WO1997023664A1

WO1997023664A1 - Bain et procede d'etamage

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Publication number: WO1997023664A1
Application number: PCT/JP1996/003740
Authority: WO
Inventors: Katutada Yamada; Nobuyoshi Shimizu; Tsuneo Inui
Original assignee: Toyo Kohan Co., Ltd.
Priority date: 1995-12-22
Filing date: 1996-12-20
Publication date: 1997-07-03
Also published as: AU1172397A; JP3032149B2; JPH09176889A

Description

明細書錫めつき浴および錫めっき方法技術分野

本発明は、電気めつきぶりきおよび極薄錫めつき鋼板などの製造に用いる高電流密度による錫めつきに適した錫めつき浴、および錫めつき方法に関する。背景技術

電気めつきぶりき等の錫めつき鋼板の製造に用いられる錫めつき浴として、フエロスタン浴（フエノールスルホン酸浴）、ハロゲン浴、アルカリ浴が知られている。これらの錫めつき浴の中でフエノールスルホン酸浴は、得られる電気めつきぶりきの外観、耐食性等優れた特性を有しているため、錫めつき鋼板の工業生産に広く採用されているが、高電流密度で錫めつきを施すと、めっきやけとも呼ばれる外観不良が発生するため、高電流密度による錫めつきは不可能である。また、多量のフエノールスルホン酸を含むため、化学的酸素要求量（C O D ) が高く、処理せずに排水すると環境汚染を導くので、排水処理設備が必要であり、コス卜アップの一因ともなつている。ハロゲン浴は高電流密度による錫めつきが可能であるという利点があるが、この錫めつき浴は腐食性が強く、他の浴に比較し多額の設備維持費が必要であるという欠点を有し、さらに不溶性陽極を用いた錫めっきがむずかしいという欠点もあり、広く採用されていない。アルカリ浴は錫酸ナ卜リウムを錫源とするため、 2価の錫イオンを用いる他の浴と比較すると、同一の錫めつき量を得るために、約 2倍の電気量を必要とし、ほとんど用いられていない。

近年、アルキルスルホン酸を酸成分とする錫めつき浴が用いられはじめた。この錫めつき浴の特徴は適正電流密度範囲がフエノールスルホン酸浴に比較し広いこと、廃液処理が簡便であることが挙げられる。特開平 4一 2 2 8 5 9 5号公報によれば、濯ぎ洗い用の水は中和によって錫イオンを回収した後は、環境に有害な成分を含まないため通常の方法で排出可能といわれている。しかし、有機スルホン酸を酸の主成分とするため、フエロスタン浴に比較し、化学的酸素要求量は低いが、処理せずに排水すると環境汚染を導くおそれがあり、好ましい錫めつき浴といい難い。

また、最近、これらの錫めつき浴に代わるものとして、硫酸、 2価錫イオンを主成分とし、二つ以上の電子供与性置換基を有し、そのうちの少なくとも一つがヒドロキシル基である電解液溶解性の芳香族化合物、例えば、 o—ヒドロキシァ二ソールをスラッジ抑制剤としてエトキシ化ひ一ナフトールスルホン酸のような光沢添加剤とともに添加した高電流密度による錫めつきが可能な錫めつき硫酸浴が提案されている（特開平 6— 3 4 6 2 7 2号公報）。この錫めつき浴を用いて高電流密度による錫めつきは可能と思われるが、浴中に鉄イオンが存在するとスラッジの生成を抑制する効果が少なく、実用的な錫めつき浴といい難い。

本発明が解決しょうとする課題は、上記の錫めつき浴のもつ種々の問題点を解決することにある。すなわち、本発明は、高電流密度で連続的に鋼ストリップに錫めつきを施しても、めっきやけのない優れた外観の錫めつきが得られ、かつ連続操業してもスラッジの生成を大幅抑制でき、その上、低公害、低コストである錫めつき浴およびこの錫めつき浴を用いた錫めつき方法を提供することを目的としている。発明の開示

本発明者らは、従来の錫めつき浴および最近提案された硫酸浴について詳細に検討した結果、本発明の錫めつき浴および該錫めっき浴を用いた高電流密度による錫めつき方法を開発するに至ったものである。すなわち本発明は、主成分として 1 0〜 5 0 g Z 1の硫酸、 2 0〜： L 0 0 g Z 1の 2価錫イオン、 0 . 1 〜 2 0 g / 1の 2価鉄イオン、 1 〜 1 0 g Z 1のエトキシ化ひ一ナフト一ルスルホン酸および Zまたはエトキシ化 α—ナフトールを含む錫めつき浴であり、または主成分として 1 0〜 5 0 g Z 1の硫酸、 2 0〜： 1 0 0 g Z 1の 2価錫イオン、 0 . 1 〜 2 0 g Z 1の 2価鉄イオン、 0 . 1〜 5 g Z 1の錫めつき浴可溶性ァミノ化合物、 1〜 1 0 g / 1のエトキシ化 α—ナフトールスルホン酸および Ζまたはエトキシ化 α—ナフトールを含む錫めつき浴であり、あるいはまた主成分として 1 0 〜5 0 g Z lの硫酸、 2 0〜： L 0 0 1の 2価錫イオン、 0 . ：!〜 5 g Z lの錫めつき浴可溶性ァミノ化合物、 1〜1 0 g Z 1のエトキシ化 α—ナフトールスルホン酸および Ζまたはエトキシ化 α—ナフトールを含む錫めつき浴である。さらに本発明は、錫めつき浴可溶性ァミノ化合物が炭素数 1〜1 8のアルキル基を有するアルキルァミン、中でも炭素数 1〜5のアルキル基を有するアルキルアミン、グリシン、ァラニン、ァミノ- η -酪酸、ヴアリン、ァスパラギン酸、グル夕ミン酸、リジン、アルギニン、ヒスチジン、モノエタノールァミン、ジェ夕ノールァミン、トリエタノールァミン、ヒドラジン、硫酸ヒドラジニゥム、ヒドロキシルァミン、硫酸ヒドロキシルアンモニゥムおよび尿素の 1種または 2種以上であることを特徴とする錫めつき浴である。またさらに本発明は、上記の錫めつき浴を循環させ、かつ、鋼ストリップを移動させながら、浴温度 3 0〜6 0 、陰極電流密度 3 O A / d m² 以上の条件で連続的に鋼ストリップに錫めつきを施す錫めつき方法である。上記の本発明の技術を用いることにより、めっき浴中のスラッジの生成を大幅に抑制することができ、かつ低公害、低コストな錫めつき浴を用いる、高電流密度による錫めつき方法を開発することができたのである。 · 発明を実施するための最良の形態

以下、本発明について詳細に説明する。まず本発明の錫めつき浴に共通の不可欠の成分である硫酸、 2価錫イオン、およびエトキシ化ひ一ナフト一ルスルホン酸について説明する。

酸成分として硫酸を用いるが、硫酸はフエノールスルホン酸に比較し、作業環境や大気の汚染が少なく、その上、フエノールスルホン酸のように化学的酸素要求量（C O D) も問題とならず、廃液処理上の問題も少なく、さらに低コストで工業的にも多くの利点をもっている。硫酸濃度が 1 0 1以下では、電解時に陰極近傍の p Hが高くなりすぎ、 2価錫イオンが沈澱しやすくなり、外観の優れた錫めつきを得ることができない。また、 5 0 g Z l以上になると、高電流密度で外観の優れた錫めつきを得ることがむずかしくなるだけでなく、設備等の腐食も促進し、好ましくない。したがって硫酸濃度は 1 0〜5 0 1の範囲が好ましく、 1 5〜3 0 g / 1の範囲がより好ましい。錫めつき浴中の 2価錫イオンとしては、建浴時には浴中に不要な成分を入れないようにするため、硫酸第 1錫を用いることが最も好ましい。水酸化第 1錫も用いることができるが、工業的に製造された水酸化第 1錫は少量の水酸化第 2錫または酸化第 2錫を含み、溶解しにくいだけでなく、スラッジの生成の要因となる 4価錫を添加することになり好ましくない。可溶性錫電極を用いる連続錫めつき操業の場合には、 2価錫イオンは可溶性錫電極の溶解で補給されるし、また不溶性電極を用いる連続錫めつき操業の場合、別途この錫めつき浴に空気または酸素含有気体を吹き込みながら粒状錫を溶解させることによって補給される。

本発明の錫めつき浴中の 2価錫イオン濃度は 2 0〜 1 0 0 g Z 1の範囲が好ましく、 3 0〜6 0 g Z 1の範囲がより好ましい。 2価錫イオン濃度が 2 0 g Z 1 以下では高電流密度で錫めっきを行う場合に、外観の優れた錫めつきは得られない。また、 2価錫イオン澳度が 1 0 0 g Z 1以上になると、連続錫めつき時に鋼ストリップによってめっき槽から持ち出される 2価錫イオンの量も増加し、経済的に好ましくない。

また、本発明の錫めつき浴のエトキシ化 α—ナフトールスルホン酸、またはェトキシ化 α—ナフ 1 ^一ルはフエノ一ルスルホン酸浴において錫の均一電着性を向上させるために用いられていることはよく知られているが、本発明の錫めつき浴においても同様な効果がある。特にエトキシ化 α—ナフトールスルホン酸は 2価鉄イオンの錫めつき浴中の溶存空気、あるいは不溶性電極表面で発生する酸素による 3価鉄イオンへの酸化を抑制する効果があることがわかり、その結果、スラッジの生成を抑制するのにも効果的であることがわかった。最近のフエノールスルホン酸浴においては、エトキシ化 α—ナフトールスルホン酸の代わりにェトキシ化 α—ナフトールが用いられることが多いが、これは錫の均一電着性がエトキシ化ひ一ナフトールスルホン酸より優れているためと思われる。しかし、ェトキシ化 α—ナフトールは 2価錫イオンの 4価錫イオンへの酸化抑制には効果が少ないが、本発明の錫めつき浴においては、 2価錫イオンの酸化は錫めつき浴中の 2 価鉄イオンおよびノまたは錫めつき浴可溶性ァミノ化合物によって 2価錫イオンの酸化は十分抑制されるので、単独で添加することも可能である。エトキシ化 α 一ナフトールスルホン酸とともに添加することは、錫の均一電着性の向上、 2価錫イオンの 4価錫イオンへの酸化抑制の観点から好ましい。その添加量は単独で添加する場合も、併用し添加する場合も 1 〜 1 0 1の範囲に維持することが好ましく、 3〜 6 g Z 1の範囲がより好ましい。 1 g Z 1以下では鋼板表面への密着性の優れた均一な錫めつきを施すことがむずかしく、また、 l O g Z l以上添加しても効果が飽和するだけでなく、錫めつき浴中の有機物の減少による低公害性をも目的とした本発明の主旨に反し好ましくない。

なお、エトキシ化 α—ナフトールは 1モルの α—ナフトールに約 3〜 1 5モルのエチレンォキサイドを付加反応させたものの総称で、エトキシ化 α—ナフトールスルホン酸はさらにスルホン化したものの総称で、 1モルのひ一ナフトールに 1 0モルのエチレンオキサイドを付加させたエトキシ化ひ—ナフトール、および 5〜 6モルのエチレンォキサイドを付加させ、さらにスルホン化したエトキシ化 α—ナフトールスルホン酸が錫めつき用のフエノールスルホン酸浴に一般的に用いられているが、これらの化合物の使用が本発明の錫めつき浴にも適している。ついで、本発明の第 1の特徴である錫めつき浴中に存在する 2価鉄イオンについて説明する。

一般に、錫めつき浴中の 2価鉄イオンは容易に 3価鉄イオンに酸化され、さらに 3価鉄イオンは 2価錫イオンを 4価錫イオンに酸化し、スラッジの生成原因となるため、好ましくないと考えられている。しかし詳細に検討した結果、錫めつき浴中に 2価鉄ィォンが存在しないと、可溶性錫電極を用いて連続的に錫めつきを行う場合、 2価錫イオンが錫めつき浴中に混入する空気で 4価錫イオンへ酸化されスラッジの生成量が増加すること、特に不溶性電極を用いて連続的に錫めつきを行う場合は錫めつき浴中に混入する空気および不溶性電極表面で発生する酸素により 2価錫イオンは 4価錫イオンへ酸化され、スラッジの生成がより促進されることがわかった。 2価鉄イオンの存在はこの 2価錫イオンの 4価錫イオンへの酸化を抑制しスラッジの生成をも抑制する効果があり、 2価鉄イオンの存在は本発明の錫めつき浴の重要な要素である。めっき浴中の 2価鉄イオン濃度が 0 . 1 g Z 1以下であると 2価錫イオンの 4価錫イオンへの酸化を十分抑制することができず、スラッジの生成が増加する。また 2価鉄イオン濃度が 2 0 g Z 1以上になると、その一部が錫と共析する恐れがあり、外観の優れた錫めつきを得ることができない。したがって、 2価鉄イオン濃度は 0 . l〜2 0 g Z lの範囲が好ましい。本発明の錫めつき浴を建浴する場合、不要な成分を錫めつき浴中にいれないようにするため硫酸第 1鉄で添加することが最も好ましく、水酸化第 1鉄で添加することも考えられるが、水酸化第 1鉄はスラッジ発生の原因となる微量の水酸化第 2鉄を含むことがあり、好ましくない。錫めつき浴を新しく建浴する場合は上記のように硫酸第 1鉄の添加が必要であるが、上限である 2 0 1を越えないように注意することが必要である。 2価鉄イオンは常温で放置するだけで硫酸第 1鉄として析出するので、 2 0 g Z 1を越えた場合は錫めつき浴の使用を中止し、硫酸第 1鉄を除去した後、再使用することができる。

さらに、本発明の第 2の特徴である錫めつき浴に添加される錫めつき浴可溶性ァミノ化合物の効果について説明する。ァミノ化合物の添加は 2価鉄ィオンの 3 価鉄イオンへの酸化を抑制し、かつ 2価錫イオンの 4価錫イオンへの酸化を抑制する効果があるとみられ、 2価鉄イオンの存在しない錫めつき浴に添加しても、 2価鉄イオンの存在する錫めつき浴に添加しても効果がある。特に 2価鉄イオンの存在する錫めつき浴への添加は 2価鉄イオンと錫めつき浴可溶性ァミノ化合物の両者により 2価錫イオンの 4価錫イオンへの酸化を抑制するのでスラッジの生成の抑制に効果的である。

この錫めつき浴可溶性ァミノ化合物の添加量は 0 . 1〜 5 g Z 1の範囲が好ましく、 0 . 5〜2 g / 1の範囲がより好ましい。添加量が 0 . l g Z l以下では添加した効果がほとんどなく、また 5 g / 1を越えても効果が飽和するだけでなく、錫めつき浴に十分溶解しないことがあり、錫めつき表面の欠陥発生の一因となることがあり好ましくない。

錫めつき浴可溶性ァミノ化合物として、具体的にはメチルァミン、ェチルアミン、プロピルァミン、アミルァミンなどの炭素数 1〜 1 8のアルキル基を有するアルキルァミン、中でも炭素数 1〜5のアルキル基を有するアルキルァミン、グリシン、ァラニン、ァミノ- n -酪酸、ヴアリンなどのモノアミノ ·モノカルボン酸、ァスパラギン酸、グルタミン酸などのモノアミノ · ジカルボン酸、リジン、アルギニンなどのジァミノ 'モノカルボン酸、モノエタノールァミン、ジェ夕ノ —ルァミン、トリエタノールァミン、ヒドロキシルァミン、ヒドラジン、硫酸ヒドラジニゥム、硫酸ヒドロキシルアンモニゥム、尿素などが挙げられるが、これらのァミノ化合物を 1種または 2種以上を添加することが可能である。

つぎに、本発明の錫めつき浴を用いた錫めつき方法について説明する。まず錫めっきが施される鋼ストリップには用途に応じ適切に選択された鋼ストリップを用いればよく、特に限定されるものでない。前処理として、公知の電解アルカリ脱脂、硫酸酸洗を施し、鋼ストリップ表面を清浄化、活性化し、本発明の錫めつき浴を用いて錫めつきが施される。溶接缶用に用いられる極薄錫めつき鋼板（L T S ) 、例えば、ニッケル等のフラッシュめっきを施した鋼板、クロムめつきを施した鋼板上への錫めつきにも適用可能である。

本発明の錫めつき浴を用い、高電流密度で効率よく錫めつきを行うには、高速循環させた本錫めつき浴中で鋼ストリップを連続的に高速で移動させながら錫めつきすることが好ましく、従来のフエノ一ルスルホン酸浴で実現困難であった 5 0 AZ d m²以上の高電流密度で錫めつきを施しても、外観の優れた錫めつきが可能である。本発明の錫めつき浴を用い、低電流密度でも十分外観の優れた錫めつきは可能であるが、高電流密度で錫めつきを行う場合、鋼ストリップの移動速度と錫めつき浴の循環速度の相対速度の低下は 2価錫イオンの供給不足を導き、均一な錫めつきができず、電流密度の増加とともに該相対速度をあげることがより好ましく、陰極電流効率が高く、外観の優れた錫めつきが得られる範囲であれば、陰極電流密度は高いほど生産性の向上による経済的な点からも好ましく、電流密度 3 0〜2 0 0 AZ d m²で錫めつきを行うことが好ましく、 5 0〜 1 5 0 A/ d m²の範囲がより好ましい。

本発明の錫めつき浴の浴温は 3 0〜6 O t:が好ましい。電解や攪拌等により発熱するので、錫めつき浴の浴温を 3 0 ^以下にするには、冷却が必要であり、この冷却はコストアップの一因であるだけでなく、外観の優れた錫めつきが得られない。また、浴温 6 0ででの連続操業は錫めつき液の加熱に要す費用が増加し、経済的に不利であるだけでなく、設備などの腐食を促進し、かつ水蒸気の発生が多く、作業環境の面からも好ましくない。

本発明の錫めつき浴を用いる錫めつき方法において、陽極には可溶性錫電極、不溶性電極、いずれも用いることができる力高電流密度による錫めつきにおいては、錫めつき浴中の錫イオンの消費も増加し、可溶性錫電極を用いる場合、この陽極の消耗が激しく、交換頻度も増加するので、不溶性電極を用いることがより好ましい。不溶性電極には公知のチタンを母材とし、白金、酸化イリジウムなどで被覆したものが適用可能である。不溶性電極を用いる場合、錫めつき浴中の 2価錫イオンは、本発明の錫めつき浴に粒状の金属錫を空気または酸素含有気体を吹き込みながら溶解することによって補給される。

錫めつき後の鋼ストリップは、用途に応じ溶融処理（リフロー処理）が施される。従来のフエノールスルホン酸浴を用いた錫めつきの場合、錫めつき液の希釈液がフラックス効果があつたので、錫めつき後、ドラッグアウト槽に鋼ストリツプを通過させるだけで、十分目的を達成することができたが、本発明の錫めつき浴は希釈してもフラックス効果が少ないので、光沢の優れたぶりきの製造には水洗後にフラックスを塗布することが好ましい。しかし、フラックスを塗布しないで溶融処理を施しても、実用上十分な光沢を有するぶりきを得ることができるので、フラックスを必ずしも塗布する必要はない。ついで化成処理が施されるが、化成処理には用途に応じ、公知の重クロム酸塩、クロム酸、リン酸塩などの処理液を用いればよい。実施例

以下、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明する。

表 1〜3に示す錫めつき浴を建浴し、これらの錫めつき浴を液流速 2 0 O mZ 分で循環させ、表 2に示す浴温、電流密度の条件で電気量 5 0クーロン Z d m² の錫めつきを行い、下記の（1 ) および（2 ) に示す特性を評価した。さらに表 1〜3に示す組成の錫めつき浴を用い、（3 ) に示す方法でスラッジの生成量も測定した。なお、鋼板への錫めつきに用いる陽極には、チタン母材に白金めつきを施した不溶性電極を用いた。得られた特性を錫めつき条件とともに表 4〜 7に示した。

なお、実施例では 1モルのナフトールに 6モルのエチレンォキサイドを付加反応させ、さらにスルホン化したエトキシ化 α—ナフトールスルホン酸および 1モルのナフ 1 ^一ルに 1 0モルのエチレンォキサイドを付加反応させたエトキシ化 α 一ナフ I ^一ルを用いた。

(1) 陰極電流効率

得られた錫めつき鋼板の錫めつき量を蛍光 X線法で測定し、理論錫めつき量に対する百分率を陰極電流効率とした。

(2) 錫めつきの光沢度

J I S Z 8741の方法により得られた錫めつき鋼板の光沢度 G s 60 ° を測定した。光の入射、反射の方向は用いた錫めつき原板の圧延方向とした。

(3) スラッジ生成量

浴温 45 の表 1に示す各組成の錫めつき液 1リツトルを攪拌し、 1リツトル分で空気を 5時間吹き込み、スラッジの生成量を測定した。スラッジ生成量が 0. 58以下を€>、 0. 5〜18を〇、 1〜28を、 2 g以上を Xで表示した。

【表 1】

錫めつき浴組成（その 1) (単位： gZ l )

(注) SA:Iトキシ化 α -ナフト-)レスルホン酸、 ΕΝ:エトキシ化 α-ナフト-ル【表 2】

錫めつき浴組成（その 2) (単位： gZ l )

(注) SA:エトキシ化 α-ナフト -ルスルホン酸、 ΕΝ:エトキシ化ひ-ナフ卜-ル【表 3】

錫めつき浴組成（その 3) (単位： gZl)

(注) SA:エトキシ化ひ-ナフト -ルスルホン酸、 ΕΝ:エトキシ化ひ -ナフト-ル【表 4】

錫めつき条件および得られた特性（その 1 ) 錫めつき条件

No 電流効率光沢度スラッジ区分 &/显度王 ^fc 成 rii 重■&

CC) (A/dm²)

1 45 100 95. 0 445 ◎ 実施例

2 45 100 94. 0 420 ◎ 実施例

3 45 100 95. 0 41 5 ◎ 実施例

4 45 100 92. 5 290 ◎ 比較例

5 45 100 92. 0 410 ◎ 実施例

6 45 100 91. 5 295 ◎ 比較例

7 45 100 95. 5 445 ◎ 実施例

8 45 100 94. 5 435 ◎ 実施例

9 45 100 94. 0 440 〇実施例

45 100 95. 0 440

^{1 0} ◎ 実施例 W /236 4

1 4

【表 5】

錫めつき条件および得られた特性（その 2 ) 錫めつき条件

No 電流効率光沢度スラッジ区分浴温度電流密度 (%) 生成量 ro (A/dm²)

1 1 45 100 95. 0 415 X 比較例

12 45 30 95. 0 380 Δ 比較例

13 45 200 94. 5 420 〇実施例

14 30 100 94. 0 410 〇実施例

15 60 100 95. 5 440 ◎ 実施例

16 45 100 94. 0 445 ◎ 実施例

17 45 100 95. 0 440 ◎ 実施例

1

18 45 100 95. 0 435 ◎ 実施例

19 45 100 94. 5 435 ◎ 実施例

20 45 100 94. 5 445 ◎ 実施例【表 6】

錫めつき条件および得られた特性（その 3 ) 錫めつき条件

No 電流効率光沢度スラッジ区分浴温度電流' 度 (%) 生成量

( ） (A/dm²)

21 45 100 94. 5 440 ◎ 実施例

¹

22 45 100 94. 5 445 ◎ 実施例

23 45 100 95. 0 440 ◎ 実施例

24 45 100 94. 5 445 ◎ 実施例

25 45 100 94. 5 445 ◎ 実施例

26 45 100 95. 0 435 ◎ 実施例

27 45 100 95. 0 440 ◎ 実施例

28 45 100 94. 5 445 ◎ 実施例

29 45 100 95. 0 445 ◎ 実施例

30 45 100 95. 0 435 ◎ 実施例【表 7】

錫めつき条件および得られた特性（その 4)

上記に示したように、本発明の錫めつき浴を用い、本発明のめっき条件で鋼板に錫めつきを施すと、高い電流効率で光沢の優れた錫めつき鋼板が得られ、生成するスラッジも少ないことがわかる。産業上の利用可能性

本発明の錫めつき浴は主成分として 1 0〜50 1の硫酸、 20〜 100 g 1の 2価錫イオン、 0. 1〜20 1の 2価鉄イオン、：！〜 l O g/ 1のェトキシ化 α—ナフトールスルホン酸およびノまたはエトキシ化 α—ナフトールを含む錫めつき浴で、低コストで、かつ環境汚染を軽減することが可能な錫めつき浴、または主成分として 1 0〜50 gZ 1の硫酸、 20〜1 00 gZ lの 2価錫イオン、 0. ：!〜 20 g/ 1の 2価鉄イオン、 0. ：!〜 5 g 1の錫めつき浴可溶性ァミノ化合物、 1〜 10 gZ 1のエトキシ化 α—ナフ！ ^一ルスルホン酸および/またはエトキシ化ひ一ナフトールを含む錫めつき浴、あるいはまた、主成分として 1 0〜50 g/ 1の硫酸、 20〜： L 00 g/ 1の 2価錫イオン、 0. ：！〜 5 g/ 1の錫めつき浴可溶性ァミノ化合物、 1〜1 0 1のエトキシ化ナフトールスルホン酸および Zまたはエトキシ化ひ一ナフトールを含む錫めつき浴であり、低コストで、かつ鋼ストリップへ高電流密度による錫めつきが可能であり、また連続操業してもスラッジの生成が少ない。

また、本発明の錫めつき浴中に含まれる錫めつき浴可溶性ァミノ化合物は、炭素数 1〜 1 8のアルキル基を有するアルキルァミン、グリシン、ァラニン、アミノ- n -酪酸、ヴアリン、ァスパラギン酸、グルタミン酸、リジン、アルギニン、ヒスチジン、モノエタノールァミン、ジエタノールァミン、トリエタノールアミン、ヒドラジン、硫酸ヒドラジニゥム、ヒドロキシルァミン、硫酸ヒドロキシルアンモニゥムおよび尿素の 1種または 2種以上であり、 2価鉄イオンの 3価鉄ィオンへの酸化を抑制し、かつ 2価錫イオンの 4価錫イオンへの酸化を抑制するので、スラッジの生成の抑制に効果的である。

また、本発明の錫めつき浴中に含まれる錫めつき浴可溶性ァミノ化合物は、中でも炭素数 1〜 5のアルキル基を有するアルキルァミンであると、スラッジの生成の抑制にさらに効果的である。

さらに本発明は、上記の錫めつき浴を循環させ、かつ鋼ストリップを移動させながら、浴温度 3 0〜6 0 °C、陰極電流密度 3 0 AZ d m²以上の条件で連続的に鋼ストリップに錫めつきを施す錫めつき方法であり、錫めつき鋼板の製造において、コスト、環境汚染、生産性の観点のいずれにおいても優れ、工業的な価値は極めて大きい。

Claims

請求の範囲

1. 主成分として、 10〜50gZlの硫酸、 20〜； L 00 gZ 1の 2価錫ィオン、 0. ：!〜 20 g/ 1の 2価鉄イオン、 1〜； L 0 gZ 1のエトキシ化 α—ナフトールスルホン酸およびまたはエトキシ化 α—ナフ I ^一ルを含む錫めつき浴。

2. 主成分として、 10〜50gZlの硫酸、 20〜： L 00 gZ 1の 2価錫ィオン、 0. 1〜20 g/ 1の 2価鉄イオン、 0. 1〜5 gZ 1の錫めつき浴可溶性ァミノ化合物、 1〜10 g/ 1のエトキシ化 α—ナフトールスルホン酸およびノまたはエトキシ化 α—ナフ 1、一ルを含む錫めつき浴。

3. 主成分として、 10〜50g の硫酸、 20〜： L 00 1の 2価錫ィオン、 0. 1〜5 gZ 1の錫めつき浴可溶性ァミノ化合物、 l〜10g lのェトキシ化 α—ナフト一ルスルホン酸および Ζまたはエトキシ化 α—ナフ 1 ルを含む錫めつき浴。

4. 前記の錫めつき浴可溶性ァミノ化合物が、炭素数 1〜18のアルキル基を有するアルキルァミン、グリシン、ァラニン、ァミノ一 η—酪酸、ヴアリン、ァスパラギン酸、グルタミン酸、リジン、アルギニン、ヒスチジン、モノエタノ一ルァミン、ジエタノールァミン、トリエタノールァミン、ヒドラジン、硫酸ヒドラジニゥム、ヒドロキシルァミン、硫酸ヒドロキシルアンモニゥムおよび尿素の 1種または 2種以上である、請求項 2または 3記載の錫めつき浴。

5. 前記の錫めつき浴可溶性ァミノ化合物が、炭素数 1〜5のアルキル基を有するアルキルァミンである、請求項 4記載の錫めつき浴。

6. 請求項 1〜 5のいずれかに記載の錫めつき浴を循環させ、かつ、鋼ストリップを移動させながら、浴温度 30〜60 、陰極電流密度 30〜200 A/d m² の条件で、連続的に鋼ストリップに錫めつきを施す錫めつき方法。