims (1)
- 半導体製造装置からの排ガスを燃焼式除害装置に導入し、ついでSiO 2 及びHFを含む排ガスを集塵装置に送り、さらにHF及びSiF 4 を含む排ガスを2段構成のガス洗浄装置に送り込んで処理する方法であって、
前記2段構成のガス洗浄装置のうちの第1段ガス洗浄装置で、水を洗浄液としてガス洗浄を行うことにより、SiF 4 を加水分解するとともに加水分解物であるSiO 2 をフッ酸を含有しpHが1以下となった強酸性の洗浄液に溶解して除去し、
ついで、前記2段構成のガス洗浄装置のうちの第2段ガス洗浄装置でアルカリ水溶液を洗浄液としてガス洗浄を行うことにより、HFを除去する排ガス処理方法。
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