WO2001035143A1

WO2001035143A1 - Coated optical fiber

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Publication number: WO2001035143A1
Application number: PCT/JP2000/007756
Authority: WO
Inventors: Atsushi Suzuki; Tomoyuki Hattori; Kazunori Tanaka; Toshifumi Hosoya
Original assignee: Sumitomo Electric Industries, Ltd.
Priority date: 1999-11-05
Filing date: 2000-11-02
Publication date: 2001-05-17
Also published as: KR20020059683A; US6810188B1; AU1055601A; JP4556372B2; AU777514B2; HK1048160A1; TW573141B; CN1378655A; CN1159609C; EP1227350A1; EP1227350A4

Description

明細被覆光ファイバ技術分野

本発明は被覆光ファイバ、光ファイバテープ心線及び光ファィバュッ卜に関する。背景技術

光ファイバは、少なくともコア及びクラッドを有する光ファイバ用プリフォームを線引して得られるが、線引き直後のガラス光ファイバの外周には、保護補強、可撓性付与等の目的で被覆が施される。この被覆として、ガラス光ファイバの外周に接してまず緩衝作用を有する比較的砍質（ヤング率小）の一次被覆層、また最外周には保護作用を有する硬質

(ヤング率大）の二次被覆層、という少なくとも 2層の被覆を設けることが知られている。

例えば、特開平 9 一 5 5 8 7号公報には、ガラス光ファイバと一次被覆層をなす一次被覆材との間の密着力を引抜力（被覆光ファイバを外側から固定し、ガラス光ファイバを引き抜く際に要する力）で 9 0 g/ mn！〜 1 8 0 g/ mmとすることにより、ガラス光ファイバと一次被覆材との間の密着力が適当で、しかも水中に長時間浸漬されてもガラス光ファイバと一次被覆材との界面が部分的に剝離することのない被覆光ファィバが提案されている。

前記公報記載に従い、ガラス光ファイバと一次被覆材の間の密着力を引抜力で 9 0 g/ inn！〜 1 8 0 g/ mmに設定しても、例えば光フアイバの線引からケーブル化までの間や他のボビンへの巻き替え等、被覆光ファイバの製造過程或いは製造後において、被覆光ファイバのガラスと被覆界面に剝離が発生する場合があつた。被覆光ファィバが走行する滑車上に静電気等により付着した光ファイバの屑等の微小な異物は、局部的に大きな変形を被覆光ファイバに与えることになり、その結果、ガラス光ファィバと一次被覆層が界面において剝離すると考えられる。

本発明はこのような線引からケーブル化までの間における剝離発生のない被覆光ファイバの提供を課題とする。

被覆光フアイバを複数本並行に平面上に配置してそれらを一括するように外周に共通被覆層を形成してテープ状（リボン状）の心線としたものを光ファイバテープ心線と称する。光ファイバテープ心線の接続の場合には、ガラス光フアイバ外周に被覆した一次被覆層ないし上記共通被覆層までを一括して除去する必要があり、この作業を一括被覆除去と称するが、この際にガラス光ファイバ表面に一次被覆層や二次被覆層以降の他の被覆層が残留することは好ましくない。

本発明の他の課題は、光ファイバテープ心線構成材料として用いた場合に、光フアイバテープ心線の一括被覆除去性を損なうことなく、しかも線引き時や巻き替え時の耐剝離性を向上した被覆光ファイバを提供することである。

本発明のさらに他の課題は、ある種の光ファイバュニットゃル一スチユーブに揷入して用いるものであって、接続時に単心被覆除去すればよい被覆光ファイバであって、耐剝離性が向上し、かつ単心被覆除去が容易である被覆光ファィバを提供することである。

本発明のさらに他の課題は、耐剝離性が向上し、しかも一括被覆除去性が容易な光フアイバテープ心線、あるいは耐剝離性が向上ししかも単心被覆除去が容易な光ファイバュニットを提供することである。発明の開示

上記課題を解決する本発明は、

(1) ガラス光ファイバの外周に少なくとも 1 層の被覆を設けてなる被覆光ファイバにおいて、ガラス光ファイバに接する一次被覆層の 2 5 °C, 周波数 1 1 0 Hzにおける貯蔵弾性率 E ' 力く 0 . 0 1 kg/mm²〜 2. 0 kg/ mm² であり、かつガラス光ファイバと該一次被覆層との密着力が 1 0 g/ cm〜 2 0 0 g/cmであることを特徴とする被覆光ファイバ、

(2) 前記貯蔵弾性率 E ' が 0. 0 l kg/mm²~ 0. 5 kg/mm²であり、かつ前記密着力が 1 0 g/cn！〜 1 0 0 g/cmであることを特徵とする前記（1) 記載の被覆光ファイバ、

(3) 前記貯蔵弾性率 E ' が 0 . 0 1 kg/mm²~ 2. 0 kg/mm²であり、かつ前記密着力が 1 0 0 g/cm~ 2 0 0 g/cmであることを特徴とする前記 (1) 記載の被覆光ファィバ。

(4) 前記一次被覆層が紫外線硬化型樹脂からなることを特徴とする前記（1) ないし（3) のいずれかに記載の被覆光ファイバ、

(5) 前記（1)，（2)または（4) のいずれかに記載の被覆光ファイバの複数本を並列に配置し、共通被覆樹脂で一括して被覆したことを特徴とする光ファイバテープ心線、及び

(6) 前記（1), (3)または（4) のいずれかに記載の被覆光ファイバの複数本を配列し、共通被覆樹脂で一括して被覆したことを特徴とする光ファイノくュニッ卜、

に関する。図面の簡単な説明

第 1 図は、剝離発生と一次被覆層の貯蔵弾性率 E ' と密着力（ガラスと一次被覆層の間）との相関関係並びに光ファイバテープ心線一括被覆除去性を示すグラフ図であり、第 2 図は、本発明の被覆光ファイバの一具体例を説明する概略断面図であり、第 3 図は、第 1 図に示す本発明の被覆光ファイバを用いた光ファイバテープ心線の構造を示す概略断面図であり、第 4 図は剥離発生と一次被覆層の貯蔵弾性率 E ' と密着力（ガラスと一次被覆層の間）との相関関係並びに単心被覆除去性を示すグラフ図であり、第 5 図は、第 1 図に示す本発明を被覆光ファイバを用いた光ファイバユニットの具体例を説明する概略断面図である。

発明を実施するための最良の形態

本発明者らは、剝離発生に対し、一次被覆層の貯蔵弾性率 E ' 及びガラス光ファイバと一次被覆層との間の密着力が剝離発生頻度と相関関係を有することを見いだし、本発明に到達できた。

第 2 図は本発明の一具体例を示す概略断面図であり、少なくともコア及びクラッドを有するガラス光ファイバ 1 の外周に、 2 5 °C , 周波数 1 1 0 Hzでの貯蔵弾性率 E ' が 0 . 0 1 kg/mm²〜 0 . 5 kg/mm²の一次被覆層 2が設けられ、一次被覆層 2 とガラス光ファイバ 1 の密着力が 1 0 g./ cn！〜 1 0 O g/cmであり、一次被覆層 2 の外周に二次被覆層 3 が設けられて、被覆光ファイバ 4 を形成している。

まず、本発明において貯蔵弾性率 E ' とは、サンプルの一端に力学的振動として正弦的歪 r = r 。 exp( i w t)を加え、他端で検出した位相のずれた正弦的応力 S = S 。 exp 〔 i ( ω ΐ + δ ) 〕から、以下に示す式

(1) に従い計算して得られるものである。

Ε * = S / r

= S 。 exp [ i ( 0) t + <5 ) 〕 / r 。 exp i ω t)

= S o / r o · c o s δ + i S o / r o · s i n 5 = E ' + i · E " ( 1 ) 上記式（1 ) において

E * は複素粘弾性、 Ε ' は貯蔵粘弾性、 E " は損失粘弾性、

S は応力、 S 。は応力の振幅、

r は歪、 r 。は歪の振幅、

ω は角速度、 t は時間、 δ は位相のずれ角、を表す。

なお、式（1 ) において 5 は ωの関数であり準静的なとき、すなわち ω = 0 では S = 0 となって、 E " = 0 、貯蔵弾性率 E ' はいわゆるャング率となる。

本発明において一次被覆樹脂の貯蔵弾性率 E ' を指標とする理由を説明する。

光ファイバの線引において、被覆光フアイバはいくつかのプーリーを経てボビンに巻き取られるが、プーリ一の被覆光ファィバ走行部に静電気等により異物が付着すると、ガラスと被覆層との界面に剝離が発生する場合がある。被覆光ファイバは高速で製造されているため、プーリーも高速回転しており、被覆への歪は急激に、すなわち高歪速度で付与される。

従来の被覆層のヤング率測定は、「 1 mmZ min 程度の低歪速度での 2 . 5 %伸び時の応力」で行われていた。歪 0 から歪 2 . 5 %の応力を結んだ線の傾きから求めたヤング率を 2 . 5 %割線ヤング率と称し、歪 0 の原点におけるヤング率でなくこちらを用いているのは、測定上の問題からである。しかし、一次被覆層等に用いる樹脂は粘弾性挙動を示し高歪速度領域での弾性率は、従来この種技術分野で用いられている 2 . 5 %割線ヤング率のような低歪速度で測定したヤング率を指標とするよりも、高歪速度域での弾性率の実部である貯蔵弾性率 E ' を指標とすることが適切ではないかと本発明者らは考察し検討を重ねた。

この結果、高歪速度域での弾性率の指標として、 2 5 て，周波数 1 1 0 Hzでの貯蔵弾性率 E ' と剝離発生頻度の間に相関関係があることを見いだした。

また、本発明における密着力は、ガラス板表面に一次被覆材料の層を形成した後、この一次被覆層をガラス板から 1 8 0 ° の方向に引張り速度 2 0 0 mm/mi nで 5 0 mm長さ引き剝がすときに要する力をもって表すこととし、具体的な定義は後記の実施例に示される。

第 1 図は後記する本発明の実施例の結果に基づき、本発明における光ファイバテープ心線の一次被覆層の貯蔵弾性率 E ' ( 2 5 °C , 1 1 0 Hz ) とガラス光ファイバと一次被覆層との間の密着力の適正領域をグラフ図にしたものである。第 1 図に示すように、一次被覆層の 2 5 °C、周波数 1 1 0 Hzにおける貯蔵弾性率 E ' が 0 . 0 l kg/mm ²〜 0 . 5 kg/mm ²であり、かつ前記密着力が 1 0 g/cn！〜 1 0 0 g/ cmであると、ガラス光ファィバと一次被覆層との界面に剝離が発生せず、生産性や被覆光ファイバの信頼性が向上する。

—次被覆層の貯蔵弾性率 E ' が 0 . 0 1 kg/mra ^z未蔬では、ハンドリングにおいて一次被覆層に内部破壊（ボイド）が発生しやすくなる。例えば一 4 0 °Cといつた低温環境においてボイドは伝送損失を増大させるため、その発生を抑制する必要がある。

—方、光ファイバテープ心線の被覆光ファイバにおいて貯蔵弾性率 E ' 力く 0 . 5 kg/mm ²を超えると、ガラス光ファイバと一次被覆層との界面に剥離が生じやすくなる。この理由として、高歪速度での弾性率が大きすぎると、被覆光ファィバが変形した際のガラス光フアイバと一次被覆層との界面に生じる応力が大きくなり剥離しやすくなるものと推定できる。特に好ましい貯蔵弾性率 E ' は、 2 5 °C，周波数 1 1 0 Hzにおいて 0 . 0 2 kg/mm²— 0 . 3 kg/mm²である ₀

また、ガラス光ファイバと一次被覆層との密着力を大きくすることにより界面での剝離発生を防ぐことができる。しかし前記密着力が過度に大きいと光フアイバテープ心線を他のガラス光フアイバと接続する際の —括被覆除去が困難になるため、前記密着力は 1 0 0 g/cm以下であることが好ましく、一方、前記密着力が 1 0 g/cm未満では、ガラス光フアイバと一次被覆層の界面での剝離が生じやすくなる。特に好ましい前記密着力としては、 1 5〜 7 5 g/craが挙げられる。

ところで、光ファイバはすべてテープ化されるわけではなく、タイトュニッ卜化されたり、ルースチューブに挿入しても用いられ、単心被覆除去性のみを考慮すればよい場合がある。このような場合には、貯蔵弾性率 E ' 、ガラス光ファイバと一次被覆層との密着力の両者を、上記したテープ心線用途の被覆光フアイバにおけるよりもさらに大きくすることが可能であり、耐剝離性を向上できる。

第 4 図は後記する本発明の実施例の結果に基づき、本発明における一括被覆除去を考慮しなくてもよい場合の被覆光ファイバの一次被覆層の貯蔵弾性率 E ' 、ガラス光ファイバと一次被覆層との密着力、単心被覆除去可能の適正領域をグラフ図にしたものである。

第 4 図に示すように、一次被覆層の 2 5 ° (：、 1 1 0 H z における貯蔵弾性率 E ' が 0 . 0 1 kg/mm²以上 2 . 0 kg/mm²以下であり、かつガラスと一次被覆層の密着力が 1 0 O g/cm以上 2 0 0 g/cm以下であっても、ガラスと一次被覆層との界面における剝離が発生しないため、生産性や被覆光ファイバの信頼性が向上する。

2 5 て、 1 1 0 H z での貯蔵弾性率 E ' が 0 . 0 1 kg/mm²よりも小さくなると、ハンドリングにおいて一次被覆層内部破壊（ボイド）が発生しゃすくなり、低温時に伝送ロスが大きくなる傾向にある。前記貯蔵弾性率 E ' が 2 . 0 kg/mm ²よりも大きくなると、ガラス光ファイバと一次被覆層の界面での剝離が生じやすくなる。

ガラス光フアイバと一次被覆層との密着力は、下限値は第 1 図に示したように 1 0 g/cm以上であればよいが、単心被覆除去性のみを考慮すればよい場合には、密着力が 1 0 0 g/cm以上である方がより耐剝離性が向上するため好ましい。前記密着力が 2 0 0 g/cmよりも大きいと、光ファィバ心線を他の光ファィバと接続する際の単心被覆除去が困難となる。本発明においてガラス光ファイバ自体の組成、構造、製法は特に限定されるところはなくこの種技術分野の公知の手法に従う。

本発明の一次被覆層の被覆材料としては本発明の貯蔵弾性率 E ' 及び密着力を満足するものであればよいが、、例えばウレタン（メタ）ァクリレート系樹脂、ポリブタジエン（メタ）ァクリレー卜系樹脂、ポリエ —テル（メタ）ァクリレート系樹脂、ポリエステル（メタ）ァクリレー卜系樹脂、エポキシ（メタ）ァクリレート系等の（メタ）ァクリレート系樹脂や、不飽和ポリエステル類、カチオン重合性エポキシ樹脂、ァリル化合物系樹脂、またはこれらの混合系の紫外線硬化型樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの樹脂は各種の成分を含む樹脂組成物であってもよく、例えば各種反応性モノマー、重合開始剤、各種の添加剤例えば連鎖移動剤、酸化防止剤、光安定剤、可塑剤、シランカツプリング剤、重合禁止剤、增感剤、滑剤等が必要に応じて添加できる。なお、本明細書においては樹脂又は樹脂組成物を合わせて「樹脂」と総称する。

本発明の一次被覆層は前記のように貯蔵弾性率 E ' 及びガラス光ファィバとの密着力が本発明範囲となる材料を選択する必要がある。

一次被覆層の貯蔵弾性率 E ' は、被覆材料とする樹脂の骨格を形成するオリゴマーのポリエーテル部分の分子量や反応性希釈モノマーの種類により調整できる。すなわち、ポリエーテル部分の分子量を小さくすること、多官能性モノマーの配合量を增やすこと、剛性の高いモノマーを選択すること、等の手段により貯蔵弾性率 E ' を高くすることができる。また、剛性の高いベンゼン環などの部分を多く含む組成にすることにより貯蔵弾性率 E ' を高くすることができる。

またガラス光ファイバと一次被覆層の密着力は、一次被覆層とする被覆樹脂の密着性モノマー含有量ゃシランカップリング剤添加量（ 0 を含む）を変化させることにより調整することができる。密着性モノマーとして、例えばイソボロニルァクリレー卜、アクリルアミド、 N — ビニルピロリドン、ァクリロイルモルホリン等が挙げられる。

本発明において一次被覆層の外周に設ける二次被覆層以降の被覆層については特に限定されるところはないが、一次被覆層より高いヤング率、例えば 5 0 - 1 5 0 kg/mm ²程度を有し、保護層としての作用を有する被覆を設ける。被覆材料としては、一次被覆層と同様の樹脂を用いることができるが、例えば最外層に着色剤を含有させて着色心線とすることもできる。

本発明の光ファイバ線引直後に被覆する一次被覆層、二次被覆層等の被覆層の形成手段についても限定されるところはなく、この種技術分野の公知の手法に従えばよい。例えば熱又は光等のエネルギー線硬化型樹脂の場合には、対応するエネルギー線を照射して被覆材料を硬化させて被覆層とする。紫外線硬化型樹脂を用いれば、硬化時間が短いという利点がある。

また本発明の被覆光ファイバは、さらに共通被覆層を設けて光フアイバテープ心線とした場合、製造ライン上での剝離発生が低減されていることに加え、製品における一括被覆除去性が向上しているという利点がある。第 3 図は第 2 図の被覆光ファイバ 4 の外周に着色層 5 を設けた着色心線 6 を複数本並列に配置して共通被覆層 7 で一括被覆して形成した光フアイバテープ心線 8 の一具体例を示す概略断面図である。

光フアイバテープ心線の一括被覆材料としては、例えば一次被覆層、二次被覆層と同様の樹脂であつて、例えばャング率が 5 0 〜 1 5 0 kg/ mm ² 程度の紫外線硬化型樹脂が一般に用いられる。被覆の形成方法についても、公知の手法に従えばよい。

第 5 図に中心抗張力体 1 2 のまわりに配列した被覆光フアイバ 4 の外周に着色層 5 を設けた着色心線 6 の複数本を束ねて共通被覆層 9 , 1 0 で一括被覆してなる光フアイバュニッ卜 1 1 の構造の一具体例を示すが、例示のものの他にも多様な構造のものが公知である。共通被覆材料としては上記光ファィバテープ心線と同様の樹脂が挙げられ、被覆の形成方法についても、公知の手法に従えばよい。実施例

以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

(実施例 1 〜 4 、比較例 1 〜 4及び比較例 1 ' 〜 4 ' )

外径 1 2 5 β m の石英系ガラス光ファイバの外周に一次被覆層を外径 2 0 0 μ m となるように設け、さらにその外側に二次被覆層を外径 2 4 0 β m となるように形成した二層被覆光ファイバを製造するにあたり、一次被覆層材料として比較的軟質の光硬化性ゥレタンァクリレート系樹脂を、また二次被覆層としては比較的硬質の光硬化性ウレタンァクリレ一ト系樹脂を用いた。

密着力の調整のために、一次被覆材料とする樹脂として、極性モノマ一（例えばアクリルアミド、 N _ ビニルピロリドン、ァクリロイルモルホリン）含有割合、あるいはシランカツプリング剤含有割合を種々に変化させたものを用意した。

まず、一次被覆材料について貯蔵弾性率 E ' 測定、及びガラス光ファィバと同素材であるガラスとの密着力測定試験を行った。

貯蔵弾性率 E ' 測定は、各一次被覆材料をシート状に流延し、窒素棼囲気下で水銀ランプ（マイグラフィックス社製、メタルハライドランプ M 0 1 5 - L 3 1 2 (商品名）〕を用いて紫外線を照射光量 1 0 0 O mJ /cm ²で照射し〔光量は（株）オーク製作所製、紫外線光量計 U V— M l 0 (分光感度 U V— 3 5 ) を使用して測定〕、 2 0 0 μ πι 厚さのシートを得た。このシートから幅 4 mra、長さ 2 0 mra、厚さ 2 0 0 m のサンプルを切り取り、弾性率測定器として RHEOVIBRON ( OE IENTIC CORPORATION 製）を用いて、周波数 1 1 0 Hz、振動変異 0 . 0 1 6 で、貯蔵弾性率 E ' を測定した。

密着力測定は以下の手順によつた。

①石英ガラス板（ 2 0 0 X 1 5 0 mm) を 5分間以上硫酸中に浸漬して表面を洗浄した。

②洗浄済みの石英ガラス板上に一次被覆層形成用樹脂液を塗布し、前記と同じ水銀ランプを用いての紫外光を照射光量 1 0 0 mJ/cm ²で照射し硬ィ匕させた。硬化後の樹脂層厚さは 2 0 0 m 、幅は 5 0 mm、長さ 1 7 0 mmの試料を得た。

③得られた各試料を 2 5 °C、 5 0 % M雰囲気下に 1週間放置した。

④次に、各試料の樹脂層を、石英ガラス板から 1 8 0 ° の方向に、引張速度 2 0 0 mm/ min で長さ 5 0 mm引き剝がし、このときに要する力（単位幅当たり g/cmの最大値を同素材からなるガラス光フアイバと一次被覆樹脂との密着力と定義し、これをガラス光ファイバと一次被覆層の密着力とみなした。外径 1 2 5 m の石英系ガラス光ファイバの外周に一次被覆層を外径 2 0 0 β m となるように設け、さらにその外側に二次被覆層を外径 2 4 0 m となるように形成した。一次被覆層は上記の実験結果に従いガラス光ファイバとの密着力、貯蔵弾性率 E ' が表 1 に示すように種々の組合せとなるようにし、線引速度 2 0 0 m / m i , フュージョン社製 U V炉 F — 1 0 を一次被覆層硬化に対して 1 灯、二次被覆層硬化に対して 1 灯使用して、被覆光ファィバを製造した（実施例 1〜 4 、比絞例 1 ~ 4、比較例 1 ' ~ 4 ' ) 。

剥離発生の有無、ボイド（被覆の内部破壊）発生の有無の試験と評価：製造終了後に巻き取りボビンから被覆光ファイバを繰り出し、屈折率調整用のマッチングオイルに浸漬後（マッチングオイルに浸漬しないとガラス光ファイバと被覆層との界面が観察できない）、被覆光ファイバ側面方向から光学顕微鏡で 5 0倍に拡大して観察することにより、確認した。ボイド発生ゃ剝離発生が皆無である場合を合格と判定した。

一括被覆除去性の評価：

得られた被覆光ファィバを用いてテープ心線を作成し、加熱型リムーバー J R— 4 A (商品名、住友電気工業（株）製）を使用し、手動でテ —プ心線の被覆を一括除去した。ヒータ一加熱温度 9 0 、ガラス光フアイバ表面から被覆を除去できる場合を合格とした。ガラス光ファイバと被覆の密着力が大きすぎるとガラス光ファイバから被覆を除去することが不可能となつた。

以上の結果を、表 1 及び第 1 図に示す。側面観察結果テープ心線例 E' 密着力一括被覆

9.

(kg™ ) (g cm) 剝離の有無ボイドの有無除 *†生実施例 1 0. 0 1 1 1 1 なしなし O 比較例 1 0. 0 1 1 7 有りなし〇比較例 τ 0. 0 0 8 1 1 なし有り〇実施例 2 0. 1 5 なしなし〇比絞例 2 0. 8 有りなし〇比絞例 2' 0. 5 5 2 5 有りなし〇実施例 3 0. 0 1 1 0 0 なしなし〇比較例 3 0. 0 0 8 8 5 なし有り〇比絞例 3' 0. 0 1 1 1 1 0 なしなし X

実施例 0. 5 9 3 なしなし〇比較例 0. 6 1 8 0 有りなし〇比較例 k' 0. 6 1 0 8 なしなし X 第 1図において横軸は貯蔵弾性率 E ' (kg/mm ² ) . 縦軸はガラスと一次被覆層の密着力（g/cm) を示し、〇印は本発明の実施例で密着力適正

(剥離発生なし、ボイド発生なし、一括被覆除去性良好）、 X印は剥離発生の例、 +印はボイド発生の例、口印はテープ心線の一括被覆除去失敗を示し、図中の斜線で示す領域が貯蔵弾性率 E ' と前記密着力の適正範囲を示す。貯蔵弾性率 E ' 及び前記密着力が本発明の範囲にあれば、剝離発生やボイド発生がなく、一括被覆除去性も優れていることがわかる。

(実施例 5〜 9並びに比較例 5及び 6 )

前記実施例 1 と同様にして、貯蔵弾性率 E ' 、ガラスと一次被覆層との密着力を、表 2に示すように種々に変化させた被覆光ファイバを作成し（実施例 5 〜 9、比較例 5及び比絞例 6 ) 、得られた各被覆光ファィバについて、実施例 1 と同様に剝離発生とボイドの有無を調べ、さらに下記に従い単心被覆除去性を評価した。結果を表 2及び第 4図に示す。単心被覆除去性の評価：

被覆光ファイバの被覆層を被覆除去具「ノーニック N N 2 0 3 (商品名、 C L A U S S社製）」を用いて除去したとき、ガラス光ファイバから被覆層を除去できない場合を単心被覆除去困難とし、表 2中では X印で示した。表 2中、〇印は単心被覆除去容易を意味する。

側面観察結果、例 E ' 密着力 —括被覆

(kg/nm ) (g cm) 剝離の有無ボイドの有無除お生実施例 5 2. 0 1 5 0 なしなし〇実施例 6 1 . 8 1 1 0 なしなし〇実施例 7 0. 5 1 9 0 なしなし〇実施例 8 0. 0 3 1 0 0 なしなし〇実施例 9 0. 0 2 1 h 0 なしなし〇比絞例 5 5. 0 1 2 0 有りなし〇比較例 6 0. 2 2 1 5 なしなし X

第 4図において、横軸は貯蔵弾性率 E ' (kg/mm ² )、縦軸はガラスと一次被覆層の密着力（g/cm) を示し、〇印は本発明の実施例で密着力適正 (剥離発生なし、ボイド発生なし、単心被覆除去性良好）、 X印は剥離発生の例、 □印は単心被覆光ファイバの被覆除去失敗を示し、図中の斜線で示す領域が貯蔵弾性率 E ' と前記密着力の適正範囲を示す。貯蔵弾性率 E ' 及び前記密着力が本発明の範囲にあれば、剥離発生やボイド発生がなく、単心被覆除去性も優れていることがわかる。産業上の利用可能性

以上説明のように、本発明によれば被覆光ファィバの耐剝離性が向上して線引時や巻き替え時のライン上における被覆剝離の問題が解消でき、さらに被覆層内でのボイド発生がなく被覆光ファィバの生産性及び品質を向上できる。

本発明の被覆光フアイバを用いた光フアイバテープ心線は一括被覆除去性が向上し、他の光ファィバとの接続等における作業効率を高めることができる。

また、本発明の被覆光ファィバを用いた光フアイバュニッ卜は耐剝離性が高く、しかも単心被覆除去も容易であるため、他の光ファイバとの接続等における作業効率を高めることができる。

Claims

請求の範囲

1. ガラス光ファイバの外周に少なくとも 1 層の被覆を設けてなる被覆光ファイバにおいて、ガラス光ファイバに接する一次被覆層の 2 5 °C、周波数 1 1 0 Hzにおける貯蔵弾性率 E ' 力、' 0. 0 l kg/mm²〜 2. 0 kg/ mm² であり、かつガラス光ファイバと該一次被覆層との密着力が 1 0 g/ cn！〜 2 0 0 g/cmであることを特徵とする被覆光ファイバ。

2. 前記貯蔵弾性率 E ' が 0. 0 1 kg/關 ²~ 0 · 5 kg/mm²であり、かつ前記密着力が 1 0 g/cn！〜 1 0 0 g/cmであることを特徴とする請求の範囲第 1項記載の被覆光ファィバ。

3. 前記貯蔵弾性率 E ' が 0. 0 1 kg/mm²〜 2. 0 kg/mm²であり、かつ前記密着力が 1 0 0 g/cn！〜 2 0 0 g/cmであることを特徴とする請求の範囲第 1 項記載の被覆光ファイバ。

4. 前記一次被覆層が紫外線硬化型樹脂からなることを特徴とする請求の範囲第 1 項ないし第 3項のいずれかに記載の被覆光ファイバ。

5. 請求の範囲第 1 項，第 2項または第 4項のいずれかに記載の被覆光フアイバの複数本を並列に配置し、共通被覆樹脂で一括して被覆したことを特徴とする光ファィバテープ心線。

6. 請求の範囲第 1 項，第 3 項または第 4項のいずれかに記載の被覆光フアイバの複数本を配列し、共通被覆樹脂で一括して被覆したことを特徵とする光ファイバュニッ卜。