WO2002023172A1 - Einrichtung für optische inspektion einer auf defekte hin zu prüfenden oberfläche eines objekts - Google Patents
Einrichtung für optische inspektion einer auf defekte hin zu prüfenden oberfläche eines objekts Download PDFInfo
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- a line-by-line, simultaneous one-line or also multi-cell is scanned using a corresponding line camera known per se.
- a line scan camera is here a part of a measuring head with a microscope lens, which is arranged between the camera and the object.
- a positioning system is used to carry out selective movements of the object and measuring head relative to one another.
- an illumination system which has at least one light-emitting semiconductor diode as the light source.
- the exit angle of the radiation from the light exit surface of the semiconductor body of the semiconductor diode is in a range less than / equal to +/- 10 °, the value of the light intensity at the limits of the exit angle being equal to half the intensity of the intensity maximum in the center of the exit beam.
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- oblique illumination can also be provided outside of the microscope by means of an illumination system according to the invention, namely at an angle of incidence which, based on the microscope, deviates from its optical axis directly onto the point on the surface of the object to be checked. As is known, this results in dark field illumination for microscope operation.
- Illumination according to the transmitted light method takes place in a manner known per se.
- the lighting intensity of the lighting system according to the invention can be controlled. In particular, regulation of the constancy of the light intensity can be provided. If several light-emitting semiconductor diodes are provided, the intensity can be achieved by regulated diode current. In particular, by switching on individual or individual groups of semiconductor diodes of the lighting system, the angle of incidence of light can be varied within the limits given by the structure of the lighting system. For example, line-by-line semiconductor diodes of a multi-cell array are switched on and off, as a result of which a change in the angle of the beam path running in this system occurs within the lighting system and can be used accordingly.
- Figure 1 shows a schematic representation of the structure of a device according to the invention.
- FIG. 2 shows the beam path projected onto a plane, starting from the illumination system according to the invention onto the surface of the object on the projection plane and further into the line camera.
- the device according to the invention is designated by 1 in FIG. It comprises 2 the microscope with its microscope optics. It can be a state of the art microscope of technology. A steel divider 3, as is known, is present in the microscope 2. 40 with a lighting system of the type of the invention is designated. With 41 to 43 further optional lighting systems (for example instead of the system 40) are designated according to the type of the invention. 5 denotes a line camera, 6 an evaluation device and 7 a positioning system of the type described here and for example according to the type of the prior art.
- the microscope 2 preferably also comprises a plurality of objectives in a turret 21 according to the type of the prior art.
- the laser-near radiation 140 emitted by the illumination system 40 enters the microscope 2 from the side and is deflected onto the surface of the object 10 in the beam splitter 3 parallel to the imaging beam path of the microscope. This corresponds to the known bright field lighting. Dark field illumination, preferably dark field illumination close to the bright field, is achieved when this radiation 140 deflected in the beam splitter 3 strikes the surface of the object 10 to be tested at an angle to the axis 100 of the microscope optics. Dark-field illumination for working with microscope 2 can also be effected with lighting systems 41 to 43, whose emitted laser beams 141 to 143 strike the surface of object 10 at an angle, as can be seen.
- the laser-near radiation of the lighting system 44 provided for transmitted light work is designated by 144.
- this radiation 144 again causes dark field illumination of the object.
- a light wavelength for example in the infrared range, must be selected for which the object is at least largely translucent.
- FIG. 2 shows the lighting system 40 provided and designed according to the invention.
- L 300 mm long
- sharp bundling in the direction of the width b of the line 240, of the light of the lighting systems 40 to 44 used according to the invention it can be achieved that the width of the light line, this dimension is important for the resolution, is smaller than .... can be measured.
- a positioning system for the camera, in particular for a used one-dimensional line scan camera, is preferably provided for a device according to the invention.
- a line camera like the one used here can e.g. be one with a one-dimensional CCD array.
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Abstract
Einrichtung (1) für optische Inspektion einer Oberfläche eines Objekts (10) mit einer Zeilenkamera (5) und mit einem der Mikroskopoptik (2) zugeordneten Beleuchtungssystem mit lasernaher Strahlung.
Description
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zeilenweise, zeitgleich einzeilig oder auch mehrzellig mittels einer entsprechenden, an sich bekannten Zeilenkamera ab- gescanned wird. Eine solche Zeilenkamera ist hier ein Anteil eines Messkopfes mit dazu einer Mikroskop-Optik, diese ange- ordnet zwischen der Kamera und dem Objekt. Ein Positionierungssystem dient zur Ausführung wahlweiser Bewegungen von Objekt und Messkopf relativ zueinander. Hinzu kommt ein besonders ausgestaltetes Beleuchtungssystem. Dieses Beleuchtungssystem ist für wahlweise Hellfeld-, Dunkelfeld- und/oder Durchlicht-Betrieb angepaßt ausgeführt und in der erfindungsgemäßen Einrichtung an jeweils vorzugebender Stelle justierbar angeordnet.
Hervorzuheben ist bei der erfindungsgemäßen Einrichtung, dass ihr Beleuchtungssystem in besonderer Weise ausgebildet ist.
Im Stand der Technik sind Beleuchtungssysteme mit, nämlich wegen der erforderlich hohen Intensität der Beleuchtung, Halogenlampen verwendet worden. Diese haben aber eine relativ kurze Lebensdauer. Sie müssen daher von Zeit zu Zeit ersetzt werden. Wegen der hohen Genauigkeitsanforderungen ist bloßes Auswechseln der Halogenlampen unzureichend, denn zwangsläufig sind damit zeitraubende Nachjustierungen erforderlich, die dementsprechend den Ablauf von Fertigungsprozessen stören. Bei der vorliegenden Erfindung ist ein Beleuchtungssystem vorgesehen, das als Lichtquelle wenigstens eine Lichtemittierende Halbleiterdiode hat. Diese ist jedoch so ausgebildet und betrieben, dass sie lasernahes Licht aussendet. Lasernahes Licht ist definitionsgemäß solches Licht, dessen spektrale Verteilung innerhalb eines engen Wellenlängenbereiches Δλ = +/- 1/20 λ liegt, mit λ gleich der Wellenlänge des Lichts. Der Austrittswinkel der Strahlung aus der Lichtaustrittsfläche des Halbleiterkörpers der Halbleiterdiode liegt in einem Bereich kleiner/gleich +/- 10°, wobei der Wert der Lichtintensität an den Grenzen des Austrittswinkels gleich der halben Intensität des Intensitätsmaximums in der Mitte des Austrittsstrahls ist. Dieses lasernahe Licht ist somit
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oder alternativ kann auch außerhalb des Mikroskops schräge Beleuchtung mittels eines erfindungsgemäßen Beleuchtungssystems vorgesehen sein, nämlich in einem, bezogen auf das Mikroskop, von dessen optischer Achse abweichenden Einstrahl- winkel direkt auf die zu prüfende Stelle der Oberfläche des Objekts. Dies ergibt bekanntermaßen eine Dunkelfeld- Beleuchtung für den Mikroskopbetrieb.
Beleuchtung gemäß dem Durchlicht-Verfahren erfolgt in wie an sich bekannter Weise.
Die Beleuchtungsintensität des erfindungsgemäßen Beleuchtungssystems kann steuerbar eingestellt werden. Insbesondere kann Regelung der Konstanz der Lichtintensität vorgesehen sein. Die Intensität kann bei vorgesehenen mehreren Licht e- mittierenden Halbleiterdioden durch geregelten Diodenstrom erreicht werden. Insbesondere läßt sich durch Einschalten einzelner oder einzelner Gruppen von Halbleiterdioden des Be- leuchtungssystems der Lichteinstrahlwinkel innerhalb der durch den Aufbau des Beleuchtungssystems gegebenen Grenzen schaltbar variieren. Es können z.B. zeilenweise Halbleiterdioden eines mehrzelligen Arrays ein- und ausgeschaltet werden, wodurch innerhalb des Beleuchtungssystems eine Änderung des Winkels des in diesem System verlaufenden Strahlenganges auf- tritt und entsprechend genutzt werden kann.
Figur 1 zeigt in Prinzipdarstellung den Aufbau einer erfindungsgemäßen Einrichtung.
Figur 2 zeigt auf eine Ebene projiziert den Strahlenverlauf, ausgehend von dem erfindungsgemäßen Beleuchtungssystem auf die Oberfläche des Objekts auf der Projektionsebene und weiter in die Zeilenkamera.
Die erfindungsgemäße Einrichtung ist in Figur 1 mit 1 bezeichnet. Sie umfaßt mit 2 bezeichnet das Mikroskop mit seiner Mikroskopoptik. Es kann dies ein Mikroskop des Standes
der Technik sein. In dem Mikroskop 2 ist ein wie bekannter Stahlteiler 3 vorhanden. Mit 40 ist ein Beleuchtungssystem der Art der Erfindung bezeichnet. Mit 41 bis 43 sind weitere fakultativ (z.B. auch anstelle des Systems 40) vorgesehene Beleuchtungssysteme nach Art der Erfindung bezeichnet. Mit 5 ist eine Zeilenkamera, mit 6 eine Auswerteeinrichtung und mit 7 ein Positioniersystem jeweils hier beschriebener Art und z.B. nach Art des Standes der Technik bezeichnet. Vorzugsweise umfaßt das Mikroskop 2 auch mehrere Objektive in einem Re- volverkopf 21 nach Art des Standes der Technik. Die vom Beleuchtungssystem 40 ausgesandte lasernahe Strahlung 140 tritt seitlich in das Mikroskop 2 ein und wird im Strahlenteiler 3 parallel zum abbildenden Strahlengang des Mikroskops auf die Oberfläche des Objekts 10 abgelenkt. Dies entspricht der be- kannten Hellfeld-Beleuchtung. Dunkelfeld-Beleuchtung, vorzugsweise hellfeldnahe Dunkelfeldbeleuchtung, wird erreicht, wenn diese im Strahlteiler 3 abgelenkte Strahlung 140 im Winkel zur Achse 100 der Optik des Mikroskops auf die zu prüfende Oberfläche des Objekts 10 auftreffen. Mit den Beleuch- tungssyste en 41 bis 43, deren emittiert lasernahe Strahlungen 141 bis 143 schräg, und zwar wie ersichtlich in verschiedenen wahlweisen Winkeln auf die Oberfläche des Objekts 10 auftreffen, kann ebenfalls Dunkelfeld-Beleuchtung für das Arbeiten mit dem Mikroskop 2 bewirkt werden. Mit 144 ist die lasernahe Strahlung des für Durchlicht-Arbeiten vorgesehenen Beleuchtungssystems 44 bezeichnet. Bei, bezogen auf die Achse 100 des Mikroskops 2 schrägem Einfall (nicht dargestellt) dieser Strahlung 144 ist wiederum Dunkelfeld-Beleuchtung des Objekts bewirkt. Für das Arbeiten mit Durchlicht ist eine solche Lichtwellenlänge, z.B. im Infrarot-Bereich, zu wählen, für die das Objekt wenigstens weitgehend lichtdurchlässig ist.
Die Figur 2 zeigt das erfindungsgemäß vorgesehene und ausges- taltete Beleuchtungssystem 40. Um eine wie für die Erfindung vorgesehene ein- bzw. parallel mehrzellige Beleuchtung der mit der Darstellungsebene zusammenfallenden Oberfläche des
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werden fakultativ mehrere nahe beieinander liegende parallele Lichtlinien auf der Oberfläche des Objekts 10 erzeugt. Eine solche Lichtlinie kann in der Praxis bis zu L = 300 mm lang sein, nämlich z.B. für Makroinspektion. Für mikroskopische Aufnahmen empfiehlt es sich, diese Länge der Lichtlinie nur auf wenige Millimeter zu bemessen. Insbesondere wegen der wenigstens Laser-nahen Eigenschaft, scharfe Bündelung in Richtung der Breite b der Zeile 240, des erfindungsgemäß verwendeten Lichtes der Beleuchtungssysteme 40 bis 44 kann erreicht werden, dass die -Breite der Lichtlinie, dieses Maß ist für die Auflösung wichtig, kleiner als .... bemessen werden kann.
Vorzugsweise ist für eine erfindungsgemäße Einrichtung ein Positioniersystem für die Kamera, insbesondere für eine ver- wendete eindimensional aufnehmende Zeilenkamera, vorgesehen.
Eine wie hier zu verwendende Zeilen-Kamera kann z.B. eine solche mit einem eindimensionalen CCD-Array sein.
Claims
1.Einrichtung (l)für optische Inspektion einer auf Defekte hin zu prüfenden Oberfläche eines Objektes (10) mit einer Ka- mera (5) mit wenigstens einer optisch bildaufnehmenden Zeile, einer Mikroskop-Optik (2), angeordnet zwischen der Kamera (5) und dem Objekt (10), einem Positionierungssystem (7) zur Positionierung des Objekts (10) und zur Ausführung wahlweiser Bewegung (17) rela- tiv zueinander von Objekt (10) und Mikroskop-Optik (2) zwecks Scannens der Oberfläche des Objekts (10) und wenigstens einem Beleuchtungssystem (40 - 44), das für vorgebbar Hellfeld-, Dunkelfeld- und/oder Durchlicht-Betrieb in der Einrichtung (1) justierbar angeordnet ist, wobei ein solche Beleuchtungssystem (40 - 44) so ausgebildet und derart justierbar angeordnet ist, dass mit diesem ein wenigstens eine Zeile umfassendes Flächenelement (L x b) auf der Oberfläche des wahlweise positionierbaren (17) Objekts (10) zu beleuchten ist und wobei das Beleuchtungssystem (40 - 44) eine Lichtquelle zur Aussendung einer Strahlung (140 - 144) mit wenigstens lasernahem Licht ist, wobei die dieses Licht erzeugende Quelle wenigstens eine in dem Beleuchtungssystem angeordnete Licht emittierende Halbleiterdiode (340) ist, wobei mehrere solcher Halbleiterdioden in einem sich wenigstens eindimensional erstreckenden Array zueinander positioniert angeordnet sind.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass ein jeweiliges Beleuchtungssystem (40 - 44) für Hellfeld-, Dunkelfeld- und/oder Durchlicht-Mikroskopbetrachtung in dazu ausgewählt angepaßtem Winkel zur optischen Achse (100) des Mikroskops (2) angeordnet ist.
3. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass die Einrichtung (1) mit mehreren unterschiedlich ausgerichteten Beleuchtungssystemen (40-44) ausgerüstet ist.
4. Einrichtung nach Anspruch 1, 2 oder 3, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass das Mikroskop (2) mehrere Objektive (21) hat, die an einem Revolverkopf angeordnet sind.
5. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass für Konstanz der Lichtintensität der Beleuchtung eine Regelung des Speisestroms des/der Beleuchtungssysteme (40-44) vorgesehen ist.
6. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass ein Positioniersystem für die Kamera (2) vorgesehen ist.
7. Verfahren zum Betrieb einer Einrichtung nach einem der An- sprüche 1 bis 6, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass für den Wechsel zwischen Hellfeld-, Dunkelfeld- und/oder Durchlicht-Betrieb das jeweilige Beleuchtungssystem (41 - 44) aktiviert wird.
8. Verfahren zum Betrieb einer Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass durch Auswahl jeweils eines der vorgesehenen Beleuch- tungssysteme (40-44) der Lichteinstrahlwinkel eingestellt wird.
9. Verfahren zum Betrieb einer Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , dass Hell- oder Dunkelfeld-Betrieb mittels Beleuchtung durch den Strahlteiler (3) im Mikroskop (2) hindurch bewirkt wird.
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121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application | ||
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |